JPH10510373A - 回折格子光二重集束装置 - Google Patents
回折格子光二重集束装置Info
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Abstract
(57)【要約】
反射/回折光弁装置は単一光源の周りの多重寸法から光を集束させる。これら多重集束寸法から光が弁に向けられ多重方向から衝突する。弁の構成を反射的にすると、光は光源に戻る。一方、弁の構成を回折的にすると、第1及び第3の回折次数の回折光は、装置の効率を大きく向上させる集束寸法の各々のために、弁から透過する。
Description
【発明の詳細な説明】
回折格子光二重集束装置
技術分野
本発明は光学装置の分野に関する。より詳細には本発明は反射光弁装置から集
束した有用な光の量を増加させる装置に関する。光は、転向ミラーの分離角度を
光弁の偏向角度に合わせる転向ミラー装置を補助装置として、多重球形ミラーと
集光レンズ装置を通して集束される。
発明の背景
光弁装置においては、光源からの利用可能な光を最大限に集束して装置の効率
を高め、経費のかからない設計を維持することが重要である。ディスプレー装置
用のような精密な光源の経費はルーメン強度にしたがって劇的に増加する。光弁
装置は透過及び反射の装置に分類することができる。
代表的な透過装置においては、集束ミラーが使用されて光を集束し弁を通して
透過させる。集束リフレクターだけでは、光は光源の1側だけから集束される。
集束レフレクターから集束した光は低度の視準を有する。しかし代表的な透過光
弁装置は集束レフレクターによって光を集める。かかる透過装置は光源から放射
された光の55%以上を集束することができる。
反射光弁装置のためには、光視準の条件はより厳格であり、代表的な装置は集
光レンズを使用して優れた視準を与える光を集束する。代表的な反射光弁装置は
球形ミラー及び集光レンズの両者を使用して光源の二つの側から光を集束する。
しかしかかる装置の効率は低い。例えば後部レフレクターを有するF/.72集
光装置は放射した光の18%だけを集束する。
第1図は光源が転向ミラーの上に投影される代表的な回折光弁の構成を示す。
光はバルブのように光源100から全方向に放射される。球形ミラー102に当
った光は集束され光源100に戻り、そのそばを通過する。同様に光源100を
離れコンデンサーレンズ系104に当る光も集束される。第1図に示す例では
コンデンサーレンズ系104は複合レンズ装置である。当業者には他の形式のレ
ンズ装置でも集光の機能を行わせることができることは明らかであろう。球形ミ
ラー102により集束された光は光源100を通過した後、コンデンサーレンズ
系104に入る。球形ミラー102にもコンデンサーレンズ系104にも当たら
ない光は失われる。この浪費した照明は装置の効率の低下の原因となる。
コンデンサーレンズ系104は光源100からの光を回転ミラー106へ投影
する。回転ミラー106はこの光を反射光弁108へ反射する。第1図に示す例
ではシュリーレンレンズ110を転向ミラー106と反射光弁108との間に設
ける。この例では反射光弁108は回折格子光弁である。この弁は反射又は回折
のいずれの構成でも選択することができる。そのような装置の例は1994年5月10
日にブルームその他に与えられた米国特許第5,311,360号、同時出願同時係属の
米国特許出願第08/482,188号(フラット回折格子光弁)、及び同時出願同時係属
の米国特許出願第08/480,459号(フラット回折格子光弁の製造方法及びその装置
)に見出すことができる。構成を反射的にすると、反射光弁108に当たる光は
鏡面反射をしてシュリーレンレンズ110を通して転向ミラー106に戻り、そ
の後コンデンサーレンズ系104を通して光源に戻る。
弁が回折的である場合、回折角は既知であり回折格子の周期の機能として計算
可能である。構成を回折的にすると、回折した光は転向ミラーのそばを通って投
影光学系112に入る。光は第1の回折次数の角度Θ、及びその倍角のΘによっ
ても回折することは良く知られている。反射光弁108から第2及び第3次数の
回折角で出る光は瞳孔マスク114で遮断される。このような方法で所望の第1
の回折次数の光が投影光学系112に与えられる。
光弁の回折角は、回折した光の全てを集束する転向ミラー上への光源の投影像
により範囲が決められる角度、より大きいことが要求される。大きな光源のため
には、これは輝度と妥協することなしに常に可能であるとはいえない。これは転
向ミラーに対する光源の増幅を最大にすることを強いるか、或いは輝度を最大限
にする代替え的な技術が必要になる。これらの問題は小さな角度で光を回折する
光弁にあてはまることがはっきりとした。
エイダホア(Eidaphor)は最も古い高輝度反射光弁プロジェクターである。こ
れは電子ビームと共に整列した球形ミラー上の変形可能な油膜を利用する。整列
すると、膜の局部的にフラットな表面は40ミクロンの周期を有する正弦曲面に
なる。回転ミラーへの入射光源の大きさは小さくなくてはならない。輝度を最大
限にする一方、転向ミラーの寸法を小さくするためには多重転向ミラーを使用す
る。光は多重転向ミラーに向けるための単一のジメンション及び方向で集束され
るだけである。光源からの光は集光レンズ装置により単一のジメンションで集束
される。集光レンズから単一の方向に出る光は多重転向ミラーに衝突する。多重
転向ミラーを使用することにより、回転ミラーの効率的な大きさは、ひとまとめ
にして光源から見たときに増大する。同様に小さな回転ミラーはミラーのそばを
通過する回折光の高度の回折次数モードを可能にする。転向ミラーにより反射し
た光はスプリッターを通って通過し、色で特定する変形可能な油膜/レフレクタ
ーに衝突する。赤、緑、及び青を発色するため三つの油膜/レフレクターが使用
される。スプリッターと油膜/レフレクターの間にはレンズシステムが使用され
る。若し光が反射すると、それは光源に戻る。若し光が回折すると、それは転向
ミラーのそばを通過し投射光学素子へ進む。第1図の例では光源からの光の重要
な部分は消費されて装置には入らず弁に衝突しない。
少量の望ましくない光を第2の回折次数へ回折させる回折光弁に対しては、本
装置は第2の回折次数の光が暗い状態へ回折されるだろうという不利益を有する
。これはエイダホアにとっては利益となる。なぜならその暗い状態は光を高度の
回折次数に回折させないからである。
発明の要約
反射/回折光弁装置は単一光源の周りのマルチジメンションから光を集束させ
る。これらマルチ集束ジメンションから光が弁に向けられ多重方向から衝突する
。弁の構成を反射的にすると、光は光源に戻る。一方、弁の構成を回折的にする
と、奇数の回折次数からの光は、装置の効率を大きく向上させる集束ジメンショ
ンの各々のために、弁から透過する。
図面の簡単な説明
第1図は先行技術の回折光弁装置のための第1光学装置の略図を示す。
第2図は本発明の好ましい実施例による反射光弁装置のための光学装置の略図
を示す。
第3図は弁の構成を反射的にした場合の本発明の光学装置の一部の略図を示す
。
第4図は弁の構成を回折的にした場合の本発明の光学装置の一部の略図を示す
