JPH1053586A - 9−ヒドロキシエリプチシンの製法 - Google Patents
9−ヒドロキシエリプチシンの製法Info
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- JPH1053586A JPH1053586A JP9144929A JP14492997A JPH1053586A JP H1053586 A JPH1053586 A JP H1053586A JP 9144929 A JP9144929 A JP 9144929A JP 14492997 A JP14492997 A JP 14492997A JP H1053586 A JPH1053586 A JP H1053586A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 医薬品の合成中間体として有用な9−ヒドロ
キシエリプチシンの新規製法を提供するものである。 【解決手段】 化学式[I] 【化1】 (式中、R1はアルキル基又はアリール基、R2は低級ア
ルキル基又はアリール基、R3及びR4は低級アルキル基
等を表す。)で示されるアセタールまたはそのアルデヒ
ド変換体を酸で処理することにより9−ヒドロキシエリ
プチシンを製する方法。
キシエリプチシンの新規製法を提供するものである。 【解決手段】 化学式[I] 【化1】 (式中、R1はアルキル基又はアリール基、R2は低級ア
ルキル基又はアリール基、R3及びR4は低級アルキル基
等を表す。)で示されるアセタールまたはそのアルデヒ
ド変換体を酸で処理することにより9−ヒドロキシエリ
プチシンを製する方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、抗腫瘍剤もしくは
医薬化合物の合成中間体として有用な9−ヒドロキシエ
リプチシンの新規製法に関する。
医薬化合物の合成中間体として有用な9−ヒドロキシエ
リプチシンの新規製法に関する。
【0002】
【従来の技術】エリプチシン、9−メトキシエリプチシ
ン等のピリドカルバゾールアルカロイドはキョウチクト
ウ科植物に含まれ、古くから知られているアルカロイド
である。これらピリドカルバゾール骨格を有する化合物
は抗腫瘍活性を有することが知られており、例えば、エ
リプチニウムアセテート(化学名:2−メチル−9−ヒ
ドロキシエリプチシニウムアセテート)は乳ガンの治療
剤として市販されており、また、エリプチシン、9−ヒ
ドロキシエリプチシンも抗腫瘍活性を有することが知ら
れている。
ン等のピリドカルバゾールアルカロイドはキョウチクト
ウ科植物に含まれ、古くから知られているアルカロイド
である。これらピリドカルバゾール骨格を有する化合物
は抗腫瘍活性を有することが知られており、例えば、エ
リプチニウムアセテート(化学名:2−メチル−9−ヒ
ドロキシエリプチシニウムアセテート)は乳ガンの治療
剤として市販されており、また、エリプチシン、9−ヒ
ドロキシエリプチシンも抗腫瘍活性を有することが知ら
れている。
【0003】更に、9−ヒドロキシエリプチシンは、エ
リプチニウムアセテートの合成中間体、或いは特開平6
−279441号公報に記載された9−アシルオキシエ
リプチシン誘導体の合成中間体としても有用であること
が知られている。9−ヒドロキシエリプチシンの製法と
しては、ジャーナル オブ メディシナル ケミストリ
ー(J. Med. Chem.)、第18巻、755頁(1975
年)等に記載されているような、9−メトキシエリプチ
シンの脱メチル化による方法がある。しかしこの方法は
ピリジン塩酸塩を用いて高温で行うため二量体等の副生
成物が多く、また生成した9−ヒドロキシエリプチシン
は溶媒に対する溶解性が悪いこともあって、再結晶等の
従来技術による精製が難しいという問題がある。
リプチニウムアセテートの合成中間体、或いは特開平6
−279441号公報に記載された9−アシルオキシエ
リプチシン誘導体の合成中間体としても有用であること
が知られている。9−ヒドロキシエリプチシンの製法と
しては、ジャーナル オブ メディシナル ケミストリ
ー(J. Med. Chem.)、第18巻、755頁(1975
年)等に記載されているような、9−メトキシエリプチ
シンの脱メチル化による方法がある。しかしこの方法は
ピリジン塩酸塩を用いて高温で行うため二量体等の副生
成物が多く、また生成した9−ヒドロキシエリプチシン
は溶媒に対する溶解性が悪いこともあって、再結晶等の
従来技術による精製が難しいという問題がある。
【0004】また原料となる9−メトキシエリプチシン
は、天然から得られるほか、例えばオーストラリアン
ジャーナル オブ ケミストリー(Aust. J. Chem)、第
20巻、2715頁(1967年)に記載の方法によ
り、6−メトキシ−1,4−ジメチルカルバゾ−ルの3
位をホルミル化し、得られた化合物をアミノアセトアル
デヒドのアセタールと反応させ、次いで得られたアゾメ
チンをオルソリン酸の存在下に加熱・環化することによ
って得られるが、この製造方法においては、環化はリン
酸及び五酸化リンを用いて高温で行うため、工業的製法
としては不適当であるとともに、反応条件が過酷であっ
て、多くの副生成物を与えるという問題がある。
は、天然から得られるほか、例えばオーストラリアン
ジャーナル オブ ケミストリー(Aust. J. Chem)、第
20巻、2715頁(1967年)に記載の方法によ
り、6−メトキシ−1,4−ジメチルカルバゾ−ルの3
位をホルミル化し、得られた化合物をアミノアセトアル
デヒドのアセタールと反応させ、次いで得られたアゾメ
チンをオルソリン酸の存在下に加熱・環化することによ
って得られるが、この製造方法においては、環化はリン
酸及び五酸化リンを用いて高温で行うため、工業的製法
としては不適当であるとともに、反応条件が過酷であっ
て、多くの副生成物を与えるという問題がある。
【0005】他の9−ヒドロキシエリプチシンの製法と
しては、特公昭59−51956号公報記載の方法があ
る。この方法では9−ヒドロキシエリプチシンは、6−
メトキシ−1,4−ジメチルカルバゾ−ルを脱メチル化
し、得られた酸化されやすく、不安定な6−ヒドロキシ
−1,4−ジメチルカルバゾ−ルの水酸基をベンゾイル
化し、次いで3位をホルミル化し、得られた化合物をア
ミノアセトアルデヒドのアセタールと反応させ、得られ
たアゾメチンをリン酸等の存在下に環化して、9−ベン
ゾイルオキシエリプチシンを製し、最後に塩酸を用いて
ベンゾイル基を除去することによって得られる。しか
し、この方法では、酸化されやすく、不安定な6−ヒド
ロキシ−1,4−ジメチルカルバゾ−ルを合成中間体と
して与える工程及び前述のオーストラリアン ジャーナ
ル オブ ケミストリー(Aust. J.Chem)、第20巻、2
715頁(1967年)に記載の方法と同様な閉環工程
を含んでいるため、多くの副生成物を生じ収率が低く、
かつ、目的物である9−ヒドロキシエリプチシンの分
離、精製が困難という欠点がある。
しては、特公昭59−51956号公報記載の方法があ
る。この方法では9−ヒドロキシエリプチシンは、6−
メトキシ−1,4−ジメチルカルバゾ−ルを脱メチル化
し、得られた酸化されやすく、不安定な6−ヒドロキシ
−1,4−ジメチルカルバゾ−ルの水酸基をベンゾイル
化し、次いで3位をホルミル化し、得られた化合物をア
ミノアセトアルデヒドのアセタールと反応させ、得られ
たアゾメチンをリン酸等の存在下に環化して、9−ベン
ゾイルオキシエリプチシンを製し、最後に塩酸を用いて
ベンゾイル基を除去することによって得られる。しか
し、この方法では、酸化されやすく、不安定な6−ヒド
ロキシ−1,4−ジメチルカルバゾ−ルを合成中間体と
して与える工程及び前述のオーストラリアン ジャーナ
ル オブ ケミストリー(Aust. J.Chem)、第20巻、2
715頁(1967年)に記載の方法と同様な閉環工程
を含んでいるため、多くの副生成物を生じ収率が低く、
かつ、目的物である9−ヒドロキシエリプチシンの分
離、精製が困難という欠点がある。
【0006】これとは別に、8,9−ジメトキシエリプ
チシンを製造する方法として、ジャーナル オブ メデ
ィシナル ケミストリー(J. Med. Chem.)、第18巻、
755頁(1975年)に記載されている方法がある。
これによれば、6,7−ジメトキシ−1,4−ジメチル
カルバゾ−ルの3位のホルミル化、アミノアセトアルデ
ヒドのアセタールとの反応を経てアゾメチンとした後、
これを還元してアミンとし、そのアミノ基をp−トルエ
ンスルホニル化した後、これを塩酸で閉環することによ
り、8,9−ジメトキシエリプチシンを製することがで
きる。
チシンを製造する方法として、ジャーナル オブ メデ
ィシナル ケミストリー(J. Med. Chem.)、第18巻、
755頁(1975年)に記載されている方法がある。
これによれば、6,7−ジメトキシ−1,4−ジメチル
カルバゾ−ルの3位のホルミル化、アミノアセトアルデ
ヒドのアセタールとの反応を経てアゾメチンとした後、
これを還元してアミンとし、そのアミノ基をp−トルエ
ンスルホニル化した後、これを塩酸で閉環することによ
り、8,9−ジメトキシエリプチシンを製することがで
きる。
【0007】また、アルキル−アルキルエーテル類をア
シルハライド及びヨウ化ナトリウムで処理してエーテル
をエステルに変換する方法としてはテトラヘドロン レ
ターズ(Tet. Lett.)、第23巻、681頁
(1982年)記載の方法がある。この方法によれば、
例えばβ−コレスタニルメチルエーテルを、ヨウ化ナト
リウムとピバロイルクロリドで処理することにより、β
−ピバロイルオキシコレスタンを製することができる。
しかしながら、アルキル−アリールエーテル類からエス
テルへの変換については記載がない。
シルハライド及びヨウ化ナトリウムで処理してエーテル
をエステルに変換する方法としてはテトラヘドロン レ
ターズ(Tet. Lett.)、第23巻、681頁
(1982年)記載の方法がある。この方法によれば、
例えばβ−コレスタニルメチルエーテルを、ヨウ化ナト
リウムとピバロイルクロリドで処理することにより、β
−ピバロイルオキシコレスタンを製することができる。
しかしながら、アルキル−アリールエーテル類からエス
テルへの変換については記載がない。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は酸化されやす
く不安定で精製が難しい9−ヒドロキシエリプチシンを
収率よく効率的に製造する新規方法を提供するものであ
る。
く不安定で精製が難しい9−ヒドロキシエリプチシンを
収率よく効率的に製造する新規方法を提供するものであ
る。
【0009】また、本発明は、6−低級アルコキシ−
1,4−ジメチルカルバゾ−ルから一工程で9−ヒドロ
キシエリプチシンの合成中間体である6−(アルカノイ
ルオキシまたはアリールカルボニルオキシ)−1,4−
ジメチルカルバゾールを製造する方法を提供するもので
ある。
1,4−ジメチルカルバゾ−ルから一工程で9−ヒドロ
キシエリプチシンの合成中間体である6−(アルカノイ
ルオキシまたはアリールカルボニルオキシ)−1,4−
ジメチルカルバゾールを製造する方法を提供するもので
ある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、9−ヒ
ドロキシエリプチシン又はその塩は、一般式[I]
ドロキシエリプチシン又はその塩は、一般式[I]
【0011】
【化11】
【0012】(式中、R1はアルキル基又はアリール
基、R2は低級アルキル基又はアリール基、R3及びR4
は同一または異なって置換基を有していてもよい低級ア
ルキル基であるか、または互いに末端で結合して置換基
を有していてもよい低級アルキレン基を形成しているこ
