JPH10339873A - Manufacture of liquid crystal display device - Google Patents
Manufacture of liquid crystal display deviceInfo
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- JPH10339873A JPH10339873A JP9150968A JP15096897A JPH10339873A JP H10339873 A JPH10339873 A JP H10339873A JP 9150968 A JP9150968 A JP 9150968A JP 15096897 A JP15096897 A JP 15096897A JP H10339873 A JPH10339873 A JP H10339873A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 反射率の大きく、シュリーレン光学系と組み
合わせても、光を有効に透過させることのできる反射型
の液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 各画素につき個別スイッチと個別電極1
02を備えるマトリックス基板101と、前記マトリッ
クス基板と液晶材料104を介して対向する対向基板1
06と、を有する反射型の液晶表示装置の製造方法にお
いて、前記マトリックス基板101に個別スイッチを形
成した後、前記個別スイッチの全面を絶縁膜で被い、前
記絶縁膜に前記個別スイッチとつながるコンタクトホー
ルを形成するとともに、前記個別電極を埋め込む凹部を
形成する工程、前記個別電極の材料を全体的に堆積さ
せ、前記個別電極の材料を研磨して前記絶縁層と同一面
に平坦化する工程、さらに平坦化した前記個別電極の上
に2種類の誘電体膜を交互に成膜して誘電体ミラー10
3を形成する工程とを有することを特徴とする。
(57) [Problem] To provide a method of manufacturing a reflective liquid crystal display device having a large reflectivity and capable of transmitting light effectively even when combined with a Schlieren optical system. An individual switch and an individual electrode are provided for each pixel.
And a counter substrate 1 facing the matrix substrate with a liquid crystal material 104 interposed therebetween.
06, after forming an individual switch on the matrix substrate 101, covering the entire surface of the individual switch with an insulating film, and contacting the insulating film with the individual switch. Forming a hole, forming a concave portion for embedding the individual electrode, depositing the material of the individual electrode as a whole, polishing the material of the individual electrode, and planarizing the material of the individual electrode on the same surface as the insulating layer; Further, two types of dielectric films are alternately formed on the flattened individual electrodes to form a dielectric mirror 10.
3 is formed.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はプロジェクター、デ
ィスプレー等に利用される液晶表示装置の製造方法に関
するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device used for a projector, a display, and the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、高分子分散液晶や高分子ネットワ
ーク液晶等と呼ばれる、散乱形の液晶を用いた液晶表示
素子は、ランダムに並んだ液晶の屈折率と、周囲の高分
子の屈折率の差による光の散乱状態と液晶層を挟んだ電
極に電圧を印加することで液晶の配向方向をそろえ、液
晶の常光屈折率と周囲の高分子の屈折率を近づけて散乱
の少ない透明状態を利用している。さらに散乱状態と透
過状態による光量の変化を拡大するために該液晶表示素
子はいわゆるシュリーレン光学系と組み合わせて用いら
れる。該シュリーレン光学系は液晶表示素子からの光の
うち、絞りにより、限定された角度以下の出射光を通過
し、逆に絞りにより限定された角度以上の出射光を遮断
する。このため、入射光が略平行光である場合、液晶表
示素子が散乱状態である時は、入射光は、入射方向から
大きく方向を変えて出射していくものが増加する。この
ため出射光は、該シュリーレン光学系で遮断される。一
方、液晶表示素子が透過状態である時は、入射光は液晶
表示素子内の通過により出射角を変えることなく出射さ
れていく。この時該シュリーレン光学系で遮断されるこ
となく出射光は透過していくことができる。ところで液
晶表示素子は表示を行なうため、液晶の状態を表示面内
で多数に分割された個別電極により制御されて表示を形
成している。また表示の自由度を高くするため個別電極
の形成は、表示面内で規則的な配列を形成し、個別電極
の選択によって表示を形成する、マトリックスタイプが
用いられている。2. Description of the Related Art Conventionally, a liquid crystal display device using a scattering type liquid crystal, which is called a polymer dispersed liquid crystal or a polymer network liquid crystal, has a refractive index of a randomly arranged liquid crystal and a refractive index of a surrounding polymer. By applying a voltage between the light scattering state due to the difference and the electrode sandwiching the liquid crystal layer, the alignment direction of the liquid crystal is aligned. doing. The liquid crystal display device is used in combination with a so-called schlieren optical system in order to further increase the change in the amount of light due to the scattering state and the transmission state. The schlieren optical system passes out of the light from the liquid crystal display element, outgoing light of a limited angle or less by the stop, and conversely, outgoes outgoing light of the angle or more limited by the stop. For this reason, when the incident light is substantially parallel light, when the liquid crystal display element is in a scattering state, the amount of the incident light which is emitted while changing the direction largely from the incident direction increases. Therefore, the emitted light is blocked by the schlieren optical system. On the other hand, when the liquid crystal display element is in the transmission state, the incident light