JPH10319606A - フォトレジスト用現像液 - Google Patents
フォトレジスト用現像液Info
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- JPH10319606A JPH10319606A JP9127331A JP12733197A JPH10319606A JP H10319606 A JPH10319606 A JP H10319606A JP 9127331 A JP9127331 A JP 9127331A JP 12733197 A JP12733197 A JP 12733197A JP H10319606 A JPH10319606 A JP H10319606A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- average molecular
- molecular weight
- compound
- weight
- polyethylene oxide
- Prior art date
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- Granted
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 消泡性に優れかつ濡れ性が良好である、現像
不良の解消に有効なフォトレジスト用現像液の提供。 【解決手段】 ポリプロピレンオキシド基とポリエチレ
ンオキシド基とからなるＡＢＡ型ブロック共重合体を含
有するフォトレジスト用現像液。
不良の解消に有効なフォトレジスト用現像液の提供。 【解決手段】 ポリプロピレンオキシド基とポリエチレ
ンオキシド基とからなるＡＢＡ型ブロック共重合体を含
有するフォトレジスト用現像液。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、消泡性に優れかつ
濡れ性が良好である、現像不良の解消に有効なフォトレ
ジスト用現像液に関する。
濡れ性が良好である、現像不良の解消に有効なフォトレ
ジスト用現像液に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体工業では、集積回路の高密
度化が求められている。そのために高い解像力を有する
フォトレジストが使用されているが、そのひとつとし
て、例えばクレゾールノボラック樹脂と光分解剤のナフ
トキノンジアジド化合物とを組み合わせたフォトレジス
トのような、アルカリ可溶性フォトレジストが使用され
ている。
度化が求められている。そのために高い解像力を有する
フォトレジストが使用されているが、そのひとつとし
て、例えばクレゾールノボラック樹脂と光分解剤のナフ
トキノンジアジド化合物とを組み合わせたフォトレジス
トのような、アルカリ可溶性フォトレジストが使用され
ている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この種のレジストを用
いた場合の現像液としては、アルカリ水溶液が用いられ
ているが、一般的にアルカリ水溶液は微細パターンの基
部まで十分に浸すことができないので、基部の裾切れ等
が悪くなり寸法精度が低下するという欠点を有してい
る。そのため、ある種のアルカリ水溶液に各種の界面活
性剤を添加し、フォトレジストに対する濡れ性を向上さ
せることが提案されている。しかし、このような界面活
性剤を使用すると、泡立ち易く、生じた泡がいつまでも
消えず現像不良を引き起こす場合があった。
いた場合の現像液としては、アルカリ水溶液が用いられ
ているが、一般的にアルカリ水溶液は微細パターンの基
部まで十分に浸すことができないので、基部の裾切れ等
が悪くなり寸法精度が低下するという欠点を有してい
る。そのため、ある種のアルカリ水溶液に各種の界面活
性剤を添加し、フォトレジストに対する濡れ性を向上さ
せることが提案されている。しかし、このような界面活
性剤を使用すると、泡立ち易く、生じた泡がいつまでも
消えず現像不良を引き起こす場合があった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、 １）水； ２）アルカリ物質；および ３）式（Ｉ）： ＨＯ−Ｂ1 −Ａ−Ｂ2 −Ｈ （Ｉ） （式中、Ａはポリプロピレンオキシド基であり、Ｂ1 お
