JPH1048847A - 露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 アライメント不良による不良品の発生のない
露光装置を提供する。 【解決手段】 フィルムマスクＦとワークＫを密着させ
た後、位置合わせマーク３、４の位置を検出し、許容公
差範囲外の場合にはフィルムマスクＦとワークＫの密着
を解放し、再度アライメントを行い同じ動作を繰り返
す。これによりアライメント不良による不良品の発生を
防止できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、露光装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】プリント配線ワーク等の製造には、形成
すべき回路パターンを描いた原版を用いて光を投影露光
することによりワークにパターンを焼き付けし、フォト
エッチングにより回路を形成するフォトリソグラフィー
法が近年用いられるようになってきている。露光の際に
はフィルムマスクとワークとを正確に位置合わせする必
要があるが、ワークを基台に真空吸着等により固定し、
フィルムマスクとワークを０．５ｍｍ程度隙間をあけて
接近させ、この状態で画像処理により位置合わせを行う
のが普通である。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、フィルムマス
クとワークを離間させた状態で位置合わせを行っても、
露光の際のフィルムマスクとワークとの密着動作により
フィルムマスクとワークとの相対位置が微妙に変化する
ことがあり、そのままの状態で露光を行うことにより不
良品が発生する問題があった。本発明は上記従来技術の
欠点を改善することを目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の露光装置は、フィルムマスクと露光される
ワークとを相対的に移動させて位置合わせを行うための
手段と、位置合わせされたフィルムマスクとワークとを
密着させる手段と、密着されたフィルムマスクとワーク
との位置合わせ精度を検出する手段と、該検出された位
置合わせ精度が所定の許容公差外である場合、フィルム
マスクとワークとの密着を解き、フィルムマスクとワー
クとの位置合わせを行うための手段と、該フィルムマス
クを密着させたワークを露光する手段と、を備えたこと
を特徴とする。上記構成においては、密着されたフィル
ムマスクとワークの位置合わせの精度を検出し、これが
許容公差外にある場合には、露光動作を行わずに、フィ
ルムマスクとワークの密着を解放して、再び位置合わせ
を実行する。密着した状態で位置合わせ精度が許容公差
範囲に入るまで、上記動作を繰り返す。そのため、アラ
イメント不良による不良製品の発生を防止することが可
能になる。

【０００５】

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を図面に
基づいて説明する。図１において、プラテン１はワーク
Ｋをその上に載置し、吸引装置（図示せず）によりワー
クＫを真空吸着するように構成されている。プラテン１
はＺステージ１５、Ｘステージ１６、Ｙステージ１７及
びθステージ１８によりｘｙｚ方向及びθ方向に可動に
なっている。これらは制御装置１０により制御され、ワ
ークＫを移動させるように構成されている。

【０００６】プラテン１の上方にはフィルムマスク保持
装置２０に保持されたフィルムマスクＦが設けられてお
り、その上には加圧フィルムＰと透明ガラス２１及び光
源２３が設けられている。透明ガラス２１の上方には一
対のＣＣＤカメラ２が設けられており、このＣＣＤカメ
ラ２によりフィルムマスクＦ上の位置合せマーク３とワ
ークＫ上の位置合せマーク４の位置合わせを行うように
なっている。即ち、制御装置１０はＣＣＤカメラ２から
の情報により、位置合せマーク３と位置合せマーク４が
一致するようにＸステージ１６、Ｙステージ１７及びθ
ステージ１８を動かしてフィルムマスクＦとワークＫの
位置合わせを行うように構成されている。

【０００７】制御装置１０は最初に、Ｚステージ１５に
よりワークＫを上昇させ、フィルムマスクＦとの間に所
定の距離を保って、Ｘステージ１６、Ｙステージ１７、
θステージ１８によりプラテン１を移動させつつ、ＣＣ
Ｄカメラ２により位置合せマーク３と位置合せマーク４
の位置合わせを行うようになっている。

【０００８】位置合わせが終了したら、制御装置１０は
プラテン１を上昇させて、同時に加圧フィルムＰの裏面
側に加圧源２２から加圧流体を導入して加圧フィルムＰ
を膨らませ、この加圧フィルムＰによりフィルムマスク
ＦをワークＫに押しつけて密着させるようになってい
る。そして、制御装置１０は再度ＣＣＤカメラ２により
位置合せマーク３と位置合せマーク４の位置のずれ量を
測定し、許容公差範囲であれば光源２３から光を照射し
て露光を行うように構成されている。

【０００９】密着状態で位置合わせマーク３、４の位置
のずれ量が許容公差範囲外であった場合、制御装置１０
はフィルムマスクＦとワークＫとの密着を解放し、再び
ＣＣＤカメラ２からの情報によりＸ、Ｙ、Ｚ、θステー
ジを移動させて位置合わせを行い、再度フィルムマスク
ＦとワークＫを密着させ、再び位置合わせマーク３、４
のずれ量を測定する。このずれ量が許容公差範囲内にな
るまで上記動作を繰り返す様に構成されている。

【００１０】図２によりこの実施形態の動作を説明す
る。ワークＫが搬入されると（ステップＳ１）、前記し
たように制御装置１０により位置合わせマーク３、４に
よる画像アライメントを実行する（ステップＳ２）。そ
して、フィルムマスクＦとワークＫとを密着させる（ス
テップＳ３）。この状態で、位置合わせマーク３、４に
よりアライメントの確認を行い（ステップＳ４）、許容
公差外の場合にはフィルムマスクＦとワークＫの密着を
開放しステップＳ３に戻る（ステップＳ５）。許容公差
内の場合には露光処理を実行し（ステップＳ６）、ワー
クＫを搬出する（ステップＳ７）。

【００１１】以上説明した構成により、アライメント不
良による不良品の発生を防ぐことが可能になる。

【００１２】

【発明の効果】以上説明したように本発明の露光装置に
よれば、フィルムマスクとワークとを密着させる際に微
少な位置ずれが生じても、これを検出して再度アライメ
ントをやり直すようになっているため、アライメント不
良による不良品の発生を防止することが可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態を示すブロック図。

【図２】本発明の一実施形態の動作を説明するフローチ
ャート図。

【符号の説明】

１：プラテン、２：ＣＣＤカメラ、３：位置合せマー
ク、４：位置合せマーク、１０：制御装置、１５：Ｚス
テージ、１６：Ｘステージ、１７：Ｙステージ、１８：
θステージ、２０：フィルムマスク保持装置、２１：透
明ガラス、２２：加圧源、２３：光源。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 フィルムマスクと露光されるワークとを
   相対的に移動させて位置合わせを行うための手段と、位
   置合わせされたフィルムマスクとワークとを密着させる
   手段と、密着されたフィルムマスクとワークとの位置合
   わせ精度を検出する手段と、該検出された位置合わせ精
   度が所定の許容公差外である場合、フィルムマスクとワ
   ークとの密着を解き、フィルムマスクとワークとの位置
   合わせを行うための手段と、 該フィルムマスクを密着させたワークを露光する手段
   と、を備えたことを特徴とする露光装置。