JPH1038517A - 光学式変位測定装置 - Google Patents
光学式変位測定装置Info
- Publication number
- JPH1038517A JPH1038517A JP19331796A JP19331796A JPH1038517A JP H1038517 A JPH1038517 A JP H1038517A JP 19331796 A JP19331796 A JP 19331796A JP 19331796 A JP19331796 A JP 19331796A JP H1038517 A JPH1038517 A JP H1038517A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- diffraction grating
- parallel
- grating
- light beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Optical Transform (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 回折格子を設けたスケールにアジマスや回転
方向の取付ズレが生じても、回折光の合波光束に受光面
上で空間的な干渉縞が発生しないようにした光学的変位
測定装置を提供する。 【解決手段】 回折格子G1に１光束をスポット投影する
投光手段1,2,3と、この光束投影位置からの複数の回折
光を、複数の回折光が共に平行光束でかつ互いに平行と
なる形態で合波する合波光学系3,5a,5b,6とを有し、合
波された状態で得られる干渉光束を受光する。
方向の取付ズレが生じても、回折光の合波光束に受光面
上で空間的な干渉縞が発生しないようにした光学的変位
測定装置を提供する。 【解決手段】 回折格子G1に１光束をスポット投影する
投光手段1,2,3と、この光束投影位置からの複数の回折
光を、複数の回折光が共に平行光束でかつ互いに平行と
なる形態で合波する合波光学系3,5a,5b,6とを有し、合
波された状態で得られる干渉光束を受光する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光学式変位測定装置
に関する。本発明は特に、物体に光を照射した際に発生
する回折、干渉により、干渉光束が変調されることを利
用したエンコーダに良好に適用できるものである。
に関する。本発明は特に、物体に光を照射した際に発生
する回折、干渉により、干渉光束が変調されることを利
用したエンコーダに良好に適用できるものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より光を物体に照射して高精度に物
体の移動や変位などの物理量を求める装置として、たと
えば光学式エンコーダ、レーザドップラー速度計、レー
ザ干渉計等が利用されている。これらの光を利用した装
置の特徴は、高精度、高分解能であり、最近では、より
広い分野に応用されるために更なる小型化が必要になっ
てきている。
体の移動や変位などの物理量を求める装置として、たと
えば光学式エンコーダ、レーザドップラー速度計、レー
ザ干渉計等が利用されている。これらの光を利用した装
置の特徴は、高精度、高分解能であり、最近では、より
広い分野に応用されるために更なる小型化が必要になっ
てきている。
【０００３】このような装置では、特開昭６２ー１２１
３１４号公報に示されるような、回折格子を３枚使った
エンコーダを小型化したものや、特開平３−２７９８１
２号公報に示されるような、このような装置を同時に高
精度で簡易小型化したもの等が知られている。
３１４号公報に示されるような、回折格子を３枚使った
エンコーダを小型化したものや、特開平３−２７９８１
２号公報に示されるような、このような装置を同時に高
精度で簡易小型化したもの等が知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来例に示したような
エンコーダは小型化、高精度化が図られているが、以下
のような課題が存在する。
エンコーダは小型化、高精度化が図られているが、以下
のような課題が存在する。
【０００５】これらに開示された装置では、発光源から
射出された光を左右に２分割、叉はそれ以上に光路を分
割して移動回折格子に入射させ、それぞれから得られた
回折光の干渉光を光電素子で受光している。このような
構成では、干渉させる為に合波用の回折格子で合成した
光束間に傾きがあると、光電素子の受光面上に縞が発生
する。この場合、干渉光の時間的な強弱変化において、
この縞の存在によって受光面上の干渉領域毎に互いの位
相が異なってしまう。
射出された光を左右に２分割、叉はそれ以上に光路を分
割して移動回折格子に入射させ、それぞれから得られた
回折光の干渉光を光電素子で受光している。このような
構成では、干渉させる為に合波用の回折格子で合成した
光束間に傾きがあると、光電素子の受光面上に縞が発生
する。この場合、干渉光の時間的な強弱変化において、
この縞の存在によって受光面上の干渉領域毎に互いの位
相が異なってしまう。
【０００６】従って、合波する光束間の傾きの発生を厳
密に防止し、受光面上での干渉状態をすべて等しく一定
状態に調整しなければならない。しかしながら、回折格
子で合成された干渉光束の干渉状態を干渉領域すべてで
等しく一定状態に調整する事は非常に困難である。特に
本体分解能を向上させればさせるほど、取付誤差等の影
響で干渉状態が変動し易くなる。
密に防止し、受光面上での干渉状態をすべて等しく一定
状態に調整しなければならない。しかしながら、回折格
子で合成された干渉光束の干渉状態を干渉領域すべてで
等しく一定状態に調整する事は非常に困難である。特に
本体分解能を向上させればさせるほど、取付誤差等の影
響で干渉状態が変動し易くなる。
【０００７】この様な干渉状態の変動は、干渉縞発生時
に受光面上での干渉光の時間的な強弱変化を平均化して
検出される信号の振幅を低下させ、信号振幅を不安定な
ものとしてしまう。また、例えば合波回折格子を位相の
異なる複数の回折格子で構成し、それぞれから出射する
干渉光を個別に検出してＡＢ相信号を得る構成の装置で
は、合波した光束間に傾きが発生するようであれば、異
なる干渉領域で得られる信号間の位相差は安定しない。
又、それぞれから検出される信号の振幅も不安定なもの
となる。
に受光面上での干渉光の時間的な強弱変化を平均化して
検出される信号の振幅を低下させ、信号振幅を不安定な
ものとしてしまう。また、例えば合波回折格子を位相の
異なる複数の回折格子で構成し、それぞれから出射する
