JPH1050603A - 回転式基板処理装置 - Google Patents
回転式基板処理装置Info
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- JPH1050603A JPH1050603A JP9099962A JP9996297A JPH1050603A JP H1050603 A JPH1050603 A JP H1050603A JP 9099962 A JP9099962 A JP 9099962A JP 9996297 A JP9996297 A JP 9996297A JP H1050603 A JPH1050603 A JP H1050603A
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- chemical
- temperature
- pipe
- substrate processing
- processing apparatus
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Weting (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 複数個の薬液処理部を備えながらも装置全体
を小型化するとともに保守点検や立ち上げおよび調整を
手間少なく行うことができるようにする。 【解決手段】 基板を回転可能に保持する複数個の薬液
処理部と、その薬液処理部に薬液を供給する薬液供給手
段とを備え、この薬液供給手段は、回転可能な支持アー
ムと、この支持アームに取り付けられたディスペンス部
５と、薬液を所定の温度に調整するためにディスペンス
部５に付設された温調手段６とを備えるとともに、ディ
スペンス部５を２個以上の薬液処理部にわたって変位可
能に構成されている。
を小型化するとともに保守点検や立ち上げおよび調整を
手間少なく行うことができるようにする。 【解決手段】 基板を回転可能に保持する複数個の薬液
処理部と、その薬液処理部に薬液を供給する薬液供給手
段とを備え、この薬液供給手段は、回転可能な支持アー
ムと、この支持アームに取り付けられたディスペンス部
５と、薬液を所定の温度に調整するためにディスペンス
部５に付設された温調手段６とを備えるとともに、ディ
スペンス部５を２個以上の薬液処理部にわたって変位可
能に構成されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、液
晶表示装置用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基
板、光ディスク用基板などの基板を回転させながら、ネ
ガレジスト液、ポジレジスト液、現像液、エッチング液
などの薬液を基板に供給するために、基板を回転可能に
保持する複数個の薬液処理部と、その薬液処理部に薬液
を供給する薬液供給手段とを備えた回転式基板処理装置
に関する。
晶表示装置用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基
板、光ディスク用基板などの基板を回転させながら、ネ
ガレジスト液、ポジレジスト液、現像液、エッチング液
などの薬液を基板に供給するために、基板を回転可能に
保持する複数個の薬液処理部と、その薬液処理部に薬液
を供給する薬液供給手段とを備えた回転式基板処理装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】上述のような回転式基板処理装置として
は、従来、次のようなものが知られている。
は、従来、次のようなものが知られている。
【０００３】Ａ．第１従来例 図９は、回転式基板処理装置の第１従来例を示す概略平
面図であり、２個の基板処理ユニット０１，０１のそれ
ぞれにおいて、基板Ｗを鉛直軸芯Ｐ１周りで回転可能に
保持するとともに、供給した薬液の飛散を防止するカッ
プ０２とを備えた薬液処理部０３と、その薬液処理部０
３に薬液を供給する薬液供給手段０４とが設けられてい
る。
面図であり、２個の基板処理ユニット０１，０１のそれ
ぞれにおいて、基板Ｗを鉛直軸芯Ｐ１周りで回転可能に
保持するとともに、供給した薬液の飛散を防止するカッ
プ０２とを備えた薬液処理部０３と、その薬液処理部０
３に薬液を供給する薬液供給手段０４とが設けられてい
る。
【０００４】薬液供給手段０４は、鉛直軸芯Ｐ２周りで
回転可能に設けられた支持アーム０５に、互いに異種の
薬液を供給する４個のディスペンス部０６を取り付けて
構成されている。そして、これらのディスペンス部０６
を、基板Ｗの上方の供給位置と基板Ｗの上方から外れた
非供給位置とに変位し、所望の薬液を選択して基板Ｗに
供給できるようになっている。
回転可能に設けられた支持アーム０５に、互いに異種の
