JPH1033988A - 無機酸化物複合体および製造方法 - Google Patents
無機酸化物複合体および製造方法Info
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- JPH1033988A JPH1033988A JP8194282A JP19428296A JPH1033988A JP H1033988 A JPH1033988 A JP H1033988A JP 8194282 A JP8194282 A JP 8194282A JP 19428296 A JP19428296 A JP 19428296A JP H1033988 A JPH1033988 A JP H1033988A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 固着剤等の劣化がなく従来の固着方法で使用
できる生活臭やたばこ臭の消臭剤や化学分解触媒等に利
用できる光触媒性を有する無機酸化物複合体を得る。 【解決手段】 光触媒性を有する無機酸化物をアルキル
シリケート類を用いてコーティングを行う。
できる生活臭やたばこ臭の消臭剤や化学分解触媒等に利
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シリケート類を用いてコーティングを行う。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光触媒作用を有す
る無機酸化物複合材料及びその製造方法に関する。詳し
くは酸化チタンに代表される日光、蛍光灯等、紫外線照
射下に起こる酸化分解反応の触媒として使用しうる無機
酸化物複合体及びその製造方法に関するものであり、生
活臭やたばこ臭の消臭剤や化学分解触媒、除菌などの目
的に使用されるものである。
る無機酸化物複合材料及びその製造方法に関する。詳し
くは酸化チタンに代表される日光、蛍光灯等、紫外線照
射下に起こる酸化分解反応の触媒として使用しうる無機
酸化物複合体及びその製造方法に関するものであり、生
活臭やたばこ臭の消臭剤や化学分解触媒、除菌などの目
的に使用されるものである。
【0002】
【従来の技術】近年、消臭や化学分解反応の触媒等の用
途で光触媒能を有する酸化チタンが使用されている。酸
化チタンの光酸化触媒性は強く従来酸化チタンの表面処
理は酸化チタンの光酸化性に由来する劣化を少なくする
ために行われてきた。この処理はもっぱら酸化アルミニ
ウム、珪酸、酸化亜鉛等無機酸化物皮膜をチタン表面に
形成させることで行われており光酸化性がほとんどない
状態となっており、このため他の基材との接触において
基材を劣化させることはほとんどない。しかしこの光酸
化性を積極的に利用した光酸化触媒として使用される酸
化チタンにおいては基材との密着により基材を劣化させ
特に有機物の分解性が高いため光触媒体微粒子と基材と
を密着させる接着剤、バインダーの変色、劣化が激し
く、酸化チタンの固着剤にフッ素系樹脂やシリコーン系
樹脂等難分解性結着剤を用いたり(特開平7−1714
08)、(特開平7−265714)、酸化チタン微粒
子を多孔質体に坦持させる等の方法(特公平3−157
125)、(特開平7−213913)が取られている
が、従来から用いられている安価なアクリルやウレタン
樹脂を用い従来の顔料と同様に取り扱いができるものは
得られていない。
途で光触媒能を有する酸化チタンが使用されている。酸
化チタンの光酸化触媒性は強く従来酸化チタンの表面処
理は酸化チタンの光酸化性に由来する劣化を少なくする
ために行われてきた。この処理はもっぱら酸化アルミニ
ウム、珪酸、酸化亜鉛等無機酸化物皮膜をチタン表面に
形成させることで行われており光酸化性がほとんどない
状態となっており、このため他の基材との接触において
基材を劣化させることはほとんどない。しかしこの光酸
化性を積極的に利用した光酸化触媒として使用される酸
化チタンにおいては基材との密着により基材を劣化させ
特に有機物の分解性が高いため光触媒体微粒子と基材と
を密着させる接着剤、バインダーの変色、劣化が激し
く、酸化チタンの固着剤にフッ素系樹脂やシリコーン系
樹脂等難分解性結着剤を用いたり(特開平7−1714
08)、(特開平7−265714)、酸化チタン微粒
子を多孔質体に坦持させる等の方法(特公平3−157
125)、(特開平7−213913)が取られている
が、従来から用いられている安価なアクリルやウレタン
樹脂を用い従来の顔料と同様に取り扱いができるものは
得られていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】近年、光触媒体を用い
た悪臭の分解消臭や有害物質の除去、浄化、抗菌性を利
用した衛生加工品等、光触媒性を有効利用する試み(特
開平7−148434)、(特開平6−63178)が
見られるようになり、これに伴い十分な光触媒性を有
し、且つ、基材を劣化させない光触媒体の出現が望まれ
ている。従来の方法では有機物基材たとえばバインダー
等にフッ素系樹脂を用いる等光酸化分解性が低い難分解
性の固着剤を併用する等使用するにあたって著しい制限
が存在する。また悪臭の消臭剤として従来行われている
方法は吸着、中和といったある量を消臭すると効果が飽
和に達するものがほとんどであり、触媒的に消臭を行う
ものであってもその効果は満足の行くものではなく、基
材劣化の無い光触媒体の開発が望まれる課題となってい
る。本発明は上記した従来の問題を解決するため、一般
に固着剤として使用されるアクリル樹脂やウレタン樹脂
を劣化させず、十分な光酸化触媒性を有する従来の無機
酸化物顔料と同様の取り扱いが出来る新規な光酸化触媒
性を有する無機酸化物複合体を提供することにある。
た悪臭の分解消臭や有害物質の除去、浄化、抗菌性を利
用した衛生加工品等、光触媒性を有効利用する試み(特
開平7−148434)、(特開平6−63178)が
見られるようになり、これに伴い十分な光触媒性を有
し、且つ、基材を劣化させない光触媒体の出現が望まれ
ている。従来の方法では有機物基材たとえばバインダー
等にフッ素系樹脂を用いる等光酸化分解性が低い難分解
性の固着剤を併用する等使用するにあたって著しい制限
が存在する。また悪臭の消臭剤として従来行われている
方法は吸着、中和といったある量を消臭すると効果が飽
和に達するものがほとんどであり、触媒的に消臭を行う
ものであってもその効果は満足の行くものではなく、基
材劣化の無い光触媒体の開発が望まれる課題となってい
る。本発明は上記した従来の問題を解決するため、一般
に固着剤として使用されるアクリル樹脂やウレタン樹脂
を劣化させず、十分な光酸化触媒性を有する従来の無機
酸化物顔料と同様の取り扱いが出来る新規な光酸化触媒
性を有する無機酸化物複合体を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の光触媒作用を有
する無機酸化物複合体は、前記の課題を達成するために
次の構成を有する。すなわち、光酸化触媒性を有する無
機酸化物を一般式(1)に示されるアルキルシリケート
でコーティングされることを特徴とする請求項1記載の
無機酸化物複合体と、請求項2記載の製造方法である。
する無機酸化物複合体は、前記の課題を達成するために
次の構成を有する。すなわち、光酸化触媒性を有する無
機酸化物を一般式(1)に示されるアルキルシリケート
でコーティングされることを特徴とする請求項1記載の
無機酸化物複合体と、請求項2記載の製造方法である。
【0005】
【化7】 n=0以上の整数、R=炭素数1〜4の直鎖または分岐
のある飽和アルキル基
のある飽和アルキル基
【0006】また光酸化触媒性を有する無機酸化物が酸
化チタンであることを特徴とする請求項1記載の無機酸
化物複合体、および請求項2記載の無機酸化物複合体の
製造方法である。さらには光触媒作用を有する無機酸化
物が酸化チタンであり、かつTiO2:SiO2の重量比
が95:5〜50:50となっているSiO2の含有率
が高い請求項1記載の無機酸化物複合体、および請求項
2記載の製造方法が主となる。
化チタンであることを特徴とする請求項1記載の無機酸
化物複合体、および請求項2記載の無機酸化物複合体の
製造方法である。さらには光触媒作用を有する無機酸化
物が酸化チタンであり、かつTiO2:SiO2の重量比
が95:5〜50:50となっているSiO2の含有率
が高い請求項1記載の無機酸化物複合体、および請求項
2記載の製造方法が主となる。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明の内容について詳述
する。本発明に用いられる光酸化性を有する無機物とし
ては酸化チタンがあり、酸化チタンは硫酸チタニルを加
水分解する硫酸法や四塩化チタンを気相酸化する塩素法
等、公知の方法で得られるアナタース型酸化チタン、ル
チル型酸化チタン、無定形酸化チタン、メタチタン酸、
オルソチタン酸、水和酸化チタン等やこれらの混合物が
例示される。本発明においては光触媒性が十分であれば
いずれでも良いが、光触媒性の強いアナタース型酸化チ
タンが良い。また光触媒性を強めるために他の無機物を
