JPH1036506A - 新規なポリイミド組成物及びポリイミドフィルム - Google Patents
新規なポリイミド組成物及びポリイミドフィルムInfo
- Publication number
- JPH1036506A JPH1036506A JP18907296A JP18907296A JPH1036506A JP H1036506 A JPH1036506 A JP H1036506A JP 18907296 A JP18907296 A JP 18907296A JP 18907296 A JP18907296 A JP 18907296A JP H1036506 A JPH1036506 A JP H1036506A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polyimide
- polyimide film
- film
- polyamic acid
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/032—Organic insulating material consisting of one material
- H05K1/0346—Organic insulating material consisting of one material containing N
Landscapes
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 低熱膨張性、低吸水率、低吸湿膨張性などの
優れた特性を有するポリイミド組成物及びポリイミドフ
ィルムを提供することを目的とする。 【解決手段】 吸水率が1.6%以下、吸湿膨張係数が
15ppm以下であり、一般式(1)化1 【化1】 (式中、R1 は、化2 【化2】 から選択される2価の有機基、R2 は1種以上の2価の
有機基、R3 は一種以上の4価の有機基であり、また、
式中、R4 は、CH3 −,Cl−,Br−,F−,CH
3 O−を示す。)で表されるポリアミド酸共重合体を脱
水閉環した新規なポリイミド組成物を構成する。
優れた特性を有するポリイミド組成物及びポリイミドフ
ィルムを提供することを目的とする。 【解決手段】 吸水率が1.6%以下、吸湿膨張係数が
15ppm以下であり、一般式(1)化1 【化1】 (式中、R1 は、化2 【化2】 から選択される2価の有機基、R2 は1種以上の2価の
有機基、R3 は一種以上の4価の有機基であり、また、
式中、R4 は、CH3 −,Cl−,Br−,F−,CH
3 O−を示す。)で表されるポリアミド酸共重合体を脱
水閉環した新規なポリイミド組成物を構成する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なポリイミド
組成物及びポリイミドフィルムに関するものである。詳
しくは、低熱膨張性、低吸水率、低吸湿膨張性などの優
れた特性を有し、フレキシブルプリント基板用ベースフ
ィルム、TAB用キャリアテープあるいは積層板用樹脂
等に好適に供することができる新規なポリイミド組成物
及びポリイミドフィルムに関する。
組成物及びポリイミドフィルムに関するものである。詳
しくは、低熱膨張性、低吸水率、低吸湿膨張性などの優
れた特性を有し、フレキシブルプリント基板用ベースフ
ィルム、TAB用キャリアテープあるいは積層板用樹脂
等に好適に供することができる新規なポリイミド組成物
及びポリイミドフィルムに関する。
【0002】
【従来技術】一般に、ポリイミドフィルムは、種々の有
機ポリマーのなかでも、その優れた耐熱性・低温特性・
耐薬品性・電気特性などから、電気・電子機器用途の材
料として、さらに宇宙、航空分野から電子通信分野ま
で、幅広く用いられている。特に最近では、単に耐熱性
に優れているだけでなく、用途に応じて種々の性能を合
わせ有することが要求されている。
機ポリマーのなかでも、その優れた耐熱性・低温特性・
耐薬品性・電気特性などから、電気・電子機器用途の材
料として、さらに宇宙、航空分野から電子通信分野ま
で、幅広く用いられている。特に最近では、単に耐熱性
に優れているだけでなく、用途に応じて種々の性能を合
わせ有することが要求されている。
【0003】例えば、フレキシブルプリント基板用ベー
スフィルムやTAB(テープオートメーテッドボンディ
ング)用キャリアテープ、あるいは積層板用樹脂として
は、弾性率が高く、吸湿膨張係数が小さいことが望まれ
ている。しかし、これらの性能を充分に満足するポリイ
ミドフィルムは、現在のところ得られてはいない。
スフィルムやTAB(テープオートメーテッドボンディ
ング)用キャリアテープ、あるいは積層板用樹脂として
は、弾性率が高く、吸湿膨張係数が小さいことが望まれ
ている。しかし、これらの性能を充分に満足するポリイ
ミドフィルムは、現在のところ得られてはいない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このようなポリイミド
を得るためには、ポリイミド主鎖をできる限り剛直にし
て低熱膨張性を発現することが必要である。しかし、ポ
リイミド主鎖を構成する原料として既存の最も剛直な構
造を持つピロメリット酸二無水物を用いてポリイミドを
合成すると、高弾性を容易に発現することができるが、
イミド基の分極が大きくなり、低吸湿性を発現すること
ができない。また、吸水率を低くするために、フッ素系
樹脂を導入することが考えられるが、製造コストがかさ
むこと、酸無水物の反応性が低下することが予想され好
ましくなかった。
を得るためには、ポリイミド主鎖をできる限り剛直にし
て低熱膨張性を発現することが必要である。しかし、ポ
リイミド主鎖を構成する原料として既存の最も剛直な構
造を持つピロメリット酸二無水物を用いてポリイミドを
合成すると、高弾性を容易に発現することができるが、
イミド基の分極が大きくなり、低吸湿性を発現すること
ができない。また、吸水率を低くするために、フッ素系
樹脂を導入することが考えられるが、製造コストがかさ
むこと、酸無水物の反応性が低下することが予想され好
ましくなかった。
【0005】そこで、本発明者らは、鋭意検討を重ねた
結果、特定の構造を有するポリアミド酸を脱水閉環して
得られる新規なポリイミド組成に想到することにより、
上記従来の問題点を解決し初期の目的を達成できること
を見出し、本発明を完成するに至ったのである。
結果、特定の構造を有するポリアミド酸を脱水閉環して
得られる新規なポリイミド組成に想到することにより、
上記従来の問題点を解決し初期の目的を達成できること
を見出し、本発明を完成するに至ったのである。
【0006】
【0007】この目的を達成するための本発明に係る新
規なポリイミド組成物の要旨とするところは、吸水率が
1.6%以下であり、吸湿膨張係数が15ppm以下で
あることにある。
規なポリイミド組成物の要旨とするところは、吸水率が
1.6%以下であり、吸湿膨張係数が15ppm以下で
あることにある。
【0008】また、前記ポリイミド組成物が、一般式
(1)化7
(1)化7
【0009】
【化7】
【0010】(式中、R1 は、化8
【0011】
【化8】
【0012】から選択される2価の有機基、R2 は1種
以上の2価の有機基、R3 は1種以上の4価の有機基で
あり、また、式中、R4 は、CH3 −,Cl−,Br
−,F−,CH3 O−を示す。)で表されるポリアミド
酸共重合体を脱水閉環することにある。
以上の2価の有機基、R3 は1種以上の4価の有機基で
あり、また、式中、R4 は、CH3 −,Cl−,Br
−,F−,CH3 O−を示す。)で表されるポリアミド
酸共重合体を脱水閉環することにある。
【0013】更に、前記ポリイミド組成物が、一般式
(1)化9
(1)化9
【0014】
【化9】
【0015】(式中、R1 は、化10
【0016】
【化10】
【0017】から選択される2価の有機基、R2 は化1
1
1
【0018】
【化11】
【0019】から選択される2価の有機基であり、R3
は化12
は化12
【0020】
【化12】
【0021】から選択される4価の有機基であり、式
中、R4 は、CH3 −,Cl−,Br−,F−,CH3
O−を示す。また、l,mは0以上の整数を示し、0≦