。
好ましい実施例の詳細な説明
本発明の好ましい実施例は回折に基づいた光変調器を使用するディスプレー装
置にある。この装置においては光弁は基体上に懸垂した整列可能な反射性リボン
構造体の配列を含む。この配列の素子を整列させると、リボンは基体に向かって
選択的に運動する。この運動量は入射光のスペクトルの中心波長の1/4である
。リボンが作動するとリボンは回折格子を形成し、通常の方法で機能する。リボ
ンが作動しない場合、効率的にリボンは連続的なレフレクターの平面上にあり、
円滑な鏡面ミラーのように作動する。
第2図は本発明の光学装置の略図を示す。単一光源300は全方向に分散する
光を発生する。光は光源300からバルブのように全方向に放射される。第1球
形ミラー302に当たる光は集束され、光源300に戻り、そのそばを通過する
。同様に、光源300から出て第1コンデンサー装置304に衝突する光も、集
束され、視準され、転向ミラーに投射される。第2図に示す実施例ではコンデン
サーレンズ系304は光を視準する第1レンズ306、光を向け直す転向ミラー
308、及び続く転向ミラー312に光源300を投影する第2レンズ310を
含む複合レンズ装置である。他の形式のレンズ装置でも集光機能を果たすように
使用することができることは当業者には明らかであろう。ミラー302で集束さ
れた光も光源300を通過した後、コンデンサーレンズ系304に入る。
コンデンサーレンズ系304は光源300からの光の部分を鏡面転向ミラー3
12に投影する。転向ミラー312は光を反射光弁314に反射する。第2図に
示す実施例ではシュリーレンレンズ316は転向ミラー312と光弁314の
間に位置する。
第1図では、ミラーにもコンデンサーにも当たらない光は消滅する。この浪費
した照明は装置の効率低下の原因となる。本発明による装置は装置の効率を改善
するさらに二つの集束装置を提供する。これらの追加される集束装置はさもなけ
れば消費されるかもしれない光を集束する。第2図の説明に戻ると、第2の集束
光路は第1の集束光路の鏡像である。これら二つの集束光路の各々は二つのジメ
ンションの各々で光を集束する。
第2の集束光路では第2の球形ミラー322によって集束され光源300に戻
りそのそばを通過する。同様に、光源300を出て、第1コンデンサーレンズ系
324に当たる光も集束され、視準され、転向ミラーに投影される。コンデンサ
ーレンズ系324は光を視準する第1レンズ326、光を向け直す転向ミラー3
28、及び続く転向ミラー332に光源300を投影する第2レンズ330を含
む複合レンズ装置である。ミラー332で集束された光も光源300を通過した
後、コンデンサー324に入る。コンデンサーレンズ系324は光源300から
の光の部分を鏡面転向ミラー332に投射する。光は転向ミラー332によって
反射されてシュリーレンレンズ316を通過した後、反射光弁314に当たる。
瞳孔マスク334が望ましくない多重の回折次数の光を遮断する。
第3図は転向ミラー312、335、弁314、及び第2図の瞳孔マスク33
4の略図を示す。シュリーレンレンズ316は本発明の詳細が曖昧にされるのを
避けるため図面から除去されている。例えば第1の集束光路から転向ミラー31
2に当たる光は反射して弁314に当たる。反射状態では弁314は鏡面ミラー
として機能する。したがって光は弁314に入射する角度と同じ角度で弁314
から出て、第2転向ミラーに当たり、第2の集束光路を通って光源300に戻る
。これら二つの集束光路は同等であるので第2の集束光路から第2の転向ミラー
332に当たる光も弁314で反射して第1転向ミラー312に当たり、その後
光源に戻る。装置から漏洩する光はない。
第4図は弁314が光を回折するよう構成されている点を除き第3図における
ものと同じ要素を示す。良く知られているように、弁314はΘの角度によって
光を回折させる。第1の回折次数の角度Θで回折する所望の第1の回折次数の光
は、図示するように転向ミラー312のいずれの側をも通過する。この光は投射
光学素子336(第2図)によって集束される。
角度+2Θで回折する望ましくない第2の回折次数の光は第2転向ミラー33
2に当たり、光源に戻る。角度−2Θの第2の回折次数の光は図示のように瞳孔
マスク334に当たる。第3の回折次数の光の半分は装置から出てゆき、半分は
瞳孔マスクで遮断される。角度+/−4Θ、+/−5Θ...で回折する望まし
くない第4の、さらには多重の、回折次数の光も瞳孔マスク334に当たる。こ
れら光路の鏡像は投影光学系に第2集束光路から光を提供する。第2の光路では
第1の回折次数の光だけが回折される。
転向ミラーを分割して二つ又はそれ以上のサブミラーにすることは可能である
。これら転向サブミラーはそれぞれ第1及び第2コンデンサーから来る光への単
一連続反射面となるよう位置することができる。これら転向サブミラーも弁31
4からの回折光に対する分割した構造となるよう異なる軸線に沿って離隔した位
置をとることができる。実際、これら転向サブミラーは第1、第3、第5、及び
他の奇数の回折次数の回折光を可能とし、同時に第2、第4、第6、及び他の偶
数の回折次数の回折光を遮断するができるよう位置することができる。
本装置の設計は以下のとおりである。光弁の回折角は以下の方程式で与えられ
る。
sin(Θd)=λ/Λ
ここでΘdは光弁の回折角、λは光の波長、Λは光弁の格子周期である。転向
ミラーはシュリーレンレンズから水平距離がfであり、かつ光弁に対し直角な線
においてその上及び下それぞれ垂直距離h=fsin(Θd)のところに置かれ
る。対称とすることで、各転向ミラーは他の転向ミラーからの鏡面反射光のスト
ップとして作動する。弁が“オン”状態にあり、光が0回折次数から高い回折次
数モードに回折すときは、第1及び第3の回折次数の光が転向ミラー間及びその
周りで回折するが、第2の回折次数の光は転向ミラーで遮断されるか、或いは投
射レンズに当たらない。コントラスト比は転向ミラーを小さくしその周りの光を
とめることで改良される。色彩による作動のためには、赤、緑、及び青の光を回
折させる3個の光弁が使用される。最大輝度を得るために光弁の各々はそれぞれ
の色彩に同調させる。もし3個の光弁が一つの色だけに同調すると、転向ミラー
の背後のストップの大きさを大きくして第2の回折次数の光を遮断する必要があ
る。
好ましい実施例を参照しつつ本発明を説明した。本明細書を読んだだけで当業
者であれば明らかになる改良又は修正は、本出願の精神と範囲内のものであると
思われる。
【手続補正書】特許法第184条の8第1項
【提出日】1997年6月11日
【補正内容】
間に位置する。
第1図では、ミラーにもコンデンサーにも当たらない光は消滅する。この浪費
した照明は装置の効率低下の原因となる。本発明による装置は装置の効率を改善
するさらに二つの集束装置を提供する。これらの追加される集束装置はさもなけ
れば消費されるかもしれない光を集束する。第2図の説明に戻ると、第2の集束
光路は第1の集束光路の鏡像である。これら二つの集束光路の各々は二つのジメ
ンションの各々で光を集束する。
第2の集束光路では第2の球形ミラー322によって集束され光源300に戻