含有するものも望ましい。無機化合物の粒径は100μ
m以下であれば良く、好ましくは10μm以下であり更
に好ましくは1μm以下である。粒径が100μmより
大きい場合、加工処理された基材のざらつき感が大きく
なり繊維等の表面の風合いを重視する用途では価値が低
下する。また酸化チタンの光触媒活性は粒径が小さいほ
ど活性に富む傾向があり、より微粒子を用いる方が光触
媒活性の高い触媒体とすることが容易となり、希釈状態
での安定性も良く粒径の小さいものほど望ましい形とい
える。
する。本発明に用いられる光酸化性を有する無機物とし
ては酸化チタンがあり、酸化チタンは硫酸チタニルを加
水分解する硫酸法や四塩化チタンを気相酸化する塩素法
等、公知の方法で得られるアナタース型酸化チタン、ル
チル型酸化チタン、無定形酸化チタン、メタチタン酸、
オルソチタン酸、水和酸化チタン等やこれらの混合物が
例示される。本発明においては光触媒性が十分であれば
いずれでも良いが、光触媒性の強いアナタース型酸化チ
タンが良い。また光触媒性を強めるために他の無機物を
含有するものも望ましい。無機化合物の粒径は100μ
m以下であれば良く、好ましくは10μm以下であり更
に好ましくは1μm以下である。粒径が100μmより
大きい場合、加工処理された基材のざらつき感が大きく
なり繊維等の表面の風合いを重視する用途では価値が低
下する。また酸化チタンの光触媒活性は粒径が小さいほ
ど活性に富む傾向があり、より微粒子を用いる方が光触
媒活性の高い触媒体とすることが容易となり、希釈状態
での安定性も良く粒径の小さいものほど望ましい形とい
える。
【0008】本発明に用いられるアルキルシリケートは
前記の一般式(1)に示されるものであり、アルキル基
はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル等、直鎖ま
たは分岐のある飽和アルキル基である。これらアルキル
シリケートは1種または2種以上の混合物であっても良
いが、低温での反応性を考慮すればメチルまたはエチル
基のアルキルシリケートが好ましい。これらの化合物は
水分の存在下で容易に脱アルコール反応を起こし、シラ
ノール基を経てポリシロキサンとなる。アルキルシリケ
ートは通常2〜6量体のオリゴマーとなっており、単量
体のテトラアルキルシランの含有率は低いものが良く、
これらアルキルシリケートはアルコールを放出しながら
ポリシロキサンとなるため、ポリシロキサンの皮膜形成
時にはピンホールを生じることが知られている。さらに
利点として反応後に珪酸ナトリウムのようにナトリウム
塩の残留が無く、乾燥するだけで好ましい形とすること
ができ、シランカップリング剤等によりさらなる表面改
質も容易に行うことができる。
前記の一般式(1)に示されるものであり、アルキル基
はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル等、直鎖ま
たは分岐のある飽和アルキル基である。これらアルキル
シリケートは1種または2種以上の混合物であっても良
いが、低温での反応性を考慮すればメチルまたはエチル
基のアルキルシリケートが好ましい。これらの化合物は
水分の存在下で容易に脱アルコール反応を起こし、シラ
ノール基を経てポリシロキサンとなる。アルキルシリケ
ートは通常2〜6量体のオリゴマーとなっており、単量
体のテトラアルキルシランの含有率は低いものが良く、
これらアルキルシリケートはアルコールを放出しながら
ポリシロキサンとなるため、ポリシロキサンの皮膜形成
時にはピンホールを生じることが知られている。さらに
利点として反応後に珪酸ナトリウムのようにナトリウム
塩の残留が無く、乾燥するだけで好ましい形とすること
ができ、シランカップリング剤等によりさらなる表面改
質も容易に行うことができる。
【0009】アルキルシリケートは一般に市販されてい
るもので単量体であるテトラアルコキシシランが微量含
まれているもので良く、エチルシリケート40(コルコ
ート社製)、エチルシリケート40(多摩化学工業
(株)製)、MKCシリケートMS−51(三菱化学
(株)製)、MKCシリケートMS−56(三菱化学
(株)製)等が例示される。これらアルキルシリケート
は室温で無機酸化物と水中で混合することにより、無機
酸化物に多孔質の皮膜を形成する。この水中での反応は
酸性、アルカリ性のいずれでも進行するが、酸性での反
応がマイルドな反応となり反応後の塩類の残留も無く望
ましい。この時使用される酸としては塩酸が好ましい
が、硫酸、硝酸、りん酸等無機酸やその塩類、蟻酸、酢
