JPH10510358A - 圧力トランスミッタ用マニホールド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 マニホールド（１０）は、ほぼ平坦な入口表面（１４）を有する本体を含む。入口表面（１４）は、加圧されたプロセス流体が結合されるように適合された第１入口（１６）および第２入口（１８）を含む。マニホールド（１０）の出口表面（２２）は、共平面のトランスミッタに接続されるように適合されると共に、入口表面（１４）に対して予定の角度を有する。マニホールド（１０）は、出口表面（２２）と反対側の均圧弁表面（２４）および両者間にある側壁面を含む。出口表面（２２）は、それぞれ第１および第２入口（１６，１８）と流体的に連通する第１および第２出口（２６，２８）を有する。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の名称 圧力トランスミッタ用マニホールド 発明の背景 本発明は、プロセスを代表するプロセス変数を計測する現場装着用の測定トラ ンスミッタに関する。更に具体的に言えば、本発明は、流体圧力を差圧感知手段 に伝達するプロセス流体へトランスミッタを結合するために、当該トランスミッ タと共に用いられるマニホールドに関する。 プロセス導管を圧力トランスミッタへ接続するために、フランジアダプタおよ び弁マニホールドを用いることが、この産業分野では標準的に行われて来た。マ ニホールドは、加圧された流体が流れるプロセス導管を、圧力トランスミッタの フランジ加工された表面へ接続する。しばしば、Ｈ形マニホールドが導管とトラ ンスミッタフランジとの間で用いられる。代表的なマニホールドでは、プロセス 流体が供給される入口表面と、トランスミッタに接続される出口表面とが反対側 に対向していた。換言すれば、入口表面と出口表面とは平行であった。さらにマ ニホールドは、トランスミッタあるいはプロセス導管を装着するための追加フラ ンジや補助プレートと共に用いられていた。これらの組立体は大きく、重く、場 所を取り、流体の漏れを助長する多数の結合部や接続部を備え、設置する際も適 応性がない。 加えて、トランスミッタのある種の用途では、これを使用する間にマニホール ドが満足しなければならない特種な要求がある。例えば、天然ガス産業では、測 定精度が重要課題であり、マニホールドを設置する際に重視されなければならな い。発電産業では、プロセス較正が重要課題であり、マニホールドを設置する際 に重視されなければならない。 圧力トランスミッタとプロセス導管とを接続するために用いられるマニホール ドには、設置スペースが小さく、漏れがなく、適合性があり、設置や使用が簡単 であるという要求が継続的にある。 発明の要約 マニホールドは、ほぼ平面状の入口表面を備えた本体を有する。入口表面は、 加圧されたプロセス流体に結合されるように適合された第１および第２の入口を 備える。マニホールドの出口表面は、共平面(co-planar)のトランスミッタに結 合されるように適合され、入口表面に対して垂直である。マニホールドは、出口 表面とは反対側の均圧弁表面と、両表面間の側面とを有する。 出口表面は、それぞれ第１および第２入口と流体的に連通する第１および第２ 出口を有する。遮断弁は出口を入口から選択的に遮断する。一実施形態では、均 圧弁は第１出口と第２出口とを選択的に結合し、排出弁は第１および第２出口を 選択的に大気へ通じさせる。他の実施形態では、２つの均圧弁と１つの排出弁と が用いられる。 図面の簡単な説明 図１は本発明のマニホールドの特徴を具体的に示した斜視図である。 図２は図１のマニホールドの他の斜視図である。 図３は図１のマニホールドの第１端面図である。 図４は図１のマニホールドの第２端面図である。 図５は図１のマニホールドの第３端面図である。 図６は図１のマニホールドの第４端面図である。 図７は図１のマニホールドの断面図である。 図８は図１のマニホールドの第１側面図である。 