m/l,l≠0を満たす。)で表されるポリアミド酸共
重合体を脱水閉環することにある。
中、R4 は、CH3 −,Cl−,Br−,F−,CH3
O−を示す。また、l,mは0以上の整数を示し、0≦
m/l,l≠0を満たす。)で表されるポリアミド酸共
重合体を脱水閉環することにある。
【0022】さらに、本発明に係るポリイミドフィルム
の要旨とするところは、請求項1乃至請求項3に記載す
るポリイミド組成物を使用することにある。
の要旨とするところは、請求項1乃至請求項3に記載す
るポリイミド組成物を使用することにある。
【0023】
【発明の実施の形態】本発明に係るポリイミド組成物
は、低熱膨張性、低吸水率、低吸湿膨張性などの優れた
特性を有するポリイミド組成物及びポリイミドフィルム
である。詳しくは、本発明に係るポリイミド組成物が、
一般式(1)化13
は、低熱膨張性、低吸水率、低吸湿膨張性などの優れた
特性を有するポリイミド組成物及びポリイミドフィルム
である。詳しくは、本発明に係るポリイミド組成物が、
一般式(1)化13
【0024】
【化13】
【0025】(式中、R1 は、化14
【0026】
【化14】
【0027】から選択される2価の有機基、R2 は1種
以上の2価の有機基、R3 は1種以上の4価の有機基、
R4 は CH3 −,Cl−,Br−,F−,CH3 O− を示す。l,mは1以上の整数を示し、0≦m/l,l
≠0を満たす。)を、脱水閉環して得られることを特徴
とする。
以上の2価の有機基、R3 は1種以上の4価の有機基、
R4 は CH3 −,Cl−,Br−,F−,CH3 O− を示す。l,mは1以上の整数を示し、0≦m/l,l
≠0を満たす。)を、脱水閉環して得られることを特徴
とする。
【0028】以下に、本発明に係る新規なポリイミド組
成物及びポリイミドフィルムの製造方法について詳細に
述べる。
成物及びポリイミドフィルムの製造方法について詳細に
述べる。
【0029】このポリイミド組成物は、その前駆体であ
るポリアミド酸共重合体を脱水閉環して得られるが、こ
のポリアミド酸溶液は、酸無水物とジアミン成分を実質
的に等モル使用し、有機極性溶媒中で重合して得られ
る。まず、ポリアミド酸共重合体溶液の製造方法につい
て述べる。
るポリアミド酸共重合体を脱水閉環して得られるが、こ
のポリアミド酸溶液は、酸無水物とジアミン成分を実質
的に等モル使用し、有機極性溶媒中で重合して得られ
る。まず、ポリアミド酸共重合体溶液の製造方法につい
て述べる。
【0030】まず、アルゴン、窒素などの不活性ガス雰
囲気中において、一般式(2) H2 N−R2 −NH2 (2) (式中、R2 は2価の有機基を示す。)で表される1種
あるいは、2種のジアミンを有機溶媒に溶解、あるい
は、スラリー状に拡散させる。この溶液に、一般式
(3)化15
囲気中において、一般式(2) H2 N−R2 −NH2 (2) (式中、R2 は2価の有機基を示す。)で表される1種
あるいは、2種のジアミンを有機溶媒に溶解、あるい
は、スラリー状に拡散させる。この溶液に、一般式
(3)化15
【0031】
【化15】
【0032】(式中、R1 は2価の有機基を示す。)で
表される少なくとも1種の芳香族ジエステル酸二無水物
と、一般式(4)化16
表される少なくとも1種の芳香族ジエステル酸二無水物
と、一般式(4)化16
【0033】
【化16】
【0034】(式中、R3 は4価の有機基を示す。)で
表される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の
混合物を固体の状態または有機溶媒溶液の状態で添加
し、ポリアミド酸重合体の溶液を得る。
表される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の
混合物を固体の状態または有機溶媒溶液の状態で添加
し、ポリアミド酸重合体の溶液を得る。
【0035】この時の反応温度は、−20℃から100
℃、望ましくは、60℃以下が好ましい。反応時間は、
30分から12時間程度である。
℃、望ましくは、60℃以下が好ましい。反応時間は、
30分から12時間程度である。
【0036】また、この反応において、上記添加手順と
は逆に、まずエステル酸二無水物とテトラカルボン酸二
無水物の混合物を有機溶媒中に溶解または拡散させ、該
溶液中に前記ジアミンの固体若しくは有機溶媒による溶
液若しくはスラリーを添加させてもよい。また、同時に
混合して反応させてもよく、酸二無水物成分、ジアミン
成分の混合順序は限定されない。
は逆に、まずエステル酸二無水物とテトラカルボン酸二
無水物の混合物を有機溶媒中に溶解または拡散させ、該
溶液中に前記ジアミンの固体若しくは有機溶媒による溶
液若しくはスラリーを添加させてもよい。また、同時に
混合して反応させてもよく、酸二無水物成分、ジアミン
成分の混合順序は限定されない。
【0037】なお、ポリアミド酸の生成反応に使用され
る有機溶媒としては、例えば、ジアミチルスルホキシ
ド、ジエチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、N,
N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド等
のホルムアミド系溶媒、N,N-ジメチルアセトアミド、N,
N-ジエチルアセトアミド等のアセトアミド系溶媒、N−
メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドン
などのピロリドン系溶媒、フェノール、o−、m−、ま
たはp−クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノ
ール、カテコールなどのフェノール系溶媒、あるいはヘ
キサメチルホスホルアミド、γ−ブチロラクトン等をあ
げることができる。これらを1種類の溶媒のみで用いる
ことも、2種以上からなる混合溶媒で用いることもでき
る。更には、キシレン、トルエン等の芳香族炭化水素を
混合して使用することも可能である。
る有機溶媒としては、例えば、ジアミチルスルホキシ
ド、ジエチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、N,
N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド等
のホルムアミド系溶媒、N,N-ジメチルアセトアミド、N,
N-ジエチルアセトアミド等のアセトアミド系溶媒、N−
メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドン
などのピロリドン系溶媒、フェノール、o−、m−、ま
たはp−クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノ
ール、カテコールなどのフェノール系溶媒、あるいはヘ
キサメチルホスホルアミド、γ−ブチロラクトン等をあ
げることができる。これらを1種類の溶媒のみで用いる
ことも、2種以上からなる混合溶媒で用いることもでき
る。更には、キシレン、トルエン等の芳香族炭化水素を
混合して使用することも可能である。
【0038】また、これらの極性溶媒とポリアミド酸の
非溶媒とからなる混合溶媒の用いることもできる。ポリ
アミド酸の非溶媒としてはアセトン、メタノール、エタ
ノール、イソプロパノール、ベンゼン、メチルセロソル
ブ等を挙げることができる。更にキシレン、トルエンの
ような芳香族炭化水素の一部使用も可能である。
非溶媒とからなる混合溶媒の用いることもできる。ポリ
アミド酸の非溶媒としてはアセトン、メタノール、エタ
ノール、イソプロパノール、ベンゼン、メチルセロソル
ブ等を挙げることができる。更にキシレン、トルエンの
ような芳香族炭化水素の一部使用も可能である。
【0039】このポリアミド酸は各々前記の有機極性溶
媒中に5〜40重量%、好ましくは10〜30重量%溶
解されているのが取扱いの面からも望ましい。
媒中に5〜40重量%、好ましくは10〜30重量%溶
解されているのが取扱いの面からも望ましい。
【0040】生成されるポリアミド酸の分子量は、ポリ
イミドフィルムの強度を維持するためには、数平均分子
量が1万以上100万が好ましい。平均分子量が1万未
