JPH1050064A - メモリセル回路 - Google Patents
メモリセル回路Info
- Publication number
- JPH1050064A JPH1050064A JP8205119A JP20511996A JPH1050064A JP H1050064 A JPH1050064 A JP H1050064A JP 8205119 A JP8205119 A JP 8205119A JP 20511996 A JP20511996 A JP 20511996A JP H1050064 A JPH1050064 A JP H1050064A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- read
- bit
- write
- gate
- memory cell
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 3
- 230000003321 amplification Effects 0.000 claims 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 claims 1
- 101150110971 CIN7 gene Proteins 0.000 abstract description 7
- 101150110298 INV1 gene Proteins 0.000 abstract description 7
- 101100397044 Xenopus laevis invs-a gene Proteins 0.000 abstract description 7
- 101100508840 Daucus carota INV3 gene Proteins 0.000 abstract description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 101150070189 CIN3 gene Proteins 0.000 description 9
- 102000000582 Retinoblastoma-Like Protein p107 Human genes 0.000 description 9
- 108010002342 Retinoblastoma-Like Protein p107 Proteins 0.000 description 9
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- 101100523730 Arabidopsis thaliana RBL11 gene Proteins 0.000 description 2
- 101100523731 Arabidopsis thaliana RBL12 gene Proteins 0.000 description 2
- 101100523732 Arabidopsis thaliana RBL13 gene Proteins 0.000 description 2
- 101100300988 Arabidopsis thaliana RBL15 gene Proteins 0.000 description 2
- 101100286980 Daucus carota INV2 gene Proteins 0.000 description 2
- 101100397045 Xenopus laevis invs-b gene Proteins 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 2
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Static Random-Access Memory (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体集積回路に配置されるメモリセル回路
のビットラッチ部において、書き込みビットデータと保
持ビットデータの論理値の衝突を緩衝しつつ、複数のポ
ートを有するRAM集積回路にも使用できるメモリセル
回路を提供する。 【解決手段】 2つのインバータを同一方向にループ接
続して書き込みデータを保持し、書き込み用ビット線か
らのデータを反転増幅してビットラッチ部への転送を制
御し、ビットラッチ部を電流的に分離しつつ読み出しデ
ータを反転し、読み出し用ワード線の論理値により読み
出しデータを転送または禁止する。書き込みポート若し
くは読み出しポート、または両方を各々複数設ける。読
み出し用転送ゲートの入力を接地または開放して読み出
しデータの転送と等価にする。
のビットラッチ部において、書き込みビットデータと保
持ビットデータの論理値の衝突を緩衝しつつ、複数のポ
ートを有するRAM集積回路にも使用できるメモリセル
回路を提供する。 【解決手段】 2つのインバータを同一方向にループ接
続して書き込みデータを保持し、書き込み用ビット線か
らのデータを反転増幅してビットラッチ部への転送を制
御し、ビットラッチ部を電流的に分離しつつ読み出しデ
ータを反転し、読み出し用ワード線の論理値により読み
出しデータを転送または禁止する。書き込みポート若し
くは読み出しポート、または両方を各々複数設ける。読
み出し用転送ゲートの入力を接地または開放して読み出
しデータの転送と等価にする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、書き込みまたは読
み出し可能な半導体記憶装置(RAM)におけるメモリ
セル回路に関し、特に、書き込み若しくは読み出し、ま
たはこれら両方のためのポートを複数個ずつ有し、かつ
データの保持機能における信頼性を向上させるメモリセ
ル回路に関する。
み出し可能な半導体記憶装置(RAM)におけるメモリ
セル回路に関し、特に、書き込み若しくは読み出し、ま
たはこれら両方のためのポートを複数個ずつ有し、かつ
データの保持機能における信頼性を向上させるメモリセ
ル回路に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、RAM集積回路においてシングル
