JPH1048224A - 走査型プローブ顕微鏡 - Google Patents
走査型プローブ顕微鏡Info
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- JPH1048224A JPH1048224A JP8209872A JP20987296A JPH1048224A JP H1048224 A JPH1048224 A JP H1048224A JP 8209872 A JP8209872 A JP 8209872A JP 20987296 A JP20987296 A JP 20987296A JP H1048224 A JPH1048224 A JP H1048224A
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- 239000000523 sample Substances 0.000 title claims abstract description 236
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims abstract description 72
- 230000010365 information processing Effects 0.000 claims abstract description 34
- 239000000284 extract Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000013507 mapping Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 claims description 10
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 5
- 230000001788 irregular Effects 0.000 abstract 2
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 43
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000000386 microscopy Methods 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q60/00—Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
- G01Q60/24—AFM [Atomic Force Microscopy] or apparatus therefor, e.g. AFM probes
- G01Q60/30—Scanning potential microscopy
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- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
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- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/84—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
- Y10S977/849—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure with scanning probe
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Abstract
(57)【要約】
【課題】試料表面の正確な凹凸像を得られる、試料表面
の電気的特性を調べるための走査型プローブ顕微鏡を提
供する。 【解決手段】カンチレバー102はチューブスキャナー
106に支持されている。交流電源110は探針試料間
へ交流電圧を印加し、カンチレバー102を振動させ
る。FM復調器122はその変位信号を出力し、同期検
波器126は変位信号から交流電源110の二倍の角振
動数に関する成分を抽出する。減算器128は変位信号
から同期検波器126の出力信号を減算した信号を出力
し、Zコントローラー112は減算器128の出力信号
が一定に保たれるようにチューブスキャナー106を制
御する。情報処理部130はXY走査回路114からの
XY情報に対応させてZコントローラー112からの凹
凸情報と同期検波器124からの表面電荷情報をマッピ
ングして試料表面の凹凸像と電荷分布像を得る。
の電気的特性を調べるための走査型プローブ顕微鏡を提
供する。 【解決手段】カンチレバー102はチューブスキャナー
106に支持されている。交流電源110は探針試料間
へ交流電圧を印加し、カンチレバー102を振動させ
る。FM復調器122はその変位信号を出力し、同期検
波器126は変位信号から交流電源110の二倍の角振
動数に関する成分を抽出する。減算器128は変位信号
から同期検波器126の出力信号を減算した信号を出力
し、Zコントローラー112は減算器128の出力信号
が一定に保たれるようにチューブスキャナー106を制
御する。情報処理部130はXY走査回路114からの
XY情報に対応させてZコントローラー112からの凹
凸情報と同期検波器124からの表面電荷情報をマッピ
ングして試料表面の凹凸像と電荷分布像を得る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、試料表面の電気的
特性を調べるための走査型プローブ顕微鏡に関する。
特性を調べるための走査型プローブ顕微鏡に関する。
【0002】
【従来の技術】ケルビンプローブ顕微鏡と走査型マクス
ウェル顕微鏡は、試料表面の電位分布を調べるための走
査型プローブ顕微鏡であり、既に商品化されている。両
者は非常に似た構成をしている。以下では、まずケルビ
ンプローブ顕微鏡について詳しく説明し、続いて走査型
マクスウェル顕微鏡について相違箇所を重点に説明しよ
う。
ウェル顕微鏡は、試料表面の電位分布を調べるための走
査型プローブ顕微鏡であり、既に商品化されている。両
者は非常に似た構成をしている。以下では、まずケルビ
ンプローブ顕微鏡について詳しく説明し、続いて走査型
マクスウェル顕微鏡について相違箇所を重点に説明しよ
う。
【0003】ケルビンプローブ顕微鏡の概略的な構成を
図3に示す。カンチレバー306は、自由端に探針30
8を備えており、圧電素子330によって支持されてい
る。圧電素子330は交流電圧電源332から交流電圧
の印加を受けて振動し、この振動はカンチレバー306
を振動させる。観察対象である試料302は試料台30
4の上に載置される。試料台304はチューブスキャナ
ー310の自由端に固定されている。Zコントローラー
312は、探針先端と試料表面の間隔が一定に保たれる
ように、チューブスキャナー310の自由端のZ方向の
位置を制御する。XY走査回路314は、探針は試料表
面にわたり走査されるように、チューブスキャナー31
0の自由端のXY方向の位置を制御する。
図3に示す。カンチレバー306は、自由端に探針30
8を備えており、圧電素子330によって支持されてい
る。圧電素子330は交流電圧電源332から交流電圧
の印加を受けて振動し、この振動はカンチレバー306
を振動させる。観察対象である試料302は試料台30
4の上に載置される。試料台304はチューブスキャナ
ー310の自由端に固定されている。Zコントローラー
312は、探針先端と試料表面の間隔が一定に保たれる
ように、チューブスキャナー310の自由端のZ方向の
位置を制御する。XY走査回路314は、探針は試料表
面にわたり走査されるように、チューブスキャナー31
0の自由端のXY方向の位置を制御する。
【0004】試料302は金属か半導体で、試料台30
4は導電性材料で作られており、両者は電気的に接続さ
れている。また、カンチレバー306と探針308は導
電性材料で作られている。カンチレバー306と試料台
304の間には可変直流電圧電源316と交流電圧電源
318によって交流電圧が印加される。この交流電圧は
探針先端と試料表面に互いに逆極性で周期的に変化する
電荷分布を生じさせ、この電荷分布は周期的に変化する
静電気力を発生させ、この静電気力はカンチレバー30
6を振動させる。つまり、カンチレバー306は、圧電
素子330が発生する機械的な力と、探針試料間に発生
する電気的な力とを受けて振動する。
4は導電性材料で作られており、両者は電気的に接続さ
れている。また、カンチレバー306と探針308は導
電性材料で作られている。カンチレバー306と試料台
304の間には可変直流電圧電源316と交流電圧電源
318によって交流電圧が印加される。この交流電圧は
探針先端と試料表面に互いに逆極性で周期的に変化する
電荷分布を生じさせ、この電荷分布は周期的に変化する
静電気力を発生させ、この静電気力はカンチレバー30
6を振動させる。つまり、カンチレバー306は、圧電
素子330が発生する機械的な力と、探針試料間に発生
する電気的な力とを受けて振動する。
【0005】変位計320は、カンチレバー306の自
