JPH10319571A

JPH10319571A - 露光用マスク製造方法およびその装置

Info

Publication number: JPH10319571A
Application number: JP13145497A
Authority: JP
Inventors: Isao Ashida; 勲芦田
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1997-05-21
Filing date: 1997-05-21
Publication date: 1998-12-04
Also published as: US6401235B1; TW389937B

Abstract

(57)【要約】【課題】製造期間を短縮でき、高い信頼性で、露光用
マスクを製造できる露光用マスク製造方法を提供する。【解決手段】露光用マスクのパターンには影響を与え
ないデータ分割を指示し、所定のインデックス符号を含
む指示データを前記レイアウトデータから検索してファ
イルを生成する（Ｓ２１）。そして、このファイルに応
じて、レイアウトデータを分割し（Ｓ２２）、分割され
たレイアウトデータのそれぞれについて、条件に応じ
て、対応する処理２７，３７，４７が選択的に行われ
る。これによって生成されたＥＢファイル２６，３６，
４６が、前記ファイルに基づいて、統合され、描画ジョ
ブが生成される（Ｓ２８）。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、露光用マスク製造
方法およびその装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体装置を製造する際に用いられるフ
ォトマスクなどの露光用マスクは、例えば、以下のよう
にして製造される。図５は、露光用マスクの製造方法に
おけるＥＢ(Electron Beam; 電子ビーム）ファイルの生
成過程の概略を示すフローチャートである。先ず、ＬＳ
Ｉ設計ＣＡＤ装置を用いて、設計者が、ＬＳＩ設計を行
い、製造する露光用マスクに応じたＬＳＩパターンデー
タ（以下、レイアウトデータとも記す）１を生成する。

【０００３】次に、このレイアウトデータに対して図形
演算を行い（ステップＳ１）、必要に応じてパターン補
正（ステップＳ２）を行った後、ＥＢ変換を行い（ステ
ップＳ３）、ＥＢ描画装置の入力フォーマットであるＥ
Ｂファイル２を生成する。

【０００４】しかしながら、例えば、メモリデバイスの
ように同じパターンが繰り返し存在する半導体装置を製
造するための露光用マスクを製造する場合には、図５に
示す手順に従って露光用マスク全体を一括して製造する
と、位置が異なる全く同じパターンを大量に作成するこ
とになり、効率が悪い。また、露光用マスクの仕様に関
するデータが、別途必要になる場合もある。

【０００５】レイアウトデータの分割処理そこで、例えば図６に示すように、繰り返し領域毎に、
レイアウトデータを分割し、分割されたレイアウトデー
タのそれぞれについて、図５と同じ処理を行う方法があ
る。この方法では、どのようにレイアウトデータを分割
するかを指示する必要がある。この指示の与え方には、
分割の対象となる領域の座標値を指定する方法と、レイ
アウトデータを構成するセル（通常レイアウトデータ
は．階層的に設計されておりこの各階層をセルと呼ぶ）
の名称を指定することが考えられる。図６に示す方法で
は、レイアウトデータ１０を分割し（ステップＳ１
０）、分割後の複数のデータのそれぞれに、条件に応じ
てステップＳ１２，Ｓ１３，Ｓ１４の処理を選択的に行
い、ＥＢファイル１２，１３，１４を生成する。また、
これらのＥＢファイル１２，１３，１４に必要な配置や
繰り返しを指定するジョブファイル（以下、描画ジョブ
とも記す）１１を生成する（ステップＳ１１）ことで、
全体のマスクイメージを再構築する。しかしながら、こ
れらレイアウトデータ１０の分割作業（ステップＳ１
０）や、描画ジョブ１１の作成作業（ステップＳ１１）
は、人手に頼るところが多く、露光用マスク製造過程に
おけるネックとなっている。

【０００６】また、製造しようとする露光用マスク内に
おいて、レイアウト設計の都合上、部分的に図形演算の
処理方法が異なる領域や、補正方法が異なる領域がある
場合には、図５に示す手順では、一括処理することは出
来ないため、処理が異なる部分を分割し、図６に示す手
順に従って、処理を行っている。この場合にも、分割の
ための指示として、領域の座標値を指定する方法と、レ
イアウトデータを構成するセルの名称を指定することが
考えられ、同様に、前述した問題が生じる。

【０００７】さらには、レイアウトデータのうち、量子
化寸法の異なる部分を分割して処理する場合もある。す
なわち、ＥＢ変換の際、パターンデータの座標値は、描
画装置が取り扱う最小単位に量子化される。一般にレイ
アウト設計では、この量子化で座標値に丸めを起こさな
いよう、設計グリッドを選択し、パターンデータを作成
している。しかしながら、既に設計したパターンデータ
をシュリンクし、マスクを作成したいような場合や、設
計グリッドが部分的に異なるレイアウトデータが混在す
るような場合、ＥＢ変換の量子化時におけるパターンの
丸めを避けるために、同一マスク上において部分的に描
画装置の描画単位寸法（ラスタ方式の電子線描画装置の
場合には、スポットサイズと呼ぶ）を変更して、それぞ
れの量子化単位を丸めが起きないような数値にする処理
が行われている。このような場合でも、図６に示す手順
に従って処理が行われ、量子化寸法の異なる部分を、分
割処理で対応する。そのため、同様に、上述した問題が
生じる。

