JPH10324929A - 焼結鉱の製造方法 - Google Patents
焼結鉱の製造方法Info
- Publication number
- JPH10324929A JPH10324929A JP14986997A JP14986997A JPH10324929A JP H10324929 A JPH10324929 A JP H10324929A JP 14986997 A JP14986997 A JP 14986997A JP 14986997 A JP14986997 A JP 14986997A JP H10324929 A JPH10324929 A JP H10324929A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- porosity
- pore diameter
- average pore
- raw material
- sinter
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- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 焼結鉱の製造工程において、焼結途中に成品
焼結鉱の還元粉化性および被還元性を迅速に推定し、所
望の還元粉化性または被還元性に制御する。 【解決手段】 ＣＴスキャナー４、５、７で焼結充填層
８の断面を撮像し、断面から原料中のコークスが燃焼し
ている領域を判別し、その領域中の気孔率および平均気
孔径を求める。気孔率および平均気孔径が所定の範囲内
になるように、焼結原料に配合する粉コークス、石灰石
の一方または両方の粒度を調整する。
焼結鉱の還元粉化性および被還元性を迅速に推定し、所
望の還元粉化性または被還元性に制御する。 【解決手段】 ＣＴスキャナー４、５、７で焼結充填層
８の断面を撮像し、断面から原料中のコークスが燃焼し
ている領域を判別し、その領域中の気孔率および平均気
孔径を求める。気孔率および平均気孔径が所定の範囲内
になるように、焼結原料に配合する粉コークス、石灰石
の一方または両方の粒度を調整する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高炉用原料として
用いられる焼結鉱の製造方法、特にその還元粉化性や被
還元性を制御する焼結鉱の製造方法に関する。
用いられる焼結鉱の製造方法、特にその還元粉化性や被
還元性を制御する焼結鉱の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】現在の一般的な焼結鉱製造工程は以下の
通りである。先ず、原料槽から切り出された複数銘柄の
鉄鉱石粉に石灰石、珪砂や蛇紋岩等のシリカ源、粉コー
クスおよび返鉱を配合し、配合原料をドラムミキサーで
加水、造粒した後、ドワイトロイド式焼結機で焼成して
シンターケーキとする。焼結機から排出されたシンター
ケーキは、破砕整粒されて、通常５ｍｍ以下が返鉱とし
て原料に循環される一方、５ｍｍ以上が成品として高炉
工程へ輸送される。
通りである。先ず、原料槽から切り出された複数銘柄の
鉄鉱石粉に石灰石、珪砂や蛇紋岩等のシリカ源、粉コー
クスおよび返鉱を配合し、配合原料をドラムミキサーで
加水、造粒した後、ドワイトロイド式焼結機で焼成して
シンターケーキとする。焼結機から排出されたシンター
ケーキは、破砕整粒されて、通常５ｍｍ以下が返鉱とし
て原料に循環される一方、５ｍｍ以上が成品として高炉
工程へ輸送される。
【０００３】一方、焼結鉱の品質調整は、輸送途中でサ
ンプリングした一部の成品焼結鉱の諸品質を別工程で測
定した結果をもとに、前記焼結鉱製造工程を種々制御す
ることで実施される。具体的に、被還元性の調整におい
ては、ＪＩＳで規定された方法により求めたＲＩ指数、
ないしはＦｅＯ化学分析値を管理指標として、それが目
標範囲内となるように粉コークス配合量や鉱石銘柄の調
整を行い、還元粉化性の調整においては、製銑部会法に
より求めたＲＤＩ指数やＡｌ2 Ｏ3 化学成分を管理指標
として、それが目標範囲内となるように石灰石やシリカ