干渉光を個別に検出してＡＢ相信号を得る構成の装置で
は、合波した光束間に傾きが発生するようであれば、異
なる干渉領域で得られる信号間の位相差は安定しない。
又、それぞれから検出される信号の振幅も不安定なもの
となる。
【０００８】特開平３−２７９８１２号に記載されてい
る装置を例として考えた場合、特に投光手段と受光手段
とが設けられたヘッド部とスケール部の取り付け誤差に
よる干渉状態変動が問題である。回折格子が形成された
面に垂直な軸を中心とした回転が発生する様な取付誤差
が生じると回折格子の配列方向に平行な干渉縞が生じ、
回折格子が形成された面内で回折格子の配列方向に垂直
な軸を中心とした回転が発生する様な取付誤差が生じる
と、この回転軸方向に平行な干渉縞が生じる。以下で
は、回折格子が形成された面に垂直な軸を中心とした回
転取付誤差の回転角を『アジマス角（η）』と呼び、回
折格子が形成された面内で回折格子の配列方向に垂直な
軸を中心とした回転取付誤差の回転角を『回転角
（φ）』と呼ぶ事にする。
る装置を例として考えた場合、特に投光手段と受光手段
とが設けられたヘッド部とスケール部の取り付け誤差に
よる干渉状態変動が問題である。回折格子が形成された
面に垂直な軸を中心とした回転が発生する様な取付誤差
が生じると回折格子の配列方向に平行な干渉縞が生じ、
回折格子が形成された面内で回折格子の配列方向に垂直
な軸を中心とした回転が発生する様な取付誤差が生じる
と、この回転軸方向に平行な干渉縞が生じる。以下で
は、回折格子が形成された面に垂直な軸を中心とした回
転取付誤差の回転角を『アジマス角（η）』と呼び、回
折格子が形成された面内で回折格子の配列方向に垂直な
軸を中心とした回転取付誤差の回転角を『回転角
（φ）』と呼ぶ事にする。
【０００９】干渉させる２光束に平行光を用いた場合、
回転角方向の取付誤差があっても些少であれば干渉２光
束間の角度差は余り生じないが、極端に回転角方向にズ
レが生じると干渉状態は不安定となる。また、アジマス
角方向の取付誤差ではちょっとのズレで干渉２光束間の
角度差が付いてしまい、敏感に干渉状態が不安定とな
る。
回転角方向の取付誤差があっても些少であれば干渉２光
束間の角度差は余り生じないが、極端に回転角方向にズ
レが生じると干渉状態は不安定となる。また、アジマス
角方向の取付誤差ではちょっとのズレで干渉２光束間の
角度差が付いてしまい、敏感に干渉状態が不安定とな
る。
【００１０】本発明は上述従来例に鑑み、原理的に取付
誤差による干渉縞の発生を防止し、回折格子ないし検出
側の取付状態によらず常に正確に変位測定を実行できる
装置を提供することを目的とする。
誤差による干渉縞の発生を防止し、回折格子ないし検出
側の取付状態によらず常に正確に変位測定を実行できる
装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上述目的を達成するため
の第１発明は、相対変位を検出すべき物体上に設けられ
た回折格子に光束をスポット投影する投光手段と、前記
回折格子のスポット投影位置からの次数の異なる回折光
を、該次数の異なる回折光が共に平行光束でかつ互いに
平行である形態か、あるいは該次数の異なる回折光の波
面が同一曲率中心を有する形態で、互いに合波して得ら
れる干渉光束を受光する光検出手段とを有することを特
徴とする光学式変位測定装置である。
の第１発明は、相対変位を検出すべき物体上に設けられ
た回折格子に光束をスポット投影する投光手段と、前記
回折格子のスポット投影位置からの次数の異なる回折光
を、該次数の異なる回折光が共に平行光束でかつ互いに
平行である形態か、あるいは該次数の異なる回折光の波
面が同一曲率中心を有する形態で、互いに合波して得ら
れる干渉光束を受光する光検出手段とを有することを特
徴とする光学式変位測定装置である。
【００１２】上述目的を達成するための第２発明は、相
対変位を検出すべき物体上に設けられた回折格子に光束
をスポット投影する投光手段と、前記回折格子のスポッ
ト投影位置からの次数の異なる回折光を、該次数の異な
る回折光の波面を互いにそろえた形で合波して得られる
干渉光束を受光する光検出手段とを有することを特徴と
する光学式変位測定装置である。
対変位を検出すべき物体上に設けられた回折格子に光束
をスポット投影する投光手段と、前記回折格子のスポッ
ト投影位置からの次数の異なる回折光を、該次数の異な
る回折光の波面を互いにそろえた形で合波して得られる
干渉光束を受光する光検出手段とを有することを特徴と
する光学式変位測定装置である。
【００１３】第３発明は更に、前記回折格子のスポット
投影位置からの次数の異なる回折光を、発散光のままあ
るいは平行光変換して、合波した形で前記光検出手段に
導く光学系を有することを特徴とする。
投影位置からの次数の異なる回折光を、発散光のままあ
るいは平行光変換して、合波した形で前記光検出手段に
導く光学系を有することを特徴とする。
【００１４】第４発明は更に、前記光学系内に、前記複
数の回折光の各光束それぞれに対して実質的に２枚の光
束合波用回折格子が配置され、前記実質的に２枚の光束
合波用回折格子の一方の光束透過領域内に格子配列位相
の異なる格子部分を設けたことを特徴とする。
数の回折光の各光束それぞれに対して実質的に２枚の光
束合波用回折格子が配置され、前記実質的に２枚の光束
合波用回折格子の一方の光束透過領域内に格子配列位相
の異なる格子部分を設けたことを特徴とする。
【００１５】第５、第６発明は更に、前記投光手段は前
記回折格子が実質的に焦点位置になるように配置された
レンズ系へ平行光束照射し、前記回折格子からの複数の
回折光を該レンズ系により平行光束で且つ互いに平行に
することを特徴とする。
記回折格子が実質的に焦点位置になるように配置された
レンズ系へ平行光束照射し、前記回折格子からの複数の
回折光を該レンズ系により平行光束で且つ互いに平行に
することを特徴とする。
【００１６】
【発明の実施の形態】図１は本発明に係る第１の実施例
の光学式変位測定装置の光学構成を示した概略説明図で
ある。
の光学式変位測定装置の光学構成を示した概略説明図で
ある。
【００１７】図中、１はレーザーダイオード、２はコリ
メータレンズ、３は対物レンズである。４は移動物体側
に設けられたスケールで、回折格子Ｇ１が設けられてい
る。５ａ、５ｂはブレーズド回折格子、６は格子位相が
λ／４づつずれた４つの格子領域を持つ光束合波用の回
折格子、７は回折格子６の４つの格子領域に対応した４
つの受光領域を設けた４分割センサーである。
メータレンズ、３は対物レンズである。４は移動物体側
に設けられたスケールで、回折格子Ｇ１が設けられてい
る。５ａ、５ｂはブレーズド回折格子、６は格子位相が
