JPH10334845A - 電子ビーム装置及びその調整方法 - Google Patents
電子ビーム装置及びその調整方法Info
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- JPH10334845A JPH10334845A JP9143946A JP14394697A JPH10334845A JP H10334845 A JPH10334845 A JP H10334845A JP 9143946 A JP9143946 A JP 9143946A JP 14394697 A JP14394697 A JP 14394697A JP H10334845 A JPH10334845 A JP H10334845A
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- correction signal
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Abstract
(57)【要約】
【課題】小型かつ簡単な構成でＳＥＭ像の揺れを効果的
に低減する。 【解決手段】周期的な補正信号を偏向器２０に供給し、
電子ビーム１２を偏向器２０に通して試料１６上のパタ
ーンエッジ部に照射し、照射点から放出された２次電子
１８を検出し、２次電子検出波形の周波数スペクトルを
取得し、補正信号の周波数成分の周波数を、該周波数ス
ペクトルのピーク位置に一致させ、２次電子検出波形の
周波数成分の振幅が極小になるように、該補正信号の、
該周波数成分と略同一周波数の周波数成分の位相及び振
幅を調整する。他の方法では、ＳＥＭ像の画素値を一軸
上に投影加算し、その投影加算波形の微分波形のピーク
値絶対値が最大になるように該補正信号の周波数成分の
位相及び振幅を調整する。
に低減する。 【解決手段】周期的な補正信号を偏向器２０に供給し、
電子ビーム１２を偏向器２０に通して試料１６上のパタ
ーンエッジ部に照射し、照射点から放出された２次電子
１８を検出し、２次電子検出波形の周波数スペクトルを
取得し、補正信号の周波数成分の周波数を、該周波数ス
ペクトルのピーク位置に一致させ、２次電子検出波形の
周波数成分の振幅が極小になるように、該補正信号の、
該周波数成分と略同一周波数の周波数成分の位相及び振
幅を調整する。他の方法では、ＳＥＭ像の画素値を一軸
上に投影加算し、その投影加算波形の微分波形のピーク
値絶対値が最大になるように該補正信号の周波数成分の
位相及び振幅を調整する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、走査型電子顕微鏡
（ＳＥＭ）やＳＥＭ像を取得できる電子ビームテスタ及
び電子ビーム露光装置等の電子ビーム装置及びその調整
方法に関する。
（ＳＥＭ）やＳＥＭ像を取得できる電子ビームテスタ及
び電子ビーム露光装置等の電子ビーム装置及びその調整
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】図９に示すＳＥＭ像１は、１０００倍の
配線パターンであり、倍率をさらに１０倍上げてＳＥＭ
像１中の点線で囲まれた範囲を観察すると、ＳＥＭ像２
が揺れる。この揺れは、真空ポンプの機械的振動、電子
ビーム装置鏡筒の共振、真空ポンプや冷却ファンのモー
タから発生する電波等の浮遊電磁界、及び、電子銃やレ
ンズの電源回路に商用電源周波数のノイズが乗ること等
の外乱に起因している。浮遊電磁界については、特に低
周波浮遊磁界をシールドすることは容易でない。電子ビ
ーム装置では、その分解能が高くなるにつれ、このよう
な外乱によるＳＥＭ像の揺れがより一層問題となってく
る。
配線パターンであり、倍率をさらに１０倍上げてＳＥＭ
像１中の点線で囲まれた範囲を観察すると、ＳＥＭ像２
が揺れる。この揺れは、真空ポンプの機械的振動、電子
ビーム装置鏡筒の共振、真空ポンプや冷却ファンのモー
タから発生する電波等の浮遊電磁界、及び、電子銃やレ
ンズの電源回路に商用電源周波数のノイズが乗ること等
の外乱に起因している。浮遊電磁界については、特に低
周波浮遊磁界をシールドすることは容易でない。電子ビ
ーム装置では、その分解能が高くなるにつれ、このよう
な外乱によるＳＥＭ像の揺れがより一層問題となってく
る。
【０００３】従来では、浮遊磁界に対しては、電子ビー
ム鏡筒の周囲あるいは装置全体を磁気シールド板で覆っ
たり、磁気シールド板を備えた装置専用の部屋を用意す
るなどのパッシブな対策や、鏡筒近傍の磁界を検出し装
置全体を覆ったヘルムホルツコイルに検出信号をフイー
ドバックしてキャンセル用磁界を発生させるアクティブ
な制御方法などが取られている．また、機械振動に対し
ては、固有振動数が数Ｈｚの除振台で、床から電子ビー
ム装置への振動伝達を抑制するパッシブな対策や、試料
の揺れをレーザー干渉計で検出し電子ビームにフイード
バックするアクティブな制御方法が取られてきた。
ム鏡筒の周囲あるいは装置全体を磁気シールド板で覆っ
たり、磁気シールド板を備えた装置専用の部屋を用意す
るなどのパッシブな対策や、鏡筒近傍の磁界を検出し装
置全体を覆ったヘルムホルツコイルに検出信号をフイー
ドバックしてキャンセル用磁界を発生させるアクティブ
な制御方法などが取られている．また、機械振動に対し
ては、固有振動数が数Ｈｚの除振台で、床から電子ビー
ム装置への振動伝達を抑制するパッシブな対策や、試料
の揺れをレーザー干渉計で検出し電子ビームにフイード
バックするアクティブな制御方法が取られてきた。
【０００４】また、商用電源周波数成分については、電
子ビーム走査信号に商用電源からの正弦波を重畳し、こ
の正弦波の位相及び振幅を調整して、電子ビームの揺れ
を補正する方法が用いられていた。
子ビーム走査信号に商用電源からの正弦波を重畳し、こ
の正弦波の位相及び振幅を調整して、電子ビームの揺れ
を補正する方法が用いられていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、浮遊磁界に対