よびＢ2 はポリエチレンオキシド基である）で示され
る、平均分子量が９００〜４，０００であり、平均分子
量を基準としてポリエチレンオキシド基が５〜５５重量
％含まれる化合物、または式（II）： ＨＯ−Ａ1 −Ｂ−Ａ2 −Ｈ （II） （式中、Ａ1 およびＡ2 はポリプロピレンオキシド基で
あり、また、Ｂはポリエチレンオキシド基である）で示
される、平均分子量が１，０００〜４，０００であり、
平均分子量を基準としてポリエチレンオキシド基が５〜
５５重量％含まれる化合物を含有するフォトレジスト用
現像液である。
よびＢ2 はポリエチレンオキシド基である）で示され
る、平均分子量が９００〜４，０００であり、平均分子
量を基準としてポリエチレンオキシド基が５〜５５重量
％含まれる化合物、または式（II）： ＨＯ−Ａ1 −Ｂ−Ａ2 −Ｈ （II） （式中、Ａ1 およびＡ2 はポリプロピレンオキシド基で
あり、また、Ｂはポリエチレンオキシド基である）で示
される、平均分子量が１，０００〜４，０００であり、
平均分子量を基準としてポリエチレンオキシド基が５〜
５５重量％含まれる化合物を含有するフォトレジスト用
現像液である。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明で用いる水は純度の高いも
の程よく、超純水が特に好ましい。
の程よく、超純水が特に好ましい。
【０００６】本発明で用いるアルカリ物質は特に限定さ
れない。例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、リン酸ナト
リウム、リン酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
水素ナトリウム等の無機アルカリ；アンモニア；ｎ−プ
ロピルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−ブチ
ルアミン、メチルジエチルアミン、コリジン、ピペリジ
ン、ピペラジン、トリエチレンジアミン、ピロール、
２，５−ジメチルピロール等のアミン；ジメチルエタノ
ールアミン、トリエタノールアミン、ジエチルヒドロキ
シルアミン等のアルコールアミン；テトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロ
キシド、２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウム
ヒドロキシド等の第四級アンモニウムが挙げられる。こ
の中で、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドが好ま
しい。
れない。例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、リン酸ナト
リウム、リン酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
水素ナトリウム等の無機アルカリ；アンモニア；ｎ−プ
ロピルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−ブチ
ルアミン、メチルジエチルアミン、コリジン、ピペリジ
ン、ピペラジン、トリエチレンジアミン、ピロール、
２，５−ジメチルピロール等のアミン；ジメチルエタノ
ールアミン、トリエタノールアミン、ジエチルヒドロキ
シルアミン等のアルコールアミン；テトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロ
キシド、２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウム
ヒドロキシド等の第四級アンモニウムが挙げられる。こ
の中で、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドが好ま
しい。
【０００７】アルカリ物質の添加量は、水１００重量部
に対して、好ましくは０．１〜５重量部、より好ましく
は０．２〜４重量部、更に好ましくは０．５〜３重量部
である。
に対して、好ましくは０．１〜５重量部、より好ましく
は０．２〜４重量部、更に好ましくは０．５〜３重量部
である。
【０００８】本発明で用いる式（Ｉ）の化合物は、疎水
性のポリプロピレンオキシド基Ａ〔−ＣＨ（ＣＨ3)ＣＨ
