JPH1046022A

JPH1046022A - 光拡散性樹脂組成物

Info

Publication number: JPH1046022A
Application number: JP20196996A
Authority: JP
Inventors: Masaya Okamoto; 正哉岡本; Hiroyuki Kawahigashi; 宏至川東
Original assignee: Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Current assignee: Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Priority date: 1996-07-31
Filing date: 1996-07-31
Publication date: 1998-02-17

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は、光拡散板用に好適な光拡散効果に
優れる成形材料で、具体的には全光線透過率が高く、か
つヘーズ（全光線透過率に対する拡散光線透過率の割
合）の高い光拡散性樹脂組成物の提供を目的とする。【解決手段】ポリオルガノシロキサンのブロックを含む
芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ）又は該樹脂（Ａ）と
ポリオルガノシロキサンのブロックを含まない芳香族ポ
リカーボネート樹脂（Ｂ）との混合物であって、ポリオ
ルガノシロキサンの含有率が０．０１〜５重量％である
芳香族ポリカーボネート系樹脂１００重量部とビーズ状
架橋アクリル樹脂０．０１〜３０重量部とからなる光拡
散性樹脂組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶画面のバックラ
イト拡散板や看板、照明具、表示灯の保護カバーほかに
用いられる光拡散板に好適な成形材料となる光拡散性樹
脂組成物に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】光拡散板は通常、照明具の保護カバー等
成形品で構成され、その背面後方に配置された光源より
発した光を分散された光散乱体により、散乱光を生ぜし
め、板全体が一様に明るく、光源の像を見えなくさせた
ものである。このような機能を有する光拡散板には明る
く、均一で高い光拡散性が求められるが、このような光
拡散板をつくるのに必要な成形材料としては全光線透過
率の高く且つヘーズ（拡散光線透過率／全光線透過率）
が高いものが要求される。

【０００３】従来、透明性、耐衝撃性、耐熱性に優れる
ポリカーボネート樹脂を基材に、ガラス繊維、硫酸バリ
ウム、酸化チタン、タルク等の無機質充填材を分散させ
たものが提案されている。しかし、これら充填材を分散
しても全光線透過率が低下して、暗い光拡散板となり、
性能が不充分なものしか得られない。これに対し、ポリ
カーボネート樹脂にスチレン−シクロヘキシルマレイミ
ド架橋粒子、或いは酸化チタン含有スチレン−シクロヘ
キシルマレイミド架橋粒子を配合した樹脂組成物が提案
されている（特開平４−１６１４４８号公報、特開平４
−１６１４４９号公報）。これら樹脂材料は全光線透過
率が高いが拡散光が充分に得られず、ヘーズが不充分
で、バランスに欠けていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
状況下で光拡散板用に好適な光拡散効果に優れる成形材
料で、具体的には全光線透過率が高く、かつヘーズ（全
光線透過率に対する拡散光線透過率の割合）の高い光拡
散性樹脂組成物を提供することを目的とするものであ
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは前記好まし
い性質を有する光拡散性樹脂組成物を開発すべく鋭意検
討した結果、特定の芳香族系ポリカーボネート系樹脂に
ビーズ状架橋アクリル樹脂を配合することにより、上記
発明の目的を達成することを見出し、本発明を完成した
ものである。すなわち、本発明の要旨は次の通りであ
る。（１）ポリオルガノシロキサンのブロックを含む芳香族
ポリカーボネート樹脂（Ａ）又は該樹脂（Ａ）とポリオ
ルガノシロキサンのブロックを含まない芳香族ポリカー
ボネート樹脂（Ｂ）との混合物であって、ポリオルガノ
シロキサンの含有率が０．０１〜５重量％である芳香族
ポリカーボネート系樹脂１００重量部とビーズ状架橋ア
クリル樹脂０．０１〜３０重量部とからなる光拡散性樹
脂組成物。（２）ポリオルガノシロキサンの繰り返し単位が式
（Ｉ）で表されるものである上記（１）に記載の光拡散性樹脂組成物。