する磁気シールド板はその効果を上げていこうとすると
その厚みを増すか幾重にも覆う必要があるので、装置の
小型化が妨げられる。ヘルムホルツコイルを用いた方法
は効果的であるが、高価である。また機械振動について
は、大きな除振装置が装置の小型化を妨げる。また、こ
のような方法は浮遊磁界と機械的振動とに分けて対処し
なくてはならないので、構成が複雑になる。
する磁気シールド板はその効果を上げていこうとすると
その厚みを増すか幾重にも覆う必要があるので、装置の
小型化が妨げられる。ヘルムホルツコイルを用いた方法
は効果的であるが、高価である。また機械振動について
は、大きな除振装置が装置の小型化を妨げる。また、こ
のような方法は浮遊磁界と機械的振動とに分けて対処し
なくてはならないので、構成が複雑になる。
【０００６】また、正弦波重畳法は、商用電源周波数成
分のみについてしか揺れ低減効果が得られなかった。本
発明の目的は、このような問題点に鑑み、小型かつ簡単
な構成でＳＥＭ像の揺れを効果的に低減することが可能
な電子ビーム装置及びその調整方法を提供することにあ
る。
分のみについてしか揺れ低減効果が得られなかった。本
発明の目的は、このような問題点に鑑み、小型かつ簡単
な構成でＳＥＭ像の揺れを効果的に低減することが可能
な電子ビーム装置及びその調整方法を提供することにあ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段及びその作用効果】請求項
１では、 ＳＥＭ像の揺れを低減させる電子ビーム装置
調整方法であって、周期的な補正信号を偏向器に供給
し、電子ビームを該偏向器に通して試料上パターンエッ
ジ部に照射し、照射点から放出された２次電子を検出
し、２次電子検出波形の周波数成分の振幅が極小になる
ように、該補正信号の、該周波数成分と略同一周波数の
周波数成分の位相及び振幅を調整する。
１では、 ＳＥＭ像の揺れを低減させる電子ビーム装置
調整方法であって、周期的な補正信号を偏向器に供給
し、電子ビームを該偏向器に通して試料上パターンエッ
ジ部に照射し、照射点から放出された２次電子を検出
し、２次電子検出波形の周波数成分の振幅が極小になる
ように、該補正信号の、該周波数成分と略同一周波数の
周波数成分の位相及び振幅を調整する。
【０００８】この電子ビーム装置調整方法によれば、各
種原因によるＳＥＭ像の揺れを、小型かつ簡単な構成で
効果的に、しかも容易に低減することができるという効
果を奏し、電子ビーム装置の解像度向上に寄与するとこ
ろが大きい。請求項２の電子ビーム装置調整方法では、
請求項１において、上記２次電子検出波形の周波数スペ
クトルを取得し、上記補正信号の周波数成分の周波数
を、該周波数スペクトルのピーク位置に略一致させる。
種原因によるＳＥＭ像の揺れを、小型かつ簡単な構成で
効果的に、しかも容易に低減することができるという効
果を奏し、電子ビーム装置の解像度向上に寄与するとこ
ろが大きい。請求項２の電子ビーム装置調整方法では、
請求項１において、上記２次電子検出波形の周波数スペ
クトルを取得し、上記補正信号の周波数成分の周波数
を、該周波数スペクトルのピーク位置に略一致させる。
【０００９】この電子ビーム装置調整方法によれば、補
正信号の周波数成分の周波数調整をより容易迅速かつ効
果的に行うことができるという効果を奏する。請求項３
の電子ビーム装置調整方法では、請求項１又は２におい
て、上記試料のＳＥＭ像を取得し、該ＳＥＭ像から上記
試料上パターンエッジ部を決定する。請求項４では、Ｓ
ＥＭ像の揺れを低減させる電子ビーム装置調整方法であ
って、周期的な補正信号を偏向器に供給し、電子ビーム
を該偏向器に通して試料上パターンに照射し、照射点を
走査させて試料のＳＥＭ像を取得し、該ＳＥＭ像の画素
値を一軸上に投影加算し、その投影加算波形のエッジの
傾斜の絶対値が略最大になるように該補正信号の周波数
成分の位相及び振幅を調整する。
正信号の周波数成分の周波数調整をより容易迅速かつ効
果的に行うことができるという効果を奏する。請求項３
の電子ビーム装置調整方法では、請求項１又は２におい
て、上記試料のＳＥＭ像を取得し、該ＳＥＭ像から上記
試料上パターンエッジ部を決定する。請求項４では、Ｓ
ＥＭ像の揺れを低減させる電子ビーム装置調整方法であ
って、周期的な補正信号を偏向器に供給し、電子ビーム
を該偏向器に通して試料上パターンに照射し、照射点を
走査させて試料のＳＥＭ像を取得し、該ＳＥＭ像の画素
値を一軸上に投影加算し、その投影加算波形のエッジの
傾斜の絶対値が略最大になるように該補正信号の周波数
成分の位相及び振幅を調整する。
【００１０】この電子ビーム装置調整方法によっても、
上記請求項１の効果が得られる。請求項５の電子ビーム
装置調整方法では、請求項４において、上記投影加算波
形の微分波形を算出し、該微分波形のピーク値の絶対値
が略最大になるようにすることにより、該投影加算波形
のエッジの傾斜の絶対値が略最大になるようにする。
上記請求項１の効果が得られる。請求項５の電子ビーム
装置調整方法では、請求項４において、上記投影加算波
形の微分波形を算出し、該微分波形のピーク値の絶対値
が略最大になるようにすることにより、該投影加算波形
のエッジの傾斜の絶対値が略最大になるようにする。
【００１１】請求項６の電子ビーム装置調整方法では、
請求項４又は５において、上記電子ビームを試料上パタ
ーンエッジ部に照射し、照射点から放出された２次電子
の検出波形の周波数スペクトルを取得し、上記補正信号
の周波数成分の周波数を、該周波数スペクトルのピーク
位置に略一致させる。
請求項４又は５において、上記電子ビームを試料上パタ
ーンエッジ部に照射し、照射点から放出された２次電子
の検出波形の周波数スペクトルを取得し、上記補正信号
の周波数成分の周波数を、該周波数スペクトルのピーク
位置に略一致させる。
【００１２】この電子ビーム装置調整方法によれば、補
正信号の周波数成分の周波数調整をより容易迅速かつ効
果的に行うことができるという効果を奏する。請求項７
では、試料に電子ビームを照射し、照射点から放出され
た２次電子を２次電子検出器で検出する電子ビーム装置