【０００８】露光用マスクの検査製造された露光用マスクは、通常、欠陥検査装置を用い
て検査され、露光用マスクに欠陥のないこと、あるい
は、ある一定レベルの欠陥がないことを保証した後に出
荷される。このため、露光用マスク上に、同一のＬＳＩ
チップパターン（以下チップ）が複数存在する場合、欠
陥検査装置に対して、そのチップの占める矩形領域の座
標値を指定し、それぞれが同一のパターンであることを
示すことにより、それぞれの領域のパターン同士の比較
検査を指示する方法と、目視検査対象以外の矩形領域の
座標値を与えることにより、ＥＢファイルによる、描画
に使用したパターンデータ（例えば、ＥＢファイル、あ
るいは、ＥＢファイル群と描画ジョブ）との比較検査を
指示する方法がある。

【０００９】また、検査を指示した領域内に特殊なパタ
ーンが存在し、欠陥検査装置による欠陥検査が正しく行
われないケースが存在する。一般に、欠陥検査装置の検
査能力（精度）に対し、あるいは、マスク製造プロセス
の能力（パターン形成精度）に対し、データ上のパター
ンが細かすぎるような場合に、疑似欠陥を検出するケー
スである。このようなことがあらかじめ、分かっている
場合、その対象となる領域を、欠陥検査の非対象領域と
して、やはり、矩形領域座標値で指定している。これら
の領域座標値は、レイアウトデータ上のパターンにより
決まるものであるが、このデータの受渡しは、計算機
（コンピュータ）上の別のファイルあるいは紙などの、
レイアウトデータとは別の媒体で行われている。このた
め、データ受渡しの作業として、作業者がレイアウトデ
ータから座標値を読み取らざるをえなく、ここに人によ
る読み取りミスが発生する可能性があり、さらに、読み
取ったデータは、別のメディアに転記するため、転記ミ
スも発生する可能性がある。

【００１０】露光用マスクの精度保証作成した露光用マスクの精度を保証する方法として、上
述した欠陥検査の他に、作成した露光用マスク上の具体
的なパターンの寸法を測定し、データ上の寸法に対し、
要求されている精度に対する寸法公差内に入っているか
を測定し、露光用マスク上のパターンの寸法精度保証を
行っている。ここで、露光用マスク上の何れのパターン
を測定し、そのパターンの寸法が具体的に幾つであるか
をデータとして受け渡す必要がある。このデータも、前
述した欠陥検査のための領域データと同様で、レイアウ
ト上のパターンにより決まるものであるが、受渡し方法
として、計算機上の別のファイルあるいは紙などの、レ
イアウトデータとは別の媒体で行われている。従って、
前述した欠陥検査の場合と同様、人の作業によるミスが
発生する可能性がある。

【００１１】露光用マスク仕様製造するマスクの構成材料、マスクの厚さ、大きさ、精
度、マスク上に示す名称など、前述した以外のマスクの
仕様に関するデータは、レイアウトデータには一切存在
しない。そのため、これらは紙などの何らかの媒体で、
データを受け渡す仕組みとなっており、受け渡しのとき
や、受け渡し後、複数の媒体のデータを確認し、必要な
処理をするときに、作業者によるミスが発生する可能性
がある。さらに、マスク仕様を記述した複数の媒体が存
在すると、別のマスクのためのデータ、計算機上のファ
イルあるいは仕様書などの用紙と取り違えミスが発生す
る可能性がある。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】上述した図６に示す手
順のように、露光用マスクの製造過程において、レイア
ウトデータの分割作業、露光用マスクの検査のためのデ
ータ指示、露光用マスクの精度保証のためのデータ指
示、露光用マスクの仕様書などの管理を、設計者や作業
者が、人的に行うと、露光用マスクの製造プロセスが中
断され、露光用マスク製造期間が長期化すると共に、人
的ミスが発生する可能性が高いという問題がある。

【００１３】本発明は、上述した従来技術に鑑みてなさ
れ、製造期間を短縮でき、高い信頼性で、露光用マスク
を製造できる露光用マスク製造方法およびその装置を提
供することを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上述した従来技術の問題
点を解決し、上述した目的を達成するために、本発明の
露光用マスク製造方法は、レイアウトデータから生成さ
れた描画ジョブに基づいて描画を行い、露光用マスクを
製造する露光用マスク製造方法であって、露光用マスク
のパターンには影響を与えないデータ処理を指示し、所
定のインデックス符号を含む指示データを前記レイアウ
トデータから検索し、前記検索された指示データに応じ
たファイルを生成し、前記ファイルに基づいて、前記デ
ータ処理を行う。

【００１５】前記データ処理は、例えば、前記レイアウ
トデータを、処理条件に応じて分割する処理である。こ
のとき、前記ファイルに基づいて、前記分割して処理さ
れたレイアウトデータを統合して前記描画ジョブが生成
される。

