JPH10513268A - センター・マスキング照明システムおよび方法 - Google Patents

センター・マスキング照明システムおよび方法

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JPH10513268A JP8514642A JP51464296A JPH10513268A JP H10513268 A JPH10513268 A JP H10513268A JP 8514642 A JP8514642 A JP 8514642A JP 51464296 A JP51464296 A JP 51464296A JP H10513268 A JPH10513268 A JP H10513268A
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Abstract

(57)【要約】 透過光顕微鏡の集光レンズのマスキングを心合わせするために、集光レンズの後部アパーチャーの像が生成されたアパーチャー面の共約面で、複数の光源(64)を利用してゼロを含む域全体にわたって連続的に中央マスキングの量を変化させるように光源に対して移動するピラミッド状の多面ミラー(41)の2以上の面(42、43、44、46)を照明し、同時に多数の斜の光線を対物レンズへ向けることによって、解像度、コントラスト、および視野深度を同時に最高にする方法および装置。

Description

【発明の詳細な説明】 センター・マスキング照明システムおよび方法 発明の背景 本発明は、照明システムに関し、より詳しくはセンター・マスキング(集光レ ンズの中央域のマスキング)法ならびに装置を提供する透過光顕微鏡用照明シス テムに関する。「マスク」および「マスキング」という用語は、本明細書では、 照明光を集光レンズのある区域内に入れまたは向ける効果をもちまた該集光レン ズの他の区域が利用可能な照明光のすべてまたは一部を受けるのを妨げる方法ま たは装置を指す。 集光レンズのある区域が完全な照明を受けるのを妨げて透過光顕微鏡の解像度 とコントラストを改善する(センター・マスキングの)アイデアは、長年検討さ れてきたが、市販の顕微鏡に組み込まれて成功した例はまだない。センター・マ スキングの商品化ができない主な理由は二つあり、それらは、この種のセンター ・マスキングをつくり出すための実用的な装置がないことおよびセンター・マス キング装置を配置すべき集光レンズの後部アパーチャーに物理的スペースがない ことである。 センター・マスキングが効果を示すためには、マスクされた集光レンズの区域 の大きさを、使用する対物レンズと検査する資料の両方に注意深くマッチさせる 必要がある。センター・マスキングを大きくし過ぎたりあるいは小さくし過ぎる と、効果が強すぎ、場合によっては従来の軸照明に比して像の劣化が生じるおそ れがある。したがって、完全に効果があるようにするためには、センター・マス キング照明システムが、きわめて小さいマスキング(好ましくはゼロ)から有意 なマスキング量まである有意な領域にわたって連続的にマスキングを行ない、し かも高倍率の集光レンズや物理的にアクセス不能な後部アパーチャーを有する集 光レンズを含めて一般に用いられる多様な集光レンズと共に使用できることが必 要である。 集光レンズの後部アパーチャーの中央に配置された不透明なマスクを拡張また は収縮させることによってセンター・マスキングを行なうことができる機械的装 置は知られている。これらの装置は、暗視野照明を行なうために対物レンズまで の光路上ですべての照明を直接遮光するように構成されたものであるが、可能な 最小の遮光でも、中央の遮光が大き過ぎて、像の質を高めるのではなく逆に劣化 させる場合が多い。これらの先行技術の装置は、また、マスキング機構を収納す るために後部アパーチャーで利用可能なスペースが少なすぎるかあるいはまった くないような集光レンズでは使用することができない。 発明の概要 本発明は、ゼロ(マスキング効果なし)を含む有意な領域にわたって連続的に 実施できまたその後部アパーチャーの利用可能なスペースが限られている任意の 集光レンズでも使用できるセンター・マスキングを提供するものである。さらに 、一実施形態にあっては、本発明は、複数の独立の(各々がそれ自身の波面をも つ)斜光線からなる照明を提供する。 ほとんどすべての透過光顕微鏡は、アッベの時代から、軸方向(対物レンズの 軸と同方向)の照明光線と全錐体(集光レンズの全中央域が照明される)を使用 するものであったが、この種の照明の軸の同方向性と集光レンズの全照明は像の 質に好ましくないことがわかってきた。