JPH1040537A

JPH1040537A - 高密度磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH1040537A
Application number: JP20927296A
Authority: JP
Inventors: Chikakazu Kawaguchi; 親和川口; Takashi Harada; 敬原田; Yoichi Yoshimura; 洋一吉村; Shigeji Watase; 茂治渡瀬
Original assignee: Diafoil Co Ltd; TDK Corp
Current assignee: Diafoil Co Ltd; TDK Corp
Priority date: 1996-07-19
Filing date: 1996-07-19
Publication date: 1998-02-13

Abstract

(57)【要約】【課題】記録波長の短波長化・高記録密度化を実現する
ことが出来る磁気記録媒体を提供する。【解決手段】フイルム製膜工程内で設けられた塗布層を
有する二軸配向ポリエステルフイルムの当該塗布層表面
に、樹脂バインダー中に磁性体が分散された磁性層を設
けて成り、前記二軸ポリエステルフイルムの横方向のヤ
ング率ＹT （ｋｇ／ｍｍ²）、塗布層の厚さｔ( μｍ)
及び磁性層の厚さｔM(μｍ) の関係が下記式（１）〜
（３）を満足する。【数１】８００ ≦ＹT ・・・（１）０．０５≦ｔ≦−０．９５×１０^-3ＹT ＋１．７６・・・（２）０．０５≦ｔM ≦１．０・・・（３）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体に関
するものであり、詳しくは、高品質で且つ長時間記録が
可能であり高密度記録に適した磁気記録媒体に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】近
年、ＶＴＲテープ、オーディオテープ、コンピューター
テープ等の磁気記録媒体（磁気記録テープ）において
は、高性能化、長時間記録化、小型軽量化を達成するた
め、磁気記録テープの薄膜化および高密度記録化の必要
性が高まっている。磁気記録テープの薄膜化のためには
基体フイルムの薄膜化が効果的であるが、基体フイルム
を薄膜化した場合、磁気記録テープのスティフネス（腰
の強さ）が低下し、記録、再生、早送り、巻き戻し等の
テープ走行時に磁気記録テープエッジが変形したり、磁
気ヘッドとの接触が悪くなり、電磁出力の低下または変
動が生じて磁気記録テープの特性が劣ると言う問題があ
る。

【０００３】従来、長時間記録用磁気記録テープの基体
フイルムには、磁気記録テープの長手方向（以下縦方向
と言う）のヤング率を高めた所謂スーパーテンシライズ
フイルムが使用されている。しかしながら、従来のスー
パーテンシライズフイルムは、縦方向のヤング率が高い
ものの、縦方向と直交する方向（以下横方向と言う）の
ヤング率は高々４５０ｋｇ／ｍｍ²程度であり、前述の
磁気記録テープの要求特性を満足するには不十分であ
る。

【０００４】一方、磁気記録テープの高密度記録化を達
成するためには、記録波長の短波長化が必須である。と
ころが、ある記録波長に対して磁性層が一定値以上の厚
さになると、深層にある磁性体の磁束が再生ヘッドを通
らずに閉塞ループを形成するために損失すると言う問題
がある。従って、原理的には、磁性層の薄膜化は記録波
長が短いほど有利である。このため、強磁性金属の蒸着
またはスパッタ等の方法により極めて薄く記録層を形成
し、記録波長の短波長化に伴う厚さ損失の低減を実現し
た、所謂ＭＥ (metal evapolated) タイプの磁気記録媒
体が実用化されている。

【０００５】しかしながら、ＭＥタイプの磁気記録媒体
は、磁性層を構成するコバルト等の強磁性金属が錆び易
いと言う欠点がある。そして、様々な改良が行われてい
るが、未だ、記録情報の長期間保存には信頼性が乏しい
のが現状である。

【０００６】一方、基体フイルム上に強磁性金属と樹脂
バインダーから成る磁性塗料を塗布して得られる所謂Ｍ
Ｐ (metal powder) タイプの磁気記録媒体は、錆び防止
には比較的対処し易く、例えば、金属粒子表面に酸化防
止皮膜を形成する等の方法を採用することも出来る。

【０００７】しかしながら、ＭＰタイプの磁気記録媒体
の磁性層の薄膜化にはピンホールやスジ等の塗布欠陥が
生じ易いと言う生産上の問題がある。また、様々の添加
剤を含有した樹脂バインダーのため、磁性体の充填率が
低いことも磁性層の薄膜化を妨げる要因である。

【０００８】上記の塗布型磁気記録媒体の欠点を解決す
るため、特開平４−２７１０１６号公報には、基体フイ
ルム上に塗布する磁性層を下層と上層の２層に分けて同
時に塗布する方法が提案され、特開平５−２８４６４号
公報には、基体フイルムと磁性層との間に非磁性層を介
在させ、当該非磁性層が湿潤状態の中に磁性層を塗布す
る方法が提案され、また、特公平５−５９４９０号公報
には、基体フイルム上に非磁性下塗層と磁性層とを同時
に塗布し、両層が未乾燥の中に磁界を作用させる方法が
提案されている。

【０００９】しかしながら、磁性層を２層に分けて同時
に塗布する特開平４−２７１０１６号公報記載の方法
は、下層磁性層と上層磁性層との界面の乱れが起こり易
く、その結果、当該方法で得られる磁気記録テープはテ
ープ変調ノイズを発生し易いと言う問題を有する。ま
た、非磁性層が湿潤状態の間に磁性層を塗布する特開平
５−２８４６４号公報記載の方法でも界面の乱れを完全
に防止することが出来ず、特公平５−５９４９０号公報
記載の方法においても同様である。