図９は図１のマニホールドの第２側面図である。 図１０は図１のマニホールドの他の断面図である。 図１１は図１のマニホールドの概略系統図である。 図１２は図１のマニホールドがトランスミッタおよびプロセス導管に接続され た状態での第１側面図である。 図１３は本発明の他のマニホールドの特徴を具体的に示した斜視図である。 図１３Ａは、図１３のマニホールドの他の斜視図である。 図１４は本発明のさらに他のマニホールドの特徴を具体的に示した斜視図であ る。 図１５は図１４のマニホールドの断面図である。 図１６は本発明のさらに他のマニホールドの特徴を具体的に示した斜視図であ り、トランスミッタおよびプロセス導管が接続されて いる。 図１７は図１６のマニホールドの他の斜視図である。 図１８は図１６のマニホールドの平面図である。 図１９は図１６のマニホールドの概略系統図である。 実施例の詳細な説明 本発明によるマニホールドの構成が、図１−１２において符号１０で示されて いる。図１、２に示したように、マニホールド１０は単一体の鋳造物であり、本 体断面は第１部材１２、第２部材２０および第３部材４６からなるＨ形であるこ とが望ましい。第１および第３部材１２、４６は端部として機能し、第２部材２ ０は両者の連結（交さ）部として機能する。ほぼ平板状の第１部材１２は入口表 面１４を有する。入口表面１４には第１入口１６および第２入口１８が形成され ている。 平板状の第２部材２０は、第１部材１２の上にほぼ直立し、かつこれに対して ほぼ垂直に立っている。第２部材２０は、出口表面２２および、この表面に対し て反対側で、かつほぼ平行である均圧弁面２４を備えている。出口表面２２には 第１出口２６および第２出口２８が形成されている。出口２６、２８は、一般的 には１．３インチ（３．３センチ）（ＤＩＮ）離間され、本願発明と共に譲渡さ れた米国意匠特許第３１７２６６号に開示された共平面(co-planar)を備えたト ランスミッタが直結されるように適合される。これに対して、従来のトランスミ ッタでは１７／８インチ（５．４ センチ）（ＤＩＮ）離間されている。均圧弁面２４には、均圧チャンバ３２を有 するボス３０が形成されている。第２部材は第１端面３４および第２端面３６を も備えている。第１端面３４には、第１閉塞チャンバ４０が内部に形成されたボ ス３８が形成されている。第２端面３６には、第２閉塞チャンバ４４が内部に形 成されたボス４２が形成されている。 ほぼ平板状の第３部材４６は第２部材２０に対して垂直であり、かつ第１部材 に対してほぼ平行である。第３部材４６は、入口表面１４とは反対側に対向する 排出(venting)面４８を備える。排出面４８には第１排出口５０および第２排出 口５２が形成されている。好ましい実施形態では、これらの排出口５０、５２は １７／８インチ（５．４センチ）（ＤＩＮ）離間される。排出面４８には複数の 装着穴５４も形成されている。 図１２は、入口１６、１８に接続されるプロセス導管５６ａ，５６ｂ，および 出口２６，２８に接続されるトランスミッタ（ハウジング）５８を示している。 較正の間は、流体は好ましくは入口１６，１８から矢印６０で示した方向にマニ ホールド１０内へ流れ込み、出口２６，２８の一方あるいは両方からトランスミ ッタ５８内へ流れるか、あるいは排出口５０，５２の一方あるいは両方を経て大 気中あるいは他の閉領域あるいは圧力源へ流れ込む。マニホールド１０はスタン ド６１に装着されて支持される。 図３にも示したように、第１部材１２は長方形状であり、入口 １６，１８は平面状の入口表面１４に設けられた凹部である。入口１６，１８は 、好ましくは出口表面２２および均圧弁面２４の各平面間に形成される。装着穴 ５４は第１部材１２を貫通している。 入口１６，１８には、好ましくは、加圧されたプロセス流体を流すネジ付の低 圧および高圧導管５６が装着されるように、ネジが切られている。各導管５６は 入口１６，１８に直接接続される。