2 Ｏ−を構成単位とするポリマー基〕を、親水性のポリ
エチレンオキシド基Ｂ1 およびＢ2 〔−ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ
−を構成単位とするポリマー基〕でサンドしたブロック
共重合体であり、非イオン性界面活性剤である。
性のポリプロピレンオキシド基Ａ〔−ＣＨ（ＣＨ3)ＣＨ
2 Ｏ−を構成単位とするポリマー基〕を、親水性のポリ
エチレンオキシド基Ｂ1 およびＢ2 〔−ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ
−を構成単位とするポリマー基〕でサンドしたブロック
共重合体であり、非イオン性界面活性剤である。
【０００９】ここで、式（Ｉ）の化合物の平均分子量
は、９００〜４，０００であり、この化合物中のポリエ
チレンオキシド基（Ｂ1 およびＢ2)の含有量は、前記平
均分子量を基準として５〜５５重量％である。好ましく
は、式（Ｉ）の化合物の平均分子量は、９００〜２，２
００であり、この化合物中のポリエチレンオキシド基の
含有量は、前記平均分子量を基準として５〜３５重量％
である。より好ましくは、式（Ｉ）の化合物の平均分子
量は、９００〜２，２００であり、この化合物中のポリ
エチレンオキシド基の含有量は、前記平均分子量を基準
として５〜１５重量％である。最も好ましくは、式
（Ｉ）の化合物の平均分子量は、９００〜１，２００で
あり、この化合物中のポリエチレンオキシド基の含有量
は、前記平均分子量を基準として５〜１５重量％であ
る。なお、Ｂ1 およびＢ2 の合計の含有量が上記の範囲
内であればよく、Ｂ1 やＢ2 の各々がどのような平均分
子量を有していてもよい。
は、９００〜４，０００であり、この化合物中のポリエ
チレンオキシド基（Ｂ1 およびＢ2)の含有量は、前記平
均分子量を基準として５〜５５重量％である。好ましく
は、式（Ｉ）の化合物の平均分子量は、９００〜２，２
００であり、この化合物中のポリエチレンオキシド基の
含有量は、前記平均分子量を基準として５〜３５重量％
である。より好ましくは、式（Ｉ）の化合物の平均分子
量は、９００〜２，２００であり、この化合物中のポリ
エチレンオキシド基の含有量は、前記平均分子量を基準
として５〜１５重量％である。最も好ましくは、式
（Ｉ）の化合物の平均分子量は、９００〜１，２００で
あり、この化合物中のポリエチレンオキシド基の含有量
は、前記平均分子量を基準として５〜１５重量％であ
る。なお、Ｂ1 およびＢ2 の合計の含有量が上記の範囲
内であればよく、Ｂ1 やＢ2 の各々がどのような平均分
子量を有していてもよい。
【００１０】本発明で用いられる式（Ｉ）の化合物とし
ては、例えばＰＬＵＲＯＮＩＣ（登録商標）シリーズの
Ｌ３１、Ｌ３５、Ｌ４２、Ｌ４３、Ｌ４４、Ｌ６１、Ｌ
６２、Ｌ６３、Ｌ６４、Ｌ７２、Ｌ８１、Ｌ９２、Ｌ１
０１、Ｌ１２１、Ｌ１２２、Ｐ６５、Ｐ７５、Ｐ８４、
Ｐ８５、Ｐ１０３、Ｐ１０４、Ｐ１０５、Ｐ１２３（以
上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。これらの平均分
子量並びに平均分子量を基準としたポリエチレンオキシ
ド基の含有量（重量％）を表１に示す。
ては、例えばＰＬＵＲＯＮＩＣ（登録商標）シリーズの
Ｌ３１、Ｌ３５、Ｌ４２、Ｌ４３、Ｌ４４、Ｌ６１、Ｌ
６２、Ｌ６３、Ｌ６４、Ｌ７２、Ｌ８１、Ｌ９２、Ｌ１
０１、Ｌ１２１、Ｌ１２２、Ｐ６５、Ｐ７５、Ｐ８４、
Ｐ８５、Ｐ１０３、Ｐ１０４、Ｐ１０５、Ｐ１２３（以
上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。これらの平均分
子量並びに平均分子量を基準としたポリエチレンオキシ
ド基の含有量（重量％）を表１に示す。
【００１１】
【表１】
【００１２】また、本発明で用いる式（II）の化合物
は、親水性のポリエチレンオキシド基Ｂ〔−ＣＨ2 ＣＨ
2 Ｏ−を構成単位とするポリマー基〕を、疎水性のポリ
プロピレンオキシド基Ａ1 およびＡ2 〔−ＣＨ（ＣＨ3)
ＣＨ2 Ｏ−を構成単位とするポリマー基〕でサンドした
ブロック共重合体であり、非イオン性界面活性剤であ
る。
は、親水性のポリエチレンオキシド基Ｂ〔−ＣＨ2 ＣＨ
2 Ｏ−を構成単位とするポリマー基〕を、疎水性のポリ
プロピレンオキシド基Ａ1 およびＡ2 〔−ＣＨ（ＣＨ3)