【００１０】また、特開昭５７−１９８６５３号公報に
は、ＭＰタイプの磁気記録媒体のスペーシングロスとド
ロップアウトを排除するため、基体フイルム上に非磁性
下塗層を塗布した後に磁性層を塗布する方法が提案され
ている。しかしながら、基体フイルムと磁性層との間に
単に非磁性下塗層を介在させるだけでは、記録波長の短
波長化・高記録密度化を十分に実現することは出来な
い。

【００１１】更にまた、特開平５−２５０６５９号公報
には、ヤング率の高い基体フイルムを使用し、基体フイ
ルムの厚さと磁気記録媒体の全厚との比を特定範囲に規
定した磁気記録媒体が提案されている。しかしながら、
斯かる磁気記録媒体は、磁性層厚さが大きいため、記録
波長の極めて短い高密度記録が困難である。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
に鑑み、鋭意検討した結果、特定の構成を有する磁気記
録媒体によれば、記録波長の短波長化・高記録密度化を
実現することが出来ることを見い出し、本発明を完成す
るに至った。

【００１３】すなわち、本発明の要旨は、フイルム製膜
工程内で設けられた塗布層を有する二軸配向ポリエステ
ルフイルムの当該塗布層表面に、樹脂バインダー中に磁
性体が分散された磁性層を設けて成り、前記二軸ポリエ
ステルフイルムの横方向のヤング率ＹT （ｋｇ／ｍ
ｍ²）、塗布層の厚さｔ( μｍ) 及び磁性層の厚さｔM
(μｍ) の関係が下記式（１）〜（３）を同時に満足す
ることを特徴とする高密度磁気記録媒体に存する。

【００１４】

【数２】８００ ≦ＹT ・・・（１）０．０５≦ｔ≦−０．９５×１０^-3ＹT ＋１．７６・・・（２）０．０５≦ｔM ≦１．０・・・（３）

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の磁気記録媒体は、その基体フイルムとして二軸
配向ポリエステルフイルムを使用する必要があり、この
二軸配向ポリエステルフイルムは、一方の表面にフイル
ムの製膜工程内で設けられた塗布層を有している必要が
ある。以下、塗布層が設けられた二軸配向ポリエステル
フイルムを単に支持フイルムと略称することがある。

【００１６】本発明におけるポリエステルは、テレフタ
ル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸の様な芳香族ジ
カルボン酸またはそのエステルとエチレングリコールを
主たる出発原料として得られ、繰り返し構造単位の８０
％以上がエチレンテレフタレート単位またはエチレン−
２、６−ナフタレート単位を有するポリエステルであ
る。そして、上記のポリエステルの中では、フイルムの
製膜性、品質の安定性の観点から、エチレン−２，６−
ナフタレート単位を有するポリエステルが好ましい。

【００１７】上記のポリエステルは、上記の重合成分以
外の第三成分を共重合成分として含有していてもよい。
第三成分のジカルボン酸成分としては、例えば、イソフ
タル酸、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン
酸、アジピン酸、セバシン酸などが挙げられ、第三成分
のグリコール成分としては、ジエチレングリコール、プ
ロピレングリコール、ブタンジオール、１，４−シクロ
ヘキサンジメタノール、ネオペンチルグリコール等が挙
げられる。

【００１８】上記のポリエステルには、必要に応じ、微
粒子を含有させることが出来る。フイルムに遮光性を付
与する目的の微粒子としては、例えば、酸化チタン、カ
ーボンブラック、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等が挙
げられ、フイルムに滑り性を付与する目的の微粒子とし
ては、例えば、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、硫
酸バリウム、酸化チタン、カオリン、タルク、クレー、
アルミナ、シリカ、カ−ボンブラック、架橋ポリスチレ
ン樹脂や架橋アクリル樹脂などの架橋有機粒子などが挙
げられる。これらの微粒子は、単独使用の他、２種類以
上を併用してもよい。微粒子の平均粒子径は、通常０．
００１〜５．０μｍ、好ましくは０．０１〜１．０μ
ｍ、添加量は、ポリエステル樹脂に対し、通常１０重量
％以下、好ましくは５重量％以下である。

【００１９】本発明における支持フイルムは、二軸延伸
によって二軸配向されていることが必要であり、そし
て、横方向のヤング率ＹT （ｋｇ／ｍｍ²）が下記式
（１）を満足することが重要である。

【００２０】

【数３】８００ ≦ＹT ・・・（１）

【００２１】上記のヤング率の上限は、通常１８００Ｋ
ｇ／ｍｍ²以下とされるが、好ましいヤング率の範囲は
８５０〜１６００Ｋｇ／ｍｍ²、更に好ましいヤング率
の範囲は９００〜１５００ｋｇ／ｍｍ²である。

【００２２】横方向のヤング率ＹT が８００ｋｇ／ｍｍ
²未満の場合は、長時間記録化のため薄膜化した磁気記
録テープの腰の強さが低くなり、磁気ヘッドと磁性層面
との間の接触が不良となり、その結果、磁気記録テープ
の電磁出力が低下する。更に、過酷な条件下で繰り返し
走行を行った場合、磁気記録テープのエッジが伸びてワ
カメ状に変形したり、横規制ガイドに当接した際にテー
プ端部が折れ曲がり、磁気記録テープの特性が損なわれ
る。また、横方向のヤング率ＹT が１８００ｋｇ／ｍｍ
²を超える場合は、フイルム延伸時の生産性が低下する
傾向にあり、実用上好ましくない。

【００２３】一方、支持フイルムの縦方向のヤング率
は、特に制限されないが、通常、磁性層中の磁性体の長
軸が縦方向に配列されるため、磁気記録テープとしては
高くなる。そのため、支持フイルムの縦方向のヤング率
は、横方向のヤング率より低くてもよいが、５００Ｋｇ
／ｍｍ²以上とするのが好ましい。