において、周期的な補正信号を出力する補正信号源と、
該補正信号が供給され、該電子ビームが通される偏向器
と、該電子ビームを試料上パターンエッジ部に照射させ
るビーム制御装置と、該電子ビームを試料上パターンエ
ッジ部に照射したときに該２次電子検出器から得られる
２次電子検出波形のスペクトルを取得するスペクトルア
ナライザと、該補正信号の周波数成分の位相及び振幅を
調整するための補正信号調整装置とを有する。
正信号の周波数成分の周波数調整をより容易迅速かつ効
果的に行うことができるという効果を奏する。請求項７
では、試料に電子ビームを照射し、照射点から放出され
た２次電子を２次電子検出器で検出する電子ビーム装置
において、周期的な補正信号を出力する補正信号源と、
該補正信号が供給され、該電子ビームが通される偏向器
と、該電子ビームを試料上パターンエッジ部に照射させ
るビーム制御装置と、該電子ビームを試料上パターンエ
ッジ部に照射したときに該２次電子検出器から得られる
２次電子検出波形のスペクトルを取得するスペクトルア
ナライザと、該補正信号の周波数成分の位相及び振幅を
調整するための補正信号調整装置とを有する。
【００１３】この調整は、手動又は自動のいずれであっ
てもよい。請求項８の電子ビーム装置では、請求項７に
おいて、上記補正信号調整装置は、上記補正信号の周波
数成分について、上記スペクトルの、周波数が該周波数
成分のそれに等しいスペクトル強度が極小になるよう
に、該補正信号の周波数成分の位相及び振幅を調整す
る。
てもよい。請求項８の電子ビーム装置では、請求項７に
おいて、上記補正信号調整装置は、上記補正信号の周波
数成分について、上記スペクトルの、周波数が該周波数
成分のそれに等しいスペクトル強度が極小になるよう
に、該補正信号の周波数成分の位相及び振幅を調整す
る。
【００１４】この電子ビーム装置によれば、補正信号の
周波数成分の位相及び振幅の調整が自動的に行われると
いう効果を奏する。請求項９では、試料に電子ビームを
照射し、照射点から放出された２次電子を２次電子検出
器で検出する電子ビーム装置において、周期的な補正信
号を出力する補正信号源と、該補正信号が供給され、該
電子ビームが通される偏向器と、該電子ビームを該偏向
器に通して試料上パターンに照射させ、照射点を走査さ
せるビーム制御装置と、該走査により該２次電子検出器
から得られる信号がＳＥＭ像として格納されるフレーム
メモリと、該フレームメモリに格納されたＳＥＭ像の画
素値を一軸上に投影加算し、その投影加算波形のエッジ
の傾斜を求める画像処理と、該補正信号の周波数成分の
位相及び振幅を調整するための補正信号調整装置とを有
する。
周波数成分の位相及び振幅の調整が自動的に行われると
いう効果を奏する。請求項９では、試料に電子ビームを
照射し、照射点から放出された２次電子を２次電子検出
器で検出する電子ビーム装置において、周期的な補正信
号を出力する補正信号源と、該補正信号が供給され、該
電子ビームが通される偏向器と、該電子ビームを該偏向
器に通して試料上パターンに照射させ、照射点を走査さ
せるビーム制御装置と、該走査により該２次電子検出器
から得られる信号がＳＥＭ像として格納されるフレーム
メモリと、該フレームメモリに格納されたＳＥＭ像の画
素値を一軸上に投影加算し、その投影加算波形のエッジ
の傾斜を求める画像処理と、該補正信号の周波数成分の
位相及び振幅を調整するための補正信号調整装置とを有
する。
【００１５】この調整は、手動又は自動のいずれであっ
てもよい。請求項１０の電子ビーム装置では、請求項９
において、上記補正信号調整装置は、上記エッジの傾斜
の絶対値が略最大になるように上記補正信号の周波数成
分の位相及び振幅を調整する。この電子ビーム装置によ
れば、補正信号の周波数成分の位相及び振幅の調整が自
動的に行われるという効果を奏する。
てもよい。請求項１０の電子ビーム装置では、請求項９
において、上記補正信号調整装置は、上記エッジの傾斜
の絶対値が略最大になるように上記補正信号の周波数成
分の位相及び振幅を調整する。この電子ビーム装置によ
れば、補正信号の周波数成分の位相及び振幅の調整が自
動的に行われるという効果を奏する。
【００１６】請求項１１の電子ビーム装置では、請求項
９又は１０において、上記ビーム制御装置は、上記電子
ビームを試料上パターンエッジ部に照射させ、該電子ビ
ームを試料上パターンエッジ部に照射したときに上記２
次電子検出器から得られる２次電子検出波形のスペクト
ルを取得するスペクトルアナライザを有する。
９又は１０において、上記ビーム制御装置は、上記電子
ビームを試料上パターンエッジ部に照射させ、該電子ビ
ームを試料上パターンエッジ部に照射したときに上記２
次電子検出器から得られる２次電子検出波形のスペクト
ルを取得するスペクトルアナライザを有する。
【００１７】この電子ビーム装置によれば、補正信号の
周波数成分の周波数調整をより容易迅速かつ効果的に行
うことが可能になるという効果を奏する。
周波数成分の周波数調整をより容易迅速かつ効果的に行
うことが可能になるという効果を奏する。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明の実
施形態を説明する。 ［第１実施形態］図１は、本発明の第１実施形態の電子
ビーム装置概略構成図である。電子ビーム装置本体１０
では、電子銃コラムの上部に配置された電子銃チップ１
１から電子ビーム１２が射出され、これが偏向器１３及
び対物レンズ１４を通り、試料室内の移動ステージ１５
に搭載された試料１６上に照射される。照射点から放出
された２次電子１８は、２次電子検出器１９で検出され
る。偏向器１３の上方には、ＳＥＭ像の揺れを補正する
ための補正用偏向器２０が配置されている。補正用偏向
器２０は、Ｘ軸方向に対向配置された一対の偏向コイル
２０Ｘ１及び２０Ｘ２と、Ｙ軸方向に対向配置された一
対の２０Ｙ１及び２０Ｙ２とからなる。偏向コイル２０
Ｘ１と２０Ｘ２とは直列接続され、偏向コイル２０Ｘ２
の一端が接地されている。同様に、偏向コイル２０Ｙ１
と２０Ｙ２とが直列接続され、偏向コイル２０Ｙ２の一