満では、できあがったフィルムが脆くなり、一方100
万を超えるとポリアミド酸ワニスの粘度が高くなりすぎ
取扱いが難しくなって、好ましくない。
イミドフィルムの強度を維持するためには、数平均分子
量が1万以上100万が好ましい。平均分子量が1万未
満では、できあがったフィルムが脆くなり、一方100
万を超えるとポリアミド酸ワニスの粘度が高くなりすぎ
取扱いが難しくなって、好ましくない。
【0041】かかる反応において、酸二無水物成分の割
合は、前記一般式(3)で表されるエステル酸二無水物
と前記一般式(4)で表されるテトラカルボン酸二無水
物のモル比が、10/90〜100/0の範囲であるよ
うに用いるのが好ましい。
合は、前記一般式(3)で表されるエステル酸二無水物
と前記一般式(4)で表されるテトラカルボン酸二無水
物のモル比が、10/90〜100/0の範囲であるよ
うに用いるのが好ましい。
【0042】また、前記一般式(2)で表されるジアミ
ンは、酸二無水物成分の総量と等モル量用いるのが好ま
しい。
ンは、酸二無水物成分の総量と等モル量用いるのが好ま
しい。
【0043】更に詳しくは、本発明に係るポリイミド組
成物に用いられるジアミン成分は、一般式(2) H2 N−R2 −NH2 (2) (式中、R2 は、化17
成物に用いられるジアミン成分は、一般式(2) H2 N−R2 −NH2 (2) (式中、R2 は、化17
【0044】
【化17】
【0045】で表される2価の有機基を示し、式中、R
4 は、CH3 −,Cl−,Br−,F−,CH3 O−を
示す。)で表されるジアミン成分から選択される。
4 は、CH3 −,Cl−,Br−,F−,CH3 O−を
示す。)で表されるジアミン成分から選択される。
【0046】また、本発明に係るポリイミド組成物に用
いられる酸無水物は、本質的に種々の酸二無水物が使用
可能であるが、より具体的には、諸特性のバランスか
ら、一般式(3)化18
いられる酸無水物は、本質的に種々の酸二無水物が使用
可能であるが、より具体的には、諸特性のバランスか
ら、一般式(3)化18
【0047】
【化18】
【0048】(式中、R1 は化19
【0049】
【化19】
【0050】で表される2価の有機基を示し、式中、R
4 は、CH3 −,Cl−,Br−,F−,CH3 O−を
示す。)から選択される芳香族ジエステル酸二無水物及
び、一般式(4)化20
4 は、CH3 −,Cl−,Br−,F−,CH3 O−を
示す。)から選択される芳香族ジエステル酸二無水物及
び、一般式(4)化20
【0051】
【化20】
【0052】(式中、R3 は化21
【0053】
【化21】
【0054】で表される4価の有機基を示す。)から選
択されるテトラカルボン酸二無水物を使用することが好
ましい。
択されるテトラカルボン酸二無水物を使用することが好
ましい。
【0055】なお、本発明に用いられる酸成分のモノマ
ーは、ベンゼンやトルエン等の溶媒中、ピリジンの存在
下で無水トリメリット酸クロリドとフェノール類との反
応あるいは、高沸点溶媒中、無水トリメリット酸とジア
セテート類とエステル交換反応による方法等により得ら
れる。
ーは、ベンゼンやトルエン等の溶媒中、ピリジンの存在
下で無水トリメリット酸クロリドとフェノール類との反
応あるいは、高沸点溶媒中、無水トリメリット酸とジア
セテート類とエステル交換反応による方法等により得ら
れる。
【0056】つぎに、このポリアミド酸共重合体の溶液
からポリイミド共重合体を得る為には、熱的方法、又は
脱水剤を用いる化学的方法のいずれかの方法を用いて脱
水閉環(イミド化)すればよい。
からポリイミド共重合体を得る為には、熱的方法、又は
脱水剤を用いる化学的方法のいずれかの方法を用いて脱
水閉環(イミド化)すればよい。
【0057】例を挙げて説明すると、化学的に脱水閉環
する方法では、まず、上記ポリアミド酸共重合体または
その溶液に化学量論以上の脱水剤と触媒量の第3級アミ
ンを加え、支持板やPET等の有機フィルム、ドラム又
はエンドレスベルト等の支持体上に流延または塗布して
膜状とし、有機溶媒を蒸発させることにより自己支持性
を有するポリアミド酸の膜を得る。この有機溶媒の蒸発
は150℃以下の温度で約5分から90分間行うのが好
ましい。
する方法では、まず、上記ポリアミド酸共重合体または
その溶液に化学量論以上の脱水剤と触媒量の第3級アミ
ンを加え、支持板やPET等の有機フィルム、ドラム又
はエンドレスベルト等の支持体上に流延または塗布して
膜状とし、有機溶媒を蒸発させることにより自己支持性
を有するポリアミド酸の膜を得る。この有機溶媒の蒸発
は150℃以下の温度で約5分から90分間行うのが好
ましい。
【0058】次いで、これを支持体より引き剥がし端部
を固定する。その後、約100℃〜500℃まで徐々に
加熱することによりイミド化し、冷却後これより取り外
し本発明に係るポリイミドフィルムを得る。
を固定する。その後、約100℃〜500℃まで徐々に
加熱することによりイミド化し、冷却後これより取り外
し本発明に係るポリイミドフィルムを得る。
【0059】また、熱的に脱水閉環する方法では、ポリ
アミド酸溶液を支持板やPET等の有機フィルム、ドラ
ムまたエンドレスベルト等の支持体上に流延または塗布
して膜状とし、化学的に脱水する場合と同様の方法で処
理する。
アミド酸溶液を支持板やPET等の有機フィルム、ドラ
ムまたエンドレスベルト等の支持体上に流延または塗布
して膜状とし、化学的に脱水する場合と同様の方法で処
理する。
【0060】熱的にイミド化する方法と化学的にイミド
化する方法とを比較すると、化学的方法によるほうが得
られたポリイミド組成物の伸びが優れたものとなり、ま
た、ポリイミドの機械的強度が大きく、かつ線膨張係数
が小さくなる等の機械的特性が良好となること、また化
学的方法によるほうが、短時間でイミド化することがで
きる等の利点がある。なお、熱的にイミド化する方法と
化学的にイミド化する方法とを併用することも可能であ
る。
化する方法とを比較すると、化学的方法によるほうが得
られたポリイミド組成物の伸びが優れたものとなり、ま
た、ポリイミドの機械的強度が大きく、かつ線膨張係数
が小さくなる等の機械的特性が良好となること、また化
学的方法によるほうが、短時間でイミド化することがで
きる等の利点がある。なお、熱的にイミド化する方法と
化学的にイミド化する方法とを併用することも可能であ
る。
【0061】更に加熱して乾燥させつつイミド化させ、
本発明のポリイミド重合体からなるポリイミド膜を得
る。加熱の際の温度は、110℃から550℃の範囲の
温度が好ましい。加熱の際の昇温速度には特に制限はな
いが、徐々に加熱して最高温度が上記の温度になるよう
にするのが好ましい。加熱時間はフィルム厚みや最高温
度によって異なるが一般的には最高温度に達してから1
0秒から10分の範囲が好ましい。自己支持性を有する
膜を加熱して乾燥・イミド化する際は、自己支持性を有
する膜を支持体から引き剥がし、その状態で端部を固定
して加熱することにより線熱膨張係数が小さい重合体が
得られる。
本発明のポリイミド重合体からなるポリイミド膜を得
る。加熱の際の温度は、110℃から550℃の範囲の
温度が好ましい。加熱の際の昇温速度には特に制限はな
いが、徐々に加熱して最高温度が上記の温度になるよう
にするのが好ましい。加熱時間はフィルム厚みや最高温
度によって異なるが一般的には最高温度に達してから1
0秒から10分の範囲が好ましい。自己支持性を有する
膜を加熱して乾燥・イミド化する際は、自己支持性を有
する膜を支持体から引き剥がし、その状態で端部を固定
して加熱することにより線熱膨張係数が小さい重合体が
得られる。
【0062】上記のようにして、得られた一般式(1)
で表される熱可塑性ポリイミド重合体におけるブロック
単位の繰り返し数m、nは1以上の整数を示し、0≦m
/l,l≠0を満たす。
で表される熱可塑性ポリイミド重合体におけるブロック
単位の繰り返し数m、nは1以上の整数を示し、0≦m
/l,l≠0を満たす。
【0063】ここでいう脱水剤としては、例えば無水酢
酸等の脂肪族酸二無水物、芳香族酸二無水物などが挙げ
られる。また、触媒としては、例えばトリエチルアミン
などの脂肪族アミン類、ジメチルアニリン等の芳香族ア
