JPH10509247A - 配向した染料を含有するフィルム、その製造方法、ならびに偏光板およびそれを用いる液晶ディスプレイユニット - Google Patents

配向した染料を含有するフィルム、その製造方法、ならびに偏光板およびそれを用いる液晶ディスプレイユニット

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Abstract

(57)【要約】 配向した染料を含むフィルム、このようなフィルムの製造方法、およびこのフィルムを用いる偏光板および液晶ディスプレイが開示される。このフィルムは、一軸配向した少なくとも1種の二色性染料を含む。フィルムは1nm以上かつ5μm以下の厚みを有し、そして1重量%以上かつ100重量%以下の二色性染料を含む。フィルムは400nmから800nmの吸光度のピーク、および該吸光度のピークにおける25以上の二色性比を有する。フィルムは、フィルム面において1μm以上かつ200μm以下の最少幅を有するミクロパターンを含み得る。この場合、二色性染料は吸光度のピークで10以上の二色性比を有する。本発明によるこのようなフィルムの製造方法は、表面にフッ素樹脂アラインメント層を有する基板上に染料含有フィルムを形成する工程を包含する。染料含有フィルムは、少なくとも1種の二色性染料または少なくとも1種の二色性染料と少なくとも1種のポリマー化合物との混合物を含む。次の工程において、染料含有フィルムは、基板から剥がされ得、そして他の基板へと移され得る。

Description

【発明の詳細な説明】 配向した染料を含有するフィルム、その製造方法、 ならびに偏光板およびそれを用いる 液晶ディスプレイユニット発明の背景 発明の分野 本発明は、配向した染料に基づくまたは配向した染料を含有するフィルムに関 する。本発明はまた、このようなフィルムの製造方法、ならびにフィルムを用い た偏光板および液晶ディスプレイデバイスに関する。より詳細には、本発明は、 高配向の二色性染料から作成されるまたは高配向の二色性染料を含有するフィル ム、このようなフィルムの製造方法、およびこのフィルムを用いる高性能偏光板 および液晶ディスプレイデバイスに適する。従来の技術 偏光板は、液晶ディスプレイ(これより後、LCDと称する)の要素として使用 される。偏光板は、LCDから透過した光線のいくらかを吸収する特性を有する。 フルカラーLCDはカラーフィルターも含有するので、これは、フルカラーLCDにお ける特に深刻な問題である。LCD中に存在する偏光板と、フルカラーLCDに使用さ れるカラーフィルターとの両方が光線を吸収する。これは、しばしば透過光線量 を、きわめて低いレベルまで減少させる。そのため、充分に明るいLCDのために は強力なバックライトが必要とされる。このバックライトは液晶セルの温度を望 ましくなく上昇させ得、そして消費電力を増加させ得る。偏光板の1つのタイプ は、ポリビニルアルコール(これより後、PVAと称する)またはPVA誘導体の一軸 延伸の配向アラインメントフィルム上にヨウ素を吸着させることにより製造され る。 第2のタイプの偏光板は、二色性染料に基づき、そして同様に、一軸延伸配向 PVAまたはPVA誘導体のアラインメントフィルム上に、染料を吸着させることによ り生産される。(この明細書および請求の範囲において、用語「二色性」および 「二色性染料」は、一般的に受け入れられている意味を有し、異なる方向から見 た場合に異なる光学的特性(例えば、色)を提示する(従って、要するに偏光応 答を与える)特性を称する)。 第3の偏光板は、ポリ塩化ビニルまたはPVAフィルムを一軸延伸し、次いで、 ポリ塩化ビニルの脱ハロゲン化水素またはPVAの脱水和により、発色団としての ポリエン単位を生成することにより生産される。 ヨウ素含有偏光板は、初期には優れた偏光力を示す。しかし、これらの偏光板 は、耐水性および耐熱性に乏しく、そして高温高湿条件下において耐久性が不十 分である。保護フィルムまたは他の可能な方法は、典型的にはヨウ素含有偏光板 の耐久性を顕著には改良しない。 二色性染料偏光板は、ヨウ素ベースの材料よりも高い耐水性および耐熱性を有 するが、ほとんどの商業的な用途には不適切な偏光特性を有する。顔料は、優れ た耐候性を有するが、代用とされ得ない。なぜなら、顔料はポリマーフィルム中 で高度に配向せず、したがって偏光板として使用され得ないからである。 さらに、精密な偏光板(例えば、約200μm以下の幅を有する偏光板)を製造し ようとする際に、多くの困難が発生する。染料アラインメントフィルムの切断は 、このような精密な偏光板を調製するのに現在使用される唯一の方法である。 したがって、染料分子を配向させる公知の方法は、上記のように染料分子を配 向させる配向PVAフィルムの使用を包含する。染料を液晶材料と混合し、そして 染料をそれ自体が配向した液晶セル中の液晶分子として配向させることもできる 。後者の方法では、液晶材料は、2枚のガラス板の間に密封されるか、またはセ ル内に置かれなければならない。この方法では、さらに、アラインメントフィル ムがガラス板の表面に形成されることが必要である。配向の程度は液晶材料の配 向の程度に依存し、そのため多くの場合、偏光板は、液晶材料の低い配向のため に充分な偏光力を有しない。 したがって、高配向二色性染料、特に、ミクロパターン形成された高配向二色 性染料を含むフィルムおよびその容易な製造方法は、需要が大きい。 配向染料分子には関連しないが、J.C.Wittmannらは、ポリテトラフルオロエチ レン(これより後、PTFEと称する)の配向した薄いフィルムが、熱および圧力を かけながらPTFEをラビングすることによりを形成され得ることを発見した。彼ら は、この配向PTFEフィルムをアラインメント層として用いて、アルカン、液晶分 子、ポリマー、オリゴマー、および無機塩が、配向させられ得ることを報告して いる(Nature,第352巻、414頁(1991)および米国特許第5,180,470号を参照のこ と)。配向したPTFEの薄いフィルムを伴うこれらの有機分子の配向が詳細に報告 されているが、偏光板に有用な染料分子の配向、より詳細には、偏光板用二色性 染料分子の配向は、説明されていない。発明の要旨 PTFE配向フィルムのようなフッ素樹脂配向フィルムの使用により、高配向二色 性染料を達成し得ることが発見された。