薬液を供給する４個のディスペンス部０６を取り付けて
構成されている。そして、これらのディスペンス部０６
を、基板Ｗの上方の供給位置と基板Ｗの上方から外れた
非供給位置とに変位し、所望の薬液を選択して基板Ｗに
供給できるようになっている。
【０００５】Ｂ．第２従来例 図１０は、回転式基板処理装置の第２従来例を示す概略
平面図であり、第１従来例と異なるところは、次の通り
である。
平面図であり、第１従来例と異なるところは、次の通り
である。
【０００６】すなわち、水平方向に直線的に移動可能に
支持アーム０７が設けられるとともに、支持アーム０７
の先端の移動軌跡に沿って、互いに異種の薬液を供給す
る４個のディスペンス部０８が設けられている。さら
に、これらのディスペンス部０８のうちの所望のディス
ペンス部０８を支持アーム０７により選択して、そこの
ノズルを着脱可能に保持し、基板Ｗの上方の供給位置と
基板Ｗの上方から外れた非供給位置とに変位し、所望の
薬液を選択して基板Ｗに供給できるように薬液供給手段
０４が構成されている。他の構成は第１従来例と同じで
ある。
支持アーム０７が設けられるとともに、支持アーム０７
の先端の移動軌跡に沿って、互いに異種の薬液を供給す
る４個のディスペンス部０８が設けられている。さら
に、これらのディスペンス部０８のうちの所望のディス
ペンス部０８を支持アーム０７により選択して、そこの
ノズルを着脱可能に保持し、基板Ｗの上方の供給位置と
基板Ｗの上方から外れた非供給位置とに変位し、所望の
薬液を選択して基板Ｗに供給できるように薬液供給手段
０４が構成されている。他の構成は第１従来例と同じで
ある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た第１および第２従来例の場合には、いずれも次のよう
な欠点があった。
た第１および第２従来例の場合には、いずれも次のよう
な欠点があった。
【０００８】薬液処理部０３，０３ごとに薬液供給手段
０４，０４を設けているために装置全体が大型化し、装
置を設置するための占有面積が大きくなるとともに、ク
リーンルームの容積が大になり、敷地面積増大に起因す
るイニシャルコストが高くなるとともに、クリーンルー
ムの維持に起因するランニングコストが増大して不経済
になる欠点があった。
０４，０４を設けているために装置全体が大型化し、装
置を設置するための占有面積が大きくなるとともに、ク
リーンルームの容積が大になり、敷地面積増大に起因す
るイニシャルコストが高くなるとともに、クリーンルー
ムの維持に起因するランニングコストが増大して不経済
になる欠点があった。
【０００９】また、薬液供給手段０４を構成するノズ
ル、ポンプなどの薬液供給装置、配管および制御弁それ
ぞれとしても、基板処理ユニット０１，０１の数だけ必
要になり、部品点数が多くなって高価になるとともに、
保守点検に手間を要する欠点があった。そのうえ、基板
処理ユニット０１，０１相互での器差を無くすために薬
液供給手段０４，０４間の調整が必要で、立ち上げおよ
び調整に手間を要する欠点があった。
ル、ポンプなどの薬液供給装置、配管および制御弁それ
ぞれとしても、基板処理ユニット０１，０１の数だけ必
要になり、部品点数が多くなって高価になるとともに、
保守点検に手間を要する欠点があった。そのうえ、基板
処理ユニット０１，０１相互での器差を無くすために薬
液供給手段０４，０４間の調整が必要で、立ち上げおよ
び調整に手間を要する欠点があった。
【００１０】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、複数個の薬液処理部を備えながらも装
置全体を小型化するとともに保守点検や立ち上げおよび
調整を手間少なく行うことができるようにすることを目
的とする。
たものであって、複数個の薬液処理部を備えながらも装
置全体を小型化するとともに保守点検や立ち上げおよび
調整を手間少なく行うことができるようにすることを目
的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の回転式基板処理装置は、基板を回
転可能に保持する複数個の薬液処理部と、その薬液処理
部に薬液を供給する薬液供給手段とを備えた回転式基板
処理装置であって、前記薬液供給手段は、回転可能な支
持アームと、この支持アームに取り付けられたディスペ
ンス部と、薬液を所定の温度に調整するために前記ディ
スペンス部に付設された温調手段とを備えるとともに、
前記ディスペンス部を２個以上の薬液処理部にわたって
変位可能に構成されていることを特徴とするものであ
る。
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の回転式基板処理装置は、基板を回
転可能に保持する複数個の薬液処理部と、その薬液処理
