JPH1043865A - プラズマトーチ - Google Patents
プラズマトーチInfo
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- JPH1043865A JPH1043865A JP8201925A JP20192596A JPH1043865A JP H1043865 A JPH1043865 A JP H1043865A JP 8201925 A JP8201925 A JP 8201925A JP 20192596 A JP20192596 A JP 20192596A JP H1043865 A JPH1043865 A JP H1043865A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 リング状の形状をしたシールドガス噴出口よ
りシールドガスを噴出した場合には、開口面積が大きい
ためにシールドガスの流速が遅く、また指向性が悪いた
めに切断部位まで届きにくい。またプラズマガスのノズ
ルと同心上のオリフィスから噴出される場合には、シー
ルドガスがプラズマアークに干渉して切断面に影響を与
えてしまう。 【解決手段】 上記課題を解決するために本発明に係る
プラズマトーチは、プラズマガスを噴出させるプラズマ
ガスノズルと同心円上の３ヶ所以上にシールドガスノズ
ルを配置し、前記プラズマガスノズルよりもプラズマト
ーチ後方に向かって−10mm乃至50mmの位置、前記同心円
は半径８mm〜50mm、シールドガスの噴出方向は求心角30
°〜０°までの範囲に形成したことを特徴とする。
りシールドガスを噴出した場合には、開口面積が大きい
ためにシールドガスの流速が遅く、また指向性が悪いた
めに切断部位まで届きにくい。またプラズマガスのノズ
ルと同心上のオリフィスから噴出される場合には、シー
ルドガスがプラズマアークに干渉して切断面に影響を与
えてしまう。 【解決手段】 上記課題を解決するために本発明に係る
プラズマトーチは、プラズマガスを噴出させるプラズマ
ガスノズルと同心円上の３ヶ所以上にシールドガスノズ
ルを配置し、前記プラズマガスノズルよりもプラズマト
ーチ後方に向かって−10mm乃至50mmの位置、前記同心円
は半径８mm〜50mm、シールドガスの噴出方向は求心角30
°〜０°までの範囲に形成したことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はプラズマアークの周
囲にシールドガスを流して切断するプラズマトーチに関
するものである。
囲にシールドガスを流して切断するプラズマトーチに関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】プラズマ切断装置はプラズマの高熱を利
用して切断を行うものであり、プラズマトーチにプラズ
マ化させるガス（以下プラズマガスと呼ぶ）を供給する
と共に、プラズマトーチ先端のノズル内部に取り付けら
れた電極からプラズマガスに高電圧をかけてプラズマア
ークを発生させる。プラズマアークはノズルによって絞
られて、高温高速のプラズマジェットとしてノズル先端
より噴出してワークの切断を行う。
用して切断を行うものであり、プラズマトーチにプラズ
マ化させるガス（以下プラズマガスと呼ぶ）を供給する
と共に、プラズマトーチ先端のノズル内部に取り付けら
れた電極からプラズマガスに高電圧をかけてプラズマア
ークを発生させる。プラズマアークはノズルによって絞
られて、高温高速のプラズマジェットとしてノズル先端
より噴出してワークの切断を行う。
【０００３】また、金属の切断に於いては酸素を供給し
て燃焼させることにより高能率な切断が可能であること
から、シールドガスをプラズマジェットの周囲に沿わせ
る形で噴出することが多く行われている。
て燃焼させることにより高能率な切断が可能であること
から、シールドガスをプラズマジェットの周囲に沿わせ
る形で噴出することが多く行われている。
【０００４】図３及び図４を用いて従来のプラズマトー
チの例を説明する。図３に示すプラズマトーチ30はトー
チ30の軸心上にプラズマガスノズル31を配置し、その周
囲に図3(a)に示すようにシールドガス通路32を形成して