本発明は、これらの配向した染料含有フ ィルムに関し、これらのフィルムを製造する方法に関し;そしてこれらのフィル ムを使用する高性能偏光板および液晶ディスプレイデバイスに関する。 したがって、1つの局面においては、本発明は、1種またはそれ以上の二色性 染料を含有する一軸配向フィルムを提供する。このフィルムは、少なくとも1重 量%の二色性染料を含み、上限は全部二色性染料(染料100重量%)でなる。残 りはバインダーポリマーまたは希釈剤などである。フィルムは1nmから5μmの 厚み、400nmから800nmのピーク吸収波長、およびピーク吸収波長における25以上 の二色性吸光度比を有する。 別の局面においては、本発明は、ミクロパターン形成された染料含有フィルム 体を提供する。このフィルムは少なくとも1重量%から100重量%までの一軸配 向二色性染料を含む。このフィルム体は1nmから5μmの厚み、400nmから800nm の吸収ピークの波長、およびピーク吸収波長における10以上の二色性吸光度比を 有する。この(フィルム)体は、フィルム面において長さと幅を有し、その幅は 約1μmから約200μmの範囲である。 別の局面においては、本発明は、上記の一軸配向フィルムの製造方法を提供す る。この方法は、少なくとも1重量%の二色性染料を含み、1nmから5μmの厚 み、および400nmから800nmのピーク吸収波長を有するフィルム形成材料からフィ ルムを形成する工程を包含する。このフィルム形成は、表面としてフッ素樹脂ア ラインメント層を有する基板上で行う。これにより、ピーク吸収波長における25 以上の二色性吸光度比を有する一軸配向フィルムが生産される。フィルム形成材 料は、ある場合には、正味の二色性染料であるが、あるいは、二色性染料と混合 されたフィルム形成性バインダーポリマーを含み得る。さらに特別な局面におい ては、この方法は、さらなる工程(形成基板からフィルムをはぎ取る工程および フィルムを形成基板と異なる支持基板に付与する工程)を包含し得る。 またさらなる局面においては、この方法は、ミクロパターン形成された染料含 有フィルム体の製造に使用され得る。この実施態様においては、アラインメント 基板はフィルム面において約1μmから200μmの規定の幅を有し、その規定の幅 の領域の表面にフッ素樹脂アラインメント層が存在する。この方法は、約1μm から200μmの規定の幅およびピーク吸収波長における10以上の二色性吸光度比を 有する一軸配向フィルム得る。さらに一般的な方法に関して、この方法は、さら なる工程(形成基板からフィルムをはぎ取る工程およびフィルムを支持基板に付 与する工程)を包含し得る。 別の局面においては、本発明は偏光板を提供する。偏光板は、平面を有する透 明支持体がその平面に付着した上記のような一軸配向フィルムを有するときに生 じる。このような偏光板用の代表的な透明支持体は、ポリマーフィルム、ガラス 支持体または透明電極であり得る。 さらなる局面においては、本発明は、同様の一般構造を有するミクロ偏光板を 提供し得る。これらのミクロ偏光板は、ミクロパターン形成された染料含有一軸 配向フィルム体をその平面に備えた同様のタイプの透明支持体を含む。 さらなる局面においては、本発明は、液晶ディスプレイデバイスを提供する。 これらのデバイスは、それぞれに電極を備えた一対の分離した透明基板、および 基板の間に位置するネマチック液晶層を備えた液晶セルを含む。ネマチック液晶 層は、正の誘電異方性および基板に対して垂直に配向したらせん軸を有し、そし て電圧無印加時に90度から270度のねじれ角にて実質的に水平に配向する。本発 明のディスプレイデバイスには、上記の一軸配向フィルムもしくはミクロパター ン形成された染料含有フィルムまたは偏光板もしくはミクロ偏光板が、LCDを視 角光路内に配置される。いくつかの実施態様においては、一軸配向材料は、液晶 セルの外側に隣接して置かれる。一軸配向フィルムは、同様に液晶セルの透明基 板上に位置し得る。図面の簡単な説明 本発明は、さらに添付の図面を参照して記載される: 図1は、本発明の液晶ディスプレイデバイスおよび薄いフィルムを示す断面図 である; 図2は、本発明による液晶ディスプレイデバイスおよび薄いフィルムの別の実 施態様を示す断面図である;および 図3は、本発明のフィルムの可視スペクトルでの光吸収を示すグラフである。 図4は、本発明のフィルムの可視スペクトルでの光吸収を示すグラフである。 図5は、本発明のフィルムの可視スペクトルでの光吸収を示すグラフである。発明の詳細な説明 染料 1種またはそれ以上の二色性染料が、本発明のフィルム内に存在する。本発明 において用いられる染料は、以下の条件に適合する任意の染料または顔料であり 得る:2以上の、より好ましくは3以上のアスペクト比(分子垂直軸の長さに対 する分子軸の長さ)を有すべきであり、そしてまたその分子軸と、基底状態から 励起状態への遷移モーメントの方向との間が、20度以下の角度を有するべきであ る。下述するようにフッ素樹脂アラインメント層で配向した場合に高い二色性比 を達成し得る染料が、特に好ましい。極大吸収波長での吸光度の二色性比(配向 方向に垂直な方向の配向に対する配向方向での吸光度)が5以上(好ましくは8 以上、そしてほとんどの場合より好ましくは10以上)を達成し得る染料が好まし い。 従来の二偏光板(dipolarizer)またはゲスト-ホスト液晶ディスプレイのために 使用される二色性染料は、有用であり、そして好ましい。ゲスト-ホスト液晶デ ィスプレイのために使用され、そして本明細書において有用である二色性染料の タイプには、メロシアニン、スチリル、アゾメチン、アゾ、アントラキノン、キ ノン、キノフタロン、ペリレン、インジゴ、テトラジン、スチルベン、およびベ ンジジンが挙げられる。実質的なレベルの耐候性を有するアゾおよびアントラキ ノン二色性染料が、特に好ましい。これらのアゾ染料は、ジアゾおよびトリアゾ (ポリアゾ)を含む。 本発明において有用なアゾ染料は、一般式I: Ar-(-N=N-Ar')n-N=N-Ar (I) で表される物質を含む。