本発明者のアメリカ合衆国特許第534 5333号には、遮光照明の効果が十分に記載されている。集光レンズの中央域 をマスキングすることによって、一種の空間的フィルター効果が得られ、コント ラストと解像度が同時に高められる。 顕微鏡による視覚の回折理論は、例えば珪藻植物のマーキングのようなきわめ て間隔の狭い構造上の詳細部分を有する対象物を透過光で調べると、対物レンズ の背焦平面での一次像が複数の次数の回折さざなみによって取り囲まれた中央光 線で構成されることを教えている。同心状の各回折さざなみ、二以上の(明るい 有色の光の点に見える)スペクトルで構成されている。スペクトルの数と配置は 、マーキングのパターンと用いられる光の波長に依存する。中央光線から回折さ ざなみまでの距離は、試料上のマーキングが細かいほど(構造上の詳細部分の間 隔 が小さいほど)大きい。 回折理論は、さらに、試料の中の細かい詳細部分の解像を行なうためには、中 央光線(ゼロ次)と共に少なくとも一つの次数のさざなみをあるいは連続する任 意の二つの次数のさざなみを集めて再結合を行なう必要があることも教えている 。ゼロ次と再結合されるさざなみの数が多ければ多いほど、像の解像度と鮮明さ が高まる。 非ゼロ次のさざなみに対するゼロ次のさざなみの大きさを低減することによっ て、非ゼロ次のさざなみの貢献度が高まり、コントラストと解像度がより高い像 が得られる。集光レンズの中央域を正しい量だけマスキングすることによって、 ゼロ次のさざなみの情報を失うことなくその相対的な大きさを低減し、同時に像 を形成する非ゼロ次のさざなみの数を増やす斜光線の効果を高めるという二重の 効果が得られる。光路によってコントラストと解像度が高められる。 本発明は、装置および方法として実施されるものであり、その本質的要素の一 つは、ゼロを含む一つの連続する域全体にわたって集光レンズの中央の正確なマ スキングを行なってコントラストと解像度を高めることにある。暗視野がのぞま れる部分を除き、集光レンズの中央のマスキング度は、照明が集光レンズから対 物レンズまで直接移動して明視野像を形成できる程度に限定される。照明光をミ ル集光レンズの区域の外径は中央マスキングによる影響を受けないので、アパー チャー数(NA)は最大値を維持する。 本発明の他の一要素は、照明光線を成形してそれを操作する(マスキングする )装置を配置するための物理的スペースが存在する集光レンズから離れた共約面 (すなわち、集光レンズと光源の間)での集光レンズの後部アパーチャーの像の 生成である。 コントラストの好ましい実施形態は、対物レンズの光軸に対して斜でありまた ゼロを含む一つの域全体にわたって中央域をマスクするように操作することので きる複数の独立した(区別できる波面を有する)光線を含むものである。 本発明の一つの目的は、集光レンズの中央マスキングによって高度な解像度お よびコントラストが達成される透過光顕微鏡のための改良された照明システムを 提供することである。 本発明の他の一つの目的は、像の解像度とコントラストを高めるために集光レ ンズの特定の一以上の区域がマスクされる空間的フィルター作用を用いて顕微鏡 によって観察される試料を照明する方法を提供することである。 本発明の他の一つの目的は、顕微鏡の照明光線をマスキングする装置を配置す るためのスペースが存在する集光レンズから離れた共約面で集光レンズの後部ア パーチャーの像が生成される顕微鏡を提供することである。 本発明のさらに他の一つの目的は、集光レンズと対物レンズを有し、集光レン ズに向けられまた対物レンズの光軸に対して斜の光路を通って対物レンズまで移 動する複数の独立した光線を含む照明システムを備え、集光レンズの中央域がマ スクされた顕微鏡を提供することである。 本発明のさらに他の一つの目的は、集光レンズの有効な中央マスキングの大き さがゼロを含む一つの域全体にわたって連続的に可変である照明システムを提供 することである。 本発明のさらに他の一つの目的は、大きさが可変の中央マスクとやはり大きさ が可変の周辺マスク(アイリス)を含む顕微鏡の集光レンズのためのマスク装置 を提供することである。 本発明の他の一つの目的は、透過光顕微鏡で観察する試料の像の質を高める方 法において、顕微鏡の集光レンズから離れた位置で集光レンズの後部アパーチャ ーの像を生成すること、該アパーチャーの像で集光レンズの中央域をマスクする こと、および中央のマスクの大きさを変えて像を最適化することを含む方法を提 供することである。 図面の簡単な説明 本発明の上に挙げた目的、観点及び効果、ならびに他の目的、観点及び効果は 、図面を参照して以下に行なう本発明の好ましい実施の形態の詳細な説明からさ らによく理解されよう。 