りそのそばを通過する。同様に、光源300を出て、第1コンデンサーレンズ系
324に当たる光も集束され、視準され、転向ミラーに投影される。コンデンサ
ーレンズ系324は光を視準する第1レンズ326、光を向け直す転向ミラー3
28、及び続く転向ミラー332に光源300を投影する第2レンズ330を含
む複合レンズ装置である。ミラー332で集束された光も光源300を通過した
後、コンデンサー324に入る。コンデンサーレンズ系324は光源300から
の光の部分を鏡面転向ミラー332に投射する。光は転向ミラー332によって
反射されてシュリーレンレンズ316を通過した後、反射光弁314に当たる。
瞳孔マスク334が望ましくない多重の回折次数の光を遮断する。
第3図は転向ミラー312、332、弁314、及び第2図の瞳孔マスク33
4の略図を示す。シュリーレンレンズ316は本発明の詳細が曖昧にされるのを
避けるため図面から除去されている。例えば第1の集束光路から転向ミラー31
2に当たる光は反射して弁314に当たる。反射状態では弁314は鏡面ミラー
として機能する。したがって光は弁314に入射する角度と同じ角度で弁314
から出て、第2転向ミラーに当たり、第2の集束光路を通って光源300に戻る
。これら二つの集束光路は同等であるので第2の集束光路から第2の転向ミラー
332に当たる光も弁314で反射して第1転向ミラー312に当たり、その後
光源に戻る。装置から漏洩する光はない。
第4図は弁314が光を回折するよう構成されている点を除き第3図における
ものと同じ要素を示す。良く知られているように、弁314はΘの角度によって
光を回折させる。第1の回折次数の角度Θで回折する所望の第1の回折次数の光
請求の範囲
1.光学システムにして、
a.光を発生させるための光源(300)と、
b.前記光源(300)からの光を受けるための光弁(314)にして、該光
弁(314)は反射モード及び回折モードの各々で作動するよう選択的に構成可
能な前記光弁(314)と、
c.第1集束光路(304)中の前記光の第1部分を集束する装置(302)
と、
d.前記光の前記第1部分を前記第1集束光路を通して前記光弁(314)に
向ける装置(312)と、
e.第2集束光路(324)中の前記光の第2部分を集束する装置(322)
と、及び
f.前記光の前記第2部分を前記第2集束光路を通して前記光弁(314)に
向ける装置(332)とから成り、
前記光の前記第1部分は前記第2集束光路を通して前記光源(300)に戻
り、前記光の前記第2部分は反射モードにある前記第1集束光路(304)を通
して前記光源(300)に戻り、前記光の前記第1部分と第2部分の第1の回折
次数の回折は回折モードにある前記光学システムから出てゆくことを特徴とする
前記光学システム。
2.前記光弁(314)が回折光弁である請求項1の光学システム。
3.前記光弁(314)が格子光弁である請求項2の光学システム。
4.入射角が第1の回折次数の回折角に等しい請求項2の光学システム。
5.前記光の前記第1部分を方向ずける装置(312)と前記光の前記第2部分
を方向ずける装置(332)が転向ミラーを含む請求項2の光学システム。
6.第2の回折次数の回折が前記転向ミラー(312、332)の一つによって
遮断される請求項5の光学システム。
7.前記光弁(314)が反射モードに構成されているとき前記転向ミラー(3
12、332)が、前記光源(300)から前記光弁(314)への光進
行の単一反射面となりかつ前記光弁(314)からの光進行の単一反射面となる
複数のサブミラー、を含み、前記光弁(314)が回折モードに構成されている
とき前記光の前記第1部分と第2部分の奇数の回折次数の回折が前記光学システ
ムから出てゆく請求項5の光学システム。
8.偶数の回折次数の回折が前記転向ミラー(312、332)の所定の一つに
よって遮断される請求項7の光学システム。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE,
DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L
U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF
,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,
SN,TD,TG),AP(KE,LS,MW,SD,S
Z,UG),UA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD
,RU,TJ,TM),AL,AM,AU,BB,BG
,BR,CA,CN,CZ,EE,FI,GE,HU,
IS,JP,KG,KP,KR,LK,LR,LT,L
V,MD,MG,MK,MN,MX,NO,NZ,PL
,RO,SG,SI,SK,TR,TT,UA,US,
UZ,VN
(72)発明者 ブルーム、デビッド・ダブリュー
アメリカ合衆国、カリフォルニア州
94043、ポートラ・バレイ、ゴールデン・
オーク・ドライブ 140
(72)発明者 ルックス、ブライアン・イー
アメリカ合衆国、カリフォルニア州
94024、ロス・アルトス・ヒルズ、マグダ
レナ・ロード 10321
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.光学装置にして、 a.光を発生させるための光源と、 b.前記光源からの光を受けるための光弁にして、該光弁は反射モード又は回 折モードの一つで作動するよう選択的に構成可能な前記光弁と、 c.第1集束光路中の前記光の第1部分を集束する装置と、 d.前記光の前記第1部分を前記第1集束光路を通して前記光弁に向ける装置 と、 e.第2集束路中の前記光の第2部分を集束する装置と、及び f.前記光の前記第2部分を前記第2集束光路を通して前記光弁に向ける装置 とから成り、 前記光弁が反射モードに構成されているとき、前記光の前記第1部分は前記 第2集束光路を通して前記光源に戻り、前記光の前記第2部分は前記第1集束光 路を通して前記光源に戻り、前記光弁が回折モードに構成されてるとき、前記光 の前記第1部分と第2部分の第1の回折次数の回折が前記光学装置から出てゆく ことを特徴とする前記光学装置。 2.前記光弁が回折光弁である請求項1の光学装置。 3.前記光弁が格子光弁である請求項2の光学装置。 4.入射角が第1の回折次数の回折角に等しい請求項2の光学装置。 5.前記光の前記第1部分を方向ずける装置と前記光の前記第2部分を方向ずけ る装置が転向ミラーを含む請求項2の光学装置。 6.第2の回折次数の回折が前記転向ミラーの一つによって遮断される請求項5 の光学装置。 7.前記光弁が反射モードに構成されているとき前記転向ミラーが、前記光源か ら前記光弁への光進行の単一反射面となりかつ前記光弁からの光進行の単一反射 面となる複数のサブミラー、を含み、前記光弁が回折モードに構成されてるとき 前記光の前記第1部分と第2部分の奇数の回折次数の回折が前記光学装置から出 てゆく請求項5の光学装置。 8.偶数の回折次数の回折が前記転向ミラーの所定の一つによって遮断される請 求項7の光学装置。