【００２４】上記の支持フイルムは、通常、二軸延伸後
に熱固定して得られる。そして、１００℃で３０分熱処
理後のフイルムの縦方向および横方向の収縮率は、２．
０％以下であることが好ましい。なお、ポリエステルフ
イルムは、必要に応じ、共押出し等による積層フイルム
であってもよい。

【００２５】支持フイルムの塗布層を構成する樹脂は、
当該塗布層表面に形成される磁性層との接着性に優れ、
磁性層表面のカレンダー処理の際に塑性変形して平坦化
し得る性質を有することが好ましい。斯かる樹脂とし
て、例えば、ポリエステル、ポリアミド、ポリスチレ
ン、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリアリレ
ート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニ
ルブチラール、ポリビニルアルコール、ポリウレタン及
びこれらの共重合体や混合物などから選択することが出
来る。これらの中で好ましい樹脂は、ポリエステル樹脂
である。

【００２６】支持フイルムの塗布層は、ポリエステルフ
イルム製膜工程で形成される。従って、上記の樹脂は、
フイルム製膜工程内での安全衛生上、水媒体塗布剤とな
り得る水溶性または水分散性樹脂であることが好まし
い。水媒体塗布剤は、上記の目的を損なわない範囲内で
助剤として有機溶剤を含有していてもよい。

【００２７】水媒体塗布剤は、界面活性剤などによって
強制分散化した塗布剤であってもよいが、好ましくは、
ポリエーテル類の様な親水性のノニオン成分や四級アン
モニウム塩の様なカチオン性基の自己分散型塗布剤であ
り、更に好ましくは、アニオン性基を有する水溶性また
は水分散性の塗布剤である。アニオン性基を有する水溶
性または水分散性の塗布剤は、共重合やグラフト重合な
どによりアニオン性基を有する化合物を結合した樹脂を
使用することにより得られる。アニオン性基としては、
スルホン酸基、カルボン酸基、リン酸基、それらの塩が
挙げられる。

【００２８】アニオン性基の対イオンとしては、アルカ
リ金属イオンが好ましいが、アンモニウムイオンを含む
アミン系オニウムイオンであってもよい。樹脂中のアニ
オン性基の含有量は、０．０５〜８重量％が好ましい。
アニオン性基の含有量が０．０５重量％未満の場合は、
樹脂の水溶性または水分散性が十分ではなく、８重量％
を超える場合は、塗布層の耐水性が劣る。

【００２９】前記のポリエステル系樹脂を構成する多価
カルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタ
ル酸、オルトフタル酸、フタル酸、４，４’−ジフェニ
ルジカルボン酸、２，５−ナフタレンジカルボン酸、
２，６−ナフタレンジカルボン酸、１，４−シクロヘキ
サンジカルボン酸、２−カリウムスルホテレフタル酸、
５−ナトリウムスルホイソフタル酸、アジピン酸、アゼ
ライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、グルタ
ル酸、コハク酸、トリメリット酸、トリメシン酸、無水
トリメリット酸、無水フタル酸、ｐ−ヒドロキシ安息香
酸、トリメリット酸モノカリウム塩およびそれらのエス
テル形成性誘導体などが挙げられる。

【００３０】一方、多価ヒドロキシ化合物としては、エ
チレングリコール、１，２−プロピレングリコール、
１，３−プロピレングリコール、１，３−プロパンジオ
ール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオ
ール、２−メチル−１，５−ペンタンジオールネオペン
チルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノー
ル、ｐ−キシリレングリコール、ビスフェノールＡ−エ
チレングリコール付加物、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプ
ロピレングリコール、ポリテトラエチレンオキシドグリ
コール、ジメチロールプロピオン酸、グリセリン、トリ
メチロールプロパン、ジメチロールエチルスルホン酸ナ
トリウム、ジメチロールプロピオン酸カリウム等が挙げ
られる。

【００３１】ポリエステル樹脂は、上記の化合物の中か
ら選択された多価カルボン酸と多価ヒドロキシ化合物と
の常法の重縮合反応により得られる。本発明において
は、斯かるポリエステル樹脂の他、特開平１−１６５６
３３号公報に記載されている、ポリエステルポリオール
をイソシアネートで鎖延長したポリエステルポリウレタ
ンや所謂アクリルグラフトポリエステル等のポリエステ
ル成分を有する複合高分子も使用し得る。なお、好適な
ポリエステル樹脂の市販品の一例としては、互応化学社
製の商品「ＲＺ−１０５」等がある。

【００３２】ところで、カレンダー処理は、通常、６０
〜１５０℃の温度で線圧１００〜５００Ｋｇ／ｃｍ程度
で行われる。従って、塗布層を塑性変形させるため、塗
布層を構成する樹脂の組成は、ガラス転移点温度が６０
℃以下、更には５０℃以下、ビカット軟化温度が６０℃
以下、更には５０℃以下となる様に選択するのが好まし
い。

【００３３】本発明において、特に好適なポリエステル
樹脂の一例は、多価カルボン酸として、テレフタル酸、
イソフタル酸および５−ナトリウムスルホイソフタル
酸、多価ヒドロキシ化合物として、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール及び１，４−ブタンジオール
を使用して得られた水分散性ポリエステルである。

【００３４】上記の塗布液には、無機粒子または有機粒
子を含有させることが好ましい。無機粒子としては、シ
リカ、アルミナ、ジルコニウム、カオリン、タルク、炭
酸カルシウム、リン酸カルシウム、酸化チタン、硫酸バ
リウム、硫化モリブデン、酸化アンチモン等が挙げられ
る。有機粒子として、カーボンブラック、ポリスチレ
ン、ポリエチレン、ポリアミド、ポリエステル、ポリア
クリル酸エステル、エポキシ樹脂、ポリ酢酸ビニル又は
ポリ塩化ビニル等の単独または共重合体などから成る架
橋剤を含有していてもよい微粒子、シリコーン樹脂、フ
ッ素樹脂などが挙げられる。これらの中では熱変形の少
ない架橋高分子粒子が好ましい。上記の微粒子は、単独
使用の他、２種類以上を併用してもよい。