とを表わす。)で示されるアセタール又はそのアルデヒ
ド変換体を酸で処理することにより、一工程で9−ヒド
ロキシエリプチシンとし、所望により生成物をその塩と
することにより製造することができる。
基、R2は低級アルキル基又はアリール基、R3及びR4
は同一または異なって置換基を有していてもよい低級ア
ルキル基であるか、または互いに末端で結合して置換基
を有していてもよい低級アルキレン基を形成しているこ
とを表わす。)で示されるアセタール又はそのアルデヒ
ド変換体を酸で処理することにより、一工程で9−ヒド
ロキシエリプチシンとし、所望により生成物をその塩と
することにより製造することができる。
【0013】
【発明の実施の形態】本発明において、一般式[I]で
示されるアセタールのR1において、アルキル基として
は、炭素数1から21の直鎖もしくは分枝鎖アルキル
基、または炭素数3から6の環状アルキル基をあげるこ
とができる。また、アリール基としては、置換もしくは
非置換フェニル基をあげることができる。フェニル基上
の置換基の例としては、炭素数1から6の直鎖もしくは
分枝鎖アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基等をあげる
ことができる。炭素数1から21の直鎖もしくは分枝鎖
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n
−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、t−ブ
チル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシ
ル基、ドコシル基等をあげることができる。また、炭素
数3から6の環状アルキル基としては、シクロプロピル
基、シクロヘキシル基等をあげることができる。さらに
置換もしくは非置換フェニル基の具体例としては、フェ
ニル基、2−又は4−トリル基、キシリル基、2−又は
4−アニシル基、4−クロロフェニル基、4−ニトロフ
ェニル基等をあげることができる。また、アルキル基と
しては、低級アルキル基が好ましく、具体的にはメチル
基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−
ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基など
の炭素数1から6の直鎖もしくは分枝鎖アルキル基、ま
たはシクロプロピル基、シクロヘキシル基などの炭素数
3から6の環状アルキル基をあげることができる。ま
た、R1は、酸を用いた加水分解によってR1CO−とし
て容易に除去することができる基を好適に用いることが
でき、そのような基としては、メチル基、エチル基、t
−ブチル基、フェニル基、4−クロロフェニル基、4−
ニトロフェニル基等をあげることができる。
示されるアセタールのR1において、アルキル基として
は、炭素数1から21の直鎖もしくは分枝鎖アルキル
基、または炭素数3から6の環状アルキル基をあげるこ
とができる。また、アリール基としては、置換もしくは
非置換フェニル基をあげることができる。フェニル基上
の置換基の例としては、炭素数1から6の直鎖もしくは
分枝鎖アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基等をあげる
ことができる。炭素数1から21の直鎖もしくは分枝鎖
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n
−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、t−ブ
チル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシ
ル基、ドコシル基等をあげることができる。また、炭素
数3から6の環状アルキル基としては、シクロプロピル
基、シクロヘキシル基等をあげることができる。さらに
置換もしくは非置換フェニル基の具体例としては、フェ
ニル基、2−又は4−トリル基、キシリル基、2−又は
4−アニシル基、4−クロロフェニル基、4−ニトロフ
ェニル基等をあげることができる。また、アルキル基と
しては、低級アルキル基が好ましく、具体的にはメチル
基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−
ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基など
の炭素数1から6の直鎖もしくは分枝鎖アルキル基、ま
たはシクロプロピル基、シクロヘキシル基などの炭素数
3から6の環状アルキル基をあげることができる。ま
た、R1は、酸を用いた加水分解によってR1CO−とし
て容易に除去することができる基を好適に用いることが
でき、そのような基としては、メチル基、エチル基、t
−ブチル基、フェニル基、4−クロロフェニル基、4−
ニトロフェニル基等をあげることができる。
【0014】また、R2としては、炭素数1から6の直
鎖もしくは分枝鎖のアルキル基あるいは置換もしくは非
置換フェニル基をあげることができる。炭素数1から6
の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基の具体例としては、
メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル
基、n−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基等をあげることができる。また、置換もしくは非置
換フェニル基の具体例としては、フェニル基、トリル
基、メトキシフェニル基等をあげることができる。R2
の好ましい基としては、メチル基、フェニル基、p−ト
リル基、p−メトキシフェニル基等をあげることができ
る。
鎖もしくは分枝鎖のアルキル基あるいは置換もしくは非
置換フェニル基をあげることができる。炭素数1から6
の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基の具体例としては、
メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル
基、n−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基等をあげることができる。また、置換もしくは非置
換フェニル基の具体例としては、フェニル基、トリル
基、メトキシフェニル基等をあげることができる。R2
の好ましい基としては、メチル基、フェニル基、p−ト
リル基、p−メトキシフェニル基等をあげることができ
る。
【0015】R3及びR4において、低級アルキル基とし
ては、炭素数1から6の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル
基があげられ、低級アルキレン基としては炭素数2から
6の直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基をあげることが
できる。炭素数1から6の直鎖もしくは分枝鎖のアルキ
ル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロ
ピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基等をあげることができる。
また、炭素数2から6の直鎖もしくは分枝鎖のアルキレ
ン基としては、エチレン基、トリメチレン基等をあげる
ことができる。また、低級アルキル基及び低級アルキレ
ン基の置換基としては、メトキシ基、エトキシ基などの
低級アルコキシ基を好適に用いることができる。
ては、炭素数1から6の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル
基があげられ、低級アルキレン基としては炭素数2から
6の直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基をあげることが
できる。炭素数1から6の直鎖もしくは分枝鎖のアルキ
ル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロ
ピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基等をあげることができる。
また、炭素数2から6の直鎖もしくは分枝鎖のアルキレ
ン基としては、エチレン基、トリメチレン基等をあげる
ことができる。また、低級アルキル基及び低級アルキレ
ン基の置換基としては、メトキシ基、エトキシ基などの
低級アルコキシ基を好適に用いることができる。
【0016】本発明の反応は、溶媒中、酸の存在下で好
適に実施することができる。酸としては、鉱酸(例え
ば、塩酸、硫酸、リン酸、フッ化水素酸、臭化水素酸、
過塩素酸)又は有機酸(例えば、トリフルオロ酢酸、ト
リクロロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸)をいずれも使用することができるが、鉱酸を用いる
ことが好ましく、とりわけ、塩酸、臭化水素酸、硫酸を
好適に使用することができる。
適に実施することができる。酸としては、鉱酸(例え
ば、塩酸、硫酸、リン酸、フッ化水素酸、臭化水素酸、
過塩素酸)又は有機酸(例えば、トリフルオロ酢酸、ト
リクロロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸)をいずれも使用することができるが、鉱酸を用いる
ことが好ましく、とりわけ、塩酸、臭化水素酸、硫酸を
好適に使用することができる。
【0017】酸の使用量は特に制限されず、通常化合物
[I]に対し、10〜2000モル%程度、好ましく
は、100〜1200モル%程度の割合で用いるのがよ
い。
[I]に対し、10〜2000モル%程度、好ましく
は、100〜1200モル%程度の割合で用いるのがよ
い。
【0018】本発明に用いられる溶媒としては、反応に
支障をきたさない溶媒であれば、制限がなく、例えば、
水、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化脂肪
族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等の
ケトン系溶媒、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ
ーテル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ク
ロロベンゼン、トルエン等のハロゲン化されていてもよ
い芳香族炭化水素系溶媒、酢酸、トリフルオロ酢酸等の
有機酸等があげられるが、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンなどのエーテル系溶媒、アセトン等ケトン系の溶媒
がとりわけ好ましい。
支障をきたさない溶媒であれば、制限がなく、例えば、
水、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化脂肪
族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等の
ケトン系溶媒、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ
ーテル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ク
ロロベンゼン、トルエン等のハロゲン化されていてもよ
い芳香族炭化水素系溶媒、酢酸、トリフルオロ酢酸等の