部に薬液を供給する薬液供給手段とを備えた回転式基板
処理装置であって、前記薬液供給手段は、回転可能な支
持アームと、この支持アームに取り付けられたディスペ
ンス部と、薬液を所定の温度に調整するために前記ディ
スペンス部に付設された温調手段とを備えるとともに、
前記ディスペンス部を２個以上の薬液処理部にわたって
変位可能に構成されていることを特徴とするものであ
る。
【００１２】また、請求項２に記載の回転式基板処理装
置は、請求項１に記載の回転式基板処理装置において、
前記ディスペンス部は、薬液タンクに配管を介して連通
接続されたノズルを備え、前記温調手段は、前記ノズル
付近まで前記配管に外嵌した外側配管と、前記外側配管
に連通接続された送り配管と、前記外側配管に連通接続
された戻り配管と、前記送り配管に所定温度の恒温水を
供給するとともに前記戻り配管から恒温水を回収する恒
温水ユニットとを備え、前記配管内の薬液の温度を、前
記外側配管内の恒温水との熱交換によって所定温度に調
整するようにしたことを特徴とするものである。
置は、請求項１に記載の回転式基板処理装置において、
前記ディスペンス部は、薬液タンクに配管を介して連通
接続されたノズルを備え、前記温調手段は、前記ノズル
付近まで前記配管に外嵌した外側配管と、前記外側配管
に連通接続された送り配管と、前記外側配管に連通接続
された戻り配管と、前記送り配管に所定温度の恒温水を
供給するとともに前記戻り配管から恒温水を回収する恒
温水ユニットとを備え、前記配管内の薬液の温度を、前
記外側配管内の恒温水との熱交換によって所定温度に調
整するようにしたことを特徴とするものである。
【００１３】また、請求項３に記載の回転式基板処理装
置は、請求項２に記載の回転式基板処理装置において、
前記外側配管は恒温水の温度を測定する温度センサをノ
ズル側に備え、前記恒温水ユニットは前記温度センサの
測定値に基づいて恒温水の温度を制御するようにしたこ
とを特徴とするものである。
置は、請求項２に記載の回転式基板処理装置において、
前記外側配管は恒温水の温度を測定する温度センサをノ
ズル側に備え、前記恒温水ユニットは前記温度センサの
測定値に基づいて恒温水の温度を制御するようにしたこ
とを特徴とするものである。
【００１４】
【作用】請求項１に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。すなわち、支持アームに取り付けられたディスペン
ス部を２個以上の薬液処理部にわたって移動可能に構成
しているので、１個の薬液供給手段により、２個以上の
薬液処理部に対して薬液を供給し、薬液供給手段の個数
を薬液処理部の個数よりも少なくすることができる。さ
らに、薬液は温調手段により所定温度に調整されている
ので、薬液を所定温度にして同一条件で２個以上の薬液
処理部の基板に供給することができる。
る。すなわち、支持アームに取り付けられたディスペン
ス部を２個以上の薬液処理部にわたって移動可能に構成
しているので、１個の薬液供給手段により、２個以上の
薬液処理部に対して薬液を供給し、薬液供給手段の個数
を薬液処理部の個数よりも少なくすることができる。さ
らに、薬液は温調手段により所定温度に調整されている
ので、薬液を所定温度にして同一条件で２個以上の薬液
処理部の基板に供給することができる。
【００１５】また、請求項２に記載の発明によれば、配
管を外嵌した外側配管に、恒温水ユニットで所定温度に
された恒温水を送り配管から供給するとともに戻り配管
から回収することにより、熱交換によって配管内の薬液
を間接的に所定の温度に調整することができる。したが
って、薬液を所定温度にして同一条件でノズルから基板
に供給することができる。
管を外嵌した外側配管に、恒温水ユニットで所定温度に
された恒温水を送り配管から供給するとともに戻り配管
から回収することにより、熱交換によって配管内の薬液
を間接的に所定の温度に調整することができる。したが
って、薬液を所定温度にして同一条件でノズルから基板
に供給することができる。
【００１６】また、請求項３に記載の発明によれば、恒
温水ユニットから離れている関係で温度が低下しやすい
外側配管のノズル側に温度センサを配設したので、薬液
を正確に所定温度に調整することができる。
温水ユニットから離れている関係で温度が低下しやすい
外側配管のノズル側に温度センサを配設したので、薬液
を正確に所定温度に調整することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施例を説明する。
施例を説明する。
【００１８】＜第１実施例＞図１は、本発明に係る回転
式基板処理装置の第１実施例を示す全体概略平面図であ
り、基板Ｗを鉛直軸芯Ｐ１周りで回転可能に保持すると
ともに、供給した薬液の飛散を防止するカップ１を備え