端が接地されている。
施形態を説明する。 ［第１実施形態］図１は、本発明の第１実施形態の電子
ビーム装置概略構成図である。電子ビーム装置本体１０
では、電子銃コラムの上部に配置された電子銃チップ１
１から電子ビーム１２が射出され、これが偏向器１３及
び対物レンズ１４を通り、試料室内の移動ステージ１５
に搭載された試料１６上に照射される。照射点から放出
された２次電子１８は、２次電子検出器１９で検出され
る。偏向器１３の上方には、ＳＥＭ像の揺れを補正する
ための補正用偏向器２０が配置されている。補正用偏向
器２０は、Ｘ軸方向に対向配置された一対の偏向コイル
２０Ｘ１及び２０Ｘ２と、Ｙ軸方向に対向配置された一
対の２０Ｙ１及び２０Ｙ２とからなる。偏向コイル２０
Ｘ１と２０Ｘ２とは直列接続され、偏向コイル２０Ｘ２
の一端が接地されている。同様に、偏向コイル２０Ｙ１
と２０Ｙ２とが直列接続され、偏向コイル２０Ｙ２の一
端が接地されている。
【００１９】２次電子検出器１９の出力信号は増幅回路
２１で増幅され、次にＡ／Ｄ変換器２２でデジタル化さ
れ、画像入力回路２３を介してフレームメモリ２４に格
納される。フレームメモリ２４に格納された画像データ
は、表示装置２５に供給されて表示される。操作者によ
り不図示の入力装置が操作され、その入力信号は、シス
テム制御装置２６に供給される。この操作により、シス
テム制御装置２６からビーム制御装置２７へＳＥＭ像取
得指令が供給されると、ビーム制御装置２７により偏向
器１３を介して電子ビーム１２が試料１６上で走査さ
れ、画像入力回路２３にＡ／Ｄ変換器２２の出力が選択
的に供給され、表示装置２５に例えば図９に示すような
ＳＥＭ像１が表示される。操作者は、この像を見て、表
示範囲の中心及び新たな拡大倍率を指定する操作を行
う。これにより、上記同様にして、表示装置２５に、図
２（Ａ）に示すようなＳＥＭ像３が表示される。図中の
ハッチングを施した部分は、配線パターンであり、その
周囲よりも輝度が高くなっている。
２１で増幅され、次にＡ／Ｄ変換器２２でデジタル化さ
れ、画像入力回路２３を介してフレームメモリ２４に格
納される。フレームメモリ２４に格納された画像データ
は、表示装置２５に供給されて表示される。操作者によ
り不図示の入力装置が操作され、その入力信号は、シス
テム制御装置２６に供給される。この操作により、シス
テム制御装置２６からビーム制御装置２７へＳＥＭ像取
得指令が供給されると、ビーム制御装置２７により偏向
器１３を介して電子ビーム１２が試料１６上で走査さ
れ、画像入力回路２３にＡ／Ｄ変換器２２の出力が選択
的に供給され、表示装置２５に例えば図９に示すような
ＳＥＭ像１が表示される。操作者は、この像を見て、表
示範囲の中心及び新たな拡大倍率を指定する操作を行
う。これにより、上記同様にして、表示装置２５に、図
２（Ａ）に示すようなＳＥＭ像３が表示される。図中の
ハッチングを施した部分は、配線パターンであり、その
周囲よりも輝度が高くなっている。
【００２０】操作者は、ＳＥＭ像３内の電子ビーム照射
点ＰＸを不図示のポインティングデバイスで指定して、
その信号をシステム制御装置２６に供給させる。システ
ム制御装置２６は、試料１６上のパターンのレイアウト
設計データが格納された記憶装置を備えており、この電
子ビーム照射点ＰＸを設計データ上の位置に対応させ
て、ビーム制御装置２７に対しこの位置への照射指令を
供給する。
点ＰＸを不図示のポインティングデバイスで指定して、
その信号をシステム制御装置２６に供給させる。システ
ム制御装置２６は、試料１６上のパターンのレイアウト
設計データが格納された記憶装置を備えており、この電
子ビーム照射点ＰＸを設計データ上の位置に対応させ
て、ビーム制御装置２７に対しこの位置への照射指令を
供給する。
【００２１】ビーム制御装置２７は、これに応答して、
偏向器１３で電子ビーム１２を偏向させ、電子ビーム照
射点ＰＸに対応した試料１６上の位置に、電子ビーム１
２を照射させる。この場合、Ａ／Ｄ変換器２２から出力
された一連のデータは、周波数アナライザ２８内のメモ
リに２次電子検出波形として格納される。周波数アナラ
イザ２８は、例えばＦＦＴ等により、この２次電子検出
波形を、図３に示すようなスペクトルに変換する。画像
入力回路２３は、このスペクトルを選択的にフレームメ
モリ２４に格納させる。これにより、表示装置２５にこ
のスペクトルが表示される。
偏向器１３で電子ビーム１２を偏向させ、電子ビーム照
射点ＰＸに対応した試料１６上の位置に、電子ビーム１
２を照射させる。この場合、Ａ／Ｄ変換器２２から出力
された一連のデータは、周波数アナライザ２８内のメモ
リに２次電子検出波形として格納される。周波数アナラ
イザ２８は、例えばＦＦＴ等により、この２次電子検出
波形を、図３に示すようなスペクトルに変換する。画像
入力回路２３は、このスペクトルを選択的にフレームメ
モリ２４に格納させる。これにより、表示装置２５にこ
のスペクトルが表示される。
【００２２】この電子ビーム装置で用いられる商用電源
の周波数は５０Ｈｚであり、図３に示す５０Ｈｚのピー
クは、この商用電源で駆動される荒引き用真空ポンプや
冷却ファン等のモータから出る電磁波等の浮遊電磁界、
並びに、これらのモータの機械的振動及び電子ビーム装
置本体１０の共振等に起因している。１００Ｈｚ及び１
５０Ｈｚのピークは、５０Ｈｚの高調波成分に対応して
いる。４３０Ｈｚは、真空ポンプに含まれる高真空用タ
ーボ分子ポンプに起因したものである。
の周波数は５０Ｈｚであり、図３に示す５０Ｈｚのピー
クは、この商用電源で駆動される荒引き用真空ポンプや
冷却ファン等のモータから出る電磁波等の浮遊電磁界、
並びに、これらのモータの機械的振動及び電子ビーム装
置本体１０の共振等に起因している。１００Ｈｚ及び１
５０Ｈｚのピークは、５０Ｈｚの高調波成分に対応して
いる。４３０Ｈｚは、真空ポンプに含まれる高真空用タ
ーボ分子ポンプに起因したものである。
【００２３】操作者は、このスペクトルを見て、ピーク
位置であるｆ１＝５０Ｈｚ及びｆ２＝４３０Ｈｚをシス
テム制御装置２６に対し指定する。システム制御装置２
