JPH10340836A - 現像装置および現像方法 - Google Patents
現像装置および現像方法Info
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- JPH10340836A JPH10340836A JP9107671A JP10767197A JPH10340836A JP H10340836 A JPH10340836 A JP H10340836A JP 9107671 A JP9107671 A JP 9107671A JP 10767197 A JP10767197 A JP 10767197A JP H10340836 A JPH10340836 A JP H10340836A
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 低コストで均一な現像処理を行うことができ
る現像装置および現像方法を提供することである。 【解決手段】 現像処理時に基板１００を基板保持部１
により静止状態で保持する。現像液吐出ノズル１１をリ
ンス液吐出ノズル１２とともに基板１００外の一方側の
位置から基板１００上を通過して基板１００外の他方側
の位置へ移動させつつ現像液吐出ノズル１１により現像
液を基板１００上に供給する。その後、現像液吐出ノズ
ル１１をリンス液吐出ノズル１２とともに基板１００外
の一方側の位置から基板１００上を通過して基板１００
外の他方側の位置へ移動させつつリンス液吐出ノズル１
６によりリンス液を基板１００上に供給する。
る現像装置および現像方法を提供することである。 【解決手段】 現像処理時に基板１００を基板保持部１
により静止状態で保持する。現像液吐出ノズル１１をリ
ンス液吐出ノズル１２とともに基板１００外の一方側の
位置から基板１００上を通過して基板１００外の他方側
の位置へ移動させつつ現像液吐出ノズル１１により現像
液を基板１００上に供給する。その後、現像液吐出ノズ
ル１１をリンス液吐出ノズル１２とともに基板１００外
の一方側の位置から基板１００上を通過して基板１００
外の他方側の位置へ移動させつつリンス液吐出ノズル１
６によりリンス液を基板１００上に供給する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板上の感光性膜
に現像液を供給して現像処理を行う現像装置および現像
方法に関する。
に現像液を供給して現像処理を行う現像装置および現像
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の
基板上に形成された感光性膜に現像処理を行うために現
像装置が用いられる。
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の
基板上に形成された感光性膜に現像処理を行うために現
像装置が用いられる。
【０００３】例えば、回転式現像装置は、基板を水平に
保持して鉛直軸の周りで回転させる回転保持部と、基板
の表面に現像液を供給する現像液吐出ノズルとを備え
る。現像液吐出ノズルは、水平面内で回動自在に設けら
れたノズルアームの先端に取り付けられており、基板の
上方位置と待機位置との間を移動することができる。
保持して鉛直軸の周りで回転させる回転保持部と、基板
の表面に現像液を供給する現像液吐出ノズルとを備え
る。現像液吐出ノズルは、水平面内で回動自在に設けら
れたノズルアームの先端に取り付けられており、基板の
上方位置と待機位置との間を移動することができる。
【０００４】現像処理時には、現像液吐出ノズルが待機
位置から基板の上方に移動した後、基板上の感光性膜に
現像液を供給する。供給された現像液は、基板の回転に
よって基板の全面に塗り広げられ、感光性膜と接触す
る。表面張力により基板上に現像液を保持した状態（液
盛り）で一定時間基板を静止させることにより感光性膜
の現像が行われる。現像液の供給が終了すると、現像液
吐出ノズルはノズルアームの回動により基板の上方から
退いた待機位置に移動する。
位置から基板の上方に移動した後、基板上の感光性膜に
現像液を供給する。供給された現像液は、基板の回転に
よって基板の全面に塗り広げられ、感光性膜と接触す
る。表面張力により基板上に現像液を保持した状態（液
盛り）で一定時間基板を静止させることにより感光性膜
の現像が行われる。現像液の供給が終了すると、現像液
吐出ノズルはノズルアームの回動により基板の上方から
退いた待機位置に移動する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来の回転式現像装置では、回転する基板に吐出開始時
の現像液が当たることにより基板上の感光性膜が大きな
衝撃を受ける。その衝撃で現像液中に気泡が生じ、感光
性膜の表面に残留する微小な気泡が現像欠陥となる場合
がある。また、吐出開始時の現像液による衝撃で感光性
膜が損傷するおそれもある。
従来の回転式現像装置では、回転する基板に吐出開始時
の現像液が当たることにより基板上の感光性膜が大きな
衝撃を受ける。その衝撃で現像液中に気泡が生じ、感光
性膜の表面に残留する微小な気泡が現像欠陥となる場合
がある。また、吐出開始時の現像液による衝撃で感光性
膜が損傷するおそれもある。
【０００６】そこで、スリット状吐出口を有する現像液
吐出ノズルから現像液を吐出しながら基板上の一端から
他端へ現像液吐出ノズルを直線状に移動させることによ
り、基板上に現像液を供給する現像方法が提案されてい
る。この現像方法によれば、基板上の感光性膜に衝撃が
加わらず、基板上に現像液が均一に供給される。しかし
ながら、現像液吐出ノズルを基板上で直線状に移動させ
るので、基板上で現像時間に差が生じる。それにより、
基板面内で現像均一性が悪くなり、現像後のパターン線
幅の均一性が低下する。
吐出ノズルから現像液を吐出しながら基板上の一端から
他端へ現像液吐出ノズルを直線状に移動させることによ
り、基板上に現像液を供給する現像方法が提案されてい
る。この現像方法によれば、基板上の感光性膜に衝撃が
加わらず、基板上に現像液が均一に供給される。しかし
ながら、現像液吐出ノズルを基板上で直線状に移動させ
るので、基板上で現像時間に差が生じる。それにより、
基板面内で現像均一性が悪くなり、現像後のパターン線
幅の均一性が低下する。
【０００７】本発明の目的は、低コストで均一な現像処
理を行うことができる現像装置および現像方法を提供す
ることである。
理を行うことができる現像装置および現像方法を提供す
ることである。
【０００８】
【０００９】第１の発明に係る現像装置は、基板を水平
姿勢で保持する基板保持手段と、現像液を吐出する現像
液吐出ノズルと、現像を停止させるためのリンス液を吐
出するリンス液吐出ノズルと、基板保持手段に静止状態
で保持された基板外の一方側の位置から基板上を通過し
て基板外の他方側の位置まで現像液吐出ノズルをリンス
液吐出ノズルとともに移動させる移動手段とを備えたも
のである。
姿勢で保持する基板保持手段と、現像液を吐出する現像
液吐出ノズルと、現像を停止させるためのリンス液を吐
出するリンス液吐出ノズルと、基板保持手段に静止状態
で保持された基板外の一方側の位置から基板上を通過し
て基板外の他方側の位置まで現像液吐出ノズルをリンス
液吐出ノズルとともに移動させる移動手段とを備えたも
のである。
【００１０】第１の発明に係る現像装置においては、現
像液吐出ノズルがリンス液吐出ノズルとともに静止した
基板外の一方側の位置から基板上を通過して基板外の他
方側の位置まで移動する。
像液吐出ノズルがリンス液吐出ノズルとともに静止した
基板外の一方側の位置から基板上を通過して基板外の他
方側の位置まで移動する。
【００１１】この場合、現像液吐出ノズルにより基板上
に現像液を供給した後、リンス液吐出ノズルにより基板
上にリンス液を供給することにより現像を停止させるこ
とができる。したがって、基板上での現像時間を均一に
することが可能となる。また、現像液吐出ノズルがリン
ス液吐出ノズルとともに基板上を移動するので、移動手
段の構成が簡単かつ小型となり、省スペース化が図られ
る。これらの結果、低コストで均一な現像処理を行うこ
とが可能となる。
に現像液を供給した後、リンス液吐出ノズルにより基板
上にリンス液を供給することにより現像を停止させるこ
とができる。したがって、基板上での現像時間を均一に
することが可能となる。また、現像液吐出ノズルがリン
ス液吐出ノズルとともに基板上を移動するので、移動手
段の構成が簡単かつ小型となり、省スペース化が図られ
る。これらの結果、低コストで均一な現像処理を行うこ
とが可能となる。
【００１２】第２の発明に係る現像装置は、第１の発明
に係る現像装置の構成において、現像液吐出ノズルは、
基板の直径以上の幅で移動手段による移動方向とほぼ垂
直な方向にほぼ直線状に現像液を吐出し、リンス液吐出
ノズルは、基板の直径以上の幅で移動手段による移動方
向とほぼ垂直な方向にほぼ直線状にリンス液を吐出する
ものである。
に係る現像装置の構成において、現像液吐出ノズルは、
基板の直径以上の幅で移動手段による移動方向とほぼ垂
直な方向にほぼ直線状に現像液を吐出し、リンス液吐出
ノズルは、基板の直径以上の幅で移動手段による移動方
向とほぼ垂直な方向にほぼ直線状にリンス液を吐出する
ものである。
【００１３】この場合、現像液吐出ノズルの１回の走査
で現像液を基板上に均一に供給することができ、かつ現
像液の消費量が少なくなる。また、リンス液吐出ノズル
の１回の走査でリンス液を基板上に均一に供給すること
ができ、かつリンス液の消費量が少なくなる。
で現像液を基板上に均一に供給することができ、かつ現
像液の消費量が少なくなる。また、リンス液吐出ノズル
の１回の走査でリンス液を基板上に均一に供給すること