ＣＨ2 Ｏ−を構成単位とするポリマー基〕でサンドした
ブロック共重合体であり、非イオン性界面活性剤であ
る。
【００１３】ここで、式（II）の化合物の平均分子量
は、１，０００〜４，０００であり、この化合物中のポ
リエチレンオキシド基（Ｂ）の含有量は、前記平均分子
量を基準として５〜５５重量％である。好ましくは、式
（II）の化合物の平均分子量は、１，０００〜４，００
０であり、この化合物中のポリエチレンオキシド基の含
有量は、前記平均分子量を基準として１５〜４５重量％
である。また、好ましくは、式（II）の化合物の平均分
子量は、１，０００〜２，９００であり、この化合物中
のポリエチレンオキシド基の含有量は、前記平均分子量
を基準として５〜５５重量％である。より好ましくは、
式（II）の化合物の平均分子量は、２，０００〜２，９
００であり、この化合物中のポリエチレンオキシド基の
含有量は、前記平均分子量を基準として１５〜４５重量
％である。なお、Ａ1 およびＡ2 の合計の含有量が上記
の範囲内であればよく、Ａ1 やＡ2 の各々がどのような
平均分子量を有していてもよい。
は、１，０００〜４，０００であり、この化合物中のポ
リエチレンオキシド基（Ｂ）の含有量は、前記平均分子
量を基準として５〜５５重量％である。好ましくは、式
（II）の化合物の平均分子量は、１，０００〜４，００
０であり、この化合物中のポリエチレンオキシド基の含
有量は、前記平均分子量を基準として１５〜４５重量％
である。また、好ましくは、式（II）の化合物の平均分
子量は、１，０００〜２，９００であり、この化合物中
のポリエチレンオキシド基の含有量は、前記平均分子量
を基準として５〜５５重量％である。より好ましくは、
式（II）の化合物の平均分子量は、２，０００〜２，９
００であり、この化合物中のポリエチレンオキシド基の
含有量は、前記平均分子量を基準として１５〜４５重量
％である。なお、Ａ1 およびＡ2 の合計の含有量が上記
の範囲内であればよく、Ａ1 やＡ2 の各々がどのような
平均分子量を有していてもよい。
【００１４】本発明で用いられる式（II）の化合物とし
ては、例えばＰＬＵＲＯＮＩＣ（登録商標）Ｒシリーズ
の１０Ｒ５、１２Ｒ３、１７Ｒ１、１７Ｒ２、１７Ｒ
４、２２Ｒ４、２５Ｒ１、２５Ｒ２、２５Ｒ４、２５Ｒ
５、３１Ｒ１、３１Ｒ２、３１Ｒ４（以上、ＢＡＳＦ社
製）などが挙げられる。これらの平均分子量並びに平均
分子量を基準としたポリエチレンオキシド基の含有量
（重量％）を表２に示す。
ては、例えばＰＬＵＲＯＮＩＣ（登録商標）Ｒシリーズ
の１０Ｒ５、１２Ｒ３、１７Ｒ１、１７Ｒ２、１７Ｒ
４、２２Ｒ４、２５Ｒ１、２５Ｒ２、２５Ｒ４、２５Ｒ
５、３１Ｒ１、３１Ｒ２、３１Ｒ４（以上、ＢＡＳＦ社
製）などが挙げられる。これらの平均分子量並びに平均
分子量を基準としたポリエチレンオキシド基の含有量
（重量％）を表２に示す。
【００１５】
【表２】
【００１６】本発明のフォトレジスト用現像液は、水と
アルカリ物質の重量を基準として、上記（Ｉ）または
（II）の化合物を好ましくは５０〜５，０００ppm 含有
し、より好ましくは５０〜１，０００ppm 、更に好まし
くは５０〜５００ppm 含有する。
アルカリ物質の重量を基準として、上記（Ｉ）または
（II）の化合物を好ましくは５０〜５，０００ppm 含有
し、より好ましくは５０〜１，０００ppm 、更に好まし
くは５０〜５００ppm 含有する。
【００１７】なお、本明細書にいう「平均分子量」と
は、下記の手順に従い測定された水酸基価に基づき算出
されたものをいう（フタル化法）。
は、下記の手順に従い測定された水酸基価に基づき算出
されたものをいう（フタル化法）。
【００１８】使用する試薬 無水フタル酸のピリジン溶液：ピリジン３００mlに
無水フタル酸４２ｇを完全に溶解させ、７０℃で２時間
または室温で１夜熟成させる。なお、この試薬は着色瓶
中に保存し、８日以内で更新し、着色したものは使用し
ない。 ピリジン ０．５Ｎ水酸化ナトリウム溶液 フェノールフタレインのピリジン溶液（１w/v ％）
無水フタル酸４２ｇを完全に溶解させ、７０℃で２時間
または室温で１夜熟成させる。なお、この試薬は着色瓶
中に保存し、８日以内で更新し、着色したものは使用し
ない。 ピリジン ０．５Ｎ水酸化ナトリウム溶液 フェノールフタレインのピリジン溶液（１w/v ％）