λ／４づつずれた４つの格子領域を持つ光束合波用の回
折格子、７は回折格子６の４つの格子領域に対応した４
つの受光領域を設けた４分割センサーである。
【００１８】レーザーダイオード１から射出した発散光
束は、コリメータレンズ２にて平行光束となり、スケー
ル４上の回折格子Ｇ１との距離を焦点位置ｆに合わされ
たレンズ３によって集光されて回折格子Ｇ１上に点照射
される。この回折格子Ｇ１は、±１次回折光を特に強く
反射回折する様に、格子高さが実質的に４分の１波長に
構成された位相型回折格子となっている。このとき、レ
ーザー波長をλ、レーザー平行光束の径をａとすると、
回折格子Ｇ１上でのビームウエストω１は、 ω１＝1.273×λ×｜ｆ｜／ａ となる。この回折格子Ｇ１上でのビームウエストω１
は、回折格子Ｇ１の格子ピッチｐに対し、数本以上にな
るようにレーザー平行光束の径ａと焦点位置ｆを選択し
ている。
束は、コリメータレンズ２にて平行光束となり、スケー
ル４上の回折格子Ｇ１との距離を焦点位置ｆに合わされ
たレンズ３によって集光されて回折格子Ｇ１上に点照射
される。この回折格子Ｇ１は、±１次回折光を特に強く
反射回折する様に、格子高さが実質的に４分の１波長に
構成された位相型回折格子となっている。このとき、レ
ーザー波長をλ、レーザー平行光束の径をａとすると、
回折格子Ｇ１上でのビームウエストω１は、 ω１＝1.273×λ×｜ｆ｜／ａ となる。この回折格子Ｇ１上でのビームウエストω１
は、回折格子Ｇ１の格子ピッチｐに対し、数本以上にな
るようにレーザー平行光束の径ａと焦点位置ｆを選択し
ている。
【００１９】回折格子Ｇ１上に照射された光束は反射回
折され、±１次回折光を出射する。
折され、±１次回折光を出射する。
【００２０】このとき±１次回折光光軸の回折角θは、
次式より得られる。
次式より得られる。
【００２１】ｐｓｉｎθ＝λ この±１次回折光は再び回折格子Ｇ１との距離が焦点位
置ｆに合わされたレンズを透過し、互いに光軸が平行な
２つの平行光束となる。この光学系により、スケールが
格子形成面に沿って回転移動しても回折格子Ｇ１より得
られた±１次の回折光が共に平行光束でかつ光軸も平行
となる光学系を実現する。
置ｆに合わされたレンズを透過し、互いに光軸が平行な
２つの平行光束となる。この光学系により、スケールが
格子形成面に沿って回転移動しても回折格子Ｇ１より得
られた±１次の回折光が共に平行光束でかつ光軸も平行
となる光学系を実現する。
【００２２】２つの平行光束は、それぞれ光学系全体の
光軸方向に偏向されるように配置された等ピッチのブレ
ーズド回折格子５ａ、５ｂにより偏向され、偏向光束の
交叉位置に配置された、ブレーズド回折格子５ａ、５ｂ
と等しいピッチでしかも２光束透過領域内で格子位相が
λ／４づつずれた４つの格子領域を持つ回折格子６によ
り、波面を揃えて合波される。
光軸方向に偏向されるように配置された等ピッチのブレ
ーズド回折格子５ａ、５ｂにより偏向され、偏向光束の
交叉位置に配置された、ブレーズド回折格子５ａ、５ｂ
と等しいピッチでしかも２光束透過領域内で格子位相が
λ／４づつずれた４つの格子領域を持つ回折格子６によ
り、波面を揃えて合波される。
【００２３】そしてそれぞれの４つの格子領域それぞれ
で合波された光束を受光する位置に各受光領域を配置さ
れた４分割センサー７により受光される。４分割センサ
ー７からは、スケール４の移動に伴って各受光領域より
互いに１／４周期位相差を持つ４つの正弦波信号が得ら
れるようになっている。この４信号を不図示の信号処理
系で処理してスケール４の移動量と移動方向の情報を得
る。このような信号処理についてはすでに知られてお
り、よって詳細は省略する。
で合波された光束を受光する位置に各受光領域を配置さ
れた４分割センサー７により受光される。４分割センサ
ー７からは、スケール４の移動に伴って各受光領域より
互いに１／４周期位相差を持つ４つの正弦波信号が得ら
れるようになっている。この４信号を不図示の信号処理
系で処理してスケール４の移動量と移動方向の情報を得
る。このような信号処理についてはすでに知られてお
り、よって詳細は省略する。
【００２４】このように２つの平行光束を波面を揃えて
合波する光学系として、１光束に対して２枚の回折格子
を配置し、２枚の回折格子のいずれかの光束透過領域内
に格子配列位相の異なる部分を設けることにより、例え
ば、１／４波長板と偏向プリズムの組み合わせのような
複雑な光学構成を取ることなく、位相ズレ信号を発生さ
せることができ、簡単な構成で高精度検出を可能とす
る。
合波する光学系として、１光束に対して２枚の回折格子
を配置し、２枚の回折格子のいずれかの光束透過領域内
に格子配列位相の異なる部分を設けることにより、例え
ば、１／４波長板と偏向プリズムの組み合わせのような
複雑な光学構成を取ることなく、位相ズレ信号を発生さ
せることができ、簡単な構成で高精度検出を可能とす
る。
【００２５】ここで、本実施例においてスケール４がア
ジマス方向に回転した場合を考える。
ジマス方向に回転した場合を考える。
【００２６】図２は、スケール４にアジマス方向の取付
ズレがある時の光路図である。
ズレがある時の光路図である。
【００２７】図からわかるように、スケール４にアジマ
ス角ηの取付ズレがあると、±１次回折光は回折格子上
から、取付ずれのない状態（点線）よりもアジマス角方
向にそれぞれずれて、発散しながら出射する。
ス角ηの取付ズレがあると、±１次回折光は回折格子上
から、取付ずれのない状態（点線）よりもアジマス角方
向にそれぞれずれて、発散しながら出射する。
【００２８】この２つの発散光束はレンズ３で透過偏向
されるが、回折格子Ｇ１はレンズ３の焦点位置に合わさ
れているため、アジマス角ηがどうであっても、必ず互
いに光軸が平行な２つの平行光束となる。これによりブ
レーズド回折格子５ａ、５ｂと回折格子６によって合波
された状態でも、２光束間に若干の位置ずれは発生して
も、２光束の光軸は平行なままである。即ち、取付ズレ
のアジマス角ηの値に関わらず、合波された２光束間に
角度ズレは発生せず、４分割センサー７の受光面上では
空間的な干渉縞の発生がない。
されるが、回折格子Ｇ１はレンズ３の焦点位置に合わさ
れているため、アジマス角ηがどうであっても、必ず互
いに光軸が平行な２つの平行光束となる。これによりブ
レーズド回折格子５ａ、５ｂと回折格子６によって合波
された状態でも、２光束間に若干の位置ずれは発生して
も、２光束の光軸は平行なままである。即ち、取付ズレ
のアジマス角ηの値に関わらず、合波された２光束間に
角度ズレは発生せず、４分割センサー７の受光面上では
空間的な干渉縞の発生がない。
【００２９】図３は、スケール４に回転方向の取付ズレ
