JPH1054914A

JPH1054914A - 光導波路に格子を形成する方法

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Publication number: JPH1054914A
Application number: JP9067752A
Authority: JP
Inventors: Robert Adam Modavis; アダムモダヴィスロバート
Original assignee: Corning Inc
Current assignee: Corning Inc
Priority date: 1996-03-25
Filing date: 1997-03-21
Publication date: 1998-02-24
Also published as: US5818988A; EP0798577A3; MX9702200A; AU1633297A; CA2199670A1; TW358167B; CN1168982A; EP0798577A2

Abstract

(57)【要約】【課題】光電性光導波路にブラッグ格子を書き込む方
法及び装置が開示される。【解決手段】新規な方法は、精密に調節自在な集光及
び配向部品10を有する干渉計を有する。紫外線によって
照射された位相マスク４を、干渉計の光源２として使用
する。干渉計の調節自在性によって、適切な干渉計部品
10の各々をわずか＋／−０．７５゜調節することによっ
て、１２７５ｎｍ乃至１５７５ｎｍの範囲の波長をフィ
ルタリングするブラッグ格子を書き込むことが可能にな
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光導波路ファイバ
にブラッグ反射格子を形成する方法を目的とし、特に、
本発明の方法は、格子を形成する際のチューナブル位相
マスク（phase mask）の使用を含む。

【０００２】

【従来の技術】特定の波長及び強度の光に対する光導波
路ファイバの感度は、１９７０年代から周知である。導
波路ファイバの損失特性及び屈折率は、ある波長及び強
度の光に導波路を曝すことによって、半永久的に変化す
ることが判っている。作用とその使用方法とを記載する
刊行物は、ＢＴテクノ１（BT Techno., 1 ）第１１巻第
２号（１９９３年４月）のカシャップ等（Kashyap et a
l.）による「光電性ファイバ及び平面導波路」である。
この刊行物は、第１５０頁第２．１章に光誘導反射格子
の作製方法を検討し、光の波長が６００ｎｍから２４０
ｎｍに減少するとき、屈折率変化量は増加し、導波路の
光電性はピークを採ることが記されている。光電性を使
用して作製された最初の格子は、ファイバの中を反対に
伝搬するコヒーレント光ビームを使用した。その結果の
干渉パターンによって、ブラッグ反射格子として振る舞
う導波路の屈折率に周期的変化が生じた。光電性効果の
物理的説明は、カシャップの論文の第１５１頁第３章で
行われている。

【０００３】かかるブラッグ格子は、波長フィルタとし
て有効である。導波路フィルタのブラッグ格子は、格子
の周期の２倍である波長を有する伝搬光を選択的にフィ
ルタリングする。導波路ファイバを使用するシステム
は、波長分割多重化（wavelength division multiplexi
ng）を使用するので、ある波長域に対してブラッグフィ
ルタを形成する方法及び装置には高い需要がある。さら
に、かかる方法及び装置は、方法の速度、再現性（repe
atability ）及び精度を保証するために、有効、経済
的、正確、且つ簡単でなければならない。かかる方法
は、波長分割多重化通信信号を使用するシステムのよう
に、複雑なシステムでの使用に対して予め選択された波
長で有効であり、狭帯域フィルタを大量に生産可能とす
る製造環境で役立つ。

【０００４】もちろん、反射格子のフィルタリング能力
を使用して情報を生成する方法は多数存在する。グレン
等（Glenn et al ）のアメリカ合衆国特許第４，７２
５，１１０号で議論された張力ゲージは、一例である。
グレン等のアメリカ合衆国特許第４，７２５，１１０号
に記載された導波路フィルタに格子を形成する方法は、
かかる特許の図１に示されている。ここで、ブラック格
子は、光が導波路を介して伝搬される方法と比較する
と、側方から導波路ファイバを照射することによって形
成される。さらに、格子の形成は、干渉計を使用して行
われる。格子を形成するこの方法の欠点は、周期の異な
る格子が必要な場合、干渉源の位置及び光学部品の位置
を調節しなければならないことである。また、上記特許
に開示された干渉源は、ビームスプリッタから現れる２
つのビームである。ビームスプリッタ源の効率、光制
御、柔軟性は、位相マスク源と比較すると制限されてい
る。