有機酸等があげられるが、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンなどのエーテル系溶媒、アセトン等ケトン系の溶媒
がとりわけ好ましい。
【0019】これらの溶媒は、単独で用いてもよいが、
必要に応じて適当な比率で二種類またはそれ以上の種類
を混合し、単相又は二相の形で使用してもよい。
必要に応じて適当な比率で二種類またはそれ以上の種類
を混合し、単相又は二相の形で使用してもよい。
【0020】本反応は、使用する溶媒中、25〜200
℃、好ましくは50〜120℃、とりわけ60〜70℃
で実施するのが好ましい。
℃、好ましくは50〜120℃、とりわけ60〜70℃
で実施するのが好ましい。
【0021】このようにして得られた9−ヒドロキシエ
リプチシンは必要に応じ、酸で処理して、鉱酸との塩
(例えば、塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩、臭化水素酸
塩)、有機酸との塩(例えば、メタンスルホン酸塩、酢
酸塩、フマル酸塩、マレイン酸塩、シュウ酸塩、ベンゼ
ンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩)とするこ
ともできる。
リプチシンは必要に応じ、酸で処理して、鉱酸との塩
(例えば、塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩、臭化水素酸
塩)、有機酸との塩(例えば、メタンスルホン酸塩、酢
酸塩、フマル酸塩、マレイン酸塩、シュウ酸塩、ベンゼ
ンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩)とするこ
ともできる。
【0022】一般式[I]で示されるアセタールまたは
そのアルデヒド変換体は新規化合物であり、例えば、
(1)一般式[IV]
そのアルデヒド変換体は新規化合物であり、例えば、
(1)一般式[IV]
【0023】
【化12】
【0024】(式中、R5は低級アルキル基を表わ
す。)で示される6−低級アルコキシカルバゾール誘導
体の6位置換基の脱アルキル化及びアルカノイル化もし
くはアリールカルボニル化を一工程で行い、一般式[I
II]
す。)で示される6−低級アルコキシカルバゾール誘導
体の6位置換基の脱アルキル化及びアルカノイル化もし
くはアリールカルボニル化を一工程で行い、一般式[I
II]
【0025】
【化13】
【0026】(式中、記号は前記と同一意味を有す
る。)で示されるカルバゾール誘導体を製したのち、
(2)化合物[III]の3位をホルミル化し、得られ
る一般式[II]
る。)で示されるカルバゾール誘導体を製したのち、
(2)化合物[III]の3位をホルミル化し、得られ
る一般式[II]
【0027】
【化14】
【0028】(式中、記号は前記と同一意味を有す
る。)で示される3−ホルミルカルバゾール誘導体のホ
ルミル基をアセタール化されていてもよいホルミルメチ
ルアミノメチル基に変換した後、さらにアミノ基を低級
アルキルスルホニル化又はアリールスルホニル化するこ
とにより製造することができる。
る。)で示される3−ホルミルカルバゾール誘導体のホ
ルミル基をアセタール化されていてもよいホルミルメチ
ルアミノメチル基に変換した後、さらにアミノ基を低級
アルキルスルホニル化又はアリールスルホニル化するこ
とにより製造することができる。
【0029】上記工程(1)において、化合物[IV]
の6位低級アルコキシ基の脱アルキル化と、アルカノイ
ル化もしくはアリールカルボニル化を一工程で行う反応
は、化合物[IV]を溶媒中、ヨウ化アルカリ金属もし
くはヨウ化アルカリ土類金属の存在もしくは非存在下、
アルキルカルボン酸もしくはアリールカルボン酸の反応
性誘導体と反応させることにより実施することができ
る。
の6位低級アルコキシ基の脱アルキル化と、アルカノイ
ル化もしくはアリールカルボニル化を一工程で行う反応
は、化合物[IV]を溶媒中、ヨウ化アルカリ金属もし
くはヨウ化アルカリ土類金属の存在もしくは非存在下、
アルキルカルボン酸もしくはアリールカルボン酸の反応
性誘導体と反応させることにより実施することができ
る。
【0030】アルキルカルボン酸またはアリールカルボ
ン酸の反応性誘導体としては、アルカノイルハライドま
たはアリールカルボニルハライドを好適に用いることが
でき、低級アルカノイルハライドをより好適に用いるこ
とができる。
ン酸の反応性誘導体としては、アルカノイルハライドま
たはアリールカルボニルハライドを好適に用いることが
でき、低級アルカノイルハライドをより好適に用いるこ
とができる。
【0031】アルカノイルハライドとしては、炭素数2
から22の直鎖もしくは分枝鎖アルカノイルハライドま
たは炭素数4から7の環状アルカンカルボン酸ハライド
をあげることができ、具体的にはアセチルハライド、プ
ロピオニルハライド、ピバロイルハライド、シクロプロ
パンカルボニルハライド、シクロヘキサンカルボニルハ
ライド、ドデカノイルハライド、ドコサノイルハライド
等をあげることができる。好ましくは炭素数2から7の
直鎖もしくは分枝鎖アルカノイルハライド(例えば、ア
セチルハライド、プロピオニルハライド、ピバロイルハ
ライド)または炭素数4から7の環状アルカンカルボン
酸ハライド(例えば、シクロプロパンカルボニルハライ
ド、シクロヘキサンカルボニルハライド)の如き鎖状又
は環状の低級アルカノイルハライドをあげることがで
き、とりわけ、アセチルハライド、ピバロイルハライド
等を用いて実施することが好ましい。
から22の直鎖もしくは分枝鎖アルカノイルハライドま
たは炭素数4から7の環状アルカンカルボン酸ハライド
をあげることができ、具体的にはアセチルハライド、プ
ロピオニルハライド、ピバロイルハライド、シクロプロ
パンカルボニルハライド、シクロヘキサンカルボニルハ
ライド、ドデカノイルハライド、ドコサノイルハライド
等をあげることができる。好ましくは炭素数2から7の
直鎖もしくは分枝鎖アルカノイルハライド(例えば、ア
セチルハライド、プロピオニルハライド、ピバロイルハ
ライド)または炭素数4から7の環状アルカンカルボン
酸ハライド(例えば、シクロプロパンカルボニルハライ
ド、シクロヘキサンカルボニルハライド)の如き鎖状又
は環状の低級アルカノイルハライドをあげることがで
き、とりわけ、アセチルハライド、ピバロイルハライド
等を用いて実施することが好ましい。
【0032】アリールカルボニルハライドとしては、置
換もしくは非置換ベンゾイルハライドをあげることがで
き、具体的には、ベンゾイルハライド、4−クロロベン
ゾイルハライド、4−ニトロベンゾイルハライド、2−
もしくは4−トルオイルハライド、キシロイルハライ
ド、2−もしくは4−アニソイルハライド等をあげるこ
とができる。とりわけ、ベンゾイルハライド等を用いて
実施することが好ましい。
換もしくは非置換ベンゾイルハライドをあげることがで
き、具体的には、ベンゾイルハライド、4−クロロベン
ゾイルハライド、4−ニトロベンゾイルハライド、2−
もしくは4−トルオイルハライド、キシロイルハライ
ド、2−もしくは4−アニソイルハライド等をあげるこ
とができる。とりわけ、ベンゾイルハライド等を用いて
実施することが好ましい。
【0033】ヨウ化アルカリ金属としては、ヨウ化リチ
ウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム等をあげるこ
とができ、ヨウ化アルカリ土類金属としてはヨウ化カル
シウム等をあげることができる。好ましくはヨウ化ナト
リウム、ヨウ化カリウム等のヨウ化アルカリ金属を用い
るのがよい。アルカノイルハライドもしくはアリールカ
ルボニルハライドとしてアルカノイルヨージドもしくは
アリールカルボニルヨージドを用いる場合はヨウ化アル
カリ金属の添加を省略することもできる。
ウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム等をあげるこ
とができ、ヨウ化アルカリ土類金属としてはヨウ化カル
シウム等をあげることができる。好ましくはヨウ化ナト
リウム、ヨウ化カリウム等のヨウ化アルカリ金属を用い
るのがよい。アルカノイルハライドもしくはアリールカ
ルボニルハライドとしてアルカノイルヨージドもしくは
アリールカルボニルヨージドを用いる場合はヨウ化アル
カリ金属の添加を省略することもできる。
【0034】溶媒としては、反応に支障をきたさない溶
媒であれば制限がなく、例えば、アセトニトリル等のニ
トリル類、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエ
タン等のハロゲン化脂肪族炭化水素系溶媒、N,N−ジ
メチルアセトアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾ
リジノン等のアミド類等を使用することができる。
媒であれば制限がなく、例えば、アセトニトリル等のニ
トリル類、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエ
タン等のハロゲン化脂肪族炭化水素系溶媒、N,N−ジ
メチルアセトアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾ
リジノン等のアミド類等を使用することができる。
【0035】本反応は0〜150℃、好ましくは40〜
100℃、とりわけ70〜90℃で実施するのがよい。
100℃、とりわけ70〜90℃で実施するのがよい。
【0036】上記工程(2)において、化合物[II
I]の3位をホルミル化する反応は、化合物[III]
を溶媒中、ホルミル化剤で処理することにより実施する
ことができる。
I]の3位をホルミル化する反応は、化合物[III]
を溶媒中、ホルミル化剤で処理することにより実施する
ことができる。
【0037】ホルミル化剤としては、ベンゼン環をホル
ミル化する通常のホルミル化剤を用いることができ、具
体的にはN−メチルホルムアニリド及びオキシ塩化リ
ン、ジクロロメチルメチルエーテル及び四塩化チタン、
ヘキサメチレンテトラミン及び酢酸等をあげることがで
きる。とりわけ、N−メチルホルムアニリド及びオキシ
塩化リン、ジクロロメチルメチルエーテル及び四塩化チ
タン等を用いて実施することが好ましい。
ミル化する通常のホルミル化剤を用いることができ、具
体的にはN−メチルホルムアニリド及びオキシ塩化リ
ン、ジクロロメチルメチルエーテル及び四塩化チタン、
ヘキサメチレンテトラミン及び酢酸等をあげることがで
きる。とりわけ、N−メチルホルムアニリド及びオキシ
塩化リン、ジクロロメチルメチルエーテル及び四塩化チ
タン等を用いて実施することが好ましい。
【0038】溶媒としては、反応に支障をきたさない溶
媒であれば制限がなく、例えば、ベンゼン、トルエン、
クロロベンゼン、オルトジクロロベンゼン等のハロゲン
化されていてもよい芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロエ
タン、ジクロロプロパン等のハロゲン化脂肪族炭化水素
系溶媒、酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸等を使用す
ることができる。
媒であれば制限がなく、例えば、ベンゼン、トルエン、
クロロベンゼン、オルトジクロロベンゼン等のハロゲン
化されていてもよい芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロエ
タン、ジクロロプロパン等のハロゲン化脂肪族炭化水素
系溶媒、酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸等を使用す
ることができる。
【0039】本反応は40〜180℃、好ましくは70
〜130℃、とりわけ100〜120℃で実施するのが
