JPH1036420A - 遷移金属錯体及びその製造方法 - Google Patents
遷移金属錯体及びその製造方法Info
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- JPH1036420A JPH1036420A JP9106939A JP10693997A JPH1036420A JP H1036420 A JPH1036420 A JP H1036420A JP 9106939 A JP9106939 A JP 9106939A JP 10693997 A JP10693997 A JP 10693997A JP H1036420 A JPH1036420 A JP H1036420A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 オレフィン重合のための触媒として好適であ
りかつ公知の触媒の欠点を克服した新規の遷移金属錯体
を提供する。 【解決手段】 該遷移金属錯体は、一般式I: LmMXn I [式中、L,M,X,m及びnは、請求項1に定義した
ものを表す]で示される。
りかつ公知の触媒の欠点を克服した新規の遷移金属錯体
を提供する。 【解決手段】 該遷移金属錯体は、一般式I: LmMXn I [式中、L,M,X,m及びnは、請求項1に定義した
ものを表す]で示される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般式I: LmMXn I [式中、Mはチタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナ
ジウム、ニオブ、タンタル又は希土類金属であり、Xは
フッ素、塩素、臭素、沃素、水素、C1〜C10−アルキ
ル、C6〜C15−アリール又はOR1であり、R1はC1〜
C10−アルキル、C6〜C15−アリール、それぞれアル
キル基中に1〜10個の炭素原子を有しかつアリール基
中に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、
アリールアルキル、フルオロアルキル又はフルオロアリ
ールであり、mは1又は2であり、nは、Mがチタン、
ジルコニウム又はハフニウムである場合は、4−mであ
り、又はMがバナジウム、ニオブ又はタンタルの場合
は、5−mであり、又はMが希土類金属である場合は、
3−mであり、Lは一般式II:
ジウム、ニオブ、タンタル又は希土類金属であり、Xは
フッ素、塩素、臭素、沃素、水素、C1〜C10−アルキ
ル、C6〜C15−アリール又はOR1であり、R1はC1〜
C10−アルキル、C6〜C15−アリール、それぞれアル
キル基中に1〜10個の炭素原子を有しかつアリール基
中に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、
アリールアルキル、フルオロアルキル又はフルオロアリ
ールであり、mは1又は2であり、nは、Mがチタン、
ジルコニウム又はハフニウムである場合は、4−mであ
り、又はMがバナジウム、ニオブ又はタンタルの場合
は、5−mであり、又はMが希土類金属である場合は、
3−mであり、Lは一般式II:
【0002】
【化6】
【0003】(式中、Aは、それが結合された窒素及び
炭素原子と一緒に5員もしくは6員の、非置換もしくは
置換芳香族環を形成する橋状基であり、前記芳香族基は
また酸素、硫黄及び窒素からなる基から選択される2個
の別の複素原子を含有していてもよく、かつ2、3又は
4個の環を有する別のイソ芳香族系もしくは複素芳香族
系に融合されていてもよく、R2は水素、 C1〜C10−
アルキル、C6〜C15−アリール、トリ−(C1〜C10)
アルキルシリル又はトリ−(C6〜C15)アリールシリ
ルであり、R3はC6〜C15−アリール、C6〜C15−フ
ルオロアリール、C1〜C10−アルキル、C1〜C10−
フルオロアルキル基であり、これらの基はα−炭素原子
上には水素を有していず、かつR4は水素、C1〜C10−
アルキル、C6〜C15−アリール、トリ−(C1〜C10)
アルキルシリル又はトリ−(C6〜C15)アリールシリ
ルである)であるリガンドである]で示される遷移金属
錯体に関する。
炭素原子と一緒に5員もしくは6員の、非置換もしくは
置換芳香族環を形成する橋状基であり、前記芳香族基は
また酸素、硫黄及び窒素からなる基から選択される2個
の別の複素原子を含有していてもよく、かつ2、3又は
4個の環を有する別のイソ芳香族系もしくは複素芳香族
系に融合されていてもよく、R2は水素、 C1〜C10−
アルキル、C6〜C15−アリール、トリ−(C1〜C10)
アルキルシリル又はトリ−(C6〜C15)アリールシリ
ルであり、R3はC6〜C15−アリール、C6〜C15−フ
ルオロアリール、C1〜C10−アルキル、C1〜C10−
フルオロアルキル基であり、これらの基はα−炭素原子
上には水素を有していず、かつR4は水素、C1〜C10−
アルキル、C6〜C15−アリール、トリ−(C1〜C10)
アルキルシリル又はトリ−(C6〜C15)アリールシリ
ルである)であるリガンドである]で示される遷移金属
錯体に関する。
【0004】本発明はまた、遷移金属錯体の製造方法、
アニオンが遷移金属錯体のためのリガンドとして働くβ
−ジケチミン、該遷移金属錯体のオレフィンの重合のた
めの触媒としての使用、これらの遷移金属錯体を用いた
ポリマーの製造方法、該ポリマーの繊維、フィルム及び
成形品を製造するための使用及びまた繊維、フィルム及
び成形品自体に関する。
アニオンが遷移金属錯体のためのリガンドとして働くβ
−ジケチミン、該遷移金属錯体のオレフィンの重合のた
めの触媒としての使用、これらの遷移金属錯体を用いた
ポリマーの製造方法、該ポリマーの繊維、フィルム及び
