JPH10324688A - イミダゾピリジン誘導体およびその製造法 - Google Patents
イミダゾピリジン誘導体およびその製造法Info
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- JPH10324688A JPH10324688A JP10071829A JP7182998A JPH10324688A JP H10324688 A JPH10324688 A JP H10324688A JP 10071829 A JP10071829 A JP 10071829A JP 7182998 A JP7182998 A JP 7182998A JP H10324688 A JPH10324688 A JP H10324688A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】血中脂質低下薬などとして有用なチアサイクラ
ジン化合物及びその合成中間体の、より効率的で、環境
に悪影響の少ない製造法を提供する。 【解決手段】一般式： 【化１】 （式中、Ｑ環はさらに置換されていてもよいピリジン環
を、Ｒ1は水素原子、置換されていてもよい炭化水素基
又はアシル基を、Ｒ3は水素原子、置換されていてもよ
い水酸基、置換されていてもよい炭化水素基又はアシル
基を示す。）で表わされる化合物又はその塩を求核置換
反応に付すことを特徴とする一般式： 【化２】 （式中、Ｑ環、Ｒ1、Ｒ3は前記と同意義であり、Ｒ8は
求核性化合物残基を示す。）で表わされる化合物又はそ
の塩の製造法。
ジン化合物及びその合成中間体の、より効率的で、環境
に悪影響の少ない製造法を提供する。 【解決手段】一般式： 【化１】 （式中、Ｑ環はさらに置換されていてもよいピリジン環
を、Ｒ1は水素原子、置換されていてもよい炭化水素基
又はアシル基を、Ｒ3は水素原子、置換されていてもよ
い水酸基、置換されていてもよい炭化水素基又はアシル
基を示す。）で表わされる化合物又はその塩を求核置換
反応に付すことを特徴とする一般式： 【化２】 （式中、Ｑ環、Ｒ1、Ｒ3は前記と同意義であり、Ｒ8は
求核性化合物残基を示す。）で表わされる化合物又はそ
の塩の製造法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、肝低密度リポタン
パク質（ＬＤＬ）異化促進作用乃至はＬＤＬ受容体増加
作用に基づくコレステロール低下薬等の医薬として有用
なチアサイクラジン系化合物の合成中間体として有用な
イミダゾピリジン誘導体およびその製造法に関する。
パク質（ＬＤＬ）異化促進作用乃至はＬＤＬ受容体増加
作用に基づくコレステロール低下薬等の医薬として有用
なチアサイクラジン系化合物の合成中間体として有用な
イミダゾピリジン誘導体およびその製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】高コレステロール血症が、高血圧、喫煙
とともに心筋梗塞、狭心症、脳梗塞などの動脈硬化性疾
患の三大危険因子であることは、数多くの疫学調査によ
って明らかにされている。従って、血中コレステロール
値の適切なコントロールは、虚血性心疾患をはじめとす
る動脈硬化性疾患の予防または治療に極めて重要であ
る。血中コレステロール値を低下させる薬剤としては、
コレスチラミン（Cholestyramine）、コレスチポール
（Colestipol）等の胆汁酸を捕捉してその吸収を阻害す
るもの（例えば米国特許第４０２７００９号に開示）、
メリナミド（Melinamide）（フランス特許第１４７６５
６９号に開示）等のアシルコエンザイムＡコレステロー
ルアシル転移酵素（ＡＣＡＴ）を阻害してコレステロー
ルの腸管吸収を抑制するもの、さらに最近では３−ヒド
ロキシ−３−メチルグルタリルコエンザイムＡ（ＨＭＧ
−ＣｏＡ）還元酵素を阻害するロバスタチン（Lovastat
in）（米国特許第４２３１９３８号に開示）、シンバス
タチン（Simvastatin）（米国特許４２３１９３８に開
示）、（米国特許４４４４７８４に開示）、プラバスタ
チン（Pravastatin）（米国特許第４３４６２２７号に
開示）等のコレステロールの生合成を抑制する薬剤が注
目されている。しかし、ＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵素を阻害
するとコレステロールの生合成以外に、ユビキノン、ド
リコールやヘムＡのような、その他の生体に必要な成分
の生合成も阻害されるため、それらに起因する副作用が
懸念されるなど十分に満足できる薬剤ではない。
とともに心筋梗塞、狭心症、脳梗塞などの動脈硬化性疾
患の三大危険因子であることは、数多くの疫学調査によ
って明らかにされている。従って、血中コレステロール
値の適切なコントロールは、虚血性心疾患をはじめとす
る動脈硬化性疾患の予防または治療に極めて重要であ
る。血中コレステロール値を低下させる薬剤としては、
コレスチラミン（Cholestyramine）、コレスチポール
（Colestipol）等の胆汁酸を捕捉してその吸収を阻害す
るもの（例えば米国特許第４０２７００９号に開示）、
メリナミド（Melinamide）（フランス特許第１４７６５
６９号に開示）等のアシルコエンザイムＡコレステロー
ルアシル転移酵素（ＡＣＡＴ）を阻害してコレステロー
ルの腸管吸収を抑制するもの、さらに最近では３−ヒド
ロキシ−３−メチルグルタリルコエンザイムＡ（ＨＭＧ
−ＣｏＡ）還元酵素を阻害するロバスタチン（Lovastat
in）（米国特許第４２３１９３８号に開示）、シンバス
タチン（Simvastatin）（米国特許４２３１９３８に開
示）、（米国特許４４４４７８４に開示）、プラバスタ
チン（Pravastatin）（米国特許第４３４６２２７号に
開示）等のコレステロールの生合成を抑制する薬剤が注
目されている。しかし、ＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵素を阻害
するとコレステロールの生合成以外に、ユビキノン、ド
リコールやヘムＡのような、その他の生体に必要な成分
の生合成も阻害されるため、それらに起因する副作用が
懸念されるなど十分に満足できる薬剤ではない。
【０００３】一方、ＬＤＬ受容体は、コレステロール恒
常性に主要な役割を果たしている。ＬＤＬの形態で循環
しているコレステロールは、非常に特異的なＬＤＬ受容
体により血漿から除去され、受容体仲介細胞内取り込み
により細胞内に取り込まれる。細胞内に取り込まれる
と、ＬＤＬ粒子はリソソームで分解され、それによりコ
レステロールが遊離され、遊離コレステロールの細胞内
濃度を高める。増加した遊離コレステロール濃度は肝細
胞に信号を送ってコレステロール生合成経路中のキー酵
素の遺伝子の転写速度を低下させ、新規コレステロール
合成の低下を生ずる。また、ＬＤＬ受容体ｍＲＮＡ及び
タンパク質は細胞内に増加したコレステロールによりダ
ウンレギュレートされ、増加したＬＤＬコレステロール
を血漿から除去する肝臓の能力が低下する。従って、Ｌ
ＤＬ受容体を独立にアップレギュレートする機構は血漿
コレステロール濃度を一層大きく低下させると予想さ
れ、ＬＤＬ受容体をアップレギュレートするような薬剤
は、新たな血中脂質低下剤となり得る可能性がある。
常性に主要な役割を果たしている。ＬＤＬの形態で循環
しているコレステロールは、非常に特異的なＬＤＬ受容
体により血漿から除去され、受容体仲介細胞内取り込み
により細胞内に取り込まれる。細胞内に取り込まれる
と、ＬＤＬ粒子はリソソームで分解され、それによりコ
レステロールが遊離され、遊離コレステロールの細胞内
濃度を高める。増加した遊離コレステロール濃度は肝細
胞に信号を送ってコレステロール生合成経路中のキー酵
素の遺伝子の転写速度を低下させ、新規コレステロール
合成の低下を生ずる。また、ＬＤＬ受容体ｍＲＮＡ及び
タンパク質は細胞内に増加したコレステロールによりダ
ウンレギュレートされ、増加したＬＤＬコレステロール
を血漿から除去する肝臓の能力が低下する。従って、Ｌ
ＤＬ受容体を独立にアップレギュレートする機構は血漿
コレステロール濃度を一層大きく低下させると予想さ
れ、ＬＤＬ受容体をアップレギュレートするような薬剤
は、新たな血中脂質低下剤となり得る可能性がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】以上のような現状か
ら、ＬＤＬ受容体増加作用などに基づく新しいタイプの
血中脂質低下剤の開発が望まれ、これら有用化合物等の
工業的に有用な製造法、およびこれらの製造中間体の創
製が望まれている。より詳しくは優れたＬＤＬ受容体増
加作用、血中脂質低下作用、血糖低下作用及び／又は糖
尿病合併症改善作用などを有し、コレステロール低下薬
などの医薬品として有用な化合物の特徴的基本骨格を有
し、その合成上の重要中間体となる一般式
ら、ＬＤＬ受容体増加作用などに基づく新しいタイプの
血中脂質低下剤の開発が望まれ、これら有用化合物等の
工業的に有用な製造法、およびこれらの製造中間体の創
製が望まれている。より詳しくは優れたＬＤＬ受容体増
加作用、血中脂質低下作用、血糖低下作用及び／又は糖
尿病合併症改善作用などを有し、コレステロール低下薬
などの医薬品として有用な化合物の特徴的基本骨格を有
し、その合成上の重要中間体となる一般式
【化１４】
【化１５】 〔式中、Ｑ環はさらに置換されていてもよいピリジン環
を、Ｒ1は水素原子、置換されていてもよい炭化水素基
またはアシル基を、Ｒ5は低級アルキル基を示す。〕で
表される化合物又はその塩に導くことができる中間体
を、Ｒ1は水素原子、置換されていてもよい炭化水素基
またはアシル基を、Ｒ5は低級アルキル基を示す。〕で
表される化合物又はその塩に導くことができる中間体
【化１６】 〔式中、Ｑ環はさらに置換されていてもよいピリジン環
を、Ｒ1は水素原子、置換されていてもよい炭化水素基
又はアシル基を、Ｒ3は、水素原子、置換されていても
よい水酸基、置換されていてもよい炭化水素基又はアシ
ル基を、Ｒ4は水素原子又は置換されていてもよい炭化
水素基を示す。〕で表される化合物又はその塩の工業的
に有利で、しかも生活環境への悪影響を最小限に抑制し
た製造法の開発が強く望まれている。
を、Ｒ1は水素原子、置換されていてもよい炭化水素基
又はアシル基を、Ｒ3は、水素原子、置換されていても
よい水酸基、置換されていてもよい炭化水素基又はアシ
ル基を、Ｒ4は水素原子又は置換されていてもよい炭化
水素基を示す。〕で表される化合物又はその塩の工業的
に有利で、しかも生活環境への悪影響を最小限に抑制し
た製造法の開発が強く望まれている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、医薬品の
製造中間体として有用な化合物（I−１）又はその塩の
新規製造法について鋭意検討した結果、（１）一般式：
製造中間体として有用な化合物（I−１）又はその塩の
新規製造法について鋭意検討した結果、（１）一般式：
【化１７】 （式中、Ｑ環はさらに置換されていてもよいピリジン環
を、Ｒ1は水素原子、置換されていてもよい炭化水素基
又はアシル基を、Ｒ3は水素原子、置換されていてもよ
い水酸基を、置換されていてもよい炭化水素基又はアシ
ル基を示す。）で表わされる化合物又はその塩を求核置
換反応に付すことによって、（２）一般式：
を、Ｒ1は水素原子、置換されていてもよい炭化水素基
又はアシル基を、Ｒ3は水素原子、置換されていてもよ
い水酸基を、置換されていてもよい炭化水素基又はアシ
ル基を示す。）で表わされる化合物又はその塩を求核置
換反応に付すことによって、（２）一般式：
【化１８】 （式中、Ｑ環はさらに置換されていてもよいピリジン環
を、Ｒ2は水素原子又はアミノ基の保護基を、Ｒ4は水素
原子又は置換されていてもよい炭化水素基を示す。）で
表わされる化合物又はその塩と、一般式：
を、Ｒ2は水素原子又はアミノ基の保護基を、Ｒ4は水素
原子又は置換されていてもよい炭化水素基を示す。）で
表わされる化合物又はその塩と、一般式：
【化１９】 で表わされる化合物又はその塩（式中、Ｒ1、Ｒ3は前記
と同意義であり、Ｘは脱離基を示す。）とを反応させる
ことによって、（３）一般式：
と同意義であり、Ｘは脱離基を示す。）とを反応させる
ことによって、（３）一般式：
【化２０】 （式中、Ｑ環、Ｒ1、Ｒ3は前記と同意義であり、Ｙはハ
ロゲン原子を示す。）で表される化合物又はその塩と一
般式：Ｒ7ＳＨ（Ｒ7は保護されていてもよいＣＨ2ＣＯ
ＯＨ基を示す。）で表わされる化合物又はその塩とを反
応させることによって、あるいは（４）一般式：
ロゲン原子を示す。）で表される化合物又はその塩と一
般式：Ｒ7ＳＨ（Ｒ7は保護されていてもよいＣＨ2ＣＯ
ＯＨ基を示す。）で表わされる化合物又はその塩とを反
応させることによって、あるいは（４）一般式：
【化２１】 （式中、Ｑ環、Ｒ1、Ｒ3は前記と同意義であり、Ｒ6は
アルキル基を示す。）で表される化合物又はその塩を脱
アルキル化することによって、上記（I−１）式で表さ
れる化合物が工業的に実施する上で有利な緩和な条件
で、効率的にかつ好収率で製造されることを見出した。
また、（III−２）式で表わされる化合物又はその塩は
反応性に優れており、イミダゾ［１，２−ａ］ピリジン
の５位が置換された化合物、あるいは該化合物から導く
ことができる化合物を製造するにあたり有用な化合物で
あることを見出した。そして、さらに検討を加えて本発
明を完成した。
アルキル基を示す。）で表される化合物又はその塩を脱
アルキル化することによって、上記（I−１）式で表さ
れる化合物が工業的に実施する上で有利な緩和な条件
で、効率的にかつ好収率で製造されることを見出した。
また、（III−２）式で表わされる化合物又はその塩は
反応性に優れており、イミダゾ［１，２−ａ］ピリジン
の５位が置換された化合物、あるいは該化合物から導く
ことができる化合物を製造するにあたり有用な化合物で
あることを見出した。そして、さらに検討を加えて本発
明を完成した。
【０００６】すなわち、本発明は、（１）一般式：
【化２２】 （式中、ＺはＦ又はＳＲ7（Ｒ7は保護されていてもよい
ＣＨ2ＣＯＯＨ基）を、Ｑ環はさらに置換されていても
よいピリジン環を、Ｒ1は水素原子、置換されていても
よい炭化水素基又はアシル基を、Ｒ3は水素原子、置換
されていてもよい水酸基、置換されていてもよい炭化水
素基又はアシル基を示す。）で表される化合物又はその
塩、（２）一般式：
ＣＨ2ＣＯＯＨ基）を、Ｑ環はさらに置換されていても
よいピリジン環を、Ｒ1は水素原子、置換されていても
よい炭化水素基又はアシル基を、Ｒ3は水素原子、置換
されていてもよい水酸基、置換されていてもよい炭化水
素基又はアシル基を示す。）で表される化合物又はその
塩、（２）一般式：
【化２３】 （式中、Ｑ環は前記（１）記載と同意義であり、Ｒ2は
水素原子又はアミノ基の保護基を示す。）で表わされる
化合物又はその塩と一般式：
水素原子又はアミノ基の保護基を示す。）で表わされる
化合物又はその塩と一般式：
【化２４】 で表される化合物又はその塩（式中、Ｒ1及びＲ3は前記
（１）記載と同意義であり、Ｘは脱離基を示す。）とを
反応させることを特徴とする一般式：
（１）記載と同意義であり、Ｘは脱離基を示す。）とを
反応させることを特徴とする一般式：
【化２５】 （式中の記号は前記と同意義を示す。）で表される化合
物又はその塩の製造法、（３）一般式：
物又はその塩の製造法、（３）一般式：
【化２６】 （式中の記号は前記（１）記載と同意義を示す。）で表
わされる化合物又はその塩を求核置換反応に付すことを
特徴とする一般式：
わされる化合物又はその塩を求核置換反応に付すことを
特徴とする一般式：
【化２７】 （式中、Ｑ環、Ｒ1、Ｒ3は前記（１）記載と同意義であ
り、Ｒ8は求核性化合物残基を示す。）で表わされる化
合物又はその塩の製造法、（４）Ｒ8がＯＲ4（Ｒ4は水
素原子又は置換されていてもよい炭化水素基を示す。）
である前記（３）記載の製造法、（５）Ｒ8がＳＯnＲ4
（ｎは０から２の整数、Ｒ4は前記（４）記載と同意義
を示す。）である前記（３）記載の製造法、（６）Ｒ8
がＮＲ4Ｒ4a（Ｒ4及びＲ4aは同一または相異なって水素
原子又は置換されていてもよい炭化水素基を示す。）で
ある前記（３）記載の製造法、（７）Ｒ8が置換されて
いてもよい炭化水素基である前記（３）記載の製造法、
（８）Ｒ8が置換されていてもよいホスホン酸残基であ
る前記（３）記載の製造法、（９）一般式：
り、Ｒ8は求核性化合物残基を示す。）で表わされる化
合物又はその塩の製造法、（４）Ｒ8がＯＲ4（Ｒ4は水
素原子又は置換されていてもよい炭化水素基を示す。）
である前記（３）記載の製造法、（５）Ｒ8がＳＯnＲ4
（ｎは０から２の整数、Ｒ4は前記（４）記載と同意義
を示す。）である前記（３）記載の製造法、（６）Ｒ8
がＮＲ4Ｒ4a（Ｒ4及びＲ4aは同一または相異なって水素
原子又は置換されていてもよい炭化水素基を示す。）で
ある前記（３）記載の製造法、（７）Ｒ8が置換されて
いてもよい炭化水素基である前記（３）記載の製造法、
（８）Ｒ8が置換されていてもよいホスホン酸残基であ
る前記（３）記載の製造法、（９）一般式：
【化２８】 （式中、Ｑ環は前記（１）記載と同意義、Ｒ2は前記
（２）記載と同意義、Ｒ4は前記（４）記載と同意義を
示す。）で表わされる化合物又はその塩と一般式：
（２）記載と同意義、Ｒ4は前記（４）記載と同意義を
示す。）で表わされる化合物又はその塩と一般式：
【化２９】 で表わされる化合物又はその塩（式中、Ｒ1及びＲ3は前
記（１）記載と同意義であり、Ｘは前記（２）と同意義
を示す。）とを反応させることを特徴とする一般式：
記（１）記載と同意義であり、Ｘは前記（２）と同意義
を示す。）とを反応させることを特徴とする一般式：
【化３０】 （式中の記号は前記と同意義を示す。）で表わされる化
合物又はその塩の製造法、（１０）一般式：
合物又はその塩の製造法、（１０）一般式：
【化３１】 （式中、Ｑ環、Ｒ1、Ｒ3は前記（１）記載と同意義であ
り、Ｒ6はアルキル基を示す。）で表される化合物又は
その塩を脱アルキル化することを特徴とする一般式：
り、Ｒ6はアルキル基を示す。）で表される化合物又は
その塩を脱アルキル化することを特徴とする一般式：
【化３２】 （式中の記号は前記と同意義を示す）で表される化合物
又はその塩の製造法、（１１）一般式：
又はその塩の製造法、（１１）一般式：
【化３３】 （式中、Ｑ環、Ｒ1、Ｒ3は前記（１）記載と同意義であ
り、Ｙはハロゲン原子を示す。）で表される化合物又は
その塩と一般式：Ｒ7ＳＨ（Ｒ7は前記（１）記載と同意
義を示す。）で表わされる化合物又はその塩とを反応さ
せることを特徴とする一般式：
り、Ｙはハロゲン原子を示す。）で表される化合物又は
その塩と一般式：Ｒ7ＳＨ（Ｒ7は前記（１）記載と同意
義を示す。）で表わされる化合物又はその塩とを反応さ
せることを特徴とする一般式：
【化３４】 （式中の記号は前記と同意義を示す。）で表される化合
物またはその塩の製造法に関する。
物またはその塩の製造法に関する。
【０００７】本明細書中で用いられる用語で、Ｘで表わ
される「脱離基」とは、例えばハロゲン原子（例、フッ
素、塩素、臭素、ヨウ素など）、置換されていてもよい
アルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、
トリフルオロメタンスルホニル基などのハロゲン原子で
置換されていてもよいＣ1-6アルキルスルホニル基な
ど）又は置換されていてもよいアリールスルホニル基
（例えば、パラトルエンスルホニル基、ベンゼンスルホ
ニル基などのＣ1-4アルキルで置換されていてもよいＣ
6-10アリールスルホニル基など）等が挙げられるが、な
かでもハロゲン原子が好ましい。本明細書中で用いられ
る用語で、Ｙ，Ｅで表わされる「ハロゲン原子」とは、
例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素などを示す。本明細
書中で用いられる用語で、Ｒ1，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ4a、
Ｒ4b、Ｒ8で表わされる「置換されていてもよい炭化水
素基」の「炭化水素基」とは、例えばアルキル基、アル
ケニル基、アラルキル基、アリール基などを示す。該
「アルキル基」としては、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチ
ル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オ
クチル、ノニル、デシル、ウンデシル、トリデシル、テ
トラデシル、ペンタデシルなどの「直鎖状または分枝状
のＣ1-15アルキル基」および、例えばシクロプロピル、
シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シク
ロヘプチル、シクロオクチルなどの「Ｃ3-8シクロアル
キル基」などが用いられる。
される「脱離基」とは、例えばハロゲン原子（例、フッ
素、塩素、臭素、ヨウ素など）、置換されていてもよい
アルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、
トリフルオロメタンスルホニル基などのハロゲン原子で
置換されていてもよいＣ1-6アルキルスルホニル基な
ど）又は置換されていてもよいアリールスルホニル基
（例えば、パラトルエンスルホニル基、ベンゼンスルホ
ニル基などのＣ1-4アルキルで置換されていてもよいＣ
6-10アリールスルホニル基など）等が挙げられるが、な
かでもハロゲン原子が好ましい。本明細書中で用いられ
る用語で、Ｙ，Ｅで表わされる「ハロゲン原子」とは、
例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素などを示す。本明細
書中で用いられる用語で、Ｒ1，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ4a、
Ｒ4b、Ｒ8で表わされる「置換されていてもよい炭化水
素基」の「炭化水素基」とは、例えばアルキル基、アル
ケニル基、アラルキル基、アリール基などを示す。該
「アルキル基」としては、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチ
ル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オ
クチル、ノニル、デシル、ウンデシル、トリデシル、テ
トラデシル、ペンタデシルなどの「直鎖状または分枝状
のＣ1-15アルキル基」および、例えばシクロプロピル、
シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シク
ロヘプチル、シクロオクチルなどの「Ｃ3-8シクロアル
キル基」などが用いられる。
【０００８】該「直鎖状または分枝状のＣ1-15アルキル