がある時の光路図である。
がある時の光路図である。
【００３０】図からわかるように、スケール４に回転角
φの取付ズレがあると、±１次回折光の光軸のレンズ３
光軸に対してなす角（見かけ上の回折角）は±１次でそ
れぞれ異なることになる。各見かけ上の回折角θ±２φ
は次式により得られる。
φの取付ズレがあると、±１次回折光の光軸のレンズ３
光軸に対してなす角（見かけ上の回折角）は±１次でそ
れぞれ異なることになる。各見かけ上の回折角θ±２φ
は次式により得られる。
【００３１】ｐ（ｓｉｎθ±ｓｉｎφ）＝λ この見かけ上の回折角が異なる±１次回折光は、回折格
子上から、取付ずれのない状態（点線）よりも回転角方
向にそれぞれずれて、発散しながら出射する。
子上から、取付ずれのない状態（点線）よりも回転角方
向にそれぞれずれて、発散しながら出射する。
【００３２】この２つの発散光束は、レンズ３で透過偏
向されるが、回折格子Ｇ１はレンズ３の焦点位置に合わ
されているため、回転角φがどうであっても、必ず互い
に光軸が平行な２つの平行光束となる。これによりブレ
ーズド回折格子５ａ、５ｂと回折格子６によって合波さ
れた状態でも、２光束間に若干の位置ずれは発生して
も、２光束の光軸は平行なままである。即ち、取付ズレ
の回転角φの値に関わらず、合波された２光束間に角度
ズレは発生せず、４分割センサー７の受光面上では空間
的な干渉縞の発生がない。
向されるが、回折格子Ｇ１はレンズ３の焦点位置に合わ
されているため、回転角φがどうであっても、必ず互い
に光軸が平行な２つの平行光束となる。これによりブレ
ーズド回折格子５ａ、５ｂと回折格子６によって合波さ
れた状態でも、２光束間に若干の位置ずれは発生して
も、２光束の光軸は平行なままである。即ち、取付ズレ
の回転角φの値に関わらず、合波された２光束間に角度
ズレは発生せず、４分割センサー７の受光面上では空間
的な干渉縞の発生がない。
【００３３】以上の構成を取ることにより、スケールの
取り付け精度をほとんど気にすることのない光学式変位
測定を提供することが可能となる。
取り付け精度をほとんど気にすることのない光学式変位
測定を提供することが可能となる。
【００３４】図２、図３で説明したように、スケール取
付けにズレが発生した場合、合波２光束の光路は多少平
行ずれを発生するが、最終的に４つの領域の光検出器へ
２光束が到達するように、設計段階で想定されるスケー
ル取付けズレに合わせて、入射する光束の径、格子ピッ
チ、レンズ焦点距離を選択すればよく、あらゆる条件下
で対応可能な光学式変位測定装置を実現することができ
る。
付けにズレが発生した場合、合波２光束の光路は多少平
行ずれを発生するが、最終的に４つの領域の光検出器へ
２光束が到達するように、設計段階で想定されるスケー
ル取付けズレに合わせて、入射する光束の径、格子ピッ
チ、レンズ焦点距離を選択すればよく、あらゆる条件下
で対応可能な光学式変位測定装置を実現することができ
る。
【００３５】また、アジマス角発生時においては、最終
的に得られる変位情報にｓｉｎη分の測定誤差が乗るこ
とになるが、これは想定されるスケール取付ズレによる
この誤差分が影響のない程度にスケール範囲、スケール
ピッチ等を選択すればよい。
的に得られる変位情報にｓｉｎη分の測定誤差が乗るこ
とになるが、これは想定されるスケール取付ズレによる
この誤差分が影響のない程度にスケール範囲、スケール
ピッチ等を選択すればよい。
【００３６】第１実施例では、回折格子に入射する投光
光学系として焦点位置に合わせたレンズ系としての対物
レンズ３へ平行光束照射して、回折格子Ｇ１上に点照射
する例を示したが、対物レンズ３を投影側と受光側で分
離して構成し、このような回折格子を焦点位置に合わせ
たレンズを介さずに、直接回折格子Ｇ１上に点照射する
構成を取っても同様な効果を得る事ができる。その場
合、回折格子Ｇ１上のビームウエストは投光光学系によ
り決定されるため、回折格子Ｇ１の格子ピッチｐに対す
る照射本数を高い自由度で設定することができる。
光学系として焦点位置に合わせたレンズ系としての対物
レンズ３へ平行光束照射して、回折格子Ｇ１上に点照射
する例を示したが、対物レンズ３を投影側と受光側で分
離して構成し、このような回折格子を焦点位置に合わせ
たレンズを介さずに、直接回折格子Ｇ１上に点照射する
構成を取っても同様な効果を得る事ができる。その場
合、回折格子Ｇ１上のビームウエストは投光光学系によ
り決定されるため、回折格子Ｇ１の格子ピッチｐに対す
る照射本数を高い自由度で設定することができる。
【００３７】また第１実施例では、２つの平行光束を波
面を揃えて合波する偏向光学系として、１光束につき２
枚の回折格子を配置した例を示したが、プリズム系を配
置して波面を揃えて合波する偏向光学系を採用してもよ
い。
面を揃えて合波する偏向光学系として、１光束につき２
枚の回折格子を配置した例を示したが、プリズム系を配
置して波面を揃えて合波する偏向光学系を採用してもよ
い。
【００３８】更に、第１実施例における回折格子６を一
つの格子より構成し、４分割センサー７を一つの受光面
のセンサーに置き換えた上で、第１実施例におけるレー
ザーダイオード１及びコリメータレンズ２の組とセンサ
ー７との配置を逆としても、同様にスケールの取り付け
精度をほとんど気にすることのない光学式変位測定装置
が実現される。
つの格子より構成し、４分割センサー７を一つの受光面
のセンサーに置き換えた上で、第１実施例におけるレー
ザーダイオード１及びコリメータレンズ２の組とセンサ
ー７との配置を逆としても、同様にスケールの取り付け
精度をほとんど気にすることのない光学式変位測定装置
が実現される。
【００３９】これを説明すると、回折格子６により分割
された２平行光束がブレーズド回折格子５ａ、５ｂ及び
レンズ３を介して回折格子Ｇ１上にビームウエストを形
成し、ここから合波された状態で回折格子形成面法線方
向に発生する±１次回折光は、レンズ３で平行光束に変
換されてセンサーに入射する。この±１次回折光は第１
実施例の場合同様、レンズ３によって平行光束に変換さ
れた後は、アジマス角方向や回転角方向の取付ズレが発
生しても平行ズレのみ発生し、角度ズレは発生しない。
された２平行光束がブレーズド回折格子５ａ、５ｂ及び
レンズ３を介して回折格子Ｇ１上にビームウエストを形
成し、ここから合波された状態で回折格子形成面法線方
向に発生する±１次回折光は、レンズ３で平行光束に変
換されてセンサーに入射する。この±１次回折光は第１
実施例の場合同様、レンズ３によって平行光束に変換さ
れた後は、アジマス角方向や回転角方向の取付ズレが発
生しても平行ズレのみ発生し、角度ズレは発生しない。