この式において、nは、0〜3であり、各Arは、下記の A群に示される構造から選択されるアリール基を表し、および各Ar'は、下記の B群に示される構造から選択されるアリール基を表す: A群 B群 上記の構造式において、X1〜X23は、独立して、水素原子、ヒドロキシル基 、アミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、1〜4個の炭素原子を含むア ルキル基、1〜4個の炭素原子を含むアルコキシ基、6〜20個の炭素原子を含む アリール基、4〜20個の炭素原子を含むヘテロ環、カルボキシレート基、スルホ ネート基、スルホンアミド基、スルホンアルキルアミド基、ハロゲン、およびニ トロ基のいずれかを表す。任意の芳香環におけるX基の数は、その環で利用可能 な部位に等しい。例えば、置換基としてX1を有するA群構造においては、その ような基が5つ存在し得、一方、X13を有するB群において示される物質では、 そのような基が4つ存在し得、これは、利用可能な部位の数である。従って、2 つ以上の異なる置換基が、1つの芳香環において存在し得る。 Rは、水素原子、1〜4個の炭素原子を含むアルキル基、6〜20個の炭素原子 を含むアリール基、4〜20個の炭素原子を含むヘテロ環のいずれかを示す。 アゾ基のいずれかの側の2つの芳香環は、ヒドロキシル基を有し得る。これら のヒドロキシル基は、アゾ構造に隣接して位置し、そして、銅、ニッケル、亜鉛 、および鉄からなる群より選択される遷移金属原子と錯体を形成し得る。 一般式Iにより定義されるアゾ染料のアゾ基の代わりに、アゾメチン基および ビニレン基を有するアゾメチンおよびスチルベンがまた、本発明の実施において 、配向可能な染料として用いられ得る。 代表的な有用なアゾ染料は、表1-1に示されるアゾ染料を含む。これらの物質 は、遷移金属錯体、遊離の酸、および塩(例えば、ナトリウム塩、リチウム、カ リウム、アンモニウム、エタノールアンモニウム、アルキルアンモニウム塩など )として存在し得る。 他の有用なアゾ染料は、以下のようなカラーインデックス(C.I.)一般名を有す る染料である: 有用なアントラキノン染料は、一般式IIにより例示される: この式において、R1、R2、R3、R4、R5、およびR6は、独立して、水素原子 、ヒドロキシル基、アミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、1〜4個の 炭素原子を含むアルキル基、1〜4個の炭素原子を含むアルコキシ基、6〜20個 の炭素原子を含むアリール基、および4〜20個の炭素原子を含むヘテロ環のいず れかを表し、ただし、すべてのR1〜R6が水素原子であることはない。R2およ びR3、またはR6およびR7はそれぞれ、2つの結合によりアントラキノン基に 結合する1つの置換基であり得る。 本発明の実施に有用なアントラキノン染料は、表2-1、2-2、2-3、および2-4に 示される化合物を含む。 本発明の実施において有用なキノフタロン染料は、一般式(III)により示され る: 一般式(III)において、A1、A2、およびA3は、独立して、水素原子、ヒドロキ シル基、アミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、1〜4個の炭素原子を 含むアルキル基、1〜4個の炭素原子を含むアルコキシ基、6〜20個の炭素原子 を含むアリール基、および4〜20個の炭素原子を含むヘテロ環を表し、ただしす べてのA1〜A3基が同時に水素原子であることはない。 本発明の実施において有用なキノフタロン染料の例には、以下が挙げられる: 本発明の実施において有用なペリレン染料は、一般式IVにより示される: 一般式IVにおいて、A4およびA5は、独立して、水素原子、ヒドロキシル基、ア ミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、1〜4個の炭素原子を含むアルキ ル基、1〜4個の炭素原子を含むアルコキシ基、6〜20個の炭素原子を含むアリ ール基、および4〜20個の炭素原子を含むヘテロ環を表し、ただしA4およびA5 の両方が同時に水素原子であることはない。 本発明の実施において、好適に使用されるペリレン染料の例には、以下が挙げ られる: 本発明の実施において有用なインジゴ染料は、一般式Vにより示される: 一般式Vにおいて、Y1およびY2は、独立して、NHまたはSであり、そしてA6 およびA7は、独立して、水素原子、ヒドロキシル基、アミノ基、アリールアミ ノ基、アシルアミノ基、1〜4個の炭素原子を含むアルキル基、1〜4個の炭素 原子を含むアルコキシ基、6〜20個の炭素原子を含むアリール基、および4〜20 個の炭素原子を含むヘテロ環を表し、ただしA6およびA7が同時に水素原子であ ることはない。 本発明において使用されるインジゴ染料の例には、以下が挙げられる: 好適な染料は、表中のアゾ染料1〜21、C.I.Direct Red 28、C.I.Direct Re d 81、表中のアントラキノン染料52〜57および68〜77、ならびに式III'、IV'、 およびVにより表される染料を含む。特に好ましい染料は、アゾ染料1、4、6 、7、8、9、10、12、13、14、15、16、17、18、19、アントラキノン染料53、 54、72、73、74、76、77、および式III'、IV'、およびV’により表される染料 である。バインダーまたはフィルム形成ポリマー 本発明のフィルムは、上記に記載されたような二色性染料から全てが構成され 得る。フィルムはまた、染料と1以上のバインダー物質との混合物から作成され 得る。これらのバインダー物資は、希釈液または他の不活性物質であり得るが、 存在する場合数%を越える量で存在し、フィルム形成すべきである。 バインダー物質が染料と混合される場合、可視光に対して実質的に透明でなけ ればならず、そして選択された方法によって染料と共に堆積(co-deposit)され得 なければならない。つまり、バインダー物質は、染料とともに気化するか、染料 とともに溶融するか、あるいは選択された溶媒中で染料とともに溶解し得るべき である。ポリマー化合物が、代表的にはバインダーとして用いられる。優れたフ ィルム形成能を有するポリマー化合物が、バインダー物質として好ましい。この ようなポリマー化合物の例としては、ポリ(ビニルアルコール)、ポリ(エチレン テレフタレート)、ポリカーボネート、ポリ(メチルメタクリレート)、ポリエチ レン、ポリプロピレン、ポリ(ε-カプロラクトン)、ならびにこれらのコポリマ ーおよび誘導体が挙げられる。特に好ましいのは、ポリ(ビニルアルコール)、ポ リカーボネート、ポリ(メチルメタクリレート)、ポリエチレン、およびポリ(ε- カプロラクトン)である。 