JPH10324932A - 高純度セレンの製造方法及び製造装置 - Google Patents
高純度セレンの製造方法及び製造装置Info
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- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 58
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 57
- 239000011669 selenium Substances 0.000 title claims abstract description 57
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims abstract description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 10
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 claims description 4
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 claims description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- 238000005266 casting Methods 0.000 abstract description 8
- 239000010453 quartz Substances 0.000 abstract description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 6
- JPJALAQPGMAKDF-UHFFFAOYSA-N selenium dioxide Chemical compound O=[Se]=O JPJALAQPGMAKDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 5
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 4
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 4
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 3
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 3
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical compound O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 2
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 108010085603 SFLLRNPND Proteins 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 229940082569 selenite Drugs 0.000 description 1
- MCAHWIHFGHIESP-UHFFFAOYSA-L selenite(2-) Chemical compound [O-][Se]([O-])=O MCAHWIHFGHIESP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
困難であったアルミニウム、ケイ素、鉄等を分離できる
新規な精製手段を開発し、純度99.99%程度の市販
金属セレン等から純度99.9999%以上の高純度セ
レンを製造できる方法と装置を提供する。 【解決手段】 純度99.99%の市販金属セレンを原
料るつぼ5に入れ、回収鋳型6中央部に設置した吸入台
9の上に固定して電気炉1内に装入する。原料るつぼ5
と回収鋳型6は石英製外筒3と内筒4で二重に封体され
ており、真空排気装置2によって内筒4内を真空度1×
10-2Torrとする共に炉温を300℃一定で、5時
間精製する。セレンは内筒4の面に接触して次第に凝縮
し、粒状になってるつぼ5の下に設けた回収鋳型に落下
する。
Description
程度の市販金属セレン等から真空蒸留精製により、純度
99.9999%以上の高純度セレンを製造する方法と
その装置に関する。
を陽極として銅の電解精製を行い、セレンは金、銀、鉛
等と共に沈澱物となって電解槽の底部に沈む。この沈澱
物を水洗・乾燥させた後、円筒横型回転炉に入れ、空気
を吹き込みながら加熱して700〜750℃で焙焼し、
二酸化セレンのガスを得、そのガスを昇華室に入れて二
酸化セレンの白色針状晶を得ている。
ずるダストの中にも数十%のセレンを含むこともあるの
で、これらを原料として亜セレン酸溶液を作り、これに
精製した二酸化イオウガスを通じ、還元させてセレンを
作る方法もある。
ンを再結晶法あるいはイオン交換樹脂法で精製して9
9.995%の純度を有する金属セレンが市販されてい
る。
ン交換樹脂法によって得られる金属セレンの純度は9
9.9〜99.995%程度であり、不純物として含有
されるAl、Si、Feがいずれも1ppm 以上含まれて
いた。
精製する手段もあるが、精製後の切断加工の必要性と汚
染の危険があることから、精製時の処理量の制約や精製
セレンをインゴットにする場合には鋳造時の不純物の混
入による汚染の問題があった。
融法ではセレンとの完全分離が困難であったAl、S
i、Fe等を分離できる新規な精製手段を開発すること
によって純度99.9999%以上の高純度セレンを直
接インゴット状で製造できる製造方法と製造装置を提供
することにある。
達成すべく鋭意研究の結果、外筒と内筒からなる二重の
石英筒で封体した内部に原料セレンが装入される原料る
つぼとこれに連接して設けられる回収鋳型を配置して真
空蒸留を行い、蒸発したセレンを石英筒面に凝縮させ、
これを回収鋳型に回収するようにすれば、従来よりも簡
易な構造でしかも精製から鋳造までを一回の連続工程で