よい。
〜130℃、とりわけ100〜120℃で実施するのが
よい。
【0040】化合物[II]のホルミル基をアセタール
化されていてもよいホルミルメチルアミノメチル基に変
換した後、さらにアミノ基を低級アルキルスルホニル化
又はアリールスルホニル化する反応は、(i)化合物
[II]を溶媒中もしくは無溶媒で、アミノアセトアル
デヒド低級アルキルアセタール(もしくは低級アルキレ
ンアセタール)と反応させ、生成したアゾメチンを還元
し、さらに所望により、アセタールをアルデヒドに変換
し、(ii)次いで溶媒中、脱酸剤の存在もしくは非存
在下に、得られた化合物を低級アルキルスルホニルハラ
イドもしくはアリールスルホニルハライドと反応させる
ことにより実施することができる。
化されていてもよいホルミルメチルアミノメチル基に変
換した後、さらにアミノ基を低級アルキルスルホニル化
又はアリールスルホニル化する反応は、(i)化合物
[II]を溶媒中もしくは無溶媒で、アミノアセトアル
デヒド低級アルキルアセタール(もしくは低級アルキレ
ンアセタール)と反応させ、生成したアゾメチンを還元
し、さらに所望により、アセタールをアルデヒドに変換
し、(ii)次いで溶媒中、脱酸剤の存在もしくは非存
在下に、得られた化合物を低級アルキルスルホニルハラ
イドもしくはアリールスルホニルハライドと反応させる
ことにより実施することができる。
【0041】上記工程(i)において、化合物[II]
とアミノアセトアルデヒド低級アルキルアセタール(も
しくは低級アルキレンアセタール)との反応は、通常の
イミノ化法に従って実施することができる。溶媒として
は、反応に支障をきたさない溶媒であれば、制限がな
く、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲ
ン化脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳
香族炭化水素系溶媒、ジイソプロピルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒等を使用
することができる。
とアミノアセトアルデヒド低級アルキルアセタール(も
しくは低級アルキレンアセタール)との反応は、通常の
イミノ化法に従って実施することができる。溶媒として
は、反応に支障をきたさない溶媒であれば、制限がな
く、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲ
ン化脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳
香族炭化水素系溶媒、ジイソプロピルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒等を使用
することができる。
【0042】本反応は20〜150℃、好ましくは50
〜110℃、とりわけ50〜70℃で実施するのがよ
い。
〜110℃、とりわけ50〜70℃で実施するのがよ
い。
【0043】還元は適当な溶媒中、水素雰囲気下で触媒
を用いて接触還元を行なうか、あるいは、適当な溶媒
中、水素化金属を用いて実施することができる。
を用いて接触還元を行なうか、あるいは、適当な溶媒
中、水素化金属を用いて実施することができる。
【0044】接触還元において、触媒としては、パラジ
ウム−炭素、白金−炭素、酸化白金、ラネーニッケル等
を好適に用いることができる。
ウム−炭素、白金−炭素、酸化白金、ラネーニッケル等
を好適に用いることができる。
【0045】溶媒としては、反応に支障をきたさない溶
媒であれば制限がなく、例えば、水、メタノール、エタ
ノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン等の
芳香族炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエ
ステル系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエ
ーテル系溶媒等を使用することができる。
媒であれば制限がなく、例えば、水、メタノール、エタ
ノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン等の
芳香族炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエ
ステル系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエ
ーテル系溶媒等を使用することができる。
【0046】本反応は0〜100℃、好ましくは10〜
40℃で実施するのがよい。
40℃で実施するのがよい。
【0047】還元に用いる水素化金属としては、イミン
を還元することができ、かつ6位置換基に影響を及ぼさ
ない水素化金属であれば制限はなく、例えば、水素化ホ
ウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化シアノ
ホウ素ナトリウム等を好適に用いることができる。
を還元することができ、かつ6位置換基に影響を及ぼさ
ない水素化金属であれば制限はなく、例えば、水素化ホ
ウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化シアノ
ホウ素ナトリウム等を好適に用いることができる。
【0048】溶媒としては、反応に支障をきたさない溶
媒であれば制限がなく、例えば、水、メタノール、エタ
ノール等のアルコール系溶媒、クロロホルム、ジクロロ
メタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼ
ン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジイソプロピ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエー
テル系溶媒等を使用することができる。
媒であれば制限がなく、例えば、水、メタノール、エタ
ノール等のアルコール系溶媒、クロロホルム、ジクロロ
メタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼ
ン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジイソプロピ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエー
テル系溶媒等を使用することができる。
【0049】本反応は−20〜70℃、好ましくは0〜
30℃で実施するのがよい。
30℃で実施するのがよい。
【0050】また、所望工程であるアセタールをアルデ
ヒドに変換する工程は、常法に従って実施することがで
き、例えば溶媒中もしくは無溶媒で酸で処理することに
より実施することができる。溶媒としては反応に支障を
きたさない溶媒であれば制限がなく、例えば、アセトン
等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等
のエーテル系溶媒、メタノール等のアルコール系溶媒等
を用いることができる。また、酸としては、塩酸、硫
酸、硝酸等の鉱酸、メタンスルホン酸、p−トルエンス
ルホン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸等を用いること
ができる。また、この変換工程は工程(ii)の後に実
施してもよい。
ヒドに変換する工程は、常法に従って実施することがで
き、例えば溶媒中もしくは無溶媒で酸で処理することに
より実施することができる。溶媒としては反応に支障を
きたさない溶媒であれば制限がなく、例えば、アセトン
等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等
のエーテル系溶媒、メタノール等のアルコール系溶媒等
を用いることができる。また、酸としては、塩酸、硫
酸、硝酸等の鉱酸、メタンスルホン酸、p−トルエンス
ルホン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸等を用いること
ができる。また、この変換工程は工程(ii)の後に実
施してもよい。
【0051】上記工程(ii)において用いる低級アル
キルスルホニルハライドとしては、炭素数1から6の直
鎖もしくは分枝鎖アルキルスルホニルハライドをあげる
ことができ、具体的にはメタンスルホニルハライド、エ
タンスルホニルハライド等をあげることができる。とり
わけ、メタンスルホニルハライド等を用いて実施するこ
とが好ましい。
キルスルホニルハライドとしては、炭素数1から6の直
鎖もしくは分枝鎖アルキルスルホニルハライドをあげる
ことができ、具体的にはメタンスルホニルハライド、エ
タンスルホニルハライド等をあげることができる。とり
わけ、メタンスルホニルハライド等を用いて実施するこ
とが好ましい。
【0052】アリールスルホニルハライドとしては、置
換もしくは非置換ベンゼンスルホニルハライドをあげる
ことができ、具体的には、ベンゼンスルホニルハライ
ド、p−トルエンスルホニルハライド、p−メトキシベ
ンゼンスルホニルハライド等をあげることができる。と
りわけ、ベンゼンスルホニルハライド、p−トルエンス
ルホニルハライド等を用いて実施することが好ましい。
換もしくは非置換ベンゼンスルホニルハライドをあげる
ことができ、具体的には、ベンゼンスルホニルハライ
ド、p−トルエンスルホニルハライド、p−メトキシベ
ンゼンスルホニルハライド等をあげることができる。と
りわけ、ベンゼンスルホニルハライド、p−トルエンス
ルホニルハライド等を用いて実施することが好ましい。
【0053】脱酸剤としては、無機塩基および有機塩基
を用いることができ、無機塩基としては、炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム等の炭酸アルカリ金属類、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸水素アルカリ金
属類等を用いることができる。好ましくは、炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム等の炭酸アルカリ金属類等を用いる
のがよい。有機塩基としては、トリエチルアミン、ジイ
ソプロピルエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、
4−N,N−ジメチルアミノピリジン、ピリジン等のア
ミン類等をあげることができる。好ましくは、トリエチ
ルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等を用いるのが
よい。
を用いることができ、無機塩基としては、炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム等の炭酸アルカリ金属類、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸水素アルカリ金
属類等を用いることができる。好ましくは、炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム等の炭酸アルカリ金属類等を用いる
のがよい。有機塩基としては、トリエチルアミン、ジイ
ソプロピルエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、
4−N,N−ジメチルアミノピリジン、ピリジン等のア
ミン類等をあげることができる。好ましくは、トリエチ
ルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等を用いるのが
よい。