由端の変位を示す信号(変位信号)を出力する。プリア
ンプ322は、変位計320からの変位信号を増幅し、
同期検波器324と同期検波器326に出力する。同期
検波器324は変位信号の中から交流電圧電源332の
角振動数に等しい角振動数に関する成分を抽出し、これ
をZコントローラー312に出力する。Zコントローラ
312は同期検波器324からの信号に基づいてチュー
ブスキャナー310のZ方向の変位を制御する。Zコン
トローラー312からの出力信号は試料表面の凹凸情報
として情報処理部336に取り込まれる。
由端の変位を示す信号(変位信号)を出力する。プリア
ンプ322は、変位計320からの変位信号を増幅し、
同期検波器324と同期検波器326に出力する。同期
検波器324は変位信号の中から交流電圧電源332の
角振動数に等しい角振動数に関する成分を抽出し、これ
をZコントローラー312に出力する。Zコントローラ
312は同期検波器324からの信号に基づいてチュー
ブスキャナー310のZ方向の変位を制御する。Zコン
トローラー312からの出力信号は試料表面の凹凸情報
として情報処理部336に取り込まれる。
【0006】一方、同期検波器326は変位信号の中か
ら交流電圧電源318の角振動数に等しい角振動数に関
する成分を抽出し、これを電圧制御回路328に出力す
る。電圧制御回路328は同期検波器326からの信号
に基づいて可変直流電圧電源316の電圧値を制御す
る。電圧制御回路328からの出力信号は試料の表面電
位情報として情報処理部336に取り込まれる。
ら交流電圧電源318の角振動数に等しい角振動数に関
する成分を抽出し、これを電圧制御回路328に出力す
る。電圧制御回路328は同期検波器326からの信号
に基づいて可変直流電圧電源316の電圧値を制御す
る。電圧制御回路328からの出力信号は試料の表面電
位情報として情報処理部336に取り込まれる。
【0007】情報処理部336は、XY走査回路314
からのXY情報に対応させて、Zコントローラー312
からの凹凸情報と電圧制御回路328からの表面電位情
報とをマッピングして、試料表面の凹凸像と電位分布像
を得る。
からのXY情報に対応させて、Zコントローラー312
からの凹凸情報と電圧制御回路328からの表面電位情
報とをマッピングして、試料表面の凹凸像と電位分布像
を得る。
【0008】以下、この装置の動作について詳しく説明
する。カンチレバー306は、圧電素子330の振動に
よる力Fvib と、探針308が受ける静電気力Fesと、
探針308が受けるファンデルワールス力Fvdw とを受
けて振動する。つまり、カンチレバー306が受ける力
Fは、F=Fvib +Fes+Fvdw で表される。Fvibは
探針先端と試料表面の間隔に関係なく一定であり、Fes
とFvdw は探針先端と試料表面の間隔に依存して変化す
る。このため、カンチレバー306の振動は探針先端と
試料表面の間隔に依存して変化する。
する。カンチレバー306は、圧電素子330の振動に
よる力Fvib と、探針308が受ける静電気力Fesと、
探針308が受けるファンデルワールス力Fvdw とを受
けて振動する。つまり、カンチレバー306が受ける力
Fは、F=Fvib +Fes+Fvdw で表される。Fvibは
探針先端と試料表面の間隔に関係なく一定であり、Fes
とFvdw は探針先端と試料表面の間隔に依存して変化す
る。このため、カンチレバー306の振動は探針先端と
試料表面の間隔に依存して変化する。
【0009】Zコントローラー312は探針先端と試料
表面の間隔が一定に保たれるようにチューブスキャナー
310のZ方向の変位を制御する。この制御にとって
は、カンチレバー306の振動の変化が必要な情報であ
り、これに影響を与えないFvib は考慮から外しても構
わない。つまり、カンチレバーが受ける力Fは、F=F
es+Fvdw と想定して考察することが許される。以下で
はこの想定の基で話をすすめる。
表面の間隔が一定に保たれるようにチューブスキャナー
310のZ方向の変位を制御する。この制御にとって
は、カンチレバー306の振動の変化が必要な情報であ
り、これに影響を与えないFvib は考慮から外しても構
わない。つまり、カンチレバーが受ける力Fは、F=F
es+Fvdw と想定して考察することが許される。以下で
はこの想定の基で話をすすめる。
【0010】ここで、可変直流電圧電源316の電圧を
VDC、交流電圧電源318の電圧をVe sinωe t、
交流電圧電源332の電圧をVm sinωm tとする。
交流電圧電源332の電圧の角振動数ωm は、カンチレ
バー306を大きな振幅で振動させるため、カンチレバ
ー306の共振周波数f0 に対して、ωm =2πf0に
設定されていることが好ましい。カンチレバー306が
受ける力Fは、探針308と試料302の間の電圧をV
として、次式で表される。
VDC、交流電圧電源318の電圧をVe sinωe t、
交流電圧電源332の電圧をVm sinωm tとする。
交流電圧電源332の電圧の角振動数ωm は、カンチレ
バー306を大きな振幅で振動させるため、カンチレバ
ー306の共振周波数f0 に対して、ωm =2πf0に
設定されていることが好ましい。カンチレバー306が
受ける力Fは、探針308と試料302の間の電圧をV
として、次式で表される。
【0011】
【数1】
【0012】ここで第一項が静電気力Fesである。電圧
Vは、試料302の電位をVS として、V=VS +VDC
+Ve sinωe tで表される。これを式1に代入して
次式が得られる。
Vは、試料302の電位をVS として、V=VS +VDC
+Ve sinωe tで表される。これを式1に代入して
次式が得られる。
【0013】
【数2】
【0014】変位計320から出力される変位信号は、
この式2に対応している。同期検波器326は、プリア
ンプ322からの変位信号から、ωe 成分すなわち式2
のsinωe tの係数成分を抽出する。電圧制御回路3
28は、同期検波器326の出力信号が0に維持される
ように、つまりVS +VDC=0であるように、可変直流
電圧電源316の電圧VDCを制御する。従って、電圧制
御回路328から出力される制御信号は、試料302の
表面電位に対応しており、表面電位情報として情報処理
部336に取り込まれる。
この式2に対応している。同期検波器326は、プリア
ンプ322からの変位信号から、ωe 成分すなわち式2
のsinωe tの係数成分を抽出する。電圧制御回路3
28は、同期検波器326の出力信号が0に維持される
ように、つまりVS +VDC=0であるように、可変直流
電圧電源316の電圧VDCを制御する。従って、電圧制
御回路328から出力される制御信号は、試料302の
表面電位に対応しており、表面電位情報として情報処理
部336に取り込まれる。
【0015】この制御のため、式2においてVS +VDC
を含む項は消え、結局、カンチレバー306が受ける力
Fは次式で表され、これに対応する変位信号が変位計3
20から出力される。
を含む項は消え、結局、カンチレバー306が受ける力
Fは次式で表され、これに対応する変位信号が変位計3
20から出力される。
【0016】
【数3】
【0017】同期検波器324は、プリアンプ322か
らの変位信号から、直流成分すなわち式3の第一項と第
二項の成分を抽出する。第一項は第二項に比べて非常に
大きいため、同期検波器324からの信号は、第一項の
影響が支配的であり、第二項の影響は殆ど反映せず、実
質的に第一項に対応していると言える。
らの変位信号から、直流成分すなわち式3の第一項と第
二項の成分を抽出する。第一項は第二項に比べて非常に
大きいため、同期検波器324からの信号は、第一項の
影響が支配的であり、第二項の影響は殆ど反映せず、実
質的に第一項に対応していると言える。
【0018】Zコントローラー312は、同期検波器3
24の出力信号が一定に維持されるように、チューブス
キャナー310のZ方向の変位を制御する。従って、Z
コントローラー312から出力される制御信号は、試料
302の凹凸に対応しており、凹凸情報として情報処理
部336に取り込まれる。
24の出力信号が一定に維持されるように、チューブス
キャナー310のZ方向の変位を制御する。従って、Z
コントローラー312から出力される制御信号は、試料
302の凹凸に対応しており、凹凸情報として情報処理
部336に取り込まれる。
【0019】情報処理部336は、XY走査回路314
からのXY情報に対応させて、凹凸情報と表面電位情報
をマッピングして、試料表面の凹凸像と電位分布像を得
る。次に、走査型マクスウェル顕微鏡について説明す
る。走査型マクスウェル顕微鏡の概略的な構成を図4に
示す。走査型マスクウェル顕微鏡の構成は、図3のケル
ビンプローブ顕微鏡に非常に似ており、わずかにZコン
トローラー312への入力信号源すなわち同期検波器3
34が異なっている。
からのXY情報に対応させて、凹凸情報と表面電位情報
をマッピングして、試料表面の凹凸像と電位分布像を得
る。次に、走査型マクスウェル顕微鏡について説明す
る。走査型マクスウェル顕微鏡の概略的な構成を図4に
示す。走査型マスクウェル顕微鏡の構成は、図3のケル
ビンプローブ顕微鏡に非常に似ており、わずかにZコン
トローラー312への入力信号源すなわち同期検波器3
34が異なっている。