成形品を製造するための使用及びまた繊維、フィルム及
び成形品自体に関する。
【0005】周期表の第4遷移族の遷移金属錯体は、従
来オレフィン重合のための触媒として使用されて来た。
公知の触媒の例は、チーグラー触媒及びメタロセン触媒
である(例えばUllmann′s Encyclopedia of Industria
l Chemistry, 5th Edition,Vol. A21, pp.502-504 (199
2)参照)。また、他のリガンド系を有する遷移金属錯
体、例えばアザアリル錯体(国際特許出願第95/33
776号明細書)及びβ−ジケチミネート錯体(J. Org
anometall. Chem.,500, 203-217 (1995))も触媒として
使用された。しかしながら、公知の触媒は、それらの生
成物特異性、特にポリマーの鎖長に関して所望される問
題点を残している。
来オレフィン重合のための触媒として使用されて来た。
公知の触媒の例は、チーグラー触媒及びメタロセン触媒
である(例えばUllmann′s Encyclopedia of Industria
l Chemistry, 5th Edition,Vol. A21, pp.502-504 (199
2)参照)。また、他のリガンド系を有する遷移金属錯
体、例えばアザアリル錯体(国際特許出願第95/33
776号明細書)及びβ−ジケチミネート錯体(J. Org
anometall. Chem.,500, 203-217 (1995))も触媒として
使用された。しかしながら、公知の触媒は、それらの生
成物特異性、特にポリマーの鎖長に関して所望される問
題点を残している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、オレ
フィン重合のための触媒として好適でありかつ公知の触
媒の欠点を克服した新規の遷移金属錯体を提供すること
にある。
フィン重合のための触媒として好適でありかつ公知の触
媒の欠点を克服した新規の遷移金属錯体を提供すること
にある。
【0007】
【課題を解決するための手段】この課題は、冒頭に記載
した遷移金属錯体により解決されることが判明した。
した遷移金属錯体により解決されることが判明した。
【0008】本発明はまた、遷移金属錯体の製造方法、
そのアニオンが遷移金属錯体のためのリガンドとして働
くβ−ジケチミン、遷移金属錯体のオレフィンを重合さ
せるための触媒としての使用、これらの遷移金属錯体を
用いてポリマーを製造する方法、該ポリマーの繊維、フ
ィルム及び成形品を製造するための使用、及びまたその
ような繊維、フィルム及び成形品自体に関する。
そのアニオンが遷移金属錯体のためのリガンドとして働
くβ−ジケチミン、遷移金属錯体のオレフィンを重合さ
せるための触媒としての使用、これらの遷移金属錯体を
用いてポリマーを製造する方法、該ポリマーの繊維、フ
ィルム及び成形品を製造するための使用、及びまたその
ような繊維、フィルム及び成形品自体に関する。
【0009】一般式Iにおける遷移金属Mのうちで有利
であるのは、周期表の第4遷移族の元素、特にジルコニ
ウムである。
であるのは、周期表の第4遷移族の元素、特にジルコニ
ウムである。
【0010】リガンドXの特別の例は、ハロゲンのフッ
素、塩素、臭素、及びヨウ素であり、特に有利であるの
は塩素である。好適なC1〜C10−アルキル基の例は、
メチル、エチル、プロピル及びブチルである。有利なC
6〜C15−アルキル基は、フェニル基である。
素、塩素、臭素、及びヨウ素であり、特に有利であるの
は塩素である。好適なC1〜C10−アルキル基の例は、
メチル、エチル、プロピル及びブチルである。有利なC
6〜C15−アルキル基は、フェニル基である。
【0011】いずれの場合にも、数値m及びnはそれぞ
れの中心遷移金属原子の原子価の合計になる。mは有利
には1である。それというのも、1つのβ−ジケチミネ
ートリガンドを含有する遷移金属錯体は特に良好な触媒
活性を呈するからである。このことは特にチタン及びジ
ルコニウムの金属錯体に当てはまる。しかしながら、遷
移金属錯体の製造は一般にm=2を有する錯体を生成
し、これを次いでMXn+mと競合反応で反応させると錯
体L1MXnを生成する。
れの中心遷移金属原子の原子価の合計になる。mは有利
には1である。それというのも、1つのβ−ジケチミネ
ートリガンドを含有する遷移金属錯体は特に良好な触媒
活性を呈するからである。このことは特にチタン及びジ
ルコニウムの金属錯体に当てはまる。しかしながら、遷
移金属錯体の製造は一般にm=2を有する錯体を生成
し、これを次いでMXn+mと競合反応で反応させると錯
体L1MXnを生成する。
【0012】一般式IIのリガンドLにおける適当な基
R2は、例えばアルキル基例えばメチル、エチル、n−
プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、s
−ブチル、t−ブチル及びまたペンチル、ヘキシル、オ
クチル、ノニル及びデシルの種々の異性体である。
R2は、例えばアルキル基例えばメチル、エチル、n−
プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、s
−ブチル、t−ブチル及びまたペンチル、ヘキシル、オ
クチル、ノニル及びデシルの種々の異性体である。
【0013】その他の適当な基R2は、C6〜C15−アリ
ール基、特に非置換のフェニルもしくはナフチル基、又
は前記基から選択されるアルキル基により置換されたフ
ェニルもしくはナフチル基である。
ール基、特に非置換のフェニルもしくはナフチル基、又
は前記基から選択されるアルキル基により置換されたフ
ェニルもしくはナフチル基である。
【0014】更に可能な基R2は、水素、トリフェニル
シリル及びトリメチルシリルである。