た薬液処理部２が２個設けられている。さらにそれら薬
液処理部２，２間には、薬液を供給する１個の薬液供給
手段３が設けられている。
式基板処理装置の第１実施例を示す全体概略平面図であ
り、基板Ｗを鉛直軸芯Ｐ１周りで回転可能に保持すると
ともに、供給した薬液の飛散を防止するカップ１を備え
た薬液処理部２が２個設けられている。さらにそれら薬
液処理部２，２間には、薬液を供給する１個の薬液供給
手段３が設けられている。
【００１９】薬液供給手段３は、鉛直軸芯Ｐ２周りで回
転可能に設けられた支持アーム４に、互いに異種の薬液
を供給する４個のディスペンス部５を取り付けて構成さ
れている。また、基板Ｗの上方の供給位置と基板Ｗの上
方から外れた非供給位置とにディスペンス部５を変位し
て、所望の薬液を選択して基板Ｗに供給できるようにな
っている。
転可能に設けられた支持アーム４に、互いに異種の薬液
を供給する４個のディスペンス部５を取り付けて構成さ
れている。また、基板Ｗの上方の供給位置と基板Ｗの上
方から外れた非供給位置とにディスペンス部５を変位し
て、所望の薬液を選択して基板Ｗに供給できるようにな
っている。
【００２０】ディスペンス部５のそれぞれは、図２の概
略側面図に示すように、薬液の温度を所定の温度に調整
する温調手段６をノズル７に付設して構成されている。
このノズル７と薬液容器８とは、電磁操作型のサックバ
ックバルブ９と電磁操作によるエアー圧で開閉する開閉
弁１０と薬液ポンプ１１とを介装した配管１２を介して
接続されている。
略側面図に示すように、薬液の温度を所定の温度に調整
する温調手段６をノズル７に付設して構成されている。
このノズル７と薬液容器８とは、電磁操作型のサックバ
ックバルブ９と電磁操作によるエアー圧で開閉する開閉
弁１０と薬液ポンプ１１とを介装した配管１２を介して
接続されている。
【００２１】温調手段６は、配管１２に外嵌した外側配
管１３と恒温水ユニット１４とを、ポンプ１５を介装し
た送り配管１６と戻り配管１７とを介して接続して構成
されている。恒温水ユニット１４には、冷却水を供給す
る冷却管１８とヒーター１９とが設けられ、外側配管１
３のノズル７に近い箇所に設けた温度センサ２０で計測
される温度に基づき、冷却水の供給・停止、ならびに、
ヒーター１９の作動を自動的に行い、所定温度の恒温水
を作り、その恒温水との熱交換によって薬液の温度を所
定の温度に調整できるようになっている。このように恒
温水ユニット１４から離れている関係上、温度が低下し
やすい外側配管１３のノズル７側で温度を計測するの
で、正確に薬液温度を調整することができる。
管１３と恒温水ユニット１４とを、ポンプ１５を介装し
た送り配管１６と戻り配管１７とを介して接続して構成
されている。恒温水ユニット１４には、冷却水を供給す
る冷却管１８とヒーター１９とが設けられ、外側配管１
３のノズル７に近い箇所に設けた温度センサ２０で計測
される温度に基づき、冷却水の供給・停止、ならびに、
ヒーター１９の作動を自動的に行い、所定温度の恒温水
を作り、その恒温水との熱交換によって薬液の温度を所
定の温度に調整できるようになっている。このように恒
温水ユニット１４から離れている関係上、温度が低下し
やすい外側配管１３のノズル７側で温度を計測するの
で、正確に薬液温度を調整することができる。
【００２２】以上の構成により、１個の薬液供給手段３
でもって２個の薬液処理部２，２に対して選択的に、ネ
ガレジスト液、ポジレジスト液、現像液などの所望の薬
液を基板Ｗに供給できるようになっている。
でもって２個の薬液処理部２，２に対して選択的に、ネ
ガレジスト液、ポジレジスト液、現像液などの所望の薬
液を基板Ｗに供給できるようになっている。
【００２３】＜第２実施例＞図３は、本発明に係る回転
式基板処理装置の第２実施例を示す全体概略平面図であ
り、第１実施例と異なるところは次の通りである。
式基板処理装置の第２実施例を示す全体概略平面図であ
り、第１実施例と異なるところは次の通りである。
【００２４】すなわち、水平方向に直線的に移動可能に
支持アーム２１を設けられるとともに、支持アーム２１
の先端の移動軌跡に沿って、互いに異種の薬液を供給す
る４個のディスペンス部２２が設けられ、かつ、支持ア
ーム２１により、ディスペンス部２２のうちの所望のデ
ィスペンス部２２を選択して、そこのノズルを着脱可能
に保持するようになっている。そして、そのノズルを基
板Ｗの上方の供給位置と基板Ｗの上方から外れた非供給
位置とに変位し、１個の薬液供給手段３でもって２個の
薬液処理部２，２に対して選択的に、ネガレジスト液、
ポジレジスト液、現像液などの所望の薬液を選択して基
板Ｗに供給できるように薬液供給手段３が構成されてい
る。他の構成は第１実施例と同じであり、同一図番を付
すことにより、その説明を省略する。