【００３５】上記の微粒子は、製膜工程におけるフイル
ムの走行性を改良する。また、上記の微粒子は、後述の
カレンダー処理の際にカレンダー圧力の伝達媒体として
作用し、塗布層を効果的に塑性変形して平坦化された塗
布層を形成する作用を有する。特に、架橋高分子粒子
は、適度の硬度を有し且つ角の無い形状を容易に付与す
ることが出来るため、カレンダー処理の際に塗布層を全
く粗面化することなしに平坦化し得る点において、無機
粒子よりも優れる。

【００３６】上記の架橋高分子粒子としては、例えば、
分子中に一個の脂肪族の不飽和結合を有するモノビニル
化合物と分子中に二個以上の脂肪族不飽和結合を有する
化合物（架橋剤）との共重合体が挙げられる。具体的に
は、熱硬化性フェノール樹脂、熱硬化性エポキシ樹脂、
熱硬化性尿素樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などが挙げら
れる。

【００３７】上記の微粒子の平均粒径は、塗布層の厚さ
より小さいことが好ましく、具体的には、通常０．００
１〜１．０μｍ、好ましくは０．０１〜０．５μｍとさ
れる。塗布層の厚さより大きい粒子は、カレンダー処理
で塗布層が塑性変形する際、突起を形成し、更に、磁性
層表面の平坦化の妨げとなる恐れがある。

【００３８】塗布層における粒子の含有量は、固形分濃
度として、通常１０〜６０重量％、好ましくは２０〜５
０重量％、更に好ましくは３０〜５０重量％とされる。
粒子の含有量が６０重量％を超える場合は、塗布層とポ
リエステルフイルムとの密着性が悪くなったり、塗布層
の強度が低下して塗布工程以降の各工程内で剥離が生ず
る恐れがあり、また、含有量が１０重量％未満の場合
は、塗布層の塑性変形性が劣る。

【００３９】塗布液には、塗布層の固着性（ブロッキン
グ性）、耐水性、耐溶剤性、機械的強度の改良のため、
架橋剤として、メチロール化またはアルキロール化した
尿素系、メラミン系、グアナミン系、アクリルアミド
系、ポリアミド系などの化合物、エポキシ化合物、アジ
リジン化合物、ブロックポリイソシアネート、シランカ
ップリング剤、チタンカップリング剤、ジルコ−アルミ
ネート系カップリング剤、過酸化物、熱または光反応性
のビニル化合物や感光性樹脂などを含有させてもよい。
更に、必要に応じて、潤滑剤、消泡剤、塗布性改良剤、
増粘剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、発泡
剤、染料、顔料などを含有させてもよい。

【００４０】本発明における支持フイルムは、一方の表
面に塗布層を形成して構成される。両面に塗布層を形成
した場合は、片面に磁性層を設けた後にカレンダー処理
を行う際、磁性層を設けていない方の塗布層とカレンダ
ーロールとが粘着し、また、フイルムの巻取りの際、磁
性層と磁性層を設けていない方の塗布層が粘着する等の
不都合が生じる恐れがある。従って、塗布層は、ポリエ
ステルフイルムの片面のみに設けるのが好ましい。

【００４１】本発明における磁性層は、磁性体と樹脂バ
インダーから成る磁性塗料を塗布して得られる。磁性体
としては、高密度磁気記録用として公知の強磁性体粉末
を使用することが出来る。すなわち、金属酸化物系また
は異種金属添加金属酸化物系磁性体としては、γ−酸化
鉄、Ｃｏ添加γ−酸化鉄、酸化クロム等の針状粉末が挙
げられ、強磁性金属としては、コバルト、ニッケル、
鉄、これらの合金、または、これらとクロム、タングス
テン等との合金などが挙げられ、六方晶フェライト系磁
性体としては、Ｂａフェライト、Ｓｒフェライト等の板
状粉末が挙げられる。これらの強磁性体粉末は、Ｈｃが
１０００（Ｏｅ）以上、更には１２００（Ｏｅ）以上で
あることが好ましい。また、特に、強磁性金属粉末とし
ては、表面に公知の酸化防止皮膜加工を施したものが好
ましい。

【００４２】また、上記の強磁性体粉末を分散させる樹
脂バインダー、これに添加する架橋剤、潤滑剤、帯電防
止剤、研磨剤、酸化防止剤、防カビ剤などの添加剤は、
何れも公知のものを使用することが出来る。更に、支持
フイルムの塗布層表面に磁性塗料を塗布する方法も、公
知の方法を使用することが出来る。

【００４３】塗布された磁性塗料は、磁性体を磁場配向
させた後、溶剤を蒸発・乾燥し、カレンダー処理によっ
てその表面が平坦化される。このカレンダー処理は、例
えば、スーパーカレンダーロールによる公知の方法を使
用することが出来る。カレンダー処理温度は、通常６０
℃以上、好ましくは７０℃以上、更に好ましくは８０℃
以上、圧力は、線圧として、通常１００Ｋｇ／ｃｍ以
上、好ましくは２００Ｋｇ／ｃｍ以上、更に好ましくは
３００Ｋｇ／ｃｍ以上とされる。斯かる条件下のカレン
ダー処理により、効果的に塗布層を塑性変形させること
が出来る。カレンダー処理で塗布層が塑性変形されない
場合は、この表面に設けられた磁性層の表面に支持フイ
ルムの凹凸そのものが表れて粗面化され、磁気記録テー
プの電磁変換特性が低下する恐れがある。