源の粒度調整または鉱石銘柄の変更を行い、冷間強度の
調整においては、回転強度指数（ＴＩ）ないし落下強度
指数（ＳＩ）を測定した後、それが目標範囲内となるよ
うに粉コークス配合量や鉱石銘柄の調整を行うのが一般
的である。
ンプリングした一部の成品焼結鉱の諸品質を別工程で測
定した結果をもとに、前記焼結鉱製造工程を種々制御す
ることで実施される。具体的に、被還元性の調整におい
ては、ＪＩＳで規定された方法により求めたＲＩ指数、
ないしはＦｅＯ化学分析値を管理指標として、それが目
標範囲内となるように粉コークス配合量や鉱石銘柄の調
整を行い、還元粉化性の調整においては、製銑部会法に
より求めたＲＤＩ指数やＡｌ2 Ｏ3 化学成分を管理指標
として、それが目標範囲内となるように石灰石やシリカ
源の粒度調整または鉱石銘柄の変更を行い、冷間強度の
調整においては、回転強度指数（ＴＩ）ないし落下強度
指数（ＳＩ）を測定した後、それが目標範囲内となるよ
うに粉コークス配合量や鉱石銘柄の調整を行うのが一般
的である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】前記通常の品質測定方
法では、多くても化学成分、ＲＤＩ、冷間強度指数（Ｔ
Ｉ、ＳＩ）で４時間毎、ＲＩでは６時間毎が限界である
ため、迅速な操業調整は難しかった。
法では、多くても化学成分、ＲＤＩ、冷間強度指数（Ｔ
Ｉ、ＳＩ）で４時間毎、ＲＩでは６時間毎が限界である
ため、迅速な操業調整は難しかった。
【０００５】それに対し、特開昭６１−１１０７２６号
公報、特開昭６３−１０１７３８号公報および特開平３
−１０１７３８号公報には、ＣＴスキャナーを利用して
オンラインで得たシンターケーキの断層像から焼結鉱の
焼結度、歩留および生産性を評価する方法が開示されて
いるものの、焼結充填層の断層像から焼結鉱の還元粉化
性および被還元性を評価する方法はまだなかった。
公報、特開昭６３−１０１７３８号公報および特開平３
−１０１７３８号公報には、ＣＴスキャナーを利用して
オンラインで得たシンターケーキの断層像から焼結鉱の
焼結度、歩留および生産性を評価する方法が開示されて
いるものの、焼結充填層の断層像から焼結鉱の還元粉化
性および被還元性を評価する方法はまだなかった。
【０００６】本発明は、焼結充填層のＣＴ画像から焼結
鉱の還元粉化性および被還元性を評価する方法を提供
し、これにより迅速な焼結鉱品質の制御を可能とする。
鉱の還元粉化性および被還元性を評価する方法を提供
し、これにより迅速な焼結鉱品質の制御を可能とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、ＣＴスキャナ
ーで焼結充填層の断面を撮像し、該断面から原料中のコ
ークスが燃焼している領域を判別し、該領域中の気孔率
および平均気孔径を求め、該気孔率および平均気孔径が
所定の範囲内になるように、焼結原料に配合する粉コー
クス、石灰石の一方または両方の粒度を調整することを
特徴とする焼結鉱の製造方法である。
ーで焼結充填層の断面を撮像し、該断面から原料中のコ
ークスが燃焼している領域を判別し、該領域中の気孔率
および平均気孔径を求め、該気孔率および平均気孔径が
所定の範囲内になるように、焼結原料に配合する粉コー
クス、石灰石の一方または両方の粒度を調整することを
特徴とする焼結鉱の製造方法である。
【０００８】本発明は、焼結過程前期の粉コークス燃焼
・消滅にともなう比較的微細な気孔が成品焼結鉱内の微
細気孔として残留し、それが焼結鉱の還元粉化性および
被還元性を強く左右することに着目し、焼結過程でのダ
イナミックなＣＴ測定により微細気孔を検出・定量化し
て品質制御に活用する。
・消滅にともなう比較的微細な気孔が成品焼結鉱内の微
細気孔として残留し、それが焼結鉱の還元粉化性および
被還元性を強く左右することに着目し、焼結過程でのダ
イナミックなＣＴ測定により微細気孔を検出・定量化し
て品質制御に活用する。
【０００９】なお、コークスが燃焼している領域として
は、初期の配合原料状態の像が変化を開始した時点より
３０〜１２０秒経過した範囲の領域とするのがＲＩ、Ｒ
ＤＩとよい関係が得られる点で好ましい。また、その領