【００１６】すなわち、レイアウトデータの作成段階
で、設計者が、必要に応じて、露光用マスクのパターン
には影響を与えないデータ処理を指示する指示データを
レイアウトデータに含める。例えば、セルの定義内に、
そのセルに関するレイアウトデータを、処理条件に応じ
て、分割して処理することを示す指示データを含める。
そして、レイアウトデータから、指示データが例えばシ
ステムによって自動的に検索され、その検索された指示
データに応じて、当該セルに関するレイアウトデータが
分割処理されると共に、当該指示データの内容が一つの
ファイル内に収められる。次に、描画ジョブを生成する
段階で、このファイルに基づいて、前記分割して処理さ
れたレイアウトデータが統合され前記描画ジョブが生成
される。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態に係わる
に露光用マスク製造方法およびその装置について説明す
る。この露光用マスク製造方法およびその装置では、設
計者がレイアウトデータ中に所定の指示を含めること
で、レイアウトデータから描画ジョブを生成する処理過
程で、分割データファイル、検査領域データファイル、
精度保証データファイルおよび仕様書ファイルなどのフ
ァイルを自動的に生成し、これらのファイルに基づい
て、一貫した流れで、レイアウトデータの分割処理、描
画ジョブの生成処理、検査工程および精度保証工程を行
う。

【００１８】レイアウトデータの記述フォーマットであ
る "GDS II Stream" などでは、露光用マスクのパター
ンそのものを示す記述（指示）の他に、文字列データを
指示データ（付加データ）として記述することが認めら
れている。このような指示データには、パターンデータ
に付属した文字列データ（以下、プロパティデータとも
記す）と、パターンから独立した文字列データ（以下、
テキストデータとも記す）との２種類がある。

【００１９】本実施形態では、レイアウトデータ中にプ
ロパティデータおよびテキストデータとして、露光用マ
スクの製造に必要な種々のデータを含めることで、プロ
パティデータおよびテキストデータを用いて、一貫した
流れで、露光用マスクの製造、検査および精度保証を行
えるようにしている。

【００２０】具体的には、以下に示すような、図形演算
指示データおよび分割処理の対象となるセル名を指定す
る分割指示データを、レイアウトデータ中のセル定義内
に記述する。また、分割処理の対象となる領域を指定す
る分割指示データおよび検査領域指示データを、レイア
ウトデータ中の当該領域を示す矩形の定義内に、プロパ
ティデータとして付加する。また、精度保証用の寸法指
示位置データを、レイアウトデータ中の測定方向と長さ
を示すパス図形の定義内に、プロパティデータとして付
加する。さらには、レイアウトデータ中の任意の位置
に、例えば、露光用マスクの仕様に関する仕様データを
付加する。上述したような、図形演算指示データ、分割
指示データ、検査領域指示データ、寸法指示位置データ
および仕様データは、他の指示データ（プロパティデー
タおよびテキストデータ）と区別し、本実施形態に特有
の指示データであることを指示するために、インデック
ス符号としての例えば「ＭＡＳＫ」という文字列を先頭
に記述している。

【００２１】以下、上述した本実施形態に特有の指示デ
ータのそれぞれについて詳細に説明する。図形演算指示データ図形演算指示データは、露光用マスクのパターンを、レ
イアウトデータによって指示された各層から、どのよう
にして作成するのかを指示するものである。一般にレイ
アウトデータでは、セル内にある各パターンを、数字あ
るいは名称を用いて、層に分類している。レイアウトデ
ータで分類された層は、作成する露光用マスクのパター
ンと一意に対応する場合もあるし、複数の層が対応する
場合や、複数の層のあいだで図形演算処理を施すことに
よって対応する場合などがある。そこで、レイアウトデ
ータによって指示された層と、作成する露光用マスクの
パターンとの関係を示す必要があり、これを指示するの
が、図形演算指示である。

【００２２】図形演算指示は、通常、レイアウトデータ
全体に統一されているものであると考えられるが、設計
手法が異なるパターンが混在する場合など、同一マスク
上でも場所により、図形演算指示が異なる場合がある。
そこで図形演算指示は、セルの定義内に、対象マスク名
と、図形演算指示の組み合わせを文字列で記述すること
により、当該セルの階層以下の階層パターンに対して、
当該図形演算指示を適用することを指示する。例えば、
レイアウトデータ中に記述された、あるセル定義内に、
下記（１）に示す文字列を入れておくことで、このセル
以下の階層パターンに対し、ここで指示された図形演算
指示が適用される。