６は、この指定値ｆ１及びｆ２を周波数アナライザ２８
及び補正信号調整装置２９に供給し、周波数アナライザ
２８はこれに応答して、スペクトル上の周波数ｆ１及び
ｆ２での振幅Ａ（ｆ１）及びＡ（ｆ２）を補正信号調整
装置２９に供給する。
位置であるｆ１＝５０Ｈｚ及びｆ２＝４３０Ｈｚをシス
テム制御装置２６に対し指定する。システム制御装置２
６は、この指定値ｆ１及びｆ２を周波数アナライザ２８
及び補正信号調整装置２９に供給し、周波数アナライザ
２８はこれに応答して、スペクトル上の周波数ｆ１及び
ｆ２での振幅Ａ（ｆ１）及びＡ（ｆ２）を補正信号調整
装置２９に供給する。
【００２４】ここで、補正信号源３０は、周波数、位相
及び振幅が調整可能な交流源３１〜３４と、交流源３１
と３３の出力を加算する加算増幅回路３５と、交流源３
２と３４の出力を加算する加算増幅回路３６とを備えて
いる。加算増幅回路３５及び３６の出力はそれぞれ、偏
向コイル２０Ｙ１及び２０Ｘ１に供給される。交流源３
１〜３４の出力振幅は最初、補正信号調整装置２９によ
り０に初期設定されている。補正信号調整装置２９は、
交流源３１及び３３の周波数をｆ１＝５０Ｈｚに調整
し、交流源３２及び３４の周波数をｆ２＝４３０Ｈｚに
調整する。次に補正信号調整装置２９は、交流源３１に
対し位相及び振幅の調整を行う。この調整の手順の概略
を図４に示す。以下、交流源３１の出力をＢ・ｓｉｎ
（２π・ｆ１・ｔ＋φ）とする。
及び振幅が調整可能な交流源３１〜３４と、交流源３１
と３３の出力を加算する加算増幅回路３５と、交流源３
２と３４の出力を加算する加算増幅回路３６とを備えて
いる。加算増幅回路３５及び３６の出力はそれぞれ、偏
向コイル２０Ｙ１及び２０Ｘ１に供給される。交流源３
１〜３４の出力振幅は最初、補正信号調整装置２９によ
り０に初期設定されている。補正信号調整装置２９は、
交流源３１及び３３の周波数をｆ１＝５０Ｈｚに調整
し、交流源３２及び３４の周波数をｆ２＝４３０Ｈｚに
調整する。次に補正信号調整装置２９は、交流源３１に
対し位相及び振幅の調整を行う。この調整の手順の概略
を図４に示す。以下、交流源３１の出力をＢ・ｓｉｎ
（２π・ｆ１・ｔ＋φ）とする。
【００２５】（４０）繰り返し回数ｉに初期値０を代入
する。 （４１）補正信号調整装置２９は、位相φを微小値Δφ
としたときの振幅Ａ（ｆ１）の値と、位相φを−Δφと
したときの振幅Ａ（ｆ１）の値とを比較し、振幅Ａ（ｆ
１）の値が小さくなる方へ位相φの値をΔφずつ変化さ
せていき、振幅Ａ（ｆ１）が極小となるまでこの処理を
繰り返す。振幅Ａ（ｆ１）はこの変化毎に取得する。
する。 （４１）補正信号調整装置２９は、位相φを微小値Δφ
としたときの振幅Ａ（ｆ１）の値と、位相φを−Δφと
したときの振幅Ａ（ｆ１）の値とを比較し、振幅Ａ（ｆ
１）の値が小さくなる方へ位相φの値をΔφずつ変化さ
せていき、振幅Ａ（ｆ１）が極小となるまでこの処理を
繰り返す。振幅Ａ（ｆ１）はこの変化毎に取得する。
【００２６】例えば、補正前の補正用偏向器２０の位置
での電子ビーム１２のＸ方向の揺れと、偏向コイル２０
Ｙ１と２０Ｙ２とで生成される磁界から電子ビーム１２
が受ける力の揺れとの位相が逆の場合に、この高さ位置
での電子ビーム１２の揺れが極小になる。ＳＥＭ像の揺
れの原因は、補正用偏向器２０の下方にも存在し、この
原因によるＳＥＭ像の揺れも低減するように、補正用偏
向器２０の磁界から電子ビーム１２が力を受ける。
での電子ビーム１２のＸ方向の揺れと、偏向コイル２０
Ｙ１と２０Ｙ２とで生成される磁界から電子ビーム１２
が受ける力の揺れとの位相が逆の場合に、この高さ位置
での電子ビーム１２の揺れが極小になる。ＳＥＭ像の揺
れの原因は、補正用偏向器２０の下方にも存在し、この
原因によるＳＥＭ像の揺れも低減するように、補正用偏
向器２０の磁界から電子ビーム１２が力を受ける。
【００２７】（４２）Ａ（ｆ１）≦εであれば処理を終
了し、そうでなければ次のステップ４３へ進む。ここに
εは、正の小さな許容最大値である。 （４３）補正信号調整装置２９は、振幅Ｂを微小値ΔＢ
としたときの振幅Ａ（ｆ１）の値と、振幅Ｂを−ΔＢと
したときの振幅Ａ（ｆ１）の値とを比較し、振幅Ａ（ｆ
１）の値が小さくなる方へ振幅Ｂの値をΔＢずつ変化さ
せていき、振幅Ａ（ｆ１）が極小となるまでこの処理を
繰り返す。振幅Ａ（ｆ１）はこの変化毎に取得する。
了し、そうでなければ次のステップ４３へ進む。ここに
εは、正の小さな許容最大値である。 （４３）補正信号調整装置２９は、振幅Ｂを微小値ΔＢ
としたときの振幅Ａ（ｆ１）の値と、振幅Ｂを−ΔＢと
したときの振幅Ａ（ｆ１）の値とを比較し、振幅Ａ（ｆ
１）の値が小さくなる方へ振幅Ｂの値をΔＢずつ変化さ
せていき、振幅Ａ（ｆ１）が極小となるまでこの処理を
繰り返す。振幅Ａ（ｆ１）はこの変化毎に取得する。
【００２８】（４４）Ａ（ｆ１）≦εであれば処理を終
了し、そうでなければ次のステップ４５へ進む。 （４５）繰り返し回数ｉを１だけインクリメントする。 （４６）ｉ＜Ｎであればステップ４１へ戻り、ｉ＝Ｎと
なれば処理を終了する。ここにＮは、処理打切用設定回
数である。
了し、そうでなければ次のステップ４５へ進む。 （４５）繰り返し回数ｉを１だけインクリメントする。 （４６）ｉ＜Ｎであればステップ４１へ戻り、ｉ＝Ｎと
なれば処理を終了する。ここにＮは、処理打切用設定回
数である。
【００２９】次に、図１の交流源３３の位相及び振幅の
調整を、上記同様にして行う。この場合、上記振幅Ａ
（ｆ１）の代わりに振幅Ａ（ｆ２）を用いる。次に、上
記同様にして図２（Ｂ）に示すようなＳＥＭ像４を表示
装置２５に表示させ、電子ビーム照射点ＰＹを指定し、
上記同様にして交流源３２及び３４の位相及び振幅を調
整する。
調整を、上記同様にして行う。この場合、上記振幅Ａ
（ｆ１）の代わりに振幅Ａ（ｆ２）を用いる。次に、上
記同様にして図２（Ｂ）に示すようなＳＥＭ像４を表示
装置２５に表示させ、電子ビーム照射点ＰＹを指定し、
上記同様にして交流源３２及び３４の位相及び振幅を調
整する。
【００３０】補正信号調整装置２９はマニュアルモード