ができ、かつリンス液の消費量が少なくなる。
【００１４】第３の発明に係る現像装置は、第１または
第２の発明に係る現像装置の構成において、移動手段に
より現像液吐出ノズルをリンス液吐出ノズルとともに基
板上を一方向に移動させつつ現像液吐出ノズルによる現
像液の吐出を行った後、移動手段により現像液吐出ノズ
ルをリンス液吐出ノズルとともに一方向に移動させつつ
リンス液吐出ノズルによるリンス液の吐出を行う制御手
段をさらに備えたものである。
第２の発明に係る現像装置の構成において、移動手段に
より現像液吐出ノズルをリンス液吐出ノズルとともに基
板上を一方向に移動させつつ現像液吐出ノズルによる現
像液の吐出を行った後、移動手段により現像液吐出ノズ
ルをリンス液吐出ノズルとともに一方向に移動させつつ
リンス液吐出ノズルによるリンス液の吐出を行う制御手
段をさらに備えたものである。
【００１５】この場合、現像液吐出ノズルを一方向に走
査させた後、リンス液吐出ノズルを同一方向に走査させ
ることにより、基板上の各部分で現像液吐出ノズルによ
る現像液の供給からリンス液吐出ノズルによるリンス液
の供給までの時間が等しくなる。それにより、基板面内
で現像時間が均一となり、現像パターンの線幅均一性が
向上する。
査させた後、リンス液吐出ノズルを同一方向に走査させ
ることにより、基板上の各部分で現像液吐出ノズルによ
る現像液の供給からリンス液吐出ノズルによるリンス液
の供給までの時間が等しくなる。それにより、基板面内
で現像時間が均一となり、現像パターンの線幅均一性が
向上する。
【００１６】第４の発明に係る現像装置は、第１または
第２の発明に係る現像装置の構成において、移動手段に
より現像液吐出ノズルをリンス液吐出ノズルとともに基
板上を一方向に移動させつつ現像液吐出ノズルによる現
像液の吐出を行った後、基板保持手段に保持された基板
を鉛直方向の軸の周りで１８０度回転させ、移動手段に
より現像液吐出ノズルをリンス液吐出ノズルとともに一
方向と逆の方向に移動させつつリンス液吐出ノズルによ
るリンス液の吐出を行う制御手段をさらに備えたもので
ある。
第２の発明に係る現像装置の構成において、移動手段に
より現像液吐出ノズルをリンス液吐出ノズルとともに基
板上を一方向に移動させつつ現像液吐出ノズルによる現
像液の吐出を行った後、基板保持手段に保持された基板
を鉛直方向の軸の周りで１８０度回転させ、移動手段に
より現像液吐出ノズルをリンス液吐出ノズルとともに一
方向と逆の方向に移動させつつリンス液吐出ノズルによ
るリンス液の吐出を行う制御手段をさらに備えたもので
ある。
【００１７】この場合、現像液吐出ノズルを一方向に走
査させた後、基板を１８０度回転させ、リンス液吐出ノ
ズルを逆方向に走査させることにより、基板上の各部分
で現像液吐出ノズルによる現像液の供給からリンス液吐
出ノズルによるリンス液の供給までの時間が等しくな
る。それにより、基板面内で現像時間が均一となり、現
像パターンの線幅均一性が向上する。
査させた後、基板を１８０度回転させ、リンス液吐出ノ
ズルを逆方向に走査させることにより、基板上の各部分
で現像液吐出ノズルによる現像液の供給からリンス液吐
出ノズルによるリンス液の供給までの時間が等しくな
る。それにより、基板面内で現像時間が均一となり、現
像パターンの線幅均一性が向上する。
【００１８】また、現像液吐出ノズルおよびリンス液吐
出ノズルの移動距離が短くなるので、現像処理に要する
時間が短縮され、現像装置の稼働率が向上する。
出ノズルの移動距離が短くなるので、現像処理に要する
時間が短縮され、現像装置の稼働率が向上する。
【００１９】第５の発明に係る現像装置は、第３または
第４の発明に係る現像装置の構成において、制御手段
は、現像液の供給時に、現像液吐出ノズルが基板上に達
する前に現像液吐出ノズルによる現像液の吐出を開始さ
せるものである。
第４の発明に係る現像装置の構成において、制御手段
は、現像液の供給時に、現像液吐出ノズルが基板上に達
する前に現像液吐出ノズルによる現像液の吐出を開始さ
せるものである。
【００２０】この場合、現像液吐出ノズルが静止した基
板上に達する前に現像液の吐出が開始されるので、吐出
開始時の現像液が基板に衝撃を与えることが回避され
る。それにより、現像液中の気泡の発生が抑制されて現
像欠陥の発生が防止されるとともに、衝撃による基板上
の感光性膜の損傷が防止される。
板上に達する前に現像液の吐出が開始されるので、吐出
開始時の現像液が基板に衝撃を与えることが回避され
る。それにより、現像液中の気泡の発生が抑制されて現
像欠陥の発生が防止されるとともに、衝撃による基板上
の感光性膜の損傷が防止される。
【００２１】また、現像液吐出ノズルの移動中に空気に
接触する吐出口付近の現像液が基板外に廃棄され、現像
液吐出ノズルが基板上に到達した時点で現像液吐出ノズ
ルから新しい現像液が静止した基板上に供給される。そ
れにより、変質した現像液により現像欠陥が発生するこ
とが防止されるとともに、乾燥した現像液によるパーテ
ィクルが基板表面に付着することが防止される。
接触する吐出口付近の現像液が基板外に廃棄され、現像
液吐出ノズルが基板上に到達した時点で現像液吐出ノズ
ルから新しい現像液が静止した基板上に供給される。そ
れにより、変質した現像液により現像欠陥が発生するこ
とが防止されるとともに、乾燥した現像液によるパーテ
ィクルが基板表面に付着することが防止される。
【００２２】第６の発明に係る現像装置は、第５の発明
に係る現像装置の構成において、制御手段は、現像液吐
出ノズルが基板上を通過した後に現像液吐出ノズルによ
る現像液の吐出を停止させるものである。
に係る現像装置の構成において、制御手段は、現像液吐
出ノズルが基板上を通過した後に現像液吐出ノズルによ
る現像液の吐出を停止させるものである。
【００２３】この場合、現像液吐出ノズルが基板上を通
り過ぎた後に現像液の吐出が停止されるので、吐出停止
時の現像液の液だれにより基板表面に衝撃が加わること
が防止されるとともに、吐出停止時の衝撃により液盛り
中の現像液へ悪影響が与えられることが防止される。そ
れにより、現像欠陥の発生および現像後の感光性膜パタ
ーンの線幅均一性の劣化が防止される。
り過ぎた後に現像液の吐出が停止されるので、吐出停止
時の現像液の液だれにより基板表面に衝撃が加わること
が防止されるとともに、吐出停止時の衝撃により液盛り
中の現像液へ悪影響が与えられることが防止される。そ
れにより、現像欠陥の発生および現像後の感光性膜パタ
ーンの線幅均一性の劣化が防止される。
【００２４】さらに、現像液吐出ノズルが基板上を通過
する間、新しい現像液が連続的に供給されるので、基板
上に現像液が均一に供給される。
する間、新しい現像液が連続的に供給されるので、基板
上に現像液が均一に供給される。
【００２５】第７の発明に係る現像装置は、第３〜第６
のいずれかの発明に係る現像装置の構成において、制御
手段は、リンス液の供給時に、リンス液吐出ノズルが基
板上に達する前にリンス液吐出ノズルによるリンス液の
吐出を開始させるものである。
のいずれかの発明に係る現像装置の構成において、制御
手段は、リンス液の供給時に、リンス液吐出ノズルが基
板上に達する前にリンス液吐出ノズルによるリンス液の
吐出を開始させるものである。
【００２６】この場合、リンス液吐出ノズルが静止した
基板上に達する前にリンス液の吐出が開始されるので、
吐出開始時のリンス液が基板に衝撃を与えることが回避
される。それにより、リンス液中の気泡の発生が抑制さ
れて現像欠陥の発生が防止されるとともに、衝撃による
基板上の感光性膜の損傷が防止される。
基板上に達する前にリンス液の吐出が開始されるので、
吐出開始時のリンス液が基板に衝撃を与えることが回避
される。それにより、リンス液中の気泡の発生が抑制さ
れて現像欠陥の発生が防止されるとともに、衝撃による
基板上の感光性膜の損傷が防止される。
【００２７】また、リンス液吐出ノズルの移動中に空気
に接触する吐出口付近のリンス液が基板外に廃棄され、
リンス液吐出ノズルが基板上に到達した時点でリンス液
吐出ノズルから新しいリンス液が静止した基板上に供給
される。それにより、変質したリンス液により現像欠陥
が発生することが防止されるとともに、乾燥したリンス
液によるパーティクルが基板表面に付着することが防止
される。
に接触する吐出口付近のリンス液が基板外に廃棄され、
リンス液吐出ノズルが基板上に到達した時点でリンス液
吐出ノズルから新しいリンス液が静止した基板上に供給
される。それにより、変質したリンス液により現像欠陥
が発生することが防止されるとともに、乾燥したリンス
液によるパーティクルが基板表面に付着することが防止
される。
【００２８】第８の発明に係る現像装置は、第７の発明
に係る現像装置の構成において、制御手段は、リンス液
吐出ノズルが基板上を通過した後にリンス液吐出ノズル
によるリンス液の吐出を停止させるものである。
に係る現像装置の構成において、制御手段は、リンス液
吐出ノズルが基板上を通過した後にリンス液吐出ノズル
によるリンス液の吐出を停止させるものである。
【００２９】この場合、リンス液吐出ノズルが基板上を
通り過ぎた後にリンス液の吐出が停止されるので、吐出
停止時のリンス液の液だれにより基板表面に衝撃が加わ
ることが防止されるとともに、吐出停止時の衝撃により
液盛り中の現像液へ悪影響が与えられることが防止され
る。それにより、現像欠陥の発生および現像後の感光性
膜パターンの線幅均一性の劣化が防止される。
通り過ぎた後にリンス液の吐出が停止されるので、吐出
停止時のリンス液の液だれにより基板表面に衝撃が加わ
ることが防止されるとともに、吐出停止時の衝撃により
液盛り中の現像液へ悪影響が与えられることが防止され
る。それにより、現像欠陥の発生および現像後の感光性
膜パターンの線幅均一性の劣化が防止される。