シリル及びトリメチルシリルである。
【0015】適当な基R3は、特に非置換のフェニル
基、又はメチル、エチルもしくはハロゲンにより置換さ
れたフェニル基、特に有利にはp−メチルフェニル及び
ペンタフルオロフェニルである。α−炭素原子に水素原
子を持たないC1〜C10−アルキル基のうちでは、特に
t−ブチルを挙げることができる。
基、又はメチル、エチルもしくはハロゲンにより置換さ
れたフェニル基、特に有利にはp−メチルフェニル及び
ペンタフルオロフェニルである。α−炭素原子に水素原
子を持たないC1〜C10−アルキル基のうちでは、特に
t−ブチルを挙げることができる。
【0016】適当なR4は、R2に関して挙げたと同じ
基、有利にはトリアルキルシリル又はトリアリールシリ
ル基、特に有利にはトリメチルシリルである。
基、有利にはトリアルキルシリル又はトリアリールシリ
ル基、特に有利にはトリメチルシリルである。
【0017】橋状基Aは、基:
【0018】
【化7】
【0019】に結合して5員又は6員の環系を形成す
る。この環系は2つの別の複素原子を持ち、例えばピリ
ジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジ
ン、ピロール、ピラゾール、チアゾール又はオキサゾー
ル系列から選択される系である。これらの環系は、更
に、2,3又は4つの環を有するイソ芳香族もしくは複
素芳香族系に融合され、例えばインドール、インダゾー
ル、キノリン、イソキノリン又はキナゾリン系列からな
る環系を形成することもできる。
る。この環系は2つの別の複素原子を持ち、例えばピリ
ジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジ
ン、ピロール、ピラゾール、チアゾール又はオキサゾー
ル系列から選択される系である。これらの環系は、更
に、2,3又は4つの環を有するイソ芳香族もしくは複
素芳香族系に融合され、例えばインドール、インダゾー
ル、キノリン、イソキノリン又はキナゾリン系列からな
る環系を形成することもできる。
【0020】有利には、橋状基Aは基:
【0021】
【化8】
【0022】に結合してピリジン、キノリン又はイソキ
ノリン環系を形成する。
ノリン環系を形成する。
【0023】有利であるのは、Aが一般式III:
【0024】
【化9】
【0025】[式中、置換基R5,R6,R7,R8は、水
素、C1〜C10−アルキル、C6〜C15−アリール又は酸
素、窒素もしくは燐を介して結合された相応する置換
基、ニトロ又はニトロソである]で示される橋状基であ
る。
素、C1〜C10−アルキル、C6〜C15−アリール又は酸
素、窒素もしくは燐を介して結合された相応する置換
基、ニトロ又はニトロソである]で示される橋状基であ
る。
【0026】置換基R5,R6,R7,R8は、有利には水
素である。適当なアルキル及びアリール基は、例えばR
2で挙げた基である。その他の可能な置換基は、水素又
は前記のアルキル又はアリール基が酸素、硫黄又は燐を
介して結合されたもの、例えばアルコキシ、アルキルチ
オ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ジアルキ
ルホスフィノ、アリールオキシ、アリールチオ、モノア
リールアミノ、ジアリールアミノ又はジアリールホスフ
ィノである。
素である。適当なアルキル及びアリール基は、例えばR
2で挙げた基である。その他の可能な置換基は、水素又
は前記のアルキル又はアリール基が酸素、硫黄又は燐を
介して結合されたもの、例えばアルコキシ、アルキルチ
オ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ジアルキ
ルホスフィノ、アリールオキシ、アリールチオ、モノア
リールアミノ、ジアリールアミノ又はジアリールホスフ
ィノである。
【0027】有利であるのはまた、Aが一般式IV:
【0028】
【化10】
【0029】[式中、 R5,R6,R7,R8は前記のも
のでありかつR9及びR10はこれらの基を表す]で示さ
れる橋状基である遷移金属錯体である。
のでありかつR9及びR10はこれらの基を表す]で示さ
れる橋状基である遷移金属錯体である。
【0030】置換基R9及びR10に関しては、 R5及び
R8に関して述べたと同じことが当てはまる。
R8に関して述べたと同じことが当てはまる。
【0031】本発明による遷移金属錯体を製造するため
の方法を見出した。該方法は、一般式V:
の方法を見出した。該方法は、一般式V:
【0032】
【化11】
【0033】の化合物を強酸を用いてアニオンVa:
【0034】
【化12】
【0035】に転化し、該アニオンをニトリルR3−C
Nと反応させてアニオンIIa:
Nと反応させてアニオンIIa:
【0036】
【化13】
【0037】を形成し、所望により保護基(CH3)3S
i−を、化合物R4−ハロゲンと反応させかつ生成した
アニオンII:
i−を、化合物R4−ハロゲンと反応させかつ生成した
アニオンII:
【0038】
【化14】
【0039】を式MXm+nの遷移金属化合物と反応させ
ることにより置換することを特徴とする。
ることにより置換することを特徴とする。
【0040】出発化合物Vは、公知方法で得ることがで
きる。該製造方法は、例えば、J. Chem. Soc., Dalton
Trans. 1990, 1161に記載されている。
きる。該製造方法は、例えば、J. Chem. Soc., Dalton
Trans. 1990, 1161に記載されている。
【0041】VをアニオンVaに転化するための強塩基
の1例はブチルリチウムである(反対イオン、この場合
Li+は、簡明化のために反応式には示さなかった)。
の1例はブチルリチウムである(反対イオン、この場合