も備えており、操作者は、調整後に表示装置２５に表示
されたスペクトルを見て、上記のような自動調整が充分
でないと判断した場合には、マニュアルモードに切り換
える。そして、表示装置２５に表示されたスペクトルを
見ながら、補正信号調整装置２９を介し補正信号源３０
に対する周波数、位相及び振幅の調整を行う。
も備えており、操作者は、調整後に表示装置２５に表示
されたスペクトルを見て、上記のような自動調整が充分
でないと判断した場合には、マニュアルモードに切り換
える。そして、表示装置２５に表示されたスペクトルを
見ながら、補正信号調整装置２９を介し補正信号源３０
に対する周波数、位相及び振幅の調整を行う。
【００３１】このような調整が行われた補正信号源３０
の出力を、ＳＥＭ像観察中に補正用偏向器２０に供給す
ることにより、像の揺れが低減されて、電子ビーム装置
の分解能が向上する。この調整は例えば、試料１６上の
コントラストが特に顕著なパターンエッジ部を特定して
おき、画像観察中において、定期的に又は像揺れが大き
くなった時に、この部分に電子ビーム１２を照射して行
う。
の出力を、ＳＥＭ像観察中に補正用偏向器２０に供給す
ることにより、像の揺れが低減されて、電子ビーム装置
の分解能が向上する。この調整は例えば、試料１６上の
コントラストが特に顕著なパターンエッジ部を特定して
おき、画像観察中において、定期的に又は像揺れが大き
くなった時に、この部分に電子ビーム１２を照射して行
う。
【００３２】本第１実施形態では上記のように、電子ビ
ーム１２を補正用偏向器２０に通して試料１６上のパタ
ーンエッジ部へ照射し、照射点から放出された２次電子
を２次電子検出器１９で検出し、２次電子検出波形のス
ペクトルの周波数ｆｊの振幅Ａ（ｆｊ）が極小になるよ
うに補正信号源３０の周波数ｆｊの成分の位相及び振幅
を調整しているので、各種原因によるＳＥＭ像の揺れ
を、簡単な構成で容易に低減することができる。
ーム１２を補正用偏向器２０に通して試料１６上のパタ
ーンエッジ部へ照射し、照射点から放出された２次電子
を２次電子検出器１９で検出し、２次電子検出波形のス
ペクトルの周波数ｆｊの振幅Ａ（ｆｊ）が極小になるよ
うに補正信号源３０の周波数ｆｊの成分の位相及び振幅
を調整しているので、各種原因によるＳＥＭ像の揺れ
を、簡単な構成で容易に低減することができる。
【００３３】［第２実施形態］上記第１実施形態では、
電子ビーム装置本体１０に新たな補正用偏向器２０を備
えてＳＥＭ像の揺れを補正する場合を説明したが、既存
の偏向器に対して補正信号を重ね合わせることにより、
ＳＥＭ像の揺れを低減する構成であってもよい。図５
は、このような構成の電子ビーム装置の概略を、第２実
施形態として示す。
電子ビーム装置本体１０に新たな補正用偏向器２０を備
えてＳＥＭ像の揺れを補正する場合を説明したが、既存
の偏向器に対して補正信号を重ね合わせることにより、
ＳＥＭ像の揺れを低減する構成であってもよい。図５
は、このような構成の電子ビーム装置の概略を、第２実
施形態として示す。
【００３４】ビーム制御装置２７Ａは、図１のビーム制
御装置２７から、偏向器１３を駆動する増幅回路を除い
たものであり、電子ビーム装置はこの増幅回路の代わり
に加算増幅回路２７１及び２７２を備えている。加算増
幅回路２７１及び２７２の一方の入力端には、電子ビー
ム１２を偏向器１３で通常のように偏向させるための信
号がビーム制御装置２７から供給され、加算増幅回路２
７１及び２７２の他方の入力端には、加算増幅回路３５
及び３６からの補正信号が供給される。
御装置２７から、偏向器１３を駆動する増幅回路を除い
たものであり、電子ビーム装置はこの増幅回路の代わり
に加算増幅回路２７１及び２７２を備えている。加算増
幅回路２７１及び２７２の一方の入力端には、電子ビー
ム１２を偏向器１３で通常のように偏向させるための信
号がビーム制御装置２７から供給され、加算増幅回路２
７１及び２７２の他方の入力端には、加算増幅回路３５
及び３６からの補正信号が供給される。
【００３５】偏向器１３は、Ｘ軸方向に対向配置された
一対の偏向電極１３Ｘ１及び１３Ｘ２と、Ｙ軸方向に対
向配置された一対の偏向電極１３Ｙ１及び１３Ｙ２とか
らなる。加算増幅回路２７１及び２７２の出力はそれぞ
れ、偏向器１３の偏向電極１３Ｘ１及び１３Ｙ１に供給
される。偏向電極１３Ｘ２及び１３Ｙ２には、接地電位
又は加算増幅回路２７１及び２７２の出力の符号を反転
した信号が供給される。
一対の偏向電極１３Ｘ１及び１３Ｘ２と、Ｙ軸方向に対
向配置された一対の偏向電極１３Ｙ１及び１３Ｙ２とか
らなる。加算増幅回路２７１及び２７２の出力はそれぞ
れ、偏向器１３の偏向電極１３Ｘ１及び１３Ｙ１に供給
される。偏向電極１３Ｘ２及び１３Ｙ２には、接地電位
又は加算増幅回路２７１及び２７２の出力の符号を反転
した信号が供給される。
【００３６】他の点は、上記第１実施形態と同一であ
る。［第３実施形態］図６は、本発明の第３実施形態の
電子ビーム装置概略構成図である。図７（Ａ）は、図６
の交流源３１〜３４の出力を０にしたときのＳＥＭ像５
を示している。ハッチングを施した部分は、配線パター
ンである。
る。［第３実施形態］図６は、本発明の第３実施形態の
電子ビーム装置概略構成図である。図７（Ａ）は、図６
の交流源３１〜３４の出力を０にしたときのＳＥＭ像５
を示している。ハッチングを施した部分は、配線パター
ンである。
【００３７】ＳＥＭ像５内の画素の座標（Ｘ，Ｙ）にお
ける画素値をＰ（Ｘ，Ｙ）と表記し、Ｘ及びＹの範囲を
それぞれ０≦Ｘ≦Ｘｍａｘ、０≦Ｙ≦Ｙｍａｘとする。
ＳＥＭ像５のＸ軸への投影加算値Ｓ（Ｘ）、すなわち投
影加算値Ｓ（Ｘ）＝Ｐ（Ｘ，０）＋Ｐ（Ｘ，１）＋Ｐ
（Ｘ，２）＋・・・＋Ｐ（Ｘ，Ｙｍａｘ）を算出する
と、図７（Ｂ）に示す如くなる。
ける画素値をＰ（Ｘ，Ｙ）と表記し、Ｘ及びＹの範囲を
それぞれ０≦Ｘ≦Ｘｍａｘ、０≦Ｙ≦Ｙｍａｘとする。
ＳＥＭ像５のＸ軸への投影加算値Ｓ（Ｘ）、すなわち投
影加算値Ｓ（Ｘ）＝Ｐ（Ｘ，０）＋Ｐ（Ｘ，１）＋Ｐ
（Ｘ，２）＋・・・＋Ｐ（Ｘ，Ｙｍａｘ）を算出する