第1図は、本発明が用いられる顕微鏡の基本的な光学構造と集光レンズの後部 アパーチャーの共約像を集光レンズの光源(共約面)の間のスペースの中のより 好便な位置へ生成するためのリレー・システムを示す光学的概略図である。 第2図は、マスク・ホイールとハウジングの側面図である。 第3図は、第2図のマスク・ホイールの平面図で、大きさの異なる複数のマス クを示す図である。 第4図は、第5図の照明されたピラミッド・ミラーの平面図で、共約アパーチ ャー上に向けられた照明光を示す図である。 第5図は、2本の光線によって照明された4面ピラミッド・ミラーの形をした 本発明のマスクの略側面図である。 第6図は、異なる相対位置にあるミラーと光源を備えた(光源の下方にミラー がある)第4図と同じ図である。 第7図は、異なる相対位置にあるミラーと光源を備えた(光源の下方にミラー がある)第4図と同じ図である。 第8図は、異なる相対位置にあるミラーと光源を備えた(光源の上方にミラー がある)第5図と同じ図である。 第9図は、異なる相対位置にあるミラーと光源を備えた(光源の上方にミラー がある)第5図と同じ図である。 第10図は、本発明のピラミッド・ミラーを4つの光源および該ミラーを動か すためのラックおよびピニオンと共に示す平面図である。 第11図は、第10図の平面図であるが、光源を省略して示す図である。 第12図は、コーン・ミラーと共約アパーチャー上に向けられたリング光を示 す平面図である。 第13図は、第12図の側面図である。 好ましい実施の形態の説明 第1図を参照して、集光レンズ11、対物レンズ12、および接眼レンズ13 は、当業者には公知の透過光顕微鏡の基本的光学系を形成する。集光レンズ11 および対物レンズ12、ならびに接眼レンズ13は、単純さと好便さのために単 一のレンズまたは二重レンズ素子として示されているが、これらの光学素子が実 施形態にあって単純なレンズ構成に限定されることを意図したものではない。例 えば、集光レンズは、通常、数個のガラス部品を含み、またアイリス膜など他の 素子を組み込んだものである場合が多い。したがって、本明細書で、対物レンズ 、集光レンズ、リレー・レンズ、あるいは接眼レンズという場合、当業者には公 知の任意の適当な光学的構成のものを指し、図示のレンズ構成には限定されない ことを理解されたい。 光源40からの光線10は、集光レンズ11を照明し、該集光レンズは、光を 対象物(試料)上に集光する。次に、光線10は、発散して対物レンズ12に当 たり、該対物レンズが試料の像を接眼レンズ13上に投影し、該接眼レンズが像 をさらに拡大して、観察者16が試料14の鮮明な像を見ることができるように する。集光レンズ11が光を試料14の上に集光する位置は、通常、試料面また は像面Iと呼ばれる。系内の他の位置、例えば対物レンズ12と接眼レンズ13 の間の面I1および観察者16の目21の網膜17の面12でも試料の像の焦点 が合う場所がある。面I1およびI2は、像面Iの共約面であり、したがって、面 Iで焦点が合っているものはすべて面I1およびI1でも焦点が合っており、面I で焦点が合わないものはすべて面I1および面I2でも焦点が合わない。 照明光線10は、通常、アパーチャー面Aにある集光レンズの後部アパーチャ ー15と呼ばれる位置で集光レンズ11を通る。像面Iと同様に、アパーチャー 面Aも、該アパーチャー面の焦点が合う系内に共約面をもつ。他のアパーチャー 面には、対物レンズのアパーチャーA0および目21の瞳孔18のアパーチャー 面A1が含まれる。アパーチャー面Aは、像面Iまたはその共約面I1及びI2で は焦点が合わず、また像面Iは、アパーチャー面Aまたはその共約面A1および A0では焦点が合わない。その結果、例えば、照明光線マスキング装置をアパー チャー面Aで投入して、像面Iまたは共約面I1およびI2で光線を成形するこれ らの素子が観察者16に見えることなく、解像、コントラスト、および視野深度 を得るために照明される集光レンズ11の区域を制御することができる。 当業者に広く公知でまたしばしば後部アパーチャーまたはその近くで集光レン ズ内に組み込まれて用いられるこの種のマスキング装置の一つに、アイリス膜( アイリス)19がある。これは、通常、直径が可変の開口を形成し、それによっ て照明光線10の周辺部が集光レンズ11を通過するのが制限されるものである 。少し言い方を変えれば、アイリス19は、照明光線10を受ける集光レンズ 11の最大直径を決定する機能を果たす。当業者には、照明された集光レンズの 外側区域の面積を減らすためにアイリスを閉じると、像の解像度は低下するが、 同時に、集光レンズのアパーチャー数(NA)が減少するためにコントラストと 視野深度は増大することは、当業者には公知である。