Li+は、簡明化のために反応式には示さなかった)。
【0042】反応条件は、それ自体重要ではない。
【0043】製造は溶剤としてのヘキサン/ジエチルエ
ーテル混合物中で約20℃で窒素又はアルゴンの保護ガ
ス雰囲気下で実施するのが特に有利であることが判明し
た。
ーテル混合物中で約20℃で窒素又はアルゴンの保護ガ
ス雰囲気下で実施するのが特に有利であることが判明し
た。
【0044】アニオンIIの、例えば水の存在下でのプ
ロトン化は、一般式IIb:
ロトン化は、一般式IIb:
【0045】
【化15】
【0046】[式中、置換基は前記に定義したものを表
す]のβ−ジケチミンを生成する。これらのβ−ジケチ
ミンは、貯蔵安定でありかつ本発明による遷移金属錯体
を製造するための有用な中間体である。
す]のβ−ジケチミンを生成する。これらのβ−ジケチ
ミンは、貯蔵安定でありかつ本発明による遷移金属錯体
を製造するための有用な中間体である。
【0047】本発明による遷移金属錯体は、オレフィン
を重合させるための触媒として使用される。
を重合させるための触媒として使用される。
【0048】有利な重合可能なオレフィンは、エチレ
ン、プロピレン、ブト−1−エン、ペント−1−エン、
ヘキセ−1−エン、オクト−1−エン及びこれらの混合
物である。
ン、プロピレン、ブト−1−エン、ペント−1−エン、
ヘキセ−1−エン、オクト−1−エン及びこれらの混合
物である。
【0049】触媒系を使用して0.5〜3000バール
の圧力及び−50〜300℃でC2〜C10−アルケ−1
−エンのポリマーを製造するための本発明による方法に
おいては、触媒系は、活性成分として a)式I: LmMXn I を有する遷移金属錯体及び一般式VI又はVII:
の圧力及び−50〜300℃でC2〜C10−アルケ−1
−エンのポリマーを製造するための本発明による方法に
おいては、触媒系は、活性成分として a)式I: LmMXn I を有する遷移金属錯体及び一般式VI又はVII:
【0050】
【化16】
【0051】
【化17】
【0052】[式中、R11はC1〜C4−アルキルであり
かつoは5〜30である]の開環鎖状もしくは環式アル
ミンオキサン化合物及び/又は b2)カチオン形成化合物を有する。
かつoは5〜30である]の開環鎖状もしくは環式アル
ミンオキサン化合物及び/又は b2)カチオン形成化合物を有する。
【0053】基R11は、有利にはメチル又はエチル、o
は有利には10〜25である。
は有利には10〜25である。
【0054】オリゴマーのアルミンオキサン化合物は、
一般にトリアルキルアルミニウムの溶液を水と反応させ
ことにより製造されかつ例えば欧州特許出願公開第28
4708号明細書及び米国特許第4794096号明細
書に記載されている。
一般にトリアルキルアルミニウムの溶液を水と反応させ
ことにより製造されかつ例えば欧州特許出願公開第28
4708号明細書及び米国特許第4794096号明細
書に記載されている。
【0055】このようにして得られたオリゴマーのアル
ミンオキサンは、一般に線状及び環式の種々の長さの鎖
長の混合物の形で存在するので、mは平均値として見な
されるべきである。また、アルミンオキサン化合物は、
別の金属アルキル、有利にはアルミニウムアルキルと混
合されて存在することもできる。
ミンオキサンは、一般に線状及び環式の種々の長さの鎖
長の混合物の形で存在するので、mは平均値として見な
されるべきである。また、アルミンオキサン化合物は、
別の金属アルキル、有利にはアルミニウムアルキルと混
合されて存在することもできる。
【0056】本発明による遷移金属錯体及びオリゴマー
のアルミンオキサン化合物は、オリゴマーのアルミンオ
キサン化合物と遷移金属からのアルミニウムの原子比が
10:1〜106:1の範囲内、特に10:1〜104:
1の範囲内にあるような量で使用するのが有利であるこ
とが判明した。
のアルミンオキサン化合物は、オリゴマーのアルミンオ
キサン化合物と遷移金属からのアルミニウムの原子比が
10:1〜106:1の範囲内、特に10:1〜104:
1の範囲内にあるような量で使用するのが有利であるこ
とが判明した。
【0057】適当なカチオン形成化合物は、特に、無電
荷の強ルイス酸、ルイス酸を含有するイオン性化合物及
びカチオンとしてブレンステッド(Broensted)酸を有
するイオン性化合物である。
荷の強ルイス酸、ルイス酸を含有するイオン性化合物及
びカチオンとしてブレンステッド(Broensted)酸を有
するイオン性化合物である。
【0058】無電荷の強ルイス酸として有利であるの
は、一般式: M1M1X2X3 VII [式中、M1は、周期律表の第III主族の元素、特に
B、Al又はGa、特にBであり、X1,X2及びX
3は、水素、C1〜C10−アルキル、C6〜C15−アリー
ル、それぞれアルキル基中に1〜10個の炭素原子を有
しかつアリール基中に6〜20個の炭素原子を有するア
ルキルアリール、アリールアルキルもしくはハロアルキ
ル、又はフッ素、塩素、臭素もしくはヨウ素、特にハロ
アリール、有利にはペンタフルオロフェニルである]で
示される化合物である。
は、一般式: M1M1X2X3 VII [式中、M1は、周期律表の第III主族の元素、特に
B、Al又はGa、特にBであり、X1,X2及びX
3は、水素、C1〜C10−アルキル、C6〜C15−アリー
ル、それぞれアルキル基中に1〜10個の炭素原子を有
しかつアリール基中に6〜20個の炭素原子を有するア
ルキルアリール、アリールアルキルもしくはハロアルキ
ル、又はフッ素、塩素、臭素もしくはヨウ素、特にハロ
アリール、有利にはペンタフルオロフェニルである]で
示される化合物である。
【0059】特に有利であるのは、X1,X2及びX3が