と、図７（Ｂ）に示す如くなる。
【００３８】ＳＥＭ像５が揺れているので、投影加算値
Ｓのエッジ部の傾斜は比較的緩やかになっている。投影
加算値Ｓの微分波形は、図７（Ｃ）に示す如くなり、投
影加算値Ｓのエッジ部でピークを持つ。図６において、
交流源３１〜３４の振幅は、上記第１実施形態と同じ方
法で調整しておく。画像処理装置５０は、フレームメモ
リ２４に格納されたＳＥＭ像に対し、図７に示す加算微
分値ｄＳ／ｄＸを求め、例えばその１つのピーク値の絶
対値ＰＫを、補正信号調整装置２９Ａに供給する。補正
信号調整装置２９Ａは、このピーク値ＰＫが極大になる
ように、上記第１実施形態と同様にして交流源３１〜３
４の位相及び振幅を調整する。この補正信号調整におい
ては、交流源３１〜３４の位相又は振幅をそれぞれ上記
のようにΔφ及びΔＢだけ変化させる毎に、電子ビーム
１２を走査させてフレームメモリ２４に格納されるＳＥ
Ｍ像を更新する。
Ｓのエッジ部の傾斜は比較的緩やかになっている。投影
加算値Ｓの微分波形は、図７（Ｃ）に示す如くなり、投
影加算値Ｓのエッジ部でピークを持つ。図６において、
交流源３１〜３４の振幅は、上記第１実施形態と同じ方
法で調整しておく。画像処理装置５０は、フレームメモ
リ２４に格納されたＳＥＭ像に対し、図７に示す加算微
分値ｄＳ／ｄＸを求め、例えばその１つのピーク値の絶
対値ＰＫを、補正信号調整装置２９Ａに供給する。補正
信号調整装置２９Ａは、このピーク値ＰＫが極大になる
ように、上記第１実施形態と同様にして交流源３１〜３
４の位相及び振幅を調整する。この補正信号調整におい
ては、交流源３１〜３４の位相又は振幅をそれぞれ上記
のようにΔφ及びΔＢだけ変化させる毎に、電子ビーム
１２を走査させてフレームメモリ２４に格納されるＳＥ
Ｍ像を更新する。
【００３９】図８は図７に対応しており、図８（Ａ）は
補正信号調整後のＳＥＭ像を示す図であり、図８（Ｂ）
はこのＳＥＭ像のＸ軸投影加算波形を示す図であり、図
８（Ｃ）は、この波形の微分波形を示す図である。この
第３実施形態によっても、上記第１実施形態で述べた効
果が得られる。なお、本発明には外にも種々の変形例が
含まれる。例えば、周波数アナライザ２８において、得
られたスペクトルからそのピーク値を検出し、ピーク値
の大きい方から順に補正信号源３０の周波数を自動調整
する構成であってもよい。補正信号の調整は全て手動の
みであってもよい。また、本発明の調整原理から明らか
なように、補正信号源３０で調整できる周波数の数は３
以上であってもよい。
補正信号調整後のＳＥＭ像を示す図であり、図８（Ｂ）
はこのＳＥＭ像のＸ軸投影加算波形を示す図であり、図
８（Ｃ）は、この波形の微分波形を示す図である。この
第３実施形態によっても、上記第１実施形態で述べた効
果が得られる。なお、本発明には外にも種々の変形例が
含まれる。例えば、周波数アナライザ２８において、得
られたスペクトルからそのピーク値を検出し、ピーク値
の大きい方から順に補正信号源３０の周波数を自動調整
する構成であってもよい。補正信号の調整は全て手動の
みであってもよい。また、本発明の調整原理から明らか
なように、補正信号源３０で調整できる周波数の数は３
以上であってもよい。
【図１】本発明の第１実施形態の電子ビーム装置概略構
成図である。
成図である。
【図２】（Ａ）及び（Ｂ）はいずれもＳＥＭ像中の補正
信号調整用電子ビーム照射点を示す図である。
信号調整用電子ビーム照射点を示す図である。
【図３】図２の照射点に電子ビームを照射したときの２
次電子検出波形のスペクトル図である。
次電子検出波形のスペクトル図である。
【図４】補正信号調整手順を示す概略フローチャートで
ある。
ある。
【図５】本発明の第２実施形態の電子ビーム装置概略構
成図である。
成図である。
【図６】本発明の第３実施形態の電子ビーム装置概略構
成図である。
成図である。
【図７】（Ａ）は補正信号調整前のＳＥＭ像を示す図で
あり、（Ｂ）はこのＳＥＭ像のＸ軸投影加算波形を示す
図であり、（Ｃ）は、この波形の微分波形を示す図であ
る。
あり、（Ｂ）はこのＳＥＭ像のＸ軸投影加算波形を示す
図であり、（Ｃ）は、この波形の微分波形を示す図であ
る。
【図８】（Ａ）は補正信号調整後のＳＥＭ像を示す図で
あり、（Ｂ）はこのＳＥＭ像のＸ軸投影加算波形を示す
図であり、（Ｃ）は、この波形の微分波形を示す図であ
る。
あり、（Ｂ）はこのＳＥＭ像のＸ軸投影加算波形を示す
図であり、（Ｃ）は、この波形の微分波形を示す図であ
る。
【図９】従来技術の問題点説明図である。
１〜５ ＳＥＭ像 １１ 電子銃チップ １３ 偏向器 １３Ｘ１、１３Ｘ２、１３Ｙ１、１３Ｙ２ 偏向電極 １６ 試料 １９ ２次電子検出器 ２０ 補正用偏向器 ２４ フレームメモリ ２５ 表示装置 ２８ 周波数アナライザ ２９ 補正信号調整装置 ３０ 補正信号源 ３１〜３４ 交流源 ３５、３６ 加算増幅回路 ５０ 画像処理装置
Claims (11)
- 【請求項１】 ＳＥＭ像の揺れを低減させる電子ビーム
装置調整方法であって、 周期的な補正信号を偏向器に供給し、電子ビームを該偏
向器に通して試料上パターンエッジ部に照射し、照射点
から放出された２次電子を検出し、 ２次電子検出波形の周波数成分の振幅が極小になるよう
に、該補正信号の、該周波数成分と略同一周波数の周波
数成分の位相及び振幅を調整する、 ことを特徴とする電子ビーム装置調整方法。 - 【請求項２】 上記２次電子検出波形の周波数スペクト
ルを取得し、 上記補正信号の周波数成分の周波数を、該周波数スペク
トルのピーク位置に略一致させる、 ことを特徴とする請求項１記載の電子ビーム装置調整方
法。 - 【請求項３】 上記試料のＳＥＭ像を取得し、該ＳＥＭ
像から上記試料上パターンエッジ部を決定する、 ことを特徴とする請求項１又は２記載の電子ビーム装置
調整方法。 - 【請求項４】 ＳＥＭ像の揺れを低減させる電子ビーム
装置調整方法であって、 周期的な補正信号を偏向器に供給し、 電子ビームを該偏向器に通して試料上パターンに照射
し、照射点を走査させて試料のＳＥＭ像を取得し、 該ＳＥＭ像の画素値を一軸上に投影加算し、その投影加