【０００５】J.Vac.Sci.,B 第１巻第４３号（１９８３
年１０−１２月）のハーウィールク（Hawryluk）の「多
層ミラーを回折格子と組み合わせて倍にしたディープＵ
Ｖ空間周波数」の刊行物は、第１２０２頁第３図に、干
渉計への入力光源として格子を有する干渉計の基本セッ
トを示す。この刊行物の格子形成方法及び装置は、導波
路ファイバに異なる周期の格子を形成する問題には触れ
ていない。

【０００６】アンダーソン等（Anderson）のアメリカ合
衆国特許第５，３２７，５１５号において、光源は、レ
ンズによって位相マスクを向いている。次数の異なる回
折は、位相マスクから現れ、上記特許の図２に示すよう
に、第２レンズによって導波路ファイバに導かれる。次
数の異なる回折は、干渉して導波路にフリンジパターン
を生成する（本発明において、用語「フリンジ」は縞と
同義で用いるものである）。位相マスク格子の周期は、
導波路を照らすフリンジパターン周期の整数倍である。
整数は、干渉回折パターンの２つの次数のうちの高い方
を参照する。

【０００７】アンダーソン特許の方法によって生成され
る格子の鋭さは、光導波路にフリンジパターンを集束せ
しめる際に使用されるレンズの品質によって制限され
る。レンズは光を吸収するので、光源により厳しい条件
が必要となる。さらに、可能な格子周期の数は、回折の
次数が増えると光強度は急激に減少するという事実によ
って制限される。

【０００８】アンダーソン特許及びヒル等（Hill）のア
メリカ合衆国特許第５，３６７，５８８号は、ともに、
互いに周期が異なる少なくとも２つの領域を組み込み、
故に、単一の位相マスクを使用して周期の異なる少なく
とも２つの格子を導波路ファイバに形成することができ
るだ位相マスクの使用に触れている。少なくとも２つの
周期を有する位相マスクを使用することによる問題は、
位相マスク格子が複雑で正確且つ精度の良い製造が困難
となることであり、導波路に形成される格子の空間分離
が位相マスクの３次元寸法によって制限されることであ
る。

【０００９】このように、導波路ファイバに格子を形成
する方法及び装置に対して、以下に示す需要が存在す
る。 − 単一の位相マスクを使用して導波路ファイバに格子
を形成し、形成された格子の周期がある範囲を持つこと − 屈折率インターフェースを鋭く定義する導波路格子
の形成 − 格子製造における精度が確実に得られるように設計
が簡単な格子周期の調整手段の使用

【００１０】

【発明の概要】

・定義 − 光導波路格子は、導波路の長軸に沿った導波路の屈
折率の周期的変化である。 − 光電性は、あるガラス成分と選択された光の波長と
の間の相互作用であり、入射光は、照射されたガラスの
屈折率や損失特性を変える。

【００１１】− 側方書き込み（Side writing）は、光
導波路ファイバに格子を形成する技術であり、光によっ
て、導波路ファイバの長軸の一部に沿って且つ導波路フ
ァイバの側方に干渉パターンが形成される。周期的光強
度パターンは、光の干渉によって生成され、導波路ファ
イバの長軸の一部に沿って屈折率の周期的変化を誘起す
る。

【００１２】− 位相マスクは、本質的に、伝送回折格
子である。特に、本発明において、位相マスクは、選択
された波長域に対して透過性を呈し、対をなして平坦且
つ平行に対向する側部を有するプレートに形成された部
材であり、一方の側部に周期的に離間配置された線のセ
ットが刻まれている。刻まれた線の深さは、πの整数倍
の移相を提供するように選択され、故に、０次の回折パ
ターンを抑制する。または、０次回折パターンは、位相
マスクと導波路ファイバとの間に配置されたビームスト
ップ（beam stop ）によって除去される。線格子に沿っ
て任意の箇所で位相マスクを出る分散光線の角度範囲
は、角度２ρに特徴がある。・発明の概要本発明の新規な方法及び装置は、光導波路ファイバに正
確且つ精密な格子を形成する処理に対する需要を満た
す。本発明において、方法は簡単であり、装置は簡単且
つ丈夫であり、故に製造環境での使用に実用的である。