域を設定する際の層高方向の位置は、通常４００〜６０
０ｍｍの層厚の場合、上層１００ｍｍおよび下層１００
ｍｍを除いた中間部とするのが良い推定ができる点で好
ましい。気孔率および平均気孔径の所定の範囲とは、個
々の焼結機に課せられている品質管理基準値に対応する
気孔率および平均気孔径の範囲であり、具体的には図
５、６に例示したような関係がある。
は、初期の配合原料状態の像が変化を開始した時点より
３０〜１２０秒経過した範囲の領域とするのがＲＩ、Ｒ
ＤＩとよい関係が得られる点で好ましい。また、その領
域を設定する際の層高方向の位置は、通常４００〜６０
０ｍｍの層厚の場合、上層１００ｍｍおよび下層１００
ｍｍを除いた中間部とするのが良い推定ができる点で好
ましい。気孔率および平均気孔径の所定の範囲とは、個
々の焼結機に課せられている品質管理基準値に対応する
気孔率および平均気孔径の範囲であり、具体的には図
５、６に例示したような関係がある。
【００１０】
【発明の実施の形態】焼結過程の代表的な気孔構造変化
をある層高位置における気孔率、平均気孔径、気孔の形
状係数の時間変化として図４に例示する。これは、ＣＴ
スキャナーによる動的な断層観察から明らかとなったも
のであり、全体は４つの段階からなる。第１段階は、焼
結が開始する前の配合原料の状態であり、気孔率４０％
程度で２〜３ｍｍの微細な球状の気孔群からなる。第２
段階は、粉コークス燃焼途中の昇温期に相当するもの
で、気孔率が５０％程度まで増加しつつ、平均気孔径も
４〜５ｍｍまで増加するが、形状はまだ球に近い状態を
保っている。第３段階は、粉コークスの燃焼が完了した
以降なおも高温に保持されている状態に対応し、気孔率
の変化は少なくなるがさらに気孔径が増加し、その形状
が偏平化する。第４段階は、冷却過程以降焼結の進行が
停止し、最終的なシンターケーキとなった状態である。
をある層高位置における気孔率、平均気孔径、気孔の形
状係数の時間変化として図４に例示する。これは、ＣＴ
スキャナーによる動的な断層観察から明らかとなったも
のであり、全体は４つの段階からなる。第１段階は、焼
結が開始する前の配合原料の状態であり、気孔率４０％
程度で２〜３ｍｍの微細な球状の気孔群からなる。第２
段階は、粉コークス燃焼途中の昇温期に相当するもの
で、気孔率が５０％程度まで増加しつつ、平均気孔径も
４〜５ｍｍまで増加するが、形状はまだ球に近い状態を
保っている。第３段階は、粉コークスの燃焼が完了した
以降なおも高温に保持されている状態に対応し、気孔率
の変化は少なくなるがさらに気孔径が増加し、その形状
が偏平化する。第４段階は、冷却過程以降焼結の進行が
停止し、最終的なシンターケーキとなった状態である。
【００１１】初期（第１段階および第２段階）に形成さ
れる気孔が焼結鉱品質に影響を及ぼす機構を次に説明す
る。焼結鉱に残留する気孔は２〜５ｍｍを境として、そ
れ以上は開気孔、それ以下は閉気孔と考えられている。
品質面では、５ｍｍ以上の開気孔が強度を左右する一
方、０．５ｍｍ以下の閉気孔は被還元性を支配する。従
来は、焼結鉱の生産性・強度・歩留に着目していたた
め、第３段階以降に形成される気孔群が重要であると考
えられており、特開昭６１−１１０７２６号公報、特開
昭６３−１０１７３８号公報記載の方法はシンターケー
キの開気孔を、特開平３−１０１７３８号公報記載の方
法は、第３段階、具体的には１０ｍｍ以上に限定した開
気孔の変化量を対象としたものである。しかし、焼結鉱
の還元性状に着目する場合はそれでは大きすぎ、第２段
階で形成される気孔が重要となる。本発明者らは、この
第２段階で観測される気孔（第２段階では微細ながら開
気孔と推察される）の一部が引き続く第３段階で成品焼
結鉱に取り込まれて閉気孔化しつつ残留すること、かつ
それが下記のように還元粉化性および被還元性とよい関
係を示すことに着目した。そして、第２段階で観測され
る初期の比較的微細な気孔構造をＣＴスキャナーによる
断層像を用いて測定し、ＲＩおよびＲＤＩの制御に活用
する。
れる気孔が焼結鉱品質に影響を及ぼす機構を次に説明す
る。焼結鉱に残留する気孔は２〜５ｍｍを境として、そ