算波形のエッジの傾斜の絶対値が略最大になるように該
補正信号の周波数成分の位相及び振幅を調整する、 ことを特徴とする電子ビーム装置調整方法。 - 【請求項５】 上記投影加算波形の微分波形を算出し、
該微分波形のピーク値の絶対値が略最大になるようにす
ることにより、該投影加算波形のエッジの傾斜の絶対値
が略最大になるようにする、 ことを特徴とする請求項４記載の電子ビーム装置調整方
法。 - 【請求項６】 上記電子ビームを試料上パターンエッジ
部に照射し、照射点から放出された２次電子の検出波形
の周波数スペクトルを取得し、 上記補正信号の周波数成分の周波数を、該周波数スペク
トルのピーク位置に略一致させる、 ことを特徴とする請求項４又は５記載の電子ビーム装置
調整方法。 - 【請求項７】 試料に電子ビームを照射し、照射点から
放出された２次電子を２次電子検出器で検出する電子ビ
ーム装置において、 周期的な補正信号を出力する補正信号源と、 該補正信号が供給され、該電子ビームが通される偏向器
と、 該電子ビームを試料上パターンエッジ部に照射させるビ
ーム制御装置と、 該電子ビームを試料上パターンエッジ部に照射したとき
に該２次電子検出器から得られる２次電子検出波形のス
ペクトルを取得するスペクトルアナライザと、 該補正信号の周波数成分の位相及び振幅を調整するため
の補正信号調整装置と、 を有することを特徴とする電子ビーム装置。 - 【請求項８】 上記補正信号調整装置は、上記補正信号
の周波数成分について、上記スペクトルの、周波数が該
周波数成分のそれに等しいスペクトル強度が極小になる
ように、該補正信号の周波数成分の位相及び振幅を調整
する、 ことを特徴とする請求項７記載の電子ビーム装置。 - 【請求項９】 試料に電子ビームを照射し、照射点から
放出された２次電子を２次電子検出器で検出する電子ビ
ーム装置において、 周期的な補正信号を出力する補正信号源と、 該補正信号が供給され、該電子ビームが通される偏向器
と、 該電子ビームを該偏向器に通して試料上パターンに照射
させ、照射点を走査させるビーム制御装置と、 該走査により該２次電子検出器から得られる信号がＳＥ
Ｍ像として格納されるフレームメモリと、 該フレームメモリに格納されたＳＥＭ像の画素値を一軸
上に投影加算し、その投影加算波形のエッジの傾斜を求
める画像処理と、 該補正信号の周波数成分の位相及び振幅を調整するため
の補正信号調整装置と、 を有することを特徴とする電子ビーム装置。 - 【請求項１０】 上記補正信号調整装置は、上記エッジ
の傾斜の絶対値が略最大になるように上記補正信号の周
波数成分の位相及び振幅を調整する、 ことを特徴とする請求項９記載の電子ビーム装置。 - 【請求項１１】 上記ビーム制御装置は、上記電子ビー
ムを試料上パターンエッジ部に照射させ、 該電子ビームを試料上パターンエッジ部に照射したとき
に上記２次電子検出器から得られる２次電子検出波形の
スペクトルを取得するスペクトルアナライザを有する、 ことを特徴とする請求項９又は１０記載の電子ビーム装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14394697A JP3767872B2 (ja) | 1997-06-02 | 1997-06-02 | 電子ビーム装置及びその調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14394697A JP3767872B2 (ja) | 1997-06-02 | 1997-06-02 | 電子ビーム装置及びその調整方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10334845A true JPH10334845A (ja) | 1998-12-18 |
| JP3767872B2 JP3767872B2 (ja) | 2006-04-19 |
Family
ID=15350738
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14394697A Expired - Lifetime JP3767872B2 (ja) | 1997-06-02 | 1997-06-02 | 電子ビーム装置及びその調整方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3767872B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007324044A (ja) * | 2006-06-02 | 2007-12-13 | Hitachi High-Technologies Corp | 走査型荷電粒子線装置、その像表示方法、および走査型顕微鏡 |
| WO2010047073A1 (ja) * | 2008-10-24 | 2010-04-29 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 回路パターン検査装置，回路パターン検査装置を含む管理システム、および回路パターンの検査方法 |
| JP2010527135A (ja) * | 2007-05-15 | 2010-08-05 | シーイービーティー・カンパニー・リミティッド | 電子カラム用磁場デフレクター |
| JP2014093153A (ja) * | 2012-11-01 | 2014-05-19 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
| JP2022026395A (ja) * | 2020-07-31 | 2022-02-10 | 株式会社日立ハイテク | 荷電粒子線装置および電気ノイズの計測方法 |
-
1997
- 1997-06-02 JP JP14394697A patent/JP3767872B2/ja not_active Expired - Lifetime
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