酸、乳酸、シュウ酸、酒石酸等の有機酸またはその塩類
も使用出来る。
るもので単量体であるテトラアルコキシシランが微量含
まれているもので良く、エチルシリケート40(コルコ
ート社製)、エチルシリケート40(多摩化学工業
(株)製)、MKCシリケートMS−51(三菱化学
(株)製)、MKCシリケートMS−56(三菱化学
(株)製)等が例示される。これらアルキルシリケート
は室温で無機酸化物と水中で混合することにより、無機
酸化物に多孔質の皮膜を形成する。この水中での反応は
酸性、アルカリ性のいずれでも進行するが、酸性での反
応がマイルドな反応となり反応後の塩類の残留も無く望
ましい。この時使用される酸としては塩酸が好ましい
が、硫酸、硝酸、りん酸等無機酸やその塩類、蟻酸、酢
酸、乳酸、シュウ酸、酒石酸等の有機酸またはその塩類
も使用出来る。
【0010】アルキルシリケートの使用量は無機酸化物
の重量に対し5〜50%のシリカが付着する量であり、
好ましくは5〜20%、より好ましくは7〜15%であ
る。付着するシリカ分がこれより少ないと併用される固
着剤等の分解変色を低減することが出来ず、これより多
くなると光触媒活性の低下が著しくなる。アルキルシリ
ケートは無機酸化物に直接添加しても良いが、いったん
水中でアルキルシリケートを部分加水分解をさせ添加す
る方法が好ましい。また経験的ではあるが、加水分解の
温度は室温で2時間程度が良く、40℃以上で過剰に加
水分解を進めるとバインダーの変色がやや大きくなる傾
向にある。加水分解時にはアルキルシリケートの水への
溶解性を高めるため、メチルアルコールやイソプロピル
アルコールのような低級アルコールを添加しておくこと
が望ましい。これらの反応は加熱の必要もなく室温で進
行し、2時間程度で性能的に十分な無機酸化物複合体を
形成する。生成した無機酸化物複合体は溶媒を除去して
も柔らかく容易に解砕出来るものであり、従来の無機顔
料の分散方法で分散出来るものである。
の重量に対し5〜50%のシリカが付着する量であり、
好ましくは5〜20%、より好ましくは7〜15%であ
る。付着するシリカ分がこれより少ないと併用される固
着剤等の分解変色を低減することが出来ず、これより多
くなると光触媒活性の低下が著しくなる。アルキルシリ
ケートは無機酸化物に直接添加しても良いが、いったん
水中でアルキルシリケートを部分加水分解をさせ添加す
る方法が好ましい。また経験的ではあるが、加水分解の
温度は室温で2時間程度が良く、40℃以上で過剰に加
水分解を進めるとバインダーの変色がやや大きくなる傾
向にある。加水分解時にはアルキルシリケートの水への
溶解性を高めるため、メチルアルコールやイソプロピル
アルコールのような低級アルコールを添加しておくこと
が望ましい。これらの反応は加熱の必要もなく室温で進
行し、2時間程度で性能的に十分な無機酸化物複合体を
形成する。生成した無機酸化物複合体は溶媒を除去して
も柔らかく容易に解砕出来るものであり、従来の無機顔
料の分散方法で分散出来るものである。
【0011】この無機酸化物複合体は一般のアクリル樹
脂、ウレタン樹脂等のバインダーにより基材に固着する
ことができる。バインダーの種類は特に限定されないが
耐熱性、耐候性、耐NOx性の良いものが望ましいこと
は言うまでもなく、バインダーの使用量が多過ぎると分
解させる成分と無機酸化物複合体の接触が妨げられ、光
触媒性が発揮されないため必要最低量とすることが望ま
しい。基材へ付着させる方法としては、バインダーと無
機酸化物複合体を溶液の状態とし塗布することができ、
浸漬し乾燥する方法や、コーティング法等でフィルム、
繊維等に連続加工することも出来る。
脂、ウレタン樹脂等のバインダーにより基材に固着する
ことができる。バインダーの種類は特に限定されないが
耐熱性、耐候性、耐NOx性の良いものが望ましいこと
は言うまでもなく、バインダーの使用量が多過ぎると分
解させる成分と無機酸化物複合体の接触が妨げられ、光
触媒性が発揮されないため必要最低量とすることが望ま
しい。基材へ付着させる方法としては、バインダーと無
機酸化物複合体を溶液の状態とし塗布することができ、
浸漬し乾燥する方法や、コーティング法等でフィルム、
繊維等に連続加工することも出来る。
【0012】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
する。 (実施例1)メチルシリケートMS−51(三菱化学
(株)製)4.5重量部、メタノール7.5重量部、精
製水57.7重量部に0.5N塩酸0.15部を加えて
攪拌しておき、酸化チタン(AMT−600テイカ