【0020】同期検波器334は、プリアンプ322か
らの変位信号から、2ωe 成分すなわち式3のcos2
ωe tの係数成分を抽出する。Zコントローラー312
は、同期検波器334の出力信号が一定に維持されるよ
うに、チューブスキャナー310のZ方向の変位を制御
する。
らの変位信号から、2ωe 成分すなわち式3のcos2
ωe tの係数成分を抽出する。Zコントローラー312
は、同期検波器334の出力信号が一定に維持されるよ
うに、チューブスキャナー310のZ方向の変位を制御
する。
【0021】情報処理部336は、電圧制御回路328
から出力される制御信号を表面電位情報として取り込
み、Zコントローラー312から出力される制御信号を
凹凸情報として取り込む。情報処理部336は、XY走
査回路314からのXY情報に対応させて、凹凸情報と
表面電位情報をマッピングして、試料表面の凹凸像と電
位分布像を得る。
から出力される制御信号を表面電位情報として取り込
み、Zコントローラー312から出力される制御信号を
凹凸情報として取り込む。情報処理部336は、XY走
査回路314からのXY情報に対応させて、凹凸情報と
表面電位情報をマッピングして、試料表面の凹凸像と電
位分布像を得る。
【0022】
【発明が解決しようとする課題】ケルビンプローブ顕微
鏡は実質的に式3の第一項の成分に基づいて凹凸情報を
得ており、走査型マクスウェル顕微鏡は式3の第三項の
cos2ωe tの係数の成分に基づいて凹凸情報を得て
いる。これらは負号の違いを除けば同じであり、ケルビ
ンプローブ顕微鏡も走査型マクスウェル顕微鏡もこれを
一定に維持することで凹凸情報を得ている。別の言い方
をすれば、静電容量勾配(容量Cのzによる偏微分)を
一定に維持することで凹凸情報を得ている。
鏡は実質的に式3の第一項の成分に基づいて凹凸情報を
得ており、走査型マクスウェル顕微鏡は式3の第三項の
cos2ωe tの係数の成分に基づいて凹凸情報を得て
いる。これらは負号の違いを除けば同じであり、ケルビ
ンプローブ顕微鏡も走査型マクスウェル顕微鏡もこれを
一定に維持することで凹凸情報を得ている。別の言い方
をすれば、静電容量勾配(容量Cのzによる偏微分)を
一定に維持することで凹凸情報を得ている。
【0023】しかしながら、探針と試料の間の静電容量
は試料表面の場所により必ずしも一定ではない。このた
め、静電容量勾配一定の制御下で得られる凹凸情報は試
料表面の形状を正確に反映していない。
は試料表面の場所により必ずしも一定ではない。このた
め、静電容量勾配一定の制御下で得られる凹凸情報は試
料表面の形状を正確に反映していない。
【0024】例えば、試料表面に対向する探針先端のn
mオーダーの領域で均一な導体が表面に露出している試
料に対しては、探針と試料の間の静電容量は探針先端と
試料表面の間隔に一義的に対応するが、表面の少なくと
も一部に絶縁膜が存在する試料に対しては、探針先端と
試料表面の間隔に一義的に対応しておらず、絶縁膜の膜
厚(絶縁膜の無い部分は膜厚が0であると考える)に依
存して変化する。このため静電容量勾配は当然のことな
がら絶縁膜の膜厚に依存して変化する。従って、表面の
少なくとも一部に絶縁膜を存在する試料に対して、静電
容量勾配が一定に維持されるように、探針先端と試料表
面の間隔の制御を行なったとき、探針先端と試料表面の
間隔は一定に保たれているとは限らない。結局、静電容
量勾配を一定に維持することによって得られる凹凸情報
は試料表面の形状を正確に反映しているとは言えない。
mオーダーの領域で均一な導体が表面に露出している試
料に対しては、探針と試料の間の静電容量は探針先端と
試料表面の間隔に一義的に対応するが、表面の少なくと
も一部に絶縁膜が存在する試料に対しては、探針先端と
試料表面の間隔に一義的に対応しておらず、絶縁膜の膜
厚(絶縁膜の無い部分は膜厚が0であると考える)に依
存して変化する。このため静電容量勾配は当然のことな
がら絶縁膜の膜厚に依存して変化する。従って、表面の
少なくとも一部に絶縁膜を存在する試料に対して、静電
容量勾配が一定に維持されるように、探針先端と試料表
面の間隔の制御を行なったとき、探針先端と試料表面の
間隔は一定に保たれているとは限らない。結局、静電容
量勾配を一定に維持することによって得られる凹凸情報
は試料表面の形状を正確に反映しているとは言えない。
【0025】本発明はこのような事情を踏まえて成され
たものであり、その主要な目的は試料表面の電気的特性
を調べるための走査型プローブ顕微鏡であって、しかも
試料表面の正確な凹凸像を得られる走査型プローブ顕微
鏡を提供することである。
たものであり、その主要な目的は試料表面の電気的特性
を調べるための走査型プローブ顕微鏡であって、しかも
試料表面の正確な凹凸像を得られる走査型プローブ顕微
鏡を提供することである。
【0026】
【課題を解決するための手段】本発明は、試料表面の電
気的特性を調べるための走査型プローブ顕微鏡であり、
試料表面の近くに配置される導電性の探針と、探針を自
由端に支持するカンチレバーと、探針を試料表面にわた
り走査する走査手段と、探針先端と試料表面の間隔を制
御する探針試料間隔制御手段と、探針と試料の間に交流
電圧を印加する交流電圧印加手段と、カンチレバーの自
由端の変位を検知する変位検知手段と、変位検知手段で
得られるカンチレバーの変位情報から、調査対象である
電気的特性の情報を取り出す電気的特性情報取得手段
と、変位検知手段で得られるカンチレバーの変位情報か
ら、探針に働くファンデルワールス力に実質的に起因す
るカンチレバーの変位に関する成分を取り出す変位成分
取得手段と、走査手段からの位置情報に対応させて電気
的特性取得手段で得られる電気的特性情報と変位成分取
得手段で得られる変位成分情報とをマッピングして試料
表面の電気的特性分布像と凹凸像を得る情報処理手段と
を有している。
気的特性を調べるための走査型プローブ顕微鏡であり、
試料表面の近くに配置される導電性の探針と、探針を自
由端に支持するカンチレバーと、探針を試料表面にわた
り走査する走査手段と、探針先端と試料表面の間隔を制
御する探針試料間隔制御手段と、探針と試料の間に交流
電圧を印加する交流電圧印加手段と、カンチレバーの自
由端の変位を検知する変位検知手段と、変位検知手段で
得られるカンチレバーの変位情報から、調査対象である
電気的特性の情報を取り出す電気的特性情報取得手段
と、変位検知手段で得られるカンチレバーの変位情報か
ら、探針に働くファンデルワールス力に実質的に起因す
るカンチレバーの変位に関する成分を取り出す変位成分
取得手段と、走査手段からの位置情報に対応させて電気
的特性取得手段で得られる電気的特性情報と変位成分取
得手段で得られる変位成分情報とをマッピングして試料
表面の電気的特性分布像と凹凸像を得る情報処理手段と
を有している。
【0027】より詳しくは、交流電圧印加手段は正弦波
形の交流電圧を生成する交流電圧電源を含み、変位成分
取得手段は、変位検知手段で得られるカンチレバーの変
位情報から交流電源の角振動数の二倍の角振動数に関す
る成分を取り出す二倍角振動数成分取得手段と、変位検
知手段で得られるカンチレバーの変位情報から二倍角振
動数成分取得手段で得られる二倍角振動数成分情報を減
算する減算手段と、減算手段で得られる情報から直流成
分を取り出す直流成分取得手段とを有している。
形の交流電圧を生成する交流電圧電源を含み、変位成分
取得手段は、変位検知手段で得られるカンチレバーの変
位情報から交流電源の角振動数の二倍の角振動数に関す
る成分を取り出す二倍角振動数成分取得手段と、変位検
知手段で得られるカンチレバーの変位情報から二倍角振
動数成分取得手段で得られる二倍角振動数成分情報を減
算する減算手段と、減算手段で得られる情報から直流成
分を取り出す直流成分取得手段とを有している。
【0028】走査型プローブ顕微鏡は例えば試料表面の
電荷分布像を得る装置であり、前述の構成において、電
気的特性情報取得手段は変位検知手段で得られるカンチ
レバーの変位信号から交流電源の角振動数に等しい角振
動数に関する成分を取り出す角振動数成分取得手段を含
み、情報処理手段は、角振動数成分取得手段で得られる
角振動数成分情報と二倍角振動数成分取得手段で得られ
る二倍角振動数成分情報とに基づいて試料表面の電荷情
報を求め、これを走査手段からの位置情報に対応させて
マッピングして試料表面の電荷分布像を得る。
電荷分布像を得る装置であり、前述の構成において、電
気的特性情報取得手段は変位検知手段で得られるカンチ
レバーの変位信号から交流電源の角振動数に等しい角振
動数に関する成分を取り出す角振動数成分取得手段を含
み、情報処理手段は、角振動数成分取得手段で得られる
角振動数成分情報と二倍角振動数成分取得手段で得られ
る二倍角振動数成分情報とに基づいて試料表面の電荷情
報を求め、これを走査手段からの位置情報に対応させて
マッピングして試料表面の電荷分布像を得る。
【0029】走査型プローブ顕微鏡は例えば試料表面の
電位分布像を得る装置であり、前述の構成において、交
流電圧印加手段は任意の直流電圧を生成する可変直流電
圧電源を含み、電気的特性情報取得手段は、変位検知手
段で得られるカンチレバーの変位信号から交流電源の角
振動数に等しい角振動数に関する成分を取り出す角振動
数成分取得手段と、角振動数成分取得手段で得られる角
振動数成分情報に基づいて可変直流電圧電源を制御する