アイリス19は、アパーチ ャー面Aに常駐するため(図を分かりやすくするために正確にはアパーチャー面 Aには示されていない)、観察者16は、アイリス19が像の解像度、コントラ スト、および視野深度にあたえる効果以外のアイリスのセッティングの変化から 生じる照明光線10の直径の変化には気が付かない。すなわち、観察者は、集光 レンズ11出の照明光線10の直径の変化にもとづく視野の直径の変化に気付く ことはない。 簡単なアイリス以外のマスキング装置を配置すべき集光レンズ11の後部アパ ーチャー15には、通常、ほとんどスペースがないので、リレー・レンズ41は 、光学的に集光レンズ11と光源40の間に配置され、面Aと共約でありまたマ スキング装置のために十分なスペースのある場所にある面A2で集光レンズの後 部アパーチャー15の像15’が生成される。マスキング装置を面A2に配置す ることは、集光レンズ11に対して、集光レンズの後部アパーチャー15自身に マスキング装置を配置することと同じ効果をもつ。共約面A2で利用可能なスペ ースのために、後部アパーチャー15にある限られたスペースに取り付ける場合 と比較してより複雑なマスキング装置を系内で使用することができる。 集光レンズのアパーチャー数(NA)は、集光レンズから試料14へ進む光線 の最大角の尺度であり、視野深度に逆比例する。したがって、公知のように、ア イリス19を閉じると、集光レンズのアパーチャー数が減少してコントラストと 視野深度が増大する。しかし、アイリスを閉じると、解像度が犠牲になる(低下 する)。すなわち、先行技術のシステムでは、通常、一方にある解像度と他方に あるコントラストおよび視野深度の間のトレードオフが求められるということで ある。先行技術の顕微鏡を用いた顕微検査法で、検査する対象物の可能な最良の 像を得るために、視野深度と解像度の間の正しいバランスを選ぶことか求められ る場合が多い。本発明では、顕微検査者は、あたえられた試料と対物レンズに関 する解像度、コントラスト、および視野深度を最大限によくすることができる。 さらに第2図および第3図を参照して、透明なガラスで形成された透明なマス ク・ホイール31が、マスク・ホイール・フレーム(ターレット)32内部に回 転自在に配置されて、ホイールの中心軸33の回りで回転する。該マスク・ホイ ール31の表面34では、直径の異なる複数の不透明または半透明な円盤状マス ク36が配置されている。例として不透明なマスクが図示されているが、該マス ク36は、代わりに中性密度フィルターなどのフィルター材料でつくり、集光レ ンズのアパーチャー15のあたえられた区域内での照明(を完全に遮るのではな く、その)強度を単に下げるようにしてもよい。図には例として円形の形状のマ スクを示してあるが、当業者には、本発明がそれに限定されるものではなく、形 状の異なるマスクも本発明の範囲に含まれることは明らかであろう。 マスク・ホイール31は、好ましくは、集光レンズのアパーチャー15にすぐ 隣接して配置し(第1図)、ホイールがその軸33の回りで回転するようにする 。後部アパーチャー15には、各種の異なる円形マスク36が示されている。ホ イール31は、後部アパーチャー15の共約像15’に配置しても、像15’が アパーチャー面Aの共約面にあるため、同じ結果を得ることができる。 マスク・ホイール31は、連続する中央アパーチャーを提供するものではない が、大きさの異なる(または形状および密度の異なる)中央マスク36を容易に また迅速に集光レンズ11と連結することができる。 このようにすれば、最良の像が見られるまでホイール31を回して、対物レン ズおよび検査する試料に関して利用可能な最善のまた最も有効な中央マスク36 を経験的に判別することができる。マスク36は、アパーチャー面Aまたは該ア パーチャー面Aの共約面A2のいずれかにあるため、顕微鏡の光路内にマスク3 6を配置しても観察像面I2にはあらわれない。ホイール31の配置によってゼ ロ・アパーチャーが得られるため、円盤36が集光レンズ11と一線に並べられ ることはない。 試料/対物レンズの各組み合わせごとに、最良の像が生成される集光レンズの 中央マスキングの最適量が存在し、この最適値からわずかでも変化すると、像が 有意に劣化することが分かっている。したがって、本発明の好ましい実施形態に あっては、中央マスキングが連続しており、中央マスキングを特定の試料/対物 レンズの組み合わせにきわめて正確にマッチさせることができる。試料によって は、集光レンズの中央域から除外される照明光の量ならびにその区域の大きさを 変化させることが好ましい場合がある。