(株)製)30重量部を徐々に加え室温で4時間攪拌し
分散液1を得た。
する。 (実施例1)メチルシリケートMS−51(三菱化学
(株)製)4.5重量部、メタノール7.5重量部、精
製水57.7重量部に0.5N塩酸0.15部を加えて
攪拌しておき、酸化チタン(AMT−600テイカ
(株)製)30重量部を徐々に加え室温で4時間攪拌し
分散液1を得た。
【0013】(実施例2)メチルシリケートMS−51
(三菱化学(株)製)15重量部、メタノール25重量
部、精製水9重量部に0.5N塩酸0.5部を加え1時
間室温で攪拌した。この液をA−1液とする。上記A−
1液15重量部、精製水55部、を攪拌しておき酸化チ
タン(AMT−600テイカ(株)製)30重量部を徐
々に加え室温で2時間攪拌し分散液2を得た。
(三菱化学(株)製)15重量部、メタノール25重量
部、精製水9重量部に0.5N塩酸0.5部を加え1時
間室温で攪拌した。この液をA−1液とする。上記A−
1液15重量部、精製水55部、を攪拌しておき酸化チ
タン(AMT−600テイカ(株)製)30重量部を徐
々に加え室温で2時間攪拌し分散液2を得た。
【0014】(実施例3)メチルシリケートMS−51
(三菱化学(株)製)15重量部、メタノール25重量
部、精製水9重量部に0.5N塩酸0.5部を加え50
℃で2時間攪拌した。この溶液をA−2液とする。上記
A−2液15重量部、精製水55部、を攪拌しておき酸
化チタン(AMT−600テイカ(株)製)30重量部
を徐々に加え2時間室温で攪拌し分散液3を得た。
(三菱化学(株)製)15重量部、メタノール25重量
部、精製水9重量部に0.5N塩酸0.5部を加え50
℃で2時間攪拌した。この溶液をA−2液とする。上記
A−2液15重量部、精製水55部、を攪拌しておき酸
化チタン(AMT−600テイカ(株)製)30重量部
を徐々に加え2時間室温で攪拌し分散液3を得た。
【0015】(実施例4)上記A−1液30重量部、精
製水40部を攪拌しておき酸化チタン(AMT−600
テイカ(株)製)30重量部を徐々に加え室温で2時間
攪拌し分散液4を得た。
製水40部を攪拌しておき酸化チタン(AMT−600
テイカ(株)製)30重量部を徐々に加え室温で2時間
攪拌し分散液4を得た。
【0016】(実施例5)上記A−1液60重量部、精
製水10部を攪拌しておき酸化チタン(AMT−600
テイカ(株)製)30重量部を徐々に加え室温で2時間
攪拌し分散液5を得た。
製水10部を攪拌しておき酸化チタン(AMT−600
テイカ(株)製)30重量部を徐々に加え室温で2時間
攪拌し分散液5を得た。
【0017】(実施例6)上記A−1液120重量部を
攪拌しておき酸化チタン(AMT−600テイカ(株)
製)30重量部を徐々に加え、室温で2時間攪拌し得ら
れた分散液を120℃で乾燥させ乳鉢で粉末とした。こ
の粉末48重量部を精製水52重量部に攪拌しながら添
加し分散液6を得た。
攪拌しておき酸化チタン(AMT−600テイカ(株)
製)30重量部を徐々に加え、室温で2時間攪拌し得ら
れた分散液を120℃で乾燥させ乳鉢で粉末とした。こ
の粉末48重量部を精製水52重量部に攪拌しながら添
加し分散液6を得た。
【0018】(実施例7)上記(実施例2)で得られた
分散液2を120℃で乾燥させ乳鉢で粉末とした。この
粉末32重量部を水70重量部に攪拌しながら添加し分
散液6を得た。
分散液2を120℃で乾燥させ乳鉢で粉末とした。この
粉末32重量部を水70重量部に攪拌しながら添加し分
散液6を得た。
【0019】(実施例8)エチルシリケート40(多摩
化学工業(株)製)5.6重量部、メタノール7.5重
量部、精製水56.6重量部に0.5N塩酸0.15を
加え40℃で2時間攪拌しておき酸化チタン(AMT−
600テイカ(株)製)30重量部を徐々に加え4時間
室温で攪拌し分散液8を得た。
化学工業(株)製)5.6重量部、メタノール7.5重
量部、精製水56.6重量部に0.5N塩酸0.15を
加え40℃で2時間攪拌しておき酸化チタン(AMT−
600テイカ(株)製)30重量部を徐々に加え4時間
室温で攪拌し分散液8を得た。
【0020】
【比較例1】酸化チタン(AMT−600テイカ(株)
製)を30重量部を攪拌しながら精製水70重量部に添
加し分散液9を得た。
製)を30重量部を攪拌しながら精製水70重量部に添
加し分散液9を得た。
【0021】
【比較例2】酸化チタン(TTO−55A石原産業
(株)製)を30重量部を攪拌しながら精製水70重量
部に添加し分散液10を得た。
(株)製)を30重量部を攪拌しながら精製水70重量
