JPH10512231A - メソ多孔性結晶性物質の調製方法 - Google Patents

メソ多孔性結晶性物質の調製方法

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JPH10512231A JP9506055A JP50605597A JPH10512231A JP H10512231 A JPH10512231 A JP H10512231A JP 9506055 A JP9506055 A JP 9506055A JP 50605597 A JP50605597 A JP 50605597A JP H10512231 A JPH10512231 A JP H10512231A
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、メソ多孔性結晶性物質の調製方法に関し、特にフッ化水素溶液中にシリカを溶解しそれを大気の状態で室温にて短い反応時間で反応させてメソ多孔性構造を有する結晶性物質を調製するための新規の方法に関する。その結果として、本発明はあらゆる種類のシリカを使用し短い反応時間でメソ多孔性物質を合成するための方法を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】 メソ多孔性結晶性物質の調製方法 発明の背景発明の技術分野 本発明は、メソ多孔性結晶性物質の調製方法、特にフッ化水素溶液中にシリカ を溶解しそれを大気の状態で室温にて短い反応時間で反応させてメソ多孔性構造 を有する結晶性物質を調製するための新規の方法に関する。 その結果として、本発明はあらゆる種類のシリカを使用し短い反応時間でメソ 多孔性結晶性物質を合成する方法を提供する。従来技術の記述 多孔性無機物質は産業上の応用に触媒または分離媒体として大いに有用である ことが見いだされた。それらのミクロ構造の開口は、分子がこれらの物質の比較 的大きい表面領域に接触して、反応が起きる時にそれらの触媒及び収着活性を高 めることができる。 現在使用される多孔性物質は、それらのミクロ構造の詳細を分類の基礎として 使用して広いカテゴリーに分類することができる。これらのカテゴリーはアモル ファス支持体、結晶性分子篩、及び金属酸化物のような小さい断片を挿入する改 変積層構造である。 これらの物質のミクロ構造は細部に差異があり、それらの差異によって、選択 特異性が触媒及び収着挙動に現れる。さらに、上記差異はそれらの表面領域、細 孔の寸法、及びそれらの寸法の変化及びX線回折パターンによって確かめられる 。物質のミクロ構造の様相はまた透過型電子顕微鏡によって示される。 一般にアモルファスシリカまたはアルミナ支持体は粒子間の空隙から生じる孔 を形成し、それらは均一な孔径をもたず13〜200Åの広範囲の孔径を示す。 これらの構造的に不明確な物質と比べて、ゼオライトのような規則的な結晶性 の固体は非常に狭い孔径分布をもつ。大部分の天然または合成のゼオライトは限 られた寸法を持ち、ZSM系の均一の分布を持つメソ多孔性ゼオライトは孔径を 広げる努力で合成された。 さらに、積層シリカ、及び天然または合成クレイを含む金属リン酸塩化合物を 使用するため、細かい多孔性物質の合成が試みられた。孔径分布はアモルファス 支持体と比べて規則正しいがゼオライトのような結晶性支持体と比べると不規則 である。 最近、新規のメソ多孔性結晶性物質がモービル社によって首尾よく合成された 。これらの孔径は一様に20〜100Åの範囲に調整することができる。これは MCM−41と命名され、米国特許第5,108,725; 5,102,643;5,098,684および5 ,057,296号に合成方法、合成用の反応体、組成、物理的構造的性質を記載してい る。 上記従来技術において、テトラメチルアンモニウムシリケート溶液のようなテ トラアンモニウム水酸化物並びに界面活性剤を使用してオートクレーブ中100 〜150℃の温度で2〜7日間反応してメソ多孔性結晶性物質を調製する方法が 示された。この方法の反応の基本は、水に界面活性剤分子を溶解して形成される 、電荷を持つミセルコロイド表面にシリカまたはシリカアルミナ結晶を引きつけ ることである。燃焼が分子の大きさでAlおよびSi間の酸素のブリッジのボン ドおよび架橋を形成することができる。前期事情を満たすために、大量のテトラ アンモニウム水酸化物を使用して反応条件を高温高圧で2〜7日間制御する。 前記プロセスで調製された物質は均一な孔径を持つだけでなく顕著な熱的性質 と500〜1000m2/gの大きい表面領域を持つ。 