is emitted without changing the emission angle by passing through the liquid crystal display element. At this time, the emitted light can be transmitted without being blocked by the Schlieren optical system. By the way, in order for the liquid crystal display element to perform a display, the state of the liquid crystal is controlled by a plurality of individual electrodes divided on a display surface to form a display. In order to increase the degree of freedom of display, a matrix type is used in which individual electrodes are formed in a regular arrangement on a display surface and a display is formed by selecting individual electrodes.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例では、液晶表示素子に高精細な画像を表示し、かつ
液晶表示素子の小型化を行なっていくと、個別電極の密
度が上昇し、個別電極の形成される周期が数10ミクロ
ンになってくる。このように個別電極の、周期がせまく
なってくると液晶表示素子の透過状態における、出射光
が個別電極の周期構造により、回折現象を生じる。この
ため入射光は、入射方向と角度を持った回折光を含んだ
出射光となってしまう。入射光を略入射方向へ出射する
反射型の液晶表示素子では個別電極として反射電極がマ
トリクス状に配置される。このため、該シュリーレン光
学系を用いた場合に、液晶表示素子の散乱状態のみなら
ず、透過状態でも出射光の一部を遮断してしまう欠点が
あった。However, in the above conventional example, when a high-definition image is displayed on the liquid crystal display element and the size of the liquid crystal display element is reduced, the density of the individual electrodes increases and the individual electrodes increase. The period at which the electrodes are formed becomes several tens of microns. As described above, when the period of the individual electrodes becomes narrow, the emitted light in the transmission state of the liquid crystal display element causes a diffraction phenomenon due to the periodic structure of the individual electrodes. For this reason, the incident light becomes outgoing light including diffracted light having an angle with the incident direction. In a reflective liquid crystal display element that emits incident light in a substantially incident direction, reflective electrodes are arranged in a matrix as individual electrodes. Therefore, when the schlieren optical system is used, there is a drawback that a part of the emitted light is blocked not only in the scattering state of the liquid crystal display element but also in the transmission state.
【0004】そこで、以上の問題を解決し、反射率の大
きく、シュリーレン光学系と組み合わせても、光を有効
に透過させることのできる反射型の液晶表示装置の製造
方法を提供することを本発明の目的とする。Accordingly, it is an object of the present invention to solve the above problems and to provide a method of manufacturing a reflection type liquid crystal display device having a large reflectance and capable of transmitting light effectively even when combined with a Schlieren optical system. The purpose of.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】以上に挙げた問題を解決
するために、本発明者が鋭意努力した結果、以下の発明
を得た。すなわち、本発明の液晶表示装置の製造方法
は、各画素につき個別スイッチと個別電極を備えるマト
リックス基板と、前記マトリックス基板と液晶材料を介
して対向する対向基板とを有する反射型の液晶表示装置
の製造方法において、前記マトリックス基板に個別スイ
ッチを形成した後、前記個別スイッチの全面を絶縁膜で
被い、前記絶縁膜に前記個別スイッチとつながるコンタ
クトホールを形成するとともに、前記個別電極を埋め込
む凹部を形成する工程、前記個別電極の材料を全体的に
堆積させ、前記個別電極の材料を研磨して前記絶縁層と
同一面に平坦化する工程、さらに平坦化した前記個別電
極の上に2種類の誘電体膜を交互に成膜して誘電体ミラ
ーを形成する工程とを有することを特徴とする。ここ
で、前記個別電極の材料の研磨は、化学機械研磨法によ
っておこなうのが望ましい。Means for Solving the Problems In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have made intensive efforts and, as a result, have obtained the following invention. That is, the method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention is directed to a reflection type liquid crystal display device having a matrix substrate provided with individual switches and individual electrodes for each pixel, and a counter substrate facing the matrix substrate with a liquid crystal material interposed therebetween. In the manufacturing method, after forming an individual switch on the matrix substrate, the entire surface of the individual switch is covered with an insulating film, and a contact hole connected to the individual switch is formed in the insulating film, and a recess for embedding the individual electrode is formed. Forming, depositing the material of the individual electrode as a whole, polishing the material of the individual electrode, and planarizing the material on the same surface as the insulating layer; Forming a dielectric mirror by alternately forming dielectric films. Here, the material of the individual electrode is desirably polished by a chemical mechanical polishing method.