【００１３】本発明は、比較的低いコヒーレンス長、す
なわち約３００μｍの高電力ＵＶ光源を位相マスクと調
節可能干渉計とともに使用して光導波路ファイバに格子
を側方から書き込む方法及び装置を提供する。１０μｍ
と低いコヒーレンス長のレーザ書き込みは、格子を形成
する際に有効である。しかし、長いコヒーレンス長を有
する光源は、書き込まれる格子の長さとそのコントラス
トの点から柔軟性がより大きくなる。周波数２倍アルゴ
ンイオンレーザを使用して可能となるように、１０ｍの
コヒーレンス長が期待される。

【００１４】干渉計の調節可能性によって、干渉面に形
成される干渉縞の周期性を調節することができる。導波
路ファイバの長軸は、干渉面内に配置されて向きが決め
られ、干渉面に形成された干渉縞が導波路ファイバの長
軸と交差する。光導波路ガラスの光電性は、導波路の長
軸に沿ってフリンジパターンを効率良くコピーしたり書
き込んだりする。すなわち、導波路に入射する光は、強
め合う干渉縞領域における屈折率を増加させ、弱め合う
干渉縞領域では、屈折率は変化しない。

【００１５】本発明の第１の概念は、光導波路にブラッ
グ格子を側方から書き込む方法である。位相マスクは、
光源から光を受け取り、光を干渉計に回折するように配
置されている。干渉計の部品は、位相マスクから光線を
集め、この光線をいわゆる干渉面に集束せしめ、すなわ
ち重畳せしめるように向きを決める。位相マスクを出た
光線は、光源のコヒーレンス長以下の光路差を有し、干
渉面に干渉縞を生成する。干渉計の集光及び配向部品は
調節可能であるが故に、干渉パターンは調節自在であ
る。特に、フリンジパターンの周期は調節自在である。
このように、波長帯域から選択された波長や狭帯域波長
をフィルタ処理するブラッグ格子が、導波路ファイバに
書き込まれる。

【００１６】紫外線波長帯域、すなわち約１００ｎｍ乃
至４００ｎｍの波長帯域の高強度単色光源は、シリカベ
ースの光導波路ファイバへの格子の側方からの書き込み
に特に適している。しかし、６００ｎｍの光波長は、導
波路ファイバに格子を書き込むには有効である。およそ
１００μｍの光源コヒーレンス長は、十分な長さの導波
路に格子を生成して、９９％よりも大なる高効率フィル
タリングを行う。しかし、およそ１０μｍのコヒーレン
ス長は、有効な導波路ファイバ格子を生成するには十分
である。エキシマレーザは高強度紫外光の優れた光源で
あり、多くの場合およそ３００μｍのコヒーレンス長を
有する。エキシマレーザは、およそ１０μｍ乃至約２．
５ｃｍの範囲のコヒーレンス長を有することができる。
エキシマレーザは、１９３ｎｍ，２４８ｎｍ，３０８ｎ
ｍ，３５１ｎｍを含む複数の波長で動作するように構成
されている。

【００１７】干渉計の集光及び配向部品は、レンズ、プ
リズム、ミラーを含む部品のグループから選択され、ま
たは組み合わせて選択される。ミラーが、動力効率故に
好ましい。さらに、干渉計が互いに対向して対をなす調
節自在なミラーを含む場合、縞の間隔を確実に調節する
ことができる。調節の量は、ミラーの面と位相マスクの
面との間の含み角、図３の角度２４によって記載され
る。

【００１８】必要なコヒーレンス長を有する代表的な紫
外線光源に対して、９０゜の初期の含み角に対する２つ
のミラーの各々の約＋／−０．７５゜の含み角の調節
は、１２７５ｎｍ乃至１５７５ｎｍの波長域、１３００
ｎｍ及び１５５０ｎｍ近傍の２つの重要な電気通信信号
波長を含む波長域に対して有効なフィルタとなる導波路
ファイバ格子の作製には十分である。この種のフィルタ
は、単一のマスクを使用して書き込まれる。本発明は、
適切な周期を有する位相マスクを選択することによっ
て、異なる波長帯域で格子を書き込むために使用される
ことが判る。例えば、本発明は、５００ｎｍ乃至１２７
５ｎｍの波長域で格子を書き込み、導波路ファイバ通信
波長域の重要な部分をカバーすることができる。