【0054】溶媒としては、反応に支障をきたさない溶
媒であれば、制限がなく、例えば、水、アセトン、メチ
ルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチル等のエス
テル系溶媒、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエー
テル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、クロ
ロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化脂肪族炭化水
素系溶媒等があげられるが、クロロホルム等のハロゲン
化脂肪族炭化水素系溶媒等の溶媒がとりわけ好ましい。
媒であれば、制限がなく、例えば、水、アセトン、メチ
ルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチル等のエス
テル系溶媒、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエー
テル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、クロ
ロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化脂肪族炭化水
素系溶媒等があげられるが、クロロホルム等のハロゲン
化脂肪族炭化水素系溶媒等の溶媒がとりわけ好ましい。
【0055】これらの溶媒は、単独で用いてもよいが、
必要に応じて適当な比率で二種類またはそれ以上の種類
を混合し、単相又は二相の形で使用してもよい。
必要に応じて適当な比率で二種類またはそれ以上の種類
を混合し、単相又は二相の形で使用してもよい。
【0056】本反応は0〜100℃、好ましくは20〜
60℃で実施するのがよい。
60℃で実施するのがよい。
【0057】また、所望により、低級アルキルスルホニ
ル化もしくはアリールスルホニル化の後に、アセタール
をアルデヒドに変換することもできる。本変換工程は工
程(i)で述べた方法に従って実施することができる。
ル化もしくはアリールスルホニル化の後に、アセタール
をアルデヒドに変換することもできる。本変換工程は工
程(i)で述べた方法に従って実施することができる。
【0058】さらに、本発明の方法で得られる化合物
[III]を従来技術に従った工程に付すことにより9
−ヒドロキシエリプチシンを製することができる。
[III]を従来技術に従った工程に付すことにより9
−ヒドロキシエリプチシンを製することができる。
【0059】例えば、本発明の方法で得られる化合物
[III]を特公昭59−51956号公報記載の方法
に準じた工程に付すことにより、9−ヒドロキシエリプ
チシンまたはその塩とすることもできる。すなわち、化
合物[III]の3位をホルミル化したのち、得られた
生成物にアミノアセトアルデヒドのアセタールを反応さ
せ、得られたアセタールを環化し、得られたエリプチシ
ン誘導体を加水分解して9−ヒドロキシエリプチシンを
製し、さらに所望によりその塩とすることにより、9−
ヒドロキシエリプチシンまたはその塩を製することがで
きる。
[III]を特公昭59−51956号公報記載の方法
に準じた工程に付すことにより、9−ヒドロキシエリプ
チシンまたはその塩とすることもできる。すなわち、化
合物[III]の3位をホルミル化したのち、得られた
生成物にアミノアセトアルデヒドのアセタールを反応さ
せ、得られたアセタールを環化し、得られたエリプチシ
ン誘導体を加水分解して9−ヒドロキシエリプチシンを
製し、さらに所望によりその塩とすることにより、9−
ヒドロキシエリプチシンまたはその塩を製することがで
きる。
【0060】反応に必要な条件及び試薬としては、特公
昭59−51956号公報に記載された反応条件及び試
薬を用いることができる。化合物[III]を芳香族環
にホルミル基を導入するホルミル化剤(例えばN−メチ
ルホルムアニリド及びオキシ塩化リン)と反応させて、
3−ホルミルカルバゾール誘導体を生成し、得られた生
成物にアミノアセトアルデヒドのアセタール(例えばア
ミノアセトアルデヒドジメチルアセタール)を反応さ
せ、このようにして得られたアセタールに無水リン酸お
よびリン酸の混合物を反応させ環化して9−低級アルカ
ノイルオキシエリプチシンもしくは9−アリールカルボ
ニルオキシエリプチシンを生成し、得られた9−アシル
オキシエリプチシン誘導体を酸またはアルカリで加水分
解して9−ヒドロキシエリプチシンを製し、さらに所望
によりその塩とすることにより、9−ヒドロキシエリプ
チシンまたはその塩を製することができる。
昭59−51956号公報に記載された反応条件及び試
薬を用いることができる。化合物[III]を芳香族環
にホルミル基を導入するホルミル化剤(例えばN−メチ
ルホルムアニリド及びオキシ塩化リン)と反応させて、
3−ホルミルカルバゾール誘導体を生成し、得られた生
成物にアミノアセトアルデヒドのアセタール(例えばア
ミノアセトアルデヒドジメチルアセタール)を反応さ
せ、このようにして得られたアセタールに無水リン酸お
よびリン酸の混合物を反応させ環化して9−低級アルカ
ノイルオキシエリプチシンもしくは9−アリールカルボ
ニルオキシエリプチシンを生成し、得られた9−アシル
オキシエリプチシン誘導体を酸またはアルカリで加水分
解して9−ヒドロキシエリプチシンを製し、さらに所望
によりその塩とすることにより、9−ヒドロキシエリプ
チシンまたはその塩を製することができる。
【0061】本発明の方法によって得られる9−ヒドロ
キシエリプチシン又はその塩は、公知の方法に従って一
般式[V]
キシエリプチシン又はその塩は、公知の方法に従って一
般式[V]
【0062】
【化15】
【0063】(式中、R6は置換基を有していてもよい
低級アルキル基、置換基を有していてもよい低級アルコ
キシ基、あるいは複素単環式基を表す。)で示されるエ
リプチシン誘導体とし、所望によりその薬理的に許容し
うる塩とすることができる。
低級アルキル基、置換基を有していてもよい低級アルコ
キシ基、あるいは複素単環式基を表す。)で示されるエ
リプチシン誘導体とし、所望によりその薬理的に許容し
うる塩とすることができる。
【0064】すなわち、例えば特開平6−279441
号に記載された方法に従って、9−ヒドロキシエリプチ
シンまたはその塩を、一般式 R61COOH (式中、R61は、置換基を有していてもよい低級アルキ
ル基、置換基を有していてもよい低級アルコキシ基、あ
るいは複素単環式基であり、該置換基がアミノ基、カル
ボキシル基または水酸基を有するとき、それらは保護さ
れていてもよい。)で示される化合物、その塩、または
その反応性誘導体と反応させ、要すれば保護基を除去
し、更に所望により生成物をその薬理的に許容し得る塩
とすることにより、化合物[V]を製することができ
る。
号に記載された方法に従って、9−ヒドロキシエリプチ
シンまたはその塩を、一般式 R61COOH (式中、R61は、置換基を有していてもよい低級アルキ
ル基、置換基を有していてもよい低級アルコキシ基、あ
るいは複素単環式基であり、該置換基がアミノ基、カル
ボキシル基または水酸基を有するとき、それらは保護さ
れていてもよい。)で示される化合物、その塩、または
その反応性誘導体と反応させ、要すれば保護基を除去
し、更に所望により生成物をその薬理的に許容し得る塩
とすることにより、化合物[V]を製することができ
る。
【0065】かかる薬理的に許容しうる塩としては、鉱
酸との塩(例えば、塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩、臭化水
素酸塩)もしくは有機酸との塩(例えば、メタンスルホ
ン酸塩、酢酸塩、フマル酸塩、マレイン酸塩、シュウ酸
塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸
塩)が挙げられる。
酸との塩(例えば、塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩、臭化水
素酸塩)もしくは有機酸との塩(例えば、メタンスルホ
ン酸塩、酢酸塩、フマル酸塩、マレイン酸塩、シュウ酸
塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸
塩)が挙げられる。
【0066】上記化合物[V]の製法において、R6と
しては、低級アルコキシ基置換低級アルキル基又は保護
されていてもよいカルボキシル基置換低級アルキル基で
あるか、あるいはR6CO−として保護されていてもよ
いアミノ酸の残基を形成する基が好ましく、とりわけ、
R6が3−カルボキシプロピル基等のカルボキシル基置
換低級アルキル基が好ましい。また、カルボキシル基の
保護基としては、ベンジル基等の慣用の保護基を用いる
ことができる。
しては、低級アルコキシ基置換低級アルキル基又は保護
されていてもよいカルボキシル基置換低級アルキル基で
あるか、あるいはR6CO−として保護されていてもよ
いアミノ酸の残基を形成する基が好ましく、とりわけ、
R6が3−カルボキシプロピル基等のカルボキシル基置
換低級アルキル基が好ましい。また、カルボキシル基の
保護基としては、ベンジル基等の慣用の保護基を用いる
ことができる。
【0067】また本発明の方法によって得られた9−ヒ
ドロキシエリプチシン又はその塩は、公知の方法に従っ
て一般式[VI]
ドロキシエリプチシン又はその塩は、公知の方法に従っ
て一般式[VI]
【0068】
【化16】
【0069】(式中、R7は低級アルキル基、A(-)は薬
理的に許容しうるアニオンを表す。)で示される2−ア
ルキル−9−ヒドロキシエリプチシン誘導体とすること
ができる。
理的に許容しうるアニオンを表す。)で示される2−ア
ルキル−9−ヒドロキシエリプチシン誘導体とすること
ができる。
【0070】すなわち例えば特公昭59−51956号
に記載された方法に従って、9−ヒドロキシエリプチシ
ンを低級アルキルハライドと反応させ、9−ヒドロキシ
エリプチシンの2位に低級アルキル基を導入し、所望に
よりハロゲンイオンを他の薬理的に許容し得るアニオン
に変換することができる。
に記載された方法に従って、9−ヒドロキシエリプチシ
ンを低級アルキルハライドと反応させ、9−ヒドロキシ
エリプチシンの2位に低級アルキル基を導入し、所望に
よりハロゲンイオンを他の薬理的に許容し得るアニオン
に変換することができる。
【0071】かかる薬理的に許容しうるアニオンとして
は、無機酸もしくは有機酸の共役塩基があげられ、具体
例としては、塩素イオン、臭素イオン等のハロゲンイオ
ン、硫酸イオン、リン酸イオン、メタンスルホン酸イオ
ン、酢酸イオン、フマル酸イオン、マレイン酸イオン、
シュウ酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、p−トル
エンスルホン酸イオン等が挙げられる。
は、無機酸もしくは有機酸の共役塩基があげられ、具体
例としては、塩素イオン、臭素イオン等のハロゲンイオ
ン、硫酸イオン、リン酸イオン、メタンスルホン酸イオ
ン、酢酸イオン、フマル酸イオン、マレイン酸イオン、
シュウ酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、p−トル
エンスルホン酸イオン等が挙げられる。
【0072】とりわけ、R7としてはメチル基、A(-)と
しては酢酸イオンが好ましい。
しては酢酸イオンが好ましい。
【0073】また原料化合物[IV]は、例えば特開平
2−279671号公報記載の方法に従い製することが
できる。
2−279671号公報記載の方法に従い製することが
できる。
【0074】本明細書において、アルキル基としては、
炭素数1から21の直鎖もしくは分枝鎖アルキル基また