【００３０】さらに、リンス液吐出ノズルが基板上を通
過する間、新しいリンス液が連続的に供給されるので、
基板上にリンス液が均一に供給される。
過する間、新しいリンス液が連続的に供給されるので、
基板上にリンス液が均一に供給される。
【００３１】第９の発明に係る現像装置は、第１〜第８
のいずれかの発明に係る現像装置の構成において、現像
液吐出ノズルによる現像液の吐出方向が鉛直下向きから
現像液吐出ノズルの移動方向と反対方向に傾けられたも
のである。
のいずれかの発明に係る現像装置の構成において、現像
液吐出ノズルによる現像液の吐出方向が鉛直下向きから
現像液吐出ノズルの移動方向と反対方向に傾けられたも
のである。
【００３２】この場合、基板表面において現像液吐出ノ
ズルの移動方向への現像液の流動が抑制されるととも
に、移動方向とは逆方向への現像液の流動が誘起され
る。移動方向への現像液の流動が抑制されることによ
り、現像液が現像液吐出ノズルよりも移動方向側へ先行
して流れることが防止され、現像液の均一性が向上す
る。また、移動方向とは逆方向への現像液の流動が誘起
されることにより、マイクロバブルと呼ばれる現像液中
の微小な泡が基板表面に付着することが防止され、微小
な泡の付着による現像欠陥の発生が抑制される。
ズルの移動方向への現像液の流動が抑制されるととも
に、移動方向とは逆方向への現像液の流動が誘起され
る。移動方向への現像液の流動が抑制されることによ
り、現像液が現像液吐出ノズルよりも移動方向側へ先行
して流れることが防止され、現像液の均一性が向上す
る。また、移動方向とは逆方向への現像液の流動が誘起
されることにより、マイクロバブルと呼ばれる現像液中
の微小な泡が基板表面に付着することが防止され、微小
な泡の付着による現像欠陥の発生が抑制される。
【００３３】第１０の発明に係る現像装置は、第１〜第
９の発明に係る現像装置の構成において、リンス液吐出
ノズルによるリンス液の吐出方向が鉛直下向きからリン
ス液吐出ノズルの移動方向と反対方向に傾けられたもの
である。
９の発明に係る現像装置の構成において、リンス液吐出
ノズルによるリンス液の吐出方向が鉛直下向きからリン
ス液吐出ノズルの移動方向と反対方向に傾けられたもの
である。
【００３４】この場合、基板表面においてリンス液吐出
ノズルの移動方向へのリンス液の流動が抑制されるとと
もに、移動方向とは逆方向へのリンス液の流動が誘起さ
れる。移動方向へのリンス液の流動が抑制されることに
より、リンス液がリンス液吐出ノズルよりも移動方向側
へ先行して不規則に流れることが防止されるので、直線
状に現像の停止を行うことができ、現像の均一性が向上
する。また、移動方向とは逆方向へのリンス液の流動が
誘起されることにより、リンス効果が向上する。
ノズルの移動方向へのリンス液の流動が抑制されるとと
もに、移動方向とは逆方向へのリンス液の流動が誘起さ
れる。移動方向へのリンス液の流動が抑制されることに
より、リンス液がリンス液吐出ノズルよりも移動方向側
へ先行して不規則に流れることが防止されるので、直線
状に現像の停止を行うことができ、現像の均一性が向上
する。また、移動方向とは逆方向へのリンス液の流動が
誘起されることにより、リンス効果が向上する。
【００３５】第１１の発明に係る現像装置は、第１〜第
１０のいずれかの発明に係る現像装置の構成において、
現像液吐出ノズルおよびリンス液吐出ノズルは、水平方
向に配置されたスリット状吐出口をそれぞれ有し、移動
手段は、現像液吐出ノズルおよびリンス液吐出ノズルを
スリット状吐出口とほぼ垂直な方向に直線状に移動させ
るものである。
１０のいずれかの発明に係る現像装置の構成において、
現像液吐出ノズルおよびリンス液吐出ノズルは、水平方
向に配置されたスリット状吐出口をそれぞれ有し、移動
手段は、現像液吐出ノズルおよびリンス液吐出ノズルを
スリット状吐出口とほぼ垂直な方向に直線状に移動させ
るものである。
【００３６】これにより、現像液およびリンス液を少な
い消費量で基板の全面に均一に供給することができる。
い消費量で基板の全面に均一に供給することができる。
【００３７】第１２の発明に係る現像方法は、基板保持
手段に静止状態で保持された基板上に現像液吐出ノズル
から現像液を吐出供給する現像方法であって、現像液吐
出ノズルから基板上に現像液を吐出させつつ現像液吐出
ノズルをリンス液吐出ノズルとともに基板外の一方側の
位置から基板上を通過して基板外の他方側の位置まで移
動させる工程と、リンス液吐出ノズルからリンス液を吐
出させつつ現像液吐出ノズルをリンス液吐出ノズルとと
もに基板外の一方側または他方側の位置から基板上を通
過して基板外の他方側または一方側の位置まで移動させ
る工程とを含むものである。
手段に静止状態で保持された基板上に現像液吐出ノズル
から現像液を吐出供給する現像方法であって、現像液吐
出ノズルから基板上に現像液を吐出させつつ現像液吐出
ノズルをリンス液吐出ノズルとともに基板外の一方側の
位置から基板上を通過して基板外の他方側の位置まで移
動させる工程と、リンス液吐出ノズルからリンス液を吐
出させつつ現像液吐出ノズルをリンス液吐出ノズルとと
もに基板外の一方側または他方側の位置から基板上を通
過して基板外の他方側または一方側の位置まで移動させ
る工程とを含むものである。
【００３８】本発明に係る現像方法においては、現像液
吐出ノズルにより基板上に現像液を供給した後、リンス
液吐出ノズルにより基板上にリンス液を供給することに
より現像を停止させることができる。したがって、基板
上での現像時間を均一にすることが可能となる。また、
現像液吐出ノズルがリンス液吐出ノズルとともに基板上
を移動するので、現像液吐出ノズルおよびリンス液吐出
ノズルを移動させる手段の構成が簡単かつ小型となり、
省スペース化が図られる。これらの結果、低コストで均
一な現像処理を行うことができる。
吐出ノズルにより基板上に現像液を供給した後、リンス
液吐出ノズルにより基板上にリンス液を供給することに
より現像を停止させることができる。したがって、基板
上での現像時間を均一にすることが可能となる。また、
現像液吐出ノズルがリンス液吐出ノズルとともに基板上
を移動するので、現像液吐出ノズルおよびリンス液吐出
ノズルを移動させる手段の構成が簡単かつ小型となり、
省スペース化が図られる。これらの結果、低コストで均
一な現像処理を行うことができる。
【００３９】
【発明の実施の形態】図１は本発明の一実施例における
現像装置の平面図、図２は図１の現像装置の主要部のＸ
−Ｘ線断面図、図３は図１の現像装置の主要部のＹ−Ｙ
線断面図である。
現像装置の平面図、図２は図１の現像装置の主要部のＸ
−Ｘ線断面図、図３は図１の現像装置の主要部のＹ−Ｙ
線断面図である。
【００４０】図２および図３に示すように、現像装置
は、基板１００を水平姿勢で吸引保持する基板保持部１
を備える。基板保持部１は、モータ２の回転軸３の先端
部に固定され、鉛直方向の軸の周りで回転可能に構成さ
れている。基板保持部１の周囲には、基板１００を取り
囲むように円形の内側カップ４が上下動自在に設けられ
ている。また、内側カップ４の周囲には、正方形の外側
カップ５が設けられている。
は、基板１００を水平姿勢で吸引保持する基板保持部１
を備える。基板保持部１は、モータ２の回転軸３の先端
部に固定され、鉛直方向の軸の周りで回転可能に構成さ
れている。基板保持部１の周囲には、基板１００を取り
囲むように円形の内側カップ４が上下動自在に設けられ
ている。また、内側カップ４の周囲には、正方形の外側
カップ５が設けられている。
【００４１】図１に示すように、外側カップ５の両側に
はそれぞれ待機ポット６，７が配置され、外側カップ５
の一方の側部側にはガイドレール８が配設されている。
また、ノズルアーム９がアーム駆動部１０によりガイド
レール８に沿って走査方向Ａおよびその逆方向に移動可
能に設けられている。外側カップ５の他方の側部側に
は、洗浄用リンス液として純水を吐出する洗浄用のリン
ス液吐出ノズル１２が矢印Ｒの方向に回動可能に設けら
れている。
はそれぞれ待機ポット６，７が配置され、外側カップ５
の一方の側部側にはガイドレール８が配設されている。
また、ノズルアーム９がアーム駆動部１０によりガイド
レール８に沿って走査方向Ａおよびその逆方向に移動可
能に設けられている。外側カップ５の他方の側部側に
は、洗浄用リンス液として純水を吐出する洗浄用のリン
ス液吐出ノズル１２が矢印Ｒの方向に回動可能に設けら
れている。
【００４２】ノズルアーム９には、下端部にスリット状
吐出口１５（図３参照）を有する現像液吐出ノズル１１
がガイドレール８と垂直に取り付けられている。この現
像液吐出ノズル１１には、現像停止用のリンス液吐出ノ
ズル１６が取り付けられている。これにより、現像液吐
出ノズル１１は、リンス液吐出ノズル１６とともに待機
ポット６の位置から基板１００上を通過して待機ポット
７の位置まで走査方向Ａに沿って直線状に平行移動可能
となっている。図３に示すように、現像液吐出ノズル１
１は矢印Ｑの方向に回動可能に構成されている。
吐出口１５（図３参照）を有する現像液吐出ノズル１１
がガイドレール８と垂直に取り付けられている。この現
像液吐出ノズル１１には、現像停止用のリンス液吐出ノ
ズル１６が取り付けられている。これにより、現像液吐
出ノズル１１は、リンス液吐出ノズル１６とともに待機
ポット６の位置から基板１００上を通過して待機ポット
７の位置まで走査方向Ａに沿って直線状に平行移動可能
となっている。図３に示すように、現像液吐出ノズル１
１は矢印Ｑの方向に回動可能に構成されている。
【００４３】図２に示すように、現像液吐出ノズル１１
には、現像液供給系１２により現像液が供給される。ま
た、リンス液吐出ノズル１６には、リンス液供給系１７
により現像停止用のリンス液が供給される。本実施例で