処理できる上、汚染が少ないので、含有する不純物が1
ppm 未満の純度99.9999%以上の高純度セレンが
得られることを見いだし本発明に到達した。
空溶解して高純度セレンを製造する方法において、原料
るつぼに装入された原料セレンを温度300℃以上、真
空度1×10-2Torr以下で真空蒸留することによ
り、蒸発させたセレンを原料るつぼに連接する回収鋳型
に回収してインゴットとし、不純物として金属の含有量
がそれぞれ0.1ppm 以下で、かつガス成分以外の不純
物量が1ppm 未満である純度99.9999%以上の高
純度セレンを得ることを特徴とする高純度セレンの製造
方法;第2に、真空精製部と、これを加熱する電気炉を
備えた加熱部とを主要構成部とする高純度セレンの製造
装置であって、上記真空精製部がそれぞれ脱着可能に連
接する原料るつぼと回収鋳型、冷却トラップおよび水冷
フランジとからなり、かつ上記原料るつぼと回収鋳型が
耐熱材からなる二重の筒で封体されていることを特徴と
する高純度セレンの製造装置を提供するものである。
は、一例として図1の概略図に示す構造とすることがで
きる。すなわち電気炉1内に配置された石英製外筒3内
を真空排気装置2により真空排気を行えるよう、上記外
筒3内に原料るつぼ5、回収鋳型6、鋳型中央部に設け
た吸入台9、吸入台下の冷却トラップ8、これを冷却す
る水冷フランジ7を脱着可能に連接し、さらに原料るつ
ぼ上面に石英製内筒4を設けて外筒3と共に二重構造と
なって封体されている。
ン(純度99.99%程度)を原料るつぼ5に適量入
れ、電気炉で300℃以上、好ましくは300〜500
℃の温度範囲にすると共に、真空度を1×10-2Tor
r以下、好ましくは1×10-2〜1×10-3Torrの
範囲に制御すると原料るつぼ内の原料セレンが融解・蒸
発し、該るつぼ5と上部の内筒4との間に落下して、る
つぼ底部に連接する回収鋳型6の中に回収される。
セレンより蒸気圧の低いナトリウム、アルミニウム、ケ
イ素、カルシウム、鉄、ニッケル、銅、カドミウム、ア
ンチモン、テルル、鉛、ビスマスは原料るつぼ5内に残
留し、逆に蒸気圧の高い硫黄、塩素、カリウムは凝縮す
ることなく気体状で真空排気装置2によってるつぼ底部
に設けられた吸入孔を通って冷却トラップ8内に吸収さ
れ、水冷フランジ7の働きにより冷却されて固化する。
形状を精製後の次工程で用いる鋳型の形状にしてあるた
め、従来法のように精製されたセレンを再度鋳造する必
要はなく、このため汚染の少ない高純度セレン製品を精
製・鋳造の工程を区別することなく一回の処理で製造で
きる。
ロー放電質量分析装置で分析したところ、ナトリウム、
アルミニウム、ケイ素、硫黄、塩素、カリウム、カルシ
ウム、鉄、ニッケル、銅、カドミウム、アンチモン、テ
ルル、鉛、ビスマスがそれぞれ0.1ppm 以下で、かつ
ガス成分以外の不純物が1ppm 未満の値を示していた。
素をNa、Al、Si、S、Cl、K、Ca、Fe、N
i、Cu、Cd、Sb、Te、Pb、Biとし、グロー
放電質量分析装置により定量分析を行い、得られた不純
物含有量の総和を100%から差し引いて得られた数値
が99.9999%以上の場合をもって純度99.99
99%以上の高純度セレンと定義した。
るが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではな
い。
下説明する。先ず、純度99.99%の市販金属セレン
100gを原料るつぼ5に入れ、回収鋳型6中央部に設
置した吸入台9上に固定した後、図1に示すように電気
炉1内に装入した。
面には、石英製の外筒3と内筒4とが設けられ、真空排
気装置2によって内筒4内部が真空状態となる構造であ
る。
を1×10-2Torrとすると共に炉温を300℃一定
で5時間精製したところ、原料中のセレンはいったん蒸
発した後、原料るつぼ5上の内筒4の面に接触して次第
に凝縮し始め、粒状になって原料るつぼ5の底部に設け
た回収鋳型6の中に落下した。この粒状セレン99gを
回収し、その品位を表1に示した。
状のまま排気装置で吸引され、吸入台9の上部に設けら
れた吸入孔を通過して冷却トラップ8上で固化した。こ
の固化物を分析したところ、その主成分は硫黄、塩素、
カリウムなどいずれも蒸気圧の高い物質であることがわ
かった。併せて原料るつぼ内に残っている金属を分析し
たところ、その主成分はナトリウム、アルミニウム、ケ
イ素、カルシウム、鉄、ニッケル、銅、カドミウム、ア
ンチモン、テルル、鉛、ビスマスなどの蒸気圧の低い物
質であることがわかった。
gを原料るつぼ5に入れて、真空度を1×10-3Tor
r、加熱温度を450℃として実施例1と同様に精製を
行い、精製セレン99gを得た。この品位を表1に併せ
て示した。
セレンの品位を表1に併せて示した。
造装置によれば、原料るつぼに溶解したセレンは蒸発し
て内筒表面に凝縮し、鋳型に回収されてインゴットを形
成するので、従来必要とされていた鋳造や後処理等の複
雑な工程に代わって、本発明の簡易な構造の製造装置を
用いることにより、精製から鋳造までの一連の工程を汚
染の危険が少ない一回の工程で行なえるようになり、従
来よりも分離精度が高くしかもコスト低減可能な精製手
段を提供できる。
示す概略断面図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 セレン原料を真空溶解して高純度セレン
を製造する方法において、原料るつぼに装入された原料
セレンを温度300℃以上、真空度1×10-2Torr
以下で真空蒸留することにより、蒸発させたセレンを原
料るつぼに連接する回収鋳型に回収してインゴットと
し、不純物としての金属の含有量がそれぞれ0.1ppm
以下で、かつガス成分以外の不純物量が1ppm 未満であ
る純度99.9999%以上の高純度セレンを得ること
を特徴とする高純度セレンの製造方法。 - 【請求項2】 真空精製部と、これを加熱する電気炉を
備えた加熱部とを主要構成部とする高純度セレンの製造
装置であって、上記真空精製部がそれぞれ脱着可能に連
接する原料るつぼ、回収鋳型、冷却トラップおよび水冷
フランジからなり、かつ上記原料るつぼと回収鋳型が耐
熱材からなる二重の筒で封体されていることを特徴とす