【００２３】ＭＡＳＫＰＡＴＴＥＲＮＧＡＴＥ４｜（２１＆３３）（１）

【００２４】上記（１）に示す文字列「ＭＡＳＫ」は、
レイアウトデータ中の他のプロパティデータおよびテキ
ストデータの文字列と区別し、本実施形態に特有の指示
データであることを指示するキーワードである。また、
「ＰＡＴＴＥＲＮ」は、図形演算指示を示すキーワード
である。「ＧＡＴＥ」は、図形演算指示の対象となる露
光用マスクの名称であり、指定された露光用マスクのパ
ターンの作成方法の指示である。「４｜（２１＆３
３）」は、処理するべき図形演算であり、層番号「２
１」のパターンと層番号「３３」のパターンとに図形的
ＡＮＤ処理を行って得られたパターンと、層番号「４」
のパターンとに図形的ＯＲ処理を行って得られたパター
ンに、「ＧＡＴＥ」という露光用マスク名を付けること
を意味する。

【００２５】セル名を指定する分割指示データレイアウトデータ中の分割処理対象となるセルの定義中
に、そのセルが分割処理対象であることを明示するデー
タを、テキストデータで指示する。例えば、レイアウト
データ中の分割処理対象セル定義中に、下記（２）に示
す文字列を記述することで、当該セルに関するデータ
が、レイアウトデータから抜き出され、独立して、図２
に示す処理２７，３７，４７のうち一の処理あるいは図
５に示す処理が選択的に行われる。

【００２６】ＭＡＳＫＳＥＰＡＲＡＴＥ−ＣＥＬＬ（２）

【００２７】上記（２）に示す文字列「ＭＡＳＫ」は、
レイアウトデータ中の他のプロパティデータおよびテキ
ストデータの文字列と区別し、本実施形態に特有の指示
データであることを指示するキーワードである。また、
「ＳＥＰＡＲＡＴＥ−ＣＥＬＬ」は、セルの分割処理対
象を示すキーワードである。この例では、図形演算指示
のように、対象マスク名を指示していない。これは、全
マスクパターンが対象となるような処理には、特にマス
ク名を限定するデータは必要ないからである。指定され
たセルは、上位のセルから引用されるため、これにより
処理されたＥＢデータは、この引用データを基に、描画
ジョブ中の配置指示により描画される。また、セルを指
定する分割指示データが、あるセルの定義中にあり、そ
のセルが上位のセルより複数個格子状に引用されている
場合は、描画ジョブでの繰り返し描画として表現され
る。

【００２８】領域を指定する分割指示データレイアウトデータ中の分割処理の対象となる領域を示す
矩形を作成し、その矩形に、当該領域が分割処理対象で
あることを明示するデータを、プロパティデータとして
付加する。例えば、レイアウトデータ中に矩形があり、
その矩形に、下記（３）に示す文字列をプロパティデー
タとして記述することで、当該矩形によって示される領
域に関するデータは、レイアウトデータから抜き出さ
れ、独立して、図２に示す処理２７，３７，４７のうち
一の処理あるいは図５に示す処理が選択的に行われる。

【００２９】ＭＡＳＫＳＥＰＡＲＡＴＥ−ＡＲＥＡ（３）

【００３０】上記（３）に示す文字列「ＭＡＳＫ」は、
レイアウトデータ中の他のプロパティデータおよびテキ
ストデータの文字列と区別し、本実施形態に特有の指示
データであることを指示するキーワードである。また、
「ＳＥＰＡＲＡＴＥ−ＡＲＥＡ」は、領域による分割処
理対象を示すキーワードである。この指定による領域座
標から、露光用マスク上の位置が分かるので、この位置
が描画ジョブ上の描画位置に反映される。また、領域を
指定する分割指示データが、あるセルの定義中にあり、
そのセルが上位のセルより複数個格子状に引用されてい
る場合は、描画ジョブでの繰り返し描画として表現され
る。

【００３１】その他の分割指示データその他の分割処理に関しても、上述したものと同様の分
割指示データを付加することにより、指示が可能であ
る。例えば、処理条件が異なる場合の分割処理の場合
は、その異なる条件を、追加した上で、上記同様の分割
処理指示を記述することになるし、精度の相違によるも
のは、その精度条件をデータとして付加する。また、そ
の他の要因で分割処理が必要になった場合でも、同様の
方法でデータを付加し、分割処理の指示が可能である。

【００３２】検査領域指示データ欠陥検査領域を指示する方法は、前述した領域を指定す
る分割指示データと同様の方法で指定が可能である。具
体的には、検査対象の領域の矩形図形を作成し、当該矩
形図形のデータに、検査対象であることを示すデータ
と、他の領域との同一性を示すデータとを、プロパティ
データとして付加する。例えば、レイアウトデータ中の
チップに相当するセル内に、スクライブラインを含まな
いセル全域を示す矩形パターンを生成し、当該矩形パタ
ーンのデータに、下記（４）に示す文字列をプロパティ
データとして付加することで、その領域が、欠陥検査の
対象領域であることを、欠陥検査装置に指示できる。

【００３３】ＭＡＳＫＤＣＡＲＥＡＡ（４）

【００３４】上記（４）に示す文字列「ＭＡＳＫ」は、
レイアウトデータ中の他のプロパティデータおよびテキ
ストデータの文字列と区別し、本実施形態に特有の指示
データであることを指示するキーワードである。また、
「ＤＣＡＲＥＡ」は、欠陥検査の対象領域であることを
示すキーワードである。さらに、「Ａ」は、領域パター
ンを示すＩＤであり、同じＩＤ文字列である場合は、そ
の領域が同じパターンであるから、チップ同士の比較検
証による欠陥検査が可能であることを指示するものであ
る。同じＩＤが、露光用マスク上で他に存在しない場合
は、描画データとの比較検証が選択される。この例で
は、チップに該当するセルのデータ内に、検査領域指示
データを付加しているため、マスク上、同一のチップが
埋め込まれる形である場合、このセルも上位のセルから
複数引用されているはずなので、マスク全体から見る
と、複数の同じＩＤを持つ欠陥検査指示データが存在す
ることになる。

【００３５】寸法指示位置データ（精度保証指示デー
タ）マスクの寸法精度を保証するための、寸法測定位置の指
示は、レイアウトデータ中に、測定位置と、方向、その
寸法が分かるデータを付加して行われる。例えば、レイ
アウトデータ中に、図３に示すマスクパターン５０があ
り、パターン５０の、Ａ部の寸法を測定したい場合、図
４に示すような、マスクパターン５０に影響を及ぼさな
いレイアウトデータ上の層に、測定方向と長さを示すパ
ス図形６０を描き、パス図形６０にプロパティデータと
して下記（５）に示す文字列を記述することで、パス図
形６０の位置が、寸法測定位置であることを、寸法精度
測定装置に指示できる。

【００３６】ＭＡＳＫＷＳＰＥＣＧＡＴＥＡ（５）

【００３７】このパス図形６０の方向が、寸法の測定方
向であり、このパスの長さが、基準寸法となる。上記
（５）に示す文字列「ＭＡＳＫ」は、レイアウトデータ
中の他のプロパティデータおよびテキストデータの文字
列と区別し、本実施形態に特有の指示データであること
を指示するキーワードである。また、「ＷＳＰＥＣ」
は、寸法測定指示であることを示すキーワードである、
「ＧＡＴＥ」は、寸法測定対象のマスクの名称である。
寸法測定指示は、同一ＬＳＩ内で使用する露光用マスク
でも、露光用マスク毎に異なるデータであるため、どの
露光用マスクであるかを特定するデータが必要である。
また、「Ａ」は、寸法測定位置を示すＩＤであり、同じ
ＩＤ文字列が複数ある場合、特にメモリデバイスのメモ
リセル中に指示した場合は、多量に同じＩＤの寸法測定
位置がなされたことになり、そのような場合は、その中
から、現実的に測定可能な適当な数を選択し、測定する
ことになる。

【００３８】仕様データ露光用マスクの仕様に関するデータは、本来、レイアウ
トデータとは独立したものであるため、必ずしもプロパ
ティデータのようにパターン図形に付加して与える必要
はない。対象マスクが、どのような仕様であるかを示す
データが、文字列で示されていればよいことになる。例
えば、マスクサイズが６ｉｎｃｈである場合、レイアウ
トデータ中の任意の場所に、下記（６）に示す文字列を
記述することで、マスクサイズの指示ができる。

【００３９】ＭＡＳＫＳＩＺＥＧＡＴＥ６ｉｎｃｈ（６）

【００４０】上記（６）に示す文字列「ＭＡＳＫ」は、
レイアウトデータ中の他のプロパティデータおよびテキ
ストデータの文字列と区別し、本実施形態に特有の指示
データであることを指示するキーワードである。また、
「ＧＡＴＥ」は、露光用マスクの名称である。さらに、
「６ｉｎｃｈ」は、露光用マスクのサイズを示してい
る。同様にして、露光用マスクを構成する材料、マスク
の厚さ、マスクの精度、マスク上に示す名称なども指示
が出来る。

【００４１】以下、上述した指示データ「ＭＡＳＫ」を
含むレイアウトデータを用いて、露光用マスクの製造、
検査および寸法精度測定を行う露光用マスク製造システ
ムについて説明する。図１は、この露光用マスク製造シ
ステム１の構成図である。図１に示すように、露光用マ
スク製造システム１は、例えば、ＬＳＩ設計ＣＡＤ装置
２、描画ジョブ生成装置３、ＥＢ描画装置４、データ処
理手段としての欠陥検査装置５および寸法精度測定装置
６を有する。

【００４２】ＬＳＩ設計ＣＡＤ装置２ＬＳＩ設計ＣＡＤ装置２は、設計者の操作に応じて、レ
イアウトデータを作成する。このとき、設計者は、必要
に応じて、「ＭＡＳＫ」という文字列を先頭に記述し
た、図形演算指示データ、分割指示データ、検査領域指
示データ、寸法指示位置データおよび仕様データを、プ
ロパティデータあるいはテキストデータとして、それぞ
れレイアウトデータ中に記述する。

【００４３】描画ジョブ生成装置３図１に示すように、描画ジョブ生成装置３は、例えば、
検索手段としてのデータ解読部３１、データ処理手段と
してのデータ分割部３２、ファイル生成手段としての指
示データ作成部３３、図形演算部３４、補正処理部３
５、ＥＢ変換部３６、描画ジョブ生成部３７および記憶
部３８を有する。データ解読部３１は、レイアウトデー
タＳ２を読み込み、レイアウトデータＳ２に含まれてい
るプロパティデータおよびテキストデータのうち、文字
列「ＭＡＳＫ」で始まるものを検索（解読）する。そし
て、データ解読部３１は、仕様データのように、露光用
マスクのパターンとは無関係のデータを、仕様書ファイ
ルとして記憶部３８に、そのまま記憶する。

【００４４】また、データ解読部３１は、図形演算指示
データ、分割指示データ、検査領域指示データおよび寸
法指示位置データなどの、露光用マスクのパターンと関
連のあるデータに関しては、そのデータが記述されてい
たセル名や、そのデータがプロパティデータとして矩形
などの図形データなどと共に、記憶部３８に記憶する。
すなわち、分割指示データに応じた分割データファイ
ル、検査領域指示データに応じた検査領域データファイ
ルおよび寸法指示位置データに応じた精度保証データフ
ァイルが、記憶部３８に記憶される。

【００４５】データ分割部３２は、データ解読部３１に
おいて記憶部３８に記憶された分割データファイルに基
づいて、セル分割の場合には、その対象セルに関するデ
ータに関する独立したファイルを生成して出力し、記憶
していた図形演算指示を指定して、図２に示す処理２
７，３７，４７のうち一の処理あるいは図５に示す処理
が選択的に行われる。また、データ分割部３２は、上位
セル階層を検索し、対象セルの引用座標位置データを分
割データファイルに記憶する。この記憶された引用座標
位置データは、後に、描画ジョブ生成部３６において、
描画ジョブを作成する際に用いられる。データ分割部３
２は、対象セルの引用座標位置データを記憶した後に、
当該対象セルの引用を分割データファイルから削除す
る。

【００４６】一方、分割指示データが、領域を指定して
いる場合には、データ分割部３２は、対象領域をクリッ
プし、その領域についての独立した分割データファイル
を生成して出力し、記憶していた図形演算指示を指定し
て、図２に示す処理２７，３７，４７のうち一の処理あ
るいは図５に示す処理が選択的に行われる。そして、デ
ータ分割部３２は、マスク全体から見て、当該対象領域
部分をクリップして取り除く。その際、クリップした位
置を分割データファイルに記憶する。このクリップした
位置のデータは、後に、描画ジョブを作成する際に用い
られる。対象領域の指定が、マスク全体よりも下位の階
層にある場合、複数の領域をクリップして取り除くこと
になる場合が多い。

【００４７】指示データ作成部３３は、データ解読部３
１およびデータ分割部３２における上述した処理によっ
て記憶部３８に記憶された分割データファイルを描画ジ
ョブ生成部３７に出力する。また、記憶部３８に記憶さ
れた仕様書ファイルを、例えば、プリンタなどで出力す
る。さらに、データ解読部３１における上述した処理に
よって、記憶部３８に記憶された検査領域データファイ
ルおよび精度保証データファイルについて、以下に示す
処理を行った後に、それぞれを欠陥検査装置５および寸
法精度測定装置６に出力する。

【００４８】指示データ作成部３３は、検査領域データ
ファイルに記憶された検査領域を、マスク全体から座標
値として抽出する。下位セルに指定されていた場合、マ
スク全体から見ると、座標系ばかりか、複数のセル引用
により、数も異なるからである。マスク全体から見て正
しい座標値を、正しい数だけ抽出できたら、これを検査
領域ファイルとして、欠陥検査装置５に出力する。ここ
でも記憶していたデータの座標値と、描画ジョブにおけ
る座標とは、マスク倍率など、座標系が異なるため、指
示データ作成部３３は、そのための座標変換も行う。

【００４９】指示データ作成部３３は、精度保証データ
ファイルに記憶された位置データを、検査領域指示デー
タの場合と同様、マスク全体からの座標値としての抽出
作業をするが、メモリデバイスなどの場合、指定がメモ
リセル内部にあると、膨大な件数の座標を得ることにな
る。実際にメモリセル全ての精度測定を実施して、精度
保証をすることは不可能であるので、抽出の際、測定可
能な適当な数の測定ポイントのみを抽出する。例えば、
５点測定をする場合は、左下隅、左上隅、右下隅、右上
隅、中央の５か所のみを抽出するような方法を取る。こ
れにより抽出された座標値はやはり、座標変換を施し
て、寸法精度測定装置６に出力される。

【００５０】図形演算部３４は、データ分割部３２から
の指示に応じて、分割された個々のレイアウトデータに
ついて、図２に示す図形演算処理Ｓ２３，Ｓ３３，Ｓ４
３を選択的に行う。補正処理部３５は、データ分割部３
２からの指示に応じて、図形演算処理されたデータにつ
いて、図２に示す補正処理Ｓ２４，Ｓ３４，Ｓ４４を選
択的に行う。ＥＢ変換部３６は、データ分割部３２から
の指示に応じて、補正処理されたデータについて、図２
に示すＥＢ変換処理Ｓ２５，Ｓ３５，Ｓ４５を選択的に
行い、それぞれＥＢファイル２６，３６，４６を生成す
る。