は炭素数3から6の環状アルキル基が、低級アルキル基
としては、炭素数が1から6の直鎖もしくは分枝鎖アル
キル基または炭素数3から6の環状アルキル基があげら
れる。低級アルコキシ基としては、炭素数が1から6の
直鎖もしくは分枝鎖アルコキシ基または炭素数3から6
の環状アルコキシ基があげられる。低級アルキレン基と
しては、炭素数2から6の直鎖もしくは分枝鎖アルキレ
ン基があげられる。アルカノイル基としては、炭素数が
2から22の直鎖もしくは分枝鎖アルカノイル基または
炭素数4から7の環状アルカンカルボニル基が、低級ア
ルカノイル基としては、炭素数が2から7の直鎖もしく
は分枝鎖アルカノイル基または炭素数4から7の環状ア
ルカンカルボニル基があげられる。ハロゲンとしては、
塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨウ素原子等が挙げ
られる。アリール基としては、置換もしくは非置換フェ
ニル基があげられ、複素単環式基としては、チアゾリル
基、イソチアゾリル基、チアゾリジニル基等の窒素原子
及び硫黄原子から選ばれる1から3個の異項原子を含む
5員もしくは6員の複素環式基があげられる。
炭素数1から21の直鎖もしくは分枝鎖アルキル基また
は炭素数3から6の環状アルキル基が、低級アルキル基
としては、炭素数が1から6の直鎖もしくは分枝鎖アル
キル基または炭素数3から6の環状アルキル基があげら
れる。低級アルコキシ基としては、炭素数が1から6の
直鎖もしくは分枝鎖アルコキシ基または炭素数3から6
の環状アルコキシ基があげられる。低級アルキレン基と
しては、炭素数2から6の直鎖もしくは分枝鎖アルキレ
ン基があげられる。アルカノイル基としては、炭素数が
2から22の直鎖もしくは分枝鎖アルカノイル基または
炭素数4から7の環状アルカンカルボニル基が、低級ア
ルカノイル基としては、炭素数が2から7の直鎖もしく
は分枝鎖アルカノイル基または炭素数4から7の環状ア
ルカンカルボニル基があげられる。ハロゲンとしては、
塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨウ素原子等が挙げ
られる。アリール基としては、置換もしくは非置換フェ
ニル基があげられ、複素単環式基としては、チアゾリル
基、イソチアゾリル基、チアゾリジニル基等の窒素原子
及び硫黄原子から選ばれる1から3個の異項原子を含む
5員もしくは6員の複素環式基があげられる。
【0075】また、エリプチシンとは、5,11−ジメ
チル−6H−ピリド[4,3−b]カルバゾ−ルであ
り、下式の構造を有する。
チル−6H−ピリド[4,3−b]カルバゾ−ルであ
り、下式の構造を有する。
【0076】
【化17】
【0077】以下、実施例により具体的に説明するが、
本発明はこれらによって限定されるものではない。
本発明はこれらによって限定されるものではない。
【0078】
実施例1 (1)6−メトキシ−1,4−ジメチルカルバゾール2
6.0kg及びヨウ化ナトリウム34.6kgをアセト
ニトリル103kgに加える。さらに塩化ピバロイル2
0.9kgを加え、反応混合物を約1時間加熱還流す
る。反応液を冷却後、酢酸エチルを加え、撹拌する。有
機層を水洗後、チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、水
洗、撹拌した後、有機層を分取する。有機層を炭酸水素
ナトリウム水溶液、さらに飽和食塩水で洗浄後、硫酸マ
グネシウムで乾燥する。溶媒を減圧下留去し、残渣をイ
ソプロパノールと水との混液から再結晶して、6−ピバ
ロイルオキシ−1,4−ジメチルカルバゾール30.0
kgを得る。
6.0kg及びヨウ化ナトリウム34.6kgをアセト
ニトリル103kgに加える。さらに塩化ピバロイル2
0.9kgを加え、反応混合物を約1時間加熱還流す
る。反応液を冷却後、酢酸エチルを加え、撹拌する。有
機層を水洗後、チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、水
洗、撹拌した後、有機層を分取する。有機層を炭酸水素
ナトリウム水溶液、さらに飽和食塩水で洗浄後、硫酸マ
グネシウムで乾燥する。溶媒を減圧下留去し、残渣をイ
ソプロパノールと水との混液から再結晶して、6−ピバ
ロイルオキシ−1,4−ジメチルカルバゾール30.0
kgを得る。
【0079】IR(Nujol):3400,1740
(cm-1) MS(m/z):295(M+)1 H−NMR(CDCl3,δ):1.43(9H,
s),2.49(3H,s),2.74(3H,s),
6.88(1H,d,J=7Hz),7.04(1H,
dd,J=2,9Hz),7.10(1H,d,J=7
Hz),7.34(1H,d,J=9Hz),7.72
(1H,d,J=2Hz),8.05(1H,br
s)。
(cm-1) MS(m/z):295(M+)1 H−NMR(CDCl3,δ):1.43(9H,
s),2.49(3H,s),2.74(3H,s),
6.88(1H,d,J=7Hz),7.04(1H,
dd,J=2,9Hz),7.10(1H,d,J=7
Hz),7.34(1H,d,J=9Hz),7.72
(1H,d,J=2Hz),8.05(1H,br
s)。
【0080】(2)トルエン22.6kgに撹拌しなが
ら、N−メチルホルムアニリド17.8kg及びオキシ
塩化リン20.2kgを加え、25〜35℃で約1時間
撹拌する。反応液にトルエン313kg及び6−ピバロ
イルオキシ−1,4−ジメチルカルバゾール26.0k
gを加えた後、約6時間加熱還流する。反応液からトル
エンを減圧下留去し、残渣をアセトンと水との混液から
再結晶して、3−ホルミル−6−ピバロイルオキシ−
1,4−ジメチルカルバゾール28.0kgを得る。
ら、N−メチルホルムアニリド17.8kg及びオキシ
塩化リン20.2kgを加え、25〜35℃で約1時間
撹拌する。反応液にトルエン313kg及び6−ピバロ
イルオキシ−1,4−ジメチルカルバゾール26.0k
gを加えた後、約6時間加熱還流する。反応液からトル
エンを減圧下留去し、残渣をアセトンと水との混液から
再結晶して、3−ホルミル−6−ピバロイルオキシ−
1,4−ジメチルカルバゾール28.0kgを得る。
【0081】IR(Nujol):1750,1680
(cm-1) MS(m/z):323(M+)1 H−NMR(DMSO−d6,δ):1.37(9H,
s),2.56(3H,s),3.08(3H,s),
7.18(1H,dd,J=2,9Hz),7.59
(1H,d,J=9Hz),7.69(1H,s),
7.90(1H,d,J=2Hz),10.36(1
H,s),11.80(1H,s)。
(cm-1) MS(m/z):323(M+)1 H−NMR(DMSO−d6,δ):1.37(9H,
s),2.56(3H,s),3.08(3H,s),
7.18(1H,dd,J=2,9Hz),7.59
(1H,d,J=9Hz),7.69(1H,s),
7.90(1H,d,J=2Hz),10.36(1
H,s),11.80(1H,s)。
【0082】(3)クロロホルム201kgに撹拌しな
がら、3−ホルミル−6−ピバロイルオキシ−1,4−
ジメチルカルバゾール27.0kg及びアミノアセトア
ルデヒドジエチルアセタール12.2kgを加え、約1
時間加熱還流する。冷却後、メタノール31.6kgを
加える。反応液を冷却し、20℃以下に保ちながら、水
素化ホウ素ナトリウム1.6kgを加える。15〜20
℃で30分間撹拌後、反応液にクロロホルム及び水を加
え、有機層を分取した後、水層から更にクロロホルムで
抽出する。有機層を合わせ、水136kg、無水炭酸カ
リウム17.4kg及びp−トルエンスルホニルクロリ
ド16.7kgを加えた後、40〜50℃で約1時間撹
拌する。反応液を冷却し、有機層を分取する。有機層を
濃縮後、残渣にトルエンを加え析出する結晶を遠心分離
して、3−[N−トシル−N−(2,2−ジエトキシエ
チル)アミノメチル]−6−ピバロイルオキシ−1,4
−ジメチルカルバゾール42.2kgを得る。
がら、3−ホルミル−6−ピバロイルオキシ−1,4−
ジメチルカルバゾール27.0kg及びアミノアセトア
ルデヒドジエチルアセタール12.2kgを加え、約1
時間加熱還流する。冷却後、メタノール31.6kgを
加える。反応液を冷却し、20℃以下に保ちながら、水
素化ホウ素ナトリウム1.6kgを加える。15〜20
℃で30分間撹拌後、反応液にクロロホルム及び水を加
え、有機層を分取した後、水層から更にクロロホルムで
抽出する。有機層を合わせ、水136kg、無水炭酸カ
リウム17.4kg及びp−トルエンスルホニルクロリ
ド16.7kgを加えた後、40〜50℃で約1時間撹
拌する。反応液を冷却し、有機層を分取する。有機層を
濃縮後、残渣にトルエンを加え析出する結晶を遠心分離
して、3−[N−トシル−N−(2,2−ジエトキシエ
チル)アミノメチル]−6−ピバロイルオキシ−1,4
−ジメチルカルバゾール42.2kgを得る。
【0083】FAB−MS(+NaCl)(m/z):
617([M+Na]+)1 H−NMR(CDCl3,δ):1.06(6H,t,
J=7Hz),1.43(9H,s),2.37(3
H,s),2.39(3H,s),2.71(3H,
s),3.19(2H,d,J=6Hz),3.3−
3.5(4H,m),4.43(1H,t,J=6H
z),4.65(2H,s),6.96(1H,s),
7.05(1H,dd,J=2,9Hz),7.26
(2H,d,J=8Hz),7.35(1H,d,J=
9Hz),7.73(2H,d,J=8Hz),7.7
6(1H,d,J=2Hz),8.07(1H,s)。
617([M+Na]+)1 H−NMR(CDCl3,δ):1.06(6H,t,
J=7Hz),1.43(9H,s),2.37(3
H,s),2.39(3H,s),2.71(3H,
s),3.19(2H,d,J=6Hz),3.3−
3.5(4H,m),4.43(1H,t,J=6H
z),4.65(2H,s),6.96(1H,s),
7.05(1H,dd,J=2,9Hz),7.26
(2H,d,J=8Hz),7.35(1H,d,J=
9Hz),7.73(2H,d,J=8Hz),7.7
6(1H,d,J=2Hz),8.07(1H,s)。
【0084】(4)テトラヒドロフラン196kgに撹
拌しながら、3−[N−トシル−N−(2,2−ジエト
キシエチル)アミノメチル]−6−ピバロイルオキシ−
1,4−ジメチルカルバゾール30.0kg及び濃塩酸
63.1kgを加える。反応液を約9時間加熱還流した
後、冷却し、アセトン174kgを加え、遠心分離処理
して、9−ヒドロキシエリプチシン塩酸塩11.0kg
を得る。
拌しながら、3−[N−トシル−N−(2,2−ジエト
キシエチル)アミノメチル]−6−ピバロイルオキシ−
1,4−ジメチルカルバゾール30.0kg及び濃塩酸
63.1kgを加える。反応液を約9時間加熱還流した
後、冷却し、アセトン174kgを加え、遠心分離処理
して、9−ヒドロキシエリプチシン塩酸塩11.0kg
を得る。
【0085】IR(Nujol):3200(cm-1) MS(m/z):262(M+)1 H−NMR(DMSO−d6,δ):2.73(3H,
s),3.17(3H,s),7.13(1H,dd,
J=2,9Hz),7.45(1H,d,J=9H
z),7.75(1H,d,J=2Hz),8.29
(1H,d,J=7Hz),8.34(1H,d,J=
7Hz),9.45(1H,brs),9.80(1
H,s),11.93(1H,s)。
s),3.17(3H,s),7.13(1H,dd,
J=2,9Hz),7.45(1H,d,J=9H
z),7.75(1H,d,J=2Hz),8.29
(1H,d,J=7Hz),8.34(1H,d,J=
7Hz),9.45(1H,brs),9.80(1