【００４４】本発明の高密度磁気記録媒体においては、
支持フイルムの横方向のヤング率ＹT （ｋｇ／ｍｍ²）
が前記式（１）を満足し、塗布層の厚さｔ( μｍ) 及び
磁性層の厚さｔM(μｍ) の関係が下記式（２）及び
（３）を同時に満足する必要がある。

【００４５】

【数４】０．０５≦ｔ≦−０．９５×１０^-3ＹT ＋１．７６・・・（２）０．０５≦ｔM ≦１．０・・・（３）

【００４６】塗布層の厚さｔが上記の範囲未満の場合
は、カレンダー処理による平坦化が不十分となり、磁性
層表面の平坦性が得られずに良好な出力特性が得られな
い。また、塗布層の厚さｔが上記範囲を超える場合は、
支持フイルムを横延伸する際の延伸性が悪くなってフイ
ルム破断が多発したり、塗布層の乾燥速度が低下して生
産性が悪くなる。一方、磁性層の厚さｔM が上記の範囲
未満の場合は、磁性塗料を塗布した際に当該磁性塗料中
の磁性体の分散状態が不均一となって膜厚変動を来し、
出力特性が極端に低下する。また、磁性層の厚さｔM が
上記の範囲を超える場合は、短波長記録の際に深層の磁
性体の中で閉塞ループを作るものが多くなる。上記の磁
性層の厚さｔM は、好ましくは０．０５〜０．８μｍ、
更に好ましくは０．１〜０．５μｍである。

【００４７】本発明の磁気記録媒体の磁性層表面の中心
線平均粗さ（ｓＲａ）は、好ましくは１２ｎｍ以下、更
に好ましくは１０ｎｍ以下、特に好ましくは８ｎｍ以下
である。磁性層表面の中心線平均粗さ（ｓＲａ）が１２
ｎｍより大きい場合は、磁気ヘッドと磁性層表面との隙
間、所謂スペーシング・ロスが大きくなり、電磁変換特
性が劣る傾向がある。

【００４８】本発明の磁気記録媒体は、磁性層を塗布し
た面の反対面に公知のバックコート層を設けることが出
来る。バックコート層は、磁気記録テープとしての走行
性を改良する目的で設けられ、樹脂バインダーにカーボ
ンブラック、アルミナ等の微粒子、帯電防止剤、潤滑剤
などを添加した組成物をフイルム上に塗布して形成され
る。

【００４９】次に、本発明における支持フイルムの製膜
方法を説明する。本発明の支持フイルムは、基体のポリ
エステルフイルム及びその表面に設けられる塗布層より
構成される。ポリエステルフイルムの製膜方法として
は、公知の方法を採用することが出来る。

【００５０】例えば、ポリエステルを２７０〜３２０℃
でシート状に溶融押出しした後、４０〜８０℃で冷却固
化して無定形シート（未延伸フイルム）を得、次いで、
８０〜１５０℃で縦、横方向に面積倍率で１０〜３０倍
となる様に逐次二軸延伸または同時二軸延伸し、１７０
〜２５０℃で熱処理することにより、横方向のヤング率
が８００ｋｇ／ｍｍ²以上のポリエステルフイルムを得
ることが出来る。また、必要に応じ、前記二軸延伸ポリ
エステルフイルムを１２０〜１６０℃で１．１〜１．５
倍の再縦延伸した後、１８０〜２５０℃で１．２〜２．
０倍の再横延伸し、その後、横延伸温度の最も高い温度
にて熱処理する方法を採用することも出来る。

【００５１】本発明において、塗布層は、ポリエステル
フイルムの製膜工程内で塗布する方法、所謂インライン
コーティング法によって設けられる。フイルム製膜後に
塗布する方法、所謂オフラインコーティング法では、フ
イルムと塗布層との密着力が十分に得られず、塗布層が
塗布工程以降の各工程内で剥離したり、塗布層の厚さが
不均一になる等の問題が生じる。更に、インラインコー
ティング法は、フイルムの製膜と同時に塗布が終了する
ため、フイルム製膜後、別途に塗布行程を必要とするオ
フラインコーティング法よりも生産コストが安価であ
る。

【００５２】フイルム製膜工程内で塗布する方法として
は、未延伸フイルムに塗布液を塗布した後に逐次延伸ま
たは同時二軸延伸する方法、一軸延伸フイルムに塗布し
た後に一軸延伸方向と直角方向に延伸する方法、二軸フ
イルムに塗布した後に横および／または縦方向に再延伸
する方法などが挙げられる。

【００５３】インラインコーティング法の塗布方法とし
ては、原崎勇次著、槙書店、１９７９年発行、「コーテ
ィング方式」に示されるリバースロールコーター、グラ
ビアコーター、エアドクターコーター又はこれら以外の
塗布装置を使用することが出来る。

【００５４】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施
例に限定されるものではない。なお、実施例および比較
例における支持フイルムの物性および磁気記録媒体の特
性の測定方法は、以下に示す通りである。また、実施例
に記載の成分比の「部」は「重量部」を示す。

【００５５】（１）各層の厚さ構成：厚さ方向の断面を
観察できる様にするため、磁気記録媒体または支持フイ
ルムを樹脂に包埋して固定し、ミクロトームにより厚さ
１００ｎｍの切片を切り出し、透過型電子顕微鏡（日立
製作所（株）製「Ｈ−９０００」）で断面を観察して各
積層部の厚さ構成を測定した（写真倍率１００００〜２
００００倍、加速電圧１００ｋＶ）。

【００５６】（２）ヤング率：引張試験機（インテスコ
（株）製「インテスコモデル２００１型」）を使用し、
温度２３℃、湿度５０％ＲＨに調節された室内におい
て、長さ３００ｍｍのサンプルを１０％／min のひずみ
速度で引っ張り、得られた引張応力−ひずみ曲線の初め
の直線部分を使用し、次の式によって計算した。サンプ
ルの幅は２０ｍｍとした。