そのような場合には、その区域の光を完 全に除外するのではなく、正規の照明の一部分が集光レンズの中央域に達するの を許すようにすれば像の質が高められることが明らかにされることが分かってい る。 第1図、第4図、および第5図を参照して、4つの反射面42、43、44、 および46をもつピラミッド状ミラー41が、共約アパーチャー面A2にあるア パーチャー15’に隣接して配置される。アパーチャー15’での照明光は、集 光レンズ11自身の後部アパーチャー15での照明として効果がある。 ピラミッド・ミラー41が用いられる場合には、光源40は、照明された光フ ァイバー・ガイド48および51などの多数光源で置換される。説明のため、図 には4つの可能な光源の2つを示してある。光源48は、光線49をミラー表面 42へ向け、光源51は、光線52をミラー表面46へ向ける。ミラー41は、 光源48および51に対して軸22に添って移動自在である。光源48および5 1を光ファイバー・ガイドとして例示したが、ミラー41の異なる表面の照明は 、当業者には公知の多の光源を用いて行なうこともできる。したがって、本発明 は、システムの照明光を供給するための手段として光ファイバー・ガイドを使用 することのみに限定されるものではない。 光線49および52は、それぞれ、ミラー表面42および46上に向けられ、 該表面で反射されてそれぞれ反射光線50および55となる。ミラー表面42お よび46に達するときの光線40および52は、(第5図に示す)光源48およ び51に対するミラー41の一つの位置では、ミラー41の頂点60および共約 アパーチャー15’の周辺部47が共に照明される大きさとなる。ミラー41の この位置では、第4図に示すように、反射光線50および55がアパーチャー1 5’の4分円57および58全体を照明する。この位置では、4分円57および 58内の集光レンズのいかなる部分も、いかなる照明光も受けるのを妨げられる ため、4円分57および58内に中央マスキング・ゼロが存在する。 第6図および第7図を参照して、これらの図では、ミラー41は、第5図に示 す位置より下方の、光源48および51に対してある位置に示されている。ミラ ー41を下げると、反射光線50および55の角度を減少させる効果があり、し たがって投影されたアパーチャー15’の周辺部47を含まなくなる。これらの 照明条件のもとでは、アパーチャー15’の4分円57および58の中央域のみ が照明され、4分円のアパーチャーの周囲57に隣接する区域は照明されない。 したがって、光源48および51に対してミラー41を下げると、アイリスをア パーチャー面で閉鎖して集光レンズおよび対物レンズの後部アパーチャーで見え る照明光線の直径を低減するのと同様な効果が得られる。ここで使用する「マス ク」という用語からすれば、ピラミッド・ミラー41は、集光レンズの一定の区 域で照明源からの光を受けるのを妨げるという意味でマスクである。 第8図および第9図を参照して、ミラー41は、光源48および51に対する 位置が第6図に示す位置に比して上方にある。ミラー41を光線49および52 がピラミッド・ミラー41(尖端60を含む)の上部分を照明しない位置に持ち 上げると、その結果、4分円57および58の中央部分がマスクされる(照明さ れない)ことになる。ただし、反射光線50および55は、アパーチャー15’ の周辺47を含むため、共約アパーチャー15’は、全直径にわたって照明され る。 ピラミッド・ミラー41が照明がアパーチャー15’の中央域に達するのを妨 げるように配置されるときに、それによって形成されるアパーチャー(マスク) の特定の形状を用いると、照明されない中央域が増大してもアパーチャー15’ の周辺47が照明され続けるという意味で有利である。さらに、ミラー41の個 別の面は、各々が、ミラー41の他の面からの他の光線と重なり合う独立の波面 をもつ斜の光線を生成する。 ミラーを上下することによって、ゼロを含む域全体にわたって連続する中央マ スキングが得られる。このシステムでは、従来の完全な軸方向の照明(第4図に 示すようにマスキングなし)、中央マスキング(第8図および第9図に示すよう に集光レンズの中央域のマスキング)(一種の極端な暗視野照明)、および第6 図および第7図に示すような周辺アパーチャー形成(アイリス膜と等価)が可能 である。 中央マスキング(ミラー41をアパーチャー非形成位置上方に上げる)の周辺 アパーチャー形成(ミラー41をアパーチャー非形成位置下方に下げる)と比較 した場合の利点は、(1)周辺アパーチャー形成ではNAが減少するが、中央マ スキングでは最大のままである、(2)中央マスキングでは、最終的に対物レン ズに達する照明光線がすべて対物レンズの光軸に対して斜であり、像を形成する 高次の回折さざなみの数を増大させ、それによって解像度を高める、および(3) 中央マスキングは、ゼロ次の相対量を減らし(高次のさざなみの相対量を増やし) 、それによってコントラストを高める、ことである。 