電圧制御手段とを含み、情報処理手段は、電圧制御手段
で得られる試料表面の電位情報を走査手段からの位置情
報に対応させてマッピングして試料表面の電位分布像を
得る。
電位分布像を得る装置であり、前述の構成において、交
流電圧印加手段は任意の直流電圧を生成する可変直流電
圧電源を含み、電気的特性情報取得手段は、変位検知手
段で得られるカンチレバーの変位信号から交流電源の角
振動数に等しい角振動数に関する成分を取り出す角振動
数成分取得手段と、角振動数成分取得手段で得られる角
振動数成分情報に基づいて可変直流電圧電源を制御する
電圧制御手段とを含み、情報処理手段は、電圧制御手段
で得られる試料表面の電位情報を走査手段からの位置情
報に対応させてマッピングして試料表面の電位分布像を
得る。
【0030】
〔第一の実施の形態〕第一の実施の形態について図1を
用いて説明する。本実施形態は試料表面の電荷分布を調
べるための走査型プローブ顕微鏡であり、その概略的な
構成を図1に示す。
用いて説明する。本実施形態は試料表面の電荷分布を調
べるための走査型プローブ顕微鏡であり、その概略的な
構成を図1に示す。
【0031】カンチレバー102は、自由端に探針10
4を備えており、チューブスキャナー106の自由端に
取り付けられている。チューブスキャナー106は、Z
コントローラー112から供給される交流電圧を受け
て、自由端がZ方向に振動し、この振動はカンチレバー
102の自由端を振動させる。
4を備えており、チューブスキャナー106の自由端に
取り付けられている。チューブスキャナー106は、Z
コントローラー112から供給される交流電圧を受け
て、自由端がZ方向に振動し、この振動はカンチレバー
102の自由端を振動させる。
【0032】カンチレバー102と探針104は導電性
材料で作られており、カンチレバー102は接地されて
いる。試料108は金属か半導体であり、交流電圧電源
110によって交流電圧が印加される。交流電圧の印加
は、探針先端と試料表面に周期的に変化する逆極性の電
荷分布を生じさせ、この電荷分布は探針と試料の間に周
期的に変化する静電気力を発生させ、この静電気力はカ
ンチレバー102を振動させる。つまり、カンチレバー
102は、チューブスキャナー106が発生する機械的
な力と、探針104と試料108の間に発生する電気的
な力とを受けて振動する。
材料で作られており、カンチレバー102は接地されて
いる。試料108は金属か半導体であり、交流電圧電源
110によって交流電圧が印加される。交流電圧の印加
は、探針先端と試料表面に周期的に変化する逆極性の電
荷分布を生じさせ、この電荷分布は探針と試料の間に周
期的に変化する静電気力を発生させ、この静電気力はカ
ンチレバー102を振動させる。つまり、カンチレバー
102は、チューブスキャナー106が発生する機械的
な力と、探針104と試料108の間に発生する電気的
な力とを受けて振動する。
【0033】Zコントローラー112は、探針先端と試
料表面の間隔が一定に保たれるように、チューブスキャ
ナー106の自由端のZ方向の位置を制御する。XY走
査回路114は、探針104が試料表面にわたり走査さ
れるように、チューブスキャナー106の自由端のXY
方向の位置を制御する。
料表面の間隔が一定に保たれるように、チューブスキャ
ナー106の自由端のZ方向の位置を制御する。XY走
査回路114は、探針104が試料表面にわたり走査さ
れるように、チューブスキャナー106の自由端のXY
方向の位置を制御する。
【0034】変位計116はカンチレバー102の自由
端の変位を示す信号を出力する。変位計116からの出
力信号は、AGC(Automatic Gain Control)回路11
8で振幅が制御され、移相器120で位相が調整され、
Zコントローラー112を介してチューブスキャナー1
06に供給される。この信号の流れは正帰還ループを形
成しており、変位計116とAGC回路118と移相器
120は、Zコントローラー112と共に、カンチレバ
ー102を共振周波数f0 で発振させる発振回路を構成
している。AGC回路118は、カンチレバー102の
振動の振幅が一定に保たれるように、変位計116から
の出力信号の制御する。
端の変位を示す信号を出力する。変位計116からの出
力信号は、AGC(Automatic Gain Control)回路11
8で振幅が制御され、移相器120で位相が調整され、
Zコントローラー112を介してチューブスキャナー1
06に供給される。この信号の流れは正帰還ループを形
成しており、変位計116とAGC回路118と移相器
120は、Zコントローラー112と共に、カンチレバ
ー102を共振周波数f0 で発振させる発振回路を構成
している。AGC回路118は、カンチレバー102の
振動の振幅が一定に保たれるように、変位計116から
の出力信号の制御する。
【0035】FM復調器122は、カンチレバー102
が受ける力のうちの探針試料間隔に依存して変化する成
分に対応する信号を出力する。同期検波器124は、F
M復調器122からの出力信号から、交流電圧電源11
0の角振動数に等しい角振動数に関する成分を抽出す
る。同期検波器124からの出力信号は表面電荷情報と
して情報処理部130に取り込まれる。
が受ける力のうちの探針試料間隔に依存して変化する成
分に対応する信号を出力する。同期検波器124は、F
M復調器122からの出力信号から、交流電圧電源11
0の角振動数に等しい角振動数に関する成分を抽出す
る。同期検波器124からの出力信号は表面電荷情報と
して情報処理部130に取り込まれる。
【0036】同期検波器126は、FM復調器122か
らの出力信号から、交流電圧電源110の角振動数の二
倍の角振動数に関する成分を抽出する。同期検波器12
6からの出力信号は静電容量勾配情報として情報処理部
130に取り込まれる。
らの出力信号から、交流電圧電源110の角振動数の二
倍の角振動数に関する成分を抽出する。同期検波器12
6からの出力信号は静電容量勾配情報として情報処理部
130に取り込まれる。
【0037】減算器128は、FM復調器122の出力
信号から同期検波器126の出力信号を減算した信号を
Zコントローラー112に出力する。Zコントローラー
112は、減算器128からの出力信号に基づいて、探
針先端と試料表面の間隔が一定に維持されるようにチュ
ーブスキャナー106のZ方向の変位を制御する。Zコ
ントローラーから出力される制御信号は、カンチレバー
を振動させるための交流成分ZACと探針試料間隔を一定
に維持するための直流成分ZDCとを含んでおり、この直
流成分は試料表面の凹凸情報として情報処理部130に
取り込まれる。
信号から同期検波器126の出力信号を減算した信号を
Zコントローラー112に出力する。Zコントローラー
112は、減算器128からの出力信号に基づいて、探
針先端と試料表面の間隔が一定に維持されるようにチュ
ーブスキャナー106のZ方向の変位を制御する。Zコ
ントローラーから出力される制御信号は、カンチレバー
を振動させるための交流成分ZACと探針試料間隔を一定
に維持するための直流成分ZDCとを含んでおり、この直
流成分は試料表面の凹凸情報として情報処理部130に
取り込まれる。
【0038】情報処理部130は、XY走査回路114
からのXY情報に対応させて、Zコントローラー112
からの凹凸情報と同期検波器124からの表面電荷情報
とをマッピングして、試料表面の凹凸像と電荷分布像を
得る。ここで補足しておくと、同期検波器124からの
表面電荷情報は、正確には表面電荷そのものを示す情報
ではなく、探針試料間の静電容量を含んでいる。情報処
理部130は、同期検波器126からの静電容量勾配情
報に基づいて静電容量を求め、これを用いて同期検波器
124からの表面電荷情報から、表面電荷そのものを示
す本当の表面電荷情報を得ている。
からのXY情報に対応させて、Zコントローラー112
からの凹凸情報と同期検波器124からの表面電荷情報
とをマッピングして、試料表面の凹凸像と電荷分布像を
得る。ここで補足しておくと、同期検波器124からの
表面電荷情報は、正確には表面電荷そのものを示す情報
ではなく、探針試料間の静電容量を含んでいる。情報処
理部130は、同期検波器126からの静電容量勾配情
報に基づいて静電容量を求め、これを用いて同期検波器
124からの表面電荷情報から、表面電荷そのものを示
す本当の表面電荷情報を得ている。
【0039】以下、本実施形態の装置の動作について詳
しく説明する。カンチレバー102は、チューブスキャ
ナー106の振動による力Fvib と、探針104が受け
る静電気力Fesと、探針104が受けるファンデルワー
ルス力Fvdw とを受けて振動する。つまり、カンチレバ
ー102が受ける力Fは、F=Fvib +Fes+Fvdwで
表される。Fvib は探針先端と試料表面の間隔に関係な
く一定であり、FesとFvdw は探針先端と試料表面の間
隔に依存して変化する。このため、カンチレバー102
の振動は、探針先端と試料表面の間隔の変化つまりFes
とFvdw の変化に応じて変化する。
しく説明する。カンチレバー102は、チューブスキャ
ナー106の振動による力Fvib と、探針104が受け
る静電気力Fesと、探針104が受けるファンデルワー
ルス力Fvdw とを受けて振動する。つまり、カンチレバ
ー102が受ける力Fは、F=Fvib +Fes+Fvdwで
表される。Fvib は探針先端と試料表面の間隔に関係な
く一定であり、FesとFvdw は探針先端と試料表面の間
隔に依存して変化する。このため、カンチレバー102
の振動は、探針先端と試料表面の間隔の変化つまりFes
とFvdw の変化に応じて変化する。
【0040】Zコントローラー112は探針先端と試料
表面の間隔が一定に保たれるようにチューブスキャナー
106の自由端のZ方向の変位を制御する。この制御に
とってはカンチレバー102の振動の変化が重要であ
り、これに影響を与えないFvib は考慮から外してよ
い。つまり、カンチレバーが受ける力FはF=Fes+F
vdw として考察してよい。
表面の間隔が一定に保たれるようにチューブスキャナー
106の自由端のZ方向の変位を制御する。この制御に
とってはカンチレバー102の振動の変化が重要であ
り、これに影響を与えないFvib は考慮から外してよ
い。つまり、カンチレバーが受ける力FはF=Fes+F
vdw として考察してよい。
【0041】ここで、カンチレバー102を振動させる
ためにZコントローラー112からチューブスキャナー
106に供給される交流電圧をVm sinωm tとす
る。すなわち、Zコントローラーから出力される制御信
号の交流成分ZAC=Vm sinωm tである。この交流
電圧の角振動数ωm は、カンチレバー102を大きな振
幅で振動させるため、カンチレバー102の共振周波数
f0 に対して、ωm =2πf0 に設定されることが好ま
しい。
ためにZコントローラー112からチューブスキャナー
106に供給される交流電圧をVm sinωm tとす
る。すなわち、Zコントローラーから出力される制御信
号の交流成分ZAC=Vm sinωm tである。この交流
電圧の角振動数ωm は、カンチレバー102を大きな振
幅で振動させるため、カンチレバー102の共振周波数
f0 に対して、ωm =2πf0 に設定されることが好ま
しい。
【0042】また、交流電圧電源110から試料108
に供給される交流電圧をVe sinωe tとする。この
交流電圧の角振動数ωe は、その周波数ωe /2πがカ
ンチレバー102の共振周波数f0 よりも十分に小さく
なるように、例えばf0 の1/10以下になるように設
定されている。
に供給される交流電圧をVe sinωe tとする。この
交流電圧の角振動数ωe は、その周波数ωe /2πがカ
ンチレバー102の共振周波数f0 よりも十分に小さく
なるように、例えばf0 の1/10以下になるように設
定されている。
【0043】試料表面に存在する酸化膜等の絶縁膜の膜
厚をd、表面電荷をQs とする。勿論、絶縁膜が存在し
ない箇所ではd=0、表面電荷が存在しない箇所ではQ
s =0である。
厚をd、表面電荷をQs とする。勿論、絶縁膜が存在し
ない箇所ではd=0、表面電荷が存在しない箇所ではQ
s =0である。
【0044】カンチレバー102が受ける力Fは、探針
先端と試料表面の間隔をz、探針と試料の間の静電容量
をC、探針と試料の間の電圧をV、探針先端に現れる電
荷をQt として、次式で表される。
先端と試料表面の間隔をz、探針と試料の間の静電容量
をC、探針と試料の間の電圧をV、探針先端に現れる電
荷をQt として、次式で表される。
【0045】
【数4】 探針と試料の間の静電容量Cは、探針先端の表面積をS
として、次式で表される。
として、次式で表される。
【0046】
【数5】 探針先端に現れる電荷Qt はQt =−Qs +CVで表さ
れ、電圧VはV=Vesinωe tで表される。これら
を式4に代入すると次式が得られる。
れ、電圧VはV=Vesinωe tで表される。これら
を式4に代入すると次式が得られる。
【0047】
【数6】
【0048】式6において、第一項と第二項と第三項が
直流成分であり、第一項は静電容量勾配を含んでおり、
これは探針試料間隔を忠実には反映していないが、第三
項はファンデルワールス力に関する成分であり、これは
探針試料間隔を忠実に反映している。第一項は第二項と
第三項に比べて非常に大きく、第三項は第二項に比べて
非常に大きい。このため、式6の直流成分は、第一項が
支配的であり、探針試料間隔を正確に示してはいない。
直流成分であり、第一項は静電容量勾配を含んでおり、
これは探針試料間隔を忠実には反映していないが、第三
項はファンデルワールス力に関する成分であり、これは
探針試料間隔を忠実に反映している。第一項は第二項と
第三項に比べて非常に大きく、第三項は第二項に比べて
非常に大きい。このため、式6の直流成分は、第一項が
支配的であり、探針試料間隔を正確に示してはいない。
【0049】FM復調器122からの出力信号は式6に
対応したものであり、同期検波器124からの出力信号
は第四項のsinωe tの係数に対応したものであり、
これは表面電荷情報として情報処理部130に取り込ま
れる。また、同期検波器126からの出力信号は第五項
のcos2ωe tの係数に対応したものであり、これは
静電容量勾配情報として情報処理部130に取り込まれ
る。
対応したものであり、同期検波器124からの出力信号
は第四項のsinωe tの係数に対応したものであり、
これは表面電荷情報として情報処理部130に取り込ま
れる。また、同期検波器126からの出力信号は第五項
のcos2ωe tの係数に対応したものであり、これは
静電容量勾配情報として情報処理部130に取り込まれ
る。
【0050】式6の第五項のcos2ωe tの係数は負
号の違いを別にすれば第一項と同一であり、実際に同期
検波器126からの出力信号は式6の第一項と同負号で
ある。従って、減算器128からの出力信号は次式に対
応したものとなる。
号の違いを別にすれば第一項と同一であり、実際に同期
検波器126からの出力信号は式6の第一項と同負号で
ある。従って、減算器128からの出力信号は次式に対
応したものとなる。
【0051】
【数7】
【0052】Zコントローラー112は、式7に対応す
る信号から、バンドパスフィルター等を用いて周波数成
分である第三項に対応する成分と第四項に対応する成分
を除去して第一項と第二項に対応する直流成分を求め、
これが一定に保たれるようにチューブスキャナー106
のZ方向の変位を制御する。式7において、第一項は第
二項に比べて非常に小さく、第一項のz依存性も第二項
のz依存性に比べて非常時に小さい。従って、探針先端
と試料表面の間隔は実質的にファンデルワールス力F
vdw に基づいて制御されると言える。ファンデルワール
ス力Fvdw は、静電容量Cの変動に影響されることな
く、つまり試料表面上の絶縁膜の有無に関係無く、純粋
に探針先端と試料表面の間隔zに依存して変化する。
る信号から、バンドパスフィルター等を用いて周波数成
分である第三項に対応する成分と第四項に対応する成分
を除去して第一項と第二項に対応する直流成分を求め、
これが一定に保たれるようにチューブスキャナー106
のZ方向の変位を制御する。式7において、第一項は第
二項に比べて非常に小さく、第一項のz依存性も第二項
のz依存性に比べて非常時に小さい。従って、探針先端
と試料表面の間隔は実質的にファンデルワールス力F
vdw に基づいて制御されると言える。ファンデルワール
ス力Fvdw は、静電容量Cの変動に影響されることな
く、つまり試料表面上の絶縁膜の有無に関係無く、純粋
に探針先端と試料表面の間隔zに依存して変化する。
【0053】従って、Zコントローラー112から出力
される制御信号の直流成分ZDCは、試料表面の凹凸を忠
実に反映している。この制御信号の直流成分ZDCは試料
表面の凹凸情報として情報処理部130に取り込まれ
る。情報処理部130は、XY走査回路114からのX
Y情報に対応させて、Zコントローラー112からの凹
凸情報すなわち制御信号の直流成分ZDCをマッピングし
て、試料表面の凹凸像を得る。
される制御信号の直流成分ZDCは、試料表面の凹凸を忠
実に反映している。この制御信号の直流成分ZDCは試料
表面の凹凸情報として情報処理部130に取り込まれ
る。情報処理部130は、XY走査回路114からのX
Y情報に対応させて、Zコントローラー112からの凹
凸情報すなわち制御信号の直流成分ZDCをマッピングし
て、試料表面の凹凸像を得る。
【0054】前述したように、同期検波器126からの
出力信号は第五項のcos2ωe tの係数に対応したも
のであり、静電容量勾配情報として情報処理部130に
取り込まれる。探針先端と試料表面の間隔zはZコント
ローラー112による制御によって予め定めらた一定値
に保たれるので、静電容量勾配は試料表面上の酸化膜等
の絶縁膜の厚さdに依存して変化する。従って、静電容
量勾配情報から試料上に存在する絶縁膜の厚さdが分か
る。
出力信号は第五項のcos2ωe tの係数に対応したも
のであり、静電容量勾配情報として情報処理部130に
取り込まれる。探針先端と試料表面の間隔zはZコント
ローラー112による制御によって予め定めらた一定値
に保たれるので、静電容量勾配は試料表面上の酸化膜等
の絶縁膜の厚さdに依存して変化する。従って、静電容
量勾配情報から試料上に存在する絶縁膜の厚さdが分か
る。
【0055】前述したように、同期検波器124からの
出力信号は第四項のsinωe tの係数に対応したもの
であり、これは表面電荷情報として情報処理部130に