【００１９】書き込まれた格子の周期は、１２７５ｎｍ
乃至１５７５ｎｍの波長域で約４３５ｎｍから５４０ｎ
ｍに変化する。位相マスクの一実施例は、紫外線波長域
の光に透明な部材から作製された平板状の物体である。
均一に離間する複数の溝が、物体の平らな面の一方に形
成されて、格子構造を形成する。０次回折パターンを除
去するために、ビームストップが使用される。ビームス
トップの替わりに、マスクが光電面と実質的に接触する
従来の位相マスク技術において行ったように、溝の深さ
に、基板の屈折率を乗算して、πの整数倍になるように
選択して０次回折パターンを除去することもできる。

【００２０】本発明の第２の概念は、光導波路ファイバ
にブラッグ格子を側方から書き込む装置であり、本発明
の装置は、波長域で有効な格子、すなわち予め選択され
た周期を有する格子を生成するために、調節自在になっ
ている。本発明の装置は、位相マスクを照射する光源を
有する。光は、発散光線のアレイとして位相マスクを出
る。光を集めて向きを決める光学的手段は、光路に配置
されて、干渉面を画定する空間内の複数箇所で重畳せし
められる。コヒーレンス長以下の光路長差を有する光線
が重畳すると、干渉し、干渉面にフリンジパターンを生
成する。位相マスクを出た光を集めて向きを決める光学
的手段は、調節自在であり、故に干渉面内の縞の間隔を
調節することができる。本発明の装置は、導波路ファイ
バの長軸を干渉面内に保持する装置を含む。０次回折
は、上述の方法または装置によって除去される。

【００２１】本概念の好ましい実施例において、位相マ
スクを出た光を集めてその向きを決める光学的手段は、
位相マスクを中心に対称に配置され対をなすミラーであ
る。ミラーは回動自在に取り付けられているので、ミラ
ーの面と位相マスクの面との間の含み角は変更され、故
に、フリンジパターンの縞の間隔を変えられる。百ｎｍ
オーダの波長域で有効な格子を生成するために、各ミラ
ーは、公称９０゜に選択された初期の含み角を中心にお
よそ＋／−０．７５゜の最小の調整を行う必要がある。

【００２２】好ましい光源は、およそ１００ｎｍ乃至４
００ｎｍの紫外線波長域で動作するエキシマレーザであ
る。紫外線エキシマレーザ光源を使用して、約０．７５
゜の各ミラー角度の対称変化によって、およそ４３５ｎ
ｍ乃至５４０ｎｍの範囲の縞の間隔の変化が生じる。

【００２３】

【実施例】本発明を添付図面を参照しながら説明する。
新規な方法は、簡単な干渉計を位相マスクと組み合わせ
て、予め選択された周期を有するブラッグ格子を導波路
光ファイバに側方から書き込む。格子周期は、干渉計の
部品を回動することによって調整される。この方法が使
用されて、導波路ファイバよりも光電性ガラス物体に格
子を側方から書き込む。かかる物体は、例えばスプリッ
タなどの平面構造体や平面導波路である。

【００２４】この方法は、製造環境での使用に十分に強
い。何となれば、干渉計の部品は、回動部品以外は固定
されているからである。干渉面内に導波路を配置する手
段も必要である。かかる手段は、精密トランスレーティ
ングステージに装着された真空チャックを含み、導波路
ファイバの分野では周知である。面内に物体の軸を保持
してその軸を中心に物体を正確に回動せしめる技術は、
機械分野において周知である。

【００２５】方法と装置との間の密接な関係は、格子構
造の鋭さ、すなわち明るい縞と暗い縞とのコントラスト
の鮮明さやコントラストから生じ、さらに、格子周期の
範囲を非常に安定した装置、すなわち実質的に固定配置
された装置を使用して作製することの必要性から生じ
る。干渉現象によって、導波路の照射部と、非照射部と
の間の鮮明さが提供される。干渉計の光集光及び配向部
品の軸及び光源の位置の固定によって、安定性及び信頼
性のみならず、格子周期についても装置の柔軟性が保証
される。

【００２６】図１に本発明の装置の基本部品を示す。光
源２は、光ビームを位相マスク４に向ける。位相マスク
からの光を集めてその向きを決める部品は、平面ミラー
１０として示されている。しかし、これらの部品は、プ
リズムやレンズ、非平面ミラーなどの、光を集めて向き
を決める簡単また複合の光装置としたり、プリズムやレ
ンズ、非平面ミラーなどを組み合わせて用いることもで
きる。ミラー部品は好ましい。何となれば、ミラーは、
干渉計の設計の簡便さ及び信頼性を提供するからであ
る。部品１０は、多重光線８の向きを決めて、干渉面１
２で重畳せしめる。この干渉面１２で、光線は干渉して
フリンジパターンを生成する。長さ２６は、フリンジパ
ターンの線形寸法を示す。角度６は、位相マスクを出た
ビームの２分の１の角度である。オプションのビームス
トップ１１も示す。