しかしながら、例えば導管５６ａ，５６ｂと マニホールド１０とを接続する接続アッセンブリのような、他の形態も考えられ ることは理解されるべきである。入口１６，１８は、導管の離間に関する工業標 準である１７／８インチだけ離間される。 図４に示したように、第３部材４６も長方形状であり、第１部材１２とほぼ同 じサイズである。排出口５０，５２は、ほぼ平板状の排出面４８に、これに対し て垂直に形成された凹部である。排出口５０，５２は、好ましくは出口表面２２ および均圧弁面２４の各平面間に形成される。装着穴５４は、第３部材４６の表 面に対して垂直に、これを貫通するように延びている。排出口５０，５２は、好 ましくは弁などを収容できるようにネジ加工されている。さらに、トランスミッ タを積層できるように、排出口には他のマニホールドを接続することも可能であ る。 図５、６に示したように、ほぼ円筒状の閉塞チャンバ４０，４４は、それぞれ ボス３８，４２に設けられたネジ付き凹部である。以下に述べるように、閉塞チ ャンバ４０，４４には閉塞バルブが収容 される。 図７は第２部材２０の断面図である。第２部材２０内には、第１入口１６から 第１閉塞チャンバ４０および第１排出口５０へ通じる第１通路６２が設けられて いる。第１通路６２はまた、第１開口６４から第１出口２６へも通じている。第 ２部材２０内には、第２入口１８から第２閉塞チャンバ４４および第２排出口５ ２へ通じる第２通路６６も設けられている。第２通路６６はまた、第２開口６８ で第２出口２８にも通じている。開口６４，６８は、排出能力が最大となるよう に位置決めされている。閉塞チャンバ４０，４４内の閉塞弁７０，７２は選択的 に開弁または閉弁され、入口１６，１８との連通を許容または遮断する。排出弁 ７４，７６もまた、通路６２，６６と大気との間を選択的に開閉する。 図８に示したように、均圧弁表面２４には、その内部にネジ付き凹部として形 成された、ほぼ円筒状の均圧チャンバ３２を有するボス３０が形成されている。 均圧チャンバ３２は、図９に示したように、第２部材２０を貫通して出口２６， ２８へ延びる均圧開口７８を含む。出口２６，２８は、シール性の面ではトラン スミッタ５８の入口部分と共通性がある。シールの共通性は、出口２６，２８の 周囲および装着穴５４の位置にシールリング（図示せず）を配設すると共に、前 記装着穴５４の位置を、装着ボルト５９を受け入れるためにトランスミッタ５８ 側に形成された対応する装着穴の位置と整合させることによってもたらされる。 トランスミッタ５８が必要 な測定精度を得るためには、シーリング結合が十分な密封性を持たなければなら ない。 図１０は第２部材２０の断面図である。通路６２、６６に加えて、第２部材２ ０には、均圧チャンバ３２を経由して出口２６，２８を連通する均圧通路８０が 形成されている。均圧チャンバ３２内の均圧弁８２は、出口２６，２８間を選択 的に開閉する。 閉塞弁７０，７２、排出弁７４，７６および均圧弁８２は、これら弁の内部に 配置されて弁部材を支持する弁棒部を含む既知の構造を有する遮断弁である。各 弁の可動構造は同一で良く、弁棒の内部の自由端は円錐形または球形の弁部とな っている。各弁は、マニホールド１０から外部へ突き出た弁駆動棒をも具備して いる。各弁駆動棒の自由端には、従来技術において既知のハンドルが設けられて いる。 好ましい一つの動作モードでは、高圧力のプロセス流体が導管５６ａ，５６ｂ の一方によって第１入口１６へ供給され、低圧力のプロセス流体は導管５６ａ， ５６ｂの他方によって第２入口１８へ供給される。これに応答して、トランスミ ッタ５８の高圧流体ポートが第１出口２６に接続され、低圧流体ポートが第２出 口２８に接続される。 図１１は、マニホールド１０の概要図である。高圧プロセス流体の入口と高圧 流体ポートとを直結するためには、閉塞弁７２、排出弁７４，７６および均圧弁 ８２を閉じて閉塞弁７０を開く。低圧プ ロセス流体の入口と低圧流体ポートとを直結するためには、閉塞弁７０、排出弁 ７４，７６および均圧弁８２を閉じて閉塞弁７２を開く。