取り込まれる。これは、表面電荷Qs と静電容量Cを含
んでおり、静電容量Cは探針試料間隔zと膜厚dから式
5によって求められるので、表面電荷Qs を反映してい
る。つまり、情報処理部130は、同期検波器126か
らの静電容量勾配情報に基づいて静電容量を求め、これ
を用いて同期検波器124からの表面電荷情報に基づい
て試料表面に局所的に存在する表面電荷Qs を求め、こ
れをXY走査回路114からのXY情報に対応させてマ
ッピングして試料表面の電荷分布像を得る。
出力信号は第四項のsinωe tの係数に対応したもの
であり、これは表面電荷情報として情報処理部130に
取り込まれる。これは、表面電荷Qs と静電容量Cを含
んでおり、静電容量Cは探針試料間隔zと膜厚dから式
5によって求められるので、表面電荷Qs を反映してい
る。つまり、情報処理部130は、同期検波器126か
らの静電容量勾配情報に基づいて静電容量を求め、これ
を用いて同期検波器124からの表面電荷情報に基づい
て試料表面に局所的に存在する表面電荷Qs を求め、こ
れをXY走査回路114からのXY情報に対応させてマ
ッピングして試料表面の電荷分布像を得る。
【0056】このように、本実施形態の走査型プローブ
顕微鏡では、試料表面の凹凸像と電荷分布像が得られ、
試料表面に存在する酸化膜等の絶縁膜の膜厚が求められ
る。 〔第二の実施の形態〕次に、第二の実施の形態について
図2を用いて説明する。本実施形態は試料表面の電位分
布を調べるための走査型プローブ顕微鏡であり、その概
略的な構成を図2に示す。
顕微鏡では、試料表面の凹凸像と電荷分布像が得られ、
試料表面に存在する酸化膜等の絶縁膜の膜厚が求められ
る。 〔第二の実施の形態〕次に、第二の実施の形態について
図2を用いて説明する。本実施形態は試料表面の電位分
布を調べるための走査型プローブ顕微鏡であり、その概
略的な構成を図2に示す。
【0057】カンチレバー202は、自由端に探針20
4を備えており、圧電素子206によって支持されてい
る。圧電素子206は交流電圧電源208から交流電圧
の印加を受けて振動し、この振動はカンチレバー202
を振動させる。試料210はチューブスキャナー212
の自由端の上に載置される。Zコントローラー214
は、探針先端と試料表面の間隔が一定に保たれるよう
に、チューブスキャナー212の自由端のZ方向の位置
を制御する。XY走査回路216は、探針が試料表面に
わたり走査されるように、チューブスキャナー212の
自由端のXY方向の位置を制御する。
4を備えており、圧電素子206によって支持されてい
る。圧電素子206は交流電圧電源208から交流電圧
の印加を受けて振動し、この振動はカンチレバー202
を振動させる。試料210はチューブスキャナー212
の自由端の上に載置される。Zコントローラー214
は、探針先端と試料表面の間隔が一定に保たれるよう
に、チューブスキャナー212の自由端のZ方向の位置
を制御する。XY走査回路216は、探針が試料表面に
わたり走査されるように、チューブスキャナー212の
自由端のXY方向の位置を制御する。
【0058】探針204とカンチレバー202は共に導
電性材料で作られており、カンチレバー202は接地さ
れている。試料210は金属か半導体であり、可変直流
電圧電源218と交流電圧電源220によって交流電圧
が印加される。この交流電圧は探針先端と試料表面に互
いに逆極性で周期的に変化する電荷分布を生じさせ、こ
の電荷分布は周期的に変化する静電気力を発生させ、こ
の静電気力はカンチレバー202を振動させる。つま
り、カンチレバー202は、圧電素子206が発生する
機械的な力と、探針と試料の間に発生する電気的な力と
によって振動される。
電性材料で作られており、カンチレバー202は接地さ
れている。試料210は金属か半導体であり、可変直流
電圧電源218と交流電圧電源220によって交流電圧
が印加される。この交流電圧は探針先端と試料表面に互
いに逆極性で周期的に変化する電荷分布を生じさせ、こ
の電荷分布は周期的に変化する静電気力を発生させ、こ
の静電気力はカンチレバー202を振動させる。つま
り、カンチレバー202は、圧電素子206が発生する
機械的な力と、探針と試料の間に発生する電気的な力と
によって振動される。
【0059】変位計222はカンチレバー202の自由
端の変位に応じた変位信号を出力する。同期検波器22
6は、変位計222からの出力信号から、交流電圧電源
220の角振動数に等しい角振動数に関する成分を抽出
して出力する。電圧制御回路228は、同期検波器22
6からの出力信号に基づいて、可変直流電圧電源218
を制御する。この電圧制御回路228から出力される制
御信号は、試料の表面電位情報として、情報処理部23
4に取り込まれる。
端の変位に応じた変位信号を出力する。同期検波器22
6は、変位計222からの出力信号から、交流電圧電源
220の角振動数に等しい角振動数に関する成分を抽出
して出力する。電圧制御回路228は、同期検波器22
6からの出力信号に基づいて、可変直流電圧電源218
を制御する。この電圧制御回路228から出力される制
御信号は、試料の表面電位情報として、情報処理部23
4に取り込まれる。
【0060】同期検波器224は、変位計222からの
出力信号から、直流成分を抽出して出力する。同期検波
器230は、変位計222からの出力信号から、交流電
圧電源220の角振動数の二倍の角振動数に関する成分
を抽出して出力する。この同期検波器230からの出力
信号は静電容量勾配情報として情報処理部234に取り
込まれる。
出力信号から、直流成分を抽出して出力する。同期検波
器230は、変位計222からの出力信号から、交流電
圧電源220の角振動数の二倍の角振動数に関する成分
を抽出して出力する。この同期検波器230からの出力
信号は静電容量勾配情報として情報処理部234に取り
込まれる。
【0061】減算器232は、同期検波器224の出力
信号から同期検波器230の出力信号を減算した信号を
出力する。Zコントローラー214は、減算器232か
らの出力信号に基づいて、チューブスキャナー212の
自由端のZ方向の位置を制御する。このZコントローラ
ー214から出力される制御信号は、試料表面の凹凸情
報として、情報処理部234に取り込まれる。
信号から同期検波器230の出力信号を減算した信号を
出力する。Zコントローラー214は、減算器232か
らの出力信号に基づいて、チューブスキャナー212の
自由端のZ方向の位置を制御する。このZコントローラ
ー214から出力される制御信号は、試料表面の凹凸情
報として、情報処理部234に取り込まれる。
【0062】情報処理部234は、XY走査回路216
からのXY情報に対応させて、Zコントローラー214
からの凹凸情報と電圧制御回路228からの表面電位情
報とをマッピングして、試料表面の凹凸像と電位分布像
を得る。
からのXY情報に対応させて、Zコントローラー214
からの凹凸情報と電圧制御回路228からの表面電位情
報とをマッピングして、試料表面の凹凸像と電位分布像
を得る。
【0063】以下、本実施形態の装置の動作について詳
しく説明する。カンチレバー202は、圧電素子206
の振動による力Fvib と、探針204が受ける静電気力
Fesと、探針204が受けるファンデルワールス力F
vdw とを受けて振動する。カンチレバー202の振動
は、静電気力Fesとファンデルワールス力Fvdw の変化
に応じて変化する。従って、カンチレバー202の振動
の変化の検出にとっては力Fvib は考慮から外すことが
でき、カンチレバー202が受ける力Fは実質的に前述
の式4で表される。
しく説明する。カンチレバー202は、圧電素子206
の振動による力Fvib と、探針204が受ける静電気力
Fesと、探針204が受けるファンデルワールス力F
vdw とを受けて振動する。カンチレバー202の振動
は、静電気力Fesとファンデルワールス力Fvdw の変化
に応じて変化する。従って、カンチレバー202の振動
の変化の検出にとっては力Fvib は考慮から外すことが
でき、カンチレバー202が受ける力Fは実質的に前述
の式4で表される。
【0064】ここで、交流電圧電源208の電圧をVm
sinωm t、可変直流電圧電源218の電圧をVDC、
交流電圧電源220の電圧をVe sinωe tとする。
カンチレバー202が受ける力Fは式1で表される。た
だし、探針と試料の間の電圧Vは、試料210の電位を
VS として、V=VS +VDC+Ve sinωetで表さ
れる。これらを式1に代入すると式2が得られる。
sinωm t、可変直流電圧電源218の電圧をVDC、
交流電圧電源220の電圧をVe sinωe tとする。
カンチレバー202が受ける力Fは式1で表される。た
だし、探針と試料の間の電圧Vは、試料210の電位を
VS として、V=VS +VDC+Ve sinωetで表さ
れる。これらを式1に代入すると式2が得られる。
【0065】変位計222から出力される変位信号は式
2に対応したものであり、同期検波器226からの出力
信号は第三項のsinωe tの係数に対応したものであ
る。電圧制御回路228は、同期検波器226からの出
力信号に基づいて、VS +VDC=0に維持されるよう
に、可変直流電圧電源218の電圧VDCを制御する。従
って、電圧制御回路228から出力される制御信号は、