既に記載したように、本発明のフィルムは、染料のみから作成され得、そのた めバインダーは任意の成分である。しかし、バインダーが存在する場合、バイン ダーは、フィルム組成物の総量を基準として、一般的には99重量%を超える量で 存在せず、95重量%を越える量で存在せず、そしてより好ましくは90重量%を越 える量で存在しない。染料含有フィルムの特性 染料含有フィルムの厚みは、染料の二色性の比、染料のモル吸光係数、フィル ム中の染料の配向程度に応じて変化し得る。ピンホールのない均質なフィルムを 調製するためには比較的厚い方が好ましい。比較的薄い方が高い配列のために好 ましい。薄すぎるフィルムは好ましくなく、単層透過率が増大するので、得られ るフィルムの偏光特性が低下する。 染料含有相の厚みは、代表的には約1nmと約5μmとの間であり、特に5nm〜 1μmであり、好ましくは10nm〜1μm、さらに好ましくは10nm〜0.5μmである。 染料含有フィルム中の染料の含量は変化し得る。最良の結果のためには、染料 の含量は一般的には1重量%を越える。染料の濃度の範囲は、あるフィルムは染 料自体から形成されるので、100重量%までである。好ましい濃度の範囲は、5 重量%〜100重量%、特に10重量%〜100重量%、より好ましくは90重量%〜100 重量%である。残りはバインダーなどである。 染料含有フィルムは代表的には、400nm〜800nmで吸光度のピークを有する。ピ ークの吸光度波長での二色性の比は、25以上であり、好ましくは35以上である。 これらのフィルムの他の特性は、これらの単層透過率が好ましくは40%〜80%の 範囲であることである。 染料含有フィルムが、フィルム面において1μm〜200μmの最小幅を有するミ クロパターンを含む場合、好ましい二色性の比は、10以上であり、好ましくは14 以上である。他の条件は、ミクロパターンを有しない染料含有フィルムの条件と 同じである。アラインメント層および調製プロセス 本発明の高度に配向した染料を含有するフィルムは、フッ素樹脂アラインメン ト層上に、染料または染料とバインダーとの混合物の層を付与することにより調 製される。アラインメント層は、好適な配向特性を示す厚みを有する。アライン メント層の厚みは、1nm〜2μmであり、より具体的には5nm〜1μm、そしてよ り好ましくは10nm〜0.5μmである。アラインメント層中で用いられるフッ素樹脂 は、任意の固体フッ素樹脂であり得、PTFE(ポリトリフルオロエチレン)、およ びポリフッ化ビニリデン(PVDF)が好ましい。PTFEが特に好ましい。 本発明のいくつかの実施態様では、フッ素樹脂アラインメント層が、最終デバ イスに組み込まれる。この場合、フッ素樹脂は比較的透明である。つまり、フッ 素樹脂は、可視光スペクトルの少なくとも一部分で有用なレベルの光が透過する ことを可能とするに充分小さい吸光度を有すべきである。フィルムがアラインメ ント層から剥がされる場合、この透過性は明らかに議論の余地がある。 フッ素樹脂アラインメント層は、任意の公知の方法によって調製される。例え ば、米国特許第5,180,470号に開示されている方法は、高度に配向したフィルム を提供するために用いられ得る。この方法は、フッ素樹脂ブロックを、圧力を加 えながら加熱した基板に対してラビングする工程を包含する。好ましくは、基板 は、基板上にアラインメント層を調製する前に清浄にされる。清浄化方法は、基 板の物質に応じて変更され得る。例えば、ガラスまたは耐熱性プラスチック基板 は、グロー放電器具などで発生されたプラズマに曝され得る。あるいは、または さらに、基板は、液体のような流体で洗浄され得る。この液体は水性、非水性、 または水性-非水性の混合であり得る。非水性液体としては、例えば、低級ハロ 炭化水素、低級アルコール、ケトンなどのような有機液体または含ハロゲン炭素 化合物のような非有機液体が挙げられ得る。これらの洗浄液は、酸、塩基、洗剤 、界面活性剤など、洗浄助剤を含有する。より高い二色性比を得るために、ガラ ス基板は、好ましくは、水およびアルカリを含有する溶液、詳細には混合水-低 級アルコール溶媒(最も好ましくは混合水-エタノール溶媒)中のアルカリ(特に 水酸化アルカリ金属(最も好ましくは水酸化カリウム))の混合水性-非水性溶液を 用いて洗浄する。加熱温度は樹脂のタイプにより変化するが、一般には約100℃ 〜約350℃の範囲であるか、樹脂の分解温度が低温の場合はその温度である。好 ましい温度の範囲は、130℃と330℃との間である。より好ましい温度は、250℃ と330℃との間である。圧力およびラビング速度は、実験により決定されるが、 一般には0.5〜5MPAの間の範囲であり、そして0.01cm/秒〜10cm/秒の範囲である 。これらの条件により、アラインメント層の均質性および優れた配向性が確実と なる。調製方法 1つの実施態様において、染料含有フィルムは、適切な配向性染料をフッ素樹 脂アラインメント層上に減圧堆積することにより調製され得る。あるいは、溶融 した染料または染料溶液を、フッ素樹脂アラインメント層上に付与し得る。これ らのアプローチのいずれにおいても、染料含有フィルムは、染料自体であり得る か、あるいは染料とバインダーまたはポリマー物質とであり得る。 減圧堆積プロセスにおいて、染料(および、存在すればバインダー)を、減圧 下、染料および/またはバインダー分解点以下の温度で加熱する。染料は昇華し 、そしてアラインメント層に蓄積する。この場合に用いられる染料およびバイン ダーは、分解しないが、減圧および加熱(例えば、125℃から高くて300℃の範囲 の温度)することにより堆積されるように選択されるべきである。 染料が溶融相として堆積されるプロセスでは、染料または染料とバインダーと を染料またはバインダーの分解点未満の温度で溶融し、そしてアラインメント層 に付与する。このプロセスで用いられる染料は加熱により溶融し得、そして液体 状態(典型的には125℃〜300℃の範囲)で安定である。 染料溶液を用いる塗布プロセスでは、染料と溶媒とを、アラインメント層上に 塗布し、続いて溶媒を蒸散させる。このプロセスで用いられる染料は、溶媒中で 約0.1重量%以上の溶解度を有する。この染料は溶液中で安定であり、そして溶 液となり得、そして薄い、均質なフィルムを形成し得るべきである。 用いられる溶媒は、代表的には有機溶媒であるが、染料自体の場合、いくつか の場合には、水性溶媒であり得る。