部に添加し分散液10を得た。
【0022】(紫外線照射下でのバインダーの変色性テ
スト)上記分散液1〜10を50重量部、各バインダー
を50重量部を増粘剤1重量部を用い混合増粘し、ガラ
ス板の上にアプリケーターを用いて塗布し、120℃熱
風乾燥機を用いて乾燥させた。この塗膜の張ったガラス
板を紫外線照射強度(10mW/cm2)になるように
紫外線照射機に入れ30分間暴露試験を行った。紫外線
照射強度測定はUM−1(ミノルタ(株)製)を用い行
った。 評価 ○:バインダーの変色と同等 ×:バインダー以
上に変色が認められる。この結果を下記の表1に示す。
表中のウレタンはリケンレヂンR−95−74(三木理
研工業(株)製)、アクリルはリケンゾールA−263
(三木理研工業(株)製)を示す。
スト)上記分散液1〜10を50重量部、各バインダー
を50重量部を増粘剤1重量部を用い混合増粘し、ガラ
ス板の上にアプリケーターを用いて塗布し、120℃熱
風乾燥機を用いて乾燥させた。この塗膜の張ったガラス
板を紫外線照射強度(10mW/cm2)になるように
紫外線照射機に入れ30分間暴露試験を行った。紫外線
照射強度測定はUM−1(ミノルタ(株)製)を用い行
った。 評価 ○:バインダーの変色と同等 ×:バインダー以
上に変色が認められる。この結果を下記の表1に示す。
表中のウレタンはリケンレヂンR−95−74(三木理
研工業(株)製)、アクリルはリケンゾールA−263
(三木理研工業(株)製)を示す。
【0023】
【表1】
【0024】(タバコ消臭性テスト)上記分散液1〜1
0を7重量部、精製水93重量部を混合した溶液を調液
しておき綿金巾布をその溶液に浸漬し、余分な液をマン
グルを用い絞り除去しピンテンターを用い熱風乾燥(1
00℃2分)し加工布を得た。500mlのガラス製三
角フラスコを入口を下にして入口の直下に発煙している
紙巻タバコを5秒間置いた後、素早く三角フラスコを横
にして試料3gを投入しガラス栓で密封した。1時間放
置後ガラス栓を開け残臭を嗅いで評価した。 評価 ○:残臭がほとんどない。△:やや残臭がある。
×:残臭が大きい。この結果を下記の表2に示す。
0を7重量部、精製水93重量部を混合した溶液を調液
しておき綿金巾布をその溶液に浸漬し、余分な液をマン
グルを用い絞り除去しピンテンターを用い熱風乾燥(1
00℃2分)し加工布を得た。500mlのガラス製三
角フラスコを入口を下にして入口の直下に発煙している
紙巻タバコを5秒間置いた後、素早く三角フラスコを横
にして試料3gを投入しガラス栓で密封した。1時間放
置後ガラス栓を開け残臭を嗅いで評価した。 評価 ○:残臭がほとんどない。△:やや残臭がある。
×:残臭が大きい。この結果を下記の表2に示す。
【0025】
【表2】
【0026】(タバコ消臭性テスト2)バインダーを添
加した加工布のタバコ消臭性を調べるため表3の配合1
の溶液を調整し、各溶液を綿金巾布に浸漬し、余分な液
をマングルを用いて絞り除去し、ピンテンターを用い熱
風乾燥(100℃2分)し加工布を得た。500mlの
ガラス製三角フラスコの入口を下にして入口の直下に発
煙している紙巻タバコを5秒間置いた後、素早く三角フ
ラスコを横にして試料3gを投入しガラス栓で密封し
た。1時間放置後ガラス栓を開け残臭を嗅いで評価し
た。
加した加工布のタバコ消臭性を調べるため表3の配合1
の溶液を調整し、各溶液を綿金巾布に浸漬し、余分な液
をマングルを用いて絞り除去し、ピンテンターを用い熱
風乾燥(100℃2分)し加工布を得た。500mlの
ガラス製三角フラスコの入口を下にして入口の直下に発
煙している紙巻タバコを5秒間置いた後、素早く三角フ
ラスコを横にして試料3gを投入しガラス栓で密封し
た。1時間放置後ガラス栓を開け残臭を嗅いで評価し
た。
【0027】
【表3】
【0028】評価 ○:残臭がほとんどない。△:やや
残臭がある。×:残臭が大きい。この結果を表4に示
す。
残臭がある。×:残臭が大きい。この結果を表4に示
す。
【0029】
【表4】
【0030】(アンモニア、メチルメルカプタンの消臭
テスト)前記分散液2を7重量部、精製水93重量部を
混合した溶液を調液しておき、綿金巾布をその液に浸漬
し、余分な液をマングルを用いて絞り除去し、ピンテン
ターを用い熱風乾燥(100℃2分)を行い、その後ベ
ーキング(170℃30秒)を行い加工布を得た。2l
のデシケーターに各種ガスを入れて初期濃度を計り、試
料を投入し経時でのガス濃度を測定した。表中の単位は
ppmであり測定は検知管によりおこなった。この結果
を表5、表6に示す。