れ以上は開気孔、それ以下は閉気孔と考えられている。
品質面では、５ｍｍ以上の開気孔が強度を左右する一
方、０．５ｍｍ以下の閉気孔は被還元性を支配する。従
来は、焼結鉱の生産性・強度・歩留に着目していたた
め、第３段階以降に形成される気孔群が重要であると考
えられており、特開昭６１−１１０７２６号公報、特開
昭６３−１０１７３８号公報記載の方法はシンターケー
キの開気孔を、特開平３−１０１７３８号公報記載の方
法は、第３段階、具体的には１０ｍｍ以上に限定した開
気孔の変化量を対象としたものである。しかし、焼結鉱
の還元性状に着目する場合はそれでは大きすぎ、第２段
階で形成される気孔が重要となる。本発明者らは、この
第２段階で観測される気孔（第２段階では微細ながら開
気孔と推察される）の一部が引き続く第３段階で成品焼
結鉱に取り込まれて閉気孔化しつつ残留すること、かつ
それが下記のように還元粉化性および被還元性とよい関
係を示すことに着目した。そして、第２段階で観測され
る初期の比較的微細な気孔構造をＣＴスキャナーによる
断層像を用いて測定し、ＲＩおよびＲＤＩの制御に活用
する。
【００１２】第２段階の気孔構造と品質の関係の具体例
を図５、６に示す。図５は、画像変化開始後３０〜１２
０秒の領域の画像をもとに得られた平均気孔径をパラメ
ータとして気孔率とＲＩの関係を示したもので、平均気
孔径が同じであれば気孔率が大きいほど、気孔率が同じ
であれば平均気孔径が小さいほどＲＩは高くなる。ま
た、図６は図５と同様気孔率および平均気孔径とＲＤＩ
の関係を示したもので、傾向はＲＩと同様である。
を図５、６に示す。図５は、画像変化開始後３０〜１２
０秒の領域の画像をもとに得られた平均気孔径をパラメ
ータとして気孔率とＲＩの関係を示したもので、平均気
孔径が同じであれば気孔率が大きいほど、気孔率が同じ
であれば平均気孔径が小さいほどＲＩは高くなる。ま
た、図６は図５と同様気孔率および平均気孔径とＲＤＩ
の関係を示したもので、傾向はＲＩと同様である。
【００１３】石灰石および／または粉コークスの粒度調
整により、第２段階での気孔率および平均気孔径を制御
できる理由を簡単に説明する。粉コークスは第２段階で
まさに燃焼消滅して気孔を形成する物質であり、その燃
焼前の粒度の大小により気孔制御が可能である。また、
石灰石は９００℃付近で熱分解するが、この時幾分収縮
し、微細な気孔を形成すると考えられる。従って、石灰
石の粒度調整によっても、第２段階の気孔率や平均気孔
径を制御できる。
整により、第２段階での気孔率および平均気孔径を制御
できる理由を簡単に説明する。粉コークスは第２段階で
まさに燃焼消滅して気孔を形成する物質であり、その燃
焼前の粒度の大小により気孔制御が可能である。また、
石灰石は９００℃付近で熱分解するが、この時幾分収縮
し、微細な気孔を形成すると考えられる。従って、石灰
石の粒度調整によっても、第２段階の気孔率や平均気孔
径を制御できる。
【００１４】ＣＴスキャナーによる焼結充填層の断面の
撮像方法は、図１に示すように、焼結機パレット１を中
心に回転するＸ線発生器４とＸ線検出器５を対峙して設
置して直接的に撮像する方法があるが、設備的に大掛か
りとなる。従って、図２に示すように、造粒後の配合原
料を焼結機に装入される前に採取し、焼結鍋６で実機と
同等条件で焼成しながらＣＴ装置で垂直断面を撮像して
もよい。粉コークスが燃焼している領域は、原料状態の
像の変化開始後３０〜１２０秒にあたる領域をさす。さ
らに、この領域が充填層の上下１００ｍｍを除いた中間
部分に存在する複数の垂直断面に対してそれぞれ気孔率
および平均気孔径を求め、その平均値を求めるとなおよ
い。また、図３に示すように水平断面像を撮像する構成
の装置も使用可能である。水平断面を撮像する場合の粉
コークスが燃焼している領域に相当する画像は、ある時
間間隔で連続して撮像した水平断面像の内、初期原料状
態の継続した状態から変化が開始した時点より３０〜１
２０秒の間に撮像した水平断面画像の１枚、ないしは数
枚の平均画像を使用すればよい。
撮像方法は、図１に示すように、焼結機パレット１を中
心に回転するＸ線発生器４とＸ線検出器５を対峙して設