【0006】本発明によれば、反射電極が表示面全体を
おおい回折現象が発生しないため液晶表示素子の透過状
態における出射光が直進していく。該シュリーレン光学
系を効率的に透過することができる。According to the present invention, since the reflective electrode covers the entire display surface and no diffraction phenomenon occurs, the emitted light in the transmission state of the liquid crystal display element goes straight. The schlieren optical system can be efficiently transmitted.
【0007】[0007]
(実施形態1)本発明の実施形態を図1を用いて説明す
る。マトリックス基板101には個別電極102に電圧
を印加するために不図示のマトリックス配置された半導
体スイッチ列が形成されている。本実施形態ではシリコ
ン基板にMOS型トランジスターを形成してアルミ電極
で構成された個別電極102を形成する。(Embodiment 1) An embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. On the matrix substrate 101, semiconductor switch rows arranged in a matrix (not shown) for applying a voltage to the individual electrodes 102 are formed. In this embodiment, a MOS transistor is formed on a silicon substrate to form an individual electrode 102 composed of an aluminum electrode.
【0008】個別電極は下層に形成されたMOS型トラ
ンジスターの上に形成された絶縁層にMOS型トランジ
スターのドレイン端子への接続コンタクトホールと個別
電極を埋め込むための凹部を形成する。その凹部を埋め
つくすように個別電極を形成するアルミを絶縁層の上に
スパッタリングにより成膜する。In the individual electrode, a contact hole for connection to the drain terminal of the MOS transistor and a concave portion for burying the individual electrode are formed in an insulating layer formed on the MOS transistor formed below. Aluminum for forming an individual electrode is formed on the insulating layer by sputtering so as to fill the recess.
【0009】その後、絶縁層の凹部以外のアルミをCM
P研磨技術によって除去する。この研磨技術は選択的に
アルミを研磨でき、余分なアルミを研磨して絶縁層との
段差をなくし平坦面が形成できる。該平坦面の上に、誘
電体ミラーとしてSiO2層とTiO2層を27層交互に
積層することで可視域全体に反射率を有するを形成し
た。Then, the aluminum other than the concave portion of the insulating layer is CM
Removed by P polishing technique. With this polishing technique, aluminum can be selectively polished, and excess aluminum can be polished to eliminate a step with an insulating layer and form a flat surface. On the flat surface, 27 layers of SiO 2 layers and TiO 2 layers were alternately laminated as dielectric mirrors to form a layer having reflectivity over the entire visible range.
【0010】透明電極105としてITO膜を形成した
透明基板106を準備して、該マトリックス基板と該透
明基板に液晶とモノマーの混合物を挟持する。A transparent substrate 106 on which an ITO film is formed is prepared as the transparent electrode 105, and a mixture of liquid crystal and monomer is sandwiched between the matrix substrate and the transparent substrate.
【0011】透明基板側から紫外線を照射して、液晶と
高分子樹脂が混在する散乱型液晶104を形成する。Ultraviolet rays are irradiated from the transparent substrate side to form a scattering type liquid crystal 104 in which a liquid crystal and a polymer resin are mixed.
【0012】(実施形態2)実施形態2では実施形態1
と同様に、マトリックス基板101に個別電極102を
形成する。(Embodiment 2) In Embodiment 2, Embodiment 1
Similarly, the individual electrodes 102 are formed on the matrix substrate 101.
【0013】個別電極の形成は実施形態1と同様にアル
ミのCMP研磨による。実施形態2では誘電体ミラーの
反射率は可視光全域ではなく、入射光に限定して構成さ
れる、入射光の波長λに対してSiO2とTiO2をnd
=λ/4となる様に積層する。The individual electrodes are formed by aluminum CMP as in the first embodiment. In the second embodiment, the reflectance of the dielectric mirror is not limited to the entire visible light range, but is limited to the incident light. SiO 2 and TiO 2 are nd with respect to the wavelength λ of the incident light.
= Λ / 4.