骨格の構成はSiO2およびSiO2/Al23からなる。顕著な物理的性質か ら、これら新規物質は従来のゼオライトと置き換わり将来は広く使用されるであ ろう。 シリカは強アルカリ水溶液で水酸化物アニオンの形で加水分解され溶解される 。非常に短時間で生成したシリコン水酸化物は、カチオン界面活性剤のミセルコ ロイドが存在する場合には正の電荷を持つミセルコロイド表面に重合が生じるの で、弱い結合により網状構造を形成して孔の壁を作る。 一般にシリカの溶解性はアルカリの種類、シリカの粒径、濃度、温度および圧 に大きく依存する。アルカリ金属水酸化物は結晶性シリケートの合成に広く使用 されるが、その使用は、塩(Na24、NaCl)のような大量の不純物をMC M−41の合成に使用しようとする時に中和プロセスの間に析出するので好まし くない。 シリカのバルク濃度が十分に低く粒径が十分に小さい場合、大量のシリカがテ トラメチルアンモニウム水酸化物のような有機塩基に多少とも溶解できる。しか し、これらの方法は使用できるシリカの種類が限られ、高温、高圧および長時間 の特別の条件が必要である。 さらに、テトラメチルアンモニウム水酸化物が高価でアミンおよびアルコール に高温で分解し、高温高圧での製造および反応装置の操作が技術的および経済的 に困難である。 前記プロセスでは、大量の高価なテトラアンモニウム水酸化物を使用し経済的 でない。このプロセスではさらに反応を高温高圧で長時間行う不利ならびに溶解 しやすいようにシリカの原料、たとえばかさばり、飛散しやすいハイシル、ウル トラシルまたは発煙シリカを使用する欠点がある。 従って、上記問題点を解決するために、発明者らは鋭意研究しさらに経済的で 短時間に、あらゆる種類のシリカを使用してMCM−41の名称の従来のメソ多 孔性構造を持つ結晶性物質を製造した。そしてついに、我々はあらゆる種類のシ リカとともにフッ化水素溶液を用いて数時間で25〜80℃の温度範囲でメソ多孔性 結晶性物質を調製する新規の方法を開発した。 発明の概要 本発明の目的は、室温および大気の条件で短時間にメソ多孔性結晶性物質を調 製する新規の方法を提供することである。 図面の簡単な説明 図1は、実施例1からの本発明の最終生成物のX線回折パターン図である。 図2は、実施例2からの本発明の最終生成物のX線回折パターン図である。 図3は、実施例3からの本発明の最終生成物のX線回折パターン図である。 図4は、実施例4からの本発明の最終生成物のX線回折パターン図である。 図5は、実施例5からの本発明の最終生成物のX線回折パターン図である。 図6は、実施例6からの本発明の最終生成物のX線回折パターン図である。 発明の詳細な説明 本発明のメソ多孔性構造を持つ結晶性物質は、次の工程によって調製される。 a)2〜10重量部のシリカのみまたは金属塩または金属アルコキシドの混合 物 を5〜50%のフッ化水素溶液の100重量部に溶解し、 b)前記溶液を、2〜10重量部のカチオン界面活性剤および20〜30重量 部の濃アンモニア溶液を100重量部の蒸留水に溶解した溶液に添加し、 c)25〜80℃の温度で2〜3時間エージングし、そして d)500〜800℃の温度で4〜6時間焼成する。 本発明を次にさらに詳細に説明する。 本発明は均一の孔径および顕著な熱的性質を持つメソ多孔性結晶性物質を調製 する新規の方法に関する。 シリカ溶媒としてフッ化水素溶液の使用により、本発明はあらゆる種類のシリ カを自由に使用し大量のシリカを室温で大気中、短時間で溶解することができる 。合成の基本はH2SiF6の形のシリカをフッ化水素溶液に溶解し、瞬間的にカ チオン界面活性剤のアルカリ溶液にSiF6 2-を形成し、SiF6 2-をSiO2の 形で、カチオン界面活性剤のミセル表面に加水分解縮合重合によって結晶化する 。この合成工程は、室温および大気中で短時間に達成されるので、従来の方法を 著しく改善したものと考えられる。 本発明の合成方法を次にさらに詳細に説明する。 まず、5〜50%の濃度のフッ化水素溶液100重量部をとり、2〜10重量 部のシリカのみまたは金属塩と金属アルコキシドの混合物を上記溶液に溶解する 。そこで、フッ化水素溶液の濃度が5%よりも小さいとシリカの溶解性が非常に 小さいので十分な量のシリカを溶解できず、50%よりも大きいと、沈殿プロセ スでアンモニアの消費が増加しフッ化水素溶液を不必要に浪費するという逆の結 果となる。 本発明では、テトラメチルアンモニウムシリケートに使用されるハイシル、ウ ルトラシルおよびシリカのような従来の方法に使用される細かい粒子と比較して 、あらゆる種類の入手できるシリカを粒径の制限なく使用できる。