エンドでデータ書き込みを行うメモリセル回路があり、
その構成についてIEEEカスタム集積回路カンファラ
ンス(IEEE Custom Integrated Circuits Confere
nce,1989)の23.6.1頁〜23.6.4頁に記載されている。こ
のメモリセル回路は、RAM集積回路におけるポート数
の増加に伴い配線の総数が増大するのを避けるため、デ
ータの差動入力により書き込む代わりにシングルエンド
でデータの書き込みを行う方式を採用している。
エンドでデータ書き込みを行うメモリセル回路があり、
その構成についてIEEEカスタム集積回路カンファラ
ンス(IEEE Custom Integrated Circuits Confere
nce,1989)の23.6.1頁〜23.6.4頁に記載されている。こ
のメモリセル回路は、RAM集積回路におけるポート数
の増加に伴い配線の総数が増大するのを避けるため、デ
ータの差動入力により書き込む代わりにシングルエンド
でデータの書き込みを行う方式を採用している。
【0003】図6は、シングルエンド・メモリセル回路
の一例を説明する回路図である。この従来例は、マトリ
ックス状に配列されRAM集積回路に使用される多数の
メモリセル回路C4の中の1つを示すものであって、書
き込み用トランスファーゲートWT1とビットラッチ部
L2と分離用インバータINV4と読み出し用トランス
ファーゲートRT1から構成される。
の一例を説明する回路図である。この従来例は、マトリ
ックス状に配列されRAM集積回路に使用される多数の
メモリセル回路C4の中の1つを示すものであって、書
き込み用トランスファーゲートWT1とビットラッチ部
L2と分離用インバータINV4と読み出し用トランス
ファーゲートRT1から構成される。
【0004】ビットラッチ部L2は、同一方向にループ
状に接続されたビットデータ保持用の2つのインバータ
INV21,INV31からなり、帰還用インバータI
NV31の出力段はNMOS型FETで構成されてい
る。なお、RAM集積回路には、この他にも書き込み用
ビット線WBL1と読み出し用ビット線RBL1、およ
び書き込み用ワード線WWL1と読み出し用ワード線R
WL1が格子状に配線されている。
状に接続されたビットデータ保持用の2つのインバータ
INV21,INV31からなり、帰還用インバータI
NV31の出力段はNMOS型FETで構成されてい
る。なお、RAM集積回路には、この他にも書き込み用
ビット線WBL1と読み出し用ビット線RBL1、およ
び書き込み用ワード線WWL1と読み出し用ワード線R
WL1が格子状に配線されている。
【0005】続いて、従来例の作用について説明する。
ビットデータを書き込む際は、書き込み用ワード線WW
L1の電位をHighにすれば書き込み用トランスファーゲ
ートWT1が導通するため、書き込み用ビット線WBL
1が書き込み用トランスファーゲートRT1を介し第1
ノードN11に接続される。
ビットデータを書き込む際は、書き込み用ワード線WW
L1の電位をHighにすれば書き込み用トランスファーゲ
ートWT1が導通するため、書き込み用ビット線WBL
1が書き込み用トランスファーゲートRT1を介し第1
ノードN11に接続される。
【0006】その際、例えばビットデータとして論理
“H”がビットラッチ部L2に保持されており、第1ノ
ードN11の電位がLow で第2ノードの電位がHighであ
れば、書き込み用ビット線WBL1の電位が予めHighで
あった場合には、第1ノードN11の電位がHighで第2
ノードN21の電位がLow に変化するため、保持されて
いたビットデータが反転し論理“L”となる。
“H”がビットラッチ部L2に保持されており、第1ノ
ードN11の電位がLow で第2ノードの電位がHighであ
れば、書き込み用ビット線WBL1の電位が予めHighで
あった場合には、第1ノードN11の電位がHighで第2
ノードN21の電位がLow に変化するため、保持されて
いたビットデータが反転し論理“L”となる。
【0007】ビットデータを読み出す際には、読み出し
用ワード線RWL1の電位をHighにすれば読み出し用ト
ランスファーゲートRT1が導通するため、読み出し用
ビット線RBL1が読み出し用トランスファーゲートR
T1と分離用インバータINV4を介して第2ノードN
21に接続され、ビットラッチ部L2に保持されている
論理値が読み出される。
用ワード線RWL1の電位をHighにすれば読み出し用ト
ランスファーゲートRT1が導通するため、読み出し用
ビット線RBL1が読み出し用トランスファーゲートR
T1と分離用インバータINV4を介して第2ノードN
21に接続され、ビットラッチ部L2に保持されている
論理値が読み出される。
【0008】この分離用インバータINV4を設けたの
は、読み出し用ビット線RBL1の電位により第2ノー
ドN21の電位が影響を受けて引かれ、保持されている
データが誤って書き替えられるのを防止するためであ
る。
は、読み出し用ビット線RBL1の電位により第2ノー
ドN21の電位が影響を受けて引かれ、保持されている
データが誤って書き替えられるのを防止するためであ
る。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来例のメモ
リセル回路を複数ポートのRAM集積回路に使用し、保
持データの論理値を確実に反転させ書き込みの信頼性を
確保しようとする際、次に述べるような問題点があっ
た。第1に、保持データと異なる論理値のビットデータ
を書き込む場合に、第1ノードN11のLow 電位と書き
込み用ビット線WBL1のHigh電位との間に電位差が生
じるため、書き込み用トランスファーゲートの電流駆動
能力が帰還用インバータに対して十分でない場合は、ビ
ットラッチ部におけるビットデータ保持能力の信頼性を
損なう可能性がある。
リセル回路を複数ポートのRAM集積回路に使用し、保
持データの論理値を確実に反転させ書き込みの信頼性を
確保しようとする際、次に述べるような問題点があっ
た。第1に、保持データと異なる論理値のビットデータ
を書き込む場合に、第1ノードN11のLow 電位と書き
込み用ビット線WBL1のHigh電位との間に電位差が生
じるため、書き込み用トランスファーゲートの電流駆動
能力が帰還用インバータに対して十分でない場合は、ビ