いる。このシールドガス通路32は前記軸心に対して軸対
称に、且つ全周に渡って形成されている。従ってこのシ
ールドガス通路32の開口部であるシールドガス噴出口32
ａは、図3(b)に示すように前記プラズマガスノズル31と
同心円を為すリング形状を成している。
チの例を説明する。図３に示すプラズマトーチ30はトー
チ30の軸心上にプラズマガスノズル31を配置し、その周
囲に図3(a)に示すようにシールドガス通路32を形成して
いる。このシールドガス通路32は前記軸心に対して軸対
称に、且つ全周に渡って形成されている。従ってこのシ
ールドガス通路32の開口部であるシールドガス噴出口32
ａは、図3(b)に示すように前記プラズマガスノズル31と
同心円を為すリング形状を成している。
【０００５】また図４に示すプラズマトーチ33は、前記
トーチ30と同様にトーチ33の軸心上にプラズマガスノズ
ル34を配置し、前記軸心に対して軸対称且つ全周に渡っ
てシールドガス通路35を形成している。このシールドガ
ス通路35は図4(a)に示すようにトーチ33先端に回り込
み、トーチ33先端に開口部であるオリフィス35ａを有し
ている。オリフィス35ａは図4(b)に示すようにプラズマ
ガスノズル34と同心上にあり、プラズマガス及びシール
ドガスの双方がこのオリフィス35ａより噴出される。
トーチ30と同様にトーチ33の軸心上にプラズマガスノズ
ル34を配置し、前記軸心に対して軸対称且つ全周に渡っ
てシールドガス通路35を形成している。このシールドガ
ス通路35は図4(a)に示すようにトーチ33先端に回り込
み、トーチ33先端に開口部であるオリフィス35ａを有し
ている。オリフィス35ａは図4(b)に示すようにプラズマ
ガスノズル34と同心上にあり、プラズマガス及びシール
ドガスの双方がこのオリフィス35ａより噴出される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記プラズマ
トーチ30の如くリング状の形状をしたシールドガス噴出
口よりシールドガスを噴出した場合には、開口面積が大
きいためにシールドガスの流速が遅く、また指向性が悪
いために切断部位まで届きにくい。したがって充分なシ
ールド効果を得るためには、膨大な流量のシールドガス
を必要としていた。
トーチ30の如くリング状の形状をしたシールドガス噴出
口よりシールドガスを噴出した場合には、開口面積が大
きいためにシールドガスの流速が遅く、また指向性が悪
いために切断部位まで届きにくい。したがって充分なシ
ールド効果を得るためには、膨大な流量のシールドガス
を必要としていた。
【０００７】またシールドガスがプラズマガスのノズル
と同心上のオリフィスから噴出される場合には、シール
ドガスがプラズマガスに直接的に接触することとなる。
従ってシールドガスがプラズマアークに干渉して切断面
に影響を与えやすく、また一部が混入されてシールドガ
スの一部もプラズマ化するために、使用できるガスに制
約が生じてしまう。
と同心上のオリフィスから噴出される場合には、シール
ドガスがプラズマガスに直接的に接触することとなる。
従ってシールドガスがプラズマアークに干渉して切断面
に影響を与えやすく、また一部が混入されてシールドガ
スの一部もプラズマ化するために、使用できるガスに制
約が生じてしまう。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明に係るプラズマトーチは、プラズマガス及びシ
ールドガスを噴出して切断を行うプラズマトーチであっ
て、前記プラズマガスを噴出させるプラズマガスノズル
と、該ノズルと同心円上の３ヶ所以上に設けられ前記シ
ールドガスを噴出するシールドガスノズルとを有し、且
つ前記シールドガスノズルは前記プラズマガスノズルよ
りもプラズマトーチ後方に向かって−10mm乃至50mmの範
囲に配置されていることを特徴とする。
に本発明に係るプラズマトーチは、プラズマガス及びシ
ールドガスを噴出して切断を行うプラズマトーチであっ
て、前記プラズマガスを噴出させるプラズマガスノズル
と、該ノズルと同心円上の３ヶ所以上に設けられ前記シ
ールドガスを噴出するシールドガスノズルとを有し、且
つ前記シールドガスノズルは前記プラズマガスノズルよ