置して直接的に撮像する方法があるが、設備的に大掛か
りとなる。従って、図２に示すように、造粒後の配合原
料を焼結機に装入される前に採取し、焼結鍋６で実機と
同等条件で焼成しながらＣＴ装置で垂直断面を撮像して
もよい。粉コークスが燃焼している領域は、原料状態の
像の変化開始後３０〜１２０秒にあたる領域をさす。さ
らに、この領域が充填層の上下１００ｍｍを除いた中間
部分に存在する複数の垂直断面に対してそれぞれ気孔率
および平均気孔径を求め、その平均値を求めるとなおよ
い。また、図３に示すように水平断面像を撮像する構成
の装置も使用可能である。水平断面を撮像する場合の粉
コークスが燃焼している領域に相当する画像は、ある時
間間隔で連続して撮像した水平断面像の内、初期原料状
態の継続した状態から変化が開始した時点より３０〜１
２０秒の間に撮像した水平断面画像の１枚、ないしは数
枚の平均画像を使用すればよい。
【００１５】
【実施例１】ＲＩの管理を粉コークス粒度調整を手段と
して実施した例を示す。実機操業において、ＲＩについ
ては１回／日の頻度の従来法と６回／日の頻度の図３に
示した水平断面を撮像する本発明法とを比較した。ＲＩ
の管理目標値は６６とした。
して実施した例を示す。実機操業において、ＲＩについ
ては１回／日の頻度の従来法と６回／日の頻度の図３に
示した水平断面を撮像する本発明法とを比較した。ＲＩ
の管理目標値は６６とした。
【００１６】具体的には、実機より焼結機パレット装入
手前で採取した配合原料を、高さ５００ｍｍ×直径９０
ｍｍの石英製焼結鍋６を用いて風速０．５Ｎｍ／ｓｅｃ
で吸引焼結しつつ、２０秒間隔で連続的に充填層水平断
面を撮像し、その断層像が初期原料充填状態より変化を
開始してから４０〜１２０秒に撮像した４枚の画像をも
とに平均気孔径および気孔率を求めた。
手前で採取した配合原料を、高さ５００ｍｍ×直径９０
ｍｍの石英製焼結鍋６を用いて風速０．５Ｎｍ／ｓｅｃ
で吸引焼結しつつ、２０秒間隔で連続的に充填層水平断
面を撮像し、その断層像が初期原料充填状態より変化を
開始してから４０〜１２０秒に撮像した４枚の画像をも
とに平均気孔径および気孔率を求めた。
【００１７】従来法では、ＲＩの実測結果と目標値を比
較し、ＲＩ値が目標値より高い場合は粉コークスの粒度
を粗くし、逆に低い場合は細かくして調整した。一方、
本発明法では、ＣＴスキャナーにより求めた平均気孔径
と気孔率から図５に従って推定したＲＩ値が目標値より
高い場合は粉コークス粒度を粗くし、逆に低い場合は細
かくして調整した。ＲＩ評価時の平均気孔径および気孔
率の実績は、それぞれ２．５±０．３ｍｍおよび３５±
３％の範囲で変化した。
較し、ＲＩ値が目標値より高い場合は粉コークスの粒度
を粗くし、逆に低い場合は細かくして調整した。一方、
本発明法では、ＣＴスキャナーにより求めた平均気孔径
と気孔率から図５に従って推定したＲＩ値が目標値より
高い場合は粉コークス粒度を粗くし、逆に低い場合は細
かくして調整した。ＲＩ評価時の平均気孔径および気孔
率の実績は、それぞれ２．５±０．３ｍｍおよび３５±
３％の範囲で変化した。
【００１８】図７に示すＲＩの変動推移比較の結果、測
定頻度が増加して調整アクションが増加したことで、品
質管理工程能力が向上する結果を得た。
定頻度が増加して調整アクションが増加したことで、品
質管理工程能力が向上する結果を得た。
【００１９】
【実施例２】ＲＤＩの管理を石灰石粒度調整を手段とし
て実施した例を示す。実機操業において、６回／日の頻
度の従来法と６回／日の頻度の図３に示した水平断面を
撮像する本発明の方法を比較した。ＲＤＩの管理目標値
はいずれも３５とした。
て実施した例を示す。実機操業において、６回／日の頻
度の従来法と６回／日の頻度の図３に示した水平断面を
撮像する本発明の方法を比較した。ＲＤＩの管理目標値
はいずれも３５とした。
【００２０】従来法では、ＲＤＩの実績結果と目標値と
を比較し、ＲＤＩ値が目標値より高い場合は石灰石の粒
度を粗くし、逆に低い場合は細かくして調整した。一
方、本発明法では、ＣＴスキャナーにより求めた平均気
孔径と気孔率から図６に従って推定したＲＤＩ値が目標