H,s),11.93(1H,s)。
【0086】参考例1 (1)アセトン80mlに9−ヒドロキシエリプチシン
1.31g、無水炭酸カリウム6.9gを加え、撹拌
下、メトキシ酢酸クロリド815mgを滴下する。室温
で5時間撹拌後、ジメチルホルムアミド20mlを加
え、撹拌後、濾過し、濾液を減圧下濃縮する。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒;クロロホル
ム−メタノール)で精製して、9−メトキシアセトキシ
エリプチシン823mgを得る。
1.31g、無水炭酸カリウム6.9gを加え、撹拌
下、メトキシ酢酸クロリド815mgを滴下する。室温
で5時間撹拌後、ジメチルホルムアミド20mlを加
え、撹拌後、濾過し、濾液を減圧下濃縮する。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒;クロロホル
ム−メタノール)で精製して、9−メトキシアセトキシ
エリプチシン823mgを得る。
【0087】(2)本品823mgをクロロホルム−メ
タノール(1:1)混液100mlに溶解し、メタンス
ルホン酸260mgを加え、10分間撹拌後、減圧下で
溶媒を留去し、残渣にエーテルを加え析出した粉末を濾
取し、洗浄、乾燥して9−メトキシアセトキシエリプチ
シンのメタンスルホン酸塩988mgを得る。
タノール(1:1)混液100mlに溶解し、メタンス
ルホン酸260mgを加え、10分間撹拌後、減圧下で
溶媒を留去し、残渣にエーテルを加え析出した粉末を濾
取し、洗浄、乾燥して9−メトキシアセトキシエリプチ
シンのメタンスルホン酸塩988mgを得る。
【0088】FAB−MS(m/z):335(M
H+)1 H−NMR(DMSO−d6,δ):2.40(3H,
s),2.79(3H,s),3.21(3H,s),
3.48(3H,s)4.45(2H,s),7.43
(1H,dd,J=2.0,8.8Hz),7.63
(1H,d,J=8.8Hz),8.18(1H,d,
J=2Hz),8.39(2H,m),9.84(1
H,s),11.81(1H,NH),15.1(1
H,brs)。
H+)1 H−NMR(DMSO−d6,δ):2.40(3H,
s),2.79(3H,s),3.21(3H,s),
3.48(3H,s)4.45(2H,s),7.43
(1H,dd,J=2.0,8.8Hz),7.63
(1H,d,J=8.8Hz),8.18(1H,d,
J=2Hz),8.39(2H,m),9.84(1
H,s),11.81(1H,NH),15.1(1
H,brs)。
【0089】参考例2 (1)ジメチルホルムアミド60mlに2−メトキシプ
ロピオン酸500mg、1−ヒドロキシベンゾトリアゾ
ール648mgおよびジシクロヘキシルカルボジイミド
1.19gを加え、室温で4時間撹拌する。ついで9−
ヒドロキシエリプチシン・塩酸塩1.20g、トリエチ
ルアミン486mgを加え、室温下一晩撹拌する。反応
液に酢酸エチル300mlを加え、撹拌後、不溶物を濾
去する。濾液を2%炭酸カリウム水溶液、飽和食塩水で
洗浄後、乾燥し、減圧下で濃縮する。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶媒;クロロホルム−メタ
ノール)で精製して、9−(2−メトキシプロピオニル
オキシ)エリプチシン960mgを得る。
ロピオン酸500mg、1−ヒドロキシベンゾトリアゾ
ール648mgおよびジシクロヘキシルカルボジイミド
1.19gを加え、室温で4時間撹拌する。ついで9−
ヒドロキシエリプチシン・塩酸塩1.20g、トリエチ
ルアミン486mgを加え、室温下一晩撹拌する。反応
液に酢酸エチル300mlを加え、撹拌後、不溶物を濾
去する。濾液を2%炭酸カリウム水溶液、飽和食塩水で
洗浄後、乾燥し、減圧下で濃縮する。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶媒;クロロホルム−メタ
ノール)で精製して、9−(2−メトキシプロピオニル
オキシ)エリプチシン960mgを得る。
【0090】(2)本品960mgとメタンスルホン酸
264mgを用い、参考例1−(2)と同様に反応処理
することにより、9−(2−メトキシプロピオニルオキ
シ)エリプチシンのメタンスルホン酸塩1178mgを
得る。
264mgを用い、参考例1−(2)と同様に反応処理
することにより、9−(2−メトキシプロピオニルオキ
シ)エリプチシンのメタンスルホン酸塩1178mgを
得る。
【0091】FAB−MS(m/z):349(M
H+)1 H−NMR(DMSO−d6,δ):1.56(3H,
d,J=6.8Hz),2.39(3H,s),2.7
8(3H,s),3.21(3H,s),3.48(3
H,s),4.31(1H,q,J=6.8Hz),
7.41(1H,dd,J=2.2,8.6Hz),
7.63(1H,d,J=8.6Hz),8.13(1
H,d,J=2.2Hz),8.36(1H,d,J=
7.1Hz),8.42(1H,d,J=7.1H
z),9.90(1H,s),12.11(1H,N
H)。
H+)1 H−NMR(DMSO−d6,δ):1.56(3H,
d,J=6.8Hz),2.39(3H,s),2.7
8(3H,s),3.21(3H,s),3.48(3
H,s),4.31(1H,q,J=6.8Hz),
7.41(1H,dd,J=2.2,8.6Hz),
7.63(1H,d,J=8.6Hz),8.13(1
H,d,J=2.2Hz),8.36(1H,d,J=
7.1Hz),8.42(1H,d,J=7.1H
z),9.90(1H,s),12.11(1H,N
H)。
【0092】参考例3 (1)ジメチルホルムアミド140mlにグルタール酸
モノベンジルエステル2.14g、1−ヒドロキシベン
ゾトリアゾール1.30g、ジシクロヘキシルカルボジ
イミド2.38gを加え、室温で4時間撹拌する。つい
で9−ヒドロキシエリプチシン2.10gを加え、室温
で一晩撹拌する。以下参考例2−(1)と同様に処理す
ることにより、9−[4−(ベンジルオキシカルボニ
ル)ブチリルオキシ]エリプチシン2.25gを得る。
モノベンジルエステル2.14g、1−ヒドロキシベン
ゾトリアゾール1.30g、ジシクロヘキシルカルボジ
イミド2.38gを加え、室温で4時間撹拌する。つい
で9−ヒドロキシエリプチシン2.10gを加え、室温
で一晩撹拌する。以下参考例2−(1)と同様に処理す
ることにより、9−[4−(ベンジルオキシカルボニ
ル)ブチリルオキシ]エリプチシン2.25gを得る。
【0093】FAB−MS(m/z):467(M
H+)1 H−NMR(DMSO−d6,δ):1.99(2H,
m),2.56(2H,t,J=7Hz),2.72
(2H,t,J=7Hz),2.79(3H,s),
3.21(3H,s),5.14(2H,s),7.2
9(1H,dd,J=2.1,8.6Hz),7.39
(5H,m),7.56(1H,d,J=8.6H
z),7.93(1H,d,J=6.0Hz),8.1
1(1H,d,J=2.1Hz),8.44(1H,
d,J=6.0Hz),9.7(1H,s)。
H+)1 H−NMR(DMSO−d6,δ):1.99(2H,
m),2.56(2H,t,J=7Hz),2.72
(2H,t,J=7Hz),2.79(3H,s),
3.21(3H,s),5.14(2H,s),7.2
9(1H,dd,J=2.1,8.6Hz),7.39
(5H,m),7.56(1H,d,J=8.6H
z),7.93(1H,d,J=6.0Hz),8.1
1(1H,d,J=2.1Hz),8.44(1H,
d,J=6.0Hz),9.7(1H,s)。
【0094】(2)本品1.18gとメタンスルホン酸
243mgを50%メタノール水溶液70mlに溶解
し、10%−パラジウム炭素1gを加え、常温常圧下で
接触還元を行う。反応液を濾過し、濾液を減圧下で濃縮
し、残渣にエタノール−アセトン(1:10)を加え
る。析出した粉末を濾取し、乾燥することにより9−
(4−カルボキシブチリルオキシ)エリプチシンのメタ
ンスルホン酸塩592mgを得る。
243mgを50%メタノール水溶液70mlに溶解
し、10%−パラジウム炭素1gを加え、常温常圧下で
接触還元を行う。反応液を濾過し、濾液を減圧下で濃縮
し、残渣にエタノール−アセトン(1:10)を加え
る。析出した粉末を濾取し、乾燥することにより9−
(4−カルボキシブチリルオキシ)エリプチシンのメタ
ンスルホン酸塩592mgを得る。
【0095】FAB−MS(m/z):377(M
H+)1 H−NMR(DMSO−d6,δ):1.95(2H,
m),2.39(3H,s),2.43(2H,m),
2.74(2H,m),2.77(3H,s),3.1
9(3H,s),7.38(1H,dd,J=2.0,
8.8Hz),7.60(1H,d,J=8.8H
z),8.11(1H,d,J=2.0Hz),8.3
4(1H,t,J=7Hz),8.40(1H,d,J
=7Hz),9.87(1H,s),12.07(1
H,s),15.0(2H,brs)。
H+)1 H−NMR(DMSO−d6,δ):1.95(2H,
m),2.39(3H,s),2.43(2H,m),
2.74(2H,m),2.77(3H,s),3.1
9(3H,s),7.38(1H,dd,J=2.0,
8.8Hz),7.60(1H,d,J=8.8H
z),8.11(1H,d,J=2.0Hz),8.3
4(1H,t,J=7Hz),8.40(1H,d,J
=7Hz),9.87(1H,s),12.07(1
H,s),15.0(2H,brs)。
【0096】参考例4 (1)N−(t−ブトキシカルボニル)ザルコシン91
8mg、9−ヒドロキシエリプチシン918mgを参考
例3−(1)と同様に反応処理し、9−(N−t−ブト
キシカルボニル−N−メチルアミノアセトキシ)エリプ
チシン1.05gを得る。
8mg、9−ヒドロキシエリプチシン918mgを参考
例3−(1)と同様に反応処理し、9−(N−t−ブト
キシカルボニル−N−メチルアミノアセトキシ)エリプ
チシン1.05gを得る。
【0097】FAB−MS(m/z):434(M
H+)1 H−NMR(DMSO−d6,δ):1.46(9H,
s),2.79(3H,s),2.98(3H,m),
3.21(3H,s),4.32(2H,m),7.3
1(1H,m),7.60(1H,m),7.93(1
H,d,J=6.0Hz),8.09(1H,m),
8.44(1H,d,J=6.0Hz),9.7(1
H,s),11.5(1H,brs)。
H+)1 H−NMR(DMSO−d6,δ):1.46(9H,
s),2.79(3H,s),2.98(3H,m),
3.21(3H,s),4.32(2H,m),7.3
1(1H,m),7.60(1H,m),7.93(1
H,d,J=6.0Hz),8.09(1H,m),
8.44(1H,d,J=6.0Hz),9.7(1
H,s),11.5(1H,brs)。
【0098】(2)本品1.00gをジオキサン10m
lに加え、さらに氷冷撹拌下、15%塩酸−ジオキサン
溶液5mlを加える。反応液を室温で3時間撹拌後エー
テル100mlを加え、不溶物を濾取し、洗浄、乾燥す
ることにより、9−メチルアミノアセトキシエリプチシ
ンの2塩酸塩851mgを得る。
lに加え、さらに氷冷撹拌下、15%塩酸−ジオキサン
溶液5mlを加える。反応液を室温で3時間撹拌後エー
テル100mlを加え、不溶物を濾取し、洗浄、乾燥す
ることにより、9−メチルアミノアセトキシエリプチシ
ンの2塩酸塩851mgを得る。
【0099】FAB−MS(m/z):334(M
H+)1 H−NMR(DMSO−d6,δ):1.88(3H,
s),2.01(3H,s),2.99(3H,s),
4.38(2H,s),6.57(1H,d,J=8.