【００５７】

【数５】Ｅ＝Δσ／Δε 上記式中、Ｅはヤング率（ｋｇ／ｍｍ²) 、Δσは直線
上の２点間の元の平均断面積による応力差、Δεは同じ
２点間のひずみ差を表す。

【００５８】（３）支持フイルムの生産性：支持フイル
ムの製膜速度、延伸時の破断などによる歩留まりを指標
にし、以下の表１に示すランクに分けて評価し、ランク
２以下を生産性不良と判定した。

【００５９】

【表１】

【００６０】（４）支持フイルム表面の中心線平均粗さ
（ｓＲａ）：非接触粗度計を使用して支持フイルムの塗
布層表面の中心線平均粗さ（ｓＲａ）を測定した。測定
には３次元粗度計（ＺＹＧＯ社製「ＭＡＸＩＭIIＤ５８
００」）を使用した。

【００６１】（５）出力測定：ドラムテスター（回転数
９０００ｒｐｍ、シリンダー径２１．７ｍｍ）を使用
し、２０．９６ＭＨｚの信号を記録再生して測定した。
比較例１を０ｄＢとして相対的に評価した。

【００６２】（６）ドロップアウト（Ｄ／Ｏ）：Ｈｉ８
デッキ（ソニー（株）製「ＥＶ−Ｓ９００」）からドロ
ップアウトカウンターにＲＦ出力を入力して１分間のド
ロップアウト数を測定した。但し、カウント条件は、幅
（時間）５μｓｅｃ、深さ（出力低下）−１６ｄＢ以下
とした。

【００６３】（７）スチル：上記のＨｉ８デッキにテー
プをローディングし、再生時に一時停止にした状態を継
続し、ＲＦ出力が初期値から１６ｄＢに低下する迄の時
間を測定した。

【００６４】（８）耐久性：Ｈｉ８デッキ（ソニー
（株）製「ＥＶ−Ｓ５５」）を使用し、４０℃８０％Ｒ
Ｈの環境下でサンプルを全長記録後、全長再生を４９回
行った。そして、その際の出力をチャートに記録させ、
目詰まり、出力変動、エッジダメージ状況を調べ、以下
の表２に示す評価基準で耐久性を判定した。

【００６５】

【表２】

【００６６】実施例１＜ポリエステルの製造＞２，６−ナフタレンジカルボン
酸ジメチルエステル１００部、エチレングリコール５５
部および酢酸マグネシウム０．０９部を反応器に採り、
反応開始温度を１８０℃とし、メタノールを留去しつつ
徐々に反応温度を上昇させエステル交換反応を行った。

【００６７】反応開始後、約４時間を要して２３０℃ま
で昇温し、実質的にエステル交換反応を終了した。ここ
で、平均粒径０．１２μｍのシリカ粒子０．１部をエチ
レングリコールスラリーとして添加し、その後、エチル
アシッドホスフェート０．４部、三酸化アンチモン０．
０４部を添加し、常法により重合反応を行い、極限粘度
０．５１のポリエチレン−２，６−ナフタレートを得
た。得られたポリマーを０．３ｍｍＨｇ、２３５℃で８
時間固相重合し、極限粘度０．６５のポリエチレン−
２，６−ナフタレートを得た。

【００６８】＜ポリエステルフイルムの製造＞上記のポ
リエチレン−２，６−ナフタレートを１８０℃４時間乾
燥した後、２９５℃の押出温度で溶融し、＃３０００メ
ッシュ相当のフィルターで濾過し、口金よりシート状に
押出し、静電密着法を適用して６０℃のキャスティング
ロール上で冷却固化し、無定形シートを得た。そして、
この無定形シートを１３６℃で長さ方向に４．０倍延伸
して一軸延伸フイルムを得た。この延伸にはロール延伸
法を使用した。

【００６９】次いで、上記のフイルムの片面にポリエス
テルの水分散体を６０部（固形分重量、以下同様）及び
平均粒径０．０５μｍのスチレン−ジビニルベンゼン系
有機粒子４０部とから成る水媒体塗布液をバーコート法
にて塗工した。この塗布液中の上記ポリエステルの成分
組成は、テレフタル酸５６モル％、イソフタル酸４０モ
ル％、５−ソジウムスルホイソフタル酸４モル％、エチ
レングリコール７０モル％、ジエチレングリコール１３
モル％、１，４−ブタンジオール１７モル％である。

【００７０】次いで、上記のフイルムをテンターに導
き、１４０℃で５．４倍幅方向に延伸した後、２１０℃
で５秒間熱固定し、塗布層の厚さが０．２μｍ、基材フ
イルムの厚さが５．５μｍの支持フイルムを得た。得ら
れた支持フイルムのヤング率は、横方向が９００Ｋｇ／
ｍｍ²、縦方向が６００Ｋｇ／ｍｍ²であった。

【００７１】＜磁気記録テープの製造＞以下の表３に記
載の組成物の一部または全てをニーダにて十分に混練処
理し、サンドグラインダーミルにて分散混合した後に希
釈し、更に、硬化剤（日本ポリウレタン工業（株）製、
コロネートＬ）３．３部を添加混合して磁性塗料を調製
した。

【００７２】

【表３】

【００７３】上記の支持フイルムのポリエステル塗布層
表面に上記の磁性塗料を乾燥後の厚さが表７に示した値
になる様に塗布し、磁場配向、乾燥処理、カレンダー処
理を順次に行った。このカレンダー処理には、ポリエス
テル製対向ロールとハードクロム処理された金属ロール
とを使用した。金属ロールの温度を１００℃、線圧を３
００ｋｇ／ｃｍとし、磁性層面が金属ロールに接する様
にしてポリエステル塗布層の塑性変形および平坦化と磁
性層の鏡面化を同時に行なって磁気記録テープを得た。