染料および染料-バインダー混合物とともに 用いられる代表的な有機溶媒は、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、含酸素炭化水 素などから選択され、これらは有機物質およびポリマー用の溶媒として当該分野 で知られている。 これらの3つの方法のうち、減圧堆積方法がこの場合、好ましい。この場合、 減圧堆積方法により、フィルムの厚みおよび配向の度合の最も高度な制御が可能 になる。 好ましい実施態様では、他の機能を有するフィルムを、配向染料を含有する偏 光板フィルム上に配置し得る。このさらなるフィルムは、保護被覆層か、または ハードコート(例えば、エポキシ樹脂または光硬化型樹脂)であり得る。基板 アラインメント層は、一般に、基板により支持される。配向した染料含有フィ ルムを直接、すなわちアラインメント層およびその基板から除去せずに用いる場 合、基板はアラインメント層と同様に可視光に対して透過性であり、そしてその 表面は、アラインメント層を良好に支持するに十分平滑である。(本明細書中で 用いられる「透過性」は、実質的な割合(例えば、物質に当たる所望の波長(und erlength)の光の少なくとも約33%)を通す物質の特性を定義する)。 好ましい基板の例としては、ガラス、ポリ(エチレンテレフタラート)、およ びポリカーボネートが挙げられる。 形成用基板上のアラインメント層上に形成される染料含有フィルムが、剥がさ れるか、あるいは他の基板に移される場合、形成用基板は、透明である必要はな く、金属板、金属ロール、および金属コーティング板または金属コーティングロ ールが、基板として用いられ得る。基板として用いられる金属材料は、ステンレ ス鋼、またはニッケルメッキ金属であり得る。 アラインメント層および染料含有フィルムは、これらの基板が十分な耐熱性を 有する場合、直接そのような基板上に形成され得る。ガラスは、アラインメント 層および染料含有フィルムを直接形成するために十分な耐熱性を有する基板の例 である。基板が、基板上に直接アラインメントフィルムを形成することが可能な ほど十分な耐熱性を有しない場合、まずアラインメントフィルムおよび染料含有 フィルムを十分な耐熱性を有する基板上に形成し、次いで他の基板に移す。この 次なる基板は、代表的には透明などである。染料含有フィルムの用途 本発明の染料含有フィルムは、偏光板として用いられ得る。この用途において は、染料含有フィルムは代表的には、偏光板のために必要とされる領域を有する 、前もって形成されたフッ素樹脂アラインメントフィルム上に形成される。 他の好ましい用途においては、配向染料を含有するフィルムは、フィルム面に おいて1〜200μmの幅を有するミクロパターンを含むように形成され得る。この ようなフィルムは、あらかじめアラインメント層をまずパターン形成するか、あ るいはアラインメント層を作製した後、マスクを用いてパターン形成する。マス クを用いる後者の方法は、従来のリトグラフプロセスにより容易に実行され、こ のために好ましい。このパターン形成方法を簡単に記載する。 ミクロ偏光板を形成するために、まずフッ素樹脂アラインメント層を、上記の 方法を用いて基板上に形成する。次いで、フォトレジストをスピンコーティング または他の適切なプロセスによりアラインメント層上に塗布する。フォトレジス トは、所望のパターンのマスクに対応するネガティブタイプまたはポジティブタ イプのいずれかであり得る。フォトレジストは、代表的には溶液として塗布され る。熱処理(予備ベーキング)して溶液の溶媒を除去した後、マスクを有するア ラインメントフィルムを露光する。用いられる光源はフォトレジストと反応する ために適切な波長および強度を有するように選択される。フォトレジストのパタ ーンは、通常のフォトレジストマスク技術を用いて現像される。染料が配向する ことを可能にするために、アラインメント領域の十分広い表面には、フォトレジ ストが存在しないべきである。続いて、染料含有フィルムを、パターン形成され たアラインメント層上に、上記の任意の方法を用いて形成する。露光されたアラ インメント層の領域上で、染料は配向する。フォトレジストでカバーされたアラ インメント層の領域上では、染料は配向しない。次の工程では、フォトレジスト 上に堆積した染料の部分を、フォトレジストとともに除去し得る。 得られる染料含有フィルムは、ミクロパターンを有し、高い解像度を有する精 密な偏光板を形成し、偏光特性を有するカラーフィルターとして用いられ得る。 いくつかの場合の染料含有フィルムは、基板とともに用いられ得る。他の場合 、染料含有フィルムが十分な強度を有する場合、フィルムは基板から剥がされ得 る。この場合、基板上に形成された染料含有フィルムは、基板から機械的に剥が され得るか、あるいは適切な剥離剤中にフィルムを浸すことにより剥離し得る。 記載されたように調製される染料含有フィルムまたはミクロパターンを有する 染料含有フィルムを、使用のために他の基板に移し得る。移した場合、染料含有 フィルムを、新しい基板に、例えば、染料フィルムに対してより良好な接着特性 を有する基板に対して強くプレスするか、熱を用いるか、あるいは接着剤を用い ることによって固定すべきである。液晶ディスプレイデバイス 本発明のフィルムの主要な用途は、液晶ディスプレイデバイスの一部としてで ある。液晶ディスプレイデバイスが、それ自体本発明の染料含有フィルムを含む 偏光板または本発明のミクロパターン形成された染料含有フィルムを含むミクロ 偏光板を含むこと以外は、本発明の液晶ディスプレイデバイスは限定されない。 本発明の液晶ディスプレイデバイスは、本発明の染料含有フィルムを含む適切 な大きさの偏光板を液晶セルの外側に配置するか、あるいは本発明のミクロパタ ーン形成された染料含有フィルムを含むミクロ偏光板を同様に配置することによ り調製される。 ある特定の用途において、本発明のミクロパターン形成された染料含有フィル ムは、画素に対応するミクロパターンを有し、そして液晶セルの外側または液晶 層と液晶セルの1つの基板との間に配置され得る。本発明のミクロパターン形成 された染料含有フィルムはまた、液晶セルの透明電極上に形成され得、それゆえ 液晶デバイスに使用され得る。 図1および2は、本発明の染料含有フィルムを使用する液晶ディスプレイデバ イスの例を説明する正確な縮尺率でない断面図である。