ットラッチ部におけるビットデータ保持能力の信頼性を
損なう可能性がある。
【0010】第2に、前記保持能力の信頼性を確保する
には、書き込み用トランスファーゲートの電流駆動能力
を帰還用インバータと比べて数倍に高めるレシオ回路化
する必要があるため、回路シミュレーションにより十分
に動作確認を行い各回路パラメータを慎重に決定しなけ
ればならず設計上の困難さが発生する。
には、書き込み用トランスファーゲートの電流駆動能力
を帰還用インバータと比べて数倍に高めるレシオ回路化
する必要があるため、回路シミュレーションにより十分
に動作確認を行い各回路パラメータを慎重に決定しなけ
ればならず設計上の困難さが発生する。
【0011】本発明は、上記の問題点にかんがみてなさ
れたものであり、ビットラッチ部における書き込みビッ
トデータと保持ビットデータの論理値の衝突を緩衝しつ
つ、複数のポートを有するRAM集積回路にも使用でき
るメモリセル回路の提供を目的とする。
れたものであり、ビットラッチ部における書き込みビッ
トデータと保持ビットデータの論理値の衝突を緩衝しつ
つ、複数のポートを有するRAM集積回路にも使用でき
るメモリセル回路の提供を目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め本発明のメモリセル回路は、書き込み用ワード線と読
み出し用ワード線が行方向に、書き込み用ビット線と読
み出し用ビット線が列方向の格子状に配線された半導体
集積回路に使用され、それぞれの格子の交点に配置され
るメモリセル回路において、2つの保持用インバータを
同一方向にループ接続し、書き込みビットデータを保持
するためのビットラッチ部と、書き込み用ビット線に入
力側を接続し、書き込みビットデータを反転増幅するた
めの第1インバータと、第1インバータの出力側に自ら
の入力側を、ビットラッチ部の入力側に出力側を、書き
込み用ワード線にゲート入力をそれぞれ接続し、反転増
幅がされた書き込みビットデータをビットラッチ部に転
送または禁止するための書き込み用トランスファーゲー
トと、ビットラッチ部の出力側に自らの入力側を接続
し、読み出し用ビット線に自らの出力側を接続して、読
み出し用ワード線の論理値により読み出しビットデータ
を転送または禁止する制御を行うための読み出し部から
なる構成とする。
め本発明のメモリセル回路は、書き込み用ワード線と読
み出し用ワード線が行方向に、書き込み用ビット線と読
み出し用ビット線が列方向の格子状に配線された半導体
集積回路に使用され、それぞれの格子の交点に配置され
るメモリセル回路において、2つの保持用インバータを
同一方向にループ接続し、書き込みビットデータを保持
するためのビットラッチ部と、書き込み用ビット線に入
力側を接続し、書き込みビットデータを反転増幅するた
めの第1インバータと、第1インバータの出力側に自ら
の入力側を、ビットラッチ部の入力側に出力側を、書き
込み用ワード線にゲート入力をそれぞれ接続し、反転増
幅がされた書き込みビットデータをビットラッチ部に転
送または禁止するための書き込み用トランスファーゲー
トと、ビットラッチ部の出力側に自らの入力側を接続
し、読み出し用ビット線に自らの出力側を接続して、読
み出し用ワード線の論理値により読み出しビットデータ
を転送または禁止する制御を行うための読み出し部から
なる構成とする。
【0013】このメモリセル回路によれば、書き込みビ
ットデータがビットラッチ部に保持され、書き込みビッ
トデータが第1インバータで反転増幅され、反転増幅を
された書き込みビットデータが書き込み用トランスファ
ーゲートによりビットラッチ部に転送され、読み出しビ
ットデータが読み出し用ワード線の論理値により読み出
し手段で転送または禁止される。
ットデータがビットラッチ部に保持され、書き込みビッ
トデータが第1インバータで反転増幅され、反転増幅を
された書き込みビットデータが書き込み用トランスファ
ーゲートによりビットラッチ部に転送され、読み出しビ
ットデータが読み出し用ワード線の論理値により読み出
し手段で転送または禁止される。
【0014】請求項2記載のメモリセル回路は、第1イ
ンバータおよび前記書き込み用トランスファーゲートか
らなる直列回路、書き込み用ワード線および書き込み用
ビット線をそれぞれ複数設ける構成とする。
ンバータおよび前記書き込み用トランスファーゲートか
らなる直列回路、書き込み用ワード線および書き込み用
ビット線をそれぞれ複数設ける構成とする。
【0015】このメモリセル回路によれば、複数の書き
込み用ワード線および複数の書き込み用ビット線の中、
いずれか1つの組み合わせにより書き込みビットデータ
がビットラッチ部に転送される。
込み用ワード線および複数の書き込み用ビット線の中、
いずれか1つの組み合わせにより書き込みビットデータ
がビットラッチ部に転送される。
【0016】請求項3記載のメモリセル回路は、前記読
み出し部、読み出し用ワード線および読み出し用ビット
線をそれぞれ複数設ける構成とする。
み出し部、読み出し用ワード線および読み出し用ビット
線をそれぞれ複数設ける構成とする。
【0017】このメモリセル回路によれば、複数の読み
出し用ワード線および複数の読み出し用ビット線の組み
合わせにより、読み出しビットデータが読み出し手段か
ら読み出される。
出し用ワード線および複数の読み出し用ビット線の組み
合わせにより、読み出しビットデータが読み出し手段か
ら読み出される。
【0018】請求項4記載のメモリセル回路は、読み出
し用ビット線にドレインを、読み出し用ワード線にゲー
ト入力をそれぞれ接続し、読み出しビットデータを転送
または禁止する制御を行うための第1読み出し用トラン
スファーゲートと、この読み出し用トランスファーゲー
トのソースに自らの出力側を、ビットラッチ部の出力側
に自らの入力側をそれぞれ接続し、ビットラッチ部から
電流的に分離され、読み出しビットデータを反転するた
めの分離用インバータからなる前記読み出し部である構
成とする。
し用ビット線にドレインを、読み出し用ワード線にゲー
ト入力をそれぞれ接続し、読み出しビットデータを転送
または禁止する制御を行うための第1読み出し用トラン
スファーゲートと、この読み出し用トランスファーゲー
トのソースに自らの出力側を、ビットラッチ部の出力側