【００４０】図４は本発明に係る他の実施例の光学式変
位測定装置の光学構成を示した概略説明図である。
位測定装置の光学構成を示した概略説明図である。
【００４１】前述と同様の部材には同じ符番を冠してあ
る。第１実施例と同様の部分の説明は省略する。
る。第１実施例と同様の部分の説明は省略する。
【００４２】レンズ２で集光されて回折格子Ｇ１上にス
ポット照射された光束は反射回折され、±1次回折光を
出射する。
ポット照射された光束は反射回折され、±1次回折光を
出射する。
【００４３】このとき±1次回折光光軸の回折角θは、
回折格子Ｇ１の格子ピッチをｐ１とすると、第１実施例
同様次式より得られる。
回折格子Ｇ１の格子ピッチをｐ１とすると、第１実施例
同様次式より得られる。
【００４４】ｐ１ｓｉｎθ＝λ この±1次回折光は、それぞれ光学系全体の光軸方向に
偏向されるように配置された格子ピッチ:ｐ２のプレ一
ズド回折格子５ａ、５ｂにより偏向され、格子ピッチ:
ｐ３でしかも２光束透過領域内で格子位相がλ／４づつ
ずれた４つの格子領域を持つ回折格子６により波面を揃
えて合波される。
偏向されるように配置された格子ピッチ:ｐ２のプレ一
ズド回折格子５ａ、５ｂにより偏向され、格子ピッチ:
ｐ３でしかも２光束透過領域内で格子位相がλ／４づつ
ずれた４つの格子領域を持つ回折格子６により波面を揃
えて合波される。
【００４５】そして、後は第１実施例と同様にそれぞれ
の４つの格子領域に対応した４分割センサー７により、
スケールの移動に伴つて１／４周期位相差を正弦波信号
が得られるようになっている。
の４つの格子領域に対応した４分割センサー７により、
スケールの移動に伴つて１／４周期位相差を正弦波信号
が得られるようになっている。
【００４６】このとき３枚の回折格子の格子ピッチｐ
１、ｐ２、ｐ３は、以下の関係を満たす。
１、ｐ２、ｐ３は、以下の関係を満たす。
【００４７】１／ｐ２＝１／ｐ１十１／ｐ３ 回折格子６で２つの回折光の光軸を合わせるように回折
格子間隔を設定することにより、回折格子６から出射す
る２つの回折光の波面の曲率中心を一致させることがで
きる。これにより、最終的に２つの回折光を波面を揃え
て合波する偏向光学系を実現する。
格子間隔を設定することにより、回折格子６から出射す
る２つの回折光の波面の曲率中心を一致させることがで
きる。これにより、最終的に２つの回折光を波面を揃え
て合波する偏向光学系を実現する。
【００４８】図５は、スケール４にアジマス方向の取付
ズレがある時の光路図である。
ズレがある時の光路図である。
【００４９】図からわかるように、スケール４にアジマ
ス角ηの取付ズレがあると、±１次回折光は回折格子上
から、取付ずれのない状態（点線）よりもアジマス角方
向にそれぞれずれて、発散しながら出射する。
ス角ηの取付ズレがあると、±１次回折光は回折格子上
から、取付ずれのない状態（点線）よりもアジマス角方
向にそれぞれずれて、発散しながら出射する。
【００５０】この２つの発散光束は、回折格子Ｇ１がレ
ンズ２による光束集光位置に合わされているため、アジ
マス角ηがどうであっても、必ず回折格子上の照射点を
曲率中心とした波面のままとなる。これによりブレーズ
ド回折格子５ａ、５ｂと回折格子６によって合波され進
行方向を合わされた状態でも、２光束間に若干の位置ず
れは発生しても、２光束の波面の曲率中心は互いに一致
したままである。即ち、取付ズレのアジマス角ηの値に
関わらず、合波された２光束間に波面の曲率中心ズレは
発生せず、４分割センサー７の受光面上では空間的な干
渉縞の発生がない。
ンズ２による光束集光位置に合わされているため、アジ
マス角ηがどうであっても、必ず回折格子上の照射点を
曲率中心とした波面のままとなる。これによりブレーズ
ド回折格子５ａ、５ｂと回折格子６によって合波され進
行方向を合わされた状態でも、２光束間に若干の位置ず
れは発生しても、２光束の波面の曲率中心は互いに一致
したままである。即ち、取付ズレのアジマス角ηの値に
関わらず、合波された２光束間に波面の曲率中心ズレは
発生せず、４分割センサー７の受光面上では空間的な干
渉縞の発生がない。
【００５１】図６は、スケール４に回転方向の取付ズレ
がある時の光路図である。
がある時の光路図である。
【００５２】図からわかるように、スケール４に回転角
φの取付ズレがあると、±１次回折光の光軸のレンズ２
光軸に対してなす角（見かけ上の回折角）は±１次でそ
れぞれ異なることになる。各見かけ上の回折角θ±２φ
は次式により得られる。
φの取付ズレがあると、±１次回折光の光軸のレンズ２
光軸に対してなす角（見かけ上の回折角）は±１次でそ
れぞれ異なることになる。各見かけ上の回折角θ±２φ
は次式により得られる。
【００５３】ｐ１（ｓｉｎθ±ｓｉｎφ）＝λ この見かけ上の回折角が異なる±１次回折光は、回折格
子上から、取付ずれのない状態（点線）よりも回転角方
向にそれぞれずれて、発散しながら出射する。
子上から、取付ずれのない状態（点線）よりも回転角方
向にそれぞれずれて、発散しながら出射する。
【００５４】この２つの発散光束は、回折格子Ｇ１がレ
ンズ２による光束集光位置に合わされているため、回転
角φがどうであっても、必ず回折格子上の照射点を曲率
中心とした波面のままとなる。これによりブレーズド回
折格子５ａ、５ｂと回折格子６によって合波され進行方
向を合わされた状態でも、２光束間に若干の位置ずれは
発生しても、２光束の波面の曲率中心は互いに一致した
ままである。即ち、取付ズレの回転角φの値に関わら
ず、合波された２光束間に波面の曲率中心ズレは発生せ
ず、４分割センサー７の受光面上では空間的な干渉縞の
発生がない。
ンズ２による光束集光位置に合わされているため、回転
角φがどうであっても、必ず回折格子上の照射点を曲率
中心とした波面のままとなる。これによりブレーズド回
折格子５ａ、５ｂと回折格子６によって合波され進行方
向を合わされた状態でも、２光束間に若干の位置ずれは
発生しても、２光束の波面の曲率中心は互いに一致した
ままである。即ち、取付ズレの回転角φの値に関わら
ず、合波された２光束間に波面の曲率中心ズレは発生せ
ず、４分割センサー７の受光面上では空間的な干渉縞の
発生がない。
【００５５】以上の構成を取ることにより、第１実施例
同様にスケールの取り付け精度をほとんど気にすること
のない光学式変位測定を提供することが可能となる。
同様にスケールの取り付け精度をほとんど気にすること
のない光学式変位測定を提供することが可能となる。
【００５６】更に、第１実施例と同様に、第２実施例に
おける回折格子６を一つの格子より構成し、４分割セン
サー７を一つの受光面のセンサーに置き換えた上で、第
１実施例におけるレーザーダイオード１及びコリメータ