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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|---|---|---|---|
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7572015B2 (en) | 2004-08-16 | 2009-08-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Displaying optical system and image projection apparatus |
Families Citing this family (77)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6969635B2 (en) * | 2000-12-07 | 2005-11-29 | Reflectivity, Inc. | Methods for depositing, releasing and packaging micro-electromechanical devices on wafer substrates |
| EP0901031B1 (en) * | 1997-09-05 | 2004-10-13 | Sharp Kabushiki Kaisha | Dark field projection display |
| GB2329036A (en) * | 1997-09-05 | 1999-03-10 | Sharp Kk | Optical system for redistributing optical extent and illumination source |
| US6072545A (en) * | 1998-01-07 | 2000-06-06 | Gribschaw; Franklin C. | Video image rotating apparatus |
| US6220730B1 (en) | 1998-07-01 | 2001-04-24 | Light & Sound Design, Ltd. | Illumination obscurement device |
| US6303986B1 (en) | 1998-07-29 | 2001-10-16 | Silicon Light Machines | Method of and apparatus for sealing an hermetic lid to a semiconductor die |
| US6872984B1 (en) | 1998-07-29 | 2005-03-29 | Silicon Light Machines Corporation | Method of sealing a hermetic lid to a semiconductor die at an angle |
| US6962419B2 (en) | 1998-09-24 | 2005-11-08 | Reflectivity, Inc | Micromirror elements, package for the micromirror elements, and projection system therefor |
| US6501600B1 (en) | 1999-08-11 | 2002-12-31 | Lightconnect, Inc. | Polarization independent grating modulator |
| US6674563B2 (en) | 2000-04-13 | 2004-01-06 | Lightconnect, Inc. | Method and apparatus for device linearization |
| US6826330B1 (en) | 1999-08-11 | 2004-11-30 | Lightconnect, Inc. | Dynamic spectral shaping for fiber-optic application |
| CN1188728C (zh) * | 1999-09-29 | 2005-02-09 | 皇家菲利浦电子有限公司 | 图象投影系统 |
| US6956878B1 (en) | 2000-02-07 | 2005-10-18 | Silicon Light Machines Corporation | Method and apparatus for reducing laser speckle using polarization averaging |
| US6888983B2 (en) | 2000-04-14 | 2005-05-03 | Lightconnect, Inc. | Dynamic gain and channel equalizers |
| EP1172681A3 (en) | 2000-07-13 | 2004-06-09 | Creo IL. Ltd. | Blazed micro-mechanical light modulator and array thereof |
| US7300162B2 (en) * | 2000-08-30 | 2007-11-27 | Texas Instruments Incorporated | Projection display |
| US6947195B2 (en) | 2001-01-18 | 2005-09-20 | Ricoh Company, Ltd. | Optical modulator, optical modulator manufacturing method, light information processing apparatus including optical modulator, image formation apparatus including optical modulator, and image projection and display apparatus including optical modulator |
| US6567584B2 (en) | 2001-02-12 | 2003-05-20 | Silicon Light Machines | Illumination system for one-dimensional spatial light modulators employing multiple light sources |
| US6609798B1 (en) * | 2001-02-28 | 2003-08-26 | Tomislav F. Milinusic | Digital light projection system |
| US7177081B2 (en) | 2001-03-08 | 2007-02-13 | Silicon Light Machines Corporation | High contrast grating light valve type device |