りもプラズマトーチ後方に向かって−10mm乃至50mmの範
囲に配置されていることを特徴とする。
【０００９】また、前記シールドガス噴出孔を、前記ノ
ズルを中心とする半径８mm〜50mmの円周上に配置するこ
とが望ましい。
ズルを中心とする半径８mm〜50mmの円周上に配置するこ
とが望ましい。
【００１０】また前記シールドガス噴出孔の噴出角度
は、プラズマトーチの中心軸に対し、求心角30°〜０°
までの範囲であることが望ましい。
は、プラズマトーチの中心軸に対し、求心角30°〜０°
までの範囲であることが望ましい。
【００１１】上記の如く構成したことにより、プラズマ
ガスに影響を与えることなくシールドガスの噴出孔の面
積を小さくすることができ、シールドガスの流速を速く
できると共に指向性を向上させることができる。
ガスに影響を与えることなくシールドガスの噴出孔の面
積を小さくすることができ、シールドガスの流速を速く
できると共に指向性を向上させることができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明に係るプラズマトーチの実
施例を、図を用いて説明する。図１に示すのは第一実施
例に係るプラズマトーチであって(a) は先端部の断面
図、(b) は先端部正面図である。
施例を、図を用いて説明する。図１に示すのは第一実施
例に係るプラズマトーチであって(a) は先端部の断面
図、(b) は先端部正面図である。
【００１３】図１に示すプラズマトーチ１の先端部は、
図1(a)に示すように先端部にノズル部材２を有してお
り、さらにノズル部材２の外側にキャップ３を被せて構
成されている。ノズル部材２は先端部近傍の外周面を先
端に向かって径の小さくなる円錐台状に形成されてい
る。またノズル部材２の内側であってプラズマトーチ１
の軸心と一致する如く電極４が取り付けられており、図
示しない電源より電力を供給される。
図1(a)に示すように先端部にノズル部材２を有してお
り、さらにノズル部材２の外側にキャップ３を被せて構
成されている。ノズル部材２は先端部近傍の外周面を先
端に向かって径の小さくなる円錐台状に形成されてい
る。またノズル部材２の内側であってプラズマトーチ１
の軸心と一致する如く電極４が取り付けられており、図
示しない電源より電力を供給される。
【００１４】電極４とノズル部材２の間には間隙が形成
されてプラズマガス通路５が形成されている。このプラ
ズマガス通路５と連続し、且つプラズマトーチ１の軸心
と一致して、ノズル部材２にプラズマガスノズル５ａが
形成されている。プラズマガスノズル５ａはプラズマト
ーチ１の先端に開口し、即ち図示しないプラズマガス供
給手段より供給されたプラズマガスは、プラズマガス通
路５を通過してプラズマガスノズル５ａより噴出され
る。
されてプラズマガス通路５が形成されている。このプラ
ズマガス通路５と連続し、且つプラズマトーチ１の軸心
と一致して、ノズル部材２にプラズマガスノズル５ａが
形成されている。プラズマガスノズル５ａはプラズマト
ーチ１の先端に開口し、即ち図示しないプラズマガス供
給手段より供給されたプラズマガスは、プラズマガス通
路５を通過してプラズマガスノズル５ａより噴出され
る。
【００１５】キャップ３の内周面の径はノズル部材２の
外周面の径よりも大きく且つ略平行に形成されており、
また先端部においてのみ径を小さく形成している。従っ
てノズル部材２にキャップ３を嵌着した際にはこの先端
部のみがノズル部材２の外周面に当接し、他のノズル部
材２とキャップ３の間にはシールドガス通路６が形成さ
れる。
外周面の径よりも大きく且つ略平行に形成されており、
また先端部においてのみ径を小さく形成している。従っ
てノズル部材２にキャップ３を嵌着した際にはこの先端
部のみがノズル部材２の外周面に当接し、他のノズル部
材２とキャップ３の間にはシールドガス通路６が形成さ
れる。
【００１６】またキャップ３の先端部に形成された内径
の小さい部分に、３つのシールドガスノズル６ａが設け
られている。シールドガスノズル６ａはプラズマトーチ
１の軸心を中心とする円周上に形成され、ノズル部材２
の外周面と略平行に形成されている。これらのことか
ら、図示しないシールドガス供給手段により供給された