【００７４】次いで、上記の磁気記録テープの反磁性面
側に、予めボールミルで４８時間分散・混合して調製し
た以下の表４及び表５に示す組成のバックコート材料を
乾燥後の厚さで０．５μｍとなる様に塗布して乾燥し、
バックコート層を形成した。

【００７５】

【表４】

【００７６】

【表５】

【００７７】次いで、上記のバックコート層を形成した
磁気記録テープを８ｍｍ幅にスリットし、８ｍｍ用カセ
ットに組み込み、ＶＴＲ用テープを作成した。得られた
ＶＴＲテープの特性を表７に示す。本実施例で得られた
磁気記録テープは、磁性層の厚さが１μｍ以下であって
も、塗布層がカレンダー処理で塑性変形して平坦化され
ているため磁性層表面も平坦であり、その結果、ＲＦ出
力において優れている。

【００７８】実施例２及び３実施例１において、磁性層の乾燥後の厚さを表７に示す
様に変更した以外は、実施例１と同様にしてＶＴＲテー
プを作成した。得られたＶＴＲテープの特性を表７に示
す。

【００７９】実施例４〜６実施例１において、支持フイルムの塗布層の厚さを表６
に示す様に変更した以外は、実施例１と同様にしてＶＴ
Ｒテープを作成した。得られたＶＴＲテープの特性を表
７に示す。

【００８０】実施例７〜１２実施例１において、支持フイルムの塗布層における有機
粒子の配合量を表６に示す様に変更した以外は、実施例
１と同様にしてＶＴＲテープを作成した。得られたＶＴ
Ｒテープの特性を表７に示す。

【００８１】実施例１３〜１５実施例１と同様のポリエステル及び塗布液を使用し製膜
条件を次の様に変更した以外は、実施例１と同様にして
ＶＴＲテープを作成した。すなわち、１３６℃で縦方向
に４．１倍延伸し、次いで、バーコート法にて塗布液を
塗工し、得られたフイルムをテンタ−に導き、１４０℃
で４．１倍幅方向に延伸した後１４０℃で熱処理を行っ
た。その後、再度横方向に１７０〜２１０℃の温度領域
で所定倍率延伸を行いそのまま２１０℃で５秒間熱固定
を行い、総厚さ５．５μｍの二軸配向した支持フイルム
を得た。上記の再横延伸の倍率は、実施例１３では１．
５倍、実施例１４では１．７倍、実施例１５では２．０
倍とした。得られたＶＴＲテープの特性を表７に示す。
本実施例で得られた磁気記録テープは、支持フイルムの
横方向のヤング率が１０００ｋｇ／ｍｍ²（実施例１
３）、１２００ｋｇ／ｍｍ²（実施例１４）、１５００
ｋｇ／ｍｍ²（実施例１５）と高いため、耐久走行後の
電磁特性およびテープエッジの耐変形性に優れている。

【００８２】実施例１６及び１７実施例１において、支持フイルムの塗布層に配合する粒
子の種類を表６に示す様に変更した以外は、実施例１と
同様にしてＶＴＲテープを作成した。得られたＶＴＲテ
ープの特性を表７に示す。

【００８３】実施例１８ジメチルテレフタレート１００部、エチレングリコール
６５部および酢酸マグネシウム０．０９部を反応器に採
り、加熱昇温すると共にメタノールを留去しつつエステ
ル交換を行なった。反応開始後、約４時間を要して２３
０℃まで昇温し、実質的にエステル交換反応を終了し
た。ここで、平均粒径０．１２μｍのシリカ粒子０．１
部をエチレングリコールスラリーとして添加し、その
後、エチルアシッドホスフェート０．４部、三酸化アン
チモン０．０４部を添加し、反応系の圧力を徐々に常圧
より減ずると同時に加熱昇温し、最終的に１ｍｍＨｇ、
２８５℃とした。４時間後、系内を常圧に戻し、極限粘
度０．６６のポリエチレンテレフタレートを得た。

【００８４】得られたポリエチレンテレフタレートを１
８０℃４時間乾燥した後、２９０℃の押出温度で溶融押
出を行なった。この際、＃３０００メッシュ相当のフィ
ルターで濾過を行い、口金よりシート状に溶融押出を行
い、静電密着法を適用して４０℃のキャスティングロー
ル上で冷却固化して未延伸シートを得た。次いで、この
未延伸シートを多段ロール延伸法にて延伸した。すなわ
ち、縦方向に第１段目として１２８℃で１．８倍、連続
して縦方向に第２段目として１１４℃で２．４倍に延伸
した。なお、多段ロール延伸法にはテフロン製の非粘着
ロールを使用した。

【００８５】次いで、バーコート法にて実施例１と同様
の組成の塗布液を塗工し、得られた塗工フイルムをテン
ターに導き、横方向に１０５℃で２．８倍延伸した。得
られた延伸フイルムを同時二軸延伸テンターに導き、縦
横方向に１６０℃で２．０倍延伸し、２１０℃で５秒間
熱固定を行ない、総厚さ５．５μｍの支持フイルムを得
た。この支持フイルムのヤング率は、横方向が８５０Ｋ
ｇ／ｍｍ²、縦方向が５７０Ｋｇ／ｍｍ²であった。そ
の後、実施例１と同様にして８ｍｍ用ＶＴＲテープを作
成した。得られたＶＴＲテープの特性を表７に示す。

【００８６】実施例１９実施例１３において、支持フイルムの塗布層の厚さを表
６に示す様に変更した以外は、実施例１３と同様にして
ＶＴＲテープを作成した。得られたＶＴＲテープの特性
を表７に示す。