| US6707591B2 (en) * | 2001-04-10 | 2004-03-16 | Silicon Light Machines | Angled illumination for a single order light modulator based projection system |
| RU2179734C1 (ru) * | 2001-04-12 | 2002-02-20 | Открытое акционерное общество "Загорский оптико-механический завод" | Осветительная система |
| US6865346B1 (en) | 2001-06-05 | 2005-03-08 | Silicon Light Machines Corporation | Fiber optic transceiver |
| US6782205B2 (en) | 2001-06-25 | 2004-08-24 | Silicon Light Machines | Method and apparatus for dynamic equalization in wavelength division multiplexing |
| US6747781B2 (en) | 2001-06-25 | 2004-06-08 | Silicon Light Machines, Inc. | Method, apparatus, and diffuser for reducing laser speckle |
| US7023606B2 (en) * | 2001-08-03 | 2006-04-04 | Reflectivity, Inc | Micromirror array for projection TV |
| US6639722B2 (en) | 2001-08-15 | 2003-10-28 | Silicon Light Machines | Stress tuned blazed grating light valve |
| US6785001B2 (en) | 2001-08-21 | 2004-08-31 | Silicon Light Machines, Inc. | Method and apparatus for measuring wavelength jitter of light signal |
| US6930364B2 (en) | 2001-09-13 | 2005-08-16 | Silicon Light Machines Corporation | Microelectronic mechanical system and methods |
| US6532097B1 (en) | 2001-10-11 | 2003-03-11 | Applied Materials, Inc. | Image registration apparatus having an adjustable reflective diffraction grating and method |
| US6768588B2 (en) * | 2001-11-02 | 2004-07-27 | Microvision, Inc. | Apparatus and methods for generating multiple exit-pupil images in an expanded exit pupil |
| US6956995B1 (en) | 2001-11-09 | 2005-10-18 | Silicon Light Machines Corporation | Optical communication arrangement |
| US6900915B2 (en) | 2001-11-14 | 2005-05-31 | Ricoh Company, Ltd. | Light deflecting method and apparatus efficiently using a floating mirror |
| US6800238B1 (en) | 2002-01-15 | 2004-10-05 | Silicon Light Machines, Inc. | Method for domain patterning in low coercive field ferroelectrics |
| US6728023B1 (en) | 2002-05-28 | 2004-04-27 | Silicon Light Machines | Optical device arrays with optimized image resolution |
| US6767751B2 (en) | 2002-05-28 | 2004-07-27 | Silicon Light Machines, Inc. | Integrated driver process flow |
| US6839479B2 (en) | 2002-05-29 | 2005-01-04 | Silicon Light Machines Corporation | Optical switch |
| US7054515B1 (en) | 2002-05-30 | 2006-05-30 | Silicon Light Machines Corporation | Diffractive light modulator-based dynamic equalizer with integrated spectral monitor |
| US6822797B1 (en) | 2002-05-31 | 2004-11-23 | Silicon Light Machines, Inc. | Light modulator structure for producing high-contrast operation using zero-order light |
| US6829258B1 (en) | 2002-06-26 | 2004-12-07 | Silicon Light Machines, Inc. | Rapidly tunable external cavity laser |
| US6813059B2 (en) | 2002-06-28 | 2004-11-02 | Silicon Light Machines, Inc. | Reduced formation of asperities in contact micro-structures |
| US6714337B1 (en) | 2002-06-28 | 2004-03-30 | Silicon Light Machines | Method and device for modulating a light beam and having an improved gamma response |
| US6908201B2 (en) | 2002-06-28 | 2005-06-21 | Silicon Light Machines Corporation | Micro-support structures |