ミン類、ピリジン、ピコリン、イソキノリン等の複素環
式第3級アミン類などが挙げられる。
酸等の脂肪族酸二無水物、芳香族酸二無水物などが挙げ
られる。また、触媒としては、例えばトリエチルアミン
などの脂肪族アミン類、ジメチルアニリン等の芳香族ア
ミン類、ピリジン、ピコリン、イソキノリン等の複素環
式第3級アミン類などが挙げられる。
【0064】また、ポリイミドはポリイソイミドと等価
体であることは周知のことであるが、イソイミド構造を
選択すれば溶媒溶解性を向上させることも可能である。
ポリイソイミド重合体を得るためには上述した化学的閉
環剤をジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)等の
ジイミド及び/またはトリフルオロ酢酸等のカルボン酸
に置きかえた上で、該ポリイミド生成と同様の反応を行
えばよい。
体であることは周知のことであるが、イソイミド構造を
選択すれば溶媒溶解性を向上させることも可能である。
ポリイソイミド重合体を得るためには上述した化学的閉
環剤をジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)等の
ジイミド及び/またはトリフルオロ酢酸等のカルボン酸
に置きかえた上で、該ポリイミド生成と同様の反応を行
えばよい。
【0065】また、このポリイミドフィルムの前駆体で
あるポリアミド酸共重合体溶液に、ナイロン、ポリ酢酸
ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリメタクリル
酸メチル等の熱可塑性樹脂等の有機添加剤、あるいはガ
ラス繊維等無機のフィラー類、あるいは各種の強化剤を
配合してフィルムを得てもよく、これらを配合すること
により、機械的強度、接着性などの諸特性をさらに向上
させることが可能である。
あるポリアミド酸共重合体溶液に、ナイロン、ポリ酢酸
ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリメタクリル
酸メチル等の熱可塑性樹脂等の有機添加剤、あるいはガ
ラス繊維等無機のフィラー類、あるいは各種の強化剤を
配合してフィルムを得てもよく、これらを配合すること
により、機械的強度、接着性などの諸特性をさらに向上
させることが可能である。
【0066】上記製法により得られた本発明に係る新規
なポリイミド組成物は、低熱膨張性、低吸水率、低吸湿
膨張性などの優れた特性を有している。具体的には、こ
のポリイミド組成物は、吸水率が1.6%以下であり、
吸湿膨張係数が15ppm以下であるため、本発明に係
るポリイミド組成物を用いたポリイミドフィルムは、フ
レキシブルプリント基板用ベースフィルムやTAB用キ
ャリアテープあるいは積層板用樹脂として用いられる
等、今後の高密度実装用途に対応すべき電子回路部品材
料として好適に用いることが可能である。
なポリイミド組成物は、低熱膨張性、低吸水率、低吸湿
膨張性などの優れた特性を有している。具体的には、こ
のポリイミド組成物は、吸水率が1.6%以下であり、
吸湿膨張係数が15ppm以下であるため、本発明に係
るポリイミド組成物を用いたポリイミドフィルムは、フ
レキシブルプリント基板用ベースフィルムやTAB用キ
ャリアテープあるいは積層板用樹脂として用いられる
等、今後の高密度実装用途に対応すべき電子回路部品材
料として好適に用いることが可能である。
【0067】以上、本発明に係る熱融着性を有する新規
なポリイミド重合体組成物の有用性を明らかにすべく、
応用例の1つを説明したが、本発明はこれらの実施例の
みに限定されるものではなく、本発明はその趣旨を逸脱
しない範囲内で当業者の知識に基づき、種々なる改良、
変更、修正を加えた態様で実施しうるものである。
なポリイミド重合体組成物の有用性を明らかにすべく、
応用例の1つを説明したが、本発明はこれらの実施例の
みに限定されるものではなく、本発明はその趣旨を逸脱
しない範囲内で当業者の知識に基づき、種々なる改良、
変更、修正を加えた態様で実施しうるものである。
【0068】
【実施例】まず、本発明に係るポリイミド組成物の生成
に供する酸成分の製造例を説明する。
に供する酸成分の製造例を説明する。
【0069】(製造例1) 酸成分:p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエス
テル酸無水物)の合成 滴下ロート、還流冷却管のついた3000mlの3口フ
ラスコの無水トリメリット酸クロリド510g(2.4
モル)、トルエン1000mlを入れ、約80℃で攪拌
する。ヒドロキノン132g(1.2モル)をトルエン
1200ml、ピリジン240mlに溶かし、上記の3
口フラスコに滴下ロートより滴下する。滴下後、約2時
間還流攪拌を行い、冷却後、沈殿を濾別し、白色固体を
得た。この白色固体を3リットルの水で洗浄後、無水酢
酸で還流攪拌を約2時間行い、濾別する。濾別により得
た白色固体をDMFにより再結晶し、380gの白色固
体を得た。
テル酸無水物)の合成 滴下ロート、還流冷却管のついた3000mlの3口フ
ラスコの無水トリメリット酸クロリド510g(2.4
モル)、トルエン1000mlを入れ、約80℃で攪拌
する。ヒドロキノン132g(1.2モル)をトルエン
1200ml、ピリジン240mlに溶かし、上記の3
口フラスコに滴下ロートより滴下する。滴下後、約2時
間還流攪拌を行い、冷却後、沈殿を濾別し、白色固体を
得た。この白色固体を3リットルの水で洗浄後、無水酢
酸で還流攪拌を約2時間行い、濾別する。濾別により得
た白色固体をDMFにより再結晶し、380gの白色固
体を得た。
【0070】(製造例2) 酸成分:p−メチルフェニレンビス(トリメリット酸モ
ノエステル酸無水物)の合成 ヒドロキノンの代わりに、メチルハイドロキノン14
7.6g(1.2モル)を用いる以外は、製造例1と同
様にして白色の固体350gを得た。
ノエステル酸無水物)の合成 ヒドロキノンの代わりに、メチルハイドロキノン14
7.6g(1.2モル)を用いる以外は、製造例1と同
様にして白色の固体350gを得た。
【0071】(製造例3) 酸成分:p−(2,3−ジメチルフェニレン)ビス(ト
リメリット酸モノエステル酸無水物)の合成 ヒドロキノンの代わりに、2,3−ジメチルハイドロキ
ノン165.6g(1.2モル)を用いる以外は製造例
1と同様にして白色の固体400gを得た。
リメリット酸モノエステル酸無水物)の合成 ヒドロキノンの代わりに、2,3−ジメチルハイドロキ
ノン165.6g(1.2モル)を用いる以外は製造例
1と同様にして白色の固体400gを得た。
【0072】(製造例4) 酸成分:p−ビフェニレンビス(トリメリット酸モノエ
ステル酸無水物)の合成 滴下ロート、還流冷却管のついた3000mlの3口フ
ラスコの無水トリメリット酸クロリド510g(2.4
モル)、トルエン1000mlを入れ、約80℃で攪拌
する。4,4' −ジヒドロキシビフェニル223.2g
(1.2モル)をトルエン1200ml、ピリジン24
0mlに溶かし、上記の3口フラスコに滴下ロートより
滴下する。滴下後、約2時間還流攪拌を行い、冷却後、
沈殿を濾別し、白色固体を得た。この白色固体を3リッ
トルの水で洗浄後、無水酢酸で還流攪拌を約2時間行
い、濾別する。濾別により得た白色固体をDMFにより
再結晶し、400gの白色固体を得た。
ステル酸無水物)の合成 滴下ロート、還流冷却管のついた3000mlの3口フ
ラスコの無水トリメリット酸クロリド510g(2.4
モル)、トルエン1000mlを入れ、約80℃で攪拌
する。4,4' −ジヒドロキシビフェニル223.2g
(1.2モル)をトルエン1200ml、ピリジン24
0mlに溶かし、上記の3口フラスコに滴下ロートより
滴下する。滴下後、約2時間還流攪拌を行い、冷却後、
沈殿を濾別し、白色固体を得た。この白色固体を3リッ
トルの水で洗浄後、無水酢酸で還流攪拌を約2時間行
い、濾別する。濾別により得た白色固体をDMFにより
再結晶し、400gの白色固体を得た。
【0073】(製造例5) 酸成分:1,4−ナフタレンビス(トリメリット酸モノ
エステル酸二無水物)の合成 ヒドロキノンの代わりに、1,4−ジヒドロキシナフタ
レン192.0g(1.2モル)を用いる以外は、製造