シールドガスは、シールドガス通路６を通過してシール
ドガスノズル６ａより噴出される。
の小さい部分に、３つのシールドガスノズル６ａが設け
られている。シールドガスノズル６ａはプラズマトーチ
１の軸心を中心とする円周上に形成され、ノズル部材２
の外周面と略平行に形成されている。これらのことか
ら、図示しないシールドガス供給手段により供給された
シールドガスは、シールドガス通路６を通過してシール
ドガスノズル６ａより噴出される。
【００１７】キャップ３をノズル部材２に嵌着した際に
は、キャップ３の先端はノズル部材２の先端よりもプラ
ズマトーチ１の後方に向かって後退する。これに従って
プラズマガスノズル５ａとシールドガスノズル６ａはプ
ラズマトーチ１の軸心方向に於いて異なる位置に配置さ
れることとなる。
は、キャップ３の先端はノズル部材２の先端よりもプラ
ズマトーチ１の後方に向かって後退する。これに従って
プラズマガスノズル５ａとシールドガスノズル６ａはプ
ラズマトーチ１の軸心方向に於いて異なる位置に配置さ
れることとなる。
【００１８】ここで図１に示すように、プラズマガスノ
ズル５ａの端部Ｌ０を０、プラズマトーチ１の元方向Ｌ
１を正、先方向Ｌ２を負とする座標軸を設定する。そし
てプラズマガスノズル５ａの端部とシールドガスノズル
６ａの端部の位置の差を後退距離Ｌとすると、この後退
距離Ｌは50mm以下となるよう設定されている。
ズル５ａの端部Ｌ０を０、プラズマトーチ１の元方向Ｌ
１を正、先方向Ｌ２を負とする座標軸を設定する。そし
てプラズマガスノズル５ａの端部とシールドガスノズル
６ａの端部の位置の差を後退距離Ｌとすると、この後退
距離Ｌは50mm以下となるよう設定されている。
【００１９】また、シールドガスノズル６ａが配置され
る円周の半径をシールド半径Ｒと称することとすると、
このシールド半径Ｒは８mm〜50mmの範囲に設定される。
る円周の半径をシールド半径Ｒと称することとすると、
このシールド半径Ｒは８mm〜50mmの範囲に設定される。
【００２０】また、このプラズマトーチ１の軸心とシー
ルドガスノズル６ａの中心軸の為す角度である求心角α
は、30°以下になるよう設定されている。仮に求心角を
30°以上に設定するとシールドガスの気流がプラズマガ
スの気流に影響を及ぼし、切断面に乱れが生じてしまう
ことが実験的に分かっている。
ルドガスノズル６ａの中心軸の為す角度である求心角α
は、30°以下になるよう設定されている。仮に求心角を
30°以上に設定するとシールドガスの気流がプラズマガ
スの気流に影響を及ぼし、切断面に乱れが生じてしまう
ことが実験的に分かっている。
【００２１】本実施例に係るプラズマトーチを用いて切
断を行う際には、プラズマガス通路にプラズマガスを供
給すると共に、電極４に高電圧をかけてこれをプラズマ
化させるとプラズマアークが発生し、プラズマガスノズ
ル５ａより高温高速のプラズマジェットとして噴出され
る。同時にシールドガスをシールドガス通路６を介して
シールドガスノズル６ａより噴出すると、プラズマガス
に添う形でシールドガスが切断部位に供給される。
断を行う際には、プラズマガス通路にプラズマガスを供
給すると共に、電極４に高電圧をかけてこれをプラズマ
化させるとプラズマアークが発生し、プラズマガスノズ
ル５ａより高温高速のプラズマジェットとして噴出され
る。同時にシールドガスをシールドガス通路６を介して
シールドガスノズル６ａより噴出すると、プラズマガス
に添う形でシールドガスが切断部位に供給される。
【００２２】上記説明した如く、シールドガスノズル６
ａを孔にて形成したことにより、開口面積が小さくな
り、少ない流量でも高速な流速を得ることができる。同
時にシールドガスの到達距離を延長させることができ、
切断部位においてシールドガスの効果を効率的に得るこ
とができる。すなわちシールドガスを添えることにより
プラズマジェットのガスの純度低下を防ぎ、また金属の
切断においてはシールドガスに酸素を使用することによ
り高能率な切断が可能となる。
ａを孔にて形成したことにより、開口面積が小さくな
り、少ない流量でも高速な流速を得ることができる。同
時にシールドガスの到達距離を延長させることができ、
切断部位においてシールドガスの効果を効率的に得るこ
とができる。すなわちシールドガスを添えることにより