支持アーム２１を設けられるとともに、支持アーム２１
の先端の移動軌跡に沿って、互いに異種の薬液を供給す
る４個のディスペンス部２２が設けられ、かつ、支持ア
ーム２１により、ディスペンス部２２のうちの所望のデ
ィスペンス部２２を選択して、そこのノズルを着脱可能
に保持するようになっている。そして、そのノズルを基
板Ｗの上方の供給位置と基板Ｗの上方から外れた非供給
位置とに変位し、１個の薬液供給手段３でもって２個の
薬液処理部２，２に対して選択的に、ネガレジスト液、
ポジレジスト液、現像液などの所望の薬液を選択して基
板Ｗに供給できるように薬液供給手段３が構成されてい
る。他の構成は第１実施例と同じであり、同一図番を付
すことにより、その説明を省略する。
【００２５】＜第３実施例＞図４は、本発明に係る回転
式基板処理装置の第３実施例を示す全体概略平面図であ
り、第１実施例と異なるところは次の通りである。
式基板処理装置の第３実施例を示す全体概略平面図であ
り、第１実施例と異なるところは次の通りである。
【００２６】すなわち、所定半径の仮想円の軌跡に沿う
ように３個の薬液処理部２が設けられるとともに、仮想
円の中心の鉛直軸芯Ｐ２周りで回転可能に１個の薬液供
給手段３の支持アーム４が設けられ、１個の薬液供給手
段３でもって３個の薬液処理部２に対して選択的に、ネ
ガレジスト液、ポジレジスト液、現像液などの所望の薬
液を基板Ｗに供給できるようになっている。他の構成は
第１実施例と同じであり、同一図番を付すことにより、
その説明を省略する。
ように３個の薬液処理部２が設けられるとともに、仮想
円の中心の鉛直軸芯Ｐ２周りで回転可能に１個の薬液供
給手段３の支持アーム４が設けられ、１個の薬液供給手
段３でもって３個の薬液処理部２に対して選択的に、ネ
ガレジスト液、ポジレジスト液、現像液などの所望の薬
液を基板Ｗに供給できるようになっている。他の構成は
第１実施例と同じであり、同一図番を付すことにより、
その説明を省略する。
【００２７】＜第４実施例＞図５は、本発明に係る回転
式基板処理装置の第４実施例を示す全体概略平面図であ
り、第２実施例と異なるところは次の通りである。
式基板処理装置の第４実施例を示す全体概略平面図であ
り、第２実施例と異なるところは次の通りである。
【００２８】すなわち、３個の薬液処理部２が直線的に
並んで設けられ、その薬液処理部２の並設方向に直線的
に移動可能に支持アーム２１が設けられるとともに、所
定の薬液処理部２，２間に互いに異種の薬液を供給する
４個のディスペンス部２２が設けられ、かつ、支持アー
ム２１により、ディスペンス部２２のうちの所望のディ
スペンス部２２を選択して、そこのノズルを着脱可能に
保持するようになっている。そして、保持したノズルを
基板Ｗの上方の供給位置と、それらの基板Ｗの上方から
外れた非供給位置とに変位し、１個の薬液供給手段３で
もって３個の薬液処理部２に対して選択的に、ネガレジ
スト液、ポジレジスト液、現像液などの所望の薬液を選
択して基板Ｗに供給できるように構成されている。他の
構成は第２実施例と同じであり、同一図番を付すことに
より、その説明を省略する。
並んで設けられ、その薬液処理部２の並設方向に直線的
に移動可能に支持アーム２１が設けられるとともに、所
定の薬液処理部２，２間に互いに異種の薬液を供給する
４個のディスペンス部２２が設けられ、かつ、支持アー
ム２１により、ディスペンス部２２のうちの所望のディ
スペンス部２２を選択して、そこのノズルを着脱可能に
保持するようになっている。そして、保持したノズルを
基板Ｗの上方の供給位置と、それらの基板Ｗの上方から
外れた非供給位置とに変位し、１個の薬液供給手段３で
もって３個の薬液処理部２に対して選択的に、ネガレジ
スト液、ポジレジスト液、現像液などの所望の薬液を選
択して基板Ｗに供給できるように構成されている。他の
構成は第２実施例と同じであり、同一図番を付すことに
より、その説明を省略する。
【００２９】＜第５実施例＞図６は、本発明に係る回転
式基板処理装置の第５実施例を示す全体概略平面図であ
り、第１実施例と異なるところは次の通りである。
式基板処理装置の第５実施例を示す全体概略平面図であ
り、第１実施例と異なるところは次の通りである。
【００３０】すなわち、３個の薬液処理部２が並設され
るとともに、隣合う薬液処理部２，２間それぞれに、鉛
直軸芯Ｐ２周りで回転可能に薬液供給手段３の支持アー
ム４が設けられ、２個の薬液供給手段３でもって３個の
薬液処理部２に対して選択的に、ネガレジスト液、ポジ
レジスト液、現像液などの所望の薬液を基板Ｗに供給で
きるようになっている。他の構成は第１実施例と同じで
あり、同一図番を付すことにより、その説明を省略す
る。この第５実施例の構成では、中央に配置された薬液
処理部２には、２個の薬液供給手段３から交互に薬液を