【００５１】描画ジョブ生成部３７は、記憶部３８に記
憶された分割データファイルに含まれる引用座標位置デ
ータなどの、ＥＢファイルを配置する位置データに基づ
いて、図２に示すＥＢ変換処理Ｓ２５，Ｓ３５，Ｓ４５
によって生成されたＥＢファイル２６，３６，４６を、
同じＥＢファイル毎に分類し、繰り返し性があれば、そ
れを繰り返し描画指示とした描画ジョブを生成する。こ
のとき、分割データファイルにおける位置データの座標
値と、描画ジョブにおける座標とは、マスク倍率など、
座標系が異なるため、描画ジョブ生成部３７は、そのた
めの座標変換も行う。

【００５２】以上のように、レイアウトデータに、「Ｍ
ＡＳＫ」を用いて付加されたデータは、ファイルとして
加工された後に、データ分割部３２、描画ジョブ生成部
３７、欠陥検査装置５および寸法精度測定装置６に、デ
ータファイルとして出力される。

【００５３】以下、図２に示すフローチャートを参照し
ながら、図１に示す露光用マスク製造システム１の動作
を説明する。先ず、設計者が、ＬＳＩ設計ＣＡＤ装置２
を用いて、レイアウトデータを作成する。このとき、設
計者は、必要に応じて、「ＭＡＳＫ」という文字列を先
頭に記述した、図形演算指示データ、分割指示データ、
検査領域指示データ、寸法指示位置データおよび仕様デ
ータを、プロパティデータあるいはテキストデータとし
て、それぞれレイアウトデータ中に記述する。

【００５４】そして、このレイアウトデータＳ２が、描
画ジョブ生成装置３に入力される（ステップＳ２０）。
次に、データ解読部３１において、レイアウトデータＳ
２が解読され（ステップＳ２１）、レイアウトデータＳ
２中に含まれる図形演算指示データ、分割指示データ、
検査領域指示データ、寸法指示位置データおよび仕様デ
ータが、文字列「ＭＡＳＫ」を検索して抽出され、前述
したように、分割データファイル、検査領域データファ
イル、精度保証データファイルおよび仕様書ファイルが
記憶部３８に記憶される。

【００５５】次に、データ分割部３２において、記憶部
３８に記憶された分割データファイルに基づいて、レイ
アウトデータから、分割の対象となるセルや領域のデー
タが抽出され、独立したファイルが生成され、そのファ
イルに基づいて、図２に示す処理２７，３７，４７のう
ち一の処理あるいは図５に示す処理が選択的に行われ
る。このとき、データ分割部３２は、上位セル階層を検
索し、対象セルの引用座標位置データなどを分割データ
ファイルに記憶する。分割データファイルは、描画ジョ
ブ生成部３７に出力される。

【００５６】次に、データ分割部３２において生成され
た独立したファイルについて、条件に応じて、処理２
７，３７，４７が選択的に行われ、ＥＢファイル２６，
３６．４６が生成される。

【００５７】また、指示データ作成部３３において、記
憶部３８に記憶された仕様書ファイルがプリンタなどに
出力される（ステップＳ４０）。さらに、指示データ作
成部３３において、検査領域データファイルや精度保証
データファイルに所定の処理が施された後に、これらの
ファイルが、それぞれ欠陥検査装置５および寸法精度測
定装置６に出力される（ステップＳ４０）。

【００５８】次に、描画ジョブ生成部３７において、Ｅ
Ｂファイル２６，３６，４６および分割データファイル
から、描画ジョブが生成され（ステップＳ２８）、この
描画ジョブがＥＢ描画装置４に出力される。

【００５９】次に、ＥＢ描画装置４において、描画ジョ
ブに基づいて描画が行われ、露光用マスクが製造される
（ステップＳ２９）。次に、欠陥検査装置５において、
検査領域データファイルに応じた決定された領域の欠陥
検査が、製造された露光用マスクについて行われる。ま
た、寸法精度測定装置６において、精度保証データファ
イルに応じて決定された箇所の線幅測定が、製造された
露光用マスクについて行われる。

【００６０】以上説明したように、露光用マスク製造シ
ステム１によれば、露光用マスクの製造過程において、
レイアウトデータから、必要な種々のデータを抽出して
自動的にファイルを生成し、そのファイルを、データ分
割部３２、描画ジョブ生成部３７、欠陥検査装置５およ
び寸法精度測定装置６に出力する。そのため、データ受
け渡しの繁雑さを回避するとともに、紙などの媒体を使
用しないため、設計者および作業者の負担を軽減できる
と共に、データの取り違えや転記ミスを回避できる。ま
た、露光用マスク製造システム１によれば、座標値など
の指示は、レイアウトデータに基づいて自動的に行うた
め、座標値の読み取りミスなどを無くすことができる。
その結果、露光用マスク製造システム１によれば、露光
用マスクの製造期間を短縮できると共に、信頼性の高い
露光用マスクを製造できる。