プラズマジェットのガスの純度低下を防ぎ、また金属の
切断においてはシールドガスに酸素を使用することによ
り高能率な切断が可能となる。
【００２３】また強い指向性を得ることができるために
プラズマガスに巻き込まれることがなく、従ってプラズ
マガスに混入して共にプラズマ化する虞が無い。このこ
とから使用するガスに制約がなくなって、例えば酸素プ
ラズマで塗装鋼板を切断する場合において、酸素だけで
は表面の塗装が燃焼してしまうが、シールドガスに窒素
などの不燃性ガスを使用すれば、塗装の燃焼を抑えるこ
とができる。
プラズマガスに巻き込まれることがなく、従ってプラズ
マガスに混入して共にプラズマ化する虞が無い。このこ
とから使用するガスに制約がなくなって、例えば酸素プ
ラズマで塗装鋼板を切断する場合において、酸素だけで
は表面の塗装が燃焼してしまうが、シールドガスに窒素
などの不燃性ガスを使用すれば、塗装の燃焼を抑えるこ
とができる。
【００２４】次に、図２を用いて本発明に係る第二実施
例を説明する。図２は第二実施例に係るプラズマトーチ
であって（ａ）は先端部の断面図、（ｂ）は先端部正面
図である。上記第一実施例と説明の重複する部分につい
ては同一の符号を付して説明を省略する。
例を説明する。図２は第二実施例に係るプラズマトーチ
であって（ａ）は先端部の断面図、（ｂ）は先端部正面
図である。上記第一実施例と説明の重複する部分につい
ては同一の符号を付して説明を省略する。
【００２５】図２に示すプラズマトーチ７の先端部は、
図2(a)に示すように先端部にノズル部材８を有してお
り、さらにノズル部材８の外側にキャップ９を被せて構
成されている。
図2(a)に示すように先端部にノズル部材８を有してお
り、さらにノズル部材８の外側にキャップ９を被せて構
成されている。
【００２６】ノズル部材８は先端部近傍の外周面を略円
筒形に形成され、外周面がプラズマトーチ１の軸心と略
平行となっている。またノズル部材８端面に於いて、周
縁部にプラズマガスノズル５ａよりも突出する如く段部
８ａが形成されている。
筒形に形成され、外周面がプラズマトーチ１の軸心と略
平行となっている。またノズル部材８端面に於いて、周
縁部にプラズマガスノズル５ａよりも突出する如く段部
８ａが形成されている。
【００２７】キャップ９の内周面の径はノズル部材８の
外形の径よりも大きく且つ平行に形成されており、先端
部においてのみ径を小さく形成してノズル部材８の外周
面と一致するよう構成されている。またキャップ３の先
端部に形成された内径の小さい部分に、４つのシールド
ガスノズル10ａを形成している。
外形の径よりも大きく且つ平行に形成されており、先端
部においてのみ径を小さく形成してノズル部材８の外周
面と一致するよう構成されている。またキャップ３の先
端部に形成された内径の小さい部分に、４つのシールド
ガスノズル10ａを形成している。
【００２８】従ってノズル部材８にキャップ９を嵌着し
た場合には、図に示すようにシールドガス通路10が形成
され、これに供給されたシールドガスはシールドガスノ
ズル10ａより噴出することができる。
た場合には、図に示すようにシールドガス通路10が形成
され、これに供給されたシールドガスはシールドガスノ
ズル10ａより噴出することができる。
【００２９】ここでキャップ９の先端はノズル部材８の
段部８ａ先端と一致するよう嵌着されており、従ってシ
ールドガスノズル10ａはプラズマガスノズル５ａよりも
プラズマトーチ１の先端方向に突出した位置に配置され
ることとなる。このプラズマガスノズル５ａとシールド
ガスノズル10ａの位置の差である後退距離Ｌは、−10mm
以下となるよう設定する。またシールドガスノズル10ａ
が配置される円周の半径であるシールド半径Ｒは、８mm
〜50mmの範囲に設定される。
段部８ａ先端と一致するよう嵌着されており、従ってシ
ールドガスノズル10ａはプラズマガスノズル５ａよりも
プラズマトーチ１の先端方向に突出した位置に配置され
ることとなる。このプラズマガスノズル５ａとシールド
ガスノズル10ａの位置の差である後退距離Ｌは、−10mm
以下となるよう設定する。またシールドガスノズル10ａ
が配置される円周の半径であるシールド半径Ｒは、８mm