は、現像停止用のリンス液として純水が用いられる。制
御部１３は、モータ２の回転動作、アーム駆動部１０に
よる現像液吐出ノズル１１の走査、現像液吐出ノズル１
１からの現像液の吐出およびリンス液吐出ノズル１６か
らのリンス液の吐出を制御する。
には、現像液供給系１２により現像液が供給される。ま
た、リンス液吐出ノズル１６には、リンス液供給系１７
により現像停止用のリンス液が供給される。本実施例で
は、現像停止用のリンス液として純水が用いられる。制
御部１３は、モータ２の回転動作、アーム駆動部１０に
よる現像液吐出ノズル１１の走査、現像液吐出ノズル１
１からの現像液の吐出およびリンス液吐出ノズル１６か
らのリンス液の吐出を制御する。
【００４４】本実施例では、基板保持部１が基板保持手
段に相当し、アーム駆動部１０が移動手段に相当し、制
御部１３が制御手段に相当する。
段に相当し、アーム駆動部１０が移動手段に相当し、制
御部１３が制御手段に相当する。
【００４５】図４は現像液吐出ノズル１１およびリンス
液吐出ノズル１６の概略断面図である。また、図５は現
像液吐出ノズル１１のスリット状吐出口１５を示す図、
図６はリンス液吐出ノズル１６の正面図である。
液吐出ノズル１６の概略断面図である。また、図５は現
像液吐出ノズル１１のスリット状吐出口１５を示す図、
図６はリンス液吐出ノズル１６の正面図である。
【００４６】図４に示すように、現像液吐出ノズル１１
は現像液供給口１９およびスリット状吐出口１５を有す
る。図５に示すスリット状吐出口１５のスリット幅ｔは
０．０５〜０．５ｍｍであり、本実施例では０．１ｍｍ
である。また、スリット状吐出口１５の吐出幅Ｌは処理
対象となる基板１００の直径と同じかまたはそれよりも
大きく設定されている。このスリット状吐出口１５は現
像液吐出ノズル１１の走査方向Ａと垂直に配置される。
は現像液供給口１９およびスリット状吐出口１５を有す
る。図５に示すスリット状吐出口１５のスリット幅ｔは
０．０５〜０．５ｍｍであり、本実施例では０．１ｍｍ
である。また、スリット状吐出口１５の吐出幅Ｌは処理
対象となる基板１００の直径と同じかまたはそれよりも
大きく設定されている。このスリット状吐出口１５は現
像液吐出ノズル１１の走査方向Ａと垂直に配置される。
【００４７】この現像液吐出ノズル１１の側壁にリンス
液吐出ノズル１６が取り付けられている。図６に示すよ
うに、リンス液吐出ノズル１６は管状部材２０からな
り、その周壁にスリット状吐出口１８が設けられてい
る。リンス液は、矢印で示すように、管状部材２０の両
端部から供給される。スリット状吐出口１８の吐出幅Ｗ
は処理対象となる基板１００の直径と同じかまたはそれ
よりも大きく設定されている。このスリット状吐出口１
８は現像液吐出ノズル１１の走査方向Ａと垂直に配置さ
れる。
液吐出ノズル１６が取り付けられている。図６に示すよ
うに、リンス液吐出ノズル１６は管状部材２０からな
り、その周壁にスリット状吐出口１８が設けられてい
る。リンス液は、矢印で示すように、管状部材２０の両
端部から供給される。スリット状吐出口１８の吐出幅Ｗ
は処理対象となる基板１００の直径と同じかまたはそれ
よりも大きく設定されている。このスリット状吐出口１
８は現像液吐出ノズル１１の走査方向Ａと垂直に配置さ
れる。
【００４８】図７は現像液吐出ノズル１１による現像液
の吐出方向を示す側面図である。図７に示すように、現
像液の供給時には、現像液吐出ノズル１１は、現像液の
吐出方向Ｂが基板の法線方向（鉛直下向き）から走査方
向Ａと反対側に角度α傾斜するように傾けられる。傾斜
角度αは０〜３０°の範囲内であり、本実施例では２０
°に設定される。
の吐出方向を示す側面図である。図７に示すように、現
像液の供給時には、現像液吐出ノズル１１は、現像液の
吐出方向Ｂが基板の法線方向（鉛直下向き）から走査方
向Ａと反対側に角度α傾斜するように傾けられる。傾斜
角度αは０〜３０°の範囲内であり、本実施例では２０
°に設定される。
【００４９】また、現像液吐出ノズル１１は、現像液の
供給時にスリット状吐出口１５が基板１００の上面に対
して０．２〜５．０ｍｍ、より好ましくは０．２〜１．
０ｍｍの間隔を保つように走査される。本実施例では、
現像液吐出ノズル１１のスリット状吐出口１５と基板１
００の上面との間隔が０．３±０．１ｍｍに設定され
る。
供給時にスリット状吐出口１５が基板１００の上面に対
して０．２〜５．０ｍｍ、より好ましくは０．２〜１．
０ｍｍの間隔を保つように走査される。本実施例では、
現像液吐出ノズル１１のスリット状吐出口１５と基板１
００の上面との間隔が０．３±０．１ｍｍに設定され
る。
【００５０】図８はリンス液吐出ノズル１６によるリン
ス液の吐出方向を示す側面図である。図８に示すよう
に、リンス液の供給時には、現像液吐出ノズル１１は、
リンス液吐出ノズル１６からのリンス液の吐出方向Ｃが
基板の法線方向（鉛直下向き）から走査方向Ａと反対側
に角度β傾斜するように傾けられる。傾斜角度βは１０
〜６０°の範囲内であり、本実施例では３０°に設定さ
れる。
ス液の吐出方向を示す側面図である。図８に示すよう
に、リンス液の供給時には、現像液吐出ノズル１１は、
リンス液吐出ノズル１６からのリンス液の吐出方向Ｃが
基板の法線方向（鉛直下向き）から走査方向Ａと反対側
に角度β傾斜するように傾けられる。傾斜角度βは１０
〜６０°の範囲内であり、本実施例では３０°に設定さ
れる。
【００５１】次に図９を参照しながら図１の現像装置の
動作の第１の例を説明する。現像処理時には、基板１０
０は基板保持部１により静止状態で保持されている。
動作の第１の例を説明する。現像処理時には、基板１０
０は基板保持部１により静止状態で保持されている。
【００５２】まず、図９（ａ）に示すように、待機時に
は、現像液吐出ノズル１１は、待機ポット６内の位置Ｐ
０に待機している。現像液の供給時には、現像液吐出ノ
ズル１１が上昇した後、走査方向Ａに移動し、外側カッ
プ５内の走査開始位置Ｐ１で下降する。
は、現像液吐出ノズル１１は、待機ポット６内の位置Ｐ
０に待機している。現像液の供給時には、現像液吐出ノ
ズル１１が上昇した後、走査方向Ａに移動し、外側カッ
プ５内の走査開始位置Ｐ１で下降する。
【００５３】その後、現像液吐出ノズル１１は、走査開
始位置Ｐ１から所定の走査速度で走査を開始する。この
時点では、現像液吐出ノズル１１からまだ現像液の吐出
は行わない。本実施例では、走査速度は１０〜５００ｍ
ｍ／秒とする。
始位置Ｐ１から所定の走査速度で走査を開始する。この
時点では、現像液吐出ノズル１１からまだ現像液の吐出
は行わない。本実施例では、走査速度は１０〜５００ｍ
ｍ／秒とする。
【００５４】現像液吐出ノズル１１の走査開始後、現像
液吐出ノズル１１のスリット状吐出口１５が基板１００
上に到達する前に、吐出開始位置Ｐ２にて所定の流量で
現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を開始する。
本実施例では、現像液の吐出流量は１．５Ｌ／分とす
る。
液吐出ノズル１１のスリット状吐出口１５が基板１００
上に到達する前に、吐出開始位置Ｐ２にて所定の流量で
現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を開始する。
本実施例では、現像液の吐出流量は１．５Ｌ／分とす
る。
【００５５】現像液吐出ノズル１１は、現像液を吐出し
ながら吐出開始位置Ｐ２から基板１００上を走査方向Ａ
に直線状に移動する。これにより、基板１００の全面に
現像液が連続的に供給される。供給された現像液は、表
面張力により基板１００上に保持される。
ながら吐出開始位置Ｐ２から基板１００上を走査方向Ａ
に直線状に移動する。これにより、基板１００の全面に
現像液が連続的に供給される。供給された現像液は、表
面張力により基板１００上に保持される。
【００５６】現像液吐出ノズル１１が基板１００上を通
過した後、基板１００上から外れた吐出停止位置Ｐ３で
現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を停止させ
る。そして、現像液吐出ノズル１１が外側カップ５内の
走査停止位置Ｐ４に到達した時点で現像液吐出ノズル１
１の走査を停止させる。
過した後、基板１００上から外れた吐出停止位置Ｐ３で
現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を停止させ
る。そして、現像液吐出ノズル１１が外側カップ５内の
走査停止位置Ｐ４に到達した時点で現像液吐出ノズル１
１の走査を停止させる。
【００５７】その後、現像液吐出ノズル１１は、走査停
止位置Ｐ４で上昇した後、他方の待機ポット７の位置Ｐ
５まで移動し、待機ポット７内に下降する。
止位置Ｐ４で上昇した後、他方の待機ポット７の位置Ｐ
５まで移動し、待機ポット７内に下降する。
【００５８】待機ポット７内では、現像液吐出ノズル１
１の先端に付着した現像液を水洗洗浄ノズル（図示せ
ず）で水洗洗浄し、その後残留する水滴を吸引ノズル
（図示せず）で吸引して除去する処理が行われる。な
お、これらの処理で発生する水滴の飛沫が処理中の基板
に飛び散らないように、待機ポット６，７は側壁で囲ま
れている（図３参照）。
１の先端に付着した現像液を水洗洗浄ノズル（図示せ
ず）で水洗洗浄し、その後残留する水滴を吸引ノズル
（図示せず）で吸引して除去する処理が行われる。な
お、これらの処理で発生する水滴の飛沫が処理中の基板
に飛び散らないように、待機ポット６，７は側壁で囲ま
れている（図３参照）。
【００５９】図９（ｂ）に示すように、基板１００上に
現像液が保持された状態を所定時間（例えば約６０秒）
維持し、基板１００上のフォトレジスト膜等の感光性膜
の現像を進行させる。このとき、通常は基板１００を静