【0014】例えばλ=550nmではnd=137n
mのSiO2とTiO2を5〜6層形成する。この誘電体
ミラーによりλ=550nmの波長を中心に反射率が高
くできる。入射光として緑の光を中心とした光を用いれ
ば良好な表示が得られる。For example, when λ = 550 nm, nd = 137n
5 to 6 layers of m 2 SiO 2 and TiO 2 are formed. With this dielectric mirror, the reflectance can be increased centering on the wavelength of λ = 550 nm. Good display can be obtained by using light centered on green light as incident light.
【0015】[0015]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
個別電極を平坦化した後に誘電体ミラーを構成している
ため、平坦で反射率が高い反射面が得られる。また、こ
の反射面は電気的には下層の個別電極で分割されている
が表示面全体が反射面を構成しているため、回折による
入射光の散乱もなく、入射光を良好に反射することがで
き該シュリーレン光学系との組み合わせでも光を有効に
透過することができる。このことからプロジェクターを
構成した時には明るい表示が実現できる。As described above, according to the present invention,
Since the dielectric mirror is formed after the individual electrodes are flattened, a flat reflecting surface with high reflectance can be obtained. This reflective surface is electrically divided by the lower individual electrodes, but the entire display surface constitutes a reflective surface, so that incident light is not scattered due to diffraction and the incident light is reflected well. Thus, light can be transmitted effectively even in combination with the schlieren optical system. From this, a bright display can be realized when the projector is configured.
【図1】本発明の液晶表示装置の断面図FIG. 1 is a sectional view of a liquid crystal display device of the present invention.
101 マトリックス基板 102 個別電極 103 誘電体ミラー 104 散乱型液晶 105 透明電極 106 透明基板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 Matrix substrate 102 Individual electrode 103 Dielectric mirror 104 Scattering liquid crystal 105 Transparent electrode 106 Transparent substrate
Claims (2)
備えるマトリックス基板と、前記マトリックス基板と液
晶材料を介して対向する対向基板とを有する反射型の液
晶表示装置の製造方法において、 前記マトリックス基板に個別スイッチを形成した後、前
記個別スイッチの全面を絶縁膜で被い、前記絶縁膜に前
記個別スイッチとつながるコンタクトホールを形成する
とともに、前記個別電極を埋め込む凹部を形成する工
程、 前記個別電極の材料を全体的に堆積させ、前記個別電極
の材料を研磨して前記絶縁層と同一面に平坦化する工
程、 さらに平坦化した前記個別電極の上に2種類の誘電体膜
を交互に成膜して誘電体ミラーを形成する工程とを有す
ることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。1. A method of manufacturing a reflection type liquid crystal display device comprising: a matrix substrate having an individual switch and an individual electrode for each pixel; and a counter substrate facing the matrix substrate with a liquid crystal material interposed therebetween. After forming the individual switch, covering the entire surface of the individual switch with an insulating film, forming a contact hole connected to the individual switch in the insulating film, and forming a concave portion for embedding the individual electrode, A step of depositing a material as a whole, polishing the material of the individual electrode to planarize the same surface as the insulating layer, and alternately forming two types of dielectric films on the planarized individual electrode Forming a dielectric mirror by performing the method.
研磨法によっておこなう請求項1に記載の液晶表示装置
の製造方法。2. The method according to claim 1, wherein the polishing of the material of the individual electrode is performed by a chemical mechanical polishing method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9150968A JPH10339873A (en) | 1997-06-09 | 1997-06-09 | Manufacture of liquid crystal display device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9150968A JPH10339873A (en) | 1997-06-09 | 1997-06-09 | Manufacture of liquid crystal display device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10339873A true JPH10339873A (en) | 1998-12-22 |
Family
ID=15508384
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9150968A Withdrawn JPH10339873A (en) | 1997-06-09 | 1997-06-09 | Manufacture of liquid crystal display device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10339873A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108983516A (en) * | 2018-07-10 | 2018-12-11 | 深圳市华星光电技术有限公司 | TFT array substrate |
-
1997
- 1997-06-09 JP JP9150968A patent/JPH10339873A/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108983516A (en) * | 2018-07-10 | 2018-12-11 | 深圳市华星光电技术有限公司 | TFT array substrate |
| CN108983516B (en) * | 2018-07-10 | 2021-08-20 | Tcl华星光电技术有限公司 | TFT array substrate |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040907 |