【０００６】

【化２】

【０００７】〔Ｒ^a、Ｒ^bは炭素数１〜６のアルキル基
又はフェニル基であり、同じであっても異なるものであ
ってもよい。〕

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。（１）ポリオルガノシロキサンのブロックを含む芳香族
ポリカーボネート樹脂本発明に用いるポリオルガノシロ
キサンのブロックを含む芳香族ポリカーボネート樹脂と
は典型的なものしては上記繰り返し単位が式（Ｉ）を含
むものであり、より具体的な例としては式 (II) で表さ
れるポリオルガノシロキサンと式（III ）で表される繰
り返し単位からなる芳香族ポリカーボネートとのブロッ
ク共重合体である。

【０００９】

【化３】

【００１０】〔Ｒ¹〜Ｒ⁴は炭素数１〜８のアルキル基
（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル
基、イソブチル基、アミル基、イソアミル基、ヘキシル
基など）又は炭素数６〜２０、好ましくは６〜１８のア
リール基（例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、
ナフチル基など）を示す、それぞれ同じであっても異な
るものであってもよい。Ｙは脂肪族又は芳香族を含む二
価の有機残基で例えばメチレン基、エチレン基、プロピ
レン基、ブチレン基、ペンテリン基、ヘキシレン基、エ
チリデン基、イソプロピリデン基、シクロペンチレン
基、シクロヘキシレン基、シクロペンチリデン基、シク
ロヘキシリデン基などやｏ−アリルフェノール残基、ｐ
−ビニルフェノール残基、オイゲノール残基、ビスフェ
ノールＡ残基などである。ｎは１〜５００の整数であ
る。〕

【００１１】

【化４】

【００１２】〔Ｒ⁵、Ｒ⁶はハロゲン原子（塩素原子、臭
素原子、フッ素原子、沃素原子）炭素数１〜８のアルキ
ル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−
ブチル基、イソブチル基、アミル基、イソアミル基、ヘ
キシル基など）又は炭素数６〜２０、好ましくは６〜１
８のアリール基（例えばフェニル基、トリル基、キシリ
ル基、ナフチル基など）を示し、それぞれ同じであって
も異なってもよい。ｐ、ｑは０〜４の整数である。Ｚは
単結合、炭素数１〜２０、好ましくは２〜１８のアルキ
レン基もしくはアルキリデン基（例えばメチレン基、エ
チレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンテリレン
基、ヘキシレン基、エチリデン基、イソプロピリデン基
など）、炭素数５〜２０のシクロアルキレン基もしくは
シクロアルキリデン基（例えばシクロペンチレン基、シ
クロヘキシレン基、シクロペンチリデン基、シクロヘキ
シリデン基など）、アルキレンエステル基、アルキレン
カルボニル基、−Ｏ−，−Ｓ−，−ＳＯ₂−，又は−Ｃ
Ｏ−結合で表される結合を示す。ｍは１〜１５０の整数
である。〕

【００１３】ブロック共重合体には上記式（II) 、式
（III ）の繰り返し単位をそれぞれII、III と表したと
き、III −II−III 型、III −II型、II−III −II型又
はマルチブロック型等があるがいずれでもよい。特に、
生産の工程の簡略なIII −II型が好適に用いることがで
きる。全光線透過率が高いものがが要求されることか
ら、シロキサン単位の繰り返し数ｎが６０超えると共重
合体が白濁し、全光線透過率が低下するので不適当であ
る。従って６０以下では透明となるので通常、１〜６０
の範囲、好ましくは５〜５０のものが、より好ましくは
１０〜４０である。

【００１４】本発明の芳香族ポリカーボネート−ポリオ
ルガノシロキサンブロック共重合体（上記III −II型）
の製造方法は本出願人による特開平７−２９２１１３号
公報に記載されている。具体的にはポリカーボネートオ
リゴマーと片末端封止ポリオルガノシロキサンを別個に
製造し、それぞれポリカーボネートオリゴマー１００重
量部に対して、片末端封止ポリオルガノシロキサンを
０．１２〜３５重量部の割合で有機溶媒に溶解させ、二
価フェノールのアルカリ金属の水酸化物の水溶液や一価
フェノールの末端停止剤を加え、さらに、触媒として通
常ポリカーボネートの製造に用いられている第３級アミ
ンや第４級アンモニウム塩などの触媒を用いて、界面重
縮合反応することにより、ポリカーボネート−ポリオル
ガノシロキサンブロック共重合体を得ることができる。

【００１５】前記片末端封止ポリオルガノシロキサンの
代表的な製造方法としては下記式（IV）で表される両末
端反応性ポリオルガノシロキサン１モルに対し、一般式
（Ｖ）で表されるハロホーメート基又はカルボン酸ハラ
イド基等を有する化合物、すなわち変成剤を０．１モル
以上２モル未満を反応させることにより、式（VI）で表
される片末端封止変成ポリオルガノシロキサンを製造す
ることができる。

【００１６】

【化５】

【００１７】〔Ｒ¹〜Ｒ⁴およびＹは上記式（II）と同じ
である。〕

【００１８】

【化６】

【００１９】〔Ｘはハロゲン原子、Ｄは単結合又は−Ｏ
−結合を示す。Ｒ⁷は炭素数１〜２０のアルキル基、炭
素数７〜２０のアリールアルキル基で表される基を示
す。〕

【００２０】

【化７】

【００２１】〔Ｒ¹〜Ｒ⁴およびＹは上記式（II）と同じ
であり、ＤおよびＲ⁷は上記式（Ｖ）と同じである。〕ポリカーボネートオリゴマーの代表的な製造方法として
は、下記一般式（VII）で表される二価フェノール１０
０モルに対して、ホスゲン１１０〜１５０モルの割合で
塩化メチレンなどの溶剤中で、必要に応じてトリエチル
アミン等の触媒を混合させて、反応させて得られる式
（III ）を有するポリカーボネートオリゴマーを得るこ
とができる。

【００２２】

【化８】

【００２３】〔Ｒ⁵，Ｒ⁶，Ｚ，ｐ，ｑは上記式（III
）と同じである。〕通常、共重合体の製造ではポリカーボネートのホモポリ
マーも製造され、実質的には共重合体とホモポリカーボ
ネートの混合品であるが、本発明においてはこれを「ポ
リオルガノシロキサンのブロックを含む芳香族ポリカー
ボネート樹脂」又は単に「共重合体」と呼称することと
する。

【００２４】ポリオルガノシロキサンのブロックを含む
芳香族ポリカーボネート樹脂にはその他、ポリシロキサ
ン繰り返し単位がグラフト重合したグラフト共重合体が
ある。その代表的なポリマー構造は式（VIII) で表され
るポリシロキサン部と式（III)で表される主繰り返し単
位からなり、シロキサン分子の自由度の高い、ポリマー
アロイ材料に好適な材料である。

【００２５】

【化９】

【００２６】〔Ｒ⁵，Ｒ⁶，ｐ，ｑは上記式（III ）と
同じである。Ｚは上記式（III)式中で示されるものの
中、アルキレン基、アルキレンエステル基、アルキレン
カルボニル基である。Ｒ⁸，Ｒ⁹，Ｒ¹⁰，Ｒ¹¹，Ｒ¹²は
アルキル基またはアリール基である。ｋは０〜１０００
である。〕

【００２７】具体的にはポリシロキサン基がポリジメチ
ルシロキサン、ポリジエチルシロキサン、ポリジフェニ
ルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン等であ
る。ポリシロキサンと反応する不飽和基を有する二価フ
ェノールは４−メチル−２，４−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）−１−ペンテン、４−メチル−２，４−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−２−ペンテン、４，４'
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−ペンテン、
４，４' −ジヒドロキシカルコン、２，２' −ビス（４
−ヒドロキシフェニル）−２−アクリロイルタン、１，
３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−ブテン−１
−オンである。

【００２８】

【化１０】

【００２９】〔Ｒ⁵，Ｒ⁶，Ｚ，ｐ，ｑ，ｍは上記式
（III ）と同じである。〕当該グラフト共重合体に関しては特開平７−１６５８９
７号公報に記載されている。

【００３０】（２）ポリオルガノシロキサンのブロック
を含まない芳香族ポリカーボネート樹脂本発明では、上記（１）の共重合体に、必要に応じて芳
香族ポリカーボネートのホモポリマー、すなわちポリオ
ルガノシロキサンのブロックを含まない芳香族ポリカー
ボネートを混合して用いることができる。

【００３１】この芳香族ポリカーボネートは通常、前記
式（III ）と同じ繰り返し単位を有するものであり、２
価フェノールとホスゲンまたは炭酸エステル化合物とを
界面重合法等公知の方法で反応させることにより容易に
製造でき、原料、製法等において特に制限はない。２価
フェノールとしては、ハイドロキノン、４、４’−ジヒ
ドロキシジフェニル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）
アルカン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロアル
カン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）オキシド、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒ
ドロキシフェニルスルホン、ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）ケトン、９，９−ビス(4-ヒドロキシフェニル）
フルオレン等やそれらのハロゲン誘導体があげられ、中
でも２、２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン
（ビスフェノールＡ）が適している。炭酸エステル化合
物としては、ジフェニルカーボネート等のジアリールカ
ーボネート、ジメチルカーボネート、ジメチルカーボネ
ート等のジアルキルカーボネートがあげられる。

【００３２】また、末端停止剤としては、１価フェノー
ルであればどのような構造のものでもよく、特に制限は
ない。例えば、p-tert-ブチルフェノール、p-tert-オク
チルフェノール、p-クミルフェノール、フェノール、p-
tert-アミルフェノール、p-ノニルフェノール、p-クレ
ゾール、トリブロモフェノール、p-ブロモフェノール、
4-ヒドロキシベンゾフェノン等が挙げられ、これらは単
独で用いても２種以上併用してもよい。

【００３３】さらに、本発明の効果を損なわない範囲で
分岐剤を併用してもよい。分岐剤として、1,1,1-トリス
(4-ヒドロキシフェニル）エタン、α,α',α''-トリス
(4-ヒドロキシフェニル)-1,3,5-トリイソプロピルベン
ゼン、1-[α-メチル-α-(4'ヒドロキシフェニル）エチ
ル]-4-[α',α'-ビス(4''-ヒドロキシフェニル）エチ
ル]ベンゼンフロログルシン、トリメリット酸、イサチ
ンビス（o-クレゾール）等官能基を３つ以上有する化合
物が適している。

【００３４】（３）ポリオルガノシロキサンブロックを
含む芳香族ポリカーボネート系樹脂組成物上記（１）のポリオルガノシロキサンブロックを含む芳
香族ポリカーボネート樹脂又は該樹脂（１）とポリオル
ガノシロキサンのブロックを含まない芳香族ポリカーボ
ネート樹脂（２）との混合物からなり、混練機でブレン
ドしたものであっても、ドライブレンドでも差支えな
い。

【００３５】上記のような混合物を用いる場合も含め
て、樹脂組成物中のポリオルガノシロキサン含有率は、
０．０１〜５重量％であり、好ましくは、０．１〜３重
量％、より好ましくは０．３〜１重量％である。ポリオ
ルガノシロキサン含有率が０．０１重量％より小さいと
ポリオルガノシロキサンによる全光線透過率とヘーズの
上昇効果が小さく、また耐衝撃性が低下する。５重量％
を超えると全光線透過率が低下し、耐熱性及び剛性も低
下する。

【００３６】樹脂組成物の粘度平均分子量（Ｍｖ）は通
常、１００００〜５００００であり、好ましくは１２０
００〜４００００であり、より好ましくは１４０００〜
３２０００である。粘度平均分子量（Ｍｖ）が１０００
０より小さいと耐衝撃性が低下し、５００００を超える
と流動性が低下する場合がある。

【００３７】（４）ビーズ状架橋アクリル樹脂本発明に用いるビーズ状架橋アクリル樹脂とは、アクリ
ル系非架橋性モノマーに架橋モノマ−を添加して懸濁重
合して得られる共重合体である。アクリル系非架橋性モ
ノマーとしてはアクリルモノマー単独またはアクリルモ
ノマーおよび芳香族ビニルモノマーほかの混合したもの
用いるが、アクリルモノマーとしてはメチルアクリレー
ト、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチ
ルアクリレート、２−エチル−ヘキシルアクリレート、
メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、プ
ロピルメタアクリレート、ブチルメタアクリレート等を
一種単独又は二種以上組み合わせて用いることができ
る。中でも、メチルメタクリレートが好適に用いられ
る。又、芳香族ビニルモノマーとしてはスチレン、α−
メチルスチレン、ビニルトルエン等であり、これら芳香
族ビニルモノマー以外にはフマル酸、マレイン酸等のカ
ルボン酸が挙げられる。

【００３８】一方、架橋モノマーとしては分子内に２個
以上の不飽和結合を持つ化合物が用いられる。例えばア
リルメタクリレート、トリアリルシアヌレート、トリア
リルイソシアネート、エチレングリコールジメタクリレ
ート、プロピレングリコールジアリルエーテル、ジビニ
ルベンゼン、ジエチレングリコールジメタクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジメタアクリレート等が挙げ
られる。中でも、少なくとも一つのアリル基を有するア
リルメタクリレートなどが耐熱性にすぐれた架橋物が得
られるので、好ましい。ビーズ状架橋アクリル樹脂の粒
子径は特に制限はないが、光拡散効果上、通常、０．１
〜５０μｍ品を用い、より好ましくは１〜１０μｍであ
る。又、粒子径分布は単分散に近いのが好ましい。

【００３９】（５）光拡散性樹脂組成物本発明の光拡散性樹脂組成物はポリオルガノシロキサン
のブロックを含む芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ）又
は該樹脂（Ａ）とポリオルガノシロキサンのブロックを
含まない芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｂ）との混合物
であって、ポリオルガノシロキサンの含有率が０．０１
〜５重量％である芳香族ポリカーボネート系樹脂組成物
１００重量部とビーズ状架橋アクリル樹脂０．０１〜３
０重量部とからなる。

【００４０】本発明の樹脂組成物は、全光線透過率が高
い、非常に明るい光源を形成しうるポリオルガノシロキ
サンブロックを含む芳香族ポリカーボネートを基材に、
光拡散剤としてビーズ状架橋アクリル樹脂を添加したも
のからなる。この光拡散性樹脂組成物を成形して板状成
形物となした光拡散板は、板厚みが増せば同じビーズ状
架橋アクリル樹脂の添加濃度でも全光線透過率が低下す
る。すなわち、光路長が増せば吸光量が増し、透過光の
光量が減衰することによるものである。実用上は板厚さ
が０．１〜８ｍｍの範囲で、全光線透過率とヘーズがと
もに高い樹脂組成物が望まれる。

【００４１】本発明によれば、光拡散板の板厚みが０．
１〜２ｍｍの範囲ではビーズ状架橋アクリル樹脂１〜３
０重量部を添加した光拡散性樹脂組成物が好適に用いら
れ、板厚みが２〜８ｍｍの範囲ではビーズ状架橋アクリ
ル樹脂０．０１〜１重量部を添加した光拡散性樹脂組成
物が好適に用いられる。前者ではビーズ状架橋アクリル
樹脂の添加濃度が３０重量部を超えるともはやヘーズが
上昇することなく、全光線透過率も低下していく一方で
あり、望ましい光拡散板は得られなくなる。後者ではビ
ーズ状架橋アクリル樹脂の添加濃度が０．０１〜１重量
部までの範囲で効果的に拡散光量を増していき、ヘーズ
の上昇となって表れるが１重量部を超えるともはや拡散
光の増大はピークを過ぎており、全光線透過率も低下し
ていく一方でり、好ましくない。更に、板厚みが８ｍｍ
を超えた場合はビーズ状架橋アクリル樹脂添加量の上限
も下降することとなる。

【００４２】また、本発明の効果を損なわない範囲で各
種添加剤、例えば、酸化防止剤、離型剤、耐候剤、紫外
線防止剤、着色剤等を配合しても差支えない。本発明の
光拡散性樹脂組成物を配合及び混練方法は通常の方法で
行えばよく、例えばリボンブレンダー、ヘンシェルミキ
サー、バンバリーミキサー、ドラムタンブラー、単軸ス
クリュー押出機、２軸スクリユー押出機、コニーダ、多
軸スクリュー押出機等により行うことができる。混練の
温度条件は通常、２８０〜３２０℃が適当である。