| US6801354B1 (en) | 2002-08-20 | 2004-10-05 | Silicon Light Machines, Inc. | 2-D diffraction grating for substantially eliminating polarization dependent losses |
| US7057795B2 (en) | 2002-08-20 | 2006-06-06 | Silicon Light Machines Corporation | Micro-structures with individually addressable ribbon pairs |
| US6712480B1 (en) | 2002-09-27 | 2004-03-30 | Silicon Light Machines | Controlled curvature of stressed micro-structures |
| US6928207B1 (en) | 2002-12-12 | 2005-08-09 | Silicon Light Machines Corporation | Apparatus for selectively blocking WDM channels |
| US6987600B1 (en) | 2002-12-17 | 2006-01-17 | Silicon Light Machines Corporation | Arbitrary phase profile for better equalization in dynamic gain equalizer |
| US7057819B1 (en) | 2002-12-17 | 2006-06-06 | Silicon Light Machines Corporation | High contrast tilting ribbon blazed grating |
| US6934070B1 (en) | 2002-12-18 | 2005-08-23 | Silicon Light Machines Corporation | Chirped optical MEM device |
| US6927891B1 (en) | 2002-12-23 | 2005-08-09 | Silicon Light Machines Corporation | Tilt-able grating plane for improved crosstalk in 1×N blaze switches |
| US7068372B1 (en) | 2003-01-28 | 2006-06-27 | Silicon Light Machines Corporation | MEMS interferometer-based reconfigurable optical add-and-drop multiplexor |
| US7286764B1 (en) | 2003-02-03 | 2007-10-23 | Silicon Light Machines Corporation | Reconfigurable modulator-based optical add-and-drop multiplexer |
| US6947613B1 (en) | 2003-02-11 | 2005-09-20 | Silicon Light Machines Corporation | Wavelength selective switch and equalizer |
| US7042622B2 (en) * | 2003-10-30 | 2006-05-09 | Reflectivity, Inc | Micromirror and post arrangements on substrates |
| US6922272B1 (en) | 2003-02-14 | 2005-07-26 | Silicon Light Machines Corporation | Method and apparatus for leveling thermal stress variations in multi-layer MEMS devices |
| US7046420B1 (en) | 2003-02-28 | 2006-05-16 | Silicon Light Machines Corporation | MEM micro-structures and methods of making the same |
| US7027202B1 (en) | 2003-02-28 | 2006-04-11 | Silicon Light Machines Corp | Silicon substrate as a light modulator sacrificial layer |
| US7391973B1 (en) | 2003-02-28 | 2008-06-24 | Silicon Light Machines Corporation | Two-stage gain equalizer |
| US6806997B1 (en) | 2003-02-28 | 2004-10-19 | Silicon Light Machines, Inc. | Patterned diffractive light modulator ribbon for PDL reduction |
| US6922273B1 (en) | 2003-02-28 | 2005-07-26 | Silicon Light Machines Corporation | PDL mitigation structure for diffractive MEMS and gratings |
| US6829077B1 (en) | 2003-02-28 | 2004-12-07 | Silicon Light Machines, Inc. | Diffractive light modulator with dynamically rotatable diffraction plane |
| US7042611B1 (en) | 2003-03-03 | 2006-05-09 | Silicon Light Machines Corporation | Pre-deflected bias ribbons |
| JP4400855B2 (ja) | 2003-04-15 | 2010-01-20 | 株式会社リコー | 光偏向装置、光偏向装置の製造方法、光偏向アレー、画像形成装置および画像投影表示装置 |
| JP4363916B2 (ja) | 2003-06-27 | 2009-11-11 | 株式会社リコー | 光偏向装置の駆動方法、光偏向装置、光偏向アレー、画像形成装置および画像投影表示装置 |
| JP4400865B2 (ja) | 2004-01-06 | 2010-01-20 | 株式会社リコー | 光偏向装置 |
| US7227618B1 (en) | 2004-03-24 | 2007-06-05 | Baokang Bi | Pattern generating systems |