試料210の表面電位に対応しており、表面電位情報と
して情報処理部234に取り込まれる。
2に対応したものであり、同期検波器226からの出力
信号は第三項のsinωe tの係数に対応したものであ
る。電圧制御回路228は、同期検波器226からの出
力信号に基づいて、VS +VDC=0に維持されるよう
に、可変直流電圧電源218の電圧VDCを制御する。従
って、電圧制御回路228から出力される制御信号は、
試料210の表面電位に対応しており、表面電位情報と
して情報処理部234に取り込まれる。
【0066】この制御によって、式2はVS +VDCの項
が消えて式3になり、変位計222からの出力信号は式
3に対応したものとなる。同期検波器224からの出力
信号は式3の直流成分すなわち第一項と第二項に対応し
たものであり、同期検波器230からの出力信号は第三
項のcos2ωetの係数に対応したもので、第一項と
同一である。従って、減算器232からの出力信号は、
式3の第二項に対応したものとなる。Zコントローラー
214は、減算器232からの出力信号が一定に保たれ
るように、チューブスキャナー212のZ方向の変位を
制御する。つまり、探針先端と試料表面の間隔はファン
デルワールス力Fvdw に基づいて制御される。
が消えて式3になり、変位計222からの出力信号は式
3に対応したものとなる。同期検波器224からの出力
信号は式3の直流成分すなわち第一項と第二項に対応し
たものであり、同期検波器230からの出力信号は第三
項のcos2ωetの係数に対応したもので、第一項と
同一である。従って、減算器232からの出力信号は、
式3の第二項に対応したものとなる。Zコントローラー
214は、減算器232からの出力信号が一定に保たれ
るように、チューブスキャナー212のZ方向の変位を
制御する。つまり、探針先端と試料表面の間隔はファン
デルワールス力Fvdw に基づいて制御される。
【0067】従って、Zコントローラー214から出力
される制御信号は、試料表面の凹凸を忠実に反映してい
る。この制御信号は試料表面の凹凸情報として情報処理
部234に取り込まれる。情報処理部234は、XY走
査回路216からのXY情報に対応させて、Zコントロ
ーラー214からの凹凸情報をマッピングして、試料表
面の凹凸像を得る。
される制御信号は、試料表面の凹凸を忠実に反映してい
る。この制御信号は試料表面の凹凸情報として情報処理
部234に取り込まれる。情報処理部234は、XY走
査回路216からのXY情報に対応させて、Zコントロ
ーラー214からの凹凸情報をマッピングして、試料表
面の凹凸像を得る。
【0068】前述したように、同期検波器230からの
出力信号は式3の第三項のcos2ωe tの係数に対応
したものであり、静電容量勾配情報として情報処理部2
34に取り込まれる。探針先端と試料表面の間隔zはZ
コントローラー112による制御によって予め定めらた
一定値に保たれるので、静電容量勾配は試料表面上の酸
化膜等の絶縁膜の厚さdに依存して変化する。従って、
静電容量勾配情報から試料上に存在する絶縁膜の厚さd
が分かる。
出力信号は式3の第三項のcos2ωe tの係数に対応
したものであり、静電容量勾配情報として情報処理部2
34に取り込まれる。探針先端と試料表面の間隔zはZ
コントローラー112による制御によって予め定めらた
一定値に保たれるので、静電容量勾配は試料表面上の酸
化膜等の絶縁膜の厚さdに依存して変化する。従って、
静電容量勾配情報から試料上に存在する絶縁膜の厚さd
が分かる。
【0069】前述したように、電圧制御回路228から
の出力信号は試料210の表面電位に対応したものであ
り、表面電位情報として情報処理部234に取り込まれ
る。情報処理部234は、XY走査回路216からのX
Y情報に対応させて、電圧制御回路228からの表面電
位情報をマッピングして、試料表面の電位分布像を得
る。このように、本実施形態の走査型プローブ顕微鏡で
は、試料表面の凹凸像と電位分布像が得られ、試料表面
に存在する酸化膜等の絶縁膜の膜厚が求められる。
の出力信号は試料210の表面電位に対応したものであ
り、表面電位情報として情報処理部234に取り込まれ
る。情報処理部234は、XY走査回路216からのX
Y情報に対応させて、電圧制御回路228からの表面電
位情報をマッピングして、試料表面の電位分布像を得
る。このように、本実施形態の走査型プローブ顕微鏡で
は、試料表面の凹凸像と電位分布像が得られ、試料表面
に存在する酸化膜等の絶縁膜の膜厚が求められる。
【0070】
【発明の効果】本発明によれば、試料表面の正確な凹凸
像を得られる、試料表面の電気的特性を調べるための走
査型プローブ顕微鏡が得られる。また、試料表面の電荷
分布を調べる走査型プローブ顕微鏡が得られる。
像を得られる、試料表面の電気的特性を調べるための走
査型プローブ顕微鏡が得られる。また、試料表面の電荷
分布を調べる走査型プローブ顕微鏡が得られる。
【図1】本発明の第一の実施の形態の走査型プローブ顕
微鏡の構成を示している。
微鏡の構成を示している。
【図2】本発明の第二の実施の形態の走査型プローブ顕
微鏡の構成を示している。
微鏡の構成を示している。
【図3】ケルビンプローブ顕微鏡の概略的な構成を示し
ている。
ている。
【図4】走査型マクスウェル顕微鏡の概略的な構成を示
している。
している。
102 カンチレバー 104 探針 106 チューブスキャナー 108 試料 110 交流電圧電源 112 Zコントローラー 114 XY走査回路 116 変位計 122 FM復調器 124 同期検波器 126 同期検波器 128 減算器 130 情報処理部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松山 克宏 東京都渋谷区幡ヶ谷2丁目43番2号 オリ ンパス光学工業株式会社内 (72)発明者 酒井 信明 東京都渋谷区幡ヶ谷2丁目43番2号 オリ ンパス光学工業株式会社内 (72)発明者 森田 清三 大阪府大阪市平野区喜連4丁目8番39号 太平第46ビル1201号室 (72)発明者 菅原 康弘 兵庫県西宮市枝川町17 浜甲子園合同宿舎 444
Claims (4)
- 【請求項1】試料表面の電気的特性を調べるための走査
型プローブ顕微鏡であり、 試料表面の近くに配置される導電性の探針と、 探針を自由端に支持するカンチレバーと、 探針を試料表面にわたり走査する走査手段と、 探針先端と試料表面の間隔を制御する探針試料間隔制御
手段と、 探針と試料の間に交流電圧を印加する交流電圧印加手段
と、 カンチレバーの自由端の変位を検知する変位検知手段
と、 変位検知手段で得られるカンチレバーの変位情報から、
調査対象である電気的特性の情報を取り出す電気的特性
情報取得手段と、 変位検知手段で得られるカンチレバーの変位情報から、
探針に働くファンデルワールス力に実質的に起因するカ
ンチレバーの変位に関する成分を取り出す変位成分取得
手段と、 走査手段からの位置情報に対応させて電気的特性取得手
段で得られる電気的特性情報と変位成分取得手段で得ら
れる変位成分情報とをマッピングして試料表面の電気的
特性分布像と凹凸像を得る情報処理手段とを有してい
る、試料表面の電気的特性を調べるための走査型プロー
ブ顕微鏡。 - 【請求項2】請求項1において、交流電圧印加手段は正
弦波形の交流電圧を生成する交流電圧電源を含み、 変位成分取得手段は、変位検知手段で得られるカンチレ
バーの変位情報から交流電源の角振動数の二倍の角振動
数に関する成分を取り出す二倍角振動数成分取得手段
と、変位検知手段で得られるカンチレバーの変位情報か
ら二倍角振動数成分取得手段で得られる二倍角振動数成
分情報を減算する減算手段と、減算手段で得られる情報
から直流成分を取り出す直流成分取得手段とを有してい
る、走査型プローブ顕微鏡。 - 【請求項3】請求項2において、電気的特性情報取得手
段は変位検知手段で得られるカンチレバーの変位信号か
ら交流電源の角振動数に等しい角振動数に関する成分を
取り出す角振動数成分取得手段を含み、 情報処理手段は、角振動数成分取得手段で得られる角振
動数成分情報と二倍角振動数成分取得手段で得られる二
倍角振動数成分情報とに基づいて試料表面の電荷情報を
求め、これを走査手段からの位置情報に対応させてマッ
ピングして試料表面の電荷分布像を得る、走査型プロー
ブ顕微鏡。 - 【請求項4】請求項2において、交流電圧印加手段は任
意の直流電圧を生成する可変直流電圧電源を含み、 電気的特性情報取得手段は、変位検知手段で得られるカ
ンチレバーの変位信号から交流電源の角振動数に等しい
角振動数に関する成分を取り出す角振動数成分取得手段
と、角振動数成分取得手段で得られる角振動数成分情報
に基づいて可変直流電圧電源を制御する電圧制御手段と
を含み、 情報処理手段は、電圧制御手段で得られる試料表面の電
位情報を走査手段からの位置情報に対応させてマッピン
グして試料表面の電位分布像を得る、走査型プローブ顕
微鏡。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8209872A JPH1048224A (ja) | 1996-08-08 | 1996-08-08 | 走査型プローブ顕微鏡 |