止させておくが、モータ２により基板保持部１を回転駆
動することにより、基板１００上の現像液の流動による
現像むらが発生しない程度のごく低速（約５ｒｐｍ以
下）で基板１００を回転または間欠回転させてもよい。
なお、基板１００を回転させる場合には、次のリンス液
供給処理の開始時点で基板１００の向きが図９（ａ）の
現像液供給時と同じ向きになっていることが必要であ
る。
現像液が保持された状態を所定時間（例えば約６０秒）
維持し、基板１００上のフォトレジスト膜等の感光性膜
の現像を進行させる。このとき、通常は基板１００を静
止させておくが、モータ２により基板保持部１を回転駆
動することにより、基板１００上の現像液の流動による
現像むらが発生しない程度のごく低速（約５ｒｐｍ以
下）で基板１００を回転または間欠回転させてもよい。
なお、基板１００を回転させる場合には、次のリンス液
供給処理の開始時点で基板１００の向きが図９（ａ）の
現像液供給時と同じ向きになっていることが必要であ
る。
【００６０】この間に、現像液吐出ノズル１１は、待機
ポット７内から上昇した後、走査方向Ａと逆方向に移動
し、外側カップ５内の次の走査開始位置Ｒ１で下降す
る。この場合、現像液吐出ノズル１１およびリンス液吐
出ノズル１６が基板１００上に保持された現像液に接触
しないように、現像液吐出ノズル１１の下端を基板１０
０の表面から３ｍｍ程度以上離した状態で移動させるこ
とが望ましい。
ポット７内から上昇した後、走査方向Ａと逆方向に移動
し、外側カップ５内の次の走査開始位置Ｒ１で下降す
る。この場合、現像液吐出ノズル１１およびリンス液吐
出ノズル１６が基板１００上に保持された現像液に接触
しないように、現像液吐出ノズル１１の下端を基板１０
０の表面から３ｍｍ程度以上離した状態で移動させるこ
とが望ましい。
【００６１】その後、図９（ｃ）に示すように、現像液
吐出ノズル１１は、リンス液吐出ノズル１６とともに走
査開始位置Ｒ１から走査方向Ａに所定の走査速度で走査
を開始する。この時点では、リンス液吐出ノズル１６か
らまだリンス液の吐出は行わない。
吐出ノズル１１は、リンス液吐出ノズル１６とともに走
査開始位置Ｒ１から走査方向Ａに所定の走査速度で走査
を開始する。この時点では、リンス液吐出ノズル１６か
らまだリンス液の吐出は行わない。
【００６２】現像液吐出ノズル１１の走査開始後、リン
ス液吐出ノズル１６のスリット状吐出口１８が基板１０
０上に到達する前に、吐出開始位置Ｒ２にて所定の流量
でリンス液吐出ノズル１６によるリンス液の吐出を開始
する。リンス液の吐出流量は、現像液の吐出流量と同様
またはやや大流量とする。本実施例では、リンス液の吐
出流量は３．０Ｌ／分とする。
ス液吐出ノズル１６のスリット状吐出口１８が基板１０
０上に到達する前に、吐出開始位置Ｒ２にて所定の流量
でリンス液吐出ノズル１６によるリンス液の吐出を開始
する。リンス液の吐出流量は、現像液の吐出流量と同様
またはやや大流量とする。本実施例では、リンス液の吐
出流量は３．０Ｌ／分とする。
【００６３】現像液吐出ノズル１１は、リンス液吐出ノ
ズル１６からリンス液を吐出しながら吐出開始位置Ｒ２
から基板１００上を走査方向Ａに直線状に移動する。こ
れにより、基板１００の全面にリンス液が連続的に供給
され、現像処理が停止される。
ズル１６からリンス液を吐出しながら吐出開始位置Ｒ２
から基板１００上を走査方向Ａに直線状に移動する。こ
れにより、基板１００の全面にリンス液が連続的に供給
され、現像処理が停止される。
【００６４】この場合、現像液吐出ノズル１１およびリ
ンス液吐出ノズル１６と基板１００の表面との距離は、
特に限定されないが、現像液吐出ノズル１１およびリン
ス液吐出ノズル１６が基板１００上に保持された現像液
に接触しないように現像液吐出ノズル１１の下端を基板
１００から３ｍｍ以上離すことが望ましい。これによ
り、基板１００上の現像液の汚染が回避される。
ンス液吐出ノズル１６と基板１００の表面との距離は、
特に限定されないが、現像液吐出ノズル１１およびリン
ス液吐出ノズル１６が基板１００上に保持された現像液
に接触しないように現像液吐出ノズル１１の下端を基板
１００から３ｍｍ以上離すことが望ましい。これによ
り、基板１００上の現像液の汚染が回避される。
【００６５】現像液吐出ノズル１１が基板１００上を通
過した後、リンス液吐出ノズル１６が基板１００上から
外れた吐出停止位置Ｒ３でリンス液吐出ノズル１６によ
るリンス液の吐出を停止させる。そして、現像液吐出ノ
ズル１１が外側カップ５内の走査停止位置Ｒ４に到達し
た時点で現像液吐出ノズル１１の走査を停止させる。
過した後、リンス液吐出ノズル１６が基板１００上から
外れた吐出停止位置Ｒ３でリンス液吐出ノズル１６によ
るリンス液の吐出を停止させる。そして、現像液吐出ノ
ズル１１が外側カップ５内の走査停止位置Ｒ４に到達し
た時点で現像液吐出ノズル１１の走査を停止させる。
【００６６】その後、現像液吐出ノズル１１は、走査停
止位置Ｒ４で上昇した後、走査方向Ａと逆方向に移動
し、待機ポット６の位置で待機ポット６内に下降する。
止位置Ｒ４で上昇した後、走査方向Ａと逆方向に移動
し、待機ポット６の位置で待機ポット６内に下降する。
【００６７】なお、リンス液吐出ノズル１６によるリン
ス液の供給は現像の停止を目的としているので、基板１
００上の現像液のすべてをリンス液で置換する必要はな
い。すなわち、リンス液が基板１００に供給された時点
で現像液の規定度はリンス液で薄められて速やかに低下
する。そのため、基板１００上の現像液にリンス液が供
給されると濃度の変化に敏感なフォトレジスト膜等の感
光性膜の現像反応は直ちに停止する。基板１００上に残
留した現像液や現像液に溶解したレジスト成分等は次の
図９（ｄ）の処理で洗浄される。
ス液の供給は現像の停止を目的としているので、基板１
００上の現像液のすべてをリンス液で置換する必要はな
い。すなわち、リンス液が基板１００に供給された時点
で現像液の規定度はリンス液で薄められて速やかに低下
する。そのため、基板１００上の現像液にリンス液が供
給されると濃度の変化に敏感なフォトレジスト膜等の感
光性膜の現像反応は直ちに停止する。基板１００上に残
留した現像液や現像液に溶解したレジスト成分等は次の
図９（ｄ）の処理で洗浄される。
【００６８】さらに、基板１００上の全面で現像処理時
間の均一化を図るには、図９（ｃ）のリンス液の供給時
において、図９（ａ）の現像液の供給時と同じ速度でリ
ンス液吐出ノズル１６を走査させることが好ましい。し
かしながら、図９（ｃ）におけるリンス液吐出ノズル１
６の走査速度が図９（ａ）における現像液吐出ノズル１
１の走査速度と厳密に同じである必要はなく、現像結果
に応じてリンス液吐出ノズル１６の走査速度を調整して
もよい。
間の均一化を図るには、図９（ｃ）のリンス液の供給時
において、図９（ａ）の現像液の供給時と同じ速度でリ
ンス液吐出ノズル１６を走査させることが好ましい。し
かしながら、図９（ｃ）におけるリンス液吐出ノズル１
６の走査速度が図９（ａ）における現像液吐出ノズル１
１の走査速度と厳密に同じである必要はなく、現像結果
に応じてリンス液吐出ノズル１６の走査速度を調整して
もよい。
【００６９】次に、図９（ｄ）に示すように、モータ２
により回転数１０００ｒｐｍ程度で基板１００を回転さ
せ、洗浄用のリンス液吐出ノズル１２から純水を基板１
００の中心部分および周辺部分に供給し、一定時間基板
１００の表面を洗浄する。
により回転数１０００ｒｐｍ程度で基板１００を回転さ
せ、洗浄用のリンス液吐出ノズル１２から純水を基板１
００の中心部分および周辺部分に供給し、一定時間基板
１００の表面を洗浄する。
【００７０】最後に、図９（ｅ）に示すように、リンス
液吐出ノズル１２によるリンス液の供給を停止し、モー
タ２により基板１００を約４０００ｒｐｍ以上の高速で
回転させ、基板１００からリンス液を振り切り、基板１
００を乾燥させる。
液吐出ノズル１２によるリンス液の供給を停止し、モー
タ２により基板１００を約４０００ｒｐｍ以上の高速で
回転させ、基板１００からリンス液を振り切り、基板１
００を乾燥させる。
【００７１】なお、図９（ｃ）のリンス液の供給処理に
おける走査開始位置Ｒ１、吐出開始位置Ｒ２、吐出停止
位置Ｒ３および走査停止位置Ｒ４は、それぞれ図９
（ａ）の現像液の供給処理における走査開始位置Ｐ１、
吐出開始位置Ｐ２、吐出停止位置Ｐ３および走査停止位
置Ｐ４と一致しなくてもよく、現像液吐出ノズル１１か
らの現像液およびリンス液吐出ノズル１６からのリンス
液の着液位置を考慮してこれらの位置を必要に応じて調
整してもよい。
おける走査開始位置Ｒ１、吐出開始位置Ｒ２、吐出停止
位置Ｒ３および走査停止位置Ｒ４は、それぞれ図９
（ａ）の現像液の供給処理における走査開始位置Ｐ１、
吐出開始位置Ｐ２、吐出停止位置Ｐ３および走査停止位
置Ｐ４と一致しなくてもよく、現像液吐出ノズル１１か
らの現像液およびリンス液吐出ノズル１６からのリンス
液の着液位置を考慮してこれらの位置を必要に応じて調
整してもよい。
【００７２】また、走査開始位置Ｐ１と吐出開始位置Ｐ
２の順序、吐出停止位置Ｐ３と走査停止位置Ｐ４の順
序、走査開始位置Ｒと吐出開始位置Ｒ２の順序、および
吐出停止位置Ｒ３と走査停止位置Ｒ４の順序は、上記の
例に限らず、それぞれ互いに同時であってもよい。
２の順序、吐出停止位置Ｐ３と走査停止位置Ｐ４の順
序、走査開始位置Ｒと吐出開始位置Ｒ２の順序、および
吐出停止位置Ｒ３と走査停止位置Ｒ４の順序は、上記の
例に限らず、それぞれ互いに同時であってもよい。
【００７３】図１０は基板１００上での現像液吐出ノズ
ル１１の走査を示す側面図である。上記のように現像液
の吐出方向が鉛直下向きから走査方向Ａと反対方向に傾
けられているので、基板１００の表面において走査方向