| US7339737B2 (en) | 2004-04-23 | 2008-03-04 | Microvision, Inc. | Beam multiplier that can be used as an exit-pupil expander and related system and method |
| US7073909B2 (en) * | 2004-07-29 | 2006-07-11 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Optical systems and methods |
| DE102004060577B4 (de) | 2004-12-16 | 2010-08-12 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Schaltung und Verfahren zum Erzeugen eines Strompulses in einem Wellenleiter |
| CN1325946C (zh) * | 2005-11-30 | 2007-07-11 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 利用达曼光栅对产生多脉冲的装置 |
| CN101617354A (zh) | 2006-12-12 | 2009-12-30 | 埃文斯和萨瑟兰计算机公司 | 用于校准单个调制器投影仪中的rgb光的系统和方法 |
| US8358317B2 (en) | 2008-05-23 | 2013-01-22 | Evans & Sutherland Computer Corporation | System and method for displaying a planar image on a curved surface |
| US8702248B1 (en) | 2008-06-11 | 2014-04-22 | Evans & Sutherland Computer Corporation | Projection method for reducing interpixel gaps on a viewing surface |
| US8077378B1 (en) | 2008-11-12 | 2011-12-13 | Evans & Sutherland Computer Corporation | Calibration system and method for light modulation device |
| US9641826B1 (en) | 2011-10-06 | 2017-05-02 | Evans & Sutherland Computer Corporation | System and method for displaying distant 3-D stereo on a dome surface |
| JP2018163307A (ja) * | 2017-03-27 | 2018-10-18 | ソニー株式会社 | 画像表示装置、及び画像表示素子 |
Family Cites Families (37)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4093346A (en) * | 1973-07-13 | 1978-06-06 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Optical low pass filter |
| US3947105A (en) * | 1973-09-21 | 1976-03-30 | Technical Operations, Incorporated | Production of colored designs |
| JPS5742849B2 (ja) * | 1974-06-05 | 1982-09-10 | ||
| US4017158A (en) * | 1975-03-17 | 1977-04-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Spatial frequency carrier and process of preparing same |
| CH595664A5 (ja) * | 1975-11-17 | 1978-02-15 | Landis & Gyr Ag | |
| US4184700A (en) * | 1975-11-17 | 1980-01-22 | Lgz Landis & Gyr Zug Ag | Documents embossed with optical markings representing genuineness information |
| CH594495A5 (ja) * | 1976-05-04 | 1978-01-13 | Landis & Gyr Ag | |
| US4139257A (en) * | 1976-09-28 | 1979-02-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Synchronizing signal generator |
| US4067129A (en) * | 1976-10-28 | 1978-01-10 | Trans-World Manufacturing Corporation | Display apparatus having means for creating a spectral color effect |
| CH604279A5 (ja) * | 1976-12-21 | 1978-08-31 | Landis & Gyr Ag | |
| CH616253A5 (ja) * | 1977-06-21 | 1980-03-14 | Landis & Gyr Ag | |
| CH622896A5 (ja) * | 1978-03-20 | 1981-04-30 | Landis & Gyr Ag | |
| US4440839A (en) * | 1981-03-18 | 1984-04-03 | United Technologies Corporation | Method of forming laser diffraction grating for beam sampling device |
| US4408884A (en) * | 1981-06-29 | 1983-10-11 | Rca Corporation | Optical measurements of fine line parameters in integrated circuit processes |
| US4492435A (en) * | 1982-07-02 | 1985-01-08 | Xerox Corporation | Multiple array full width electro mechanical modulator |