基」及び「Ｃ3-8シクロアルキル基」が有していてもよ
い置換基としては、例えば（i）ニトロ基、（ii）ヒド
ロキシル基、（iii）シアノ基、（iv）カルバモイル
基、（v）モノ−またはジ−Ｃ1-4アルキル−カルバモイ
ル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカ
ルバモイル、Ｎ,Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ,Ｎ−ジ
エチルカルバモイルなど）、（vi）カルボキシル基、
（vii）Ｃ1-6アルコキシ−カルボニル基（例えば、メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカル
ボニル、イソプロポキシカルボニルなど、好ましくはＣ
1-4アルコキシ−カルボニル）、（viii）スルホ基、（i
x）ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ
素など）、（x）Ｃ1-6アルコキシ基（例えば、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシなど、好ま
しくはＣ1-4アルコキシ）、（xi）フェノキシ基、（xi
i）ハロゲノフェノキシ基（例えば、ｏ−，ｍ−または
ｐ−クロロフェノキシ、ｏ−，ｍ−またはｐ−ブロモフ
ェノキシなど）、（xiii）Ｃ1-4アルキルチオ基（例え
ば、メチルチオ、エチルチオ、ｎ−プロピルチオ、イソ
プロピルチオ、ｎ−ブチルチオなど）、（xiv）メルカ
プト基、（xv）フェニルチオ基、（xvi）ピリジルチオ
基、（xvii）Ｃ1-4アルキルスルフィニル基（例えば、
メチルスルフィニル、エチルスルフィニルなど）、（xv
iii）Ｃ1-4アルキルスルホニル基（例えば、メチルスル
ホニル、エチルスルホニルなど）、（xix）アミノ基、
（xx）Ｃ1-3アルカノイルアミノ基（例えば、アセチル
アミノ、プロピオニルアミノなど）、（xxi）モノ−ま
たはジ−Ｃ1-4アルキルアミノ基（例えば、メチルアミ
ノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノな
ど）、（xxii）４ないし６員環状アミノ基（例えば、１
−アゼチジニル、１−ピロリジニル、ピペリジノ、モル
ホリノ、チオモルホリノ、１−ピペラジニルなど）、
（xxiii）Ｃ1-7アルカノイル基（例えば、ホルミル、ア
セチルなど、好ましくはＣ1-3アルカノイル）、（xxi
v）ベンゾイル基および（xxv）５ないし１０員複素環基
（例えば、２−または３−チエニル、２−または３−フ
リル、３−，４−または５−ピラゾリル、２−，４−ま
たは５−チアゾリル、３−，４−または５−イソチアゾ
リル、２−，４−または５−オキサゾリル、１,２,３−
または１,２,４−トリアゾリル、１Ｈ−または２Ｈ−テ
トラゾリル、２−，３−または４−ピリジル、２−，４
−または５−ピリミジル、３−または４−ピリダジニ
ル、キノリル、イソキノリルインドリルなど）などが用
いられる。該「アルキル基」は、置換可能な位置に、こ
れらの置換基を１ないし５個（好ましくは１ないし３
個）有していてもよい。
基」及び「Ｃ3-8シクロアルキル基」が有していてもよ
い置換基としては、例えば（i）ニトロ基、（ii）ヒド
ロキシル基、（iii）シアノ基、（iv）カルバモイル
基、（v）モノ−またはジ−Ｃ1-4アルキル−カルバモイ
ル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカ
ルバモイル、Ｎ,Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ,Ｎ−ジ
エチルカルバモイルなど）、（vi）カルボキシル基、
（vii）Ｃ1-6アルコキシ−カルボニル基（例えば、メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカル
ボニル、イソプロポキシカルボニルなど、好ましくはＣ
1-4アルコキシ−カルボニル）、（viii）スルホ基、（i
x）ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ
素など）、（x）Ｃ1-6アルコキシ基（例えば、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシなど、好ま
しくはＣ1-4アルコキシ）、（xi）フェノキシ基、（xi
i）ハロゲノフェノキシ基（例えば、ｏ−，ｍ−または
ｐ−クロロフェノキシ、ｏ−，ｍ−またはｐ−ブロモフ
ェノキシなど）、（xiii）Ｃ1-4アルキルチオ基（例え
ば、メチルチオ、エチルチオ、ｎ−プロピルチオ、イソ
プロピルチオ、ｎ−ブチルチオなど）、（xiv）メルカ
プト基、（xv）フェニルチオ基、（xvi）ピリジルチオ
基、（xvii）Ｃ1-4アルキルスルフィニル基（例えば、
メチルスルフィニル、エチルスルフィニルなど）、（xv
iii）Ｃ1-4アルキルスルホニル基（例えば、メチルスル
ホニル、エチルスルホニルなど）、（xix）アミノ基、
（xx）Ｃ1-3アルカノイルアミノ基（例えば、アセチル
アミノ、プロピオニルアミノなど）、（xxi）モノ−ま
たはジ−Ｃ1-4アルキルアミノ基（例えば、メチルアミ
ノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノな
ど）、（xxii）４ないし６員環状アミノ基（例えば、１
−アゼチジニル、１−ピロリジニル、ピペリジノ、モル
ホリノ、チオモルホリノ、１−ピペラジニルなど）、
（xxiii）Ｃ1-7アルカノイル基（例えば、ホルミル、ア
セチルなど、好ましくはＣ1-3アルカノイル）、（xxi
v）ベンゾイル基および（xxv）５ないし１０員複素環基
（例えば、２−または３−チエニル、２−または３−フ
リル、３−，４−または５−ピラゾリル、２−，４−ま
たは５−チアゾリル、３−，４−または５−イソチアゾ
リル、２−，４−または５−オキサゾリル、１,２,３−
または１,２,４−トリアゾリル、１Ｈ−または２Ｈ−テ
トラゾリル、２−，３−または４−ピリジル、２−，４
−または５−ピリミジル、３−または４−ピリダジニ
ル、キノリル、イソキノリルインドリルなど）などが用
いられる。該「アルキル基」は、置換可能な位置に、こ
れらの置換基を１ないし５個（好ましくは１ないし３
個）有していてもよい。
【０００９】該「アルキル基」の好ましいものとして
は、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペ
ンチル、ヘキシルなどの直鎖状または分枝状のＣ1-6ア
ルキル基が挙げられ、該「Ｃ1-6アルキル基」が有して
いてもよい置換基としては、例えば前記のようなハロゲ
ン原子、Ｃ1-4アルコキシ基、ヒドロキシル基、Ｃ1-4ア
ルコキシ−カルボニル基、カルボキシル基、カルバモイ
ル基、モノ−またはジ−Ｃ1-4アルキルカルバモイル
基、ピリジルチオ基などの置換基が１ないし３個用いら
れる。該「アルケニル基」としては、例えばビニル、ア
リル、イソプロペニル、３−ブテニル、３−オクテニ
ル、９−オクタデセニルなどの「Ｃ2-18アルケニル基」
などが用いられる。該「アルケニル基」が有していても
よい置換基としては、前記「アルキル基」が有していて
もよい置換基と同様の置換基が１ないし３個用いられ
る。該「アルケニル基」の好ましいものとしては、例え
ばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ブテニルなどの
Ｃ2-6アルケニル基などが挙げられる。該「Ｃ2-6アルケ
ニル基」が有していていてもよい置換基としては、例え
ば前記「Ｃ1-6アルキル基」が有していてもよい置換基
と同様の置換基が１ないし３個用いられる。該「アラル
キル基」としては、例えばＣ7-16アラルキル基などが用
いられ、具体的には、例えばベンジル、フェネチル、３
−フェニルプロピル、４−フェニルブチルなどのフェニ
ル−Ｃ1-6アルキル基および、例えば（１−ナフチル）
メチル、２−（１−ナフチル）エチル、２−（２−ナフ
チル）エチルなどのナフチル−Ｃ1-6アルキル基などが
挙げられる。
は、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペ
ンチル、ヘキシルなどの直鎖状または分枝状のＣ1-6ア
ルキル基が挙げられ、該「Ｃ1-6アルキル基」が有して
いてもよい置換基としては、例えば前記のようなハロゲ
ン原子、Ｃ1-4アルコキシ基、ヒドロキシル基、Ｃ1-4ア
ルコキシ−カルボニル基、カルボキシル基、カルバモイ
ル基、モノ−またはジ−Ｃ1-4アルキルカルバモイル
基、ピリジルチオ基などの置換基が１ないし３個用いら
れる。該「アルケニル基」としては、例えばビニル、ア
リル、イソプロペニル、３−ブテニル、３−オクテニ
ル、９−オクタデセニルなどの「Ｃ2-18アルケニル基」
などが用いられる。該「アルケニル基」が有していても
よい置換基としては、前記「アルキル基」が有していて
もよい置換基と同様の置換基が１ないし３個用いられ
る。該「アルケニル基」の好ましいものとしては、例え
ばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ブテニルなどの
Ｃ2-6アルケニル基などが挙げられる。該「Ｃ2-6アルケ
ニル基」が有していていてもよい置換基としては、例え
ば前記「Ｃ1-6アルキル基」が有していてもよい置換基
と同様の置換基が１ないし３個用いられる。該「アラル
キル基」としては、例えばＣ7-16アラルキル基などが用
いられ、具体的には、例えばベンジル、フェネチル、３
−フェニルプロピル、４−フェニルブチルなどのフェニ
ル−Ｃ1-6アルキル基および、例えば（１−ナフチル）
メチル、２−（１−ナフチル）エチル、２−（２−ナフ
チル）エチルなどのナフチル−Ｃ1-6アルキル基などが
挙げられる。
【００１０】該「アラルキル基」が有していてもよい置
換基としては、例えば（i）ハロゲン原子（例えば、フ
ッ素、塩素、臭素、ヨウ素など）、（ii）Ｃ1-4アルキ
ル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチルなど）、（iii）Ｃ2-6アルケニル基（例え
ば、ビニル、アリル、２−ブテニル、３−ブテニルな
ど）、（iv）Ｃ1-3アルカノイル基（例えば、ホルミ
ル、アセチルなど）、（v）Ｃ1-4アルコキシ基（例え
ば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ
など）、（vi）ニトロ基、（vii）シアノ基、（viii）
ヒドロキシル基、（ix）Ｃ1-4アルコキシ−カルボニル
基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル
など）、（x）カルバモイル基、（xi）モノ−またはジ
−Ｃ1-4アルキル−カルバモイル基（例えば、Ｎ−メチ
ルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ,Ｎ−ジ
メチルカルバモイル、Ｎ,Ｎ−ジエチルカルバモイルな
ど）、（xii）モノ−またはジ−Ｃ2-4アルケニル−カル
バモイル基（例えば、Ｎ−ビニルカルバモイルなど）な
どが挙げられ、該「アラルキル基」は置換可能な位置
に、これらの置換基を１ないし４個（好ましくは１ない
し３個）有していてもよい。
換基としては、例えば（i）ハロゲン原子（例えば、フ
ッ素、塩素、臭素、ヨウ素など）、（ii）Ｃ1-4アルキ
ル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチルなど）、（iii）Ｃ2-6アルケニル基（例え
ば、ビニル、アリル、２−ブテニル、３−ブテニルな
ど）、（iv）Ｃ1-3アルカノイル基（例えば、ホルミ
ル、アセチルなど）、（v）Ｃ1-4アルコキシ基（例え
ば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ
など）、（vi）ニトロ基、（vii）シアノ基、（viii）
ヒドロキシル基、（ix）Ｃ1-4アルコキシ−カルボニル
基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル
など）、（x）カルバモイル基、（xi）モノ−またはジ
−Ｃ1-4アルキル−カルバモイル基（例えば、Ｎ−メチ
ルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ,Ｎ−ジ
メチルカルバモイル、Ｎ,Ｎ−ジエチルカルバモイルな
ど）、（xii）モノ−またはジ−Ｃ2-4アルケニル−カル
バモイル基（例えば、Ｎ−ビニルカルバモイルなど）な
どが挙げられ、該「アラルキル基」は置換可能な位置
に、これらの置換基を１ないし４個（好ましくは１ない
し３個）有していてもよい。
【００１１】該「アリール基」としては、例えばフェニ
ル、１−ナフチル、２−ナフチル、フェナントリル、ア
ントリル（anthryl）などの芳香族単環式、２環式また
は３環式のＣ6-14アリール基などが用いられる。好まし
くは、フェニル基などが汎用される。該「アリール基」
が有していてもよい置換基としては、例えば（i）ハロ
ゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素な
ど）、（ii）Ｃ1-4アルキル基（例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチルなど）、（iii）
Ｃ1-4ハロゲノアルキル基（例えば、トリフルオロメチ
ル、２，２，２−トリフルオロエチル、トリクロロメチ
ルなど）、（iv）Ｃ1-4ハロゲノアルコキシ基（例え
ば、トリフルオロメトキシ、トリクロロメトキシ、２，
２，２−トリフルオロエトキシなど）、（v）Ｃ1-4アル
コキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、
イソプロポキシなど）、（vi）Ｃ1-4アルキルチオ基
（例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イ
ソプロピルチオ、ブチルチオなど）（vii）ヒドロキシ
ル基、（viii）カルボキシル基、（ix）シアノ基、
（x）ニトロ基、（xi）アミノ基、（xii）モノ−または
ジ−Ｃ1-4アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ、
エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノな
ど）、（xiii）ホルミル基、（xiv）メルカプト基、（x
v）Ｃ1-6アルキル−カルボニル基（例えば、アセチル、
プロピオニル、ブチリル、ヘキサノイルなど）、（xv
i）Ｃ1-4アルコキシ−カルボニル基（例えば、メトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニ
ル、イソプロポキシカルボニルなど）、（xvii）スルホ
基、（xviii）Ｃ1-4アルキルスルホニル基（例えば、メ
チルスルホニル、エチルスルホニルなど）、（xix）カ
ルバモイル基、（xx）モノ−またはジ−Ｃ1-4アルキル
−カルバモイル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイル、
Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ,Ｎ−ジメチルカルバモイ
ル、Ｎ,Ｎ−ジエチルカルバモイルなど）、（xxi）オキ
ソ基などが挙げられ、該「アリール基」は置換可能な位
置に、これらの置換基を１ないし４個、好ましくは１ま
たは２個有していてもよい。オキソ基を有するアリール
基としては、例えばベンゾキノニル、ナフトキノリル、
アンスラキノニルなどが挙げられる。
ル、１−ナフチル、２−ナフチル、フェナントリル、ア
ントリル（anthryl）などの芳香族単環式、２環式また
は３環式のＣ6-14アリール基などが用いられる。好まし
くは、フェニル基などが汎用される。該「アリール基」
が有していてもよい置換基としては、例えば（i）ハロ
ゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素な
ど）、（ii）Ｃ1-4アルキル基（例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチルなど）、（iii）
Ｃ1-4ハロゲノアルキル基（例えば、トリフルオロメチ
ル、２，２，２−トリフルオロエチル、トリクロロメチ
ルなど）、（iv）Ｃ1-4ハロゲノアルコキシ基（例え
ば、トリフルオロメトキシ、トリクロロメトキシ、２，
２，２−トリフルオロエトキシなど）、（v）Ｃ1-4アル
コキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、
イソプロポキシなど）、（vi）Ｃ1-4アルキルチオ基
（例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イ
ソプロピルチオ、ブチルチオなど）（vii）ヒドロキシ
ル基、（viii）カルボキシル基、（ix）シアノ基、
（x）ニトロ基、（xi）アミノ基、（xii）モノ−または
ジ−Ｃ1-4アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ、
エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノな
ど）、（xiii）ホルミル基、（xiv）メルカプト基、（x
v）Ｃ1-6アルキル−カルボニル基（例えば、アセチル、
プロピオニル、ブチリル、ヘキサノイルなど）、（xv
i）Ｃ1-4アルコキシ−カルボニル基（例えば、メトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニ
ル、イソプロポキシカルボニルなど）、（xvii）スルホ
基、（xviii）Ｃ1-4アルキルスルホニル基（例えば、メ
チルスルホニル、エチルスルホニルなど）、（xix）カ
ルバモイル基、（xx）モノ−またはジ−Ｃ1-4アルキル
−カルバモイル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイル、
Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ,Ｎ−ジメチルカルバモイ
ル、Ｎ,Ｎ−ジエチルカルバモイルなど）、（xxi）オキ
ソ基などが挙げられ、該「アリール基」は置換可能な位
置に、これらの置換基を１ないし４個、好ましくは１ま
たは２個有していてもよい。オキソ基を有するアリール
基としては、例えばベンゾキノニル、ナフトキノリル、
アンスラキノニルなどが挙げられる。
【００１２】本明細書中で用いられる用語で、Ｒ1，Ｒ3
で表わされる「アシル基」としては、例えばカルボン
酸、カルバミン酸などから導かれるアシル基などが用い
られ、例えばアルコキシ−カルボニル基、アルキル−カ
ルバモイル基、アルカノイル基などが用いられる。該
「アルコキシ−カルボニル基」としては、例えばメトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボ
ニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニ
ル、イソブトキシカルボニル、sec−ブトキシカルボニ
ル、tert−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボ
ニル、イソペンチルオキシカルボニル、ネオペンチルオ
キシカルボニル、tert−ペンチルオキシカルボニルなど
のＣ1-6アルコキシ−カルボニル基が用いられる。該
「アルキル−カルバモイル基」としては、例えばＮ−メ
チルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−プロ
ピルカルバモイル、Ｎ−ブチルカルバモイルなどのモノ
−Ｃ1-6−Ｎ−アルキルカルバモイル基および、例えば
Ｎ,Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ,Ｎ−ジエチルカルバ
モイル、Ｎ,Ｎ−ジプロピルカルバモイル、Ｎ,Ｎ−ジブ
チルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイ
ルなどのジ−Ｃ1-6−Ｎ,Ｎ−ジアルキル−カルバモイル
基およびジアルキル部が一緒になって形成される４ない
し６員環状カルバモイル基（例えば、１−アゼチジニル
カルボニル、モルホリノカルボニル、１−ピロリジニル
カルボニル、１−ピペリジノカルボニル、１−ピペラジ
ニルカルボニル、１−ピペラジニルカルボニルなど）が
用いられる。該「アルカノイル基」としては、例えばホ
ルミル基、Ｃ1-9アルキル−カルボニル基（例えば、ア
セチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレ
リル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイルなど）
などのＣ1-10アルカノイル基が用いられる。
で表わされる「アシル基」としては、例えばカルボン
酸、カルバミン酸などから導かれるアシル基などが用い
られ、例えばアルコキシ−カルボニル基、アルキル−カ
ルバモイル基、アルカノイル基などが用いられる。該
「アルコキシ−カルボニル基」としては、例えばメトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボ
ニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニ
ル、イソブトキシカルボニル、sec−ブトキシカルボニ
ル、tert−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボ
ニル、イソペンチルオキシカルボニル、ネオペンチルオ
キシカルボニル、tert−ペンチルオキシカルボニルなど
のＣ1-6アルコキシ−カルボニル基が用いられる。該
「アルキル−カルバモイル基」としては、例えばＮ−メ
チルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−プロ
ピルカルバモイル、Ｎ−ブチルカルバモイルなどのモノ
−Ｃ1-6−Ｎ−アルキルカルバモイル基および、例えば
Ｎ,Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ,Ｎ−ジエチルカルバ
モイル、Ｎ,Ｎ−ジプロピルカルバモイル、Ｎ,Ｎ−ジブ
チルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイ
ルなどのジ−Ｃ1-6−Ｎ,Ｎ−ジアルキル−カルバモイル
基およびジアルキル部が一緒になって形成される４ない