同一であり、有利にはトリス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボランである一般式VIIの化合物である。
同一であり、有利にはトリス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボランである一般式VIIの化合物である。
【0060】ルイス酸カチオンを有する適当なイオン性
化合物は、一般式:
化合物は、一般式:
【0061】
【化18】
【0062】[式中、Yは、周期律表の第I〜VI主族
又は第1〜VIIIの遷移金属の元素である、Q1〜Qz
は、単一に負に荷電された基、例えばC1〜C28−アル
キル、C6〜C15−アリール、それぞれアリール基中に
6〜20個の炭素原子を有しかつアルキル基中に1〜2
8個の炭素原子を有するアルキルアリール、アリールア
ルキル、ハロアルキル、ハロアリール、非置換の又はC
1〜C10−アルキル基、ハロゲン、C1〜C28−アルコキ
シ、C6〜C15−アリールオキシ、シリル又はメルカプ
チルイ基により置換されていてもよいC1〜C10−シク
ロアルキル基である、aは1〜6の整数であり、zは0
〜5の整数であり、dは異なったa〜zであり、しかし
ながら、この場合dは1以上である]で示される化合物
である。
又は第1〜VIIIの遷移金属の元素である、Q1〜Qz
は、単一に負に荷電された基、例えばC1〜C28−アル
キル、C6〜C15−アリール、それぞれアリール基中に
6〜20個の炭素原子を有しかつアルキル基中に1〜2
8個の炭素原子を有するアルキルアリール、アリールア
ルキル、ハロアルキル、ハロアリール、非置換の又はC
1〜C10−アルキル基、ハロゲン、C1〜C28−アルコキ
シ、C6〜C15−アリールオキシ、シリル又はメルカプ
チルイ基により置換されていてもよいC1〜C10−シク
ロアルキル基である、aは1〜6の整数であり、zは0
〜5の整数であり、dは異なったa〜zであり、しかし
ながら、この場合dは1以上である]で示される化合物
である。
【0063】カルボニウムカチオン、オキソニウムカチ
オン及びスルホニウムカチオン並びにカチオン性遷移金
属錯体が特に好適である。特に、トリフェニルカチオ
ン、銀カチオン及び1,1′−ジメチルフェロセニルカ
チオンを挙げることができる。有利には、これらは配位
しない反対イオン、特に国際特許出願第91/0988
2号明細書に記載されているようなホウ素化合物、特に
テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートを有す
る。
オン及びスルホニウムカチオン並びにカチオン性遷移金
属錯体が特に好適である。特に、トリフェニルカチオ
ン、銀カチオン及び1,1′−ジメチルフェロセニルカ
チオンを挙げることができる。有利には、これらは配位
しない反対イオン、特に国際特許出願第91/0988
2号明細書に記載されているようなホウ素化合物、特に
テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートを有す
る。
【0064】同様に配位しないカチオン及び有利には反
対イオンとしてブレンステッド酸を有するイオン性化合
物は、国際特許出願第91/09882号明細書中に記
載されており、有利なカチオンはN,N−ジメチルアニ
リニウムである。
対イオンとしてブレンステッド酸を有するイオン性化合
物は、国際特許出願第91/09882号明細書中に記
載されており、有利なカチオンはN,N−ジメチルアニ
リニウムである。
【0065】カチオン形成化合物の量は、遷移金属錯体
Iに対して0.1〜10当量である。
Iに対して0.1〜10当量である。
【0066】これらの触媒系のために使用される溶剤
は、通常の芳香族炭化水素、有利には6〜20個の炭素
原子を有するもの、特にキシレン及びトルエン及びそれ
らの混合物である。
は、通常の芳香族炭化水素、有利には6〜20個の炭素
原子を有するもの、特にキシレン及びトルエン及びそれ
らの混合物である。
【0067】C2〜C10−アルケ−1−エンのポリマー
の製造の際には、また担体触媒系を使用することも可能
である。好適な担体材料は、例えばシリカ、有利には式
SiO2・aAl2O3(式中、aは0〜2、有利には0
〜0.5の範囲内にある)を有するものである。従っ
て、これらはアルミノケイ酸塩又は二酸化ケイ素であ
る。該担体は、有利には1〜200μm、特に30〜8
0μmの範囲内の粒径を有する。このような製品は例え
ばグレース(Grace)社からSilica Gel 332として市販さ
れている。
の製造の際には、また担体触媒系を使用することも可能
である。好適な担体材料は、例えばシリカ、有利には式
SiO2・aAl2O3(式中、aは0〜2、有利には0
〜0.5の範囲内にある)を有するものである。従っ
て、これらはアルミノケイ酸塩又は二酸化ケイ素であ
る。該担体は、有利には1〜200μm、特に30〜8
0μmの範囲内の粒径を有する。このような製品は例え
ばグレース(Grace)社からSilica Gel 332として市販さ
れている。
【0068】本発明の目的のためには、C2〜C10−ア
ルケ−1−エンのポリマーはC2〜C10−アルケ−1−
エン、特にC2〜C6−アルケ−1−エンのホモポリマ
ー又はコポリマーである。有利であるのは、エチレン又
はプロピレンのホモポリマー及びエチレンとプロピレ
ン、エチレンとブト−1−エン、エチレンとペント−1
−エン、エチレンとヘキセ−1−エン、又はプロピレン
とブト−1−エン、プロピレンとペント−1−エンもし
くはまたプロピレンとヘキセ−1−エンのコポリマーで
ある。この場合、コモノマーの割合は、50重量%以
下、特に30重量%以下であってよい。
ルケ−1−エンのポリマーはC2〜C10−アルケ−1−