| US4655539A (en) * | 1983-04-18 | 1987-04-07 | Aerodyne Products Corporation | Hologram writing apparatus and method |
| CH661683A5 (de) * | 1983-09-19 | 1987-08-14 | Landis & Gyr Ag | Einrichtung zum praegen von reliefmustern hoher aufloesung. |
| CH664030A5 (de) * | 1984-07-06 | 1988-01-29 | Landis & Gyr Ag | Verfahren zur erzeugung eines makroskopischen flaechenmusters mit einer mikroskopischen struktur, insbesondere einer beugungsoptisch wirksamen struktur. |
| US4596992A (en) * | 1984-08-31 | 1986-06-24 | Texas Instruments Incorporated | Linear spatial light modulator and printer |
| US4751509A (en) * | 1985-06-04 | 1988-06-14 | Nec Corporation | Light valve for use in a color display unit with a diffraction grating assembly included in the valve |
| US4856869A (en) * | 1986-04-08 | 1989-08-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Display element and observation apparatus having the same |
| US5155604A (en) * | 1987-10-26 | 1992-10-13 | Van Leer Metallized Products (Usa) Limited | Coated paper sheet embossed with a diffraction or holographic pattern |
| ATE69407T1 (de) * | 1988-03-03 | 1991-11-15 | Landis & Gyr Betriebs Ag | Dokument. |
| JPH01296214A (ja) * | 1988-05-25 | 1989-11-29 | Canon Inc | 表示装置 |
| JP2585717B2 (ja) * | 1988-06-03 | 1997-02-26 | キヤノン株式会社 | 表示装置 |
| JPH01306886A (ja) * | 1988-06-03 | 1989-12-11 | Canon Inc | 体積位相型回折格子 |
| US5058992A (en) * | 1988-09-07 | 1991-10-22 | Toppan Printing Co., Ltd. | Method for producing a display with a diffraction grating pattern and a display produced by the method |
| DE58906429D1 (de) * | 1988-09-30 | 1994-01-27 | Landis & Gyr Business Support | Beugungselement. |
| US4915463A (en) * | 1988-10-18 | 1990-04-10 | The United States Of America As Represented By The Department Of Energy | Multilayer diffraction grating |
| DE59003860D1 (de) * | 1989-09-04 | 1994-01-27 | Gretag Ag | Beleuchtungsvorrichtung für Projektionszwecke. |
| JP2508387B2 (ja) * | 1989-10-16 | 1996-06-19 | 凸版印刷株式会社 | 回折格子パタ―ンを有するディスプレイの作製方法 |
| US5291317A (en) * | 1990-07-12 | 1994-03-01 | Applied Holographics Corporation | Holographic diffraction grating patterns and methods for creating the same |
| CA2060057C (en) * | 1991-01-29 | 1997-12-16 | Susumu Takahashi | Display having diffraction grating pattern |
| WO1993009472A1 (de) * | 1991-10-30 | 1993-05-13 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Belichtungsvorrichtung |
| US5231388A (en) * | 1991-12-17 | 1993-07-27 | Texas Instruments Incorporated | Color display system using spatial light modulators |
| US5311360A (en) * | 1992-04-28 | 1994-05-10 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford, Junior University | Method and apparatus for modulating a light beam |
| US5347433A (en) * | 1992-06-11 | 1994-09-13 | Sedlmayr Steven R | Collimated beam of light and systems and methods for implementation thereof |
-
1995
- 1995-06-07 US US08/473,759 patent/US5629801A/en not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-06-05 AT AT96917142T patent/ATE200712T1/de not_active IP Right Cessation
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Cited By (1)
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