【００６１】本発明は、上述した実施形態には限定され
ない。例えば、上述した図１に示す露光用マスク製造シ
ステム１において、描画ジョブ生成装置３のデータ分割
部３２、欠陥検査装置５および寸法精度測定装置６の全
てを設けている必要はなく、少なくとも一つを設けてい
ればよい。また、レイアウトデータＳ２に含まれる仕様
データのみを出力する構成にしてもよい。

【００６２】また、上述した（１）〜（６）に示すプロ
パティデータおよびテキストデータの表現形式は任意で
ある。さらに、上述した実施形態では、分割データファ
イル、検査領域データファイル、精度保証データファイ
ルおよび仕様書ファイルを、それぞれ別個に生成した
が、これらを統合した１つの統合ファイルを生成するよ
うにしてもよい。

【００６３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の露光用マ
スク製造方法およびその装置によれば、露光用マスクの
製造期間を短縮でき、露光用マスクの製造工程の信頼性
を高めることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明の実施形態に係わる露光用マス
ク製造システムの構成図である。

【図２】図２は、図１に示す露光用マスク製造システム
における処理を示すフローチャートである。

【図３】図３は、図１に示す露光用マスク製造システム
における寸法指示位置データを説明するための図であ
る。

【図４】図４は、図１に示す露光用マスク製造システム
における寸法指示位置データが示すパス図形を説明する
ための図である。

【図５】図５は、一般的な露光用マスクの製造方法にお
けるＥＢファイルの生成過程の概略を示すフローチャー
トである。

【図６】図６は、レイアウトデータの分割処理を行う場
合のＥＢファイルの生成過程の概略を示すフローチャー
トである。

【符号の説明】

１…露光用マスク製造システム、２…ＬＳＩ設計ＣＡＤ
装置、３…描画ジョブ生成装置、４…ＥＢ描画装置、５
…欠陥検査装置、６…寸法精度測定装置、３１…データ
解読部、３２…データ分割部、３３…指示データ作成
部、３４…図形演算部、３５…補正処理部、３６…ＥＢ
変換部、３７…描画ジョブ生成部、３８…記憶部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】レイアウトデータから生成された描画ジョ
ブに基づいて描画を行い、露光用マスクを製造する露光
用マスク製造方法において、露光用マスクのパターン自体には影響を与えないデータ
処理を指示し、所定のインデックス符号を含む指示デー
タを前記レイアウトデータから検索し、前記検索された指示データに応じたファイルを生成し、前記ファイルに基づいて、前記データ処理を行う露光用
マスク製造方法。
【請求項２】前記データ処理は、前記レイアウトデータ
を、処理条件に応じて分割する処理である請求項１に記
載の露光用マスク製造方法。
【請求項３】前記ファイルに基づいて、前記分割して処
理されたレイアウトデータを統合して前記描画ジョブを
生成する請求項２に記載の露光用マスク製造方法。
【請求項４】前記データ処理は、製造された露光用マス
クの所定の領域を検査する処理である請求項１に記載の
露光用マスク製造方法。
【請求項５】前記データ処理は、製造された露光用マス
クの所定位置の精度を保証する処理である請求項１に記
載の露光用マスク製造方法。
【請求項６】前記データ処理は、露光用マスクの仕様の
内容を出力する処理である請求項１に記載の露光用マス
ク製造方法。
【請求項７】前記指示データは、レイアウトデータの定
義内に付加された文字列データである請求項１に記載の
露光用マスク製造方法。
【請求項８】レイアウトデータから生成された描画ジョ
ブに基づいて描画を行い、露光用マスクを製造する露光
用マスク製造装置において、露光用マスクのパターン自体には影響を与えないデータ
処理を指示し、所定のインデックス符号を含む指示デー
タを前記レイアウトデータから検索する検索手段と、前記検索された指示データに応じたファイルを生成する
ファイル生成手段と、前記ファイルに基づいて、前記データ処理を行うデータ
処理手段とを有する露光用マスク製造装置。
【請求項９】前記データ処理手段は、前記レイアウトデ
ータを、処理条件に応じて分割する請求項８に記載の露
光用マスク製造装置。
【請求項１０】前記ファイルに基づいて、前記分割して
処理されたレイアウトデータを統合して前記描画ジョブ
を生成する描画ジョブ生成手段をさらに有する請求項９
に記載の露光用マスク製造装置。
【請求項１１】前記データ処理手段は、製造された露光
用マスクの所定の領域を検査する請求項８に記載の露光
用マスク製造装置。
【請求項１２】前記データ処理手段は、製造された露光
用マスクの所定位置の精度を保証する請求項８に記載の
露光用マスク製造装置。
【請求項１３】前記データ処理手段は、露光用マスクの
仕様の内容を出力する請求項８に記載の露光用マスク製
造装置。
【請求項１４】前記指示データは、露光用マスクのパタ
ーンの定義内に付加された文字列データである請求項８
に記載の露光用マスク製造装置。