Ａへの現像液の流動が抑制されるとともに、走査方向Ａ
とは逆方向への現像液の流動が誘起される。走査方向Ａ
への現像液の流動が抑制されることにより、現像液が現
像液吐出ノズル１１よりも走査方向Ａの側へ先行して流
れることが防止され、現像の均一性が向上する。走査方
向Ａとは逆方向への現像液の流動が誘起されることによ
り、マイクロバブルと呼ばれる現像液中の微小な泡が基
板１００上の感光性膜の表面に付着することが防止さ
れ、現像欠陥の発生が抑制される。
ル１１の走査を示す側面図である。上記のように現像液
の吐出方向が鉛直下向きから走査方向Ａと反対方向に傾
けられているので、基板１００の表面において走査方向
Ａへの現像液の流動が抑制されるとともに、走査方向Ａ
とは逆方向への現像液の流動が誘起される。走査方向Ａ
への現像液の流動が抑制されることにより、現像液が現
像液吐出ノズル１１よりも走査方向Ａの側へ先行して流
れることが防止され、現像の均一性が向上する。走査方
向Ａとは逆方向への現像液の流動が誘起されることによ
り、マイクロバブルと呼ばれる現像液中の微小な泡が基
板１００上の感光性膜の表面に付着することが防止さ
れ、現像欠陥の発生が抑制される。
【００７４】図１１は基板１００上でのリンス液吐出ノ
ズル１６の走査を示す側面図である。上記のようにリン
ス液の吐出方向が鉛直下向きから走査方向Ａと反対方向
に傾けられているので、基板１００の表面において走査
方向Ａへのリンス液の流動が抑制されるとともに、走査
方向Ａとは逆方向へのリンス液の流動が誘起される。走
査方向Ａへのリンス液の流動が抑制されることにより、
リンス液が走査方向Ａの側に先行して不規則に流れるこ
とが防止されるので、現像の停止が直線状に進行し、し
たがって現像の均一性が向上する。また、走査方向Ａと
は逆方向へのリンス液の流動が誘起されることにより、
リンス効果が向上する。
ズル１６の走査を示す側面図である。上記のようにリン
ス液の吐出方向が鉛直下向きから走査方向Ａと反対方向
に傾けられているので、基板１００の表面において走査
方向Ａへのリンス液の流動が抑制されるとともに、走査
方向Ａとは逆方向へのリンス液の流動が誘起される。走
査方向Ａへのリンス液の流動が抑制されることにより、
リンス液が走査方向Ａの側に先行して不規則に流れるこ
とが防止されるので、現像の停止が直線状に進行し、し
たがって現像の均一性が向上する。また、走査方向Ａと
は逆方向へのリンス液の流動が誘起されることにより、
リンス効果が向上する。
【００７５】次に、図１２を参照しながら図１の現像装
置の動作の第２の例を説明する。図１２（ａ）に示す現
像液供給処理は、図９（ａ）に示した現像液供給処理と
同様である。
置の動作の第２の例を説明する。図１２（ａ）に示す現
像液供給処理は、図９（ａ）に示した現像液供給処理と
同様である。
【００７６】図１２（ｂ）に示すように、基板１００上
に現像液が保持された状態を一定時間維持し、現像を進
行させる。この間に、モータ２により基板１００を図１
２（ａ）の状態から１８０°回転させる。このとき、現
像液が流動を起こさないように、基板１００の回転数は
約５ｒｐｍ以下であることが望ましい。また、現像液吐
出ノズル１１は、待機ポット７内から上昇した後、現像
液供給時の走査方向Ａと逆の走査方向Ｄに移動し、走査
開始位置Ｒ１で下降する。
に現像液が保持された状態を一定時間維持し、現像を進
行させる。この間に、モータ２により基板１００を図１
２（ａ）の状態から１８０°回転させる。このとき、現
像液が流動を起こさないように、基板１００の回転数は
約５ｒｐｍ以下であることが望ましい。また、現像液吐
出ノズル１１は、待機ポット７内から上昇した後、現像
液供給時の走査方向Ａと逆の走査方向Ｄに移動し、走査
開始位置Ｒ１で下降する。
【００７７】この場合、リンス液吐出ノズル１６の走査
方向Ｄが図９（ｃ）の場合と反対であるので、リンス液
の吐出方向も図９（ｃ）の場合と反対になるように現像
液吐出ノズル１１を反対側に傾ける。
方向Ｄが図９（ｃ）の場合と反対であるので、リンス液
の吐出方向も図９（ｃ）の場合と反対になるように現像
液吐出ノズル１１を反対側に傾ける。
【００７８】その後、図１２（ｃ）に示すように、現像
液吐出ノズル１１は、走査開始位置Ｒ１から走査方向Ｄ
に所定の走査速度で走査を開始する。この時点では、リ
ンス液吐出ノズル１６からまだリンス液の吐出は行わな
い。
液吐出ノズル１１は、走査開始位置Ｒ１から走査方向Ｄ
に所定の走査速度で走査を開始する。この時点では、リ
ンス液吐出ノズル１６からまだリンス液の吐出は行わな
い。
【００７９】現像液吐出ノズル１１の走査開始後、リン
ス液吐出ノズル１６のスリット状吐出口１８が基板１０
０上に到達する前に、吐出開始位置Ｒ２にて所定の流量
でリンス液吐出ノズル１６によるリンス液の吐出を開始
する。
ス液吐出ノズル１６のスリット状吐出口１８が基板１０
０上に到達する前に、吐出開始位置Ｒ２にて所定の流量
でリンス液吐出ノズル１６によるリンス液の吐出を開始
する。
【００８０】現像液吐出ノズル１１は、リンス液吐出ノ
ズル１６からリンス液を吐出しながら吐出開始位置Ｒ２
から基板１００上を走査方向Ｄに直線状に移動する。こ
れにより、基板１００の全面にリンス液が連続的に供給
され、現像処理が停止される。
ズル１６からリンス液を吐出しながら吐出開始位置Ｒ２
から基板１００上を走査方向Ｄに直線状に移動する。こ
れにより、基板１００の全面にリンス液が連続的に供給
され、現像処理が停止される。
【００８１】現像液吐出ノズル１１が基板１００上を通
過した後、リンス液吐出ノズル１６が基板１００上から
外れた吐出停止位置Ｒ３でリンス液吐出ノズル１６によ
るリンス液の吐出を停止させる。そして、現像液吐出ノ
ズル１１が外側カップ５内の走査停止位置Ｒ４に到達し
た時点で現像液吐出ノズル１１の走査を停止させる。
過した後、リンス液吐出ノズル１６が基板１００上から
外れた吐出停止位置Ｒ３でリンス液吐出ノズル１６によ
るリンス液の吐出を停止させる。そして、現像液吐出ノ
ズル１１が外側カップ５内の走査停止位置Ｒ４に到達し
た時点で現像液吐出ノズル１１の走査を停止させる。
【００８２】その後、現像液吐出ノズル１１は、走査停
止位置Ｒ４で上昇した後、待機ポット６の位置まで移動
し、待機ポット６内に下降する。図１２（ｄ）の洗浄処
理および図１２（ｅ）の乾燥処理は、図９（ｄ），
（ｅ）と同様である。
止位置Ｒ４で上昇した後、待機ポット６の位置まで移動
し、待機ポット６内に下降する。図１２（ｄ）の洗浄処
理および図１２（ｅ）の乾燥処理は、図９（ｄ），
（ｅ）と同様である。
【００８３】本実施例の現像装置では、現像液吐出ノズ
ル１１が静止した基板１００上に到達する前に現像液の
吐出が開始されるので、吐出開始時の現像液が基板１０
０に衝撃を与えることが回避される。それにより、現像
液中の気泡の発生が抑制され、現像欠陥の発生が防止さ
れる。
ル１１が静止した基板１００上に到達する前に現像液の
吐出が開始されるので、吐出開始時の現像液が基板１０
０に衝撃を与えることが回避される。それにより、現像
液中の気泡の発生が抑制され、現像欠陥の発生が防止さ
れる。
【００８４】また、現像液吐出ノズル１１の移動中に空
気に接触するスリット状吐出口１５付近の現像液が基板
１００外に廃棄され、現像液吐出ノズル１１が基板１０
０上に到達した時点で現像液吐出ノズル１１から新しい
現像液が静止した基板１００上に供給される。それによ
り、変質した現像液により現像欠陥が発生することが防
止されるとともに、乾燥した現像液によるパーティクル
が基板１００上の感光性膜の表面に付着することが防止
される。
気に接触するスリット状吐出口１５付近の現像液が基板
１００外に廃棄され、現像液吐出ノズル１１が基板１０
０上に到達した時点で現像液吐出ノズル１１から新しい
現像液が静止した基板１００上に供給される。それによ
り、変質した現像液により現像欠陥が発生することが防
止されるとともに、乾燥した現像液によるパーティクル
が基板１００上の感光性膜の表面に付着することが防止
される。
【００８５】さらに、現像液吐出ノズル１１が静止した
基板１００上をスリット状吐出口１５と基板１００の上
面とが近接した状態で水平方向に直線状に平行移動し、
スリット状吐出口１５に形成された帯状の現像液が基板
１００の表面に連続的に接触するので、基板１００の表
面に衝撃が加わることなく基板１００の全面に現像液が
均一に供給される。
基板１００上をスリット状吐出口１５と基板１００の上
面とが近接した状態で水平方向に直線状に平行移動し、
スリット状吐出口１５に形成された帯状の現像液が基板
１００の表面に連続的に接触するので、基板１００の表
面に衝撃が加わることなく基板１００の全面に現像液が
均一に供給される。
【００８６】また、現像液吐出ノズル１１が基板１００
上を通過するまで現像液の供給が続けられるので、吐出
停止時の衝撃による液盛り中の現像液への悪影響が防止
される。その結果、現像欠陥の発生が抑制されるととも
に、現像後の感光性膜パターンの線幅均一性が向上す
る。
上を通過するまで現像液の供給が続けられるので、吐出
停止時の衝撃による液盛り中の現像液への悪影響が防止
される。その結果、現像欠陥の発生が抑制されるととも
に、現像後の感光性膜パターンの線幅均一性が向上す
る。
【００８７】また、現像液吐出ノズル１１が基板１００
上を通り過ぎた後に現像液の吐出が停止されるので、吐
出停止時の現像液の液だれにより基板１００上の感光性
膜に衝撃が加わることが防止される。したがって、現像
欠陥の発生や感光性膜パターンの線幅均一性の劣化が防
止される。
上を通り過ぎた後に現像液の吐出が停止されるので、吐
出停止時の現像液の液だれにより基板１００上の感光性
膜に衝撃が加わることが防止される。したがって、現像
欠陥の発生や感光性膜パターンの線幅均一性の劣化が防