値より高い場合は石灰石の粒度を粗くし、逆に低い場合
は細かくして調整した。ＲＤＩ評価時の平均気孔径およ
び気孔率の実績は、それぞれ２．２±０．３ｍｍおよび
３３±３％の範囲で変化した。
を比較し、ＲＤＩ値が目標値より高い場合は石灰石の粒
度を粗くし、逆に低い場合は細かくして調整した。一
方、本発明法では、ＣＴスキャナーにより求めた平均気
孔径と気孔率から図６に従って推定したＲＤＩ値が目標
値より高い場合は石灰石の粒度を粗くし、逆に低い場合
は細かくして調整した。ＲＤＩ評価時の平均気孔径およ
び気孔率の実績は、それぞれ２．２±０．３ｍｍおよび
３３±３％の範囲で変化した。
【００２１】図７に示すＲＤＩの変動推移比較の結果、
結果判明時間遅れが従来法では半日ほどあったものが本
発明法では解消したため、品質管理工程能力が向上する
結果を得た。
結果判明時間遅れが従来法では半日ほどあったものが本
発明法では解消したため、品質管理工程能力が向上する
結果を得た。
【００２２】
【発明の効果】本発明によれば、焼結鉱の品質を極めて
迅速に予測できることにより、適切な操業アクションが
適時行える結果、品質の工程管理能力が格段に向上す
る。
迅速に予測できることにより、適切な操業アクションが
適時行える結果、品質の工程管理能力が格段に向上す
る。
【図１】本発明の焼結機ストランド上でＣＴスキャナー
により焼結充填層の垂直断面を撮像する方法を示す図で
ある。
により焼結充填層の垂直断面を撮像する方法を示す図で
ある。
【図２】本発明のオフラインでＣＴスキャナーにより焼
結充填層の垂直断面を撮像する方法を示す図である。
結充填層の垂直断面を撮像する方法を示す図である。
【図３】本発明のオフラインでＣＴスキャナーにより焼
結充填層の水平断面を撮像する方法を示す図である。
結充填層の水平断面を撮像する方法を示す図である。
【図４】焼結過程における気孔構造変化の概念を示す図
である。
である。
【図５】第２段階における気孔構造とＪＩＳ−ＲＩとの
関係を示す図である。
関係を示す図である。
【図６】第２段階における気孔構造とＲＤＩとの関係を
示す図である。
示す図である。
【図７】従来法と本発明法によるＪＩＳ−ＲＩおよびＲ
ＤＩの変動幅の比較を示す図である。
ＤＩの変動幅の比較を示す図である。
１ 焼結機パレット ２ ウインドボックス ３ ウインドレグ ４ Ｘ線発生器 ５ Ｘ線検出器 ６ 焼結鍋 ７ 回転ステージ ８ 焼結充填層
Claims (1)
- 【請求項１】 ＣＴスキャナーで焼結充填層の断面を撮
像し、該断面から原料中のコークスが燃焼している領域
を判別し、該領域中の気孔率および平均気孔径を求め、
該気孔率および平均気孔径が所定の範囲内になるよう
に、焼結原料に配合する粉コークス、石灰石の一方また
は両方の粒度を調整することを特徴とする焼結鉱の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14986997A JPH10324929A (ja) | 1997-05-26 | 1997-05-26 | 焼結鉱の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14986997A JPH10324929A (ja) | 1997-05-26 | 1997-05-26 | 焼結鉱の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10324929A true JPH10324929A (ja) | 1998-12-08 |
Family
ID=15484439
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14986997A Withdrawn JPH10324929A (ja) | 1997-05-26 | 1997-05-26 | 焼結鉱の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10324929A (ja) |
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