に自らの入力側をそれぞれ接続し、ビットラッチ部から
電流的に分離され、読み出しビットデータを反転するた
めの分離用インバータからなる前記読み出し部である構
成とする。
【0019】このメモリセル回路によれば、読み出しビ
ットデータが第1読み出し用トランスファーゲートによ
り転送または禁止され、読み出し用ビット線がビットラ
ッチ部から電気的に分離され、読み出しビットデータが
反転される。
ットデータが第1読み出し用トランスファーゲートによ
り転送または禁止され、読み出し用ビット線がビットラ
ッチ部から電気的に分離され、読み出しビットデータが
反転される。
【0020】請求項5記載のメモリセル回路は、読み出
し用ビット線にドレインを、読み出し用ワード線にゲー
ト入力をそれぞれ接続し、読み出しビットデータを転送
または禁止する制御を行うための第1読み出し用トラン
スファーゲートと、この読み出し用トランスファーゲー
トのソースに自らのドレインを、ビットラッチ部の出力
側に自らのゲート入力をそれぞれ接続し、読み出し用ト
ランスファーゲートのソースを接地または開放するため
の第2読み出し用トランスファーゲートからなる前記読
み出し部である構成とする。
し用ビット線にドレインを、読み出し用ワード線にゲー
ト入力をそれぞれ接続し、読み出しビットデータを転送
または禁止する制御を行うための第1読み出し用トラン
スファーゲートと、この読み出し用トランスファーゲー
トのソースに自らのドレインを、ビットラッチ部の出力
側に自らのゲート入力をそれぞれ接続し、読み出し用ト
ランスファーゲートのソースを接地または開放するため
の第2読み出し用トランスファーゲートからなる前記読
み出し部である構成とする。
【0021】このメモリセル回路によれば、読み出しビ
ットデータが第1読み出し用トランスファーゲートによ
り転送または禁止され、読み出し用トランスファーゲー
トのソースが第2読み出し用トランスファーゲートによ
り接地または開放される。
ットデータが第1読み出し用トランスファーゲートによ
り転送または禁止され、読み出し用トランスファーゲー
トのソースが第2読み出し用トランスファーゲートによ
り接地または開放される。
【0022】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照し説明する。なお、従来例と同一の符号を付して
示す各部は同様の機能を有する部分であり詳しい説明を
省略する。図1は、本発明の実施形態を説明する回路図
である。この実施形態は、縦方向にビット列を横方向に
ワード行を格子状に配した図1に示すRAM集積回路に
使用され、それぞれの格子の交点に配置されてビットデ
ータを記憶するための第1メモリセル回路C1である。
を参照し説明する。なお、従来例と同一の符号を付して
示す各部は同様の機能を有する部分であり詳しい説明を
省略する。図1は、本発明の実施形態を説明する回路図
である。この実施形態は、縦方向にビット列を横方向に
ワード行を格子状に配した図1に示すRAM集積回路に
使用され、それぞれの格子の交点に配置されてビットデ
ータを記憶するための第1メモリセル回路C1である。
【0023】RAM集積回路には、ビットデータを書き
込むための書き込み用ビット線WBLm(m=1,2・
・・)と、同じく読み出すための読み出し用ビット線R
BLmと、ワードアドレスを指定するための書き込み用
ワード線WWLn(n=1,2・・・)と、同じく読み
出し用ワード線RWLnとが格子状に配線され、書き込
み用ビット線WBLmおよび読み出し用ビット線RBL
mをプリチャージするためのプリチャージ回路PCが設
けてある。
込むための書き込み用ビット線WBLm(m=1,2・
・・)と、同じく読み出すための読み出し用ビット線R
BLmと、ワードアドレスを指定するための書き込み用
ワード線WWLn(n=1,2・・・)と、同じく読み
出し用ワード線RWLnとが格子状に配線され、書き込
み用ビット線WBLmおよび読み出し用ビット線RBL
mをプリチャージするためのプリチャージ回路PCが設
けてある。
【0024】また、読み出しワードアドレスRAをデコ
ードするための読み出し用デコーダRDと、この読み出
し用デコーダRDにより選択された読み出し用ワード線
RWLnを駆動するための読み出し用ワード線バッファ
B1と、読み出し用ビット線RBLmのビットデータを
読み出しデータDRにまとめるための読み出し回路RC
とが設けてある。
ードするための読み出し用デコーダRDと、この読み出
し用デコーダRDにより選択された読み出し用ワード線
RWLnを駆動するための読み出し用ワード線バッファ
B1と、読み出し用ビット線RBLmのビットデータを
読み出しデータDRにまとめるための読み出し回路RC
とが設けてある。
【0025】さらに、書き込みワードアドレスWAの書
き込み用デコーダWDと、書き込み用ワード線WWLn
の書き込み用ワード線バッファB2と、書き込みデータ
DWから所定のビットデータを書き込み用ビット線WB
Lmに配分し供給するための書き込み回路WCが設けて
ある。
き込み用デコーダWDと、書き込み用ワード線WWLn
の書き込み用ワード線バッファB2と、書き込みデータ
DWから所定のビットデータを書き込み用ビット線WB
Lmに配分し供給するための書き込み回路WCが設けて
ある。
【0026】図2は、図1における1つの第1メモリセ
ル回路C1を具体的に示す回路図である。第1メモリセ
ル回路C1は、ビットデータを反転し増幅するための第
1インバータINV1と、第1インバータINV1から
の書き込み用ビットデータを転送または禁止する書き込
み用トランスファーゲートWT1と、このビットデータ
を保持する第1ビットラッチ部L1と、第1ビットラッ
チ部L1を電流的に分離するための分離用インバータI
NV4と、分離用インバータINV4からの読み出し用
ビットデータを転送または禁止するための読み出し用ト
ランスファーゲートRT1から構成される。
ル回路C1を具体的に示す回路図である。第1メモリセ
ル回路C1は、ビットデータを反転し増幅するための第
1インバータINV1と、第1インバータINV1から
の書き込み用ビットデータを転送または禁止する書き込
み用トランスファーゲートWT1と、このビットデータ
を保持する第1ビットラッチ部L1と、第1ビットラッ
チ部L1を電流的に分離するための分離用インバータI
NV4と、分離用インバータINV4からの読み出し用
ビットデータを転送または禁止するための読み出し用ト
ランスファーゲートRT1から構成される。
【0027】第1インバータINV1は、入力側が書き
込みビット線WBL1に接続され、出力側が第4ノード
N4を介し書き込み用トランスファーゲートWT1に接
続され、書き込み用トランスファーゲートWT1と共働
し書き込み用ポートとなる。また、書き込みビット線W
BL1から書き込みビットデータを導入し、書き込み用
トランスファーゲートWT1を介しビットラッチ部L1
に供給している。
込みビット線WBL1に接続され、出力側が第4ノード
N4を介し書き込み用トランスファーゲートWT1に接
続され、書き込み用トランスファーゲートWT1と共働
し書き込み用ポートとなる。また、書き込みビット線W
BL1から書き込みビットデータを導入し、書き込み用
トランスファーゲートWT1を介しビットラッチ部L1
に供給している。
【0028】ビットラッチ部L1は、ビットデータを入
力するための入力インバータINV2と、このビットデ
ータを帰還させるための帰還インバータINV3からな
り、同一方向にループ状に接続されている。この帰還イ
ンバータINV3は、従来例の帰還インバータINV3
1と異なり自らの電流駆動能力を抑制する必要はない。
ビットラッチ部L1からのビットデータは、分離用イン
バータINV4と読み出し用トランスファーゲートRT
1からなる読み出し用ポートに送出される。
力するための入力インバータINV2と、このビットデ
ータを帰還させるための帰還インバータINV3からな
り、同一方向にループ状に接続されている。この帰還イ
ンバータINV3は、従来例の帰還インバータINV3
1と異なり自らの電流駆動能力を抑制する必要はない。
ビットラッチ部L1からのビットデータは、分離用イン
バータINV4と読み出し用トランスファーゲートRT
1からなる読み出し用ポートに送出される。
【0029】書き込み用トランスファーゲートWT1
は、そのゲート入力に書き込み用ワード線WWL1が接
続され、第1メモリセル回路C1の書き込みワードアド
レスWAが指定され、書き込み用ビット線WBL1から
ビットラッチ部L1に書き込みビットデータが書き込ま
れる。また、読み出し用トランスファーゲートRT1
は、そのゲート入力に読み出し用ワード線RWL1が接
続され、第1メモリセル回路C1の読み出しワードアド
レスRAが指定され、ビットラッチ部L1から読み出し
用ビット線RBL1に読み出しビットデータが読み出さ
れる。
は、そのゲート入力に書き込み用ワード線WWL1が接
続され、第1メモリセル回路C1の書き込みワードアド
レスWAが指定され、書き込み用ビット線WBL1から
ビットラッチ部L1に書き込みビットデータが書き込ま
れる。また、読み出し用トランスファーゲートRT1
は、そのゲート入力に読み出し用ワード線RWL1が接
続され、第1メモリセル回路C1の読み出しワードアド
レスRAが指定され、ビットラッチ部L1から読み出し
用ビット線RBL1に読み出しビットデータが読み出さ
れる。
【0030】図3は、図1における各部の作用を説明す
る波形図である。ビットラッチ部L1にビットデータを
書き込む際は、図3(3a)に示す書き込み用ワード線
WWL1の電位をHighにしてワード列を指定することに
より、読み出し用トランスファーゲートRT1を導通さ
せ第1メモリセル回路C1が選択される。
る波形図である。ビットラッチ部L1にビットデータを
書き込む際は、図3(3a)に示す書き込み用ワード線
WWL1の電位をHighにしてワード列を指定することに
より、読み出し用トランスファーゲートRT1を導通さ
せ第1メモリセル回路C1が選択される。
【0031】続いて、図3(3b)に示す書き込み用ビ
ット線WBLnのビットデータが第1インバータINV
1により反転増幅をされ、書き込み用トランスファーゲ
ートWT1を介して第1ノードN1に転送される。この
とき、図3(3c)に示す第4ノードN4の電位が図3
(3d)に示す第1ノードN1と異なる場合でも、第1
インバータINV1が帰還インバータINV3と比べて
十分な電流駆動能力を有するため、第4ノードN4の電
位が第1ノードN1に引かれて図3(3d)に示す第2
ノードN2の論理値が反転する。なお、第1および第4
ノードN1,N4が同一の論理値である場合は変化が生
じない。
ット線WBLnのビットデータが第1インバータINV
1により反転増幅をされ、書き込み用トランスファーゲ
ートWT1を介して第1ノードN1に転送される。この
とき、図3(3c)に示す第4ノードN4の電位が図3
(3d)に示す第1ノードN1と異なる場合でも、第1
インバータINV1が帰還インバータINV3と比べて
十分な電流駆動能力を有するため、第4ノードN4の電
位が第1ノードN1に引かれて図3(3d)に示す第2
ノードN2の論理値が反転する。なお、第1および第4
ノードN1,N4が同一の論理値である場合は変化が生
じない。
【0032】図4は、本発明による第2実施形態を説明
する回路図である。第2実施形態は、第1実施形態にお
ける分離用インバータINV4を第2読み出し用トラン
スファーゲートRT2に置き換え、そのゲート入力に接
続される第2ノードN2の論理値に基づき第1読み出し
用トランスファーゲートRT1のソースを接地する第2
メモリセル回路C2である他は、図1における第1実施
形態と同様である。
する回路図である。第2実施形態は、第1実施形態にお
ける分離用インバータINV4を第2読み出し用トラン
スファーゲートRT2に置き換え、そのゲート入力に接
続される第2ノードN2の論理値に基づき第1読み出し
用トランスファーゲートRT1のソースを接地する第2
メモリセル回路C2である他は、図1における第1実施
形態と同様である。
【0033】続いて、第2実施形態における作用を説明
する。保持データが論理“H”であって第2ノードN2
の電位がLow である場合、第2読み出し用トランスファ
ーゲートRT2が遮断されるため、第2メモリセル回路
C2を含むワード列の選択により第1読み出し用トラン
スファーゲートRT1が導通しても、第2ノードN2が
読み出し用ビット線RBL1に接続されない。従って、
読み出し用ビット線RBL1の電位が第2ノードN2に
よる影響を受けず、プリチャージ回路PCによりHighに
されたまま維持される。
する。保持データが論理“H”であって第2ノードN2
の電位がLow である場合、第2読み出し用トランスファ
ーゲートRT2が遮断されるため、第2メモリセル回路
C2を含むワード列の選択により第1読み出し用トラン
スファーゲートRT1が導通しても、第2ノードN2が
読み出し用ビット線RBL1に接続されない。従って、
読み出し用ビット線RBL1の電位が第2ノードN2に
よる影響を受けず、プリチャージ回路PCによりHighに
されたまま維持される。
【0034】他方、保持データが論理“L”であって第
2ノードN2の電位がHighである場合には、第2読み出
し用トランスファーゲートRT2が導通されるため、第
1読み出し用トランスファーゲートRT1が導通すれ
ば、読み出し用ビット線RBL1が接地され論理“L”
の読み出しビットデータが読み出されることと等価にな
る。つまり、分離用インバータINV4におけると同様
の作用を維持したまま、回路の簡単化と消費電力の削減
により集積化に適したものにできる。
2ノードN2の電位がHighである場合には、第2読み出
し用トランスファーゲートRT2が導通されるため、第
1読み出し用トランスファーゲートRT1が導通すれ
ば、読み出し用ビット線RBL1が接地され論理“L”
の読み出しビットデータが読み出されることと等価にな
る。つまり、分離用インバータINV4におけると同様
の作用を維持したまま、回路の簡単化と消費電力の削減
により集積化に適したものにできる。
【0035】図5は、本発明による第3実施形態を説明
する回路図である。第3実施形態は、第1実施形態にお
ける書き込み用ポート若しくは読み出し用ポート、また
は両方のポートを複数だけ設けた第3メモリセル回路C
3であり、書き込み用ビット線WBLmおよび書き込み
用ワード線WWLn、若しくは読み出し用ビット線RB
Lmおよび読み出し用ワード線RWLn、または両方の
ビット線およびワード線が複数だけ配線されたRAM集
積回路に使用される。
する回路図である。第3実施形態は、第1実施形態にお
ける書き込み用ポート若しくは読み出し用ポート、また
は両方のポートを複数だけ設けた第3メモリセル回路C
3であり、書き込み用ビット線WBLmおよび書き込み
用ワード線WWLn、若しくは読み出し用ビット線RB
Lmおよび読み出し用ワード線RWLn、または両方の
ビット線およびワード線が複数だけ配線されたRAM集
積回路に使用される。
【0036】以下、2つの書き込みおよび読み出し用ポ
ートからなる一例について具体的に説明する。図5に示
す第5インバータINV11と第2書き込み用トランス
ファーゲートWT11の直列回路を第1書き込み用ポー
トとし、第6インバータINV12と第3書き込み用ト
ランスファーゲートWT12の直列回路を第2書き込み
用ポートとして設け、第1および第2書き込み用ポート
をビットラッチ部L1の入力側に並列に接続する。
ートからなる一例について具体的に説明する。図5に示
す第5インバータINV11と第2書き込み用トランス
ファーゲートWT11の直列回路を第1書き込み用ポー
トとし、第6インバータINV12と第3書き込み用ト
ランスファーゲートWT12の直列回路を第2書き込み
用ポートとして設け、第1および第2書き込み用ポート
をビットラッチ部L1の入力側に並列に接続する。
【0037】図5に示す第3読み出し用トランスファー
ゲートRT11を第1読み出し用ポートとし、第4読み
出し用トランスファーゲートRT12を第2読み出し用
ポートとして設け、第1および第2読み出し用ポートを
第4インバータINV4の出力側に並列に接続する。
ゲートRT11を第1読み出し用ポートとし、第4読み
出し用トランスファーゲートRT12を第2読み出し用
ポートとして設け、第1および第2読み出し用ポートを
第4インバータINV4の出力側に並列に接続する。
【0038】また、第5インバータINV11の入力側
を第1書き込み用ビット線WBL11に接続し、第6イ
ンバータINV12の入力側を第2書き込み用ビット線
WBL12に接続する。第2書き込み用トランスファー
ゲートWT11のゲート入力を第1書き込み用ワード線
WWL11に接続し、第3書き込み用トランスファーゲ
ートWT12のゲート入力を第2書き込み用ワード線W
WL12に接続する。
を第1書き込み用ビット線WBL11に接続し、第6イ
ンバータINV12の入力側を第2書き込み用ビット線
WBL12に接続する。第2書き込み用トランスファー
ゲートWT11のゲート入力を第1書き込み用ワード線
WWL11に接続し、第3書き込み用トランスファーゲ
ートWT12のゲート入力を第2書き込み用ワード線W
WL12に接続する。
【0039】第3読み出し用トランスファーゲートRT
11のドレインを第1読み出し用ビット線RBL11に
接続してゲート入力を第1読み出し用ワード線RWL1
1に接続し、第4読み出し用トランスファーゲートRT
12のドレインを第2読み出し用ビット線RBL12に
接続してゲート入力を第2読み出し用ワード線RWL1
2に接続する。
11のドレインを第1読み出し用ビット線RBL11に
接続してゲート入力を第1読み出し用ワード線RWL1
1に接続し、第4読み出し用トランスファーゲートRT
12のドレインを第2読み出し用ビット線RBL12に
接続してゲート入力を第2読み出し用ワード線RWL1
2に接続する。
【0040】続いて、第3実施形態における作用を説明
する。第3メモリセル回路C3のビットラッチ部L1に
ビットデータを書き込む場合は、第1または第2書き込
み用ポートの中いずれか1つのみが選択でき、従ってこ
の場合の作用は第1実施形態における書き込みの場合と
同様である。他方、ビットラッチ部L1からビットデー
タを読み出す場合には、第1および第2読み出し用ポー
トを同時に選択できるため、これにより第1および第2
読み出し用ビット線RBL11,RBL12に同時にビ
ットデータを読み出すことが可能になる。
する。第3メモリセル回路C3のビットラッチ部L1に
ビットデータを書き込む場合は、第1または第2書き込
み用ポートの中いずれか1つのみが選択でき、従ってこ
の場合の作用は第1実施形態における書き込みの場合と
同様である。他方、ビットラッチ部L1からビットデー
タを読み出す場合には、第1および第2読み出し用ポー
トを同時に選択できるため、これにより第1および第2
読み出し用ビット線RBL11,RBL12に同時にビ
ットデータを読み出すことが可能になる。
【0041】なお、本発明は前述の実施例にのみ限定さ
れるものではなく、書き込み用ポートに設けるインバー
タを書き込み用トランスファーゲートと入れ換えた配置
としても、その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種
々の変更を加え得ることは勿論である。
れるものではなく、書き込み用ポートに設けるインバー
タを書き込み用トランスファーゲートと入れ換えた配置
としても、その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種
々の変更を加え得ることは勿論である。
【0042】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によるメモリ
セル回路には次の効果がある。第1に、書き込み用ポー
トにインバータを設けて帰還インバータに対し十分な電
流駆動能力が確保されるため、ビットラッチ部にビット
データを書き込む際に書き込み用ビット線と帰還インバ
ータの電位が異なる場合でも、安定な書き込み作用を補
償し信頼性を向上させることができる。
セル回路には次の効果がある。第1に、書き込み用ポー
トにインバータを設けて帰還インバータに対し十分な電
流駆動能力が確保されるため、ビットラッチ部にビット
データを書き込む際に書き込み用ビット線と帰還インバ
ータの電位が異なる場合でも、安定な書き込み作用を補
償し信頼性を向上させることができる。
【0043】第2に、十分な電流駆動能力が確保された
ため、敢えて従来例のように帰還インバータの電流駆動
能力を抑制する必要がなくノイズマージンが下がらない
ので、メモリセル回路自体の全体的なノイズマージンを
向上させることができる。
ため、敢えて従来例のように帰還インバータの電流駆動
能力を抑制する必要がなくノイズマージンが下がらない
ので、メモリセル回路自体の全体的なノイズマージンを
向上させることができる。
【0044】第3に、やはり電流駆動能力の確保によ
り、帰還インバータを他の回路要素に対してレシオ化し
なくてもビットデータの書き換えが可能になるため、メ
モリセル回路中のトランジスタサイズを最小のものによ
り構成できるとともに、レシオ回路のパラメータなどを
決定するための設計上の困難さも解消できる。
り、帰還インバータを他の回路要素に対してレシオ化し
なくてもビットデータの書き換えが可能になるため、メ
モリセル回路中のトランジスタサイズを最小のものによ
り構成できるとともに、レシオ回路のパラメータなどを
決定するための設計上の困難さも解消できる。
【0045】従って、ビットラッチ部における書き込み
ビットデータと保持ビットデータの論理値の衝突を緩衝
しつつ、複数のポートを有するRAM集積回路にも使用
できるメモリセル回路を提供できるようになった。
ビットデータと保持ビットデータの論理値の衝突を緩衝
しつつ、複数のポートを有するRAM集積回路にも使用
できるメモリセル回路を提供できるようになった。
【図1】本発明の実施形態を説明する回路図である。
【図2】図11における第1メモリセル回路を具体的に
示す回路図である。
示す回路図である。
【図3】図1における各部の作用を説明する波形図であ
る。
る。
【図4】本発明による第2実施形態を説明する回路図で
ある。
ある。
【図5】本発明による第3実施形態を説明する回路図で
ある。
ある。
【図6】シングルエンド・メモリセル回路の一例を説明
する回路図である。
する回路図である。
B1 読み出し用ワード線バッファ B2 書き込み用ワード線バッファ C1 第1メモリセル回路 DR 読み出しデータ DW 書き込みデータ INV1 第1インバータ INV2 入力インバータ INV3 帰還インバータ INV4 第4インバータ L1 第1ビットラッチ部 N1 第1ノード N2 第2ノード N3 第3ノード N4 第4ノード PC プリチャージ回路 RA 読み出しワードアドレス RBL1,RBLm 読み出し用ビット線 RC 読み出し回路 RD 読み出し用デコーダ RT1 読み出し用トランスファーゲート RWLn,RWLn 読み出し用ワード線 WA 書き込みワードアドレス WBL1,WBLm 書き込み用ビット線 WC 書き込み回路 WD 書き込み用デコーダ WT1 書き込み用トランスファーゲート WWL1,WWLn 書き込み用ワード線
Claims (5)
- 【請求項1】 書き込み用ワード線と読み出し用ワード
線が行方向に、書き込み用ビット線と読み出し用ビット
線が列方向の格子状に配線された半導体集積回路に使用
され、それぞれの格子の交点に配置されるメモリセル回
路において、2つの保持用インバータを同一方向にルー
プ接続し、書き込みビットデータを保持するためのビッ
トラッチ部と、 書き込み用ビット線に入力側を接続し、書き込みビット
データを反転増幅するための第1インバータと、 第1インバータの出力側に自らの入力側を、ビットラッ
チ部の入力側に出力側を、書き込み用ワード線にゲート
入力をそれぞれ接続し、反転増幅がされた書き込みビッ
トデータをビットラッチ部に転送または禁止するための
書き込み用トランスファーゲートと、 ビットラッチ部の出力側に自らの入力側を接続し、読み
出し用ビット線に自らの出力側を接続して、読み出し用
ワード線の論理値により読み出しビットデータを転送ま
たは禁止する制御を行うための読み出し部とからなるこ
とを特徴とするメモリセル回路。 - 【請求項2】 第1インバータおよび前記書き込み用ト
ランスファーゲートからなる直列回路、書き込み用ワー
ド線および書き込み用ビット線をそれぞれ複数設ける請
求項1記載のメモリセル回路。 - 【請求項3】 前記読み出し部、読み出し用ワード線お
よび読み出し用ビット線をそれぞれ複数設ける請求項1
記載のメモリセル回路。 - 【請求項4】 読み出し用ビット線にドレインを、読み
出し用ワード線にゲート入力をそれぞれ接続し、読み出
しビットデータを転送または禁止する制御を行うための