止される。
【００８８】さらに、リンス液吐出ノズル１６が静止し
た基板１００上に到達する前にリンス液の吐出が開始さ
れ、リンス液吐出ノズル１６が基板１００上を通り過ぎ
た後にリンス液の吐出が停止されるので、吐出開始時お
よび吐出停止時の衝撃による液盛り中の現像液への悪影
響が防止される。その結果、現像むらや現像欠陥がさら
に抑制される。
た基板１００上に到達する前にリンス液の吐出が開始さ
れ、リンス液吐出ノズル１６が基板１００上を通り過ぎ
た後にリンス液の吐出が停止されるので、吐出開始時お
よび吐出停止時の衝撃による液盛り中の現像液への悪影
響が防止される。その結果、現像むらや現像欠陥がさら
に抑制される。
【００８９】また、現像液の吐出方向が走査方向Ａと反
対方向に傾けられているので、基板１００の表面での走
査方向Ａへの現像液の流動が抑制されるとともに、走査
方向Ａとは逆方向への現像液の流動が誘起される。それ
により、現像の均一性が向上し、かつ現像欠陥の発生が
防止される。
対方向に傾けられているので、基板１００の表面での走
査方向Ａへの現像液の流動が抑制されるとともに、走査
方向Ａとは逆方向への現像液の流動が誘起される。それ
により、現像の均一性が向上し、かつ現像欠陥の発生が
防止される。
【００９０】また、リンス液の吐出方向が走査方向と反
対方向に傾けられているので、基板１００の表面での走
査方向へのリンス液の流動が抑制されるとともに、走査
方向とは逆方向へのリンス液の流動が誘起される。それ
により、現像の均一性が向上し、かつリンス効果が向上
する。
対方向に傾けられているので、基板１００の表面での走
査方向へのリンス液の流動が抑制されるとともに、走査
方向とは逆方向へのリンス液の流動が誘起される。それ
により、現像の均一性が向上し、かつリンス効果が向上
する。
【００９１】特に、図１２の例では、現像液の供給処理
後に基板１００を１８０°回転させてリンス処理を行う
ことにより、現像液吐出ノズル１１およびリンス液吐出
ノズル１６が基板１００上を移動する回数が少なくな
る。それにより、現像液吐出ノズル１１およびリンス液
吐出ノズル１６が基板１００上を通過中に現像液吐出ノ
ズル１１の先端に付着した現像液またはリンス液吐出ノ
ズル１６に付着したリンス液が基板１００上に落下して
現像欠陥が発生したり、基板１００上にパーティクルが
付着することが防止される。また、現像液吐出ノズル１
１およびリンス液吐出ノズル１６の移動時間が短縮され
るので、現像装置の稼働率が向上する。
後に基板１００を１８０°回転させてリンス処理を行う
ことにより、現像液吐出ノズル１１およびリンス液吐出
ノズル１６が基板１００上を移動する回数が少なくな
る。それにより、現像液吐出ノズル１１およびリンス液
吐出ノズル１６が基板１００上を通過中に現像液吐出ノ
ズル１１の先端に付着した現像液またはリンス液吐出ノ
ズル１６に付着したリンス液が基板１００上に落下して
現像欠陥が発生したり、基板１００上にパーティクルが
付着することが防止される。また、現像液吐出ノズル１
１およびリンス液吐出ノズル１６の移動時間が短縮され
るので、現像装置の稼働率が向上する。
【００９２】図１３はリンス液吐出ノズルの他の例を示
す正面図である。図１３に示すリンス液吐出ノズル１６
は、管状部材２１からなり、その側壁に一列に配列され
た細孔状の複数の吐出口２２が設けられている。複数の
吐出口２２は、走査方向Ａと垂直な方向に配置される。
す正面図である。図１３に示すリンス液吐出ノズル１６
は、管状部材２１からなり、その側壁に一列に配列され
た細孔状の複数の吐出口２２が設けられている。複数の
吐出口２２は、走査方向Ａと垂直な方向に配置される。
【００９３】図１４はリンス液吐出ノズルのさらに他の
例を示す図である。図１４のリンス液吐出ノズル１６は
リンス液を扇形に吐出する吐出口２３を有する。
例を示す図である。図１４のリンス液吐出ノズル１６は
リンス液を扇形に吐出する吐出口２３を有する。
【００９４】このように、リンス液吐出ノズル１６で
は、現像液吐出ノズル１１ほど吐出の均一性が要求され
ず、温度調整も不要であるので、基板１００の直径以上
の幅に直線状にリンス液を吐出できる構造であればよ
い。
は、現像液吐出ノズル１１ほど吐出の均一性が要求され
ず、温度調整も不要であるので、基板１００の直径以上
の幅に直線状にリンス液を吐出できる構造であればよ
い。
【００９５】図１５は現像液吐出ノズルにリンス液吐出
ノズルが一体化された共用ノズルの一例を示す概略断面
図である。
ノズルが一体化された共用ノズルの一例を示す概略断面
図である。
【００９６】図１５の共用ノズル３０においては、ノズ
ル本体３１に現像液供給口３２および現像液用スリット
状吐出口３３ならびにリンス液供給口３４およびリンス
液用スリット状吐出口３５が設けられている。現像液供
給口３２は配管３８を介して図２の現像液供給系１２に
接続される。リンス液供給口３４は配管３９を介して図
２のリンス液供給系１７に接続される。
ル本体３１に現像液供給口３２および現像液用スリット
状吐出口３３ならびにリンス液供給口３４およびリンス
液用スリット状吐出口３５が設けられている。現像液供
給口３２は配管３８を介して図２の現像液供給系１２に
接続される。リンス液供給口３４は配管３９を介して図
２のリンス液供給系１７に接続される。
【００９７】この共用ノズル３０によれば、現像液吐出
ノズルとリンス液吐出ノズルとが一体化されているの
で、省スペース化が図られる。
ノズルとリンス液吐出ノズルとが一体化されているの
で、省スペース化が図られる。
【００９８】図１６は現像液吐出ノズルにリンス液吐出
ノズルが一体化された共用ノズルの他の例を示す概略断
面図である。
ノズルが一体化された共用ノズルの他の例を示す概略断
面図である。
【００９９】図１６の共用ノズル３０においては、ノズ
ル本体４０に現像液およびリンス液に共通の供給口４１
ならびに現像液およびリンス液に共通のスリット状吐出
口４２が設けられている。供給口４１は配管４３を介し
て三方弁４４に接続される。三方弁４４の一方のポート
は配管４５を介して図２の現像液供給系１２に接続さ
れ、他方のポートは配管４６を介して図２のリンス液供
給系１７に接続される。三方弁４４は現像液を供給しか
つリンス液を停止する状態、現像液を停止しかつリンス
液を供給する状態、および現像液をおよびリンス液を停
止する状態に切り換えることができる。
ル本体４０に現像液およびリンス液に共通の供給口４１
ならびに現像液およびリンス液に共通のスリット状吐出
口４２が設けられている。供給口４１は配管４３を介し
て三方弁４４に接続される。三方弁４４の一方のポート
は配管４５を介して図２の現像液供給系１２に接続さ
れ、他方のポートは配管４６を介して図２のリンス液供
給系１７に接続される。三方弁４４は現像液を供給しか
つリンス液を停止する状態、現像液を停止しかつリンス
液を供給する状態、および現像液をおよびリンス液を停
止する状態に切り換えることができる。
【０１００】この共用ノズル３０によれば、現像液吐出
ノズルとリンス液吐出ノズルとが一体化されているの
で、省スペース化が図られるとともに、配管も簡略化さ
れる。
ノズルとリンス液吐出ノズルとが一体化されているの
で、省スペース化が図られるとともに、配管も簡略化さ
れる。
【０１０１】図１５および図１６の共用ノズル３０を用
いた場合には、リンス液によりノズル洗浄を行うことが
できる。図１７に示すように、待機ポット６内のＶ字形
ブロック５０内に共用ノズル３０をはめ込んだ状態で、
共用ノズル３０からリンス液を吐出する。それにより、
リンス液で共用ノズル３０の洗浄を行うことができる。
なお、Ｖ字形ブロック５０の中央部には、共用ノズルの
先端部から落下する現像液またはリンス液の雫を除去す
るための孔５１が形成されている。待機ポット６の内面
とＶ字形ブロック５０の外周面との間には、排出口（ド
レン）が設けられている。
いた場合には、リンス液によりノズル洗浄を行うことが
できる。図１７に示すように、待機ポット６内のＶ字形
ブロック５０内に共用ノズル３０をはめ込んだ状態で、
共用ノズル３０からリンス液を吐出する。それにより、
リンス液で共用ノズル３０の洗浄を行うことができる。
なお、Ｖ字形ブロック５０の中央部には、共用ノズルの
先端部から落下する現像液またはリンス液の雫を除去す
るための孔５１が形成されている。待機ポット６の内面
とＶ字形ブロック５０の外周面との間には、排出口（ド
レン）が設けられている。
【０１０２】このように、共用ノズル３０から吐出され
るリンス液をノズル洗浄に用いることにより、ノズル洗
浄用の設備を設ける必要がなくなり、省スペース化が図
られる。
るリンス液をノズル洗浄に用いることにより、ノズル洗
浄用の設備を設ける必要がなくなり、省スペース化が図
られる。
【図１】本発明の一実施例における現像装置の平面図で
ある。
ある。
【図２】図１の現像装置の主要部のＸ−Ｘ線断面図であ
る。
る。
【図３】図１の現像装置の主要部のＹ−Ｙ線断面図であ
る。
る。
【図４】現像液吐出ノズルおよびリンス液吐出ノズルの
概略断面図である。
概略断面図である。
【図５】現像液吐出ノズルのスリット状吐出口を示す図
である。
である。
【図６】リンス液吐出ノズルの正面図である。
【図７】現像液吐出ノズルによる現像液の吐出方向を示
す側面図である。
す側面図である。
【図８】リンス液吐出ノズルによるリンス液の吐出方向
を示す側面図である。
を示す側面図である。
【図９】図１の現像装置の動作の第１の例を説明するた
めの図である。
めの図である。
【図１０】基板上での現像液吐出ノズルの走査を示す側
面図である。
面図である。
【図１１】基板上でのリンス液吐出ノズルの走査を示す
側面図である。
側面図である。
【図１２】図１の現像装置の動作の第２の例を説明する