例4と同様にして白色の固体380gを得た。
エステル酸二無水物)の合成 ヒドロキノンの代わりに、1,4−ジヒドロキシナフタ
レン192.0g(1.2モル)を用いる以外は、製造
例4と同様にして白色の固体380gを得た。
【0074】(製造例6) 酸成分:2,6−ナフタレンビス(トリメリット酸モノ
エステル酸無水物)の合成 ヒドロキノンの代わりに、2,6−ジヒドロキシナフタ
レン192.0g(1.2モル)を用いる以外は製造例
4と同様にして白色の固体385gを得た。
エステル酸無水物)の合成 ヒドロキノンの代わりに、2,6−ジヒドロキシナフタ
レン192.0g(1.2モル)を用いる以外は製造例
4と同様にして白色の固体385gを得た。
【0075】次に、実施例により本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらの実施例の範囲に限定されるも
のではない。なお、実施例中、ODAは 4,4'-ジアミノ
ジフェニルエーテル、BAPPは、2,2-ビス〔4-(4-ア
ミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、BAPBは、4,
4 ' - ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、TPE
−Qは、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼ
ン、p−PDAは、パラフェニレンジアミン、PMDA
は無水ピロメリット酸、DMFはジメチルホルムアミド
を表す。
するが、本発明はこれらの実施例の範囲に限定されるも
のではない。なお、実施例中、ODAは 4,4'-ジアミノ
ジフェニルエーテル、BAPPは、2,2-ビス〔4-(4-ア
ミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、BAPBは、4,
4 ' - ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、TPE
−Qは、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼ
ン、p−PDAは、パラフェニレンジアミン、PMDA
は無水ピロメリット酸、DMFはジメチルホルムアミド
を表す。
【0076】次に、実施例により本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらの実施例の範囲に限定されるも
のではない。なお、実施例中、ODAは 4,4'-ジアミノ
ジフェニルエーテル、BAPPは、2,2-ビス〔4-(4-ア
ミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、BAPBは、4,
4 ' - ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、TPE
−Qは、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼ
ン、p−PDAは、パラフェニレンジアミン、PMDA
は無水ピロメリット酸、DMFはジメチルホルムアミド
を表す。
するが、本発明はこれらの実施例の範囲に限定されるも
のではない。なお、実施例中、ODAは 4,4'-ジアミノ
ジフェニルエーテル、BAPPは、2,2-ビス〔4-(4-ア
ミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、BAPBは、4,
4 ' - ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、TPE
−Qは、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼ
ン、p−PDAは、パラフェニレンジアミン、PMDA
は無水ピロメリット酸、DMFはジメチルホルムアミド
を表す。
【0077】(実施例1)セパラブルフラスコに、NM
Pとp−PDAを2当量、ODAを1当量とり、ジアミ
ン化合物が完全に溶解するまで室温でよく攪拌した。つ
ぎに、製造例1で示したp−フェニレンビス(トリメリ
ット酸モノエステル酸無水物)2.85当量を粉体で加
え、その後40分攪拌した。そして、p−フェニレンビ
ス(トリメリット酸モノエステル酸無水物0.15当量
をNMPに溶かし、徐々に加え、このあと1時間冷却攪
拌し、ポリアミド酸のNMP溶液を得た。なお、NMP
の使用量はジアミン類より芳香族テトラカルボン酸二無
水物類のモノマー仕込み濃度が、18重量%となるよう
にした。
Pとp−PDAを2当量、ODAを1当量とり、ジアミ
ン化合物が完全に溶解するまで室温でよく攪拌した。つ
ぎに、製造例1で示したp−フェニレンビス(トリメリ
ット酸モノエステル酸無水物)2.85当量を粉体で加
え、その後40分攪拌した。そして、p−フェニレンビ
ス(トリメリット酸モノエステル酸無水物0.15当量
をNMPに溶かし、徐々に加え、このあと1時間冷却攪
拌し、ポリアミド酸のNMP溶液を得た。なお、NMP
の使用量はジアミン類より芳香族テトラカルボン酸二無
水物類のモノマー仕込み濃度が、18重量%となるよう
にした。
【0078】つぎに、ポリアミド酸溶液を無水酢酸、β
ピコリンと混合し、ガラス板上に流延塗布し、約100
℃に約5分間乾燥後、ポリアミド酸塗膜をガラス板より
剥がし、その塗膜を支持枠に固定し、その後約100℃
で約5分間、約200℃で、約5分間、約300℃で約
5分間加熱し、約400℃で約5分間加熱し、脱水閉環
乾燥し、約50μmのポリイミドフィルムを得た。得ら
れたポリイミドフィルムの物性を表1に示した。
ピコリンと混合し、ガラス板上に流延塗布し、約100
℃に約5分間乾燥後、ポリアミド酸塗膜をガラス板より
剥がし、その塗膜を支持枠に固定し、その後約100℃
で約5分間、約200℃で、約5分間、約300℃で約
5分間加熱し、約400℃で約5分間加熱し、脱水閉環
乾燥し、約50μmのポリイミドフィルムを得た。得ら
れたポリイミドフィルムの物性を表1に示した。
【0079】なお、熱膨張係数は、窒素気流下で理学電
気製TMA 8140により測定した100℃〜200
℃での熱膨張係数をいう。吸水率は、フィルムを150
℃で30分間乾燥させたものの重量をW1 をとし、24
時間蒸留水に浸したあと表面の水滴を拭き取ったものの
重量をW2 とし、下記式より算出する。 吸水率(%)=(W2 −W1 )÷W1 ×100
気製TMA 8140により測定した100℃〜200
℃での熱膨張係数をいう。吸水率は、フィルムを150
℃で30分間乾燥させたものの重量をW1 をとし、24
時間蒸留水に浸したあと表面の水滴を拭き取ったものの
重量をW2 とし、下記式より算出する。 吸水率(%)=(W2 −W1 )÷W1 ×100
【0080】吸湿膨張係数は、50℃30%Rhの環境
試験機に24時間放置し、フィルム寸法を測定し
(L1 )、次ぎにそのフィルムを50℃80%Rhの環
境試験機に24時間放置し、フィルム寸法を測定し(L
2 )、下記式より算出する。 吸湿膨張係数(ppm)=(L2 −L1 )÷L1 ÷(8
0−30)×106
試験機に24時間放置し、フィルム寸法を測定し
(L1 )、次ぎにそのフィルムを50℃80%Rhの環
境試験機に24時間放置し、フィルム寸法を測定し(L
2 )、下記式より算出する。 吸湿膨張係数(ppm)=(L2 −L1 )÷L1 ÷(8
0−30)×106
【0081】弾性率は、ASTM D882による。
【0082】
【表1】
【0083】(実施例2)ODAの代わりに、BAPP
1当量を用いる以外は、実施例1と同様にしてポリアミ
ド酸を得、実施例1と同様の方法で約50μmのポリイ
ミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムの物
性を表1に示した。
1当量を用いる以外は、実施例1と同様にしてポリアミ
ド酸を得、実施例1と同様の方法で約50μmのポリイ
ミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムの物
性を表1に示した。
【0084】(実施例3)ODAの代わりに、BAPB