低圧プロセス流体を高 圧および低圧ポートの双方へ導いて圧力を均等化するためには、閉塞弁７０、排 出弁７４，７６を閉じて閉塞弁７２および均圧弁８２を開く。高圧プロセス流体 を高圧および低圧センサの双方へ導いて圧力を均等化するためには、閉塞弁７２ 、排出弁７４，７６を閉じて閉塞弁７０および均圧弁８２を開く。高圧および低 圧プロセス流体の双方をマニホールド１０から排出させてトランスミッタ５８に おける圧力差を“０”にするためには、全ての弁を開く。出口２６，２８の圧力 を“０”にするためには、閉塞弁７０，７２を閉じて排出弁７４，７６を開く。 図１３，１３Ａは，本発明の他の実施形態であるマニホールド１０ａを示し、 前記と同一の符号は同一または同等部分を表している。排出口９０，９２は、第 ３部材４６にではなくて、側壁面３４，３６内に窪んで形成される。排出口９０ ，９２は、好ましくは、上記したような既知の構造を有する弁等を収容するため にネジ加工されている。 図１４は、本発明のさらに他の実施形態であるマニホールド１０ｂの具体的な 特徴を示した図であり、前記と同一の符号は同一または同等部分を表している。 側壁面３４，３６は、それぞれネジ付き穴のような排出チャンバ９３，９４を有 する。排出チャンバ９３，９４は、それぞれ閉塞チャンバ４０，４４と連通し、 排出弁９５， ９６等が内部に収容される。第３部材４６は、排出ポート９８ａ，９８ｂが窪ん だ状態で設けられた端面９７を有する。 図１５は、図１４のマニホールド１０ｂの線１５−１５に沿った断面図であり 、内部の通路が示されている。入口１６，１８はそれぞれ通路１００、１０２を 介して、それぞれ閉塞チャンバ４０，４４と連通している。閉塞チャンバ４０， ４４は、それぞれ通路１０４、１０６を介して、それぞれ排出チャンバ９３，９ ４と連通している。さらに排出チャンバ９３，９４は、それぞれ通路１０８、１ ０９を介して、それぞれ排出ポート９８ａ，９８ｂと連通している。排出ポート ９８ａ，９８ｂは大気と通じている。 図１６は、本発明の他の実施形態であるマニホールド１０ｃの特徴を具体的に 示した斜視図であり、プロセス導管５６ａ，５６ｂおよびトランスミッタ５８と 共に示されており、前記と同一の符号は同一または同等部分を表している。入口 １６，１８にはプロセス導管５６ａ，５６ｂが接続され、出口２６，２８にはト ランスミッタ５８が接続される。側壁面３４，３６には、それぞれ内部に閉塞チ ャンバ１２６，１２８を具備したボス１２０，１２２が、それぞれ形成されてい る。閉塞チャンバ１２６，１２８には、それぞれ弁１３２，１３４等が収容され る。 図１７は、マニホールド１０ｃを図１６とは反対側から見た図である。均圧弁 面１４０は、内部に均圧チャンバ１４６，１４８がそれぞれ形成されたボス１４ ２，１４４を備える。均圧チャンバ １４６，１４８には、弁１５０，１５２等を収容できるようにされる。側壁面３ ４は、弁１５６等が収容されるように適合された排出チャンバ１５４を備え、第 ３部材４６は、その端面１６０上に単一の排出ポート１５８を備える。 図１８は、図１６に関して説明したマニホールド１０ｃの透視平面図であり、 通路が仮想線で示されている。入口１６，１８は、それぞれ通路１７０、１７２ を介して閉塞チャンバ１２６，１２８と連通している。閉塞チャンバ１２６，１ ２８は、それぞれ通路１７４、１７６を介して出口２６，２８と連通している。 出口２６，２８は、それぞれ通路１７８、１８０を介して、それぞれ均圧チャン バ１４６，１４８と連通している。均圧チャンバ１４６，１４８は相互に連通す ると共に、通路１８２を介して排出チャンバ１５４と連通している。排出チャン バ１５４は通路１８４を介して排出ポート１５８と連通し、また排出ポート１５ ８は大気と通じている。 図１９は、マニホールド１０の概要を示した図である。