ための図である。
ための図である。
【図１３】リンス液吐出ノズルの他の例を示す正面図で
ある。
ある。
【図１４】リンス液吐出ノズルのさらに他の例を示す図
である。
である。
【図１５】共用ノズルの一例を示す概略断面図である。
【図１６】共用ノズルの他の例を示す概略断面図であ
る。
る。
【図１７】待機ポットの概略断面図である。
１ 基板保持部 ４ 内側カップ ５ 外側カップ ６，７ 待機スポット ８ ガイドレール ９ ノズルアーム １０ ノズル駆動部 １１ 現像液吐出ノズル １２ 現像液供給系 １３ 制御部 １５ スリット状吐出口 １６ リンス液吐出ノズル １７ リンス液供給系 １８ スリット状吐出口 ３０ 共用ノズル
Claims (12)
- 【請求項１】 基板を水平姿勢で保持する基板保持手段
と、 現像液を吐出する現像液吐出ノズルと、 現像を停止させるためのリンス液を吐出するリンス液吐
出ノズルと、 前記基板保持手段に静止状態で保持された基板外の一方
側の位置から前記基板上を通過して前記基板外の他方側
の位置まで前記現像液吐出ノズルを前記リンス液吐出ノ
ズルとともに移動させる移動手段とを備えたことを特徴
とする現像装置。 - 【請求項２】 前記現像液吐出ノズルは、前記基板の直
径以上の幅で前記移動手段による移動方向とほぼ垂直な
方向にほぼ直線状に現像液を吐出し、 前記リンス液吐出ノズルは、前記基板の直径以上の幅で
前記移動手段による移動方向とほぼ垂直な方向にほぼ直
線状にリンス液を吐出することを特徴とする請求項１記
載の現像装置。 - 【請求項３】 前記移動手段により前記現像液吐出ノズ
ルを前記リンス液吐出ノズルとともに前記基板上を一方
向に移動させつつ前記現像液吐出ノズルによる現像液の
吐出を行った後、前記移動手段により前記現像液吐出ノ
ズルを前記リンス液吐出ノズルとともに前記一方向に移
動させつつ前記リンス液吐出ノズルによるリンス液の吐
出を行う制御手段をさらに備えたことを特徴とする請求
項１または２記載の現像装置。 - 【請求項４】 前記移動手段により前記現像液吐出ノズ
ルを前記リンス液吐出ノズルとともに前記基板上を一方
向に移動させつつ前記現像液吐出ノズルによる現像液の
吐出を行った後、前記基板保持手段に保持された基板を
鉛直方向の軸の周りで１８０度回転させ、前記移動手段
により前記現像液吐出ノズルを前記リンス液吐出ノズル
とともに前記一方向と逆の方向に移動させつつ前記リン
ス液吐出ノズルによるリンス液の吐出を行う制御手段を
さらに備えたことを特徴とする請求項１または２記載の
現像装置。 - 【請求項５】 前記制御手段は、現像液の供給時に、前
記現像液吐出ノズルが前記基板上に達する前に前記現像
液吐出ノズルによる現像液の吐出を開始させることを特
徴とする請求項３または４記載の現像装置。 - 【請求項６】 前記制御手段は、前記現像液吐出ノズル
が前記基板上を通過した後に前記現像液吐出ノズルによ
る現像液の吐出を停止させることを特徴とする請求項５
記載の現像装置。 - 【請求項７】 前記制御手段は、リンス液の供給時に、
前記リンス液吐出ノズルが前記基板上に達する前に前記
リンス液吐出ノズルによるリンス液の吐出を開始させる
ことを特徴とする請求項３〜６のいずれかに記載の現像
装置。 - 【請求項８】 前記制御手段は、前記リンス液吐出ノズ
ルが前記基板上を通過した後に前記リンス液吐出ノズル
によるリンス液の吐出を停止させることを特徴とする請
求項７記載の現像装置。 - 【請求項９】 前記現像液吐出ノズルによる現像液の吐
出方向が鉛直下向きから前記現像液吐出ノズルの移動方
向と反対方向に傾けられたことを特徴とする請求項１〜
８のいずれかに記載の現像装置。 - 【請求項１０】 前記リンス液吐出ノズルによるリンス
液の吐出方向が鉛直下向きから前記リンス液吐出ノズル
の移動方向と反対方向に傾けられたことを特徴とする請
求項１〜９のいずれかに記載の現像装置。 - 【請求項１１】 前記現像液吐出ノズルおよび前記リン
ス液吐出ノズルは、水平方向に配置されたスリット状吐
出口をそれぞれ有し、前記移動手段は、前記現像液吐出
ノズルおよび前記リンス液吐出ノズルを前記スリット状
吐出口とほぼ垂直な方向に直線状に移動させることを特
徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の現像装置。 - 【請求項１２】 基板保持手段に静止状態で保持された
基板上に現像液吐出ノズルから現像液を吐出供給する現
像方法であって、 前記現像液吐出ノズルから前記基板上に現像液を吐出さ
せつつ前記現像液吐出ノズルをリンス液吐出ノズルとと
もに前記基板外の一方側の位置から前記基板上を通過し
て前記基板外の他方側の位置まで移動させる工程と、 前記リンス液吐出ノズルからリンス液を吐出させつつ前
記現像液吐出ノズルを前記リンス液吐出ノズルとともに
前記基板外の一方側または他方側の位置から前記基板上
を通過して前記基板外の他方側または一方側の位置まで
移動させる工程とを含むことを特徴とする現像方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10767197A JP3580664B2 (ja) | 1997-04-10 | 1997-04-24 | 現像装置および現像方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-91800 | 1997-04-10 | ||
| JP9180097 | 1997-04-10 | ||
| JP10767197A JP3580664B2 (ja) | 1997-04-10 | 1997-04-24 | 現像装置および現像方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004165440A Division JP4011040B2 (ja) | 1997-04-10 | 2004-06-03 | 現像装置および現像方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10340836A true JPH10340836A (ja) | 1998-12-22 |
| JP3580664B2 JP3580664B2 (ja) | 2004-10-27 |
Family
ID=26433238
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10767197A Expired - Fee Related JP3580664B2 (ja) | 1997-04-10 | 1997-04-24 | 現像装置および現像方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3580664B2 (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US6692165B2 (en) | 2001-03-01 | 2004-02-17 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
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| US6752544B2 (en) | 2002-03-28 | 2004-06-22 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Developing apparatus and developing method |
| US6869234B2 (en) | 2002-03-28 | 2005-03-22 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Developing apparatus and developing method |
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- 1997-04-24 JP JP10767197A patent/JP3580664B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| US7604013B2 (en) | 2004-09-09 | 2009-10-20 | Tokyo Electron Limited | Substrate cleaning method and developing apparatus |
| US7901514B2 (en) | 2004-09-09 | 2011-03-08 | Tokyo Electron Limited | Substrate cleaning method and developing apparatus |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3580664B2 (ja) | 2004-10-27 |
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| Date | Code | Title | Description |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100730 Year of fee payment: 6 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| S533 | Written request for registration of change of name |
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