し６員環状カルバモイル基（例えば、１−アゼチジニル
カルボニル、モルホリノカルボニル、１−ピロリジニル
カルボニル、１−ピペリジノカルボニル、１−ピペラジ
ニルカルボニル、１−ピペラジニルカルボニルなど）が
用いられる。該「アルカノイル基」としては、例えばホ
ルミル基、Ｃ1-9アルキル−カルボニル基（例えば、ア
セチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレ
リル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイルなど）
などのＣ1-10アルカノイル基が用いられる。
【００１３】本明細書中で用いられる用語で、Ｒ3で表
わされる「置換されていてもよい水酸基」の置換基とし
ては、例えばそれぞれ置換基を有していてもよい（i）
Ｃ1-6アルキル（例えば、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、tert−ブチルなど）、（ii）フ
ェニル、（iii）Ｃ7-10アラルキル（例えば、ベンジル
など）、（iv）ホルミル、（v）Ｃ1-6アルキル−カルボ
ニル（例えば、メチルカルボニル、エチルカルボニルな
ど）、（vi）フェニルオキシカルボニル（例えば、ベン
ズオキシカルボニルなど）、（vii）Ｃ7-10アラルキル
−カルボニル（例えば、ベンジルオキシカルボニルな
ど）、（viii）ピラニル、（ix）フラニル、（x）シリ
ルなどが用いられる。これらが有していてもよい置換基
としては、例えばハロゲン原子（例えば、フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素など）、Ｃ1-6アルキル（例えば、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピルなど）、フェニ
ル、Ｃ7-10アラルキル（例えば、ベンジルなど）、ニト
ロ基などが用いられ、置換基の数は１ないし４個程度で
ある。
わされる「置換されていてもよい水酸基」の置換基とし
ては、例えばそれぞれ置換基を有していてもよい（i）
Ｃ1-6アルキル（例えば、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、tert−ブチルなど）、（ii）フ
ェニル、（iii）Ｃ7-10アラルキル（例えば、ベンジル
など）、（iv）ホルミル、（v）Ｃ1-6アルキル−カルボ
ニル（例えば、メチルカルボニル、エチルカルボニルな
ど）、（vi）フェニルオキシカルボニル（例えば、ベン
ズオキシカルボニルなど）、（vii）Ｃ7-10アラルキル
−カルボニル（例えば、ベンジルオキシカルボニルな
ど）、（viii）ピラニル、（ix）フラニル、（x）シリ
ルなどが用いられる。これらが有していてもよい置換基
としては、例えばハロゲン原子（例えば、フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素など）、Ｃ1-6アルキル（例えば、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピルなど）、フェニ
ル、Ｃ7-10アラルキル（例えば、ベンジルなど）、ニト
ロ基などが用いられ、置換基の数は１ないし４個程度で
ある。
【００１４】Ｑ環の「置換基」としては、例えば（i）
ニトロ基、（ii）ヒドロキシル基、（iii）シアノ基、
（iv）カルバモイル基、（v）モノ−またはジ−Ｃ1-4ア
ルキル−カルバモイル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモ
イル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ,Ｎ−ジメチルカル
バモイル、Ｎ,Ｎ−ジエチルカルバモイルなど）、（v
i）カルボキシル基、（vii）Ｃ1-4アルコキシ−カルボ
ニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニ
ルなど）、（viii）スルホ基、（ix）ハロゲン原子（例
えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など）、（x）Ｃ1-4
アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシなど）、（xi）フェノキシ基、ナフ
トキシ基、ベンジルオキシ基、（xii）ハロゲノフェノ
キシ基（例えば、ｏ−，ｍ−またはｐ−クロロフェノキ
シ、ｏ−，ｍ−またはｐ−ブロモフェノキシなど）、
（xiii）Ｃ1-4アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、
エチルチオ、ｎ−プロピルチオ、イソプロピルチオ、ｎ
−ブチルチオなど）、（xiv）メルカプト基、（xv）フ
ェニルチオ基、（xvi）ピリジルチオ基、（xvii）Ｃ1-4
アルキルスルフィニル基（例えば、メチルスルフィニ
ル、エチルスルフィニルなど）、フェニルスルフィニル
基、（xviii）Ｃ1-4アルキルスルホニル基（例えば、メ
チルスルホニル、エチルスルホニルなど）、フェニルス
ルホニル基、（xix）アミノ基、（xx）Ｃ1-3アルカノイ
ルアミノ基（例えば、アセチルアミノ、プロピオニルア
ミノなど）、（xxi）モノ−またはジ−Ｃ1-4アルキルア
ミノ基（例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチ
ルアミノ、ジエチルアミノなど）、（xxii）Ｃ1-4アル
キル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピルなど）、（xxiii）Ｃ1-4ハロゲノアルキル基（例え
ば、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、２，２，
２−トリフルオロエチルなど）などが用いられる。Ｑ環
は、これらの置換基を置換可能な位置に１ないし３個有
していてもよいが、無置換の場合が好ましい。
ニトロ基、（ii）ヒドロキシル基、（iii）シアノ基、
（iv）カルバモイル基、（v）モノ−またはジ−Ｃ1-4ア
ルキル−カルバモイル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモ
イル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ,Ｎ−ジメチルカル
バモイル、Ｎ,Ｎ−ジエチルカルバモイルなど）、（v
i）カルボキシル基、（vii）Ｃ1-4アルコキシ−カルボ
ニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニ
ルなど）、（viii）スルホ基、（ix）ハロゲン原子（例
えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など）、（x）Ｃ1-4
アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシなど）、（xi）フェノキシ基、ナフ
トキシ基、ベンジルオキシ基、（xii）ハロゲノフェノ
キシ基（例えば、ｏ−，ｍ−またはｐ−クロロフェノキ
シ、ｏ−，ｍ−またはｐ−ブロモフェノキシなど）、
（xiii）Ｃ1-4アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、
エチルチオ、ｎ−プロピルチオ、イソプロピルチオ、ｎ
−ブチルチオなど）、（xiv）メルカプト基、（xv）フ
ェニルチオ基、（xvi）ピリジルチオ基、（xvii）Ｃ1-4
アルキルスルフィニル基（例えば、メチルスルフィニ
ル、エチルスルフィニルなど）、フェニルスルフィニル
基、（xviii）Ｃ1-4アルキルスルホニル基（例えば、メ
チルスルホニル、エチルスルホニルなど）、フェニルス
ルホニル基、（xix）アミノ基、（xx）Ｃ1-3アルカノイ
ルアミノ基（例えば、アセチルアミノ、プロピオニルア
ミノなど）、（xxi）モノ−またはジ−Ｃ1-4アルキルア
ミノ基（例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチ
ルアミノ、ジエチルアミノなど）、（xxii）Ｃ1-4アル
キル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピルなど）、（xxiii）Ｃ1-4ハロゲノアルキル基（例え
ば、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、２，２，
２−トリフルオロエチルなど）などが用いられる。Ｑ環
は、これらの置換基を置換可能な位置に１ないし３個有
していてもよいが、無置換の場合が好ましい。
【００１５】本明細書中で用いられる用語で、Ｒ6で表
わされる「アルキル基」としては、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、se
c−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシルなどの
直鎖状または分枝状のＣ1-6アルキル基が挙げられる。
本明細書中で用いられる用語で、Ｒ7で表わされる「保
護されていてもよいＣＨ2ＣＯＯＨ基」の保護基として
は、例えば置換基を有していてもよいＣ1-6アルキル
（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、tert−ブチルなど）、フェニル、トリチル、シ
リルなどが用いられる。置換基としては、ハロゲン原子
（例えば、フッ素、、塩素、臭素、ヨウ素など）、ホル
ミル基、Ｃ1-6アルキル−カルボニル基（例えば、アセ
チル、プロピオニル、ブチリルなど）、ニトロ基などが
用いられ、置換基の数は１ないし３個程度である。
わされる「アルキル基」としては、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、se
c−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシルなどの
直鎖状または分枝状のＣ1-6アルキル基が挙げられる。
本明細書中で用いられる用語で、Ｒ7で表わされる「保
護されていてもよいＣＨ2ＣＯＯＨ基」の保護基として
は、例えば置換基を有していてもよいＣ1-6アルキル
（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、tert−ブチルなど）、フェニル、トリチル、シ
リルなどが用いられる。置換基としては、ハロゲン原子
（例えば、フッ素、、塩素、臭素、ヨウ素など）、ホル
ミル基、Ｃ1-6アルキル−カルボニル基（例えば、アセ
チル、プロピオニル、ブチリルなど）、ニトロ基などが
用いられ、置換基の数は１ないし３個程度である。
【００１６】本明細書中で用いられる用語で、Ｒ2で表
わされるアミノ基の保護基としては、例えばそれぞれ置
換基を有していてもよいホルミル、Ｃ1-6アルキル−カ
ルボニル（例えば、アセチル、プロピオニルなど）、ベ
ンゾイル、Ｃ1-6アルキル−オキシカルボニル（例え
ば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなど）、
Ｃ7-10アラルキル−カルボニル（例えば、ベンジルオキ
シカルボニルなど）、トリチル、フタロイルなどが用い
られる。置換基としては、ハロゲン原子（例えば、フル
オロ、クロロ、ブロモ、ヨードなど）、Ｃ1-6アルキル
−カルボニル（例えば、アセチル、プロピオニルな
ど）、ニトロ基などが用いられ、置換基の数は１ないし
３個程度である。
わされるアミノ基の保護基としては、例えばそれぞれ置
換基を有していてもよいホルミル、Ｃ1-6アルキル−カ
ルボニル（例えば、アセチル、プロピオニルなど）、ベ
ンゾイル、Ｃ1-6アルキル−オキシカルボニル（例え
ば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなど）、
Ｃ7-10アラルキル−カルボニル（例えば、ベンジルオキ
シカルボニルなど）、トリチル、フタロイルなどが用い
られる。置換基としては、ハロゲン原子（例えば、フル
オロ、クロロ、ブロモ、ヨードなど）、Ｃ1-6アルキル
−カルボニル（例えば、アセチル、プロピオニルな
ど）、ニトロ基などが用いられ、置換基の数は１ないし
３個程度である。
【００１７】本明細書中で用いられる用語でＲ8で表わ
される求核性化合物残基としては、例えば、シアノ、ア
ジド、カルバモイル基、カルバモイルオキシ基、カルバ
モイルチオ基、チオカバモイルオキシ基、〔これらの基
はそれぞれＣ1-6アルキル（メチル、エチル、プロピル
など）またはアシルオキシ（アセチルオキシ、プロピオ
ニルオキシ、ブチリルオキシ等のＣ1-6アルカノイルオ
キシ、ベンゾイルオキシ、p-メトキシベンゾイルオキシ
などのＣ1-6アルコキシで置換されていてもよいＣ6-10
アリール−カルボニルなど）で置換されていてもよ
い〕、あるいは第４級アンモニウム基、ＯＲ4（Ｒ4は水
素原子、置換されていてもよい炭化水素基又は置換され
ていてもよい複素環基を示す。）、ＳＯnＲ4（ｎは０か
ら２の整数、Ｒ4は前記と同意義を示す。）ＮＲ4Ｒ
4a（Ｒ4及びＲ4aは同一または相異なって水素原子、置
換されていてもよい炭化水素基又は置換されていてもよ
い複素環基を示す。）、置換されていてもよい炭化水素
基、置換されていてもよいホスホン酸残基、例えば−Ｐ
（Ｏ）(ＯＲ4)(ＯＲ4a)（Ｒ4及びＲ4aは同一又は相異な
って水素原子又は置換されていてもよい炭化水素基を示
す。）等を示す。該「第４級アンモニウム基」として
は、（１）それぞれ置換基（例、前記Ｑ環の置換基と同
様なもの）を有していてもよいピリジニウム、キノリニ
ウム、ピコリニウムまたはルチジニウム、（２）−Ｎ+
Ｒ4Ｒ4aＲ4b（Ｒ4、Ｒ4a及びＲ4bは同一または相異なっ
て水素原子、置換されていてもよい炭化水素基又は置換
されていてもよい複素環基を示す。）、などが挙げられ
る。
される求核性化合物残基としては、例えば、シアノ、ア
ジド、カルバモイル基、カルバモイルオキシ基、カルバ
モイルチオ基、チオカバモイルオキシ基、〔これらの基
はそれぞれＣ1-6アルキル（メチル、エチル、プロピル
など）またはアシルオキシ（アセチルオキシ、プロピオ
ニルオキシ、ブチリルオキシ等のＣ1-6アルカノイルオ
キシ、ベンゾイルオキシ、p-メトキシベンゾイルオキシ
などのＣ1-6アルコキシで置換されていてもよいＣ6-10
アリール−カルボニルなど）で置換されていてもよ
い〕、あるいは第４級アンモニウム基、ＯＲ4（Ｒ4は水
素原子、置換されていてもよい炭化水素基又は置換され
ていてもよい複素環基を示す。）、ＳＯnＲ4（ｎは０か
ら２の整数、Ｒ4は前記と同意義を示す。）ＮＲ4Ｒ
4a（Ｒ4及びＲ4aは同一または相異なって水素原子、置
換されていてもよい炭化水素基又は置換されていてもよ
い複素環基を示す。）、置換されていてもよい炭化水素
基、置換されていてもよいホスホン酸残基、例えば−Ｐ
（Ｏ）(ＯＲ4)(ＯＲ4a)（Ｒ4及びＲ4aは同一又は相異な
って水素原子又は置換されていてもよい炭化水素基を示
す。）等を示す。該「第４級アンモニウム基」として
は、（１）それぞれ置換基（例、前記Ｑ環の置換基と同
様なもの）を有していてもよいピリジニウム、キノリニ
ウム、ピコリニウムまたはルチジニウム、（２）−Ｎ+
Ｒ4Ｒ4aＲ4b（Ｒ4、Ｒ4a及びＲ4bは同一または相異なっ
て水素原子、置換されていてもよい炭化水素基又は置換
されていてもよい複素環基を示す。）、などが挙げられ
る。
【００１８】該「置換されていてもよい複素環基」の
「複素環基」としては、例えば酸素、硫黄及び窒素等か
ら選ばれたヘテロ原子を１ないし４個含む５又は６員単
環式複素環基あるいは酸素、硫黄及び窒素等から選ばれ
たヘテロ原子を１ないし６個含む２環式複素環基等が用
いられる。該「複素環基」のうち、単環式複素環基とし
ては、環系を構成する原子（環原子）として、酸素、硫
黄及び窒素から選ばれるヘテロ原子を１ないし４個含む
５又は６員単環式芳香族複素環基、又は飽和あるいは不
飽和の単環式非芳香族複素環基を意味し、例えばチエニ
ル（例えば、２−チエニル、３−チエニルなど）、フリ
ル（例えば、２−フリル、３−フリルなど）、ピラニ
ル、２Ｈ−ピロリル、ピロリル（例えば、２−ピロリ
ル、３−ピロリルなど）、イミダゾリル（例えば、２−
イミダゾリル、４−イミダゾリルなど）、ピラゾリル
（例えば、３−ピラゾリル、４−ピラゾリルなど）、イ
ソチアゾリル（例えば、３−イソチアゾリル、４−イソ
チアゾリルなど）、イソオキサゾリル（例えば、３−イ
ソオキサゾリル、４−イソオキサゾリルなど）、ピリジ
ル（例えば、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジ
ルなど）、ピラジニル、ピリミジニル（例えば、２−ピ
リミジニル、４−ピリミジニルなど）、ピリダジニル
（例えば、３−ピリダジニル、４−ピリダジニルなど）
などが用いられる。このような単環式複素環基は飽和ま
たは部分的に飽和されていてもよく、該飽和または部分
飽和単環式複素環基として、例えばピロリジニル（例え
ば、２−ピロリジニル、３−ピロリジニルなど）、ピロ
リニル（例えば、２−ピロリン−３−イルなど）、イミ
ダゾニル（例えば、２−イミダゾリン−４−イルな
ど）、ピペリジル（例えば、２−ピペリジル、３−ピペ
リジルなど）、ピペラジニル（例えば、２−ピペラジニ
ルなど）、モルホリニル（例えば、３−モルホリニルな
ど）などが用いられる。
「複素環基」としては、例えば酸素、硫黄及び窒素等か
ら選ばれたヘテロ原子を１ないし４個含む５又は６員単
環式複素環基あるいは酸素、硫黄及び窒素等から選ばれ
たヘテロ原子を１ないし６個含む２環式複素環基等が用
いられる。該「複素環基」のうち、単環式複素環基とし
ては、環系を構成する原子（環原子）として、酸素、硫
黄及び窒素から選ばれるヘテロ原子を１ないし４個含む
５又は６員単環式芳香族複素環基、又は飽和あるいは不
飽和の単環式非芳香族複素環基を意味し、例えばチエニ
ル（例えば、２−チエニル、３−チエニルなど）、フリ
ル（例えば、２−フリル、３−フリルなど）、ピラニ
ル、２Ｈ−ピロリル、ピロリル（例えば、２−ピロリ
ル、３−ピロリルなど）、イミダゾリル（例えば、２−
イミダゾリル、４−イミダゾリルなど）、ピラゾリル
（例えば、３−ピラゾリル、４−ピラゾリルなど）、イ
ソチアゾリル（例えば、３−イソチアゾリル、４−イソ
チアゾリルなど）、イソオキサゾリル（例えば、３−イ
ソオキサゾリル、４−イソオキサゾリルなど）、ピリジ
ル（例えば、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジ
ルなど）、ピラジニル、ピリミジニル（例えば、２−ピ
リミジニル、４−ピリミジニルなど）、ピリダジニル
（例えば、３−ピリダジニル、４−ピリダジニルなど）
などが用いられる。このような単環式複素環基は飽和ま
たは部分的に飽和されていてもよく、該飽和または部分
飽和単環式複素環基として、例えばピロリジニル（例え
ば、２−ピロリジニル、３−ピロリジニルなど）、ピロ
リニル（例えば、２−ピロリン−３−イルなど）、イミ
ダゾニル（例えば、２−イミダゾリン−４−イルな
ど）、ピペリジル（例えば、２−ピペリジル、３−ピペ
リジルなど）、ピペラジニル（例えば、２−ピペラジニ
ルなど）、モルホリニル（例えば、３−モルホリニルな
ど）などが用いられる。
【００１９】該「複素環基」のうち、２環式複素環基と
しては、環系を構成する原子（環原子）として、酸素、
硫黄及び窒素から選ばれるヘテロ原子を１ないし６個含
む２環式芳香族複素環基、又は飽和あるいは不飽和の２
環式非芳香族複素環基の縮合環基を意味し、例えばベン
ゾジオキサニル（例えば、１,４−ベンゾジオキサン−
２−イルなど）、イソベンゾフラニル（例えば、１−ベ
ンゾフラニルなど）、クロメニル（例えば、２Ｈ−クロ
メン−３−イルなど）、ベンゾチエニル（例えば、２−
ベンゾチエニルなど）、インドリジニル（例えば、２−
インドリジニル、３−インドリジニルなど）、イソイン
ドリル（例えば、１−イソインドリルなど）、３Ｈ−イ
ンドリル（例えば、３Ｈ−インドール−２−イルな
ど）、インドリル（例えば、２−インドリルなど）、１
Ｈ−インダゾリル（例えば、１Ｈ−インダゾール−３−
イルなど）、プリニル（例えば、８−プリニルなど）、
イソキノリル（例えば、１−イソキノリル、３−イソキ
ノリルなど）、キノリル（例えば、２−キノリル、３−
キノリルなど）、フタラジル（例えば、１−フタラジル
など）、ナフチリジニル（例えば、１,８−ナフチリジ
ン−２−イルなど）、キノキサリニル（例えば、２−キ
ノキサリニルなど）、キナゾリニル（例えば、２−キナ
ゾリニルなど）、シンノリニル（例えば、３−シンノリ
ニルなど）などが用いられる。このような２環式複素環
基は部分的に飽和されていてもよく、該部分飽和２環式
複素環としては、例えばイソクロマニル（例えば、３−
イソクロマニルなど）、インドリニル（例えば、２−イ
ンドリニルなど）、イソインドリニル（例えば、１−イ
ソインドリニルなど）、１,２,３,４−テトラヒドロ−
２−キノリル、１,２,３,４−テトラヒドロ−３−イソ
キノリルなどが用いられる。該「複素環基」が有してい
てもよい置換基としては、例えば前記「置換されていて
もよい炭化水素基」としての「アリール基」が有してい
てもよい置換基と同様のものが用いられ、置換基の数は
１ないし４個（好ましくは１ないし３個）である。
しては、環系を構成する原子（環原子）として、酸素、
硫黄及び窒素から選ばれるヘテロ原子を１ないし６個含
む２環式芳香族複素環基、又は飽和あるいは不飽和の２
環式非芳香族複素環基の縮合環基を意味し、例えばベン
ゾジオキサニル（例えば、１,４−ベンゾジオキサン−
２−イルなど）、イソベンゾフラニル（例えば、１−ベ
ンゾフラニルなど）、クロメニル（例えば、２Ｈ−クロ
メン−３−イルなど）、ベンゾチエニル（例えば、２−
ベンゾチエニルなど）、インドリジニル（例えば、２−
インドリジニル、３−インドリジニルなど）、イソイン
ドリル（例えば、１−イソインドリルなど）、３Ｈ−イ
ンドリル（例えば、３Ｈ−インドール−２−イルな
ど）、インドリル（例えば、２−インドリルなど）、１
Ｈ−インダゾリル（例えば、１Ｈ−インダゾール−３−
イルなど）、プリニル（例えば、８−プリニルなど）、
イソキノリル（例えば、１−イソキノリル、３−イソキ
ノリルなど）、キノリル（例えば、２−キノリル、３−
キノリルなど）、フタラジル（例えば、１−フタラジル
など）、ナフチリジニル（例えば、１,８−ナフチリジ
ン−２−イルなど）、キノキサリニル（例えば、２−キ
ノキサリニルなど）、キナゾリニル（例えば、２−キナ
ゾリニルなど）、シンノリニル（例えば、３−シンノリ
ニルなど）などが用いられる。このような２環式複素環
基は部分的に飽和されていてもよく、該部分飽和２環式
複素環としては、例えばイソクロマニル（例えば、３−