好ましい一つの動作モ ードでは、高圧力のプロセス流体が導管５６ａ，５６ｂの一方によって第１入口 １６へ供給され、低圧力のプロセス流体は導管５６ａ，５６ｂの他方によって第 ２入口１８へ供給される。これに相応して、トランスミッタ５８の高圧流体ポー トは第１出口２６と接続され、低圧流体ポートは第２出口２８と接続される。 高圧プロセス流体の入口と高圧流体ポートとを直結するためには、閉塞弁１３ ４、排出弁１５６および均圧弁１５０，１５２を閉じて 閉塞弁１３２を開く。高圧流体ポートは同様の状態にする一方、低圧流体ポート は排出状態にするのであれば弁１５２，１５６を開く。低圧プロセス流体の入口 と低圧流体ポートとを直結するためには、閉塞弁１３２、排出弁１５６および均 圧弁１５０，１５２を閉じて閉塞弁１３４を開く。低圧流体ポートは同様の状態 に保つが、高圧流体ポートは排出状態にするのであれば弁１５０，１５６を開く 。低圧プロセス流体を高圧および低圧ポートの双方へ導いて圧力を均等化するた めには、閉塞弁１３２および排出弁１５６を閉じて閉塞弁１３４および均圧弁１ ５０，１５２を開く。 高圧プロセス流体を高圧および低圧センサの双方へ導いて圧力を均等化するた めに、閉塞弁１３４および排出弁１５６を閉じて閉塞弁１３２および均圧弁１５ ０，１５２を開く。高圧および低圧プロセス流体の双方をマニホールド１０ｃか ら排出させてトランスミッタ５８における圧力差を“０”にするためには、全て の弁を開く。出口２６，２８の圧力を“０”にするためには、閉塞弁１３２，１ ３４を閉じて排出弁１５６および均圧弁１５０，１５２を開く。通常の動作状態 では、閉塞弁１３２，１３４および排出弁１５６を開く。均圧弁１５０，１５２ から漏れたプロセス流体は排出弁１５６を介して排出され、反対側の出口２６、 ２８には影響しないので、より正確な計量が可能になる。 上記した本発明の実施形態によれば多くの効果が達成される。これらの効果の 中には、従来技術のトランスミッタが専ら使用されて いた装置を、新しい“共表面”のトランスミッタで代用できることがある。多く の旧式の装置は、“Ｈ形”のフランジを備え、ポート間隔の広い従来のトランス ミッタに合わせて設計されていた。さらに、いくつかの装置は、既存の導管等を 改造しなければ、共表面のトランスミッタ用の他のマニホールドへ簡単には適合 することができない。本発明のマニホールドは、既存の設計、構造やＤＩＮ（規 格の）間隔とも適合するので、総合的な設備費用が削減されて都合が良い。 本発明のマニホールドは、強固な支持物に装着されるのに適した複数の表面を 備える。また、プロセス導管に対して垂直に装着されるトランスミッタの“直度 ”設計により、トランスミッタ装置に大きな融通性が与えられる。例えば、図１ ２に示したマニホールド１０は、出口２６，２８が地面や床と向き合うように裏 返すことができ、その結果、トランスミッタも逆さになる。したがって、装置の スペース上の制約に応じて、トランスミッタを違った向きに装着することができ る。 第２開口６８が第２出口の上(top)に位置するように第２出口２８が向けられ るフランジの好ましい装着例では、入口表面１４が地面や床に向くことが必要に なる。このような構成では、出口２８内の泡が排出口５２へ直接浮き上がってト ランスミッタから排出されるので、センサの精度が向上する。本発明のマニホー ルドを用いればフランジや結合部材が不要となるので、漏れの原因となる通路 が減少して漏れが減少する。前述のマニホールド１０−１０ｂは、特に発電産業 に好適である。マニホールド１０ｃは、特に天然ガス産業に好適である。しかし ながら、本発明のマニホールドは特定の用途に限定されないことを理解されるべ きである。 ここでは、本発明を好ましい実施形態を参照して説明したが、当業者は、発明 の精神および範囲から逸脱することなく、形式および細部において変更できるこ とを認識できるであろう。