図1および2に、本発明 による偏光板1、本発明によるミクロ偏光板1’、ガラス基板2;透明電極3; 絶縁アラインメント層4;液晶層5;およびスペーサー6を含む液晶ディスプレ イデバイス10および20を示す。 図2において、ミクロ偏光板1’は、透明電極3と絶縁アラインメント層4と の間に形成されているが、ミクロ偏光板1’は、透明電極3および絶縁アライン メント層4の下に形成されてもよい。透明電極3は、ガラス基板2の液晶層5に 近い一方の表面上に形成され、代表的には透明導電材料(例えば、ITO(インジ ウムスズオキシド)、In2O3、またはSnO2など)を含む。絶縁アラインメント層 4は、透明電極3と液晶層5との間に存在する。絶縁アラインメント層4は、十 分な絶縁特性を有するアラインメント層のみを含み得るか、または分離したアラ インメント層およびアラインメント層の下に形成される分離した絶縁層を含み得 る。本明細書で使用されるアラインメント層4は、任意の公知の有機または無機 の、低分子量(オリゴマー)または高分子量ポリマーフィルム化合物であり得る 。高分子量フィルム化合物の例は、ポリイミド、ポリアミド、ポリ(アミド−イ ミド)、ポリ(ビニルアルコール)、ポリスチレン、ポリエステル、ポリ(エス テル−イミド)、および種々のフォトレジストを包含する。 層5中の液晶分子の配向は、ポリマーアラインメント層4をガーゼまたは羽毛 状ポリアセテート織物でラビングすることにより、さらに改善される。 分離した絶縁層が存在する場合、これは誘電材料(例えば、酸化チタン、酸化 アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素、および窒化ケイ素など)から選 択され得る。アラインメント層および絶縁層は、任意の適切な方法により形成さ れる。ポリマーアラインメント層に関して、ポリマー化合物またはその前駆体を 溶媒中に溶解し、そしてスクリーン印刷、スピン塗布、またはディップコーティ ングにより付与される。無機アラインメント層に関して、無機化合物が、ディッ プコーティング、スパッタ、析出、またはロンビック析出(rhombic deposition) により付与される。 絶縁アラインメント層4の厚さは限定されない。代表的な厚さは、1nm〜2μ m、好ましくは1nm〜100nmである。 本発明の液晶ディスプレイデバイスにおいて、それぞれ透明電極3および絶縁 アラインメント層4を有する一対のガラス基板2は、スペーサー6によって互い に離れて位置している。スペーサー6は、絶縁ビーズ、繊維、またはフィルムで あり得る。代表的には、これらは、シリカ、アルミナ、またはポリマーからなり 、そして所望の間隔を提供するために所定の直径または厚みを有する。間にスペ ーサー6を有する一対のガラス基板2が、例えば、エポキシ接着剤でシールされ た後、液晶材料が基板2の間の空間に注入される。 本発明の染料含有フィルムからなる1つまたは2つの偏光板1は、ガラス基板 2の外側に配置される。図1に示す例において、2つの偏光板1は、ガラス基板 2の外側に配置される。図2の例において、本発明のミクロパターン形成された 染料含有フィルムから作製されるミクロ偏光板1’は、透明電極3と液晶セルの 絶縁アラインメント層4との間に配置される。 透明電極は、リード線14および16を介して外部駆動回路12に接続される。 上記のように、本発明の染料含有フィルムは、適切な厚み、高い二色性比、お よび偏光板としての使用に適した優れた単層透過度を有するように、容易に製造 される。偏光板またはミクロ偏光板、およびこれらを使用する液晶ディスプレイ デバイスは、望ましいコントラスト特性を有する。 実施例 本発明は、以下の実施例によりさらに記述される。本発明の精神および本質的 な特徴の範囲から逸脱することなく、これらの実施例に示す特定の実施態様に対 する多くの改変、変更、および変化が存在し得る。従って、本実施例は、例示の みであり、本発明の範囲を限定するものとして解釈されるべきではない。 これらの実施例に記載される二色性比は、A1/A2として表され、ここでA1は、 染料含有フィルムの配向に平行な方向における偏光の吸光度を表し、そしてA2は 、染料含有フィルムの配向に垂直な方向における偏光の吸光度を表す。吸光度A1 およびA2を、ピーク吸収波長で測定し、そしてそれぞれ測定値から基板に起因す る吸光度を引くことにより決定する。 実施例1 (アラインメント層の形成) PTFEアラインメント層を、米国特許第5,180,470号に開示される方法に従って 調製した。1.0cmの直径を有するPTFEバーを、約0.7MPaの圧力を負荷しながら、 約300℃に加熱したガラス基板(2.5cm×8.0cm)に対してプレスした。1.0cmの幅 および7.0cmの長さを有するPTFEアラインメント層を、0.1cm/秒の速度で基板を 移動させることにより調製した。 (染料含有フィルムの形成) アゾ染料G205(Nihon Kanko Shikiso Co.,Ltd.)を、このようにして調製し たPTFEアラインメント層上に蒸着した。減圧は10-5torr未満であり、そして堆積 速度は1nm/秒であった。このようにして得られた染料含有フィルムの厚さは53n mであった。 (二色性比の評価) 得られたG205フィルムの吸光度を、300nm〜700nmの偏光の範囲で測定した。吸 収ピークでの二色性比は、図3に示すように86であった。 上記のように調製した染料含有フィルムを、ねじれネマチック(TN)液晶セル の両側に90°のねじれ方向で配置する。TN液晶セルは、無色および赤色の変化を 有し、それゆえセルが駆動されると好ましいコントラストを示す。 実施例2 (染料含有フィルムの形成) アゾ染料G232(Nihon Kanko Shikiso Co.,Ltd.)を、実施例1に記載と同様 の方法で調製したPTFEアラインメント層上に蒸着した。減圧は10-5torr未満であ り、そして堆積速度は1nm/秒であった。このようにして得られた染料含有フィ ルムの厚さは164nmであった。 (二色性比の評価) 得られたG232フィルムの吸光度を、300nm〜700nmの偏光の範囲で測定した。吸 収ピークでの二色性比は、図4に示すように40であった。 上記のように調製した染料含有フィルムを、TN液晶セルの両側に90°のねじれ 方向で配置する。