イソクロマニルなど）、インドリニル（例えば、２−イ
ンドリニルなど）、イソインドリニル（例えば、１−イ
ソインドリニルなど）、１,２,３,４−テトラヒドロ−
２−キノリル、１,２,３,４−テトラヒドロ−３−イソ
キノリルなどが用いられる。該「複素環基」が有してい
てもよい置換基としては、例えば前記「置換されていて
もよい炭化水素基」としての「アリール基」が有してい
てもよい置換基と同様のものが用いられ、置換基の数は
１ないし４個（好ましくは１ないし３個）である。
【００２０】Ｒ8で表わされる求核性化合物残基とし
て、好ましくは（１）ＯＲ4（Ｒ4は水素原子又は置換さ
れていてもよい炭化水素基を示す。）、より好ましくは
置換されていてもよいアルコキシ、さらに好ましくはＣ
1-6アルキコキシ（例、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシ，n-ブトキシ，sec-ブトキシ，tert
-ブトキシなど）；（２）ＳＯnＲ4（ｎは０から２の整
数、Ｒ4水素原子又は置換されていてもよい炭化水素基
を示す。）、例えば、メルカプト基、Ｃ1-6アルキルチ
オ（例、メチルチオ，エチルチオ，プロピルチオ，イソ
プロピルチオ，n-ブチルチオ，sec-ブチルチオ，tert-
ブチルチオ等）、Ｃ3-8シクロアルキルチオ、Ｃ6-14ア
リールチオ（例、フェニルチオ等）、Ｃ7-16アラルキル
チオ、Ｃ1-6アルキルスルフィニル（例、メチルスルフ
ィニル，エチルスルフィニル，プロピルスルフィニル，
ブチルスルフィニル等）、フェニルスルフィニル、Ｃ
1-6アルキルスルホニル（例、メチルスルホニル，エチ
ルスルホニル，プロピルスルホニル，ブチルスルホニル
等）、フェニルスルホニルなどが挙げられ、これらは、
上記した「置換されていてもよい炭化水素基」と同様な
置換基を有していてもよく、求核化合物性残基ＳＯnＲ4
におけるＲ4としては、とりわけ、上記したＣ1-6アルキ
ル基でそれぞれ保護されていてもよい−ＣＨ2ＣＯＯＨ
基，−(ＣＨ2)2ＯＨ基，−ＣＨ2ＣＨＯ基が好ましく、
さらに好ましくは「Ｃ1-6アルキル基（例えば、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、tert−
ブチルなど）で保護されていてもよいＣＨ2ＣＯＯＨ基
など」が挙げられる；（３）−ＮＲ4Ｒ4a（Ｒ4及びＲ4a
は同一又は相異なって水素原子又は置換されていてもよ
い炭化水素基を示す。）で表わされる化合物、より好ま
しくは２級アミン、さらに好ましくはジＣ1-6アルキル
アミンが挙げられる；（４）置換されていてもよい炭化
水素基、より好ましくは置換されていてもよいアルキル
基、該アルキル基の置換基としては上記の「直鎖状また
は分枝状のＣ1-15アルキル基」あるいは「Ｃ1-6アルキ
ル基」の置換基として例示されたものが挙げられ、さら
に好ましくは保護されていてもよいＣＨ2ＣＯＯＨ基が
挙げられ、該「保護基」として好ましくはＣ1-6アルキ
ル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、tert−ブチルなど）などが挙げられる；
（５）置換されていてもよいホスホン酸残基、例えば、
−Ｐ（Ｏ）(ＯＲ4)(ＯＲ4a)（Ｒ4及びＲ4aは同一又は相
異なって水素原子又は置換されていてもよい炭化水素基
を示す。）で表わされる置換されていてもよいホスホン
酸残基、好ましくはエステル化されたホスホン残基
（例、−Ｐ（Ｏ）（ＯＣＨ3）2等）；などが挙げられ
る。
て、好ましくは（１）ＯＲ4（Ｒ4は水素原子又は置換さ
れていてもよい炭化水素基を示す。）、より好ましくは
置換されていてもよいアルコキシ、さらに好ましくはＣ
1-6アルキコキシ（例、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシ，n-ブトキシ，sec-ブトキシ，tert
-ブトキシなど）；（２）ＳＯnＲ4（ｎは０から２の整
数、Ｒ4水素原子又は置換されていてもよい炭化水素基
を示す。）、例えば、メルカプト基、Ｃ1-6アルキルチ
オ（例、メチルチオ，エチルチオ，プロピルチオ，イソ
プロピルチオ，n-ブチルチオ，sec-ブチルチオ，tert-
ブチルチオ等）、Ｃ3-8シクロアルキルチオ、Ｃ6-14ア
リールチオ（例、フェニルチオ等）、Ｃ7-16アラルキル
チオ、Ｃ1-6アルキルスルフィニル（例、メチルスルフ
ィニル，エチルスルフィニル，プロピルスルフィニル，
ブチルスルフィニル等）、フェニルスルフィニル、Ｃ
1-6アルキルスルホニル（例、メチルスルホニル，エチ
ルスルホニル，プロピルスルホニル，ブチルスルホニル
等）、フェニルスルホニルなどが挙げられ、これらは、
上記した「置換されていてもよい炭化水素基」と同様な
置換基を有していてもよく、求核化合物性残基ＳＯnＲ4
におけるＲ4としては、とりわけ、上記したＣ1-6アルキ
ル基でそれぞれ保護されていてもよい−ＣＨ2ＣＯＯＨ
基，−(ＣＨ2)2ＯＨ基，−ＣＨ2ＣＨＯ基が好ましく、
さらに好ましくは「Ｃ1-6アルキル基（例えば、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、tert−
ブチルなど）で保護されていてもよいＣＨ2ＣＯＯＨ基
など」が挙げられる；（３）−ＮＲ4Ｒ4a（Ｒ4及びＲ4a
は同一又は相異なって水素原子又は置換されていてもよ
い炭化水素基を示す。）で表わされる化合物、より好ま
しくは２級アミン、さらに好ましくはジＣ1-6アルキル
アミンが挙げられる；（４）置換されていてもよい炭化
水素基、より好ましくは置換されていてもよいアルキル
基、該アルキル基の置換基としては上記の「直鎖状また
は分枝状のＣ1-15アルキル基」あるいは「Ｃ1-6アルキ
ル基」の置換基として例示されたものが挙げられ、さら
に好ましくは保護されていてもよいＣＨ2ＣＯＯＨ基が
挙げられ、該「保護基」として好ましくはＣ1-6アルキ
ル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、tert−ブチルなど）などが挙げられる；
（５）置換されていてもよいホスホン酸残基、例えば、
−Ｐ（Ｏ）(ＯＲ4)(ＯＲ4a)（Ｒ4及びＲ4aは同一又は相
異なって水素原子又は置換されていてもよい炭化水素基
を示す。）で表わされる置換されていてもよいホスホン
酸残基、好ましくはエステル化されたホスホン残基
（例、−Ｐ（Ｏ）（ＯＣＨ3）2等）；などが挙げられ
る。
【００２１】本発明の目的化合物（III−２）、（I）、
（Ｉ−１）、(II)、（Ｉ−３）及びこれらからさらに導
かれる目的化合物（X）及び（X′）の塩としては、とり
わけ生理学的に許容される酸付加塩が好ましい。このよ
うな塩としては、例えば無機酸（例えば、塩酸、リン
酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸など）あるいは有機酸（例
えば、酢酸、ギ酸、プロピオン酸、フマル酸、マレイン
酸、コハク酸、酒石酸、クエン酸、リンゴ酸、蓚酸、安
息香酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸など）
との塩などが挙げられれる。さらに本発明の上記化合物
がカルボン酸などの酸性基を有している場合、該化合物
は、例えば無機塩基（例えば、ナトリウム、カリウム、
カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ金属またはア
ルカリ土類金属、またはアンモニアなど）あるいは有機
塩基（例えば、トリエチルアミンなどのトリ−Ｃ1-3ア
ルキルアミンなど）と生理学的に許容される塩を形成し
ていてもよい。
（Ｉ−１）、(II)、（Ｉ−３）及びこれらからさらに導
かれる目的化合物（X）及び（X′）の塩としては、とり
わけ生理学的に許容される酸付加塩が好ましい。このよ
うな塩としては、例えば無機酸（例えば、塩酸、リン
酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸など）あるいは有機酸（例
えば、酢酸、ギ酸、プロピオン酸、フマル酸、マレイン
酸、コハク酸、酒石酸、クエン酸、リンゴ酸、蓚酸、安
息香酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸など）
との塩などが挙げられれる。さらに本発明の上記化合物
がカルボン酸などの酸性基を有している場合、該化合物
は、例えば無機塩基（例えば、ナトリウム、カリウム、
カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ金属またはア
ルカリ土類金属、またはアンモニアなど）あるいは有機
塩基（例えば、トリエチルアミンなどのトリ−Ｃ1-3ア
ルキルアミンなど）と生理学的に許容される塩を形成し
ていてもよい。
【００２２】また、上記目的化合物の原料化合物（Ｖ−
１）、（IV）および（III）も、上記と同様の塩が用い
られるが、反応に支障のない限り特に限定されない。ま
た、上記各化合物は反応に支障のない限り、水和物であ
ってもよく、また非水和物であってもよい。本発明の目
的化合物（III−１）、（III−２）、（I）、（Ｉ−
１）、(II)、（Ｉ−３）、（X）及び（X′）は、分子内
に不斉炭素を有することもあるが、Ｒ配位またはＳ配位
の２種類の立体異性体が存在する場合、それら各々また
はそれらの混合物のいずれも本発明に含まれる。
１）、（IV）および（III）も、上記と同様の塩が用い
られるが、反応に支障のない限り特に限定されない。ま
た、上記各化合物は反応に支障のない限り、水和物であ
ってもよく、また非水和物であってもよい。本発明の目
的化合物（III−１）、（III−２）、（I）、（Ｉ−
１）、(II)、（Ｉ−３）、（X）及び（X′）は、分子内
に不斉炭素を有することもあるが、Ｒ配位またはＳ配位
の２種類の立体異性体が存在する場合、それら各々また
はそれらの混合物のいずれも本発明に含まれる。
【００２３】本発明の目的化合物（X）及び（X′）また
はその塩の有用な製造中間体ならびにその製造中間体を
用いた化合物又はその塩等は、例えば以下に記載される
方法等を用いて製造することができる。以下、例えば化
合物式（Ｉ）で表わされる化合物を化合物（Ｉ）のよう
に略称する。化合物（V−１）から化合物（III−２）を
製造する下式反応は、次のように実施することができ
る。
はその塩の有用な製造中間体ならびにその製造中間体を
用いた化合物又はその塩等は、例えば以下に記載される
方法等を用いて製造することができる。以下、例えば化
合物式（Ｉ）で表わされる化合物を化合物（Ｉ）のよう
に略称する。化合物（V−１）から化合物（III−２）を
製造する下式反応は、次のように実施することができ
る。
【化３５】 〔式中、Ｑ環はさらに置換されていてもよいピリジン環
を示し、Ｒ1は水素原子、置換されていてもよい炭化水
素基又はアシル基を示し、Ｒ2は水素原子又はアミノ基
の保護基を示し、Ｒ3は水素原子、置換されていもよい
水酸基、置換されていてもよい炭化水素基又はアシル基
を示し、Ｘは脱離基を示す。〕
を示し、Ｒ1は水素原子、置換されていてもよい炭化水
素基又はアシル基を示し、Ｒ2は水素原子又はアミノ基
の保護基を示し、Ｒ3は水素原子、置換されていもよい
水酸基、置換されていてもよい炭化水素基又はアシル基
を示し、Ｘは脱離基を示す。〕
【００２４】化合物（III−２）又はその塩の合成のた
めの前記反応においては、化合物（V−１）又はその塩
に対して、一般式：
めの前記反応においては、化合物（V−１）又はその塩
に対して、一般式：
【化３６】 で表される化合物又はその塩〔式中、各記号は前記と同
意義を示す。）、好ましくはクロロアセトアルデヒド
等〕を１ないし大過剰、好ましくは１ないし５当量使用
する。反応温度は０℃ないし１５０℃、好ましくは２５
℃ないし８０℃である。使用する溶媒としては、例え
ば、プロトン性溶媒（水、メタノール、エタノール、ｎ
−ブタノール等）、非プロトン性溶媒（Ｎ,Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリ
ル、アセトン等）等が挙げられる。反応時間は、通常１
０分ないし１０時間、好ましくは１ないし４時間であ
る。なお、上記式（III−２）で表わされる化合物は新
規化合物であり、本発明はこれら新規化合物も提供す
る。
意義を示す。）、好ましくはクロロアセトアルデヒド
等〕を１ないし大過剰、好ましくは１ないし５当量使用
する。反応温度は０℃ないし１５０℃、好ましくは２５
℃ないし８０℃である。使用する溶媒としては、例え
ば、プロトン性溶媒（水、メタノール、エタノール、ｎ
−ブタノール等）、非プロトン性溶媒（Ｎ,Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリ
ル、アセトン等）等が挙げられる。反応時間は、通常１
０分ないし１０時間、好ましくは１ないし４時間であ
る。なお、上記式（III−２）で表わされる化合物は新
規化合物であり、本発明はこれら新規化合物も提供す
る。
【００２５】化合物（III−２）から化合物（I）を製造
する下式反応は、次のように実施することができる。
する下式反応は、次のように実施することができる。
【化３７】 〔式中、Ｑ環は置換されていてもよいピリジン環を示
し、Ｒ1は水素原子、置換されていてもよい炭化水素基
又はアシル基を示し、Ｒ3は水素原子、置換されていて
もよい水酸基、置換されていてもよい炭化水素基又はア
シル基を示し、Ｒ8は求核置換性化合物残基を示す。〕 化合物（I）又はその塩の合成のための前記反応におい
ては、一般に化合物（III−２）又はその塩に対して求
核置換試薬を１ないし過剰に、好ましくは１ないし５当
量使用する。反応は塩基存在下又は非存在下で行い、好
ましくは塩基存在下で行う。このとき使用する塩基とし
ては、例えば無機塩基（例えば、炭酸カリウム、炭酸ナ
トリウム等）、有機塩基（例えば、トリエチルアミン、
ピリジン、ジメチルアミン、１,８−ジアザビシクロ
［５.４.０］−７−ウンデセン等）、アルコラート類
（例えば、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラー
ト、tert−ブトキシカリウム等）、有機金属試薬（例え
ば、ｎ−ブチルリチウム等）、水素化ナトリウム、ナト
リウムアミド等が挙げられる。該塩基の使用量は、１な
いし過剰量、好ましくは１ないし５当量使用する。反応
温度は使用する求核置換試薬によっても異なるが、一般
に−７０℃ないし１６０℃、好ましくは−７０℃ないし
１００℃、より好ましくは−３０℃ないし８０℃、さら
に好ましくは０℃ないし８０℃である。使用する溶媒と
しては、例えばハロゲン化炭化水素（例えば、塩化メチ
レン、クロロホルム、ジクロロエタン等）、エーテル類
（例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
等）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル
等）、非プロトン性溶媒（例えば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、
アセトン、トルエン等）等が挙げられる。反応時間は、
通常１０分ないし２４時間、好ましくは１ないし１０時
間である。
し、Ｒ1は水素原子、置換されていてもよい炭化水素基
又はアシル基を示し、Ｒ3は水素原子、置換されていて
もよい水酸基、置換されていてもよい炭化水素基又はア
シル基を示し、Ｒ8は求核置換性化合物残基を示す。〕 化合物（I）又はその塩の合成のための前記反応におい
ては、一般に化合物（III−２）又はその塩に対して求
核置換試薬を１ないし過剰に、好ましくは１ないし５当
量使用する。反応は塩基存在下又は非存在下で行い、好
ましくは塩基存在下で行う。このとき使用する塩基とし
ては、例えば無機塩基（例えば、炭酸カリウム、炭酸ナ
トリウム等）、有機塩基（例えば、トリエチルアミン、
ピリジン、ジメチルアミン、１,８−ジアザビシクロ
［５.４.０］−７−ウンデセン等）、アルコラート類
（例えば、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラー
ト、tert−ブトキシカリウム等）、有機金属試薬（例え
ば、ｎ−ブチルリチウム等）、水素化ナトリウム、ナト
リウムアミド等が挙げられる。該塩基の使用量は、１な
いし過剰量、好ましくは１ないし５当量使用する。反応
温度は使用する求核置換試薬によっても異なるが、一般
に−７０℃ないし１６０℃、好ましくは−７０℃ないし
１００℃、より好ましくは−３０℃ないし８０℃、さら
に好ましくは０℃ないし８０℃である。使用する溶媒と
しては、例えばハロゲン化炭化水素（例えば、塩化メチ
レン、クロロホルム、ジクロロエタン等）、エーテル類
（例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
等）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル
等）、非プロトン性溶媒（例えば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、
アセトン、トルエン等）等が挙げられる。反応時間は、
通常１０分ないし２４時間、好ましくは１ないし１０時
間である。
【００２６】求核性化合物残基Ｒ8がＯＲ4（Ｒ4は前記
と同意義、好ましくは水素原子又は置換されていてもよ
い炭化水素基を示す。）の場合は次のように実施するこ
とができる。前記化合物（III-2）又はその塩に対し
て、一般式：Ｒ4ＯＨ又はＲ4ＯＭ（Ｒ4は前記と同意
義、Ｍはナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属）で
表わされる化合物、好ましくは一般式：Ｒ4ＯＮａ、
（Ｒ4は前記と同意義を示す。）、より好ましくはナト
リウムメトキシド等を１ないし過剰に、好ましくは１な
いし５当量使用する。反応は塩基存在下又は非存在下で
行い、好ましくは塩基存在下で行う。このとき使用する
塩基としては、例えば無機塩基（例えば、炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム等）、有機塩基（例えば、トリエチ
ルアミン、ピリジン、ジメチルアミン、１,８−ジアザ
ビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等）、アルコラ
ート類（例えば、ナトリウムメチラート、ナトリウムエ
チラート、tert−ブトキシカリウム等）、有機金属試薬
（例えば、ｎ−ブチルリチウム等）、水素化ナトリウ
ム、ナトリウムアミド等が挙げられる。該塩基の使用量
は、１ないし過剰量、好ましくは１ないし５当量使用す
る。反応温度は−７０℃ないし１００℃、好ましくは０
℃ないし８０℃である。使用する溶媒としては、例えば
ハロゲン化炭化水素（例えば、塩化メチレン、クロロホ
ルム、ジクロロエタン等）、エーテル類（例えば、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン等）、エステル類
（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル等）、非プロトン性
溶媒（例えば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、アセトニトリル、アセトン、トルエン
等）等が挙げられる。反応時間は、通常１０分ないし２
４時間、好ましくは１ないし１０時間である。
と同意義、好ましくは水素原子又は置換されていてもよ
い炭化水素基を示す。）の場合は次のように実施するこ
とができる。前記化合物（III-2）又はその塩に対し
て、一般式：Ｒ4ＯＨ又はＲ4ＯＭ（Ｒ4は前記と同意
義、Ｍはナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属）で
表わされる化合物、好ましくは一般式：Ｒ4ＯＮａ、
（Ｒ4は前記と同意義を示す。）、より好ましくはナト
リウムメトキシド等を１ないし過剰に、好ましくは１な
いし５当量使用する。反応は塩基存在下又は非存在下で
行い、好ましくは塩基存在下で行う。このとき使用する
塩基としては、例えば無機塩基（例えば、炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム等）、有機塩基（例えば、トリエチ
ルアミン、ピリジン、ジメチルアミン、１,８−ジアザ
ビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等）、アルコラ
ート類（例えば、ナトリウムメチラート、ナトリウムエ
チラート、tert−ブトキシカリウム等）、有機金属試薬
（例えば、ｎ−ブチルリチウム等）、水素化ナトリウ
ム、ナトリウムアミド等が挙げられる。該塩基の使用量
は、１ないし過剰量、好ましくは１ないし５当量使用す
る。反応温度は−７０℃ないし１００℃、好ましくは０
℃ないし８０℃である。使用する溶媒としては、例えば
ハロゲン化炭化水素（例えば、塩化メチレン、クロロホ
ルム、ジクロロエタン等）、エーテル類（例えば、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン等）、エステル類
（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル等）、非プロトン性
溶媒（例えば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、アセトニトリル、アセトン、トルエン
等）等が挙げられる。反応時間は、通常１０分ないし２
４時間、好ましくは１ないし１０時間である。
【００２７】求核性化合物残基Ｒ8がＳＯnＲ4（nは０か
ら２の整数、好ましくは０、Ｒ4は前記と同意義、好ま
しくは水素原子又は置換されていてもよい炭化水素基を
示す。）の場合は次のように実施することができる。前
記化合物（III-2）又はその塩に対して、一般式： ＨＳ
ＯnＲ4（式中、各記号は前記と同意義を示す。）で表わ
される化合物又はその塩、より好ましくは一般式：Ｒ4
ＳＨ（Ｒ4は水素又は置換されていてもよい炭化水素
基）で表わされる化合物又はその塩、さらに好ましくは
チオグリコール酸エチルエステル等を１ないし過剰に、
好ましくは１ないし５当量使用する。反応は塩基存在下
又は非存在下で行い、好ましくは塩基存在下で行う。こ
のとき使用する塩基としては、例えば無機塩基（例え
ば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等）、有機塩基（例
えば、トリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミン、
１,８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン
等）、アルコラート類（例えば、ナトリウムメチラー
ト、ナトリウムエチラート、tert−ブトキシカリウム
等）、有機金属試薬（例えば、ｎ−ブチルリチウム
等）、水素化ナトリウム、ナトリウムアミド等が挙げら
れる。該塩基の使用量は、１ないし過剰量、好ましくは
１ないし５当量使用する。反応温度は−３０℃ないし１
００℃、好ましくは０℃ないし１００℃、より好ましく
は０℃ないし８０℃である。使用する溶媒としては、例
えばハロゲン化炭化水素（例えば、塩化メチレン、クロ
ロホルム、ジクロロエタン等）、エーテル類（例えば、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等）、エステル
類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル等）、非プロトン
性溶媒（例えば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、アセトニトリル、アセトン、トルエ
ン等）等が挙げられる。反応時間は、通常１０分ないし
２４時間、好ましくは１ないし１０時間である。
ら２の整数、好ましくは０、Ｒ4は前記と同意義、好ま
しくは水素原子又は置換されていてもよい炭化水素基を
示す。）の場合は次のように実施することができる。前
記化合物（III-2）又はその塩に対して、一般式： ＨＳ
ＯnＲ4（式中、各記号は前記と同意義を示す。）で表わ
される化合物又はその塩、より好ましくは一般式：Ｒ4
ＳＨ（Ｒ4は水素又は置換されていてもよい炭化水素
基）で表わされる化合物又はその塩、さらに好ましくは
チオグリコール酸エチルエステル等を１ないし過剰に、
好ましくは１ないし５当量使用する。反応は塩基存在下
又は非存在下で行い、好ましくは塩基存在下で行う。こ
のとき使用する塩基としては、例えば無機塩基（例え
ば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等）、有機塩基（例
えば、トリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミン、
１,８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン
等）、アルコラート類（例えば、ナトリウムメチラー
ト、ナトリウムエチラート、tert−ブトキシカリウム
等）、有機金属試薬（例えば、ｎ−ブチルリチウム
等）、水素化ナトリウム、ナトリウムアミド等が挙げら
れる。該塩基の使用量は、１ないし過剰量、好ましくは
１ないし５当量使用する。反応温度は−３０℃ないし１
００℃、好ましくは０℃ないし１００℃、より好ましく
は０℃ないし８０℃である。使用する溶媒としては、例
えばハロゲン化炭化水素（例えば、塩化メチレン、クロ
ロホルム、ジクロロエタン等）、エーテル類（例えば、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等）、エステル
類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル等）、非プロトン
性溶媒（例えば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、アセトニトリル、アセトン、トルエ
ン等）等が挙げられる。反応時間は、通常１０分ないし
２４時間、好ましくは１ないし１０時間である。
【００２８】求核性化合物残基がＮＲ4Ｒ4a（Ｒ4及びＲ
4aは前記と同意義、好ましくは同一又は相異なって水素
原子又は置換されていてもよい炭化水素基を示す。）の
場合は次のように実施することができる。前記化合物
（III-2）又はその塩に対して、一般式：Ｒ4Ｒ4aＮＨ
（Ｒ4及びＲ4aは前記と同意義を示す。）で表わされる
化合物、好ましくは２級アミン、より好ましくはジメチ
ルアミン等を１ないし過剰に、好ましくは１ないし５当
量使用する。反応は塩基存在下又は非存在下で行い、好
ましくは塩基存在下で行う。このとき使用する塩基とし
ては、例えば無機塩基（例えば、炭酸カリウム、炭酸ナ
トリウム等）、有機塩基（例えば、トリエチルアミン、
ピリジン、ジメチルアミン、１,８−ジアザビシクロ
［５.４.０］−７−ウンデセン等）、アルコラート類
（例えば、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラー
ト、tert−ブトキシカリウム等）、有機金属試薬（例え
ば、ｎ−ブチルリチウム等）、水素化ナトリウム、ナト
リウムアミド等が挙げられる。該塩基の使用量は、１な
いし過剰量、好ましくは１ないし５当量使用する。反応
温度は０℃ないし１６０℃、好ましくは３０℃ないし１
２０℃である。使用する溶媒としては、例えばハロゲン
化炭化水素（例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジ
クロロエタン等）、エーテル類（例えば、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン等）、エステル類（例えば、
酢酸メチル、酢酸エチル等）、非プロトン性溶媒（例え
ば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、アセトニトリル、アセトン、トルエン等）等が挙
げられる。反応時間は、通常１０分ないし２４時間、好
ましくは１ないし１０時間である。なお、該反応におい
てアミノ基、１級アミンあるいは２級アミンのみなら
ず、３級アミンあるいは含窒素芳香環を求核性化合物と
して用いることもできる。
4aは前記と同意義、好ましくは同一又は相異なって水素
原子又は置換されていてもよい炭化水素基を示す。）の
場合は次のように実施することができる。前記化合物
（III-2）又はその塩に対して、一般式：Ｒ4Ｒ4aＮＨ
（Ｒ4及びＲ4aは前記と同意義を示す。）で表わされる
化合物、好ましくは２級アミン、より好ましくはジメチ
ルアミン等を１ないし過剰に、好ましくは１ないし５当
量使用する。反応は塩基存在下又は非存在下で行い、好
ましくは塩基存在下で行う。このとき使用する塩基とし
ては、例えば無機塩基（例えば、炭酸カリウム、炭酸ナ
トリウム等）、有機塩基（例えば、トリエチルアミン、
ピリジン、ジメチルアミン、１,８−ジアザビシクロ
［５.４.０］−７−ウンデセン等）、アルコラート類
（例えば、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラー
ト、tert−ブトキシカリウム等）、有機金属試薬（例え
ば、ｎ−ブチルリチウム等）、水素化ナトリウム、ナト
リウムアミド等が挙げられる。該塩基の使用量は、１な
いし過剰量、好ましくは１ないし５当量使用する。反応
温度は０℃ないし１６０℃、好ましくは３０℃ないし１
２０℃である。使用する溶媒としては、例えばハロゲン
化炭化水素（例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジ
クロロエタン等）、エーテル類（例えば、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン等）、エステル類（例えば、
酢酸メチル、酢酸エチル等）、非プロトン性溶媒（例え
ば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、アセトニトリル、アセトン、トルエン等）等が挙
げられる。反応時間は、通常１０分ないし２４時間、好
ましくは１ないし１０時間である。なお、該反応におい
てアミノ基、１級アミンあるいは２級アミンのみなら
ず、３級アミンあるいは含窒素芳香環を求核性化合物と
して用いることもできる。
【００２９】求核性化合物残基が置換されていてもよい
炭化水素基の場合は次のように実施することができる。
前記化合物（III-2）又はその塩に対して、置換されて
いてもよい炭化水素の金属アルキル化物または金属アリ
ール化物、好ましくは置換されていてもよい金属アルキ
ル化物、より好ましくは置換されていてもよいアルキル
ナトリウム等を１ないし過剰に、好ましくは１ないし５
当量使用する。反応は塩基存在下又は非存在下で行い、
好ましくは塩基存在下で行う。このとき使用する塩基と
しては、例えば無機塩基（例えば、炭酸カリウム、炭酸
ナトリウム等）、有機塩基（例えば、トリエチルアミ
ン、ピリジン、ジメチルアミン、１,８−ジアザビシク
ロ［５.４.０］−７−ウンデセン等）、アルコラート類
（例えば、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラー
ト、tert−ブトキシカリウム等）、有機金属試薬（例え
ば、ｎ−ブチルリチウム等）、水素化ナトリウム、ナト
リウムアミド等が挙げられる。該塩基の使用量は、１な
いし過剰量、好ましくは１ないし５当量使用する。反応
温度は−７０℃ないし１００℃、好ましくは０℃ないし
８０℃である。使用する溶媒としては、例えばハロゲン
化炭化水素（例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジ
クロロエタン等）、エーテル類（例えば、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン等）、エステル類（例えば、
酢酸メチル、酢酸エチル等）、非プロトン性溶媒（例え
ば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、アセトニトリル、アセトン、トルエン等）等が挙
げられる。反応時間は、通常１０分ないし２４時間、好
ましくは１ないし１０時間である。
炭化水素基の場合は次のように実施することができる。
前記化合物（III-2）又はその塩に対して、置換されて
いてもよい炭化水素の金属アルキル化物または金属アリ
ール化物、好ましくは置換されていてもよい金属アルキ
ル化物、より好ましくは置換されていてもよいアルキル
ナトリウム等を１ないし過剰に、好ましくは１ないし５
当量使用する。反応は塩基存在下又は非存在下で行い、
好ましくは塩基存在下で行う。このとき使用する塩基と
しては、例えば無機塩基（例えば、炭酸カリウム、炭酸
ナトリウム等）、有機塩基（例えば、トリエチルアミ
ン、ピリジン、ジメチルアミン、１,８−ジアザビシク
ロ［５.４.０］−７−ウンデセン等）、アルコラート類
（例えば、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラー
ト、tert−ブトキシカリウム等）、有機金属試薬（例え
ば、ｎ−ブチルリチウム等）、水素化ナトリウム、ナト
リウムアミド等が挙げられる。該塩基の使用量は、１な
いし過剰量、好ましくは１ないし５当量使用する。反応
温度は−７０℃ないし１００℃、好ましくは０℃ないし
８０℃である。使用する溶媒としては、例えばハロゲン
化炭化水素（例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジ
クロロエタン等）、エーテル類（例えば、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン等）、エステル類（例えば、
酢酸メチル、酢酸エチル等）、非プロトン性溶媒（例え
ば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、アセトニトリル、アセトン、トルエン等）等が挙
げられる。反応時間は、通常１０分ないし２４時間、好
ましくは１ないし１０時間である。
【００３０】求核性化合物残基が置換されていてもよい
ホスホン酸残基の場合は次のように実施することができ
る。前記化合物（III-2）又はその塩に対して、例え
ば、一般式：ＨＯＰ(ＯＲ4)(ＯＲ4a)（Ｒ4及びＲ4aは同
一又は相異なって水素原子又は置換されていてもよい炭
化水素基を示す。）もしくは一般式：Ｐ(ＯＲ4)(Ｏ
Ｒ4a)（ＯＲ4b）（Ｒ4、Ｒ4a及びＲ4bは同一又は相異な
って水素原子又は置換されていてもよい炭化水素基を示
す。）で表わされる化合物、好ましくは、Ｐ（Ｏ）（Ｏ
ＣＨ3）3等を１ないし過剰に、好ましくは１ないし５当
量使用する。反応は塩基存在下又は非存在下で行い、好
ましくは塩基存在下で行う。このとき使用する塩基とし
ては、例えば無機塩基（例えば、炭酸カリウム、炭酸ナ
トリウム等）、有機塩基（例えば、トリエチルアミン、
ピリジン、ジメチルアミン、１,８−ジアザビシクロ
［５.４.０］−７−ウンデセン等）、アルコラート類
（例えば、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラー
ト、tert−ブトキシカリウム等）、有機金属試薬（例え
ば、ｎ−ブチルリチウム等）、水素化ナトリウム、ナト
リウムアミド等が挙げられる。該塩基の使用量は、１な
いし過剰量、好ましくは１ないし５当量使用する。反応
温度は−３０℃ないし１００℃、好ましくは０℃ないし
８０℃である。使用する溶媒としては、例えばハロゲン
化炭化水素（例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジ
クロロエタン等）、エーテル類（例えば、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン等）、エステル類（例えば、
酢酸メチル、酢酸エチル等）、非プロトン性溶媒（例え
ば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、アセトニトリル、アセトン、トルエン等）等が挙
げられる。反応時間は、通常１０分ないし２４時間、好
ましくは１ないし１０時間である。
ホスホン酸残基の場合は次のように実施することができ
る。前記化合物（III-2）又はその塩に対して、例え
ば、一般式：ＨＯＰ(ＯＲ4)(ＯＲ4a)（Ｒ4及びＲ4aは同
一又は相異なって水素原子又は置換されていてもよい炭
化水素基を示す。）もしくは一般式：Ｐ(ＯＲ4)(Ｏ
Ｒ4a)（ＯＲ4b）（Ｒ4、Ｒ4a及びＲ4bは同一又は相異な
って水素原子又は置換されていてもよい炭化水素基を示
す。）で表わされる化合物、好ましくは、Ｐ（Ｏ）（Ｏ
ＣＨ3）3等を１ないし過剰に、好ましくは１ないし５当
量使用する。反応は塩基存在下又は非存在下で行い、好
ましくは塩基存在下で行う。このとき使用する塩基とし
ては、例えば無機塩基（例えば、炭酸カリウム、炭酸ナ
トリウム等）、有機塩基（例えば、トリエチルアミン、
ピリジン、ジメチルアミン、１,８−ジアザビシクロ
［５.４.０］−７−ウンデセン等）、アルコラート類
（例えば、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラー
ト、tert−ブトキシカリウム等）、有機金属試薬（例え
ば、ｎ−ブチルリチウム等）、水素化ナトリウム、ナト
リウムアミド等が挙げられる。該塩基の使用量は、１な
いし過剰量、好ましくは１ないし５当量使用する。反応
温度は−３０℃ないし１００℃、好ましくは０℃ないし
８０℃である。使用する溶媒としては、例えばハロゲン
化炭化水素（例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジ
クロロエタン等）、エーテル類（例えば、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン等）、エステル類（例えば、
酢酸メチル、酢酸エチル等）、非プロトン性溶媒（例え
ば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、アセトニトリル、アセトン、トルエン等）等が挙
げられる。反応時間は、通常１０分ないし２４時間、好
ましくは１ないし１０時間である。
【００３１】化合物（III）から、化合物（I-3）を製造
する下式反応は次のように実施する事ができる。
する下式反応は次のように実施する事ができる。
【化３８】 （式中、 Ｑ環はさらに置換されていてもよいピリジン
環を、Ｒ1は水素原子、置換されていてもよい炭化水素
基又はアシル基を、Ｒ3は水素原子、置換されていても
よい水酸基、置換されていてもよい炭化水素基又はアシ
ル基を、Ｒ7は保護されていてもよいＣＨ2ＣＯＯＨ基、
Ｙはハロゲン原子を示す。） 化合物（Ｉ−３）またはその塩の合成のための前記反応
は上記（III−２）から（I）への反応と同様の条件でお
こなうことができる。
環を、Ｒ1は水素原子、置換されていてもよい炭化水素
基又はアシル基を、Ｒ3は水素原子、置換されていても
よい水酸基、置換されていてもよい炭化水素基又はアシ
ル基を、Ｒ7は保護されていてもよいＣＨ2ＣＯＯＨ基、
Ｙはハロゲン原子を示す。） 化合物（Ｉ−３）またはその塩の合成のための前記反応
は上記（III−２）から（I）への反応と同様の条件でお
こなうことができる。
【００３２】化合物（I-1）は化合物（IV）から下記反
応により製造することができる。
応により製造することができる。
【化３９】 （式中、Ｑ環はさらに置換されていてもよいピリジン環
を、Ｒ1は水素原子、置換されていてもよい炭化水素基
又はアシル基を、Ｒ2は水素原子又はアミノ基の保護基
を、Ｒ3は水素原子、置換されていてもよい水酸基、置
換されていてもよい炭化水素基又はアシル基を、Ｒ4は
水素原子又は置換されていてもよい炭化水素基を、 Ｘ
は脱離基を示す。） 化合物（Ｉ−１）又はその塩の合成のための前記反応に
おいては、化合物（IV）又はその塩に対して、一般式：
を、Ｒ1は水素原子、置換されていてもよい炭化水素基
又はアシル基を、Ｒ2は水素原子又はアミノ基の保護基
を、Ｒ3は水素原子、置換されていてもよい水酸基、置
換されていてもよい炭化水素基又はアシル基を、Ｒ4は
水素原子又は置換されていてもよい炭化水素基を、 Ｘ
は脱離基を示す。） 化合物（Ｉ−１）又はその塩の合成のための前記反応に
おいては、化合物（IV）又はその塩に対して、一般式：
【化４０】 で表される化合物又はその塩（式中、各記号は、前記と
同意義を示す。）を１ないし大過剰、好ましくは１ない
し５当量使用する。反応温度は０℃ないし１５０℃、好
ましくは２５℃ないし８０℃である。使用する溶媒とし
ては、例えば、プロトン性溶媒（水、メタノール、エタ
ノール、ｎ−ブタノール等）、非プロトン性溶媒（Ｎ,
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ア
セトニトリル、アセトン等）等が挙げられる。反応時間
は、通常１０分ないし１０時間、好ましくは１ないし４
時間である。
同意義を示す。）を１ないし大過剰、好ましくは１ない
し５当量使用する。反応温度は０℃ないし１５０℃、好
ましくは２５℃ないし８０℃である。使用する溶媒とし
ては、例えば、プロトン性溶媒（水、メタノール、エタ
ノール、ｎ−ブタノール等）、非プロトン性溶媒（Ｎ,
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ア
セトニトリル、アセトン等）等が挙げられる。反応時間
は、通常１０分ないし１０時間、好ましくは１ないし４
時間である。
【００３３】化合物（I-2）から化合物（II）を製造す
る下式反応は、下記のように実施することができる。
る下式反応は、下記のように実施することができる。
【化４１】 （式中、 Ｑ環はさらに置換されていてもよいピリジン
環を、Ｒ1は水素原子、置換されていてもよい炭化水素
基又はアシル基を、Ｒ3は水素原子、置換されていても
よい水酸基、置換されていてもよい炭化水素基又はアシ
ル基を、 Ｒ6はアルキル基を示す。） 本反応においては、化合物（Ｉ−２）又はその塩に対し
て、塩基を１ないし大過剰に使用する。このとき使用す
る塩基としては、例えば無機塩基（例えば、炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム等）、有機塩基（例えば、トリエチ
ルアミン、ピリジン、ジメチルアミン、１,８−ジアザ
ビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等）、アルコラ
ート類（例えば、ナトリウムメチラート、ナトリウムエ
チラート、tert−ブトキシカリウム等）、有機金属試薬
（例えば、ｎ−ブチルリチウム等）、水素化ナトリウ
ム、ナトリウムアミド等が挙げられ、好ましくは水素化
ナトリウム、ｎ−ブチルリチウム、tert−ブトキシカリ
ウム、ナトリウムアミド等である。反応温度は５０℃な
いし２００℃、好ましくは１００℃ない１８０℃であ
る。使用する溶媒としては、例えばハロゲン化炭化水素
（例えば、クロロホルム、ジクロロエタン等）、エーテ
ル類（例えば、テトラヒドロフラン等）、エステル類
（例えば、酢酸エチル等）、非プロトン性溶媒（例え
ば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、アセトニトリル、トルエン、キシレン等）が挙げ
られる。反応時間は、通常１０分ないし１０時間、好ま
しくは１ないし３時間である。
環を、Ｒ1は水素原子、置換されていてもよい炭化水素
基又はアシル基を、Ｒ3は水素原子、置換されていても
よい水酸基、置換されていてもよい炭化水素基又はアシ
ル基を、 Ｒ6はアルキル基を示す。） 本反応においては、化合物（Ｉ−２）又はその塩に対し
て、塩基を１ないし大過剰に使用する。このとき使用す
る塩基としては、例えば無機塩基（例えば、炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム等）、有機塩基（例えば、トリエチ
ルアミン、ピリジン、ジメチルアミン、１,８−ジアザ
ビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等）、アルコラ
ート類（例えば、ナトリウムメチラート、ナトリウムエ
チラート、tert−ブトキシカリウム等）、有機金属試薬
（例えば、ｎ−ブチルリチウム等）、水素化ナトリウ
ム、ナトリウムアミド等が挙げられ、好ましくは水素化
ナトリウム、ｎ−ブチルリチウム、tert−ブトキシカリ
ウム、ナトリウムアミド等である。反応温度は５０℃な
いし２００℃、好ましくは１００℃ない１８０℃であ
る。使用する溶媒としては、例えばハロゲン化炭化水素
（例えば、クロロホルム、ジクロロエタン等）、エーテ
ル類（例えば、テトラヒドロフラン等）、エステル類
（例えば、酢酸エチル等）、非プロトン性溶媒（例え
ば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、アセトニトリル、トルエン、キシレン等）が挙げ
られる。反応時間は、通常１０分ないし１０時間、好ま
しくは１ないし３時間である。
【００３４】化合物（III−２）の合成のための原料化
合物（V−１）は下記反応式により、化合物（VII−１）
から製造することができる。
合物（V−１）は下記反応式により、化合物（VII−１）
から製造することができる。
【化４２】 （式中、Ｑ環はさらに置換されていてもよいピリジン環