る高純度セレンの製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15150897A JP3838744B2 (ja) | 1997-05-26 | 1997-05-26 | 高純度セレンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15150897A JP3838744B2 (ja) | 1997-05-26 | 1997-05-26 | 高純度セレンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10324932A true JPH10324932A (ja) | 1998-12-08 |
| JP3838744B2 JP3838744B2 (ja) | 2006-10-25 |
Family
ID=15520051
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15150897A Expired - Fee Related JP3838744B2 (ja) | 1997-05-26 | 1997-05-26 | 高純度セレンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3838744B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113548647A (zh) * | 2021-07-16 | 2021-10-26 | 昆明理工大学 | 一种深度脱除粗硒中砷和汞的方法 |
| WO2023130593A1 (zh) * | 2022-01-05 | 2023-07-13 | 昆明理工大学 | 一种粗硒渣提纯装置及方法 |
| JP2024528751A (ja) * | 2022-01-26 | 2024-07-31 | 昆明理工大学 | セレン残留物の真空精製装置および方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4957909B2 (ja) * | 2007-12-25 | 2012-06-20 | 三菱マテリアル株式会社 | セレンの蒸留方法および蒸留装置 |
| JP5024567B2 (ja) * | 2008-03-29 | 2012-09-12 | 三菱マテリアル株式会社 | 結晶質セレン粉末とその製造方法 |
-
1997
- 1997-05-26 JP JP15150897A patent/JP3838744B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113548647A (zh) * | 2021-07-16 | 2021-10-26 | 昆明理工大学 | 一种深度脱除粗硒中砷和汞的方法 |
| WO2023130593A1 (zh) * | 2022-01-05 | 2023-07-13 | 昆明理工大学 | 一种粗硒渣提纯装置及方法 |
| JP2024528751A (ja) * | 2022-01-26 | 2024-07-31 | 昆明理工大学 | セレン残留物の真空精製装置および方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3838744B2 (ja) | 2006-10-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040114 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20040206 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20040318 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051018 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051219 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060131 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060403 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132 Effective date: 20060516 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060710 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060801 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060801 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090811 Year of fee payment: 3 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090811 Year of fee payment: 3 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090811 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100811 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110811 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110811 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120811 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120811 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130811 Year of fee payment: 7 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |