JPH10503541A - 液晶混合物の製造方法 - Google Patents

液晶混合物の製造方法

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JPH10503541A JP8506181A JP50618196A JPH10503541A JP H10503541 A JPH10503541 A JP H10503541A JP 8506181 A JP8506181 A JP 8506181A JP 50618196 A JP50618196 A JP 50618196A JP H10503541 A JPH10503541 A JP H10503541A
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Abstract

(57)【要約】 液晶化合物の混合物の製造方法において、出発成分の少なくとも1つが少なくとも2種の化合物の混合物からなり、かつこの混合物を自体公知の方法で少なくとも1種の別の出発成分と反応させて統計的混合物を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】 液晶混合物の製造方法 本発明の対象は、液晶化合物の混合物の製造方法であり、該方法は、出発成分 の少なくとも1つが少なくとも2種の化合物の混合物からなり、かつこの混合物 を自体公知の方法で少なくとも1種の別の出発成分と反応させて統計的(statis tical)混合物を形成することを特徴とする。 液晶材料は、一般に純粋な物質としては使用のために所望の特性を有しない。 種々異なる液晶質のかつ所望によりまた非液晶質の化合物を混合することにより 初めて、例えば液晶相温度、電気光学開閉時間、複屈折又は粘度に関する液晶材 料の特性スペクトルを意図される適用のために最適化することが可能である。電 気光学装置で使用するためには、それがネマチック相又は強誘電相の使用領域内 であれ、一般に、多数の異なった化合物、大抵は明らかに10種より多い化合物 を含有する混合物が必要である。液晶化合物は極めて異なった構造で存在するが 、しかし多くの混合物においては各成分は急激には異ならない。例えば、しばし ば側鎖の長さのみが異なる種々のアルコキシシアノビフェニル、フェニルシクロ ヘキサン又は安息香酸フェニルエステルの混合物が記載されている。それにもか かわらず、これらの混合物のためにはまずそれぞれ合成されかつ精製され、かつ 次いで引き続いての混合工程において初めて所望の特性プロフィールを有する混 合物が製造される。多くに液晶混合物は、しばしばまた種々の同族系列の相互に 混合された成分も含有するが、しかしこの場合殆ど常に多数の成分は同族の系列 からなる。また、流動粘度を低下させるために低分子量の非液晶材料を添加する ことも公知である。 液晶混合物を製造するための公知の方法(ドイツ国特許出願公開第29272 77号、同第636684号、同第2702598号、同第2701591号、 同第2747113号、同第2907332号の各明細書、欧州特許第1484 0号明細書、並びにドイツ特許出願第P4408170.7号、P440817 1.5号又はP4405316.9号の各明細書参照)においては、それぞれの 個々の成分は別々に合成されねばならないので、合成費用が極めて高い。特に、 全ての成分の合成を考察すれば、このような方法における空時収率はもちろん低 い。 従って、本発明の課題は、費用が少なく、僅かな精製工程で十分でありかつ合 成の際に高い空時収率を有する、液晶混合物の新規の製造方法を見出すことであ った。 従って、液晶化合物の混合物を製造するための本発明による方法が見出された 。 該方法は、一般式I: [式中、 Z1,Z2は、重合可能な基、 Y1,Y2,Y3,Y4は、化学結合又は架橋基: Rは水素又はC1〜C4−アルキル、 m,nは、0又は1、 A1は、m=0である場合には、水素、C1〜C30−アルキル基(これはエーテ ル官能基で酸素により又は非隣接のイミノ基もしくはC1〜C4−アルキルイミノ 基により中断されていてもよい)又はハロゲン、ニトロ、シアン、トリフルオル メチル、ジフルオルメチル、又はm=1である場合には、C2〜C20−アルキレ ン基(これはエーテル官能基で酸素により又は非隣接のイミノ基もしくはC1〜 C4−アルキルイミノ基により中断されていてもよい)、 A2は、A1で定義した基(この場合、mに関する条件はnに関する相応する条 件により置き換えられる)及び Mは、Y1〜Y4で定義した同じ又は異なった架橋基により結合された、2〜5 個の飽和もしくは不飽和5〜7員の炭素環式もしくは複素環式基からなるメソゲ ン基を表す]で示される液晶化合物の混合物を製造す るために特に好適である。 これらの化合物は、重合可能な基Z1又はZ2を含有することができる。有利な 基Z1又はZ2は、例えば であり、それらのうちでも特に有利であるのは、基: (末端位の先は遊離原子価を表す)であり、この場合基Rは水素又はC1〜C4− アルキル基を表しかつ同じか又は異なっていてもよい。 化合物Iの種々の基Z1,Z2,A1,A2及びMは、Y1,Y2,Y3及びY4によ って結合されている。有利な架橋基は酸素、−O−CO−及び−CO−O−であ る。 m及び/又はn=0である場合には、A1もしくはA2は水素又はC1〜C30− アルキル基であってよい。 このような基A1もしくはA2としては、例えば以下のものが該当する: メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、s−ブチル、 t−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、t−ペンチル、ヘキシル 、2−メチルペンチル、ヘプチル、オクチル、2−エチルヘキシル、イソオクチ ル、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、トリデ シル、イソトリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデ シル、オクタデシル、ノナデシル又はエイコシル[名称イソオクチル、イソノニ ル、イソデシル及びイソトリデシルは、慣用名でありかつオキソ合成に基づき得 られたアルコールから誘導される(このためには、Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry,第5版、第A1巻、290〜293頁並びに第A10巻 、284及び385頁参照)]。 就中、1〜18個の炭素原子を有する、特に4〜12個の炭素原子を有するア ルキル基が有利である。 更に、線状アルキル基が有利である。 アルキル基は、エーテル官能基で酸素により又は非隣接のイミノ基もしくはC1 〜C4−アルキルイミノ基により中断されていてもよい。このような基A1もし くはA2としては、例えば以下のものが該当する: 2−メトしエチル、2−エトキシエチル、2−プロポキシエチル、2−ブトキシ エチル、2−又は3−メトキシプロピル、2−又は3−エトキシプロピル、2− 又は3−プロポキシプロピル、2−又は3−ブトキシプロピル、2−又は4−メ トキシブチル、2−又は4−エトキシブチル、2−又は4−ブトキシブチル、3 ,6−ジオキサヘプチル、3,6−ジオキサオクチル、4,8−ジオキサノニル 、3,7−ジオキサオクチル、3,7−ジオキサノニル、4,7−ジオキサオク チル、4,7−ジオキサノニル、4,8−ジオキサデシル、3,6,9−トリオ キサデシル、3,6,9,12−トリオキサトリデシル又は3,6,9,12− テトラオキサテトラデシル、並びに酸素の代わりにイミノ基、メチルイミノ基、 エチルイミノ基、プロポキシイミノ基又はブチルイミノ基を含有する相応する基 。 A1及びA2は、更にハロゲン、有利にはフッ素、塩素及び臭素であってよい。 しかしながら、A1又はA2の一方がハロゲン又は別の、シアノ、ニトロ、メチル 、エチルもしくはプロピルのような小さい大きさの基である場合には、他方の基 A1又はA2は有利にはアルキル基又はアルケニル基である。 m及び/又はn=1である場合には、A1もしくはA2はC2〜C20−アルキレ ン基であり、この基はエー テル官能基で酸素により又は非隣接のイミノ基もしくはC1〜C4−アルキルイミ ノ基により中断されていてもよい。このような基A1もしくはA2としては、例え ば、m及び/又はn=0の場合に関して挙げた、2〜20個の炭素原子を有する アルキル基並びにそこに挙げた酸素、イミノ基又はアルキルイミノ基により中断 されたアルキル基から誘導される基の全てが該当する。 基Mとしては、全ての公知のメソゲン基を利用することができる。特に、式: [式中、 Tは、飽和もしくは不飽和の5〜6員の炭素環式又は複素環式基、 Y5は、Y1〜Y4に関する定義による架橋基、 rは、1〜4を表す、この場合T又はY5は同じか又は異なっていてもよい] で示される基が該当する。 有利には、rは1又は2である。 基Tは、またフッ素、塩素、臭素、シアン、ヒドロキシ又はニトロにより置換 された環系であってもよい。有利な基Tは、以下のものである: メソゲン基として特に有利であるのは、例えば以下のものである: [上記式中、R1,R2及びR3は水素、OCH3,CH3,F,Cl又はBrを表 す]、それらの内でも特に有利であるのは以下の基である: 一般式Iの液晶化合物の混合物を製造する方法は、例えば、 a)式IIa: の化合物の1種以上を自体公知の方法で、式IIaの化合物の1種だけを使用する 場合には、式IIIa: の複数の化合物と、又は式IIaの複数の化合物を使用する場合には、前記式III aの少なくとも1種の化合物と反応させる、但し上記式中、 X1はヒドロキシ、アミノ、カルボキシルもしくは別の縮合性基又はハロゲン もしくは別の離脱基を表す、又は b)式IIb: の1種以上の化合物を自体公知の方法で、式IIbの化合物の1種だけを使用する 場合には、式IIIb: の複数の化合物と、又は式IIbの複数の化合物を使用する場合には、前記式III bの少なくとも1種の化合物と反応させる、但し上記式中、 M1及びM2は、1〜2個の飽和もしくは不飽和の5〜7員環の炭素環式もしく は複素環式基からなるメソゲン基Mの成分、但しM1及び/又はM2がこのような 基の2つからなる場合には、これらはY1で定義した架橋基により結合されてい る、 X2は、O,S又はNR及び X3は、ハロゲン又はOHを表す、又は c)式IIc: の1種以上の化合物を自体公知の方法で、式IIcの化合物の1種だけを使用する 場合には、式IIIc: の複数の化合物と、又は式IIcの複数の化合物を使用する場合には、前記式III cの少なくとも1種の化合物と反応させることを特徴とする。 3つの変法a),b)及びc)は、出発成分の少なくとも1つは1種より多い 化合物からなり、但しこれらの化合物は前記の同族の構造を有する点で共通して いる。有利には、多数の出発化合物は2〜10、特に有利には3〜8種の異なっ た同族化合物からなる。 多数の成分内の化合物の量比は、液晶混合物のために達成されるべき特性に基 づく。量比を変更することにより所望の特性を最適化することが好ましい。個々 の化合物は、成分の化合物の和に対して、一般に1〜99モル%、有利には5〜 95モル%、特に有利には10〜90モル%で使用する。 成分IIaとIIIa、IIbとIIIb並びにIIcとIIIcは、一般に20:1〜1: 20の比、有利には5:1〜1:5の比、特に有利にはほぼ化学量論的比で使用 する。 反応は、一般に溶剤の存在下に実施する。溶剤としては、特に適度の極性の中 性溶剤、例えばピリジン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N− メチルピロリドン、アセトン、メチルエチルケトン又 はプロピルエチルケトンが適当である。 反応は、好ましくは10〜150℃、有利には30〜100℃、特に有利には 40〜80℃の温度で実施する。一般に、大気圧で作業する。 生じる液晶混合物の特性は、使用される化合物の数、量比並びに構造差により 影響される。構造変更としては、基A1もしくはA2の種々の長さ又は種々の置換 パターンを有する化合物を使用することが特に好適である。 変法a),b)及びc)は、多数の出発化合物を使用することにより異なった 化合物の統計的混合物が製造される合成工程で区別される。 変法a)によれば、統計的混合物はY2H及びY3Hで置換されたメソゲン基を 式IIIa: の化合物との反応により製造される。X1は、例えばヒドロキシ、アミノ又はカ ルボキシルのような縮合性基、又は例えばBr,I又はトシレートのような求核 性置換反応で容易に放出される基である。縮合反応は、周知の方法で例えばカル ボジイミド又は別の縮合剤を用いて実施することができかつ特にエステル結合又 はアミド結合を製造するために好適である。 変法b)によれば、メソゲン基Mの構成の際に統計的混合物が形成され、この 場合カルボキシル基又は酸ハロゲン化物基で2置換されたメソゲン基Mの中心部 分M2は出発成分として役立つ。第2の成分は分子部分M1にヒドロキシル基、メ ルカプト基、アミノ基又はアルキルアミノ基を有し、これらの基は公知方法でM2 のカルボキシル基又は酸ハロゲン化物基と反応させることができる。 変法c)によれば、同様にメソゲン基Mの構成の際に統計的混合物が製造され るが、しかしながら、M1とM2の反応性基は変法b)に比して入れ替わっている 。 更に、本発明による方法は、例えば式IV: [式中、 Z1,Y1,Y2,Y3,A1,M及びmは、前記に定義したものを表し、 sは、0又は1及び A3は、C2〜C20−アルキレン基(この基は、エーテル官能基で酸素により又 は非隣接のイミノ基又はC1〜C4−アルキルイミノ基により中断されていてもよ い)を表す、この場合Z1,Y1,Y2,Y3,A1,A3及びM並びに変数m及びs は、これらは該式中に×6 存在するので、同じか又は異なっていてもよい]の化合物を製造するために好適 である。 この場合、基A3としては、m=1の場合にA1及びA2に関して挙げたものと 同じ基が該当する。 基Mとしては、化合物Iに関して挙げたメソゲン基の他にこの場合特に有利に は置換されたトリフェニル基が該当する。 異なった化合物IVの統計的混合物は、式IVa: (Z1−Y1)m−A1−(Y2−M−Y3−A3−)sX1 IVa [式中、X1は前記のもの表す]の複数の化合物を自体公知方法で2,3,6, 7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレン(IVb): と反応させることにより製造される。 該反応は、IIaとIIIaとの反応のために記載したと同じ方法に基づき実施す ることができる。 液晶混合物の特性に影響を及ぼすもう1つの方法は、統計的に製造された混合 物の水素添加である。該水素添加は周知の方法で行うことができる。水素添加は 、メソゲン基Mの内部の芳香族環構造を飽和環構造に転化するために特に好適で ある。 驚異的にも、本発明により製造された混合物は通常の方法で製造された混合物 に比して何ら欠点を有していないことが判明した。それというのも、これらは精 製可能性に関しても実際に、特にHPLC及びMPLCのようなクロマトグラフ ィー法において個々の化合物と同様の特性を示すからである。 個々の化合物の製造に比して混合物の製造の特別の利点は、簡単な合成法にあ る。それというのも、一般に多くの個々の化合物の代わりに1つだけの混合物を 製造するだけでよいからである。従って、空時収率及び溶剤消費量が明らかに改 良される。 更に、本発明による方法は、通常の方法で入手不能であるか又は極めて多大な 費用をかけてのみ製造できる混合物を製造することを可能にする。それというの も、例えば多数の使用成分の変化の際に個々の成分合成の従来の方法に基づく合 成費用は混合物の複雑性に伴い指数関数的に増大するからである。 それに対して、本発明による方法により、例えば粘度、開閉時間、相状態範囲 、複屈折又は誘電性異方性に関して、使用するために最適な特性を有する複雑な 混合物を容易に製造することができる。 実施例 以下に、一般的に利用される若干の略語を記載する: K 結晶相 S スメチック相 N ネマチック相 I アイソトロープ相 相変換温度は、ライツ・偏光顕微鏡(Ortholux-Pol-II)と結合したメットラ ー(Mettler)熱積載物台で測定した。 混合物の組成における%データは、全て質量%に基づく。これから異なるデー タは単位として記載されている。 全ての出発材料は文献に記載されているので、ここではそれらの合成に関して は詳細に言及しない。混合物を製造する工程は、明確に記載する。 例1 4−ヘキソキシ安息香酸−(4′−ペンチルフェニル)−エステル66.7% 4−メトキシ安息香酸−(4′−ペンチルフェニル)−エステル33.3% からの混合物1の合成 4−ペンチルフェノール1.64.g(0.01モル)を、トルエン50ml 及びピリジン0.95g(0.012モル)中に溶かした。次いで、50℃で、 トルエン40ml中に溶かした4−ヘキソキシ安息香酸クロリド1.60g(0 .00667モル)及び4−メトキシ安息香酸クロリド0.566g(0.00 333モル)を滴加した。反応の終了後に、反応混合物を水5 0mlに加えかつ有機相を分離した。濃苛性カリ溶液で振り出しかつ引き続き中 和した後に、有機相を再び分離し、無水の硫酸マグネシウムで乾燥しかつ溶剤を 除去した。混合物1の収量は2.8g(理論値の87%)であった。 相特性:N49.11 例2 4−[トランス−4−プロピルシクロヘキシル]−ベンゾニトリル29%、 4−[トランス−4−ペンチルシクロヘキシル]−ベンゾニトリル41%、 4−[トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル]−ベンゾニトリル30% からなる混合物2の合成 a)ジエチルエーテル200ml中のフェニルマグネシウムブロミド18.1 g(0.1モル)の溶液に、撹拌しながら、ジエチルエーテル中に溶かした4− プロピルシクロヘキサノン3.61g(0.0258モル)、ペンチルシクロヘ キサノン5.5g(0.03272モル)及びヘプチルシクロヘキサノン4.2 2g(0.022モル)を滴加する。水浴上で2時間加熱し、その後冷却しかつ 破砕した氷200gを加えることにより加水分解する。引き続き、沈殿物がまさ に消滅する程の量の飽和塩化アンモニウム溶液を加える。エーテル相を分離しか つ水相をジエチルエーテルで2回 抽出する。合したエーテル性溶液を硫酸ナトリウムで乾燥しかつ引き続き真空中 で濃縮する。ほぼ1:1の比で生じたシス/トランス異性体の4−アルキル−1 −フェニルシクロヘキサノールを、シリカゲル60を充填したカラムで分離する (溶離剤:石油エーテル、沸点範囲50〜70℃、15%まで上昇する割合のジ エチルエーテルを含有する)。シス−生成物をH2/ラネーニッケルを用いてエ タノール中で保留下にかつトランス−生成物をパラジウム/活性炭(Pd10% )を用いてエタノール中で逆転下に加水分解する。 収量:12.51g b)a)で得られた生成物混合物を合し、その後フリーデル−クラフツに基づ きアセチル化する。このために、1,2−ジクロルエタンに塩化アルミニウム7 .21g(0.054モル)を混合する。この懸濁液に、水で冷却しながら慎重 に塩化アセチル3.7g(0.047モル)、引き続きジクロルエタン中に溶か した水素添加生成物を、内部温度が常にほぼ20℃に保たれるように滴加する。 室温で翌朝まで撹拌した後に、フラスコ内容物を慎重に氷水に注ぎかつ析出した 水酸化アルミニウムを多少の濃塩酸で溶解させる。次いで、有機相を分離しかつ 水相をなお2回1,2−ジクロルエタンで抽出する。合した抽出物をまず希釈し たカセイソーダ溶液で、引き続き水で洗浄する。炭酸カリウム上で乾燥した後に 、溶剤を除去しかつ該残留物を カラムクロマトグラフィーで精製する(シリカゲル60、トルエン/酢酸エステ ル3:1)。 引き続いてのハロホルム反応により、形成された生成物混合物をカルボン酸に 転化する。引き続き、該カルボン酸官能基をアミド及び引き続いてのPOCl3 での脱水を介してニトリル基に転化する。 収量:7.8g 相特性:N37I 例3 2−(4−ヘキソキシフェニル)−5−オクチル−ピリミジン30%、 2−(4−ヘプトキシフェニル)−5−オクチル−ピリミジン30%、 2−(4−オクトキシフェニル)−5−オクチル−ピリミジン40% からなる混合物3の合成 2−(4−ヘキソキシフェニル)−5−オクチル−ピリミジン70.75g( 0.25モル)、1−クロルエタン9.88g(0.082モル)、1−クロル ヘプタン10.63g(0.079モル)、1−クロルオクタン14.85g( 0..1モル)、炭酸カリウム41.5g(0.3モル)及びヨウ化カリウム1 gをDMF500ml中に溶かしかつ80℃で4時間撹拌する。後処理のために 、反応混合物を水に注ぎかつ有機相を分離する。有機相を先ず半濃縮HClでか つ次いで炭 酸ナトリウム溶液で振り出し、かつ引き続き硫酸ナトリウムで乾燥する。展開剤 としてトルエン/酢酸エステル(3/1)を用いたシリカゲルでのクロマトグラ フィー後に、濃縮後混合物3が94.7g得られた。 例4 1−[4′−(4″−アクリルオキシエトキシ)−ベンゾイルオキシ]−4− [4′−(2″−アクリルオキシブトキシ)−ベンゾイルオキシ]−3−クロル ベンゼン11.12%、 1−[4′−(4″−アクリルオキシブトキシ)−ベンゾイルオキシ]−4− [4′−(2″−アクリルオキシブトキシ)−ベンゾイルオキシ]−3−クロル ベンゼン11.11%、 1−[4′−(4″−アクリルオキシエトキシ)−ベンゾイルオキシ]−4− [4′−(2″−アクリルオキシブトキシ)−ベンゾイルオキシ]−3−クロル ベンゼン11.11%、 1−[4′−(4″−アクリルオキシヘキソキシ)−ベンゾイルオキシ]−4 −[4′−(2″−アクリルオキシブトキシ)−ベンゾイルオキシ]−3−クロ ルベンゼン11.11%、 1−[4′−(4″−アクリルオキシブトキシ)−ベンゾイルオキシ]−4− [4′−(2″−アクリルオキシヘキソキシ)−ベンゾイルオキシ]−3−クロ ルベンゼン11.11%、 1−[4′−(4″−アクリルオキシヘキソキシ)−ベンゾイルオキシ]−4 −[4′−(2″−アクリルオキシブトキシ)−ベンゾイルオキシ]−3−クロ ルベンゼン11.11%、 ビス−1,4−[4′-(4″−アクリルオキシブトキシ)−ベンゾイルオキ シ]−3−クロルベンゼン11.11%、 ビス−1,4−[4′-(4″−アクリルオキシヘキソキシ)−ベンゾイルオ キシ]−3−クロルベンゼン11.11%、 ビス−1,4−[4′−(4″−アクリルオキシエトキシ)−ベンゾイルオキ シ]−3−クロルベンゼン11.11% からなる混合物4の合成 ピリジン100ml中に、2−クロル−ヒドロキノン14.4g(0.1モル )を溶かす。室温で、トルエン100ml中の4−(o−アクリルオキシエトキ シ)−安息香酸クロリド19.92g(0.0666モル)、4−(o−アクリ ルオキシブトキシ)−安息香酸クロリド18.78g(0.0666モル)及び 4−(o−アクリルオキシヘキソキシ)−安息香酸クロリド20.65g(0. 0666モル)を滴加する。完全に添加した後に、反応混合物を60℃に加熱し かつこの温度で4時間撹拌する。反応の進行を薄膜クロマトグラフィーで追跡す る。反応の終了後に、反応混合物を 氷と濃塩酸からなる混合物に注ぎかつ有機相を分離する。この有機相を中和しか つ数回水酸化カリウム溶液で振り出す。最後に、有機相を中和し、硫酸ナトリウ ムで乾燥しかつ溶剤を除去する。混合物4の収量は54.1g(理論値の85% )であった。 相特性:N91〜98℃I 例5 4′−n−プロピル−4−シアノビフェニル15%、 4′−n−ペンチル−4−シアノビフェニル53%、 4′−n−ヘプチル−4−シアノビフェニル32% からなる混合物5の合成 4−ブロムビフェニル23.31g(0.1モル)及び三酸化アルミニウム1 7.5g(0.125モル)を乾燥ニトロベンゼン中で分散させた。該混合物中 に、塩化プロパノイル1.57g(0.017モル)、塩化ペンタノイル6.5 g(0.054モル)及び塩化ヘプタノイル4.31g(0.029モル)から なる混合物を、温度が20℃を越えないように滴加した。該混合物を室温で18 時間撹拌し、引き続き氷と水からなる混合物中に注ぐ。生じた懸濁液を30分間 撹拌しかつニトロベンゼン相をクロロホルムを加えた後に分離する。溶剤を蒸留 又は水蒸気蒸留により分離する。残留物をトルエンに取りかつ硫酸ナトリウム上 で乾燥する 。トルエンを減圧下に留去する。生成物を石油エーテル/酢酸エステル9:1を 用いてカラムクロマトグラフィーで精製する。収量は18gである。分光分析デ ータは前記化合物の混合物に相当する。 このようにして合成した混合物15gを、ジエチレングリコール中に溶かし、 90%のヒドラジン水和物7ml及び水酸化カリウム9gを加えかつ100℃に 加熱する。還流下に1時間加熱した後に、反応混合物を溶剤を留去しながら、容 量がほぼ14mlになるまで180℃に加熱する。冷却しながら、有機相をトル エンに取り、水で洗浄しかつ有機相を硫酸ナトリウムで乾燥する。溶剤を真空下 に留去しかつ残留物をエタノール中に取る。次いで、帯黄色の不純物を除去する ために、熱濾過し、次いでエタノールを真空で除去する。 収量:12.1g このように合成し、DMF中に溶かした混合物11gをシアン化銅(I)5. 57gと一緒に12時間加熱して還流させる。冷却中に、反応混合物中に塩化鉄 、濃塩酸及び水を加えかつ生じた混合物を約20℃で60〜75℃で撹拌する。 有機相をCH2Cl2で抽出する。生じた有機相を数回水で洗浄し、かつ引き続き 硫酸ナトリウムで乾燥する。該混合物をシリカゲル60でクロマトグラフィー( 溶離剤としてクロロホルム)により精製する。引き続いての真空蒸留により、高 精製を実施する。120〜130℃の浴温度で移行するフラクションを単離する 。無色の生成物の収量は6.1gである。 相特性:N51.7I 例6 式: からなる混合物6の合成 ヘキサヒドロキシトリフェニレン4.86g(0.015g)を酸素不含の無 水DMF中に溶かした。この溶液にブロムヘキサン8.66g(0.0525モ ル)、ブロムエチルアクリレート9.4g(0.0525モル)、炭酸カリウム 14.4g(0.105g)並びにフェノチアジン0.19gを加えかつ80℃ で6時間撹拌した。反応の終了後、冷却希塩酸で沈殿させ、吸引濾過しかつ乾燥 器内で乾燥した。引き続き、クロマトグラフィーにより精製しかつ溶剤を真空中 で除去した。 収量:10.9g NMR分析によれば、該混合物は、統計的に結合し てヘキシルオキシ43%及びエチルアクリレート側鎖57%を含有する。 該混合物は、不連続的六方晶に配列された相を有する。 例7 式: からなる混合物7の合成 ヘキサヒドロキシトリフェニレン6.6g(0.02モル)を、酸素不含のト ルエン中に溶かした。この溶液に、ピリジン0.12モル、及びトルエン100 ml中に溶かしたウンデカン酸クロリド14.4g(0.066モル)及びオク タン酸クロリド11.6g(0.066モル)からなる溶液を加えた。反応の終 了後に、反応混合物を慎重に氷水に注ぎかつ生じた沈殿物を吸引濾過した。クロ マトグラフィー精製後に、混合物16.4g(収率:63%)が得られた。 該混合物は、不連続の液晶質相を有する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI G02F 1/13 500 7709−2K G02F 1/13 500 (72)発明者 パウル デラフィール ドイツ連邦共和国 D−67061 ルートヴ ィッヒスハーフェン ムンデンハイマー シュトラーセ 148 (72)発明者 フランク マイアー ドイツ連邦共和国 D−67063 ルートヴ ィッヒスハーフェン カールシュトラーセ 13

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.一般式I: 又は一般式IV: [式中、 Z1,Z2は、重合可能な基、 Y1,Y2,Y3,Y4は、化学結合又は架橋基: Rは水素又はC1〜C4−アルキル、 m,n,sは、0又は1、 A1は、m=0である場合には、水素、C1〜C30−アルキル基(これはエーテ ル官能基で酸素により又は非隣接のイミノ基もしくはC1〜C4−アルキルイミノ 基により中断されていてもよい)又はハロゲン、ニトロ、シアン、トリフルオル メチル、ジフルオルメチル、又はm=1である場合には、C2〜C20−アルキレ ン基(これはエーテル官能基で酸素により又は非隣接のイミノ基もしくはC1〜 C4−アルキルイミノ基により中断されていてもよい)、 A2は、A1で定義した基(この場合、mに関する条件はnに関する相応する条 件により置き換えられる)、かつ A3は、C2〜C20−アルキレン基(この基は、エーテル官能基で酸素により又 は非隣接のイミノ基又はC1〜C4−アルキルイミノ基により中断されていてもよ い)を表す、この場合Z1,Y1,Y2,Y3,A1,A3及びM並びに変数m及びs は、これらは該式中に×6存在するので、同じか又は異なっていてもよい、 Mは、Y1〜Y4で定義した同じ又は異なった架橋基により結合された、2〜5 個の飽和もしくは不飽和5〜7員の炭素環式もしくは複素環式基からなるメソゲ ン基を表す]で示される液晶化合物の混合物を製造する方法において、 a)式IIa: の化合物の1種以上を自体公知の方法で、式IIaの化合物の1種だけを使用する 場合には、式IIIa: の複数の化合物と、又は式IIaの複数の化合物を使用する場合には、前記式III aの少なくとも1種の化合物と反応させる、但し上記式中、 X1はヒドロキシ、アミノ、カルボキシルもしくは別の縮合性基又はハロゲン もしくは別の離脱基を表す、又は b)式IIb: の1種以上の化合物を自体公知の方法で、式IIbの化合物の1種だけを使用する 場合には、式IIIb: の複数の化合物と、又は式IIbの複数の化合物を使用する場合には、前記式III bの少なくとも1種の化合物と反応させる、但し上記式中、 M1及びM2は、1〜2個の飽和もしくは不飽和の5〜7員環の炭素環式もしく は複素環式基からなるメソゲン基Mの成分、但しM1及び/又はM2がこのような 基の2つからなる場合には、これらはY1で定義した架橋基により結合されてい る、 X2は、O,S又はNR及び X3は、ハロゲン又はOHを表す、又は c)式IIc: の1種以上の化合物を自体公知の方法で、式IIcの化合物の1種だけを使用する 場合には、式IIIc: の複数の化合物と、又は式IIcの複数の化合物を使用 する場合には、前記式IIIcの少なくとも1種の化合物と反応させる、 d)式IVa: (Z1−Y1)m−A1−(Y2−M−Y3−A3−)sX1 IVa [式中、X1は前記のもの表す]の複数の化合物を自体公知方法で2,3,6, 7,10,11−ヘキサヒドロキシ−トリフェニレン(IVb): と反応させることを特徴とする、液晶化合物の混合物の製造方法。 2.一般式I又はIVで示され、該式中Mが以下の構造: [式中、R1,R2及びR3は水素、OCH3,CH3,F,Cl又はBrを表す] を表す液晶化合物を含有する混合物を製造する、請求項1記載の方法。 3.一般式I又はIVで示され、該式中Z1及び/又はZ2が以下の構造: を表す液晶化合物を含有する混合物を製造する、請求項1又は2記載の方法。
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