【００４３】

【実施例】実施例、比較例により、本発明を更に詳し
く、説明する。ポリオルガノシロキサンブロックを含む芳香族ポリカー
ボネート樹脂の製造例（１）ポリカーボネートオリゴマーの製造４００リットルの５％水酸化ナトリウム水溶液に６０ｋ
ｇのビスフェノールＡを溶解し、ビスフェノールＡの水
酸化ナトリウム水溶液を調製した。次いで、室温に保持
したこのビスフェノールＡの水酸化ナトリウム水溶液を
１３８リットル／時間の流量で、またメチレンクロライ
ドを６９リットル／時間の流量で、内径１０ｍｍ、管長
１０ｍの管型反応器にオリフィス板を通して導入し、こ
れにホスゲンを並流して１０.７ｋｇ／時間の流量で吹
き込み、３時間連続的に反応させた。ここで用いた管型
反応器は二重管となっており、ジャケット部分には冷却
水を通して反応液の排出温度を２５℃に保った。また、
排出液のｐＨは１０〜１１を示すように調整した。この
ようにして得られた反応液を静置することにより、水
相を分離除去し、メチレンクロライド相（２２０リット
ル）を採取し、ポリカーボネートオリゴマー（濃度３１
７ｇ／リットル）を得た。ここで得られたポリカーボネ
ートオリゴマーの重合度は２〜４であり、クロロホーメ
イト基の濃度は０_.７Ｎであった。

【００４４】（２）反応性ポリジメチルシロキサン（Ｐ
ＤＭＳ）の合成１４８３ｇのオクタメチルシクロテトラシロキサン、９
６ｇの1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン及び３５ｇ
の８６％硫酸を混ぜ、室温で１７時間攪拌した。その後
オイル相を分離し、２５ｇの炭酸水素ナトリウムを加
え１時間攪拌した。ろ過し、１５０℃、３torrで真空蒸
留し、低沸点物を除いた。６０ｇの2-アリルフェノール
と０_.００１４ｇの塩化白金−アルコラート錯体として
のプラチナとの混合物に、２９４ｇの上記で得られたオ
イルを９０℃の温度で添加した。この混合物を９０〜１
１５℃の温度に保ちながら３時間攪拌した。生成物を塩
化メチレンで抽出し、８０％の水性メタノールで３回洗
浄し、過剰の2-アリルフェノールを除いた。その生成物
を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、真空中で１１５℃の温
度まで溶剤を留去した。得られた末端フェノールＰＤＭ
ＳはＮＭＲの測定により、ジメチルシラノオキシ単位の
繰り返しは３０であった。

【００４５】（３）ＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体の合成例反応性ＰＤＭＳ９１ｇをメチレンクロライド２リットル
に溶解させ、ポリカーボネートオリゴマー１０リットル
と混合した。そこへ、水酸化ナトリウム２６ｇを水１リ
ットルに溶解させたものとトリエチルアミン５_.７ｃｃ
を加え５００ｒｐｍで室温にて１時間撹拌した。その
後、５.２ｗｔ％の水酸化ナトリウム水溶液５リットル
にビスフェノールＡ６００ｇを溶解させたもの、メチレ
ンクロライド８リットル及びp-tert- ブチルフェノール
８１ｇを加え５００ｒｐｍで室温にて２時間撹拌した。
しかる後に、メチレンクロライド５リットルを加え、さ
らに水５リットルで水洗、０.０１規定水酸化ナトリウ
ム水溶液５リットルでアルカリ洗浄、０.１規定塩酸５
リットルで酸洗浄及び水５リットルで水洗を順次行な
い、最後にメチレンクロライドを除去しフレーク状のＰ
Ｃ−ＰＤＭＳ共重合体を得た。得られたＰＣ−ＰＤＭＳ
共重合体を１２０℃で２４時間真空乾燥した。粘度平均
分子量が２０１００であり、ＰＤＭＳ含有率は２.０ｗ
ｔ％であった。ＰＤＭＳ含有率はＨＮＭＲにより測定し
た。粘度平均分子量はウベローデ型粘度管にて、２０℃
における塩化メチレン溶液の極限粘度［η］を測定し、
次の関係式により計算した。［η］＝１.２３×１０^-5・Ｍｖ^0.83