1当量を用いる以外は、実施例1と同様にしてポリアミ
ド酸を得、実施例1と同様の方法で約50μmのポリイ
ミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムの物
性を表1に示した。
1当量を用いる以外は、実施例1と同様にしてポリアミ
ド酸を得、実施例1と同様の方法で約50μmのポリイ
ミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムの物
性を表1に示した。
【0085】(実施例4)ODAの代わりに、TPE−
Qを1当量を用いる以外は、実施例1と同様にしてポリ
アミド酸を得、実施例1と同様の方法で約50μmのポ
リイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルム
の物性を表1に示した。
Qを1当量を用いる以外は、実施例1と同様にしてポリ
アミド酸を得、実施例1と同様の方法で約50μmのポ
リイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルム
の物性を表1に示した。
【0086】(実施例5)p−フェニレンビス(トリメ
リット酸モノエステル酸無水物)の代わりに、製造例2
で示したp−メチルフェニレンビス(トリメリット酸モ
ノエステル酸無水物)3当量を用いる以外は、実施例1
と同様にしてポリアミド酸を得、実施例1と同様の方法
で約50μmのポリイミドフィルムを得た。得られたポ
リイミドフィルムの物性を表1に示した。
リット酸モノエステル酸無水物)の代わりに、製造例2
で示したp−メチルフェニレンビス(トリメリット酸モ
ノエステル酸無水物)3当量を用いる以外は、実施例1
と同様にしてポリアミド酸を得、実施例1と同様の方法
で約50μmのポリイミドフィルムを得た。得られたポ
リイミドフィルムの物性を表1に示した。
【0087】(実施例6)p−フェニレンビス(トリメ
リット酸モノエステル酸無水物)の代わりに、製造例3
で示したp−(2,3−ジメチルフェニレン)ビス(ト
リメリット酸モノエステル酸無水物)3当量を用いる以
外は、実施例1と同様にしてポリアミド酸を得、実施例
1と同様の方法で約50μmのポリイミドフィルムを得
た。得られたポリイミドフィルムの物性を表1に示し
た。
リット酸モノエステル酸無水物)の代わりに、製造例3
で示したp−(2,3−ジメチルフェニレン)ビス(ト
リメリット酸モノエステル酸無水物)3当量を用いる以
外は、実施例1と同様にしてポリアミド酸を得、実施例
1と同様の方法で約50μmのポリイミドフィルムを得
た。得られたポリイミドフィルムの物性を表1に示し
た。
【0088】(実施例7)p−フェニレンビス(トリメ
リット酸モノエステル酸無水物)の代わりに、製造例4
で示した4,4' −ビフェニレンビス(トリメリット酸
モノエステル酸二無水物)2.85当量を用いる以外
は、実施例1と同様にしてポリアミド酸を得、実施例1
と同様の方法で約50μmのポリイミドフィルムを得
た。得られたポリイミドフィルムの物性を表1に示し
た。
リット酸モノエステル酸無水物)の代わりに、製造例4
で示した4,4' −ビフェニレンビス(トリメリット酸
モノエステル酸二無水物)2.85当量を用いる以外
は、実施例1と同様にしてポリアミド酸を得、実施例1
と同様の方法で約50μmのポリイミドフィルムを得
た。得られたポリイミドフィルムの物性を表1に示し
た。
【0089】(実施例8)ODAの代わりに、BAPP
1当量を用いる以外は、実施例7と同様にしてポリアミ
ド酸を得、実施例1と同様の方法で約50μmのポリイ
ミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムの物
性を表1に示した。
1当量を用いる以外は、実施例7と同様にしてポリアミ
ド酸を得、実施例1と同様の方法で約50μmのポリイ
ミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムの物
性を表1に示した。
【0090】(実施例9)ODAの代わりに、BAPB
1当量を用いる以外は、実施例7と同様にしてポリアミ
ド酸を得、実施例1と同様の方法で約50μmのポリイ
ミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムの物
性を表1に示した。
1当量を用いる以外は、実施例7と同様にしてポリアミ
ド酸を得、実施例1と同様の方法で約50μmのポリイ
ミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムの物
性を表1に示した。
【0091】(実施例10)ODAの代わりに、TPE
−Q1当量を用いる以外は、実施例7と同様にしてポリ
アミド酸を得、実施例1と同様の方法で約50μmのポ
リイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルム
の物性を表1に示した。
−Q1当量を用いる以外は、実施例7と同様にしてポリ
アミド酸を得、実施例1と同様の方法で約50μmのポ
リイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルム
の物性を表1に示した。
【0092】(実施例11)p−フェニレンビス(トリ
メリット酸モノエステル酸無水物)の代わりに、製造例
5で示した1,4−ナフタレンビス(トリメリット酸モ
ノエステル酸二無水物)2.85当量を用いる以外は、
実施例1と同様にしてポリアミド酸を得、実施例1と同
様の方法で約50μmのポリイミドフィルムを得た。得
られたポリイミドフィルムの物性を表1に示した。
メリット酸モノエステル酸無水物)の代わりに、製造例
5で示した1,4−ナフタレンビス(トリメリット酸モ
ノエステル酸二無水物)2.85当量を用いる以外は、
実施例1と同様にしてポリアミド酸を得、実施例1と同
様の方法で約50μmのポリイミドフィルムを得た。得
られたポリイミドフィルムの物性を表1に示した。
【0093】(実施例12)p−フェニレンビス(トリ
メリット酸モノエステル酸無水物)の代わりに、製造例
6で示した2,6−ナフタレンビス(トリメリット酸モ
ノエステル酸二無水物)2.85当量を用いる以外は、
実施例1と同様にしてポリアミド酸を得、実施例1と同
様の方法で約50μmのポリイミドフィルムを得た。得
られたポリイミドフィルムの物性を表1に示した。
メリット酸モノエステル酸無水物)の代わりに、製造例
6で示した2,6−ナフタレンビス(トリメリット酸モ
ノエステル酸二無水物)2.85当量を用いる以外は、
実施例1と同様にしてポリアミド酸を得、実施例1と同
様の方法で約50μmのポリイミドフィルムを得た。得
られたポリイミドフィルムの物性を表1に示した。
【0094】(実施例13〜24)実施例1〜12で用
いたアミド酸溶液をテフロンコートしたSUS板の上に
流延塗布し、約100℃で約30分間乾燥後、ポリアミ
ド酸塗膜をガラス板より剥がし、その塗膜を支持枠に固
定し、その後約100℃で約30分間、約200℃で約
60分間、約300℃で約60分間加熱し、約400℃
で約30分間加熱し、脱水閉環乾燥し、約50μmのポ
リイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルム
の物性を表1に示した。
いたアミド酸溶液をテフロンコートしたSUS板の上に
流延塗布し、約100℃で約30分間乾燥後、ポリアミ
ド酸塗膜をガラス板より剥がし、その塗膜を支持枠に固
定し、その後約100℃で約30分間、約200℃で約
60分間、約300℃で約60分間加熱し、約400℃
で約30分間加熱し、脱水閉環乾燥し、約50μmのポ
リイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルム
の物性を表1に示した。
【0095】(実施例25)セパラブルフラシコに、N
MPとp−PDAを2当量、BAPPを1当量とり、ジ
アミン化合物が完全に溶解するまで室温で攪拌した。つ
ぎに、製造例4で示した4,4' −ビフェニレンビス
(トリメリット酸モノエステル酸二無水物)2当量を粉
体で徐々に加え、その後40分攪拌した。PMDA0.