ピラミッド・ミラー41および関連する光源48および51が、ミラーの上げ 下げのための障害のないスペースがある(第1図参照)集光レンズ11の後部ア パーチャー15の共約アパーチャー15’に配置されるため、ミラー41の一部 を必要とされる中央マスキングの生成に必要な程度まで共約アパーチャー15’ の上方に上げる(第9図参照)ことが可能となる。ミラー41の多くの調節のた めには該ミラーが集光レンズ11が占めるのと同じ空間を占める必要があるため 、該ミラーが集光レンズ11自身の後部アパーチャー15に配置される場合には このようなことが不可能である。 上に述べた可変マスキングを生成するのは光源48および51に対するミラー 41の移動である。すなわち、ミラーを固定して光源48および51をピラミッ ド・ミラー41の軸22に平行な方向に移動することもできるし、あるいは、光 源48および51を固定してピラミッド・ミラー41を軸22に添った方向に移 動することも可能である。いずれの構成も本発明の範囲内にあるが、複数の光源 がある場合には、ミラー41を上下させて必要なマスキングを行なうことのほう が実践的であることが明らかにされている。 以上、4面をもつピラミッド・ミラーの隣接する面に光線を向ける構成の2つ の光源を含む部品の配置に関して本発明を説明した。好ましい実施形態にあって は、ミラーの4面すべてを照明する4つの光源が配設される。 第10図および第11図を参照して、4つの光ファイバー光源64は、ミラー 41の4つの面42、43、44、および46の各々に光線を向けるように配置 されている。この場合も、光ファイバー・光ガイドはいくつかの利点をもってい るが、公知の他の照明光源も本発明に使用することができる。(光線を供給する ために)使用する特定の光源64を選択し、該使用する光源64の強さを変化さ せることによって、多様な組み合わせの照明が可能となる。本発明にあっては、 顕微検査者は、試料への照明、対物レンズ、および実施する検査の種類を適当に あつらえてのぞむ像を得ることができる。本発明に基づけば、コントラスト、解 像度、視野深度、および影つけは、すべて顕微検査者の制御のもとで可変である 。通常、二次元観察では、2つの光源64がミラー41の隣接する面(例えば4 3および44)[他の2つの面はまったく照明されていない]を照明するときに 最良の結果が得られる。3−D観察では、4つの光源64すべてを使用してミラ ー41の4面すべてを照明し、隣接する対のミラー面が双眼観察システム(図示 せず)の各接眼レンズのための像を供給するようにする。特定の状況では、他の 組み合わせを用いればより効果が上がる場合もあろう。 ピラミッド・ミラー41を上下させるための機械的または電気的装置として、 当業者にはさまざまなものが考えられようが、それらは本発明の一部を構成する ものではない。それらのシステムには、ピラミッド・ミラーを小さなステップで 上下させることができ、またのぞむ位置に配置したら、次の位置に動かすまでは ミラーがその位置に留まっていることが求められる。第10図および第11図に は、この種の一つのシステムが示されており、それについて説明する。 ピラミッド・ミラー41は、基部66に取り付けられ、該基部自身は、垂直方 向に向けられたラック部材67に取り付けられている。ラック部材67は、ピニ オン68と組み合わされ、該ピニオン68は、それに取り付けられたノブ69を 用いて回される。 ノブ69を回すと、ピニオンが回転して、その回転方向に応じてラック67が 上昇または下降し、そのため、基部66がピラミッド・ミラー41を担持したラ ック67と共に上昇または下降する。ラックおよびピニオン部材によって、ミラ ー41は、固定光源64に対して容易に垂直方向の位置を調節することができ、 それによって上に述べた結果を得ることができる。他の構成としては、二つの例 として、ランプとカム、または空気圧式または油圧式ラムを用いるものを挙げる ことができるが、これらの機構のいずれも、条件に合わせてミラー41とそれに 関連する光源64の間にのぞむ相対運動を起こさせることができる。ただし、ミ ラー41を上下させるために用いられるいかなる特定の機械的または電気機械的 システムも、当業者には公知であり、本発明の一部を形成するものではない。以 上、4面を有するピラミッド・ミラーに関連して本発明を説明した。