TN液晶セルは、無色および黄色の変化を有し、それゆえセルが 駆動されると好ましいコントラストを示す。 実施例3 (ミクロパターン形成された染料含有フィルムの形成) ポジティブフォトレジスト(MICROPOSITフォトレジスト(Shiplay Far East L td.))を、実施例1に記載と同様の方法で調製したPTFEアラインメント層上に4 000rpmでスピンコーティングし、そして90℃で30分間熱処理(予備ベーキング) した。フォトレジストの厚さは1.2μmであった。次いで、マスクを有するアライ ンメント層を、紫外光源から発せられた光(436nmおよび405nm、50mJ/cm2)に露 光した。次いで、露光部分上のフォトレジストを除去するために、アラインメン ト層を現像剤(MICROPOSIT Developer(Shiplay Far East Ltd.))で洗浄した 。フォトレジストの最小幅および露光アラインメント層の最小幅は、それぞれ3 μmおよび5μmであった。 アゾ染料G205(Nihon Kanko Shikiso Co.,Ltd.)を、このようにして調製し たミクロパターン形成されたアラインメント層上に蒸着させた。減圧の程度は10-5 torr未満であり、そして堆積速度は1nm/秒であった。このようにして得られ た染料含有フィルムの厚さは45nmであった。 (二色性比の評価) 得られたG205フィルムの吸光度を、300nm〜700nmの偏光の範囲で測定した。吸 収ピークでの二色性比は14であった。 3つの測定セットを行った。1つの測定セットを、フォトレジスト領域の間の ミクロパターンに存在する配向した染料層において行った。これらの測定を、線 17(配向したPTFE鎖に平行な偏光の吸光度)および線18(配向したPTFE鎖に垂直 な偏光の吸光度)として図5に示す。二色性比はこれらのデータから計算した。 第2の測定セットを、ミクロパターン形成されたフォトレジスト自体において 行った。これらの測定を、線19(配向したPTFE鎖に垂直な偏光の吸光度)および 線20(配向したPTFE鎖に平行な偏光の吸光度)として図5に示す。 第3の測定セットを、配向したPTFE層自体において行った。これらの測定を、 線21(配向したPTFE鎖に垂直な偏光の吸光度)および線22(配向したPTFE鎖に平 行な偏光の吸光度)として図5に示す。第2および第3の測定セットからのデー タは、高い二色性比が、基板単独の結果でもフォトレジスト単独の結果でもなく 、むしろミクロパターン形成された配向したPTFE基板上に存在する染料の結果で あることを示す。 上記のように調製したミクロパターン形成された染料含有フィルムを、電極と TN液晶セルの絶縁アラインメント層との間に配置するが、一方、実施例1の染料 含有フィルムを、TN液晶セルの一方の側の上に90°のねじれ方向で配置する。TN 液晶セルは、無色および赤色の変化を有し、それゆえセルが駆動されると好まし いコントラストを示す。 染料含有フィルムからなる偏光板またはミクロパターン形成された染料含有フ ィルムからなるミクロ偏光板を、それぞれ電極を有する一対の透明基板および基 板間に配置されるネマチック液晶層を含む液晶セルと組合わせることにより、図 1または図2に示す液晶ディスプレイデバイスを調製する。結晶層は、正の誘電 異方性および基板に対して垂直に配向したらせん軸を有するネマチック液晶を含 む。結晶層は、電圧無印加時に、90°以上で270°以下の範囲のねじれ角で、実 質的に水平に配向する。このようにして調製した液晶ディスプレイデバイスは、 好ましいコントラストを含む優れたディスプレイ特性を有する。 上記のように、アラインメントフィルムとしてフッ素樹脂を含む本発明の染料 含有フィルムは、適切な厚み、高い二色性比、および偏光板に適した優れた単層 透過度を有するように、容易に製造される。偏光板またはミクロ偏光板および染 料含有フィルムを使用する液晶ディスプレイデバイスは、好ましいコントラスト 特性を有する。
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Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.少なくとも1重量%の二色性染料を含み、そして1nmから5μmの厚み、400 nmから800nmのピーク吸収波長、および該ピーク吸収波長における25以上の二色 性比を有する、一軸配向フィルム。 2.10重量%から100重量%の二色性染料を含み、そして10nmから1μmの厚み、 400nmから800nmのピーク吸収波長、該ピーク吸収波長における35以上の二色性比 、および該ピーク吸収波長における40%から80%の透過度を有する、一軸配向フ ィルム。 3.90重量%から100重量%の二色性染料を含み、そして10nmから0.5μmの厚み 、および35以上の二色性比を有する、一軸配向フィルム。 4.バインダーポリマーと少なくとも10重量%の二色性染料との混合物を含み、 10nmから5μmの厚み、400nmから800nmのピーク吸収波長、および該ピーク吸収 波長における25以上の二色性比を有する、請求項1に記載の一軸配向フィルム。 5.前記染料が2以上のアスペクト比を有する、請求項1に記載の一軸配向フィ ルム。 6.ミクロパターン形成された染料含有フィルム体であって、少なくとも1重量 %の一軸配向された二色性染料を含み、そして1nmから5μmの厚み、400nmから 800nmのピーク吸収波長、および該ピーク吸収波長における10以上の二色性比を 有し、該ミクロパターンが、フィルム面において長さおよび幅を有し、該幅が1 μmから200μmである、フィルム体。 7.90重量%から100重量%の二色性染料から本質的になる、請求項6に記載の ミクロパターン形成された染料含有フィルム体。 8.バインダーポリマーと少なくとも1重量%の二色性染料との混合物を含む、 請求項6に記載のミクロパターン形成された染料含有フィルム体。 9.前記染料が2以上のアスペクト比を有する、請求項6に記載のミクロパター ン形成された染料含有フィルム体。 10.少なくとも1重量%の二色性染料を含むフィルム形成材料の一軸配向フィ ルムであって、該染料が400nmから800nmのピーク吸収波長を有し、該フィルムが 1nmから5μmの厚みを有し、該ピーク吸収波長における25以上の二色性比を有 し、そして該フィルム形成材料をフッ素樹脂アラインメント層上に堆積させるこ とによって形成される、一軸配向フィルム。 