テスト)前記分散液2を7重量部、精製水93重量部を
混合した溶液を調液しておき、綿金巾布をその液に浸漬
し、余分な液をマングルを用いて絞り除去し、ピンテン
ターを用い熱風乾燥(100℃2分)を行い、その後ベ
ーキング(170℃30秒)を行い加工布を得た。2l
のデシケーターに各種ガスを入れて初期濃度を計り、試
料を投入し経時でのガス濃度を測定した。表中の単位は
ppmであり測定は検知管によりおこなった。この結果
を表5、表6に示す。
【0031】
【表5】
【表6】
【0032】
【発明の効果】本発明によれば固着方法、固着剤等を限
定することなく従来の固着方法で使用出来る光酸化触媒
性を持つ無機酸化物複合体とすることができ、日光、蛍
光灯等、紫外線照射下に起こる酸化分解反応の触媒とし
て生活臭やたばこ臭の消臭剤や化学分解触媒、除菌など
の目的に使用することができる。
定することなく従来の固着方法で使用出来る光酸化触媒
性を持つ無機酸化物複合体とすることができ、日光、蛍
光灯等、紫外線照射下に起こる酸化分解反応の触媒とし
て生活臭やたばこ臭の消臭剤や化学分解触媒、除菌など
の目的に使用することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三木 保二 和歌山県和歌山市栄谷13−1 三木理研工 業株式会社研究所内
Claims (10)
- 【請求項1】 光触媒作用を有する無機酸化物の一般式
(1)に示されるアルキルシリケートでコーティングし
てなる無機酸化物複合体。 【化1】 n=0以上の整数、R=炭素数1〜4の直鎖または分岐
のある飽和アルキル基 - 【請求項2】 光触媒作用を有する無機酸化物の一般式
(1)に示されるアルキルシリケートでコーティングし
てなる無機酸化物複合体の製造方法。 【化2】 n=0以上の整数、R=炭素数1〜4の直鎖または分岐
のある飽和アルキル基 - 【請求項3】 光触媒作用を有する無機酸化物が酸化チ
タンである請求項1記載の無機酸化物複合体。 - 【請求項4】 光触媒作用を有する無機酸化物が酸化チ
タンである請求項2記載の無機酸化物複合体の製造方
法。 - 【請求項5】 光触媒作用を有する無機酸化物が酸化チ
タンでありかつTiO2:SiO2の重量比が95:5〜
50:50となっているSiO2の付着率が高い請求項
1記載の無機酸化物複合体。 - 【請求項6】 光触媒作用を有する無機酸化物が酸化チ
タンでありかつTiO2:SiO2の重量比が95:5〜
50:50となっているSiO2の付着率が高い請求項
1記載の無機酸化物複合体の製造方法。 - 【請求項7】 光触媒作用を有する無機酸化物が酸化チ
タンであり、かつ一般式(1)のアルキルシリケートが
n=0のテトラアルコキシシランの含有量が1%未満の
アルキルシリケートでありかつTiO2:SiO2の重量
比が95:5〜50:50となっているSiO2の付着
率が高い請求項1記載の無機酸化物複合体。 【化3】 n=0以上の整数、R=炭素数1〜4の直鎖または分岐
のある飽和アルキル基 - 【請求項8】 光触媒作用を有する無機酸化物が酸化チ
タンであり、かつ一般式(1)のアルキルシリケートが
n=0のテトラアルコキシシランの含有量が1%未満の
アルキルシリケートでありかつTiO2:SiO2の重量
比が95:5〜50:50となっているSiO2の付着
率が高い請求項1記載の無機酸化物複合体の製造方法。 【化4】 n=0以上の整数、R=炭素数1〜4の直鎖または分岐
のある飽和アルキル基 - 【請求項9】 光触媒作用を有する無機酸化物が酸化チ
タンであり、かつ一般式(1)のアルキルシリケートの
アルキル基がメチルまたはエチル基であってn=0の当
該テトラアルコキシシランの含有量が1%未満のアルキ
ルシリケートでありかつTiO2:SiO2の重量比が9
5:5〜50:50となっているSiO2の付着率が高
い請求項1記載の無機酸化物複合体。 【化5】 n=0以上の整数、R=炭素数1〜4の直鎖または分岐
のある飽和アルキル基 - 【請求項10】 光触媒作用を有する無機酸化物が酸化
チタンであり、かつ一般式(1)のアルキルシリケート
のアルキル基がメチルまたはエチル基であってn=0の
当該テトラアルコキシシランの含有量が1%未満のアル
キルシリケートでありかつTiO2:SiO2の重量比が
95:5〜50:50となっているSiO2の付着率が
高い請求項1記載の無機酸化物複合体の製造方法。 【化6】 n=0以上の整数、R=炭素数1〜4の直鎖または分岐
のある飽和アルキル基