【手続補正書】 【提出日】１９９７年６月１３日 【補正内容】 特許請求の範囲 １．プロセス流体の圧力を計測するために、圧力感知トランスミッタと共に用い られるマニホールドにおいて、 入口表面を有する第１の端部材および出口表面を有する連結部材を備え、第１ の端部材と連結部材とが相互に角度をもって配置されたマニホールド本体と、 第１の端部材上に形成され、プロセス流体が供給される第１および第２の入口 と、 出口表面上に形成され、圧力感知トランスミッタに連結される第１および第２ の出口と、 マニホールド本体内に形成され、入口および出口間に延びて両者を連結する通 路とを具備し、 入口表面を含む平面と出口表面を含む平面とは相互に平行ではないことを特徴 とするマニホールド。２ ．プロセス流体の圧力を計測するために、圧力感知トランスミッタと共に用い られるマニホールドにおいて、 第１圧力源へ接続するための第１入口、および第２圧力源へ接続するための第 ２入口を備えた入口部上の入口表面と、 第１および第２圧力出口を含んでおり、かつ圧力トランスミッタを装着するた めの出口表面を有し、前記入口表面と連結された連結部と、 前記連結部の前記入口表面とは反対側でこれに結合された対向部上に形成され 、かつ前記入口表面および連結部と共に“Ｈ”形状を構成する対向表面と、 第１入口と第１出口との間に延びた第１通路と、 第２入口と第２出口との間に延びた第２通路とを具備したことを特徴とするマ ニホールド。３ ．入口表面を含む平面は、出口表面を含む平面に対して実質的に垂直であるこ とを特徴とする請求項１または２に記載のマニホールド。４ ．第１出口に接続された第１均圧通路、第２出口に接続された第２均圧通路お よび、第１均圧通路と第２均圧通路とを選択的に接続する均圧チャンバを含むこ とを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載のマニホールド。５ ．第１閉塞チャンバ面内で連結部材内に配置され、第１入口および第１出口と 直接連通する第１閉塞チャンバと、 第２閉塞チャンバ面内で連結部材内に配置され、第２入口および第２出口と直 接連通する第２閉塞チャンバとをさらに具備したことを特徴とする請求項１ない し４のいずれか に記載のマニホールド。６ ．第１および第２均圧チャンバをさらに具備し、第１均圧チャンバは第１出口 と連通し、第２均圧チャンバは第２出口と連通することを特徴とする請求項１、 ２、３および５のいずれか に記載のマニホールド。７ ．前記第１均圧チャンバは、第１出口と第２均圧チャンバおよび排出口の少な くとも一方とが選択的に連通させるための第１弁を、その内部に収容するように 適合され、 前記第２均圧チャンバは、第２出口と第１均圧チャンバおよび排出口の少なく とも一方とを選択的に連通させるための第２弁を、その内部に収容するように適 合されたことを特徴とする請求項６に記載のマニホールド。８ ．前記第１入口と第１出口との間で流体を選択的に連通させる第１弁を収容す るように適合されたことを特徴とする請求項１ないし７のいずれかに記載のマニ ホールド。９ ．前記第１入口と第１弁との間に延び、第１弁の軸に対して実質的に平行な軸 を有する入口通路、および第１弁と第１出口との間に延び、第１弁の軸との間で 鋭角を形成する出口通路を含むことを特徴とする請求項８に記載のマニホールド 。１０ ．前記反対側は、支持部材上に装着するための装着穴を含むことを特徴とす る請求項１ないし９のいずれかに記載のＨ形マニホールド。１１ ．前記入口部は、支持スタンド上に装着するための装着穴を含むことを特徴 とする請求項１ないし１０のいずれかに記載のＨ形マニホールド。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，Ｍ Ｃ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＢＲ，ＣＡ，ＣＮ，ＪＰ，Ｓ Ｇ (72)発明者 サンデット，ポール シー. アメリカ合衆国 55447 ミネソタ州、プ リマス、15390−エイティーンス アベニ ュー ノース ＃110