4面ピラミ ッド・ミラーの隣接する面を用いた二次元観察でも、また左右の目で別々に観察 できるように4面ピラミッド・ミラーの隣接する対の面を用いた3D観察でも、 すぐれた結果が得られるため、図示して説明した4面ピラミッド・ミラーは、好 まし実施形態となるものである。ただし、本発明は、4面のピラミッド・ミラー に限定されるものではなく、特殊な事例では、3面のピラミッド・ミラーあるい は5面以上のピラミッド・ミラーが4面ピラミッド・ミラーより有効な場合があ る。したがって、本発明は、4面のピラミッド・ミラーに限定されるものではな く、異なる数の面を有する多様なピラミッド・ミラーを含むものである。 ピラミッド・ミラー41の面の数が無限の場合には、第12図および第13図 に示すように、ピラミッド・ミラーが円錐形のミラーとなる。リング状の灯と該 リング状の灯に対して移動自在の円錐形のミラーを組み合わせて使用することに よって、ゼロを含む連続する中央アパーチャー構成を達成することができる。 第12図および第13図を参照して、円錐形ミラー71は、基部72上に取り 付けられ、該基部は、該基部が取り付けられたラックおよびピニオン73を操作 することによって上下させることができる。リング状の灯76は、ピラミッド・ ミラー71の上部分を取り囲んで光源を形成し、その光が円錐形ミラー71の鏡 面77によって反射される。第5図から第10図のピラミッド状ミラーに関連し て説明したと同様に、リング状の灯76に対するミラー71の移動によって、中 央マスキング、周辺アパーチャー形成、およびゼロ・マスキングを生成すること ができる。 円錐形ミラー71とリング状灯76の組み合わ背は、ピラミッド・ ミラーの組み合わせのように独立した波面を形成するものではなく、したがって 独立した波面を重ね合わせた場合の効果がすべて得られるものではないが、ゼロ を含むある域全体にわたって連続する中央マスキングが得られ、したがって本発 明の技術分野での重要な進歩をなすものである。 以上、本発明を詳細に説明したが、本発明は、上に述べた詳細によって限定さ れるものではなく、添付の請求の範囲によってのみ限定されるものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG ,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN, TD,TG),AP(KE,LS,MW,SD,SZ,U G),AM,AT,AU,BB,BG,BR,BY,C A,CH,CN,CZ,DE,DK,EE,ES,FI ,GB,GE,HU,IS,JP,KE,KG,KP, KR,KZ,LK,LR,LT,LU,LV,MD,M G,MN,MW,MX,NO,NZ,PL,PT,RO ,RU,SD,SE,SG,SI,SK,TJ,TM, TT,UA,UG,UZ,VN

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.後部アパーチャーおよび中央域を有する集光レンズを利用する種類の光顕微 鏡用照明システムにおいて、 集光レンズのために照明光を供給する光源と、 光源と集光レンズの後部アパーチャーの間に光学的に配置されて照明光が集 光レンズの中央部を含む区域に達するのを妨げるように作動するるマスク手段で 、照明光を受けるのを妨げられる区域の大きさがゼロを含む域全体にわたって可 変であるマスク手段と、 を有することを特徴とする照明システム。 2.照明光を受けるのを妨げられる区域の大きさが連続的に可変であることを特 徴とする、請求の範囲第1項に記載の照明システム。 3.光学的に光源と集光レンズの間にあって集光レンズから離れた位置で集光レ ンズの後部アパーチャーの像を生成するレンズ手段を更に有し、 前記マスク手段が集光レンズの後部アパーチャーの像にすぐ隣接して配置さ れることを特徴とする、請求の範囲第1項に記載の照明システム。 4.光学的に光源と集光レンズの間にあって集光レンズから離れた位置で集光レ ンズの後部アパーチャーの像を生成するレンズ手段を更に有し、 前記マスク手段が集光レンズの後部アパーチャーの像にすぐ隣接して配置さ れることを特徴とする、請求の範囲第2項に記載の照明システム。 5.前記マスク手段が大きさの異なる複数のマスキング・ディスクを含むことを 特徴とする、請求の範囲第1項に記載の照明システム。 6.前記マスキング・ディスクは、半透明で、それが受ける光の一部分を通すこ とを特徴とする、請求の範囲第5項に記載の照明システム。 7.前記マスク手段が、 多側面ピラミッドの形状をもつミラーと、 光を前記ミラーの少なくとも2側面に向ける光源と、 を有することを特徴とする、請求の範囲第2項に記載の照明システム。 8.前記マスク手段が、 多側面ピラミッドの形状をもつミラーと、 光を前記ミラーの少なくとも2側面に向ける光源と、 を有することを特徴とする、請求の範囲第3項に記載の照明システム。 