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8194282A JPH1033988A (ja) | 1996-07-24 | 1996-07-24 | 無機酸化物複合体および製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8194282A JPH1033988A (ja) | 1996-07-24 | 1996-07-24 | 無機酸化物複合体および製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1033988A true JPH1033988A (ja) | 1998-02-10 |
Family
ID=16322017
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8194282A Pending JPH1033988A (ja) | 1996-07-24 | 1996-07-24 | 無機酸化物複合体および製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1033988A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6274399B1 (en) * | 1998-06-05 | 2001-08-14 | Lumileds Lighting, U.S. Llc | Method of strain engineering and impurity control in III-V nitride semiconductor films and optoelectronic devices |
| JP2007016111A (ja) * | 2005-07-07 | 2007-01-25 | Tayca Corp | シリカ被覆微粒子酸化チタンまたはシリカ被覆微粒子酸化亜鉛、その製造方法、その水分散体およびそれらを配合した化粧品 |
| JP2011256367A (ja) * | 2010-05-10 | 2011-12-22 | Natoko Kk | オリゴマー被覆金属酸化物微粒子 |
| US11313700B2 (en) | 2018-03-01 | 2022-04-26 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field influence during rotation movement of magnetic target |
| JP2024007811A (ja) * | 2022-07-06 | 2024-01-19 | シャープ株式会社 | 光触媒コーティング剤、光触媒フィルム、表示装置及びバインダーの合成方法 |
-
1996
- 1996-07-24 JP JP8194282A patent/JPH1033988A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6274399B1 (en) * | 1998-06-05 | 2001-08-14 | Lumileds Lighting, U.S. Llc | Method of strain engineering and impurity control in III-V nitride semiconductor films and optoelectronic devices |
| JP2007016111A (ja) * | 2005-07-07 | 2007-01-25 | Tayca Corp | シリカ被覆微粒子酸化チタンまたはシリカ被覆微粒子酸化亜鉛、その製造方法、その水分散体およびそれらを配合した化粧品 |
| JP2011256367A (ja) * | 2010-05-10 | 2011-12-22 | Natoko Kk | オリゴマー被覆金属酸化物微粒子 |
| US11313700B2 (en) | 2018-03-01 | 2022-04-26 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field influence during rotation movement of magnetic target |
| JP2024007811A (ja) * | 2022-07-06 | 2024-01-19 | シャープ株式会社 | 光触媒コーティング剤、光触媒フィルム、表示装置及びバインダーの合成方法 |
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