を、Ｒ2は水素原子又はアミノ基の保護基を示す。） 本反応においては、化合物（VII−１）又はその塩に対
して、一般式：Ｒ2ＮＨ2（Ｒ2は水素原子、またはアミ
ノ基の保護基を示す。好ましくはアンモニア、ホルムア
ミド等）を１ないし大過剰、好ましくは１ないし１０当
量使用する。使用する溶媒としては、無溶媒またはプロ
トン性溶媒（例えば、水、メタノール、エタノール、ｎ
−ブタノール等）、非プロトン性溶媒（例えば、Ｎ,Ｎ
−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセ
トニトリル、アセトン等）等である。反応温度は０−２
５０℃、好ましくは１−２５０℃、より好ましくは１０
０−１５０℃で行う。反応容器内の圧力は常圧から５０
kgcm-2、好ましくは常圧から２０kgcm-2である。反応時
間は１０分ないし２４時間、好ましくは１ないし８時間
である。
を、Ｒ2は水素原子又はアミノ基の保護基を示す。） 本反応においては、化合物（VII−１）又はその塩に対
して、一般式：Ｒ2ＮＨ2（Ｒ2は水素原子、またはアミ
ノ基の保護基を示す。好ましくはアンモニア、ホルムア
ミド等）を１ないし大過剰、好ましくは１ないし１０当
量使用する。使用する溶媒としては、無溶媒またはプロ
トン性溶媒（例えば、水、メタノール、エタノール、ｎ
−ブタノール等）、非プロトン性溶媒（例えば、Ｎ,Ｎ
−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセ
トニトリル、アセトン等）等である。反応温度は０−２
５０℃、好ましくは１−２５０℃、より好ましくは１０
０−１５０℃で行う。反応容器内の圧力は常圧から５０
kgcm-2、好ましくは常圧から２０kgcm-2である。反応時
間は１０分ないし２４時間、好ましくは１ないし８時間
である。
【００３５】さらに上記化合物（V−１）を原料にし
て、化合物（Ｉ−１）の原料化合物（IV）を合成するこ
とができる。
て、化合物（Ｉ−１）の原料化合物（IV）を合成するこ
とができる。
【化４３】 （式中、Ｑ環はさらに置換されていてもよいピリジン環
を、Ｒ2は水素原子又はアミノ基の保護基であり、Ｒ4は
水素原子又は置換されていてもよい炭化水素基を示
す。） 本反応においては、化合物（V−１）又はその塩に対し
て、一般式：Ｒ4−ＳＨ（Ｒ4は前記と同意義）、好まし
くはチオグリコール酸エチルエステル等）を１ないし過
剰に、好ましくは１ないし５当量使用する。反応は塩基
存在下又は非存在下で行い、好ましくは塩基存在下で行
う。このとき使用する塩基としては、例えば無機塩基
（例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等）、有機塩
基（例えば、トリエチルアミン、ピリジン、ジメチルア
ミン、１,８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウン
デセン等）、アルコラート類（例えば、ナトリウムメチ
ラート、ナトリウムエチラート、tert−ブトキシカリウ
ム等）、有機金属試薬（例えば、ｎ−ブチルリチウム
等）、水素化ナトリウム、ナトリウムアミド等が挙げら
れる。該塩基の使用量は、１ないし過剰量、好ましくは
１ないし５当量使用する。反応温度は０℃ないし１００
℃、好ましくは３０℃ないし８０℃である。使用する溶
媒としては、例えばハロゲン化炭化水素（例えば、塩化
メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン等）、エーテ
ル類（例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
等）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル
等）、非プロトン性溶媒（例えば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、
アセトン、トルエン等）等が挙げられる。反応時間は、
通常１０分ないし２４時間、好ましくは１ないし１０時
間である。
を、Ｒ2は水素原子又はアミノ基の保護基であり、Ｒ4は
水素原子又は置換されていてもよい炭化水素基を示
す。） 本反応においては、化合物（V−１）又はその塩に対し
て、一般式：Ｒ4−ＳＨ（Ｒ4は前記と同意義）、好まし
くはチオグリコール酸エチルエステル等）を１ないし過
剰に、好ましくは１ないし５当量使用する。反応は塩基
存在下又は非存在下で行い、好ましくは塩基存在下で行
う。このとき使用する塩基としては、例えば無機塩基
（例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等）、有機塩
基（例えば、トリエチルアミン、ピリジン、ジメチルア
ミン、１,８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウン
デセン等）、アルコラート類（例えば、ナトリウムメチ
ラート、ナトリウムエチラート、tert−ブトキシカリウ
ム等）、有機金属試薬（例えば、ｎ−ブチルリチウム
等）、水素化ナトリウム、ナトリウムアミド等が挙げら
れる。該塩基の使用量は、１ないし過剰量、好ましくは
１ないし５当量使用する。反応温度は０℃ないし１００
℃、好ましくは３０℃ないし８０℃である。使用する溶
媒としては、例えばハロゲン化炭化水素（例えば、塩化
メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン等）、エーテ
ル類（例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
等）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル
等）、非プロトン性溶媒（例えば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、
アセトン、トルエン等）等が挙げられる。反応時間は、
通常１０分ないし２４時間、好ましくは１ないし１０時
間である。
【００３６】上記反応の目的化合物（IV）は、置換基の
導入順序を変えて、化合物（VII−１）から次のような
反応により製造することができる。
導入順序を変えて、化合物（VII−１）から次のような
反応により製造することができる。
【化４４】 （式中、Ｑ環はさらに置換されていてもよいピリジン環
を、Ｒ4は水素原子又は置換されていてもよい炭化水素
基を示す。） 本反応においては、化合物（VII−１）又はその塩に対
して、一般式：Ｒ4−ＳＨ（Ｒ4は水素原子又は置換され
ていてもよい炭化水素基を示す。）、好ましくはチオグ
リコール酸エチルエステル等）を１ないし過剰に、好ま
しくは１ないし２当量使用する。反応は塩基存在下又は
非存在下で行い、好ましくは塩基存在下で行う。このと
き使用する塩基としては、例えば無機塩基（例えば、炭
酸カリウム、炭酸ナトリウム等）、有機塩基（例えば、
トリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミン、１,８
−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等）、
アルコラート類（例えば、ナトリウムメチラート、ナト
リウムエチラート、tert−ブトキシカリウム等）、有機
金属試薬（例えば、ｎ−ブチルリチウム等）、水素化ナ
トリウム、ナトリウムアミド等が挙げられる。該塩基の
使用量は、１ないし過剰量、好ましくは１ないし２当量
使用する。反応温度は０℃ないし１００℃、好ましくは
０℃ないし５０℃である。使用する溶媒としては、例え
ばハロゲン化炭化水素（例えば、塩化メチレン、クロロ
ホルム、ジクロロエタン等）、エーテル類（例えば、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン等）、エステル類
（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル等）、非プロトン性
溶媒（例えば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、アセトニトリル、アセトン、トルエン
等）等が挙げられる。反応時間は、通常１０分ないし２
４時間、好ましくは１ないし１０時間である。
を、Ｒ4は水素原子又は置換されていてもよい炭化水素
基を示す。） 本反応においては、化合物（VII−１）又はその塩に対
して、一般式：Ｒ4−ＳＨ（Ｒ4は水素原子又は置換され
ていてもよい炭化水素基を示す。）、好ましくはチオグ
リコール酸エチルエステル等）を１ないし過剰に、好ま
しくは１ないし２当量使用する。反応は塩基存在下又は
非存在下で行い、好ましくは塩基存在下で行う。このと
き使用する塩基としては、例えば無機塩基（例えば、炭
酸カリウム、炭酸ナトリウム等）、有機塩基（例えば、
トリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミン、１,８
−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等）、
アルコラート類（例えば、ナトリウムメチラート、ナト
リウムエチラート、tert−ブトキシカリウム等）、有機
金属試薬（例えば、ｎ−ブチルリチウム等）、水素化ナ
トリウム、ナトリウムアミド等が挙げられる。該塩基の
使用量は、１ないし過剰量、好ましくは１ないし２当量
使用する。反応温度は０℃ないし１００℃、好ましくは
０℃ないし５０℃である。使用する溶媒としては、例え
ばハロゲン化炭化水素（例えば、塩化メチレン、クロロ
ホルム、ジクロロエタン等）、エーテル類（例えば、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン等）、エステル類
（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル等）、非プロトン性
溶媒（例えば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、アセトニトリル、アセトン、トルエン
等）等が挙げられる。反応時間は、通常１０分ないし２
４時間、好ましくは１ないし１０時間である。
【００３７】次いで、得られた化合物(VI−１)に次式の
ようにＲ2ＮＨ2を反応させることにより化合物（I−
１）の原料化合物である（IV）を製造することができ
る。
ようにＲ2ＮＨ2を反応させることにより化合物（I−
１）の原料化合物である（IV）を製造することができ
る。
【化４５】 〔式中、各記号は前記と同意義である。〕 本反応においては、化合物（VI）又はその塩に対して、
一般式：Ｒ2ＮＨ2（Ｒ2は水素原子、またはアミノ基の
保護基を示す。）を１ないし大過剰、好ましくは１ない
１０当量使用する。Ｒ2ＮＨ2としては好ましくはアンモ
ニア、ホルムアミド等である。使用する溶媒としては、
無溶媒またはプロトン性溶媒（例えば、水、メタノー
ル、エタノール、ｎ−ブタノール等）、非プロトン性溶
媒（例えば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、アセトニトリル、アセトン等）等であ
る。反応温度は０−２５０℃、好ましくは１−２５０
℃、より好ましくは１００−１８０℃で行う。反応容器
内の圧力は常圧から５０kgcm-2、好ましくは常圧から２
０kgcm-2である。反応時間は１０分ないし２４時間、好
ましくは１ないし８時間である。このようにして、得ら
れる化合物（Ｉ）、（I-1）、（I-2）及び化合物（II）
は、例えば、下記のような方法によりコレステロール低
下薬として有用な化合物の特徴的骨格を有し、合成上の
重要中間体化合物である上記化合物（X）及び化合物
（X′）に導くことができる。
一般式：Ｒ2ＮＨ2（Ｒ2は水素原子、またはアミノ基の
保護基を示す。）を１ないし大過剰、好ましくは１ない
１０当量使用する。Ｒ2ＮＨ2としては好ましくはアンモ
ニア、ホルムアミド等である。使用する溶媒としては、
無溶媒またはプロトン性溶媒（例えば、水、メタノー
ル、エタノール、ｎ−ブタノール等）、非プロトン性溶
媒（例えば、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、アセトニトリル、アセトン等）等であ
る。反応温度は０−２５０℃、好ましくは１−２５０
℃、より好ましくは１００−１８０℃で行う。反応容器
内の圧力は常圧から５０kgcm-2、好ましくは常圧から２
０kgcm-2である。反応時間は１０分ないし２４時間、好
ましくは１ないし８時間である。このようにして、得ら
れる化合物（Ｉ）、（I-1）、（I-2）及び化合物（II）
は、例えば、下記のような方法によりコレステロール低
下薬として有用な化合物の特徴的骨格を有し、合成上の
重要中間体化合物である上記化合物（X）及び化合物
（X′）に導くことができる。
【００３８】尚、化合物（II）は、例えば以下に示す方
法などにより化合物（III−１）、（Ｉ）、（I-1）もし
くは（Ｉ-3）に含まれる化合物（I-4）に変換すること
ができる。
法などにより化合物（III−１）、（Ｉ）、（I-1）もし
くは（Ｉ-3）に含まれる化合物（I-4）に変換すること
ができる。
【化４６】 （式中、Ｑ環は置換されていてもよいピリジン環を、Ｒ
1は水素原子、置換されていてもよい炭化水素基又はア
シル基を、Ｒ3は水素原子、置換されていてもよい水酸
基、置換されていてもよい炭化水素基又はアシル基を、
Ｅはハロゲン原子を、Ｒ5は低級アルキル基を示し、他
の記号は前記と同意義を示す。） ここで、Ｒ5としては前記Ｒ4で表されるアルキル基にお
いて述べたようなＣ1-6アルキル基等があげられる。化
合物（II）とＥ−ＣＨ2ＣＯＯＲ5（IX）との反応は、化
合物（II）に対して化合物（IX）を１当量ないし大過剰
（１〜１０当量）使用する。また水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、トリ
エチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１,８−
ジアザビシクロ〔５.４.０〕−７−ウンデセンなどの塩
基性化合物を１ないし１０当量用いてもよい。反応は−
２０から＋２００℃で行うことができる。この際使用さ
れる溶媒としては、例えば水、低級アルコール類（例え
ば、メタノール、エタノール、プロパノールなど）、ケ
トン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトンな
ど）、エーテル類（例えば、テトラヒドロフランな
ど）、非プロトン性極性溶媒（例えば、Ｎ,Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなど）などが挙
げられる。また該反応は、反応促進剤としてヨウ化ナト
リウムを１当量ないし大過剰（１〜１０当量）加えても
よい。反応時間は、通常１０分間ないし２４時間、好ま
しくは０.５ないし６時間である。
1は水素原子、置換されていてもよい炭化水素基又はア
シル基を、Ｒ3は水素原子、置換されていてもよい水酸
基、置換されていてもよい炭化水素基又はアシル基を、
Ｅはハロゲン原子を、Ｒ5は低級アルキル基を示し、他
の記号は前記と同意義を示す。） ここで、Ｒ5としては前記Ｒ4で表されるアルキル基にお
いて述べたようなＣ1-6アルキル基等があげられる。化
合物（II）とＥ−ＣＨ2ＣＯＯＲ5（IX）との反応は、化
合物（II）に対して化合物（IX）を１当量ないし大過剰
（１〜１０当量）使用する。また水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、トリ
エチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１,８−
ジアザビシクロ〔５.４.０〕−７−ウンデセンなどの塩
基性化合物を１ないし１０当量用いてもよい。反応は−
２０から＋２００℃で行うことができる。この際使用さ
れる溶媒としては、例えば水、低級アルコール類（例え
ば、メタノール、エタノール、プロパノールなど）、ケ
トン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトンな
ど）、エーテル類（例えば、テトラヒドロフランな
ど）、非プロトン性極性溶媒（例えば、Ｎ,Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなど）などが挙
げられる。また該反応は、反応促進剤としてヨウ化ナト
リウムを１当量ないし大過剰（１〜１０当量）加えても
よい。反応時間は、通常１０分間ないし２４時間、好ま
しくは０.５ないし６時間である。
【００３９】本発明の化合物（I）、（I-1）、(I-２)、
(I-3)、(I-4)又はこれらの塩に含まれる例えば化合物
（I-5）を製造中間体として用いて、化合物（X）又はそ
の塩を下記のようにして製造することができる。
(I-3)、(I-4)又はこれらの塩に含まれる例えば化合物
（I-5）を製造中間体として用いて、化合物（X）又はそ
の塩を下記のようにして製造することができる。
【化４７】 （式中、Ｑ環はさらに置換されていてもよいピリジン環
を、Ｒ1は水素原子、置換されていてもよい炭化水素基
又はアシル基を、Ｒ5は低級アルキル基を示す。） 前記化合物（I−5）から化合物（X'）への反応におい
て、化合物（I−5）又はその塩に対して、ヘキサメチレ
ンテトラミンを１ないし大過剰、好ましくは１ないし１
０当量使用する。このとき使用する酸は、例えば無機酸
（例えば、塩酸、硫酸、ほう酸等）、有機酸（例えば、
酢酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸等）
であり、好ましくは酢酸、ほう酸等を使用する。該酸の
使用量は、例えば１ないし大過剰、好ましくは１ないし
５０当量である。このときの反応温度は、約０℃ないし
２００℃で、好ましくは約５０℃ないし１５０℃であ
る。このとき使用される溶媒としては、例えばハロゲン
化炭化水素（例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジ
クロロエタン等）、エーテル類（例えば、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン等）、エステル類（例えば、
酢酸メチル、酢酸エチル等）、プロトン性溶媒（例え
ば、メタノール、エタノール等）、非プロトン性極性溶
媒（例えば、アセトニトリル等）等が挙げられる。この
際、水が含まれていてもよい。好ましくは、酸と溶媒を
兼ねた酢酸を使用する。反応時間は、通常１０分ないし
２４時間、好ましくは１ないし１５時間である。
を、Ｒ1は水素原子、置換されていてもよい炭化水素基
又はアシル基を、Ｒ5は低級アルキル基を示す。） 前記化合物（I−5）から化合物（X'）への反応におい
て、化合物（I−5）又はその塩に対して、ヘキサメチレ
ンテトラミンを１ないし大過剰、好ましくは１ないし１
０当量使用する。このとき使用する酸は、例えば無機酸
（例えば、塩酸、硫酸、ほう酸等）、有機酸（例えば、
酢酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸等）
であり、好ましくは酢酸、ほう酸等を使用する。該酸の
使用量は、例えば１ないし大過剰、好ましくは１ないし
５０当量である。このときの反応温度は、約０℃ないし
２００℃で、好ましくは約５０℃ないし１５０℃であ
る。このとき使用される溶媒としては、例えばハロゲン
化炭化水素（例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジ
クロロエタン等）、エーテル類（例えば、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン等）、エステル類（例えば、
酢酸メチル、酢酸エチル等）、プロトン性溶媒（例え
ば、メタノール、エタノール等）、非プロトン性極性溶
媒（例えば、アセトニトリル等）等が挙げられる。この
際、水が含まれていてもよい。好ましくは、酸と溶媒を
兼ねた酢酸を使用する。反応時間は、通常１０分ないし
２４時間、好ましくは１ないし１５時間である。
【００４０】このようにして得られる化合物（X'）を加
水分解することにより化合物（X）が得られる。加水分
解は、化合物（X'）を酸または塩基で処理することによ
り行うことができる。即ち、化合物（X'）を酸（例え
ば、塩酸、硝酸、硫酸、臭化水素酸、ヨウ素酸など）ま
たは塩基（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化バリウム、水酸化リチウムなど）の水または
低級アルコール（例えば、メタノール、エタノール、プ
ロパノールなど）溶液中、０ないし＋１００℃、好まし
くは＋１０ないし５０℃で、０.５ないし５０時間好ま
しくは１ないし５時間反応させることによって、行うこ
とができる。酸または塩基の強さとしては、１ないし１
０規定がよく、好ましくは２ないし５規定である。
水分解することにより化合物（X）が得られる。加水分
解は、化合物（X'）を酸または塩基で処理することによ
り行うことができる。即ち、化合物（X'）を酸（例え
ば、塩酸、硝酸、硫酸、臭化水素酸、ヨウ素酸など）ま
たは塩基（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化バリウム、水酸化リチウムなど）の水または
低級アルコール（例えば、メタノール、エタノール、プ
ロパノールなど）溶液中、０ないし＋１００℃、好まし
くは＋１０ないし５０℃で、０.５ないし５０時間好ま
しくは１ないし５時間反応させることによって、行うこ
とができる。酸または塩基の強さとしては、１ないし１
０規定がよく、好ましくは２ないし５規定である。
【００４１】
【発明の実施の形態】以下、実施例により本発明をさら
に詳細に説明するが、本発明は、これらに限定されるも
のではない。
に詳細に説明するが、本発明は、これらに限定されるも
のではない。
実施例１ ２−アミノ−６−フルオロピリジンの合成
【化４８】 ２,６−ジフルオロピリジン３０.０ｇを２８％アンモニ
ア水１５０ml（４.６当量）に溶解して密閉容器内（内
圧１２.１kgcm-2）、１３０℃で５時間攪拌した。これ
を０℃まで冷却し、２時間放置した後グラスフィルター
で粗結晶（板状晶）を濾取し、減圧下４０℃で２時間乾
燥を行った（２４.２ｇ、収率８２.６％）。1 H-NMR(CDCl3, 300 MHz)δ：4.33-4.74(2H, br s), 6.2
0(1H, m), 6.30(1H, m),7.48(1H, m). 元素分析値（C5H5H2Fとして） 計算値：C, 53.57; H, 4.50; N, 24.97; F, 16.95. 実測値：C, 53.44; H, 4.45; N, 24.97; F, 17.25.