エン、特にC2〜C6−アルケ−1−エンのホモポリマ
ー又はコポリマーである。有利であるのは、エチレン又
はプロピレンのホモポリマー及びエチレンとプロピレ
ン、エチレンとブト−1−エン、エチレンとペント−1
−エン、エチレンとヘキセ−1−エン、又はプロピレン
とブト−1−エン、プロピレンとペント−1−エンもし
くはまたプロピレンとヘキセ−1−エンのコポリマーで
ある。この場合、コモノマーの割合は、50重量%以
下、特に30重量%以下であってよい。
【0069】本発明による方法は、溶液内、懸濁液内、
気相内あるいはまた塊状重合により実施することができ
る。C2〜C10−アルケ−1−エンのポリマーを製造す
るためには気相内で実施するのが有利である。重合条件
はそれ自体重要ではない。0.5〜3000バール、有
利には1〜80バールの圧力及び−50〜+300℃、
有利には0〜150℃の温度が有用であることが判明し
た。該重合は、通常の調節剤、例えば水素又はC2〜C8
−アルケ−1−エンの存在下にかつ通常の重合反応器内
で実施することができる。
気相内あるいはまた塊状重合により実施することができ
る。C2〜C10−アルケ−1−エンのポリマーを製造す
るためには気相内で実施するのが有利である。重合条件
はそれ自体重要ではない。0.5〜3000バール、有
利には1〜80バールの圧力及び−50〜+300℃、
有利には0〜150℃の温度が有用であることが判明し
た。該重合は、通常の調節剤、例えば水素又はC2〜C8
−アルケ−1−エンの存在下にかつ通常の重合反応器内
で実施することができる。
【0070】C2〜C10−アルケ−1−エンのポリマー
を製造するための有利な方法においては、触媒系の活性
成分を最初にトルエン中に0〜140℃の温度で装入す
る。
を製造するための有利な方法においては、触媒系の活性
成分を最初にトルエン中に0〜140℃の温度で装入す
る。
【0071】この初期のバッチを、次いでC2〜C10−
アルケ−1−エン1〜60バールで0.5〜12時間に
亙り加圧する。次いで、ポリマーの後処理は、通常の方
法で実施する。
アルケ−1−エン1〜60バールで0.5〜12時間に
亙り加圧する。次いで、ポリマーの後処理は、通常の方
法で実施する。
【0072】C2〜C10−アルケ−1−エンのポリマー
を製造するための本発明による方法は、実施するのが簡
単である。
を製造するための本発明による方法は、実施するのが簡
単である。
【0073】本発明による方法により製造されたC2〜
C10−アルケ−1−エンのポリマーは、バランスのとれ
た特性プロフィールを有する。特に、該ポリマーは極め
て高い分子量を有し、かつ繊維、フィルム及び成形品を
製造するために好適である。
C10−アルケ−1−エンのポリマーは、バランスのとれ
た特性プロフィールを有する。特に、該ポリマーは極め
て高い分子量を有し、かつ繊維、フィルム及び成形品を
製造するために好適である。
【0074】
例1 [Li{N(SiMe3)C(Ph)C(H)(C5H4N−
2)}]2の合成 室温でCH2(SiMe3)(C5H4N−2) 5.13
g(31mmol)を、ヘキサン20ml及びジエチル
エーテル20ml中のn−ブチルリチウム(32mmo
l)の溶液に添加することにより[Li{CH(SiMe
3)(C5H4N−2)}]2を製造した。該反応混合物を
室温で30分間撹拌した後、懸濁液をジエチルエーテル
35mlで希釈した。その後、ベンゾニトリル3.3m
l(32mmol)を室温で滴加した。反応混合物を1
6時間撹拌し、次いで揮発成分を減圧下で除去した。残
留物を50℃で減圧下で乾燥させた。熱ヘキサン溶液
(50ml)を0℃に徐々に冷却することにより結晶が
得られた。
2)}]2の合成 室温でCH2(SiMe3)(C5H4N−2) 5.13
g(31mmol)を、ヘキサン20ml及びジエチル
エーテル20ml中のn−ブチルリチウム(32mmo
l)の溶液に添加することにより[Li{CH(SiMe
3)(C5H4N−2)}]2を製造した。該反応混合物を
室温で30分間撹拌した後、懸濁液をジエチルエーテル
35mlで希釈した。その後、ベンゾニトリル3.3m
l(32mmol)を室温で滴加した。反応混合物を1
6時間撹拌し、次いで揮発成分を減圧下で除去した。残
留物を50℃で減圧下で乾燥させた。熱ヘキサン溶液
(50ml)を0℃に徐々に冷却することにより結晶が
得られた。
【0075】収量:2.89g(34%)
【0076】
【表1】
【0077】例2 [Li{N(SiMe3)C(Ph)C(SiMe3)(C5H
4N−2)}]2の合成 室温でCH(SiMe3)2(C5H4N−2) 8.0m
l(7.4g、31mmol)を、ヘキサン20ml及
びジエチルエーテル50ml中のn−ブチルリチウム
(32mmol)溶液に添加することにより[Li{C
(SiMe3)2(C5H4N−2)}]2を製造した。該反
応混合物を室温で1時間撹拌した。その後、ベンゾニト
リル3.2ml(31mmol)を室温で滴加した。反
応混合物を15時間撹拌し、そして揮発成分を減圧下で
除去した。残留物をヘキサン50ml中に懸濁させ、−
30℃まで冷却し、次いでフリット上に集めた。生成物
をペンタン30mlで洗浄した。
4N−2)}]2の合成 室温でCH(SiMe3)2(C5H4N−2) 8.0m
l(7.4g、31mmol)を、ヘキサン20ml及
びジエチルエーテル50ml中のn−ブチルリチウム
(32mmol)溶液に添加することにより[Li{C
(SiMe3)2(C5H4N−2)}]2を製造した。該反
応混合物を室温で1時間撹拌した。その後、ベンゾニト
リル3.2ml(31mmol)を室温で滴加した。反
応混合物を15時間撹拌し、そして揮発成分を減圧下で
除去した。残留物をヘキサン50ml中に懸濁させ、−
30℃まで冷却し、次いでフリット上に集めた。生成物