【００１９】手順 規定量の試料を３００mlフラスコに正しくはかりと
る〔Ｓ（ｇ）〕。なお、採取量が１ｇ未満の場合は１０
-1mgオーダーで、採取量が１ｇ以上の場合にはmgオーダ
ーで計量する。 無水フタル酸のピリジン溶液２５mlをホールピペッ
トで正確に加え、共せんをピリジンでシールしたうえで
沸騰したウォーターバス上で２時間加熱する（１５分お
きに振り動かす）。 加熱後、ウォーターバスから取り出し常温まで冷却
する。 共せんをピリジンで洗い流し（洗浄液はフラスコ内
に落とす）、０．５Ｎ水酸化ナトリウム溶液を５０mlホ
ールピペットで正確に加える。 指示薬（フェノールフタレインのピリジン溶液）を
１０滴加える。 ０．５Ｎ水酸化ナトリウム溶液で滴定する〔Ａ（m
l）〕。少なくとも１５秒間紅色を保つ点を終点とす
る。 この試験は、同一条件で空試験を行う〔Ｂ（m
l）〕。
る〔Ｓ（ｇ）〕。なお、採取量が１ｇ未満の場合は１０
-1mgオーダーで、採取量が１ｇ以上の場合にはmgオーダ
ーで計量する。 無水フタル酸のピリジン溶液２５mlをホールピペッ
トで正確に加え、共せんをピリジンでシールしたうえで
沸騰したウォーターバス上で２時間加熱する（１５分お
きに振り動かす）。 加熱後、ウォーターバスから取り出し常温まで冷却
する。 共せんをピリジンで洗い流し（洗浄液はフラスコ内
に落とす）、０．５Ｎ水酸化ナトリウム溶液を５０mlホ
ールピペットで正確に加える。 指示薬（フェノールフタレインのピリジン溶液）を
１０滴加える。 ０．５Ｎ水酸化ナトリウム溶液で滴定する〔Ａ（m
l）〕。少なくとも１５秒間紅色を保つ点を終点とす
る。 この試験は、同一条件で空試験を行う〔Ｂ（m
l）〕。
【００２０】平均分子量の算出 水酸基価の算出 ＯＨＶ＝〔２８．０５×（Ｂ−Ａ）×ｆ〕／Ｓ 式中、ＯＨＶは水酸基価（mgKOH/g)、Ｂは空試験の滴定
に要した０．５Ｎ水酸化ナトリウム溶液量（ml）、Ａは
試料の滴定に要した０．５Ｎ水酸化ナトリウム溶液量
（ml）、ｆは０．５Ｎ水酸化ナトリウム溶液のファクタ
ー、Ｓは試料量（ｇ）を示す。なお、試料が遊離酸を含
む場合は次式で補正する。 補正値＝水酸基価＋酸価 平均分子量の算出 平均分子量＝（５６．１×２×１０００）／ＯＨＶ 式中、５６．１はＫＯＨの式量、２は官能基（ＯＨ基）
の数である。
に要した０．５Ｎ水酸化ナトリウム溶液量（ml）、Ａは
試料の滴定に要した０．５Ｎ水酸化ナトリウム溶液量
（ml）、ｆは０．５Ｎ水酸化ナトリウム溶液のファクタ
ー、Ｓは試料量（ｇ）を示す。なお、試料が遊離酸を含
む場合は次式で補正する。 補正値＝水酸基価＋酸価 平均分子量の算出 平均分子量＝（５６．１×２×１０００）／ＯＨＶ 式中、５６．１はＫＯＨの式量、２は官能基（ＯＨ基）
の数である。
【００２１】
実施例１現像液の製造 ２．３８％トリメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液
１００重量部に、式（II）の化合物に相当するＢＡＳＦ
社製のＰＬＵＲＯＮＩＣ−１０Ｒ５を０．００５重量部
溶解し、前記化合物を５０ppm 含むフォトレジスト用現
像液を製造した。
１００重量部に、式（II）の化合物に相当するＢＡＳＦ
社製のＰＬＵＲＯＮＩＣ−１０Ｒ５を０．００５重量部
溶解し、前記化合物を５０ppm 含むフォトレジスト用現
像液を製造した。
【００２２】濡れ性試験 ４インチシリコンウエハに、ポジ型フォトレジストＳＲ
Ｒ６８０９（シプレイファーイースト社製）を膜厚０．
９μｍになるように塗布し、クリーンオーブン中１０５
℃で４５秒間プレベークした。上記現像液をこのウエハ
に滴下し、濡れの程度を把握するために接触角計で現像
液の接触角を測定した。その結果、５５．２°という値
が得られた。
Ｒ６８０９（シプレイファーイースト社製）を膜厚０．
９μｍになるように塗布し、クリーンオーブン中１０５
℃で４５秒間プレベークした。上記現像液をこのウエハ
に滴下し、濡れの程度を把握するために接触角計で現像
液の接触角を測定した。その結果、５５．２°という値
が得られた。
【００２３】消泡性試験 上記現像液２５mlをガラス製ホールピペットにとり、ガ
ラス製５０mlメスシリンダーに５０cmの高さから滴下し
た。そして、滴下終了直後の泡の高さと５分後の泡の高
さを測定した。なお、上記試験は、２５℃で行った。そ