供給することが可能である。
るとともに、隣合う薬液処理部２，２間それぞれに、鉛
直軸芯Ｐ２周りで回転可能に薬液供給手段３の支持アー
ム４が設けられ、２個の薬液供給手段３でもって３個の
薬液処理部２に対して選択的に、ネガレジスト液、ポジ
レジスト液、現像液などの所望の薬液を基板Ｗに供給で
きるようになっている。他の構成は第１実施例と同じで
あり、同一図番を付すことにより、その説明を省略す
る。この第５実施例の構成では、中央に配置された薬液
処理部２には、２個の薬液供給手段３から交互に薬液を
供給することが可能である。
【００３１】＜第６実施例＞図７は、本発明に係る回転
式基板処理装置の第６実施例を示す全体概略平面図であ
り、第２実施例と異なるところは次の通りである。
式基板処理装置の第６実施例を示す全体概略平面図であ
り、第２実施例と異なるところは次の通りである。
【００３２】すなわち、３個の薬液処理部２が直線的に
並設され、隣合う薬液処理部２，２間それぞれに、その
薬液処理部２の並設方向に直線的に移動可能に支持アー
ム２１が設けられるとともに、互いに異種の薬液を供給
する４個のディスペンス部２２が設けられ、支持アーム
２１により、ディスペンス部２２のうちの所望のディス
ペンス部２２を選択して、そこのノズルを着脱可能に保
持する。そして、基板Ｗの上方の供給位置とそれら基板
Ｗの上方から外れた非供給位置とに保持したノズルを変
位し、２個の薬液供給手段３でもって３個の薬液処理部
２に対して選択的に、ネガレジスト液、ポジレジスト
液、現像液などの所望の薬液を選択して基板Ｗに供給で
きるように構成されている。他の構成は第２実施例と同
じであり、同一図番を付すことにより、その説明を省略
する。この第６実施例の構成では、中央に配置された薬
液処理部２には、２個の薬液供給手段３のどちらからで
も薬液を供給することが可能である。
並設され、隣合う薬液処理部２，２間それぞれに、その
薬液処理部２の並設方向に直線的に移動可能に支持アー
ム２１が設けられるとともに、互いに異種の薬液を供給
する４個のディスペンス部２２が設けられ、支持アーム
２１により、ディスペンス部２２のうちの所望のディス
ペンス部２２を選択して、そこのノズルを着脱可能に保
持する。そして、基板Ｗの上方の供給位置とそれら基板
Ｗの上方から外れた非供給位置とに保持したノズルを変
位し、２個の薬液供給手段３でもって３個の薬液処理部
２に対して選択的に、ネガレジスト液、ポジレジスト
液、現像液などの所望の薬液を選択して基板Ｗに供給で
きるように構成されている。他の構成は第２実施例と同
じであり、同一図番を付すことにより、その説明を省略
する。この第６実施例の構成では、中央に配置された薬
液処理部２には、２個の薬液供給手段３のどちらからで
も薬液を供給することが可能である。
【００３３】図８は、薬液供給手段の変形例を示す側面
図であり、前述実施例の薬液ポンプ１１に代えて、密閉
型の薬液容器８に、圧力計２３を備えたレギュレータ２
４とフィルタ２５とを介装した配管２６を介して窒素ガ
ス（Ｎ2 ガス）を吹き込み、加圧によって薬液を供給す
るように構成されている。
図であり、前述実施例の薬液ポンプ１１に代えて、密閉
型の薬液容器８に、圧力計２３を備えたレギュレータ２
４とフィルタ２５とを介装した配管２６を介して窒素ガ
ス（Ｎ2 ガス）を吹き込み、加圧によって薬液を供給す
るように構成されている。
【００３４】前述した温調手段６としては、電子冷熱方
式やチラーによって恒温水を作るように構成しても良
い。
式やチラーによって恒温水を作るように構成しても良
い。
【００３５】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、１個の薬液供給手段を２個以
上の薬液処理部に対して共用するから、薬液処理部の個
数に比べて薬液供給手段の個数を少なくできる。したが
って、薬液供給手段を構成している支持アーム、ディス
ペンス部、温調手段を薬液処理部の個数に比較して少な
くすることができて装置全体を小型化でき、装置を設置
するための占有面積が小さくなるとともに、クリーンル
ームの容積が小になり、敷地面積に関わるイニシャルコ
スト、および、クリーンルームの維持に関わるランニン
グコストのいずれをも安価にできて経済的である。
１に記載の発明によれば、１個の薬液供給手段を２個以
上の薬液処理部に対して共用するから、薬液処理部の個
数に比べて薬液供給手段の個数を少なくできる。したが
って、薬液供給手段を構成している支持アーム、ディス
ペンス部、温調手段を薬液処理部の個数に比較して少な
くすることができて装置全体を小型化でき、装置を設置
するための占有面積が小さくなるとともに、クリーンル
ームの容積が小になり、敷地面積に関わるイニシャルコ
スト、および、クリーンルームの維持に関わるランニン