第1読み出し用トランスファーゲートと、 この読み出し用トランスファーゲートのソースに自らの
出力側を、ビットラッチ部の出力側に自らの入力側をそ
れぞれ接続し、ビットラッチ部から電流的に分離され、
読み出しビットデータを反転するための分離用インバー
タからなる前記読み出し部である請求項1記載のメモリ
セル回路。 - 【請求項5】 読み出し用ビット線にドレインを、読み
出し用ワード線にゲート入力をそれぞれ接続し、読み出
しビットデータを転送または禁止する制御を行うための
第1読み出し用トランスファーゲートと、 この読み出し用トランスファーゲートのソースに自らの
ドレインを、ビットラッチ部の出力側に自らのゲート入
力をそれぞれ接続し、読み出し用トランスファーゲート
のソースを接地または開放するための第2読み出し用ト
ランスファーゲートからなる前記読み出し部である請求
項1記載のメモリセル回路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8205119A JPH1050064A (ja) | 1996-08-02 | 1996-08-02 | メモリセル回路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8205119A JPH1050064A (ja) | 1996-08-02 | 1996-08-02 | メモリセル回路 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1050064A true JPH1050064A (ja) | 1998-02-20 |
Family
ID=16501744
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8205119A Pending JPH1050064A (ja) | 1996-08-02 | 1996-08-02 | メモリセル回路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1050064A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013030265A (ja) * | 2005-11-25 | 2013-02-07 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体記憶装置 |
-
1996
- 1996-08-02 JP JP8205119A patent/JPH1050064A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013030265A (ja) * | 2005-11-25 | 2013-02-07 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体記憶装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101529521B (zh) | 具有改善的写入操作的二端口sram | |
| CN101923892B (zh) | 稳定sram单元 | |
| JP4005535B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
| CN101174455B (zh) | 静态随机存取存储单元 | |
| US5959931A (en) | Memory system having multiple reading and writing ports | |
| CN102906819B (zh) | 半导体存储装置 | |
| JP2003022677A (ja) | Sramセルにおける書込み動作のための方法および装置 | |
| WO2019206074A1 (zh) | 存储器及信号处理方法 | |
| US5539691A (en) | Semiconductor memory device and method for reading and writing data therein | |
| US7626878B1 (en) | Active bit line charge keeper | |
| JP2005302231A (ja) | スタティックランダムアクセスメモリ | |
| JP2010272190A (ja) | 半導体記憶装置 | |
| JP2009272023A (ja) | 半導体記憶装置 | |
| JPH04324189A (ja) | マルチポ−トメモリ装置 | |
| US6215694B1 (en) | Self-restoring single event upset (SEU) hardened multiport memory cell | |
| US6091627A (en) | Message box memory cell for two-side asynchronous access | |
| KR19980041740A (ko) | 스태틱형 반도체 기억 장치 및 그 동작 방법 | |
| US7630273B2 (en) | Semiconductor integrated circuit | |
| US20050125591A1 (en) | Semiconductor memory device having hierarchical bit line structure | |
| US7869250B2 (en) | ROM semiconductor integrated circuit device having a plurality of common source lines | |
| CN102934169B (zh) | 半导体存储装置 | |
| JP2649847B2 (ja) | 並列及び直列入出力端を有する集積記憶回路 | |
| JP2006527902A (ja) | メモリデータ線のための双方向バッファリング | |
| US7248508B1 (en) | Data retention in a semiconductor memory | |
| JP7054012B2 (ja) | 半導体記憶回路、半導体記憶装置及びデータ検出方法 |