レンズ２の組とセンサー７との配置を逆としても、同様
にスケールの取り付け精度をほとんど気にすることのな
い光学式変位測定装置が実現される。
おける回折格子６を一つの格子より構成し、４分割セン
サー７を一つの受光面のセンサーに置き換えた上で、第
１実施例におけるレーザーダイオード１及びコリメータ
レンズ２の組とセンサー７との配置を逆としても、同様
にスケールの取り付け精度をほとんど気にすることのな
い光学式変位測定装置が実現される。
【００５７】その他、図４に於いて、ブレーズド回折格
子５ａ、５ｂの代わりに互いに反射面を対向させた平行
ミラーを配置することも可能である。この場合回折格子
Ｇ１と回折格子６との格子ピッチを一致させる。これに
よっても上述実施例と同様の光学系を実現することがで
きる。
子５ａ、５ｂの代わりに互いに反射面を対向させた平行
ミラーを配置することも可能である。この場合回折格子
Ｇ１と回折格子６との格子ピッチを一致させる。これに
よっても上述実施例と同様の光学系を実現することがで
きる。
【００５８】
【発明の効果】以上説明したように、第１発明によれ
ば、スケールに相対的にアジマスや回転の取付ズレが発
生しても干渉状態は安定しており、常に安定した信号が
得られる。
ば、スケールに相対的にアジマスや回転の取付ズレが発
生しても干渉状態は安定しており、常に安定した信号が
得られる。
【００５９】又、第２発明によれば、スケールに相対的
にアジマスや回転の取付ズレが発生しても干渉状態は安
定しており、常に安定した信号が得られる。
にアジマスや回転の取付ズレが発生しても干渉状態は安
定しており、常に安定した信号が得られる。
【００６０】第３発明によれば更に、よりアジマスや回
転に強い装置が実現される。
転に強い装置が実現される。
【００６１】第４発明によれば更に、複雑な光学構成を
取ることなく位相の異なる出力信号を検出することがで
き、高精度検出を可能とする。
取ることなく位相の異なる出力信号を検出することがで
き、高精度検出を可能とする。
【００６２】第５、第６発明によれば更に、簡単な光学
系でスポット投影ができるとともに、回折格子からの複
数の回折光を平行光束且つ互いに平行にできる。
系でスポット投影ができるとともに、回折格子からの複
数の回折光を平行光束且つ互いに平行にできる。
【図１】本発明の第１実施例を説明する概略説明図
【図２】スケール回転ズレ時の光路図
【図３】スケールアジマスズレ時の光路図
【図４】本発明の他の実施例を説明する概略説明図
【図５】スケール回転ズレ時の光路図
【図６】スケールアジマスズレ時の光路図
１ レーザーダイオード ２ コリメータレンズ ３ レンズ ４ スケール Ｇ１ 位相型回折格子 ５ａ、５ｂ ブレーズド型回折格子 ６ 回折格子 ７ ４分割センサー
Claims (6)
- 【請求項１】 相対変位を検出すべき物体上に設けられ
た回折格子に光束をスポット投影する投光手段と、前記
回折格子のスポット投影位置からの次数の異なる回折光
を、該次数の異なる回折光が共に平行光束でかつ互いに
平行である形態か、あるいは該次数の異なる回折光の波
面が同一曲率中心を有する形態で、互いに合波して得ら
れる干渉光束を受光する光検出手段とを有することを特
徴とする光学式変位測定装置。 - 【請求項２】 相対変位を検出すべき物体上に設けられ
た回折格子に光束をスポット投影する投光手段と、前記
回折格子のスポット投影位置からの次数の異なる回折光
を、該次数の異なる回折光の波面を互いにそろえた形で
合波して得られる干渉光束を受光する光検出手段とを有
することを特徴とする光学式変位測定装置。 - 【請求項３】 更に前記回折格子のスポット投影位置か
らの次数の異なる回折光を、発散光のままあるいは平行
光変換して、合波した形で前記光検出手段に導く光学系
を有することを特徴とする請求項２に記載の光学式変位
測定装置。 - 【請求項４】 前記光学系内に、前記複数の回折光の各
光束それぞれに対して実質的に２枚の光束合波用回折格
子が配置され、前記実質的に２枚の光束合波用回折格子
の一方の光束透過領域内に格子配列位相の異なる格子部
分を設けたことを特徴とする請求項３に記載の光学式変
位測定装置。 - 【請求項５】 前記投光手段は前記回折格子が実質的に
焦点位置になるように配置されたレンズ系へ平行光束照
射し、前記光学系は前記回折格子からの複数の回折光を
該レンズ系により平行光束で且つ互いに平行にすること
を特徴とする請求項２に記載の光学式変位測定装置。 - 【請求項６】 前記投光手段は前記回折格子が実質的に
焦点位置になるように配置されたレンズ系へ平行光束照
射し、前記回折格子からの複数の回折光を該レンズ系に
より平行光束で且つ互いに平行にすることを特徴とする
請求項１に記載の光学式変位測定装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19331796A JPH1038517A (ja) | 1996-07-23 | 1996-07-23 | 光学式変位測定装置 |
| US08/897,548 US6005667A (en) | 1996-07-23 | 1997-07-21 | Optical displacement measurement apparatus and information recording apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19331796A JPH1038517A (ja) | 1996-07-23 | 1996-07-23 | 光学式変位測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1038517A true JPH1038517A (ja) | 1998-02-13 |
Family
ID=16305900
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19331796A Pending JPH1038517A (ja) | 1996-07-23 | 1996-07-23 | 光学式変位測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1038517A (ja) |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001304918A (ja) * | 2000-02-15 | 2001-10-31 | Canon Inc | 格子干渉型光学式エンコーダ |