ア水１５０ml（４.６当量）に溶解して密閉容器内（内
圧１２.１kgcm-2）、１３０℃で５時間攪拌した。これ
を０℃まで冷却し、２時間放置した後グラスフィルター
で粗結晶（板状晶）を濾取し、減圧下４０℃で２時間乾
燥を行った（２４.２ｇ、収率８２.６％）。1 H-NMR(CDCl3, 300 MHz)δ：4.33-4.74(2H, br s), 6.2
0(1H, m), 6.30(1H, m),7.48(1H, m). 元素分析値（C5H5H2Fとして） 計算値：C, 53.57; H, 4.50; N, 24.97; F, 16.95. 実測値：C, 53.44; H, 4.45; N, 24.97; F, 17.25.
【００４２】実施例２ ６−（２−フルオロピリジニル）チオ酢酸エチルエステ
ルの合成
ルの合成
【化４９】 ２,６−ジフルオロピリジン（５ml）をＤＭＦ（１０m
l）に溶解して炭酸カリウム（１当量）及びチオグリコ
ール酸エチルエステル（１当量）を加え室温で終夜攪拌
した。反応液に酢酸エチル（１００ml×３）及び水（１
００ml）を加え、水層より抽出操作を行った。酢酸エチ
ル溶液を合わせたのち飽和食塩水で洗浄を行った（１０
０ml×３）。無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち、減
圧下で濃縮を行い、油状の６−（２−フルオロピリジニ
ル）チオ酢酸エチルエステル（１０ｇ、収率８４％）を
得た。1 H-NMR(CDCl3, 300 MHz)δ：1.28(3H, t, Ｊ=7.1 Hz),
3.93(2H, s), 4.22(2H,q, Ｊ=7.1 Hz), 6.60(1H, ddd,
Ｊ=2.6, 7.9 and 7.9 Hz), 7.11(1H, ddd, Ｊ=2.3, 7.9
and 7.9 Hz), 7.59(1H, ddd, J=7.9, 7.9 and 7.9 H
z).
l）に溶解して炭酸カリウム（１当量）及びチオグリコ
ール酸エチルエステル（１当量）を加え室温で終夜攪拌
した。反応液に酢酸エチル（１００ml×３）及び水（１
００ml）を加え、水層より抽出操作を行った。酢酸エチ
ル溶液を合わせたのち飽和食塩水で洗浄を行った（１０
０ml×３）。無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち、減
圧下で濃縮を行い、油状の６−（２−フルオロピリジニ
ル）チオ酢酸エチルエステル（１０ｇ、収率８４％）を
得た。1 H-NMR(CDCl3, 300 MHz)δ：1.28(3H, t, Ｊ=7.1 Hz),
3.93(2H, s), 4.22(2H,q, Ｊ=7.1 Hz), 6.60(1H, ddd,
Ｊ=2.6, 7.9 and 7.9 Hz), 7.11(1H, ddd, Ｊ=2.3, 7.9
and 7.9 Hz), 7.59(1H, ddd, J=7.9, 7.9 and 7.9 H
z).
【００４３】実施例３ ２−フルオロ−６−（ホルミルアミノ）ピリジンの合成
【化５０】 ２,６−ジフルオロピリジン０.６３ｇをホルムアミド
０.２mlに溶解して１５０℃にて３時間攪拌した。反応
液を室温まで冷却し、水（１００ml）、酢酸エチル（１
００ml×３）を加え抽出を行った。抽出液を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後濃縮操作を行うと２−フルオロ−６
−（ホルミルアミノ）ピリジン体の白色粉末が析出し
た。粉末をグラスフィルターで濾取し減圧下４０℃で２
時間乾燥を行った（０.４ｇ）。1 H-NMR(CDCl3, 300 MHz)δ：6.64-6.73(128 / 93H, m),
7.72-7.88(1H, m), 8.11(58 /93H, m), 8.51(58 / 93
H, s), 8.77(1H, br s), 9.32(35 / 93H, d, J=10.6 H
z).
０.２mlに溶解して１５０℃にて３時間攪拌した。反応
液を室温まで冷却し、水（１００ml）、酢酸エチル（１
００ml×３）を加え抽出を行った。抽出液を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後濃縮操作を行うと２−フルオロ−６
−（ホルミルアミノ）ピリジン体の白色粉末が析出し
た。粉末をグラスフィルターで濾取し減圧下４０℃で２
時間乾燥を行った（０.４ｇ）。1 H-NMR(CDCl3, 300 MHz)δ：6.64-6.73(128 / 93H, m),
7.72-7.88(1H, m), 8.11(58 /93H, m), 8.51(58 / 93
H, s), 8.77(1H, br s), 9.32(35 / 93H, d, J=10.6 H
z).
【００４４】実施例４ ５−フルオロイミダゾ［１,２−ａ］ピリジンの合成
（１）
（１）
【化５１】 ２−アミノ−６−フルオロピリジン１２ｇを蒸留水１２
０mlに６０℃で完全に溶解させ、４０％クロロアセトア
ルデヒド３５ml（２当量）を加え６０℃で３時間攪拌し
た。反応液を室温まで徐々に冷却し、１Ｎ−ＨＣl 水溶
液（５０ml）と酢酸エチル（１５０ml）を加えた。酢酸
エチル溶液を１Ｎ−ＨＣl 水溶液（１００ml）で抽出
後、水溶液を混合した。この水溶液にＮaＨＣＯ3 を加
え液を中和した（ｐＨ０.３５→７.３０）。中和水溶液
に酢酸エチル：ＴＨＦ＝４：１（１５０ml×３）を加え
生成物を抽出した。合わせた抽出液を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧下で濃縮したところ、５−フルオロ
イミダゾ［１,２−ａ］ピリジンが黒色液体で得られた
（９.５ｇ，収率６５％）。1 H-NMR(CDCl3, 300 MHz)δ：6.52(1H, m), 7.26(1H,
m), 7.49(2H, d, J=9.1 Hz), 7.66(2H, m). ＭＳ（ＳＩＭＳ）, １３７（ＭＨ+）.
０mlに６０℃で完全に溶解させ、４０％クロロアセトア
ルデヒド３５ml（２当量）を加え６０℃で３時間攪拌し
た。反応液を室温まで徐々に冷却し、１Ｎ−ＨＣl 水溶
液（５０ml）と酢酸エチル（１５０ml）を加えた。酢酸
エチル溶液を１Ｎ−ＨＣl 水溶液（１００ml）で抽出
後、水溶液を混合した。この水溶液にＮaＨＣＯ3 を加
え液を中和した（ｐＨ０.３５→７.３０）。中和水溶液
に酢酸エチル：ＴＨＦ＝４：１（１５０ml×３）を加え
生成物を抽出した。合わせた抽出液を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧下で濃縮したところ、５−フルオロ
イミダゾ［１,２−ａ］ピリジンが黒色液体で得られた
（９.５ｇ，収率６５％）。1 H-NMR(CDCl3, 300 MHz)δ：6.52(1H, m), 7.26(1H,
m), 7.49(2H, d, J=9.1 Hz), 7.66(2H, m). ＭＳ（ＳＩＭＳ）, １３７（ＭＨ+）.
【００４５】実施例５ ５−フルオロイミダゾ［１,２−ａ］ピリジンの合成
（２）
（２）
【化５２】 ２−フルオロ−６−ホルミルアミノピリジン５ｇをエタ
ノール５０mlに溶解させ、４０％クロロアセトアルデヒ
ドを２３.５ml（４当量）を加え還流しながら１時間攪
拌した。反応液を室温まで徐々に冷却し１Ｎ−ＨＣl 水
溶液（１００ml）と酢酸エチル（１００ml）を加えた。
酢酸エチル溶液を１Ｎ−ＨＣl 水溶液（１００ml×２）
で抽出後、水溶液を混合した。この水溶液にＮaＨＣＯ3
を加え液を中和した（ｐＨ０.３５→７.３０）。中和
水溶液に酢酸エチル（１００ml×３）を加え生成物を抽
出した。合わせた抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下で濃縮したところ、５−フルオロイミダゾ
［１,２−ａ］ピリジンが黒色液体で得られた（１.５
ｇ，収率３１％）。
ノール５０mlに溶解させ、４０％クロロアセトアルデヒ
ドを２３.５ml（４当量）を加え還流しながら１時間攪
拌した。反応液を室温まで徐々に冷却し１Ｎ−ＨＣl 水
溶液（１００ml）と酢酸エチル（１００ml）を加えた。
酢酸エチル溶液を１Ｎ−ＨＣl 水溶液（１００ml×２）
で抽出後、水溶液を混合した。この水溶液にＮaＨＣＯ3
を加え液を中和した（ｐＨ０.３５→７.３０）。中和
水溶液に酢酸エチル（１００ml×３）を加え生成物を抽
出した。合わせた抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下で濃縮したところ、５−フルオロイミダゾ
［１,２−ａ］ピリジンが黒色液体で得られた（１.５
ｇ，収率３１％）。
【００４６】実施例６ ５−フルオロイミダゾ［１,２−ａ］ピリジン一塩酸塩
の合成
の合成
【化５３】 前記実施例４に記述の黒色液体５−フルオロイミダゾ
［１,２−ａ］ピリジン（６５０mg）に濃塩酸（５ml）
を加え減圧下で濃縮したのちエタノール：ＴＨＦ：酢酸
エチル（１０ml：５０ml：２００ml）から結晶化し、５
−フルオロイミダゾ［１,２−ａ］ピリジン一塩酸塩の
粉末を得た（６９０mg、収率８４％）。1 H-NMR(D2O, 300 MHz)δ：7.24(1H, m), 7.78(1H, d, J
=9.1 Hz), 7.98-8.10(2H, m), 8.15(1H, m).
［１,２−ａ］ピリジン（６５０mg）に濃塩酸（５ml）
を加え減圧下で濃縮したのちエタノール：ＴＨＦ：酢酸
エチル（１０ml：５０ml：２００ml）から結晶化し、５
−フルオロイミダゾ［１,２−ａ］ピリジン一塩酸塩の
粉末を得た（６９０mg、収率８４％）。1 H-NMR(D2O, 300 MHz)δ：7.24(1H, m), 7.78(1H, d, J
=9.1 Hz), 7.98-8.10(2H, m), 8.15(1H, m).
【００４７】実施例７ （イミダゾ［１,２−ａ］ピリジン−５−イルチオ）酢
酸エチルの合成
酸エチルの合成
【化５４】 ５−フルオロイミダゾ［１,２−ａ］ピリジン１.２ｇを
ジメチルホルムアミド１０mlに溶解し、炭酸カリウム
１．８ｇ及びチオグリコール酸エチルエステル１.５ml
を加え室温で４時間攪拌した。反応液に１Ｎ−ＨＣl 水
溶液（１００ml）と酢酸エチル（１００ml）を加えた。
酢酸エチル溶液を１Ｎ−ＨＣl 水溶液（１００ml×２）
で抽出後、水溶液を混合した。この水溶液にＮaＨＣＯ3
を加え液を中和した（ｐＨ０.３５→７.３０）。中和水
溶液に酢酸エチル（１００ml×３）を加え生成物を抽出
した。合わせた抽出液を飽和食塩水（１００ml×３）で
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下で濃縮し
たところ、（イミダゾ［１,２−ａ］ピリジン−５−イ
ルチオ）酢酸エチルが黒色液体で得られた（１.７ｇ、
８０％）。1 H-NMR(CDCl3, 300 MHz)δ：1.17(3H, t, J=7.2 Hz),
3.68(2H, s), 4.12(2H, q, J=7.2 Hz), 7.07(1H, dd, J
=1.0 and 7.0 Hz), 7.16(1H, dd , J=7.0 and 8.9Hz),
7.65(1H, d, J=8.9 Hz), 7.71(1H, s), 7.91(1H, s).
ジメチルホルムアミド１０mlに溶解し、炭酸カリウム
１．８ｇ及びチオグリコール酸エチルエステル１.５ml
を加え室温で４時間攪拌した。反応液に１Ｎ−ＨＣl 水
溶液（１００ml）と酢酸エチル（１００ml）を加えた。
酢酸エチル溶液を１Ｎ−ＨＣl 水溶液（１００ml×２）
で抽出後、水溶液を混合した。この水溶液にＮaＨＣＯ3
を加え液を中和した（ｐＨ０.３５→７.３０）。中和水
溶液に酢酸エチル（１００ml×３）を加え生成物を抽出
した。合わせた抽出液を飽和食塩水（１００ml×３）で
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下で濃縮し
たところ、（イミダゾ［１,２−ａ］ピリジン−５−イ
ルチオ）酢酸エチルが黒色液体で得られた（１.７ｇ、
８０％）。1 H-NMR(CDCl3, 300 MHz)δ：1.17(3H, t, J=7.2 Hz),
3.68(2H, s), 4.12(2H, q, J=7.2 Hz), 7.07(1H, dd, J
=1.0 and 7.0 Hz), 7.16(1H, dd , J=7.0 and 8.9Hz),
7.65(1H, d, J=8.9 Hz), 7.71(1H, s), 7.91(1H, s).
【００４８】実施例８ ５−クロロイミダゾ［１,２−ａ］ピリジン一塩酸塩か
ら（イミダゾ［１,２−ａ］ピリジン−５−イルチオ）
酢酸エチルの合成
ら（イミダゾ［１,２−ａ］ピリジン−５−イルチオ）
酢酸エチルの合成
【化５５】 アルゴン雰囲気下５０ml反応容器中で５−クロロイミダ
ゾ［１,２−ａ］ピリジン一塩酸塩１ｇをジメチルホル
ムアミド１０mlに懸濁させた。反応容器にトリエチルア
ミン１.５mlを加え、１５分間攪拌した後チオグリコー
ル酸エチルエステル２.４mlを加え６０℃で２時間、８
０℃で２時間攪拌を行った。反応液を放冷した後反応液
に１Ｎ−ＨＣl 水溶液（５０ml）と酢酸エチル（１００
ml）を加えた。酢酸エチル層を１Ｎ−ＨＣl 水溶液（５
０ml×２）で抽出した。酸性水溶液を混合し、この水溶
液にＮaＨＣＯ3 を加え液を中和した（ｐＨ０.３５→
７.３０）。中和水溶液に酢酸エチル（５０ml×３）を
加え生成物を抽出した。合わせた抽出液を飽和食塩水
（５０ml×３）で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥、ろ過し減圧下で濃縮したところ、（イミダゾ［１,
２−ａ］ピリジン−５−イルチオ）酢酸エチルが黒色液
体で得られた（１.８ｇ、定量収率６２.１％、ＨＰＬＣ
８７.５％）。
ゾ［１,２−ａ］ピリジン一塩酸塩１ｇをジメチルホル
ムアミド１０mlに懸濁させた。反応容器にトリエチルア
ミン１.５mlを加え、１５分間攪拌した後チオグリコー
ル酸エチルエステル２.４mlを加え６０℃で２時間、８
０℃で２時間攪拌を行った。反応液を放冷した後反応液
に１Ｎ−ＨＣl 水溶液（５０ml）と酢酸エチル（１００
ml）を加えた。酢酸エチル層を１Ｎ−ＨＣl 水溶液（５
０ml×２）で抽出した。酸性水溶液を混合し、この水溶
液にＮaＨＣＯ3 を加え液を中和した（ｐＨ０.３５→
７.３０）。中和水溶液に酢酸エチル（５０ml×３）を
加え生成物を抽出した。合わせた抽出液を飽和食塩水
（５０ml×３）で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥、ろ過し減圧下で濃縮したところ、（イミダゾ［１,
２−ａ］ピリジン−５−イルチオ）酢酸エチルが黒色液
体で得られた（１.８ｇ、定量収率６２.１％、ＨＰＬＣ
８７.５％）。
【００４９】実施例９ ５−ブロモイミダゾ［１,２−ａ］ピリジンから（イミ
ダゾ［１,２−ａ］ピリジン−５−イルチオ）酢酸エチ
ルの合成
ダゾ［１,２−ａ］ピリジン−５−イルチオ）酢酸エチ
ルの合成
【化５６】 アルゴン雰囲気下５０ml反応容器中で５−ブロモイミダ
ゾ［１,２−ａ］ピリジン１０３.２mgをジメチルホルム
アミド１mlに溶解させた。反応容器にトリエチルアミン
０.１１mlを加え、ついでチオグリコール酸エチルエス
テル０.０８５mlを加え室温１.５時間６０℃で２時間、
８０℃で９時間攪拌を行った。反応液を放冷した後反応
液に１Ｎ−ＨＣl 水溶液（５０ml）と酢酸エチル（１０
０ml）を加えた。酢酸エチル層を１Ｎ−ＨＣl 水溶液
（５０ml×２）で抽出した。酸性水溶液を混合し、この
水溶液にＮaＨＣＯ3 を加え液を中和した（ｐＨ０.３５
→７.３０）。中和水溶液に酢酸エチル（５０ml×３）
を加え生成物を抽出した。合わせた抽出液を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥、ろ過し減圧下で濃縮したところ、
（イミダゾ［１,２−ａ］ピリジン−５−イルチオ）酢
酸エチルが黒色液体で得られた（１５０mg、定量収率
５６.９％、ＨＰＬＣ ７９.１％）。
ゾ［１,２−ａ］ピリジン１０３.２mgをジメチルホルム
アミド１mlに溶解させた。反応容器にトリエチルアミン
０.１１mlを加え、ついでチオグリコール酸エチルエス
テル０.０８５mlを加え室温１.５時間６０℃で２時間、
８０℃で９時間攪拌を行った。反応液を放冷した後反応
液に１Ｎ−ＨＣl 水溶液（５０ml）と酢酸エチル（１０
０ml）を加えた。酢酸エチル層を１Ｎ−ＨＣl 水溶液
（５０ml×２）で抽出した。酸性水溶液を混合し、この
水溶液にＮaＨＣＯ3 を加え液を中和した（ｐＨ０.３５
→７.３０）。中和水溶液に酢酸エチル（５０ml×３）
を加え生成物を抽出した。合わせた抽出液を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥、ろ過し減圧下で濃縮したところ、
（イミダゾ［１,２−ａ］ピリジン−５−イルチオ）酢
酸エチルが黒色液体で得られた（１５０mg、定量収率
５６.９％、ＨＰＬＣ ７９.１％）。
【００５０】実施例１０ ２−フルオロ−６−メチルチオピリジンの合成
【化５７】 ２,６−ジフルオロピリジン（１ｇ）をＴＨＦ（１０m
l）に溶解してアルゴン雰囲気下０℃でナトリウムチオ
メトキシド（７３１mg、１.２当量）を加え室温で終夜
攪拌を行った。反応液に酢酸エチル（３０ml×２）及び
水（３０ml）を加え、水層より抽出操作を行った。酢酸
エチル溶液を合わせたのち水で洗浄を行った（２０ml×
２）。無水硫酸ナトリウムで乾燥したのちろ過した後減
圧下で濃縮を行い、淡黄色油状の２−フルオロ−６−メ
チルチオピリジン（１.０９ｇ、収率８８％）を得た。1 H-NMR(CDCl3, 300 MHz)δ：2.55(3H, s), 3.93(2H,
s), 3.57(1H, m), 7.05(1H,m), 7.56(1H, m).
l）に溶解してアルゴン雰囲気下０℃でナトリウムチオ
メトキシド（７３１mg、１.２当量）を加え室温で終夜
攪拌を行った。反応液に酢酸エチル（３０ml×２）及び
水（３０ml）を加え、水層より抽出操作を行った。酢酸
エチル溶液を合わせたのち水で洗浄を行った（２０ml×
２）。無水硫酸ナトリウムで乾燥したのちろ過した後減
圧下で濃縮を行い、淡黄色油状の２−フルオロ−６−メ
チルチオピリジン（１.０９ｇ、収率８８％）を得た。1 H-NMR(CDCl3, 300 MHz)δ：2.55(3H, s), 3.93(2H,
s), 3.57(1H, m), 7.05(1H,m), 7.56(1H, m).