8Hz),6.79(1H,dd,J=2.0,8.8
Hz),7.02(1H,d,J=2.0Hz),7.
35(1H,d,J=6.8Hz),7.57(1H,
d,J=6.8Hz),8.44(1H,s)。
H+)1 H−NMR(DMSO−d6,δ):1.88(3H,
s),2.01(3H,s),2.99(3H,s),
4.38(2H,s),6.57(1H,d,J=8.
8Hz),6.79(1H,dd,J=2.0,8.8
Hz),7.02(1H,d,J=2.0Hz),7.
35(1H,d,J=6.8Hz),7.57(1H,
d,J=6.8Hz),8.44(1H,s)。
【0100】
【発明の効果】本発明の方法によれば、6位水酸基をア
シル基で保護したアセタール[I]またはそのアルデヒ
ド変換体を酸で処理することにより、保護基の除去と閉
環を単一操作で行ない、酸化されやすく、不安定で精製
が難しい9−ヒドロキシエリプチシンを収率よく効率的
に製することができる。
シル基で保護したアセタール[I]またはそのアルデヒ
ド変換体を酸で処理することにより、保護基の除去と閉
環を単一操作で行ない、酸化されやすく、不安定で精製
が難しい9−ヒドロキシエリプチシンを収率よく効率的
に製することができる。
【0101】また本発明によれば、6−低級アルコキシ
カルバゾール誘導体から、9−ヒドロキシエリプチシン
の合成中間体である6−(アルカノイルオキシまたはア
リールカルボニルオキシ)カルバゾール誘導体を一工程
で製造することができる。
カルバゾール誘導体から、9−ヒドロキシエリプチシン
の合成中間体である6−(アルカノイルオキシまたはア
リールカルボニルオキシ)カルバゾール誘導体を一工程
で製造することができる。
【0102】さらに本発明によれば、6−低級アルコキ
シカルバゾール誘導体から、短工程で、しかも収率よく
9−ヒドロキシエリプチシンを得ることができる。
シカルバゾール誘導体から、短工程で、しかも収率よく
9−ヒドロキシエリプチシンを得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 近藤 一彦 大阪府大阪市西淀川区歌島3丁目8番1− 810 (72)発明者 藤井 宏 山口県宇部市厚南区東際波台4丁目2番地 6号
Claims (16)
- 【請求項1】 一般式[I] 【化1】 (式中、R1はアルキル基又はアリール基、R2は低級ア
ルキル基又はアリール基、R3及びR4は同一または異な
って置換基を有していてもよい低級アルキル基である
か、または互いに末端で結合して置換基を有していても
よい低級アルキレン基を形成していることを表わす。)
で示されるアセタール又はそのアルデヒド変換体を酸で
処理することにより一工程で9−ヒドロキシエリプチシ
ンを製し、さらに所望によりその塩とすることを特徴と
する9−ヒドロキシエリプチシン又はその塩の製法。 - 【請求項2】 一般式[IV] 【化2】 (式中、R5は低級アルキル基を表わす。)で示される
6−低級アルコキシカルバゾール誘導体の6位置換基を
脱アルキル化及びアルカノイル化もしくはアリールカル
ボニル化を一工程で行うことを特徴とする一般式[II
I] 【化3】 (式中、R1はアルキル基又はアリール基を表わす。)
で示されるカルバゾール誘導体の製法。 - 【請求項3】 請求項2記載の方法で得られた一般式
[III] 【化4】 (式中、R1はアルキル基又はアリール基を表わす。)
で示されるカルバゾール誘導体の3位をホルミル化し、
得られる一般式[II] 【化5】 (式中、記号は前記と同一意味を有する。)で示される
3−ホルミルカルバゾール誘導体のホルミル基をアセタ
ール化されていてもよいホルミルメチルアミノメチル基
に変換した後、さらにアミノ基を低級アルキルスルホニ
ル化又はアリールスルホニル化して得られる一般式
[I] 【化6】 (式中、R2は低級アルキル基又はアリール基、R3及び
R4は同一または異なって置換基を有していてもよい低
級アルキル基であるか、または互いに末端で結合して置
換基を有していてもよい低級アルキレン基を形成してい
ることを表わし、他の記号は前記と同一意味を有す
る。)で示されるアセタール又はそのアルデヒド変換体
を酸で処理することにより一工程で9−ヒドロキシエリ
プチシンを製し、さらに所望によりその塩とすることを
特徴とする9−ヒドロキシエリプチシン又はその塩の製
法。 - 【請求項4】 酸が鉱酸である請求項1又は3記載の方
法。 - 【請求項5】 酸が塩酸、臭化水素酸又は硫酸である請
求項4記載の方法。 - 【請求項6】 アセタール化合物[I]又はそのアルデ
ヒド変換体を酸で処理する際に用いる溶媒がエーテル系
溶媒又はケトン系溶媒である請求項1、3、4又は5記
載の方法。 - 【請求項7】 R1が低級アルキル基であり、R3及びR
4が低級アルキル基である請求項1、3、4、5又は6
記載の方法。 - 【請求項8】 R1が低級アルキル基である請求項2記
載の方法。 - 【請求項9】 請求項2記載の方法によって得られた一
般式[III] 【化7】 (式中、R1はアルキル基又はアリール基を表わす。)
で示されるカルバゾール誘導体の3位をホルミル化した
のち、得られた生成物にアミノアセトアルデヒドのアセ
タールを反応させ、得られたアセタール化合物を環化
し、得られたエリプチシン誘導体を加水分解して9−ヒ
ドロキシエリプチシンを製し、さらに所望によりその塩
とすることを特徴とする9−ヒドロキシエリプチシン又
はその塩の製法。 - 【請求項10】 請求項1、3、4、5、6又は7記載
の方法によって得られる9−ヒドロキシエリプチシン又
はその塩を公知の方法に従って一般式[V] 【化8】 (式中、R6は置換基を有していてもよい低級アルキル
基、置換基を有していてもよい低級アルコキシ基、ある
いは複素単環式基を表わす。)で示される化合物もしく
は所望によりその薬理的に許容しうる塩に変換すること
を特徴とするエリプチシン誘導体又はその薬理的に許容
し得る塩の製法。 - 【請求項11】 R6が保護されていてもよいカルボキ
シル基置換低級アルキル基であるか、R6CO−として
保護されていてもよいアミノ酸残基を形成する基である
請求項10記載の方法。 - 【請求項12】 R6がカルボキシル基置換低級アルキ
ル基である請求項11記載の方法。 - 【請求項13】 R6が3−カルボキシプロピル基であ
る請求項12記載の方法。 - 【請求項14】 請求項1、3、4、5、6又は7記載
の方法によって得られる9−ヒドロキシエリプチシン又
はその塩を公知の方法に従って一般式[VI] 【化9】 (式中、R7は低級アルキル基を表わし、A(-)は薬理的
に許容し得るアニオンを表す。)で示される化合物に変
換することを特徴とするエリプチシン誘導体の製法。 - 【請求項15】 一般式[I] 【化10】 (式中、R1はアルキル基又はアリール基、R2は低級ア
ルキル基又はアリール基、R3及びR4は同一または異な
って置換基を有していてもよい低級アルキル基である
か、または互いに末端で結合して置換基を有していても
よい低級アルキレン基を形成していることを表わす。)
で示されるアセタールまたはそのアルデヒド変換体。 - 【請求項16】 R1が低級アルキル基であり、R3及び
R4が低級アルキル基である請求項15記載の化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9144929A JPH1053586A (ja) | 1996-06-04 | 1997-06-03 | 9−ヒドロキシエリプチシンの製法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14121496 | 1996-06-04 | ||
| JP8-141214 | 1996-06-04 | ||
| JP9144929A JPH1053586A (ja) | 1996-06-04 | 1997-06-03 | 9−ヒドロキシエリプチシンの製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1053586A true JPH1053586A (ja) | 1998-02-24 |
Family
ID=26473502
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9144929A Pending JPH1053586A (ja) | 1996-06-04 | 1997-06-03 | 9−ヒドロキシエリプチシンの製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1053586A (ja) |
-
1997
- 1997-06-03 JP JP9144929A patent/JPH1053586A/ja active Pending
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