の結果、滴下終了直後の泡の高さは３mmであったが、５
分後には完全に消泡した。
ラス製５０mlメスシリンダーに５０cmの高さから滴下し
た。そして、滴下終了直後の泡の高さと５分後の泡の高
さを測定した。なお、上記試験は、２５℃で行った。そ
の結果、滴下終了直後の泡の高さは３mmであったが、５
分後には完全に消泡した。
【００２４】実施例２〜１２および比較例１〜３ 界面活性剤の種類と濃度を表１に示すように変えた以外
は、実施例１と同様の手順で濡れ性試験と消泡性試験を
行った。その結果を表１に示す。表１からわかるよう
に、本発明に係る現像液は、従来の現像液よりも接触角
が小さく、しかもすべての実施例では５分後に消泡し
た。したがって、本発明に係る現像液は、従来の現像液
よりも濡れ性および消泡性に優れたものである。
は、実施例１と同様の手順で濡れ性試験と消泡性試験を
行った。その結果を表１に示す。表１からわかるよう
に、本発明に係る現像液は、従来の現像液よりも接触角
が小さく、しかもすべての実施例では５分後に消泡し
た。したがって、本発明に係る現像液は、従来の現像液
よりも濡れ性および消泡性に優れたものである。
【００２５】
【表３】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 淡路 明 新潟県北蒲原郡笹神村大字女堂字金屋原 300 シプレイ・フアーイースト株式会社 笹神工場内
Claims (1)
- 【請求項１】 １）水； ２）アルカリ物質；および ３）式（Ｉ）： ＨＯ−Ｂ1 −Ａ−Ｂ2 −Ｈ （Ｉ） （式中、Ａはポリプロピレンオキシド基であり、Ｂ1 お
よびＢ2 はポリエチレンオキシド基である）で示され
る、平均分子量が９００〜４，０００であり、平均分子
量を基準としてポリエチレンオキシド基が５〜５５重量
％含まれる化合物、または式（II）： ＨＯ−Ａ1 −Ｂ−Ａ2 −Ｈ （II） （式中、Ａ1 およびＡ2 はポリプロピレンオキシド基で
あり、また、Ｂはポリエチレンオキシド基である）で示
される、平均分子量が１，０００〜４，０００であり、
平均分子量を基準としてポリエチレンオキシド基が５〜
５５重量％含まれる化合物を含有することを特徴とする
フォトレジスト用現像液
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12733197A JP3880018B2 (ja) | 1997-05-16 | 1997-05-16 | フォトレジスト用現像液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12733197A JP3880018B2 (ja) | 1997-05-16 | 1997-05-16 | フォトレジスト用現像液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10319606A true JPH10319606A (ja) | 1998-12-04 |
| JP3880018B2 JP3880018B2 (ja) | 2007-02-14 |
Family
ID=14957287
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12733197A Expired - Fee Related JP3880018B2 (ja) | 1997-05-16 | 1997-05-16 | フォトレジスト用現像液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3880018B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1115035A1 (en) | 2000-01-04 | 2001-07-11 | Air Products And Chemicals, Inc. | Acetylenic diol ethylene oxide/propylene oxide adducts and their use in photoresist developers |
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1997
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