【００５１】実施例１１ ２−アミノ−６−メチルチオピリジンの合成（１）
【化５８】 ２−フルオロ−６−メチルチオピリジン９００mgを２８
％アンモニア水５mlに溶解して密閉容器内（内圧１２.
１kgcm-2）、１５０℃で１時間、１８０℃で６時間攪拌
した。これを室温まで冷却した後酢酸エチル（５０m
l）、水（５０ml）を加えた。水を酢酸エチル（５０m
l）で抽出した合わせた酢酸エチルを水で洗浄した（５
０ml×２）。無水硫酸ナトリウムで乾燥後ろ過し、減圧
下で濃縮し黄色油状物を得た。（一晩放置で結晶化）
（８７３ｍｇ、収率９９％）。1 H-NMR(CDCl3, 300 MHz)δ：2.49(3H, s), 4.40(2H, br
s), 6.18(1H, dd, J=0.5, 8.1 Hz), 6.53(1H, dd, J=
0.5, 7.7 Hz), 7.26(1H, dd, J=7.7, 8.1 Hz).
％アンモニア水５mlに溶解して密閉容器内（内圧１２.
１kgcm-2）、１５０℃で１時間、１８０℃で６時間攪拌
した。これを室温まで冷却した後酢酸エチル（５０m
l）、水（５０ml）を加えた。水を酢酸エチル（５０m
l）で抽出した合わせた酢酸エチルを水で洗浄した（５
０ml×２）。無水硫酸ナトリウムで乾燥後ろ過し、減圧
下で濃縮し黄色油状物を得た。（一晩放置で結晶化）
（８７３ｍｇ、収率９９％）。1 H-NMR(CDCl3, 300 MHz)δ：2.49(3H, s), 4.40(2H, br
s), 6.18(1H, dd, J=0.5, 8.1 Hz), 6.53(1H, dd, J=
0.5, 7.7 Hz), 7.26(1H, dd, J=7.7, 8.1 Hz).
【００５２】実施例１２ ２−アミノ−６−メチルチオピリジンの合成（２）
【化５９】 ２−アミノ−６−フルオロピリジン（３００mg）にナト
リウムチオメトキシド水溶液（１３ml、１０当量）を加
え、懸濁液を８０℃で１時間、１００℃で５時間攪拌し
た。反応液を室温まで冷却した後、酢酸エチル（４０ml
×２）及び水（３０ml）を加え、水層より抽出操作を行
った。酢酸エチル溶液を合わせたのち水で洗浄を行った
（４０ml）。無水硫酸ナトリウムで乾燥した後ろ過し減
圧下で濃縮を行い、油状物（一晩放置で結晶化）（２３
７mg、収率６３％）を得た。
リウムチオメトキシド水溶液（１３ml、１０当量）を加
え、懸濁液を８０℃で１時間、１００℃で５時間攪拌し
た。反応液を室温まで冷却した後、酢酸エチル（４０ml
×２）及び水（３０ml）を加え、水層より抽出操作を行
った。酢酸エチル溶液を合わせたのち水で洗浄を行った
（４０ml）。無水硫酸ナトリウムで乾燥した後ろ過し減
圧下で濃縮を行い、油状物（一晩放置で結晶化）（２３
７mg、収率６３％）を得た。
【００５３】実施例１３ ５−メチルチオイミダゾ［１,２−ａ］ピリジンの合成
【化６０】 ２−アミノ−６−メチルチオピリジン３.０９４ｇをエ
タノール３１mlに溶解し、６０℃に加熱した。４０％ク
ロロアセトアルデヒド１４.６mlを滴下し、１時間攪拌
した。冷却後濃縮し１Ｎ−ＨＣl, ６０ml加え酢酸エチ
ル２０ml×２で洗浄した。水層に２Ｎ−水酸化ナトリウ
ム５０mlを加え酢酸エチル抽出３０ml×３した。酢酸エ
チル層を水洗２０ml×２した。硫酸ナトリウムで乾燥
し、ろ過濃縮した。５.０１ｇ褐色 oil (収率８３.０
％)を得た。1 H-NMR(CDCl3, 300 MHz)δ：2.61(3H, s), 6.76(1H,
m), 7.18(1H, m), 7.55(1H, m), 7.73(2H, m)
タノール３１mlに溶解し、６０℃に加熱した。４０％ク
ロロアセトアルデヒド１４.６mlを滴下し、１時間攪拌
した。冷却後濃縮し１Ｎ−ＨＣl, ６０ml加え酢酸エチ
ル２０ml×２で洗浄した。水層に２Ｎ−水酸化ナトリウ
ム５０mlを加え酢酸エチル抽出３０ml×３した。酢酸エ
チル層を水洗２０ml×２した。硫酸ナトリウムで乾燥
し、ろ過濃縮した。５.０１ｇ褐色 oil (収率８３.０
％)を得た。1 H-NMR(CDCl3, 300 MHz)δ：2.61(3H, s), 6.76(1H,
m), 7.18(1H, m), 7.55(1H, m), 7.73(2H, m)
【００５４】実施例１４ イミダゾ［１,２−ａ］ピリジン−５−チオールの合成
【化６１】 アルゴン雰囲気下キシレン２ml、ヘキサメチルホスホリ
ックトリアミド０.１ml、水素化ナトリウム２４.４mgを
フラスコに入れた。４５℃に加熱しジエチルアミン０.
０６mlを加えた。そのまま２０分攪拌した。５−メチル
チオイミダゾ［１,２−ａ］ピリジン５７mgのキシレン
１ml溶液を加え１５０℃に加熱し２時間３０分攪拌し
た。冷却後、水５ml、１Ｎ−ＨＣl １０mlを加え酢酸
エチル２０mlで洗浄した。水層を２Ｎ−ＮaＯＨでｐＨ
＝８.５にして酢酸エチル抽出、Ｎa2ＳＯ4 乾燥後ろ過
し濃縮した。イミダゾ［１,２−ａ］ピリジン−５−チ
オール（１０mg, １９％）褐色 oil を得た。1 H-NMR(DMSO-d6, 300 MHz)δ： 6.93(2H, m), 7.30(1H,
m), 7.85(1H, m), 8.32(1H, m).
ックトリアミド０.１ml、水素化ナトリウム２４.４mgを
フラスコに入れた。４５℃に加熱しジエチルアミン０.
０６mlを加えた。そのまま２０分攪拌した。５−メチル
チオイミダゾ［１,２−ａ］ピリジン５７mgのキシレン
１ml溶液を加え１５０℃に加熱し２時間３０分攪拌し
た。冷却後、水５ml、１Ｎ−ＨＣl １０mlを加え酢酸
エチル２０mlで洗浄した。水層を２Ｎ−ＮaＯＨでｐＨ
＝８.５にして酢酸エチル抽出、Ｎa2ＳＯ4 乾燥後ろ過
し濃縮した。イミダゾ［１,２−ａ］ピリジン−５−チ
オール（１０mg, １９％）褐色 oil を得た。1 H-NMR(DMSO-d6, 300 MHz)δ： 6.93(2H, m), 7.30(1H,
m), 7.85(1H, m), 8.32(1H, m).
【００５５】実施例１５ 実施例１４で得られたイミダゾ［１,２−ａ］ピリジン
−５−チオール１２０.０２ｇ（０.７９９１モル）、ト
リエチルアミン１３４ml（０.９５９モル）のエタノー
ル５００ml溶液に、室温でブロモ酢酸エチル８８.６ml
（０.７９９モル）を滴下し、室温で２時間撹拌した。
反応液の溶媒を減圧留去した後、残留物に酢酸エチルを
加え、生じた沈殿（主にトリエチルアミン・塩酸塩）を
濾過し、酢酸エチルで洗浄した。集めた濾液の溶媒を減
圧留去して、（イミダゾ［１,２−ａ］ピリジン−５−
イルチオ）酢酸エチルを粗生成物として得た。これを精
製することなく次の反応に用いた。 褐色液体 収量１９９.７ｇ 得られた粗（イミダゾ［１,２−ａ］ピリジン−５−イ
ルチオ）酢酸エチル１９９.７ｇ、ヘキサメチレンテト
ラミン２２４ｇ（１.６０モル）の酢酸５００ml溶液を
９０℃で１日間撹拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチ
ルで２回抽出した。集めた有機層を水で洗浄後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた
固体をジエチルエーテルで洗浄して、５−チア−１,８
ｂ−ジアザアセナフチレン−４−カルボン酸エチルを粗
生成物として得た。これを精製することなく次の反応に
用いた。 黒紫色固体 収量１９３.６９ｇ 得られた５−チア−１,８ｂ−ジアザアセナフチレン−
４−カルボン酸エチル１９３.６９ｇのエタノール１ｌ
溶液に水酸化ナトリウム６２.９ｇ（１.５７モル）の水
５００ml溶液を加え、室温で０．５時間撹拌した。反応
液にｐＨ４〜５になるまで、撹拌しながら濃塩酸約１３
０mlを加え、生じた沈殿を濾過し、エタノール、アセト
ン、ジエチルエーテルで順次洗浄して、５−チア−１,
８ｂ−ジアザアセナフチレン−４−カルボン酸を得た。 橙色固体 収量９６.３ｇ（収率５５％）1 H-NMR(DMSO-d6, 200 MHz)δ：5.97(1H, dd, J=6.6, 1.
2Hz), 6.57-6.73(2H, m), 6.88(1H, s), 7.12(1H, s). IR(KBr)：3413, 1632, 1338 cm-1
−５−チオール１２０.０２ｇ（０.７９９１モル）、ト
リエチルアミン１３４ml（０.９５９モル）のエタノー
ル５００ml溶液に、室温でブロモ酢酸エチル８８.６ml
（０.７９９モル）を滴下し、室温で２時間撹拌した。
反応液の溶媒を減圧留去した後、残留物に酢酸エチルを
加え、生じた沈殿（主にトリエチルアミン・塩酸塩）を
濾過し、酢酸エチルで洗浄した。集めた濾液の溶媒を減
圧留去して、（イミダゾ［１,２−ａ］ピリジン−５−
イルチオ）酢酸エチルを粗生成物として得た。これを精
製することなく次の反応に用いた。 褐色液体 収量１９９.７ｇ 得られた粗（イミダゾ［１,２−ａ］ピリジン−５−イ
ルチオ）酢酸エチル１９９.７ｇ、ヘキサメチレンテト
ラミン２２４ｇ（１.６０モル）の酢酸５００ml溶液を
９０℃で１日間撹拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチ
ルで２回抽出した。集めた有機層を水で洗浄後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた
固体をジエチルエーテルで洗浄して、５−チア−１,８
ｂ−ジアザアセナフチレン−４−カルボン酸エチルを粗
生成物として得た。これを精製することなく次の反応に
用いた。 黒紫色固体 収量１９３.６９ｇ 得られた５−チア−１,８ｂ−ジアザアセナフチレン−
４−カルボン酸エチル１９３.６９ｇのエタノール１ｌ
溶液に水酸化ナトリウム６２.９ｇ（１.５７モル）の水
５００ml溶液を加え、室温で０．５時間撹拌した。反応
液にｐＨ４〜５になるまで、撹拌しながら濃塩酸約１３
０mlを加え、生じた沈殿を濾過し、エタノール、アセト
ン、ジエチルエーテルで順次洗浄して、５−チア−１,
８ｂ−ジアザアセナフチレン−４−カルボン酸を得た。 橙色固体 収量９６.３ｇ（収率５５％）1 H-NMR(DMSO-d6, 200 MHz)δ：5.97(1H, dd, J=6.6, 1.
2Hz), 6.57-6.73(2H, m), 6.88(1H, s), 7.12(1H, s). IR(KBr)：3413, 1632, 1338 cm-1
【００５６】実施例１６ ５−メトキシイミダゾ［１,２−ａ］ピリジンの合成
【化６２】 前記実施例６と同様にして得られた５−フルオロイミダ
ゾ［１,２−ａ］ピリジン一塩酸塩２００ｍｇのジメチ
ルホルムアミド５ml溶液に、ナトリウムメトキシド１７
０ｍｇを加え、室温で１５時間攪拌した。反応液に酢酸
エチルを加え、水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、
濃縮した。残渣にｎ−へキサンを加え、室温で１時間攪
拌した。得られた結晶をろ取、乾燥し、５−メトキシイ
ミダゾ［１,２−ａ］ピリジンを得た（１２０ｍｇ、収
率５５％）。1 H-NMR(CDCl3, 300 MHz)δ：3.95(3H,s), 5.91(1H, d,
J=7.4Hz), 6.91(1H, dd,J=7.4, 9.0Hz), 7.22(1H, d, J
=9.0Hz), 7.56(1H,s), 7.60(1H,s)
ゾ［１,２−ａ］ピリジン一塩酸塩２００ｍｇのジメチ
ルホルムアミド５ml溶液に、ナトリウムメトキシド１７
０ｍｇを加え、室温で１５時間攪拌した。反応液に酢酸
エチルを加え、水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、
濃縮した。残渣にｎ−へキサンを加え、室温で１時間攪
拌した。得られた結晶をろ取、乾燥し、５−メトキシイ
ミダゾ［１,２−ａ］ピリジンを得た（１２０ｍｇ、収
率５５％）。1 H-NMR(CDCl3, 300 MHz)δ：3.95(3H,s), 5.91(1H, d,
J=7.4Hz), 6.91(1H, dd,J=7.4, 9.0Hz), 7.22(1H, d, J
=9.0Hz), 7.56(1H,s), 7.60(1H,s)
【００５７】
【発明の効果】本発明は、チアサイクラジン骨格を有す
るＬＤＬ受容体増加作用などに基づく血中脂質低下薬の
合成中間体およびその新規製造法を提供する。本発明に
よれば、好収率で、環境への悪影響が十分低く、工業的
に有利で効率的な方法でチアサイクラジン系の血中脂質
低下剤を製造することができる。
るＬＤＬ受容体増加作用などに基づく血中脂質低下薬の
合成中間体およびその新規製造法を提供する。本発明に
よれば、好収率で、環境への悪影響が十分低く、工業的
に有利で効率的な方法でチアサイクラジン系の血中脂質
低下剤を製造することができる。
Claims (11)
- 【請求項１】一般式： 【化１】 （式中、ＺはＦ又はＳＲ7（Ｒ7は保護されていてもよい
ＣＨ2ＣＯＯＨ基）を、Ｑ環はさらに置換されていても
よいピリジン環を、Ｒ1は水素原子、置換されていても
よい炭化水素基又はアシル基を、Ｒ3は水素原子、置換
されていてもよい水酸基、置換されていてもよい炭化水
素基又はアシル基を示す。）で表される化合物又はその
塩。 - 【請求項２】一般式： 【化２】 （式中、Ｑ環は請求項１記載と同意義であり、Ｒ2は水
素原子又はアミノ基の保護基を示す。）で表わされる化
合物又はその塩と一般式： 【化３】 で表される化合物又はその塩（式中、Ｒ1及びＲ3は請求
項１記載と同意義であり、Ｘは脱離基を示す。）とを反
応させることを特徴とする一般式： 【化４】 （式中の記号は前記と同意義を示す。）で表される化合
物又はその塩の製造法。 - 【請求項３】一般式： 【化５】 （式中の記号は請求項１記載と同意義を示す。）で表わ
される化合物又はその塩を求核置換反応に付すことを特
徴とする一般式： 【化６】 （式中、Ｑ環、Ｒ1、Ｒ3は請求項１記載と同意義であ
り、Ｒ8は求核性化合物残基を示す。）で表わされる化
合物又はその塩の製造法。 - 【請求項４】Ｒ8がＯＲ4（Ｒ4は水素原子又は置換され
ていてもよい炭化水素基を示す。）である請求項３記載
の製造法。 - 【請求項５】Ｒ8がＳＯnＲ4（ｎは０から２の整数、Ｒ4
は請求項４記載と同意義を示す。）である請求項３記載
の製造法。 - 【請求項６】Ｒ8がＮＲ4Ｒ4a（Ｒ4及びＲ4aは同一また
は相異なって水素原子又は置換されていてもよい炭化水
素基を示す。）である請求項３記載の製造法。 - 【請求項７】Ｒ8が置換されていてもよい炭化水素基で
ある請求項３記載の製造法。 - 【請求項８】Ｒ8が置換されていてもよいホスホン酸残
基である請求項３記載の製造法。 - 【請求項９】一般式： 【化７】 （式中、Ｑ環は請求項１記載と同意義、Ｒ2は請求項２
記載と同意義、Ｒ4は請求項４記載と同意義を示す。）
で表わされる化合物又はその塩と一般式： 【化８】 で表わされる化合物又はその塩（式中、Ｒ1及びＲ3は請
求項１記載と同意義であり、Ｘは請求項２記載と同意義
を示す。）とを反応させることを特徴とする一般式： 【化９】 （式中の記号は前記と同意義を示す。）で表わされる化
合物又はその塩の製造法。 - 【請求項１０】一般式： 【化１０】 （式中、Ｑ環、Ｒ1、Ｒ3は請求項１記載と同意義であ
り、Ｒ6はアルキル基を示す。）で表される化合物又は
その塩を脱アルキル化することを特徴とする一般式： 【化１１】 （式中の記号は前記と同意義を示す）で表される化合物
又はその塩の製造法。 - 【請求項１１】一般式： 【化１２】 （式中、Ｑ環、Ｒ1、Ｒ3は請求項１記載と同意義であ
り、Ｙはハロゲン原子を示す。）で表される化合物又は
その塩と一般式：Ｒ7ＳＨ（Ｒ7は請求項1記載と同意義
を示す。）で表わされる化合物又はその塩とを反応させ
ることを特徴とする一般式： 【化１３】 （式中の記号は前記と同意義を示す。）で表される化合
物またはその塩の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10071829A JPH10324688A (ja) | 1997-03-21 | 1998-03-20 | イミダゾピリジン誘導体およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-68701 | 1997-03-21 | ||
| JP6870197 | 1997-03-21 | ||
| JP10071829A JPH10324688A (ja) | 1997-03-21 | 1998-03-20 | イミダゾピリジン誘導体およびその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10324688A true JPH10324688A (ja) | 1998-12-08 |
Family
ID=26409904
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10071829A Withdrawn JPH10324688A (ja) | 1997-03-21 | 1998-03-20 | イミダゾピリジン誘導体およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10324688A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100813385B1 (ko) | 2005-07-22 | 2008-03-12 | 주식회사 엘지화학 | 이미다졸 유도체 및 이를 이용한 유기전자소자 |
| WO2009139076A1 (en) | 2008-05-14 | 2009-11-19 | Otsuka Pharmaceutical Factory, Inc. | Lipoprotein lipase-activating compositions comprising benzene derivates |
| US9000186B2 (en) | 2011-02-01 | 2015-04-07 | Kyowa Hakko Kirin Co., Ltd. | Ring-fused heterocyclic derivative |
-
1998
- 1998-03-20 JP JP10071829A patent/JPH10324688A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100813385B1 (ko) | 2005-07-22 | 2008-03-12 | 주식회사 엘지화학 | 이미다졸 유도체 및 이를 이용한 유기전자소자 |
| WO2009139076A1 (en) | 2008-05-14 | 2009-11-19 | Otsuka Pharmaceutical Factory, Inc. | Lipoprotein lipase-activating compositions comprising benzene derivates |
| US9000186B2 (en) | 2011-02-01 | 2015-04-07 | Kyowa Hakko Kirin Co., Ltd. | Ring-fused heterocyclic derivative |
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|---|---|---|---|
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