グコストのいずれをも安価にできて経済的である。
【００３６】さらに、薬液を所定温度にして同一条件で
２個以上の薬液処理部の基板に供給することができるの
で、薬液の温度変動に起因して処理が不均一となること
を防止することができる。
２個以上の薬液処理部の基板に供給することができるの
で、薬液の温度変動に起因して処理が不均一となること
を防止することができる。
【００３７】また、薬液供給手段を構成する支持アー
ム、ディスペンス部、温調手段の個数を減少できて安価
にできるとともに、それらに対する保守点検を手間少な
くできるようになった。
ム、ディスペンス部、温調手段の個数を減少できて安価
にできるとともに、それらに対する保守点検を手間少な
くできるようになった。
【００３８】しかも、共用によって薬液を供給する２個
以上の薬液処理部において、器差を無くすことができ、
立ち上げおよび調整を手間少なく行うことができるよう
になった。
以上の薬液処理部において、器差を無くすことができ、
立ち上げおよび調整を手間少なく行うことができるよう
になった。
【００３９】また、請求項２に記載の発明によれば、薬
液を所定温度にして同一条件でノズルから基板に供給す
ることができ、薬液の温度変動を防止して均一な処理を
実現することができる。
液を所定温度にして同一条件でノズルから基板に供給す
ることができ、薬液の温度変動を防止して均一な処理を
実現することができる。
【００４０】また、請求項３に記載の発明によれば、薬
液を正確に所定温度に調整することができるので、薬液
に応じた好適な温度に正確に調整でき、好適に処理を施
すことができる。
液を正確に所定温度に調整することができるので、薬液
に応じた好適な温度に正確に調整でき、好適に処理を施
すことができる。
【図１】本発明に係る回転式基板処理装置の第１実施例
を示す全体概略平面図である。
を示す全体概略平面図である。
【図２】概略側面図である。
【図３】本発明に係る回転式基板処理装置の第２実施例
を示す全体概略平面図である。
を示す全体概略平面図である。
【図４】本発明に係る回転式基板処理装置の第３実施例
を示す全体概略平面図である。
を示す全体概略平面図である。
【図５】本発明に係る回転式基板処理装置の第４実施例
を示す全体概略平面図である。
を示す全体概略平面図である。
【図６】本発明に係る回転式基板処理装置の第５実施例
を示す全体概略平面図である。
を示す全体概略平面図である。
【図７】本発明に係る回転式基板処理装置の第６実施例
を示す全体概略平面図である。
を示す全体概略平面図である。
【図８】薬液供給手段の変形例を示す要部の概略側面図
である。
である。
【図９】第１従来例を示す全体概略平面図である。
【図１０】第２従来例を示す全体概略平面図である。
Ｗ…基板 ２…薬液処理部 ３…薬液供給手段 ４…支持アーム ５…ディスペンス部 ６…温調手段 ７…ノズル ８…薬液容器 １２…配管 １３…外側配管 １４…恒温水ユニット １６…送り配管 １７…戻り配管 ２０…温度センサ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/306 Ｊ (72)発明者 辻 雅夫 京都府京都市伏見区羽束師古川町322 大 日本スクリーン製造株式会社洛西工場内 (72)発明者 久井 章博 京都府京都市伏見区羽束師古川町322 大 日本スクリーン製造株式会社洛西工場内 (72)発明者 児玉 光正 京都府京都市伏見区羽束師古川町322 大 日本スクリーン製造株式会社洛西工場内 (72)発明者 松永 実信 京都府京都市伏見区羽束師古川町322 大 日本スクリーン製造株式会社洛西工場内 (72)発明者 八木 真伸 京都府京都市伏見区羽束師古川町322 大 日本スクリーン製造株式会社洛西工場内 (72)発明者 中村 靖 京都府京都市伏見区羽束師古川町322 大 日本スクリーン製造株式会社洛西工場内 (72)発明者 佐藤 誠也 京都府京都市伏見区羽束師古川町322 大 日本スクリーン製造株式会社洛西工場内 (72)発明者 小林 一平 京都府京都市伏見区羽束師古川町322 大 日本スクリーン製造株式会社洛西工場内
Claims (3)
- 【請求項１】 基板を回転可能に保持する複数個の薬液
処理部と、その薬液処理部に薬液を供給する薬液供給手
段とを備えた回転式基板処理装置であって、 前記薬液供給手段は、回転可能な支持アームと、この支
持アームに取り付けられたディスペンス部と、薬液を所
定の温度に調整するために前記ディスペンス部に付設さ
れた温調手段とを備えるとともに、前記ディスペンス部
を２個以上の薬液処理部にわたって変位可能に構成され
ていることを特徴とする回転式基板処理装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の回転式基板処理装置に