11.前記フッ素樹脂がPTFEである、請求項10に記載のフィルム。 12.少なくとも1重量%の一軸配向した二色性染料を含むフィルム形成材料の 、ミクロパターン形成された染料含有フィルム体であって、該染料が400nmから8 00nmのピーク吸収波長を有し、該フィルムが1nmから5μmの厚みを有し、該ピ ーク吸収波長における10以上の二色性比を有し、ミクロパターン幅が1μmから2 00μmであり、そして該フィルム形成材料をミクロパターン形成されたフッ素樹 脂アラインメント層上に堆積させることによって形成される、フィルム体。 13.少なくとも1重量%の二色性染料を含み、そして10nmから1μmの厚み、4 00nmから800nmのピーク吸収波長、該ピーク吸収波長における35以上の二色性比 、および該ピーク吸収波長における40%から80%の透過度を有する、フッ素樹脂 アラインメント層上の一軸配向フィルム。 14.ミクロパターン形成された染料含有フィルム体であって、少なくとも1重 量%の一軸配向された二色性染料を含み、そして1nmから5μmの厚み、400nmか ら800nmのピーク吸収波長、および該ピーク吸収波長における10以上の二色性比 を有し、該ミクロパターンが、フィルム面において長さおよび幅を有し、該幅が 1μmから200μmである、フッ素樹脂アラインメント層上のフィルム体。 15.一軸配向フィルムの製造方法であって、 a)少なくとも1重量%の二色性染料を含み、そして1nmから5μmの厚み、4 00nmから800nmのピーク吸収波長を有するフィルム形成材料から、フッ素樹脂ア ラインメント層上にフィルムを形成する工程であって、その結果、該ピーク吸収 波長における25以上の二色性比を有する一軸配向フィルムが得られる工程を包含 する、方法。 16.前記フィルム形成材料がさらにフィルム形成ポリマーを含む、請求項15 に記載の方法。 17.さらに、 b)前記アラインメント層からフィルムを剥がす工程、および c)該フィルムを支持基板に付与する工程 を包含する、請求項15に記載の方法。 18.ミクロパターン形成された染料含有フィルム体の製造方法であって、 a)少なくとも1重量%の一軸配向された二色性染料を含み、そして1nmから 5μmの厚み、400nmから800nmのピーク吸収波長を有するフィルム形成材料のフ ィルムを、フィルム面において1μmから200μmの所定の幅を有するフッ素樹脂 アラインメント層上に形成する工程であって、その結果、1μmから200μmの所 定の幅、および該ピーク吸収波長における10以上の二色性比を有する一軸配向フ ィルム体が得られる工程を包含する、方法。 19.さらに、 b)前記アラインメント層からフィルムを剥がす工程、および c)該フィルムを支持基板に付与する工程 を包含する、請求項18に記載の方法。 20.請求項1に記載の一軸配向フィルムを備えた平面を有する透明支持体を含 む、偏光板。 21.前記支持体がポリマーフィルムである、請求項20に記載の偏光板。 22.前記支持体がガラス板である、請求項20に記載の偏光板。 23.前記支持体が透明電極である、請求項20に記載の偏光板。 24.請求項10に記載の一軸配向フィルムを備えた平面を有する透明支持体を 含む、偏光板。 25.請求項6に記載のミクロパターン形成された染料含有一軸配向フィルム体 を備えた平面を有する透明支持体を含む、ミクロ偏光板。 26.前記支持体がポリマーフィルムである、請求項25に記載のミクロ偏光板 。 27.前記支持体がガラス板である、請求項25に記載のミクロ偏光板。 28.前記支持体が透明電極である、請求項25に記載のミクロ偏光板。 29.請求項12に記載のミクロパターン形成された染料含有一軸配向フィルム 体を備えた平面を有する透明支持体を含む、ミクロ偏光板。 30.液晶ディスプレイデバイスであって、 それぞれに電極を備えた1対の分離した透明基板、および該基板間に位置する ネマチック液晶層を備えた液晶セルであって、該ネマチック液晶層が正の誘電異 方性および該基板に対して垂直に配向したらせん軸を有し、そして電圧無印加時 に90°から270°のねじれ角で実質的に水平に配向する液晶セル、および 該液晶セルの透明電極に隣接して位置した請求項20に記載の偏光板 を備えた、液晶ディスプレイデバイス。 31.前記偏光板が前記セルの外側にある、請求項30に記載のディスプレイデ バイス。 32.前記偏光板が、前記液晶層と透明電極との間にある、請求項30に記載の ディスプレイデバイス。 33.液晶ディスプレイデバイスであって、 それぞれに電極を備えた1対の分離した透明基板、および該基板間に位置する ネマチック液晶層を備えた液晶セルであって、該ネマチック液晶層が正の誘電異 方性および該基板に対して垂直に配向したらせん軸を有し、そして電圧無印加時 に90°から270°のねじれ角で実質的に水平に配向する液晶セル、および 該液晶セルの透明電極に隣接して位置した請求項24に記載の偏光板 を備えた、液晶ディスプレイデバイス。 34.液晶ディスプレイデバイスであって、 それぞれに電極を備えた1対の分離した透明基板、および該基板間に位置する ネマチック液晶層を備えた液晶セルであって、該ネマチック液晶層が正の誘電異 方性および該基板に対して垂直に配向したらせん軸を有し、そして電圧無印加時 に90°から270°のねじれ角で実質的に水平に配向する液晶セル、および 該液晶セルの透明電極に隣接して位置した請求項25に記載のミクロ偏光板 を備えた、液晶ディスプレイデバイス。 35.前記偏光板が前記セルの外側にある、請求項33に記載のディスプレイデ バイス。 36.前記ミクロ偏光板が、前記液晶層と透明電極との間にある、請求項34に 記載のディスプレイデバイス。 37.液晶ディスプレイデバイスであって、 それぞれに電極を備えた1対の分離した透明基板、および該基板間に位置する ネマチック液晶層を備えた液晶セルであって、該ネマチック液晶層が正の誘電異 方性および該基板に対して垂直に配向したらせん軸を有し、そして電圧無印加時 に90°から270°のねじれ角で実質的に水平に配向する液晶セル、および 該液晶セルの透明電極に隣接して位置した請求項29のミクロ偏光板 を備えた、液晶ディスプレイデバイス。
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