【００２７】装置は、初期状態で示されている。すなわ
ち、平面ミラー１０と位相マスク４との間に含まれる角
度１４は、本発明においては含み角であり、９０゜とな
るように示されている。長さ２６の大きさ、フリンジパ
ターンの長さは、フリンジパターンによって導波路に光
誘起される格子のフィルタリング能力を評価する際に大
切である。長さ２６が短すぎれば、フィルタリングは、
特定のシステム条件を満たすには不十分である。しか
し、９９％を越えるフィルタリング効率は、開示された
装置の能力内での適切な長さ、数ｍｍの格子長で可能と
なる。

【００２８】図２に、干渉面１２内に長軸２０を備える
導波路ファイバ１８を示す。フリンジ２２は、導波路に
入射し、故に、光電性効果によって、導波路の軸に沿っ
て屈折率の変化が周期的に生じる。明るい縞を受け取る
導波路内の位置では、屈折率が増加し、一方、実質的に
光を受け取らない位置では、屈折率は変化しない。この
ように、干渉縞は、導波路ファイバに効率良くブラッグ
反射格子を書き込む。

【００２９】新規な装置は、図３に示すように、光集光
及び配向干渉器の部品の回動を特徴として示す。各平面
ミラーは、平面ミラーの一端部に固定され且つ図面の面
と垂直に伸長する軸を中心に回動する。回動角度を符号
２４で示す。回動角度２４が増加すると、干渉面内のフ
リンジパターン２８の長さは減少する。フリンジパター
ンの長さと、導波路に光誘起される格子長とは、本発明
に記載されるブラッグフィルタを作製する目的には十分
である。

【００３０】実施例−１２７５ｎｍ乃至１５７５ｎｍの
波長窓をカバーするブラッグ格子およそ３００μｍのコ
ヒーレント長と２４８ｎｍの中心波長とを有するエキシ
マレーザが、図３の装置とともに使用されて、導波路コ
アに格子を側方から書き込む。位相マスクの格子間隔と
干渉計のパラメータとが選択されて、図３の角度２４を
ゼロに設定し、干渉面内に周期１４２５ｎｍ／２（１．
４６）＝４８８ｎｍのフリンジパターンを生成する。但
し、１．４６はシリカの屈折率である。装置のこの構成
によって、１４２５ｎｍの光のフィルタリングに適した
ブラッグ格子が、導波路コアに書き込まれる。導波路に
書き込まれる格子の空間周期は、位相マスクのニアフィ
ールドのフリンジパターン周期と本質的に同一である。
両ミラーの角度２４を０．７５゜対称に変えることによ
って、１５７５ｎｍのフィルタリングに適した格子が、
導波路コアに書き込まれる。両ミラーの角度２４を−
０．７５゜変えることによって、１２７５ｎｍのフィル
タリングに適した格子が書き込まれる。本装置に対し
て、正の角度変化は、右側のミラーを時計回りに且つ左
側のミラーを反時計回りにそれぞれの軸を中心に回動さ
せることによって行われる。

【００３１】このように、例示の装置は、角度２４の小
なる変化によって、１２７５ｎｍ乃至１５７５ｎｍの波
長域から選択された波長をフィルタリングするブラッグ
格子を書き込むことができる。この発見は、少なくとも
２つの理由で有効である。第１に、高精度且つ再現可能
な量を移動させる必要のある部品の移動距離が比較的小
さいときに、より良い機械的精度が得られることは正し
い。第２に、干渉面でのフリンジパターン長は、最大必
要角度２４でもかなり大きいことである。より大なる角
度２４設定で作製されるブラッグ格子、すなわち１５７
５ｎｍのフィルタリングに適した格子は、本実施例の装
置構成に対して２ｃｍ以上の導波路に長さを有すること
ができる。

【００３２】格子長は、以下に示す公式から計算でき
る。２ｄ＝２ｌｃｏｓ（ρ−２Υ）／ｔａｎ（２Υ）但し、２ｄは図３のフリンジパターン長２８であり、ρ
は図３の２分の１角６であり、Υは図３の角度２４であ
り、ｌは光源のコヒーレント長であり、本実施例で使用
されるエキシマレーザ光源ではおよそ３００μｍであ
る。