そして金属塩 、たとえばAl(NO3)3、Al(SO4)3、AlCl3またはNaAlO2および金 属アルコキシド、たとえばチタニウム(IV)アルコキシド、アルミニウムアルコ キシドまたはシリコンアルコキシドを使用できる。少量の金属塩または金属アル コキシドを混合した上述のシリカ、または2〜10重量部のシリカのみを100 重量部のフッ化水素溶液に溶解し、シリカ−フッ化水素溶液(H2SiF6)溶液 を調製する。 さらにシリカ成分を溶解すると、さらに有利である。 上記プロセスとは別に、2〜10重量部のカチオン界面活性剤を100重量部 の蒸留水に溶解した後、20〜30重量部の濃アンモニア溶液を加え攪拌する。 そこで、10よりも多い炭素の炭化水素鎖を有するアルキルトリメチルアンモニ ウム塩をカチオン界面活性剤として使用することができる。代表的な界面活性剤 はセチルトリメチルアンモニウムブロマイドまたはセチルトリメチルアンモニウ ムクロライドである。前記界面活性剤の追加の量が100重量部の蒸留水に対し 2重量部よりも小さいと、所望のミセルテンプレートの形成が困難になる。10 重量部よりも大きいと、積層薄層タイプのミセルテンプレートの生成が可能であ り、これは球形または円筒形タイプではない。また、最終生成物を洗浄するとき 、残留する界面活性剤の大量の流出により経済的ロスおよび環境汚染の原因とな る。フッ化水素溶液により溶解した前記シリカを一度にカチオン界面活性剤に加 え、ついで25〜80℃で2〜3時間エージングする。エージング温度が上記範 囲を離れると、オートクレーブ中の反応となるので装置設計および操作管理が複 雑になり好ましくない。エージングした物質は濾過しその沈殿物を集めて洗浄す る。本発明のメソ多孔性結晶性物質は500〜800℃の温度で4〜6時間焼成 して調製される。 前記プロセスで調製されたメソ多孔性結晶性物質はSiO2構造のみまたはS i部位をAlまたはTi部によって置換した構造を持ち、Si/AlまたはSi /Tiのモル比は10以上である。 前記プロセスで調製された試料のX線粉末回折データーは15mAおよび35 kVで操作するNiフイルターCuKα放射を用いて自動化回折装置(理学社、 日本)を使用して収集した。相対的強度は5000cpsのカウント範囲で1.5〜20 °の回転角(2θ)にて測定した。 そして、窒素吸着等温線を液体窒素温度(77K)で得た後、表面領域の測定 値をBET(Brunauer Emmett Teller)式によって5〜100トルにて吸着値を 分析して計算した。マイクロメトリーASAP2000を吸着装置として使用した。 最終的に、試料を真空で300℃にて4時間除去し、N2吸着実験を行った。孔 径の分布をBJH(Barret Joyner Halenda)式によって計算した。 X線回折分析によれば、d−スペーシングは35〜45Åの範囲にある。そし て従来のメソ多孔性結晶性構造を持つ結晶性物質のMCM−41と同じ様相を示 し、孔の形はスズメバチの巣のような規則的な六面配置を示す。物質の表面積は 800〜1000m2/g、その孔径は35〜40°の強度範囲に分布していた。 上記説明のように、本発明の合成方法は種々の入手可能なシリカ、およびテト ラアンモニウム水酸化物を用いることなく顕著な熱的性質と大きい表面積をもつ 従来のMCM−41系のメソ多孔性構造の結晶性物質の調製を含む。 次の実施例は本発明を説明するためのものであり、例証のために示され、本発 明を制限するものではない。実施例1 100gの24%フッ化水素溶液をポリエチレンビーカーに入れ、3gのシリ カ(ホワイトカーボン、OCI)を完全に溶液に溶解した。100gの蒸留水を 別のビーカーに入れ、4gのセチルトリメチルアンモニウムブロマイドを溶解し 、次に50℃で10分間激しく攪拌し、25gの濃アンモニア水溶液を添加した 。フッ化水素溶液に調製したシリカをこの溶液に一度に添加した。得られた混合 物を10分間注意して攪拌し、次に30℃の温度で2〜3時間エージングした。 生成物を濾過し、沈殿させ、数回蒸留水で洗浄した。 乾操粉末を600℃の温度で4時間焼成した。焼成した生成物のX線回折パタ ーンは図1に示したものと同じであり、比較的強い強度の40.8°のユニットd− スペーシングを示した。このパターンはMCM−41の特徴的ピークに見られた 。 透過型電子顕微鏡(TEM)による孔の観察はスズメバチの巣のような規則的 な六回配置を示した。BET式から得られた表面積は880m2/g、孔径は35 Åに強く分布していた。実施例2 実施例1と同様の方法を使用した。