〜50mmの範囲に設定される。
【００３０】シールドガスノズル10ａはプラズマトーチ
１の軸心を中心とする円周上に形成され、ノズル部材２
の外周面と略平行に形成されている。即ちプラズマトー
チ１の軸心とシールドガスノズル６ａの中心軸は略平行
となり、求心角αは０°となる。
１の軸心を中心とする円周上に形成され、ノズル部材２
の外周面と略平行に形成されている。即ちプラズマトー
チ１の軸心とシールドガスノズル６ａの中心軸は略平行
となり、求心角αは０°となる。
【００３１】本実施例に係るプラズマトーチを用いて切
断を行う際には、プラズマガス通路５にプラズマガスを
供給すると共に、電極４に高電圧をかけてプラズマガス
をプラズマ化させるとプラズマアークが発生し、プラズ
マガスノズル５ａより高温高速のプラズマジェットとし
て噴出される。同時にシールドガスをシールドガス通路
10を介してシールドガスノズル10ａより噴出すると、プ
ラズマガスに添う形でシールドガスが切断部位に供給さ
れる。
断を行う際には、プラズマガス通路５にプラズマガスを
供給すると共に、電極４に高電圧をかけてプラズマガス
をプラズマ化させるとプラズマアークが発生し、プラズ
マガスノズル５ａより高温高速のプラズマジェットとし
て噴出される。同時にシールドガスをシールドガス通路
10を介してシールドガスノズル10ａより噴出すると、プ
ラズマガスに添う形でシールドガスが切断部位に供給さ
れる。
【００３２】上記第一実施例及び第二実施例を用いて説
明したように、プラズマトーチの軸心とシールドガスノ
ズルの中心軸の為す角度である求心角αは、０°以上30
°以下であることが好ましい。これは、０°以下であれ
ばシールドガスをプラズマガスから離れる方向に噴出す
ることとなり、シールドガスの効果が薄れてしまうから
であり、また30°以上であればシールドガスがプラズマ
ガスに影響して切断面が乱れると共に、シールドガスが
プラズマガスに混入してプラズマ化してしまう虞がある
からである。
明したように、プラズマトーチの軸心とシールドガスノ
ズルの中心軸の為す角度である求心角αは、０°以上30
°以下であることが好ましい。これは、０°以下であれ
ばシールドガスをプラズマガスから離れる方向に噴出す
ることとなり、シールドガスの効果が薄れてしまうから
であり、また30°以上であればシールドガスがプラズマ
ガスに影響して切断面が乱れると共に、シールドガスが
プラズマガスに混入してプラズマ化してしまう虞がある
からである。
【００３３】またシールドガスの効果を適切に得るため
に、プラズマガスノズルとシールドガスノズルのプラズ
マトーチ軸心方向の位置の差である後退距離Ｌは、−10
mm以上50mm以下が好ましいことを実験的に知ることがで
きた。また同様に、シールドガスノズルが配置される円
周の半径であるシールド半径Ｒは、８mm以上50mm以下で
あることが好ましい。
に、プラズマガスノズルとシールドガスノズルのプラズ
マトーチ軸心方向の位置の差である後退距離Ｌは、−10
mm以上50mm以下が好ましいことを実験的に知ることがで
きた。また同様に、シールドガスノズルが配置される円
周の半径であるシールド半径Ｒは、８mm以上50mm以下で
あることが好ましい。
【００３４】なお、上記実施例に於いてシールドガスノ
ズルは３ヶ所或いは４ヶ所設けて示したが、本発明はこ
れに限定するものではなく、例えば６ヶ所ないし８ヶ
所、あるいは２４ヶ所など、さらに多数のノズル孔を設
けることでもよい。なお、孔を２ヶ所しか設けない場合
には、切断方向によるシールドガスの効果の差異が顕著
となるため適切でない。
ズルは３ヶ所或いは４ヶ所設けて示したが、本発明はこ
れに限定するものではなく、例えば６ヶ所ないし８ヶ
所、あるいは２４ヶ所など、さらに多数のノズル孔を設
けることでもよい。なお、孔を２ヶ所しか設けない場合
には、切断方向によるシールドガスの効果の差異が顕著
となるため適切でない。
【００３５】また、シールドガスノズルは円周上に等間
隔に設ける必要はなく、また円周方向に対して角度を設
定することによりしてシールドガスを旋回させるよう構
成することでもよい。
隔に設ける必要はなく、また円周方向に対して角度を設
定することによりしてシールドガスを旋回させるよう構