| JP2004069702A (ja) * | 2002-08-07 | 2004-03-04 | Dr Johannes Heidenhain Gmbh | 干渉式位置測定装置 |
| WO2007142351A1 (ja) * | 2006-06-09 | 2007-12-13 | Nikon Corporation | 移動体装置、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
| WO2009098891A1 (ja) * | 2008-02-08 | 2009-08-13 | Nikon Corporation | 位置計測システム及び位置計測方法、移動体装置、移動体駆動方法、露光装置及び露光方法、パターン形成装置、並びにデバイス製造方法 |
| US7999918B2 (en) | 2006-09-29 | 2011-08-16 | Nikon Corporation | Movable body system, pattern formation apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method |
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US8760622B2 (en) | 2007-12-11 | 2014-06-24 | Nikon Corporation | Movable body apparatus, exposure apparatus and pattern formation apparatus, and device manufacturing method |
| JP2015194365A (ja) * | 2014-03-31 | 2015-11-05 | 並木精密宝石株式会社 | 反射型エンコーダ |
| US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
| US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
| US9891539B2 (en) | 2005-05-12 | 2018-02-13 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| CN121383840A (zh) * | 2025-12-26 | 2026-01-23 | 歌尔光学科技有限公司 | 双路激光干涉仪、光栅测量方法以及光学检测系统 |
-
1996
- 1996-07-23 JP JP19331796A patent/JPH1038517A/ja active Pending
Cited By (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001304918A (ja) * | 2000-02-15 | 2001-10-31 | Canon Inc | 格子干渉型光学式エンコーダ |
| JP2004069702A (ja) * | 2002-08-07 | 2004-03-04 | Dr Johannes Heidenhain Gmbh | 干渉式位置測定装置 |
| US9885959B2 (en) | 2003-04-09 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having deflecting member, lens, polarization member to set polarization in circumference direction, and optical integrator |
| US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
| US9760014B2 (en) | 2003-10-28 | 2017-09-12 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
| US10281632B2 (en) | 2003-11-20 | 2019-05-07 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical member with optical rotatory power to rotate linear polarization direction |
| US10241417B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10007194B2 (en) | 2004-02-06 | 2018-06-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10234770B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-19 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US9891539B2 (en) | 2005-05-12 | 2018-02-13 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| TWI425318B (zh) * | 2006-06-09 | 2014-02-01 | 尼康股份有限公司 | 移動體裝置、曝光裝置和曝光方法以及元件製造方法 |
| JP2012256893A (ja) * | 2006-06-09 | 2012-12-27 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
| US8390780B2 (en) | 2006-06-09 | 2013-03-05 | Nikon Corporation | Movable-body apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
| JPWO2007142351A1 (ja) * | 2006-06-09 | 2009-10-29 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
| WO2007142351A1 (ja) * | 2006-06-09 | 2007-12-13 | Nikon Corporation | 移動体装置、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