相違点は100gの24%フッ化水素溶液 をポリエチレンビーカーに入れ、3gのシリカを完全に溶液に溶解し、次にこの 溶液に0.5gのAl(NO3)39H2Oを添加したことである。この実施例から得ら れた結晶はAlの部分によって置換されたSi骨格を持つ構造を示し、Si/A l比が40であった。そしてこの実施例の焼成生成物のX線回折パターンは図2 を示した。MCM−41の特徴的ピークはこの図に示され、比較的強い強度は46 .8Åの d−スペーシングである。この実施例の焼成生成物は900m2/gの表面積と3 8Åの孔径分布を証明した。実施例3 Al(NO3)39H2Oの代わりにAl(SO4)318H2Oを0.86g用いた以外は上 記実施例2と同様に実験した。この実施例から得られた結晶はSi/Alのモル 比が37であるAlの部分によって置換されたSi骨格を持つ構造を示した。 この発明の焼成生成物のX線回折パターンは図3に示されMCM−41の特徴 的ピークを持っていた。 この発明の焼成生成物は43.0Åのd−スペーシング、1,000m2/gの表面積と 36Åの孔径分布を証明した。実施例4 Al(NO3)39H2Oの代わりにAlCl36H2Oを0.47g用いた以外は上記 実施例2と同様であり、Si/Alの比は40であった。実施例4から得られた 結晶のX線回折パターンは図4に示されMCM−41の特徴的ピークを持ってい た。この実施例の焼成生成物は43.0Åのd−スペーシング、980m2/gの表面 積と36Åの孔径分布を証明した。実施例5 Al(NO3)39H2Oの代わりにNaAlO2を0.1g用いた以外は上記実施例 2と同様であり、Si/Alの比は41であった。この実施例から得られた結晶 のX線回折パターンは図5に示されMCM−41の特徴的ピークを持っていた。 この実施例の焼成生成物は45.6Åのd−スペーシング、950m2/gの表面積と3 7Åの孔径分布を証明した。実施例6 100gの24%フッ化水素溶液をポリエチレンビーカーに入れ、3gのシリ カを完全に溶液に溶解し、次に0.38gのチタニウム(IV)アルコキシドをさら に添加して均一に溶解した。次の実験工程は上記実施例1の方法と同じ方法で行 った。この実施例から得られた結晶はTiの部分によって置換されたSi骨格を 持つ構造を示し、Si/Alの比は37であった。 そして、焼成した生成物のX線回折パターンは図6に示されMCM−41の特 徴的ピークを持っていた。この実施例の焼成生成物は41.2Åのd−スペーシング 、1000m2/gの表面積と35Åの孔径分布を証明した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 スー,ジェオン−クヲン 大韓民国 ダエジョン305−333,ユスン− ク,ウヘウン−ドン,ハンビトアパートメ ント136−906 (72)発明者 ジン,ハン−キョ 大韓民国 ダエジョン305−333,ユスン− ク,ウヘウン−ドン,ハンビトアパートメ ント121−1205 (72)発明者 クヲン,オウ,ユン 大韓民国 ダエジョン306−080,ダエドウ ック−ク,シンダエ−ドン,シンダエ−ジ ュコンアパートメント106−401

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.a)2〜10重量部のシリカのみまたは金属塩または金属アルコキシドの混 合物を5〜50%のフッ化水素溶液の100重量部中に溶解し、 b)前記溶液を2〜10重量部のカチオン界面活性剤および20〜30重 量部の濃アンモニア溶液を100重量部の蒸留水に溶解した溶液に添加し、 c)25〜80℃の温度で2〜3時間エージングし、そして d)500〜800℃の温度で4〜6時間焼成する、 各工程からなることを特徴とするメソ多孔性構造を持つ結晶性物質の調製方法 。 2.前記金属塩がAl(NO3)3、Al(SO4)3、AlCl3およびNaAlO2 からなる群から選ばれる、請求項1に記載の方法。 3.前記金属アルコキシドがチタニウム(IV)アルコキシド、アルミニウムア ルコキシドおよびシリコンアルコキシドからなる群から選ばれる、請求頃1に記 載の方法。 4.前記カチオン界面活性剤がセチルトリメチルアンモニウムブロマイドまた はセチルトリメチルアンモニウムクロライドである請求項1に記載の方法。 5.前記方法によって調製されたメソ多孔性構造を持つ結晶性物質がSi/T iまたはSi/Alのモル比が10以上である、請求項1記載の方法。
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