| US08/907,191 US6097197A (en) | 1996-08-08 | 1997-08-06 | Scanning probe microscope |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8209872A JPH1048224A (ja) | 1996-08-08 | 1996-08-08 | 走査型プローブ顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1048224A true JPH1048224A (ja) | 1998-02-20 |
Family
ID=16580045
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8209872A Withdrawn JPH1048224A (ja) | 1996-08-08 | 1996-08-08 | 走査型プローブ顕微鏡 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6097197A (ja) |
| JP (1) | JPH1048224A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002529743A (ja) * | 1998-11-06 | 2002-09-10 | トレック・インコーポレーテッド | カンチレバーおよびシールドを備えた静電気力検出器 |
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|---|---|---|---|---|
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| US7084661B2 (en) * | 2000-05-24 | 2006-08-01 | Sensorchem International Corporation | Scanning kelvin microprobe system and process for analyzing a surface |
| JP3817466B2 (ja) * | 2000-11-29 | 2006-09-06 | キヤノン株式会社 | 非接触型原子間力顕微鏡およびそれを用いた観察方法 |
| US6545495B2 (en) * | 2001-04-17 | 2003-04-08 | Ut-Battelle, Llc | Method and apparatus for self-calibration of capacitive sensors |
| JP3594927B2 (ja) * | 2001-12-06 | 2004-12-02 | 合資会社京都インスツルメンツ | 物性値の測定方法および走査型プローブ顕微鏡 |
| JP4103136B2 (ja) * | 2003-04-23 | 2008-06-18 | 船井電機株式会社 | データ記録再生装置 |
| US7654260B2 (en) * | 2003-09-12 | 2010-02-02 | Ogilvie Scott A | Protective helmet for air extraction from snow |
| US20060076487A1 (en) * | 2004-10-08 | 2006-04-13 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Semiconductor probe, method of manufacturing the same, and method and apparatus for analyzing semiconductor surface using semiconductor probe |
| EP1840527A1 (en) * | 2006-03-27 | 2007-10-03 | Infineon Technologies SensoNor AS | Displacement sensor with frequency output |
| JP4831484B2 (ja) * | 2006-08-30 | 2011-12-07 | セイコーインスツル株式会社 | 電位差検出方法及び走査型プローブ顕微鏡 |
| US7928343B2 (en) * | 2007-12-04 | 2011-04-19 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Microcantilever heater-thermometer with integrated temperature-compensated strain sensor |
| WO2009097487A1 (en) * | 2008-01-31 | 2009-08-06 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Temperature-dependent nanoscale contact potential measurement technique and device |
| US8931950B2 (en) | 2008-08-20 | 2015-01-13 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Device for calorimetric measurement |
| US8387443B2 (en) * | 2009-09-11 | 2013-03-05 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Microcantilever with reduced second harmonic while in contact with a surface and nano scale infrared spectrometer |
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| US20120047610A1 (en) * | 2010-04-09 | 2012-02-23 | Boise State University | Cantilever-based optical interface force microscope |
| US8914911B2 (en) | 2011-08-15 | 2014-12-16 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Magnetic actuation and thermal cantilevers for temperature and frequency dependent atomic force microscopy |
| US8533861B2 (en) | 2011-08-15 | 2013-09-10 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Magnetic actuation and thermal cantilevers for temperature and frequency dependent atomic force microscopy |
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| WO2018031174A2 (en) * | 2016-07-12 | 2018-02-15 | University Of Florida Research Foundation, Inc. | Method for error correction in scanning probe microscopy |
| WO2025009919A1 (ko) * | 2023-07-05 | 2025-01-09 | 파크시스템스 주식회사 | 컨덕티브 원자 현미경 |
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|---|---|---|---|---|
| JPH0773038B2 (ja) * | 1989-12-19 | 1995-08-02 | 株式会社日立サイエンスシステムズ | 走査電子顕微鏡の画像処理装置 |
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-
1996
- 1996-08-08 JP JP8209872A patent/JPH1048224A/ja not_active Withdrawn
-
1997
- 1997-08-06 US US08/907,191 patent/US6097197A/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002529743A (ja) * | 1998-11-06 | 2002-09-10 | トレック・インコーポレーテッド | カンチレバーおよびシールドを備えた静電気力検出器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6097197A (en) | 2000-08-01 |
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