をペンタン30mlで洗浄した。
【0078】収量:7.37g(68%)
【0079】
【表2】
【0080】例3 [Li{N(SiMe3)C(Ph)C(SiMe3)(C9H
6N−2)}]2の合成 CH2(SiMe3)(C9H6N−2) 0.9ml
(4.1mmol)を、0℃でジエチルエーテル5ml
で希釈したヘキサン中のn−ブチルリチウム(2.5m
l、4.0mmol)の溶液に滴加した。溶液を室温で
30分間撹拌し、その後SiMe3Cl0.5ml
(4.0mmol)を添加した。室温で15時間撹拌し
た後、懸濁液を濾過し、そして0℃でn−ブチルリチウ
ム2.4ml(3.8mmol)と混合した。該溶液を
室温で15分間撹拌し、その後ベンゾニトリル0.4m
l(3.9mmol)を0℃で添加した。反応後混合物
を15時間撹拌し、揮発成分を減圧下で除去し、そして
残留物を減圧下で50℃で30分間乾燥させた。残留物
を2回、それぞれヘキサン10mlで洗浄した。
6N−2)}]2の合成 CH2(SiMe3)(C9H6N−2) 0.9ml
(4.1mmol)を、0℃でジエチルエーテル5ml
で希釈したヘキサン中のn−ブチルリチウム(2.5m
l、4.0mmol)の溶液に滴加した。溶液を室温で
30分間撹拌し、その後SiMe3Cl0.5ml
(4.0mmol)を添加した。室温で15時間撹拌し
た後、懸濁液を濾過し、そして0℃でn−ブチルリチウ
ム2.4ml(3.8mmol)と混合した。該溶液を
室温で15分間撹拌し、その後ベンゾニトリル0.4m
l(3.9mmol)を0℃で添加した。反応後混合物
を15時間撹拌し、揮発成分を減圧下で除去し、そして
残留物を減圧下で50℃で30分間乾燥させた。残留物
を2回、それぞれヘキサン10mlで洗浄した。
【0081】収量:1.02g(64%)
【0082】
【表3】
【0083】例4 Zr{N(SiMe3)C(Ph)C(H)(C5H4N−2)}
2Cl2の合成 THF12ml中の例1の化合物2.38g(4.34
mmol)の溶液を、0℃でTHF60ml中のZrC
l40.99g(4.25mmol)の溶液に添加し
た。反応混合物を室温まで加熱し、その後15時間撹拌
し、引き続き1.5時間還流させた。揮発成分を減圧下
で除去し、そして残留物をヘキサン10ml、ジエチル
エーテル50ml及びジクロロメタン(2×25ml)
で抽出した。合した抽出物を50mlに濃縮し、引き続
き−30℃に冷却した。こうして得られた結晶をヘキサ
ン5mlで洗浄した。
2Cl2の合成 THF12ml中の例1の化合物2.38g(4.34
mmol)の溶液を、0℃でTHF60ml中のZrC
l40.99g(4.25mmol)の溶液に添加し
た。反応混合物を室温まで加熱し、その後15時間撹拌
し、引き続き1.5時間還流させた。揮発成分を減圧下
で除去し、そして残留物をヘキサン10ml、ジエチル
エーテル50ml及びジクロロメタン(2×25ml)
で抽出した。合した抽出物を50mlに濃縮し、引き続
き−30℃に冷却した。こうして得られた結晶をヘキサ
ン5mlで洗浄した。
【0084】収量:1.58g(53%)。
【0085】
【表4】
【0086】例5 Zr{N(SiMe3)C(Ph)C(SiMe3)(C5H4
N−2)}2Cl2の合成 例2の化合物3.86g(5.70mmol)を、ジエ
チルエーテル60ml中のZrCl41.33g(5.
71mmol)の溶液に添加した。反応混合物を16時
間撹拌し、その後揮発成分を減圧下で除去した。残留物
をジクロロメタン2×50mlで抽出し、そして2回濾
別した。揮発成分を減圧下で除去し、そして残留物を−
30℃でトルエン50mlから再結晶させた。
N−2)}2Cl2の合成 例2の化合物3.86g(5.70mmol)を、ジエ
チルエーテル60ml中のZrCl41.33g(5.
71mmol)の溶液に添加した。反応混合物を16時
間撹拌し、その後揮発成分を減圧下で除去した。残留物
をジクロロメタン2×50mlで抽出し、そして2回濾
別した。揮発成分を減圧下で除去し、そして残留物を−
30℃でトルエン50mlから再結晶させた。
【0087】収量:1.32g(1.57mmol)。
【0088】母液の濃縮によってさらに生成物1.13
gが生じた。
gが生じた。
【0089】総収量:2.45g(54%)。
【0090】
【表5】
【0091】例6 Zr{N(SiMe3)C(Ph)C(SiMe3)(2−C9
H6N)}2Cl2の合成 例3の化合物1.7g(4.3mmol)を、ジエチル
エーテル50ml中のZrCl40.5g(2.2mm
ol)の懸濁液に添加した。反応混合物を3時間撹拌
し、その後揮発成分を減圧下で除去した。残留物を熱ト
ルエン45mlで抽出しそして濾別した。濾液を減圧下
で蒸発乾固させ、そして残留物をヘキサン25mlで抽
出した。ジクロロメタン及びジエチルエーテルの混合物
(1:1、v:v)から固体を再結晶した。
H6N)}2Cl2の合成 例3の化合物1.7g(4.3mmol)を、ジエチル
エーテル50ml中のZrCl40.5g(2.2mm
ol)の懸濁液に添加した。反応混合物を3時間撹拌
し、その後揮発成分を減圧下で除去した。残留物を熱ト
ルエン45mlで抽出しそして濾別した。濾液を減圧下
で蒸発乾固させ、そして残留物をヘキサン25mlで抽
出した。ジクロロメタン及びジエチルエーテルの混合物
(1:1、v:v)から固体を再結晶した。
【0092】収量:0.78g(37%)。
【0093】
【表6】
【0094】例7 Zr{N(SiMe3)C(Ph)C(SiMe3)(2−C9
H6N)}Cl3の合成 例5の化合物2.16g(2.57mmol)を、トル
エン35ml中のZrCl40.63g(2.7mmo
l)の懸濁液に添加した。反応混合物を16時間撹拌