85当量を粉体で徐々に加え、その後40分攪拌した。
そして、PMDA0.15当量をNMPに溶かし、徐々
に加え、このあと1時間冷却し、ポリアミド酸のNMP
液を得た。なお、NMPの使用量はジアミン類及び芳香
族テトラカルボン酸二無水物類のモノマー仕込み濃度
が、18重量%となるようにした。実施例1と同様の方
法で約50μmのポリイミドフィルムを得た。得られた
ポリイミドフィルムの物性を表1に示した。
MPとp−PDAを2当量、BAPPを1当量とり、ジ
アミン化合物が完全に溶解するまで室温で攪拌した。つ
ぎに、製造例4で示した4,4' −ビフェニレンビス
(トリメリット酸モノエステル酸二無水物)2当量を粉
体で徐々に加え、その後40分攪拌した。PMDA0.
85当量を粉体で徐々に加え、その後40分攪拌した。
そして、PMDA0.15当量をNMPに溶かし、徐々
に加え、このあと1時間冷却し、ポリアミド酸のNMP
液を得た。なお、NMPの使用量はジアミン類及び芳香
族テトラカルボン酸二無水物類のモノマー仕込み濃度
が、18重量%となるようにした。実施例1と同様の方
法で約50μmのポリイミドフィルムを得た。得られた
ポリイミドフィルムの物性を表1に示した。
【0096】(実施例26)PMDAの代わりに、オキ
シジフタリックアシッド(ODPA)0.85当量を粉
体で、0.15当量をNMP溶液で加える以外は、実施
例25と同様にして、ポリアミド酸のNMP溶液を得
た。このポリアミド酸のNMP溶液から実施例1と同様
の方法で、約50μmのポリイミドフィルムを得た。得
られたポリイミドフィルムの物性を表1に示した。
シジフタリックアシッド(ODPA)0.85当量を粉
体で、0.15当量をNMP溶液で加える以外は、実施
例25と同様にして、ポリアミド酸のNMP溶液を得
た。このポリアミド酸のNMP溶液から実施例1と同様
の方法で、約50μmのポリイミドフィルムを得た。得
られたポリイミドフィルムの物性を表1に示した。
【0097】(比較例1)先の実施例1と同様の方法に
より、PMDAとODAを等モルずつ用いて、ポリイミ
ドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムの物性
を表1に示した。
より、PMDAとODAを等モルずつ用いて、ポリイミ
ドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムの物性
を表1に示した。
【0098】
【発明の効果】以上、具体的な実施例で示したように、
本発明に係るポリイミド組成物は、特定のエステル酸無
水物を用いたポリアミド酸から得られ、これを使用した
ポリイミドフィルムは、高弾性、適度な線膨張係数、適
度な柔軟性、低吸湿膨張性、低吸湿性を有する有用なポ
リイミドフィルムを得ることができる。
本発明に係るポリイミド組成物は、特定のエステル酸無
水物を用いたポリアミド酸から得られ、これを使用した
ポリイミドフィルムは、高弾性、適度な線膨張係数、適
度な柔軟性、低吸湿膨張性、低吸湿性を有する有用なポ
リイミドフィルムを得ることができる。
Claims (4)
- 【請求項1】 吸水率が1.6%以下であり、吸湿膨張
係数が15ppm以下である新規なポリイミド組成物。 - 【請求項2】 前記ポリイミド組成物が、一般式(1)
化1 【化1】 (式中、R1 は、化2 【化2】 から選択される2価の有機基、R2 は1種以上の2価の
有機基、R3 は1種以上の4価の有機基であり、また、
式中、R4 は、CH3 −,Cl−,Br−,F−,CH
3 O−を示す。)で表されるポリアミド酸共重合体を脱
水閉環することを特徴とする請求項1に記載する新規な
ポリイミド組成物。 - 【請求項3】 前記ポリイミド組成物が、一般式(1)
化3 【化3】 (式中、R1 は、化4 【化4】 から選択される2価の有機基、R2 は化5 【化5】 から選択される2価の有機基であり、R3 は化6 【化6】 から選択される4価の有機基であり、式中、R4 は、C
H3 −,Cl−,Br−,F−,CH3 O−を示す。ま
た、l,mは0以上の整数を示し、0≦m/l,l≠0
を満たす。)で表されるポリアミド酸共重合体を脱水閉
環することを特徴とする請求項1または請求項2に記載
する新規なポリイミド組成物。 - 【請求項4】 請求項1乃至請求項3に記載するポリイ
ミド組成物を用いることを特徴とするポリイミドフィル
ム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18907296A JPH1036506A (ja) | 1996-07-18 | 1996-07-18 | 新規なポリイミド組成物及びポリイミドフィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18907296A JPH1036506A (ja) | 1996-07-18 | 1996-07-18 | 新規なポリイミド組成物及びポリイミドフィルム |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002278058A Division JP4017034B2 (ja) | 2002-09-24 | 2002-09-24 | 新規なポリイミドフィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1036506A true JPH1036506A (ja) | 1998-02-10 |
Family
ID=16234841
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18907296A Pending JPH1036506A (ja) | 1996-07-18 | 1996-07-18 | 新規なポリイミド組成物及びポリイミドフィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1036506A (ja) |
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6350844B1 (en) | 1998-11-05 | 2002-02-26 | Kaneka Corporation | Polyimide film and electric/electronic equipment bases with the use thereof |
| JP2002114848A (ja) * | 2000-10-06 | 2002-04-16 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 新規な熱可塑性ポリイミド樹脂およびフレキシブル金属箔張積層体。 |
| WO2006033267A1 (ja) * | 2004-09-24 | 2006-03-30 | Kaneka Corporation | 新規なポリイミドフィルム並びにそれを用いて得られる接着フィルム、フレキシブル金属張積層板 |
| KR100625504B1 (ko) * | 1999-06-28 | 2006-09-20 | 가부시키가이샤 가네카 | 신규한 폴리이미드 조성물 및 이에 사용되는 신규한 산이무수물 |
| JP2007314614A (ja) * | 2006-05-23 | 2007-12-06 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | ポリイミド前駆体共重合体、それを含むワニスおよびポジ型感光性樹脂組成物、ポリイミド共重合体、それを含む半導体素子の保護膜、ポリイミド共重合体含有膜の微細パターンの製造方法 |
| JP2009275183A (ja) * | 2008-05-16 | 2009-11-26 | Asahi Kasei E-Materials Corp | ポリアミド酸ワニス組成物及びそれを用いた金属ポリイミド複合体 |
| JP2011057621A (ja) * | 2009-09-10 | 2011-03-24 | Air Water Inc | 無水トリメリット酸ジエステルの製造方法 |
| US8304160B2 (en) | 2009-04-14 | 2012-11-06 | Hitachi Chemical Dupont Microsystems, Ltd. | Photosensitive resin composition and circuit formation substrate using the same |
| US8338560B2 (en) | 2005-04-25 | 2012-12-25 | Kaneka Corporation | Polyimide film and use thereof |
| JP2013082876A (ja) * | 2011-03-16 | 2013-05-09 | Kaneka Corp | ポリイミド溶液およびその溶液から得られるポリイミド膜 |
| JPWO2020218134A1 (ja) * | 2019-04-24 | 2020-10-29 | ||
| JPWO2021085319A1 (ja) * | 2019-10-29 | 2021-05-06 | ||
| KR20230004322A (ko) | 2021-06-30 | 2023-01-06 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 폴리아미드산, 폴리이미드, 폴리이미드 필름, 금속박적층판 및 회로기판 |
| JP2023108494A (ja) * | 2022-01-25 | 2023-08-04 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ポリエステルイミド及びポリエステルアミド酸 |
| JP2023108491A (ja) * | 2022-01-25 | 2023-08-04 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 絶縁電線 |
| JP2023163896A (ja) * | 2022-04-28 | 2023-11-10 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ポリエステルイミド及びポリエステルアミド酸 |