9.前記ミラーおよび光源が、互いに相対的に移動自在であることを特徴とする 、請求の範囲第8項に記載の照明システム。 10.前記マスク手段が、 円錐の形状をもつミラーを有し、 前記光源は、リング状で、前記ミラーを取り囲んで配置されて光を前記ミラ ーに向けることを特徴とする、請求の範囲第2項に記載の照明システム。 11.集光レンズを有する種類の光顕微鏡用照明システムで、該集光レンズが、中 央部、光軸、およびアパーチャー面に後部アパーチャーを有し、該顕微鏡がさら に光軸をもつ対物レンズを有する照明システムにおいて、 集光レンズから離れた位置および該アパーチャー面の共約面に該集光レンズ の後部アパーチャーの像を生成するレンズ手段と、 集光レンズの後部アパーチャーの像の位置に配置されて複数の反射面を有す るピラミッド状ミラーと、 前記ミラーの複数の面を照明し、前記面が照明をアパーチャーの像へ反射し 、また前記ミラーが前記光源に対して移動自在である複数の光源と、 を有することを特徴とする照明システム。 12.後部アパーチャーの像へ反射される光が、最終的には対物レンズの光軸に対 して斜の光路に添って対物レンズまで移動することを特徴とする、請求の範囲第 11項に記載の照明システム。 13.前記光源と前記ミラーの間の第一の相対位置では、集光レンズのアパーチャ ーの像が完全に照明されていかなる区域もマスクされず、前記第一の位置から離 れる一つの方向での相対移動で、その中心を含む投影されたアパーチャーの一区 域から照明がマスクされることを特徴とする、請求の範囲11項に記載の照明シ ステム。 14.前記第一の位置から離れる連続移動によって、マスクされたアパーチャーの 像の区域の大きさが連続的に増大することを特徴とする、請求の範囲第13項に 記載の照明システム。 15.前記ミラーと前記光源の間の前記第一の位置から離れる反対方向での相対移 動で、アパーチャーの像の周囲に隣接しまたその中心を含まないアパーチャーの 像の一区域から照明がマスクされることを特徴とする、請求の範囲第13項に記 載の照明システム。 16.前記第一の位置から離れる連続移動によって、マスクされたアパーチャーの 像の区域の大きさが連続的に増大することを特徴とする、請求の範囲第15項に 記載の照明システム。 17.中心をもつ集光レンズを有する透過光顕微鏡内で生成される検査される試料 の像の解像度およびコントラストを高めるための方法において、 照明光を集光レンズ上に向ける工程と、 照明光をマスクして照明光がその中心を含む集光レンズの複数の区域に達す るのを妨げる工程と、 マスキングの量が行なう検査のために最良の像を生成するまで、集光レンズ に達するのを妨げられない照明光を含む域全体にわたってマスキングの量を変化 させる工程と、 を含むことを特徴とする方法。 18.マスキングの域が連続していることを特徴とする、請求の範囲第17項に記 載の方法。 19.マスクが集光レンズの周囲を含まないことを特徴とする、請求の範囲第18 項に記載の方法。 20.照明源、光軸をもつ対物レンズ、およびアパーチャー面にある後部アパーチ ャーと中心をもつ集光レンズを有する透過光顕微鏡内で生成される検査される試 料の像の解像度およびコントラストを高めるための方法において、 集光レンズから離れたスペース内で集光のアパーチャー面に対する共約面に ある位置に集光レンズの後部アパーチャーの像を生成する工程と、 後部アパーチャーの投影像の位置に、照明光が集光レンズの中心を含む域全 体にわたって集光レンズの後部アパーチャーの像の複数の区域に達するのを妨 げるように作動するマスキング装置を配置する工程と、 該域内で、行なわれる検査のために最良の像を生成する区域を選択する工程 と、 を含むことを特徴とする方法。 21.各々がそれ自身の波面をもつ複数の独立した光線で集光レンズの後部アパー チャーの像を照明する工程を更に含むことを特徴とする、請求の範囲第20項に 記載の方法。 22.マスキング装置が、複数の反射面をもつピラミッド状ミラーを含み、前記ミ ラーおよび照明源が、相対移動することを特徴とする、請求の範囲第21項に記 載の方法。 23.照明源と前記マスキング装置の間の第一の方向の相対移動によって照明光が 集光レンズに達するのを妨げる区域を増大させ、また照明源と前記マスキング装 置の間の第一の方向とは反対の方向の相対移動によって照明光が集光レンズに達 するのを妨げる区域を減少させる工程を更に含むことを特徴とする、請求の範囲 第22項に記載の方法。
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