| US8514373B2 (en) | 2006-09-29 | 2013-08-20 | Nikon Corporation | Movable body system, pattern formation apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method |
| US7999918B2 (en) | 2006-09-29 | 2011-08-16 | Nikon Corporation | Movable body system, pattern formation apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method |
| US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9857599B2 (en) | 2007-10-24 | 2018-01-02 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US8760622B2 (en) | 2007-12-11 | 2014-06-24 | Nikon Corporation | Movable body apparatus, exposure apparatus and pattern formation apparatus, and device manufacturing method |
| JP5344180B2 (ja) * | 2008-02-08 | 2013-11-20 | 株式会社ニコン | 位置計測システム及び位置計測方法、移動体装置、移動体駆動方法、露光装置及び露光方法、パターン形成装置、並びにデバイス製造方法 |
| US8208128B2 (en) | 2008-02-08 | 2012-06-26 | Nikon Corporation | Position measuring system and position measuring method, Movable body apparatus, movable body drive method, exposure apparatus and exposure method, pattern forming apparatus, and device manufacturing method |
| CN101796614B (zh) | 2008-02-08 | 2012-01-18 | 株式会社尼康 | 位置测量系统及位置测量方法、移动体装置、移动体驱动方法、曝光装置及曝光方法、图案形成装置、以及组件制造方法 |
| WO2009098891A1 (ja) * | 2008-02-08 | 2009-08-13 | Nikon Corporation | 位置計測システム及び位置計測方法、移動体装置、移動体駆動方法、露光装置及び露光方法、パターン形成装置、並びにデバイス製造方法 |
| JP2015194365A (ja) * | 2014-03-31 | 2015-11-05 | 並木精密宝石株式会社 | 反射型エンコーダ |
| CN121383840A (zh) * | 2025-12-26 | 2026-01-23 | 歌尔光学科技有限公司 | 双路激光干涉仪、光栅测量方法以及光学检测系统 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3028716B2 (ja) | 光学式変位センサ | |
| US4979826A (en) | Displacement measuring apparatus | |
| US6771377B2 (en) | Optical displacement sensing device with reduced sensitivity to misalignment | |
| US4970388A (en) | Encoder with diffraction grating and multiply diffracted light | |
| CN107462159B (zh) | 位移检测装置 | |
| EP1435510A1 (en) | Grating interference type optical encoder | |
| US9175987B2 (en) | Displacement detecting device | |
| JPH1038517A (ja) | 光学式変位測定装置 | |
| US20110310396A1 (en) | Displacement detecting device | |
| US6407815B2 (en) | Optical displacement measurement system | |
| US6005667A (en) | Optical displacement measurement apparatus and information recording apparatus | |
| CN103608645A (zh) | 位置检测器和光偏转设备 | |
| US6956654B2 (en) | Displacement measuring device with interference grating | |
| JP2004144581A (ja) | 変位検出装置 | |
| JP3977126B2 (ja) | 変位情報検出装置 | |
| US6166817A (en) | Optical displacement measurement system for detecting the relative movement of a machine part | |
| EP1347271B1 (en) | Optical displacement sensing device with reduced sensitivity to misalignment | |
| JPH0778433B2 (ja) | ロータリーエンコーダ | |
| US10527405B2 (en) | Optical position-measuring device | |
| JPH03279812A (ja) | 回析干渉型エンコーダ | |
| JPH0749940B2 (ja) | 測角装置 | |
| US5017777A (en) | Diffracted beam encoder | |
| JP3513251B2 (ja) | 光学式変位センサ | |
| JP2018009933A (ja) | 変位検出装置 | |
| JP7141313B2 (ja) | 変位検出装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20030729 |