| KR20240102861A (ko) | 2022-12-26 | 2024-07-03 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 폴리아미드산, 폴리이미드, 수지 필름, 금속 피복 적층판 및 회로 기판 |
-
1996
- 1996-07-18 JP JP18907296A patent/JPH1036506A/ja active Pending
Cited By (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6350844B1 (en) | 1998-11-05 | 2002-02-26 | Kaneka Corporation | Polyimide film and electric/electronic equipment bases with the use thereof |
| KR100625504B1 (ko) * | 1999-06-28 | 2006-09-20 | 가부시키가이샤 가네카 | 신규한 폴리이미드 조성물 및 이에 사용되는 신규한 산이무수물 |
| JP2002114848A (ja) * | 2000-10-06 | 2002-04-16 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 新規な熱可塑性ポリイミド樹脂およびフレキシブル金属箔張積層体。 |
| WO2006033267A1 (ja) * | 2004-09-24 | 2006-03-30 | Kaneka Corporation | 新規なポリイミドフィルム並びにそれを用いて得られる接着フィルム、フレキシブル金属張積層板 |
| US8426548B2 (en) | 2004-09-24 | 2013-04-23 | Kaneka Corporation | Polyimide film and adhesive film and flexible metal-clad laminate both obtained with the same |
| US8338560B2 (en) | 2005-04-25 | 2012-12-25 | Kaneka Corporation | Polyimide film and use thereof |
| JP2007314614A (ja) * | 2006-05-23 | 2007-12-06 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | ポリイミド前駆体共重合体、それを含むワニスおよびポジ型感光性樹脂組成物、ポリイミド共重合体、それを含む半導体素子の保護膜、ポリイミド共重合体含有膜の微細パターンの製造方法 |
| JP2009275183A (ja) * | 2008-05-16 | 2009-11-26 | Asahi Kasei E-Materials Corp | ポリアミド酸ワニス組成物及びそれを用いた金属ポリイミド複合体 |
| US8614051B2 (en) | 2009-04-14 | 2013-12-24 | Hitachi Chemical Dupont Microsystems, Ltd. | Photosensitive resin composition and circuit formation substrate using the same |
| US8304160B2 (en) | 2009-04-14 | 2012-11-06 | Hitachi Chemical Dupont Microsystems, Ltd. | Photosensitive resin composition and circuit formation substrate using the same |
| JP2011057621A (ja) * | 2009-09-10 | 2011-03-24 | Air Water Inc | 無水トリメリット酸ジエステルの製造方法 |
| JP2013082876A (ja) * | 2011-03-16 | 2013-05-09 | Kaneka Corp | ポリイミド溶液およびその溶液から得られるポリイミド膜 |
| JPWO2020218134A1 (ja) * | 2019-04-24 | 2020-10-29 | ||
| WO2020218134A1 (ja) * | 2019-04-24 | 2020-10-29 | 本州化学工業株式会社 | テトラカルボン酸二無水物の製造方法 |
| JPWO2021085319A1 (ja) * | 2019-10-29 | 2021-05-06 | ||
| WO2021085319A1 (ja) * | 2019-10-29 | 2021-05-06 | 本州化学工業株式会社 | 2,6-ナフタレンジオール-ビス(トリメリテートアンハイドライド)の粉体およびその製造方法 |
| KR20220088848A (ko) * | 2019-10-29 | 2022-06-28 | 혼슈우 카가쿠고교 가부시키가이샤 | 2,6-나프탈렌디올-비스(트리멜리테이트 무수물)의 분체 및 그의 제조방법 |
| KR20230004322A (ko) | 2021-06-30 | 2023-01-06 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 폴리아미드산, 폴리이미드, 폴리이미드 필름, 금속박적층판 및 회로기판 |
| JP2023006387A (ja) * | 2021-06-30 | 2023-01-18 | 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 | ポリアミド酸、ポリイミド、ポリイミドフィルム、金属張積層板及び回路基板 |
| JP2023108494A (ja) * | 2022-01-25 | 2023-08-04 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ポリエステルイミド及びポリエステルアミド酸 |
| JP2023108491A (ja) * | 2022-01-25 | 2023-08-04 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 絶縁電線 |
| JP2023163896A (ja) * | 2022-04-28 | 2023-11-10 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ポリエステルイミド及びポリエステルアミド酸 |
| KR20240102861A (ko) | 2022-12-26 | 2024-07-03 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 폴리아미드산, 폴리이미드, 수지 필름, 금속 피복 적층판 및 회로 기판 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH1036506A (ja) | 新規なポリイミド組成物及びポリイミドフィルム | |
| US5494991A (en) | Polyimides and processes for preparing the same | |
| WO2005066242A1 (ja) | 芳香族ポリアミド酸及びポリイミド | |
| JP2004285364A (ja) | フレキシブルプリント基板用ベースフィルム、tab用キャリアテープに用いられるポリイミドフィルム | |
| JP3048690B2 (ja) | ポリイミドフィルムの製造方法 | |
| JP3079867B2 (ja) | ポリイミド共重合体、その製造方法及びポリイミドフィルム | |
| JP3048703B2 (ja) | ポリアミック酸共重合体及びそれからなるポリイミドフィルム | |
| JP2955724B2 (ja) | ポリイミドフィルムの製造方法 | |
| JP4017034B2 (ja) | 新規なポリイミドフィルム | |
| JP2910796B2 (ja) | ポリアミック酸共重合体及びそれからなるポリイミドフィルム並びにそれらの製造方法 | |
| JP3048702B2 (ja) | ポリアミック酸共重合体、ポリイミド共重合体、ポリイミドフィルム及びそれらの製造方法 | |
| JP2831867B2 (ja) | ポリアミック酸共重合体、それからなるポリイミド共重合体、ポリイミドフィルム、並びにそれらの製造方法 | |
| JPH06345868A (ja) | ポリイミド及びその製造方法 | |
| JP3299777B2 (ja) | ポリイミドフィルム及びその製造方法 | |
| JPH0741556A (ja) | ポリイミド樹脂及びポリイミドフィルム | |
| JP3456256B2 (ja) | ポリイミド共重合体及びその製造方法 | |
| JP3022625B2 (ja) | ポリアミック酸共重合体、それからなるポリイミド共重合体、及びポリイミドフィルム、並びにそれらの製造方法 | |
| JP3375346B2 (ja) | ポリアミド酸とポリイミドフィルム及びそれらの製造方法 | |
| JPH07316294A (ja) | ポリイミド共重合体及びその製造方法 | |
| JP3168806B2 (ja) | ポリイミド共重合体及びその製造方法 | |
| JPH0881555A (ja) | ポリイミド共重合体及びその製造方法 | |
| JP2000319392A (ja) | ポリイミドフィルム | |
| JP2729708B2 (ja) | 新規ポリイミド重合体フィルム | |
| JPH08143668A (ja) | 新規芳香族ポリアミド酸共重合体及びポリイミド共重合体 | |
| JP3344101B2 (ja) | ポリイミド共重合体の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20020723 |