【００４６】実施例１〜７、比較例１〜６、参考例１上記（３）ＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体の合成例で得られた
ＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体、ポリカーボネート樹脂として
出光石油化学株式会社製タフロンＦＮ２２００Ａ（Ｍ
ｖ：２１０００）、ビース状架橋アクリル樹脂として
（Ａ）積水化成品工業株式会社製テクノポリマーＭＢＸ
−５（平均粒子径５μｍ、粒子径５．０４〜６．３５：
３０％）、（Ｂ）積水化成品工業株式会社製テクノポリ
マーＭＢ３０Ｘ−５ＳＳ（平均粒子径５μｍ粒子径
５．０４〜６．３５：８０％以上）を用い、表１に示す
割合で配合し、２８０℃で押出し、ペレット化した。な
お各原料樹脂等を配合するに際し、酸化防止剤として、
トリス(2,4-ジ-tert-ブチルフェニル）フォスファイト
５００ｐｐｍを添加した。また、実施例６及び比較例３
には、離型剤として、ステアリン酸モノグリセライド２
０００ｐｐｍも配合した。得られたペレットを２８０℃
で成形し、全光線透過率及びヘーズを測定した。結果を
表１に示す。全光線透過率及びヘーズはＪＩＳ−Ｋ−７
１０５に準拠する。なお、試験片の大きさは縦４０ｍ
ｍ、横４０ｍｍ、厚み１ｍｍである。

【００４７】

【表１】

【００４８】実施例８〜１３、比較例７、参考例２〜３上記（３）ＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体の合成例で得られた
ＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体、ポリカーボネート樹脂として
出光石油化学株式会社製タフロンＦＮ２２００Ａ（Ｍ
ｖ：２１０００）、ビーズ状架橋アクリル樹脂として
（Ａ）積水化成品工業株式会社製テクノポリマーＭＢＸ
−５（平均粒子径５μｍ、粒子径５．０４〜６．３５：
３０％）、（Ｂ）積水化成品工業株式会社製テクノポリ
マーＭＢ３０Ｘ−５ＳＳ（平均粒子径５μｍ、粒子径
５．０４〜６．３５：８０％以上）を用い、表２に示す
割合で配合し、２８０℃で押出し、ペレット化した。な
お各原料樹脂等を配合するに際し、酸化防止剤として、
トリス(2,4-ジ-tert-ブチルフェニル）フォスファイト
５００ｐｐｍを添加した。得られたペレットを２８０℃
で成形し、全光線透過率及びヘーズを測定した。結果を
表２に示す。全光線透過率及びヘーズはＪＩＳ−Ｋ−７
１０５に準拠する。なお、試験片の大きさは縦４０ｍ
ｍ、横４０ｍｍ、厚み３ｍｍである。

【００４９】

【表２】

【００５０】

【発明の効果】全光線透過率が高く且つヘーズも高くバ
ランスしており、明るく、均一な光拡散板として優れた
性能を発揮する。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｃ０８Ｌ 33:06）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ポリオルガノシロキサンのブロックを含む
芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ）又は該樹脂（Ａ）と
ポリオルガノシロキサンのブロックを含まない芳香族ポ
リカーボネート樹脂（Ｂ）との混合物であって、ポリオ
ルガノシロキサンの含有率が０．０１〜５重量％である
芳香族ポリカーボネート系樹脂１００重量部とビーズ状
架橋アクリル樹脂０．０１〜３０重量部とからなる光拡
散性樹脂組成物。
【請求項２】ポリオルガノシロキサンの繰り返し単位が
式（Ｉ）で表されるものである請求項１に記載の光拡散
性樹脂組成物。【化１】〔Ｒ^a、Ｒ^bは炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル
基であり、同じであっても異なるものであってもよ
い。〕