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．プロセス流体の圧力を計測するために、圧力感知トランスミッタと共に用い られるマニホールドにおいて、 入口表面を有する第１の端部材および出口表面を有する連結部材を備え、第１ の端部材と連結部材とが相互に角度をもって配置されたマニホールド本体と、 第１の端部材上に形成され、プロセス流体が供給される第１および第２の入口 と、 出口表面上に形成され、圧力感知トランスミッタに連結される第１および第２ の出口と、 マニホールド本体内に形成され、入口および出口間に延びて両者を連結する通 路とを具備し、 入口表面を含む平面と出口表面を含む平面とは相互に平行ではないことを特徴 とするマニホールド。 ２．入口表面を含む平面は、出口表面を含む平面に対して実質的に垂直であるこ とを特徴とする請求項１に記載のマニホールド。 ３．第１出口に接続された第１均圧通路、第２出口に接続された第２均圧通路お よび、第１均圧通路と第２均圧通路とを選択的に接続する均圧チャンバを含むこ とを特徴とする請求項１に記載のマニホールド。 ４．前記均圧チャンバは、第１および第２出口と反対側の連結部材上に装着され る均圧弁が収容されるように適合されたことを特徴と する請求項３に記載のマニホールド。 ５．前記均圧弁は軸を有し、第１均圧通路は前記軸と実質的に平行であり、また 前記第２均圧通路は当該軸に対して鋭角をなすことを特徴とする請求項４に記載 のマニホールド。 ６．第１閉塞チャンバ面内で連結部材内に配置され、第１入口、第１出口および 均圧チャンバと直接連通する第１閉塞チャンバと、 第２閉塞チャンバ面内で連結部材内に配置され、第２入口、第２出口および均 圧チャンバと直接連通する第２閉塞チャンバとをさらに具備したことを特徴とす る請求項３に記載のマニホールド。 ７．前記第１および第２閉塞チャンバ面は相互に略平行であり、入口表面および 出口表面を含む各平面に対しては略垂直であることを特徴とする請求項６に記載 のマニホールド。 ８．第１排出面に形成されて第１閉塞チャンバと連通する第１排出チャンバと、 第２排出面に形成されて第２閉塞チャンバと連通する第２排出チャンバとをさ らに具備し、 前記第１および第２排出チャンバはマニホールド本体内に配置されたことを特 徴とする請求項７に記載のマニホールド。 ９．前記第１および第２排出面は、第１および第２閉塞チャンバの形成された平 面と略平行であることを特徴とする請求項８に記載のマニホールド。 １０．前記第１および第２排出面は、第１および第２閉塞チャンバ の形成された平面と略垂直であることを特徴とする請求項８に記載のマニホール ド。 １１．第１および第２均圧チャンバをさらに具備し、第１均圧チャンバは第１出 口と連通し、第２均圧チャンバは第２出口と連通することを特徴とする請求項１ に記載のマニホールド。 １２．前記第１および第２均圧チャンバと連通する排出口をさらに具備したこと を特徴とする請求項１１に記載のマニホールド。 １３．前記第１均圧チャンバは、第１出口と第２均圧チャンバおよび排出口の少 なくとも一方とが選択的に連通させるための第１弁を、その内部に収容するよう に適合され、 前記第２均圧チャンバは、第２出口と第１均圧チャンバおよび排出口の少なく とも一方とを選択的に連通させるための第２弁を、その内部に収容するように適 合されたことを特徴とする請求項１２に記載のマニホールド。 １４．マニホールド本体内に配置され、排出口ならびに第１および第２均圧チャ ンバと連通する排出チャンバをさらに具備したことを特徴とする請求項１３に記 載のマニホールド。 １５．前記連結部材の前記第１の端部材とは反対側に連結された第２の端部材を 含むことを特徴とする請求項１に記載のマニホールド。 １６．前記第１出口から第２の端部材上の第１排出口へ延びた第１排出通路、お よび前記第２出口から第２の端部材上の第２排出口へ延びた第２排出通路を含む ことを特徴とする請求項１５に記載のマ ニホールド。 １７．前記第１および第２の端部材ならびに連結部材は“Ｈ”形状を構成するこ とを特徴とする請求項１５に記載のマニホールド。 １８．前記連結部材上に装着され、出口表面を含む平面に対して実質的に平行な 軸を有する弁を収容するように適合されたことを特徴とする請求項１に記載のマ ニホールド。 １９．前記第１入口と第１出口との間で流体を選択的に連通させる第１弁を収容 するように適合されたことを特徴とする請求項１に記載のマニホールド。 ２０．前記第１入口と第１弁との間に延び、第１弁の軸に対して実質的に平行な 軸を有する入口通路、および第１弁と第１出口との間に延び、第１弁の軸との間 で鋭角を形成する出口通路を含むことを特徴とする請求項１９に記載のマニホー ルド。 ２１．プロセス流体の圧力を計測するために、圧力感知トランスミッタと共に用 いられるＨ形マニホールドにおいて、 第１圧力源へ接続するための第１入口、および第２圧力源へ接続するための第 ２入口を備えた入口部上の入口面と、 第１および第２圧力出口を含んでおり、かつ圧力トランスミッタを装着するた めの装着面を有し、前記入口面と連結された連結部と、 前記連結部の前記入口面とは反対側でこれに結合された対向部上に形成され、 かつ前記入口面および連結部と共に“Ｈ”形状を構成する対向面と、 第１入口と第１出口との間に延びた第１通路と、 第２入口と第２出口との間に延びた第２通路とを具備したことを特徴とするＨ 形マニホールド。 ２２．第１入口および第１出口を連通し、第１入口を第１出口に選択的に連結す るために、連結部上に装着された第１弁を収容するように適合された第１閉塞チ ャンバと、 第２入口および第２出口を連通し、第２入口を第２出口に選択的に連結するた めに、連結部上に装着された第２弁を収容するように適合された第２閉塞チャン バとを含むことを特徴とする請求項２１に記載のＨ形マニホールド。 ２３．前記第１および第２弁の軸は、連結部の平面に対して実質的に平行である ことを特徴とする請求項２２に記載のＨ形マニホールド。 ２４．前記第１および第２出口と連通する均圧チャンバをさらに具備したことを 特徴とする請求項２２に記載のＨ形マニホールド。 ２５．前記均圧チャンバは、前記第１および第２出口に直接連通することを特徴 とする請求項２４に記載のＨ形マニホールド。 ２６．前記均圧チャンバと連通する排出口をさらに具備したことを特徴とする請 求項２４に記載のＨ形マニホールド。 ２７．前記第２出口および第１均圧チャンバと直接連通する第２均圧チャンバを さらに具備したことを特徴とする請求項２４に記載のＨ形マニホールド。 ２８．前記第１および第２均圧チャンバはそれぞれ、その内部に弁が収容される ように適合されたことを特徴とする請求項２７に記載のＨ形マニホールド。 ２９．前記均圧チャンバは、その内部に弁が収容されるように適合されたことを 特徴とする請求項２４に記載のＨ形マニホールド。 ３０．前記第１出口に接続された第１均圧通路と、 前記第２出口に接続された第２均圧通路と、 前記第１および第２均圧通路と連通する均圧チャンバであって、第１および第 ２均圧通路を選択的に接続するために、第１および第２出口と反対側で連結部に 結合されたを収容するように適合された均圧チャンバとを含むことを特徴とする 請求項２１に記載のＨ形マニホールド。 ３１．前記均圧弁の軸は連結部の装着面に対して実質的に垂直であることを特徴 とする請求項３０に記載のＨ形マニホールド。 ３２．第１出口から反対側の排出口へ延びた第１排出通路と、 第１出口から反対側の排出口へ延びた第２排出通路とを含むことを特徴とする 請求項２１に記載のＨ形マニホールド。 ３３．前記反対側は、支持部材上に装着するための装着穴を含むことを特徴とす る請求項２１に記載のＨ形マニホールド。 ３４．前記入口部は、支持スタンド上に装着するための装着穴を含むことを特徴 とする請求項２１に記載のＨ形マニホールド。