成することでもよい。
【００３６】
【発明の効果】上記の如くシールドガスの噴出口を孔を
以て形成したことにより、シールドガスの流速が速くな
ると共に指向性を向上させることができ、少ない流量で
十分なシールド効果を得ることができる。このように少
ない流量で十分なシールド効果が安定して得られるの
で、品質及び作業効率の向上とコスト低減が両立でき
る。
以て形成したことにより、シールドガスの流速が速くな
ると共に指向性を向上させることができ、少ない流量で
十分なシールド効果を得ることができる。このように少
ない流量で十分なシールド効果が安定して得られるの
で、品質及び作業効率の向上とコスト低減が両立でき
る。
【００３７】またプラズマアークに殆ど干渉しないた
め、プラズマガスに混入してプラズマ化する虞が無く、
使用するガスに制約がなくなる。従って例えば、酸素プ
ラズマで塗装鋼板を切断する場合において、酸素だけで
は表面の塗装が燃焼してしまうところを、シールドに窒
素などの不燃性ガスを使用することによって、塗装の燃
焼を抑えることができる。このようにプラズマガスに関
係なくシールドガスが選定できることから、切断用途を
広げることができる。
め、プラズマガスに混入してプラズマ化する虞が無く、
使用するガスに制約がなくなる。従って例えば、酸素プ
ラズマで塗装鋼板を切断する場合において、酸素だけで
は表面の塗装が燃焼してしまうところを、シールドに窒
素などの不燃性ガスを使用することによって、塗装の燃
焼を抑えることができる。このようにプラズマガスに関
係なくシールドガスが選定できることから、切断用途を
広げることができる。
【図１】第一実施例に係るプラズマトーチの先端部であ
る。
る。
【図２】第二実施例に係るプラズマトーチの先端部であ
る。
る。
【図３】第一の従来例に係るプラズマトーチの先端部で
ある。
ある。
【図４】第二の従来例に係るプラズマトーチの先端部で
ある。
ある。
Ｌ …後退距離 Ｒ …シールド半径 １ …プラズマトーチ ２ …ノズル部材 ３ …キャップ ４ …電極 ５ …プラズマガス通路 ５ａ …プラズマガスノズル ６ …シールドガス通路 ６ａ …シールドガスノズル ７ …プラズマトーチ ８ …ノズル部材 ８ａ …段部 ９ …キャップ 10 …シールドガス通路 10ａ …シールドガスノズル
Claims (3)
- 【請求項１】 プラズマガス及びシールドガスを噴出し
て切断を行うプラズマトーチであって、前記プラズマガ
スを噴出させるプラズマガスノズルと、該ノズルと同心
円上の３ヶ所以上に設けられ前記シールドガスを噴出す
るシールドガスノズルとを有し、且つ前記シールドガス
ノズルは前記プラズマガスノズルよりもプラズマトーチ
後方に向かって−10mm乃至50mmの範囲に配置されている
ことを特徴とするプラズマトーチ。 - 【請求項２】 前記シールドガス噴出孔を、前記ノズル
を中心とする半径８mm〜50mmの円周上に配置したことを
特徴とする請求項１に記載のプラズマトーチ。 - 【請求項３】 前記シールドガス噴出孔の噴出角度が、
プラズマトーチの中心軸に対し、求心角30°〜０°まで
の範囲であることを特徴とする請求項１または２に記載
のプラズマトーチ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8201925A JPH1043865A (ja) | 1996-07-31 | 1996-07-31 | プラズマトーチ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8201925A JPH1043865A (ja) | 1996-07-31 | 1996-07-31 | プラズマトーチ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1043865A true JPH1043865A (ja) | 1998-02-17 |
Family
ID=16449076