【００８７】比較例１実施例１において、支持フイルムの塗布層の厚さを表８
に示す様に変更した以外は、実施例１と同様にしてＶＴ
Ｒテープを作成した。このテープの特性を表９に示す
が、塗布層の厚さが本発明で規定する下限を下回ってお
り、磁性層表面のカレンダー処理の際に塑性変形が不十
分なため、ＶＴＲテープの特性が劣っている。

【００８８】比較例２実施例１において、支持フイルムの塗布層の厚さを表８
に示す様に変更した以外は、実施例１と同様にしてＶＴ
Ｒテープを作成した。このテープの特性を表９に示す
が、塗布層の厚さｔが本発明で規定する上限を上回って
おり、乾燥に長時間を要して製膜速度を低下しなければ
ならないため、生産性が劣っている。

【００８９】比較例３及び４実施例１３において、支持フイルムの塗布層の厚さを表
８に示す様に変更した以外は、実施例１３と同様にして
ＶＴＲテープを作成した。このテープの特性を表９に示
すが、支持フイルムにおける横方向のヤング率と塗布層
の厚さの関係が本発明で規定する要件を満足していない
ため、製膜時の延伸歩留りが低下して生産性が劣ってい
る。

【００９０】比較例５及び６実施例１において、磁性層の厚さを表９に示す様に変更
した以外は、実施例１と同様にしてＶＴＲテープを作成
した。このテープの特性を表９に示すが、磁性層の厚さ
が本発明で規定する上限を上回っているため、閉塞ルー
プによる磁束の損失が大きくなり、ＲＦ出力の点でＶＴ
Ｒテープの特性が劣っている。

【００９１】比較例７及び８実施例１において、支持フイルムの塗布層における有機
粒子の配合量を表８に示す様に変更し、更に、支持フイ
ルムの製膜条件を次の様に変更した。８３℃で縦方向に
２．９倍延伸し、連続して縦方向に７６℃で１．３倍延
伸した。次いで実施例１の塗布液をバーコート法にて塗
工し、このフイルムをテンターに導き１００℃で４．０
又は５．０倍横方向に延伸し、引き続き２１０℃で５秒
間熱固定を行ない、総厚さ５．５μｍの二軸配向ポリエ
ステルフイルムを得た。このフイルムに、実施例１と全
く同様の組成の磁性層を表９に示す厚さで同様の方法で
設け、また全く同様の組成のバックコート層を全く同様
の方法で設けて、スリットを行ない、８ｍｍ用ＶＴＲテ
ープを作成した。

【００９２】上記の各テープの特性を表９に示すが、塗
布層がカレンダー処理で塑性変形・平坦化して磁性層表
面が平坦となるものの、磁気記録テープの横方向のヤン
グ率が低いため走行中にテープ端が変形し、この結果、
磁気ヘッドとの接触が不良となり、ＲＦ出力、ドロップ
アウト及び耐久性が劣っている。

【００９３】以下の表において、非磁性粒子の種類を表
す符号の意味は次の通りである。すなわち、「Ａ」はス
チレン−ジビニルベンゼン系架橋高分子粒子（ｄ₅₀：
０．０５μｍ）、「Ｂ」はシリカゾル（ｄ₅₀：０．０６
μｍ）、「Ｃ」はメチルメタクリレート−ジビニルベン
ゼン系架橋高分子粒子（ｄ₅₀：０．０５μｍ）を表す。

【００９４】

【表６】

【００９５】

【表７】

【００９６】

【表８】

【００９７】

【表９】

【００９８】

【発明の効果】以上説明した本発明の磁気記録テープ
は、支持フイルムの横方向の強度が高いため走行時のエ
ッジの耐変形性に優れ、磁気ヘッドとの接触が良好であ
って電磁出力特性にも優れる。従って、本発明の磁気記
録テープは、ＶＨＳ方式のＶＴＲテープとしては勿論、
Ｓ−ＶＨＳ、Ｗ−ＶＨＳ、８ｍｍ、ハイバンド８ｍｍ、
ＨＤＴＶ用デジタルＶＴＲ、民生用デジタルＶＴＲ、業
務用デジタルＶＴＲ、コンピューターテープ等の磁気記
録媒体として有用である。

【００９９】更に、本発明の磁気記録テープは、その製
造過程のカレンダー処理により、塗布層および磁性層が
同時に平坦化される特徴を有しているため、磁性層を薄
膜化した際でも十分に短波長記録を行うことが出来る。
また、カレンダー処理で塑性変形し得る塗布層は、イン
ラインコーティング法によってフイルム上に塗工される
ため、フイルムとの密着性もよく、多層塗り磁性層の様
に制御の難しさを伴わない。従って、本発明のよれば、
従来通りの工程で効率良く高密度記録媒体を生産するこ
とが出来る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者吉村洋一東京都中央区日本橋一丁目13番１号ティーディーケイ株式会社内 (72)発明者渡瀬茂治東京都中央区日本橋一丁目13番１号ティーディーケイ株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】フイルム製膜工程内で設けられた塗布層
を有する二軸配向ポリエステルフイルムの当該塗布層表
面に、樹脂バインダー中に磁性体が分散された磁性層を
設けて成り、前記二軸ポリエステルフイルムの横方向の
ヤング率ＹT（ｋｇ／ｍｍ²）、塗布層の厚さｔ( μｍ)
及び磁性層の厚さｔM(μｍ) の関係が下記式（１）〜
（３）を満足することを特徴とする高密度磁気記録媒
体。【数１】８００ ≦ＹT ・・・（１）０．０５≦ｔ≦−０．９５×１０^-3ＹT ＋１．７６・・・（２）０．０５≦ｔM ≦１．０・・・（３）