し、その後揮発成分を減圧下で除去した。残留物をヘキ
サン20mlで抽出した。
H6N)}Cl3の合成 例5の化合物2.16g(2.57mmol)を、トル
エン35ml中のZrCl40.63g(2.7mmo
l)の懸濁液に添加した。反応混合物を16時間撹拌
し、その後揮発成分を減圧下で除去した。残留物をヘキ
サン20mlで抽出した。
【0095】収量:1.73g(3.22mmol、6
3%)。
3%)。
【0096】
【表7】
【0097】例8 Zr{N(SiMe3)C(Ph)C(SiMe3)(2−C9
H6N)}Cl3の合成 例6の化合物1.53g(1.63mmol)を、ジク
ロロメタン25ml中のZrCl40.39g(1.6
7mmol)の懸濁液に添加した。反応混合物を16時
間撹拌し、その後濾過し、そして濾液を10mlまで濃
縮した。溶液を−30℃まで冷却したところ結晶0.8
1gが得られた。より多くの物質を母液から単離するこ
とができた。
H6N)}Cl3の合成 例6の化合物1.53g(1.63mmol)を、ジク
ロロメタン25ml中のZrCl40.39g(1.6
7mmol)の懸濁液に添加した。反応混合物を16時
間撹拌し、その後濾過し、そして濾液を10mlまで濃
縮した。溶液を−30℃まで冷却したところ結晶0.8
1gが得られた。より多くの物質を母液から単離するこ
とができた。
【0098】総収量:1.10g(57%)。
【0099】
【表8】
【0100】例9 エチレン重合 代表的な実験において、例8の化合物31mg(0.0
53mmol)を、室温でトルエン中のメチルアルミン
オキサン(MAO)の10重量%の溶液3.5ml(ア
ルミニウム5.4mmol)と反応させた。該溶液をト
ルエン31.5mlで希釈し、ガス抜きし、その後室温
でエチレン1.5バールの圧力下に放置した。30分
後、重合をメタノール性HClの添加によって停止させ
た。ポリマーを単離し、1 M HCl溶液、水及びメタ
ノールで洗浄し、その後80℃で恒重まで乾燥させた。
類似の方法で実施した別の実施例は第1表に示されてい
る。
53mmol)を、室温でトルエン中のメチルアルミン
オキサン(MAO)の10重量%の溶液3.5ml(ア
ルミニウム5.4mmol)と反応させた。該溶液をト
ルエン31.5mlで希釈し、ガス抜きし、その後室温
でエチレン1.5バールの圧力下に放置した。30分
後、重合をメタノール性HClの添加によって停止させ
た。ポリマーを単離し、1 M HCl溶液、水及びメタ
ノールで洗浄し、その後80℃で恒重まで乾燥させた。
類似の方法で実施した別の実施例は第1表に示されてい
る。
【0101】
【表9】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ベルト−ヤン デールマン オランダ国 クーレムボルク エヘランテ ィエル 38 (72)発明者 マイケル フランツ ラッパート イギリス国 ブライトン ヴァーンディー ン ガーデンズ 4 (72)発明者 ウイン−ポル ルン 香港 ニュー テリトリーズ シャティン ザ チャイニーズ ユニヴァーシテイ オブ ホンコン レジデンス 3 2ビー (72)発明者 フン−カイ リー 香港 クーロン ライ チ コク ロード 378 3エフ
Claims (2)
- 【請求項1】 一般式I: LmMXn I [式中、 Mはチタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、
ニオブ、タンタル又は希土類金属であり、 Xはフッ素、塩素、臭素、沃素、水素、C1〜C10−ア
ルキル、C6〜C15−アリール又はOR1であり、 R1はC1〜C10−アルキル、C6〜C15−アリール、そ
れぞれアルキル基中に1〜10個の炭素原子を有しかつ
アリール基中に6〜20個の炭素原子を有するアルキル
アリール、アリールアルキル、フルオロアルキル又はフ
ルオロアリールであり、 mは1又は2であり、 nは、Mがチタン、ジルコニウム又はハフニウムである
場合は、4−mであり、又はMがバナジウム、ニオブ又
はタンタルの場合は、5−mであり、又はMが希土類金
属である場合は、3−mであり、 Lは一般式II: 【化1】 (式中、 Aは、それが結合された窒素及び炭素原子と一緒に5員
もしくは6員の、非置換もしくは置換芳香族環を形成す
る橋状基であり、前記芳香族基はまた酸素、硫黄及び窒
素からなる基から選択される2個の別の複素原子を含有
していてもよく、かつ2、3又は4個の環を有する別の
イソ芳香族系もしくは複素芳香族系に融合されていても
よく、 R2は水素、 C1〜C10−アルキル、C6〜C15−アリー
ル、トリ−(C1〜C10)アルキルシリル又はトリ−
(C6〜C15)アリールシリルであり、 R3はC6〜C15−アリール、C6〜C15−フルオロアリ
ール、C1〜C10−アルキル、C1〜C10−フルオロア
ルキル基であり、これらの基はα−炭素原子上には水素
を有していず、かつR4は水素、C1〜C10−アルキル、
C6〜C15−アリール、トリ−(C1〜C10)アルキルシ
リル又はトリ−(C6〜C15)アリールシリルである)
であるリガンドである]で示される遷移金属錯体。 - 【請求項2】 請求項1に記載の遷移金属錯体を製造す
る方法において、一般式V: 【化2】 の化合物を強塩基によりアニオンVa: 【化3】 に転化し、このアニオンをニトリルR3−CNと反応さ
せて、アニオンIIa: 【化4】 を形成し、所望により保護基(CH3)3Si−を化合物
R4−ハロゲンと反応させかつ得られたアニオンII: 【化5】 を式:MXm + nの遷移金属化合物と反応させることに
より置換することを特徴とする、遷移金属錯体の製造方
法。
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