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8201925A Pending JPH1043865A (ja) | 1996-07-31 | 1996-07-31 | プラズマトーチ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1043865A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004514560A (ja) * | 2000-11-21 | 2004-05-20 | ハイパーサーム インコーポレイテッド | 設定可能なノズルバッフル装置および方法 |
| JP2009172644A (ja) * | 2008-01-25 | 2009-08-06 | Nippon Steel & Sumikin Welding Co Ltd | 亜鉛めっき鋼板のプラズマ溶接方法 |
| WO2013108797A1 (ja) * | 2012-01-18 | 2013-07-25 | 本田技研工業株式会社 | アーク溶接方法及びプラズマトーチ |
| JP2013252540A (ja) * | 2012-06-07 | 2013-12-19 | Daihen Corp | プラズマ溶接トーチおよびプラズマ溶接装置 |
| WO2015122165A1 (ja) * | 2014-02-17 | 2015-08-20 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | シールドカップおよび切断トーチ |
| JPWO2023058215A1 (ja) * | 2021-10-08 | 2023-04-13 |
-
1996
- 1996-07-31 JP JP8201925A patent/JPH1043865A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004514560A (ja) * | 2000-11-21 | 2004-05-20 | ハイパーサーム インコーポレイテッド | 設定可能なノズルバッフル装置および方法 |
| JP2009172644A (ja) * | 2008-01-25 | 2009-08-06 | Nippon Steel & Sumikin Welding Co Ltd | 亜鉛めっき鋼板のプラズマ溶接方法 |
| WO2013108797A1 (ja) * | 2012-01-18 | 2013-07-25 | 本田技研工業株式会社 | アーク溶接方法及びプラズマトーチ |
| JPWO2013108797A1 (ja) * | 2012-01-18 | 2015-05-11 | 本田技研工業株式会社 | アーク溶接方法及びプラズマトーチ |
| JP2013252540A (ja) * | 2012-06-07 | 2013-12-19 | Daihen Corp | プラズマ溶接トーチおよびプラズマ溶接装置 |
| CN103480957A (zh) * | 2012-06-07 | 2014-01-01 | 株式会社大亨 | 等离子焊枪以及等离子焊接装置 |
| WO2015122165A1 (ja) * | 2014-02-17 | 2015-08-20 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | シールドカップおよび切断トーチ |
| JPWO2015122165A1 (ja) * | 2014-02-17 | 2017-03-30 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | シールドカップおよび切断トーチ |
| JPWO2023058215A1 (ja) * | 2021-10-08 | 2023-04-13 | ||
| WO2023058215A1 (ja) * | 2021-10-08 | 2023-04-13 | 株式会社Fuji | ノズル、プラズマ処理装置、およびガス噴出方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050513 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050524 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050927 |