おいて、前記ディスペンス部は、薬液タンクに配管を介
して連通接続されたノズルを備え、前記温調手段は、前
記ノズル付近まで前記配管に外嵌した外側配管と、前記
外側配管に連通接続された送り配管と、前記外側配管に
連通接続された戻り配管と、前記送り配管に所定温度の
恒温水を供給するとともに前記戻り配管から恒温水を回
収する恒温水ユニットとを備え、前記配管内の薬液の温
度を、前記外側配管内の恒温水との熱交換によって所定
温度に調整するようにしたことを特徴とする回転式基板
処理装置。 - 【請求項３】 請求項２に記載の回転式基板処理装置に
おいて、前記外側配管は恒温水の温度を測定する温度セ
ンサをノズル側に備え、前記恒温水ユニットは前記温度
センサの測定値に基づいて恒温水の温度を制御するよう
にしたことを特徴とする回転式基板処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9099962A JPH1050603A (ja) | 1997-04-17 | 1997-04-17 | 回転式基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9099962A JPH1050603A (ja) | 1997-04-17 | 1997-04-17 | 回転式基板処理装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4097265A Division JPH05267148A (ja) | 1992-03-23 | 1992-03-23 | 回転式基板処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1050603A true JPH1050603A (ja) | 1998-02-20 |
Family
ID=14261312
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9099962A Pending JPH1050603A (ja) | 1997-04-17 | 1997-04-17 | 回転式基板処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1050603A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007533125A (ja) * | 2004-04-10 | 2007-11-15 | フォルシュングスツェントルム・ユーリッヒ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | 透明で伝導性の酸化物層を持つ基板を洗浄およびエッチングする方法並びに該方法を実施する装置 |
| KR100951929B1 (ko) | 2008-07-08 | 2010-04-09 | 주식회사 애플티 | 항온수 순환장치 |
| JP2016157851A (ja) * | 2015-02-25 | 2016-09-01 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置 |
| US10297476B2 (en) | 2015-02-25 | 2019-05-21 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
-
1997
- 1997-04-17 JP JP9099962A patent/JPH1050603A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007533125A (ja) * | 2004-04-10 | 2007-11-15 | フォルシュングスツェントルム・ユーリッヒ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | 透明で伝導性の酸化物層を持つ基板を洗浄およびエッチングする方法並びに該方法を実施する装置 |
| KR100951929B1 (ko) | 2008-07-08 | 2010-04-09 | 주식회사 애플티 | 항온수 순환장치 |
| JP2016157851A (ja) * | 2015-02-25 | 2016-09-01 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置 |
| US10297476B2 (en) | 2015-02-25 | 2019-05-21 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
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