【００３３】典型的な位相マスクを、図４に符号３６と
して図示する。溝の幅３２は、溝間の高台３０の幅と同
一である。基板の屈折率が乗算された溝の深さ３４は、
０次の回折パターンの弱め合う干渉を形成するためにπ
の整数倍と等しい。本発明の他の実施例は、当業者にお
いては明かである。例えば、ミラーの回動軸はミラーの
端部に存在する必要性はない。また、ミラー以外の調節
自在干渉計部品を使用することもできる。

【００３４】本発明の特定の実施例が開示されて説明さ
れたが、本発明は請求項によってのみ制限される。

【図面の簡単な説明】

【図１】新規な側方書き込み装置の基本部品を示す図で
ある。

【図２】干渉面内の導波路ファイバを干渉縞とともに示
す図である。

【図３】ミラーの調節自在性を示す図である。

【図４】位相マスクに形成された格子を示す図である。

【符号の説明】

２光源４位相マスク１０ミラー１１ビームストップ１２干渉面１８導波路ファイバ２０長軸３６位相マスク

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光電性光導波路ファイバに格子を側方か
ら書き込む方法であって、ａ）互いに平行且つ平坦な第１側部及び第２側部を有
して前記第１側部で光源からの光を受け取る位相マスク
を配置し、前記光は前記位相マスクによって回折されて
発散光線のアレイとして第２側部から出射し、前記位相
マスクの第２側部は干渉計の光源として配置される行程
であって、干渉計によって光線を重畳せしめて干渉面に
干渉縞のパターンを形成し、干渉計は調節自在光学部品
を有して干渉面内の縞の間隔を変更する行程と、ｂ）前記光学部品を調整して予め選択されたフリンジ
空間を形成する行程であって、前記光学部品は０次の回
折を除去する手段を含む行程と、ｃ）前記干渉面内に光導波路ファイバの長軸を配置し
て干渉縞のパターンが長軸に沿って前記導波路ファイバ
に入射する行程とを有することを特徴とする方法。
【請求項２】光源からの光は少なくとも１０μｍのコ
ヒーレント長を有し、または、光源からの光の波長はお
よそ１００ｎｍ乃至６００ｎｍの範囲にあり、または、
コヒーレンス長は１０μｍ乃至１０ｍの範囲にあり、ま
たは、光源のコヒーレンス長はおよそ１００μｍであり
且つ光源の波長域はおよそ１００ｎｍ乃至４００ｎｍで
あることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】前記調節自在光学部品は２つの平面鏡で
あり、各平面鏡と位相マスクとの間の含み角は調節自在
であり、含み角は最初は９０゜であって少なくとも＋／
−０．７５゜調節され、または、隣接する縞の対応する箇所の間の間隔はおよそ
４３５ｎｍから５４０ｎｍに調節されることを特徴とす
る請求項１記載の方法。
【請求項４】０次の回折パターンを除去する前記手段
は、基板と基板に周期的に離間されて形成された溝とを
含む位相マスクであり、各溝は深さを有し、基板の材料
の屈折率が乗算された深さの各々は選択されてπの整数
倍となることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】０次回折パターンを除去する前記手段は
ビームストップであることを特徴とする請求項１記載の
方法。
【請求項６】光電性光導波路ファイバに予め選択され
た周期の格子を側方から書き込む装置であって、光源と、前記光源からの光を受け取り且つ発散光線のアレイとし
て光を伝送するように配置された位相マスクと、０次回折パターンを除去する光学的手段と、発散光線を遮断して向きを変えて干渉面を画定する空間
内に重畳せしめ、光線の重畳によって干渉縞パターンを
干渉面に形成せしめる光学的手段であって、干渉縞の間
隔は調節自在とするために調節自在な光学的手段と、干渉面内に光導波路ファイバの長軸を固定配置して干渉
パターンを長軸に沿って導波路ファイバに入射させる手
段とを有することを特徴とする装置。
【請求項７】発散光線を遮断して向きを変える前記光
学的手段は、前記位相マスクに対して対称に配置された
１対の平面ミラーであり、９０゜の中心値を中心に調節
自在な前記位相マスクと各平面ミラーとの間に含み角を
形成し、含み角の調整量は少なくとも＋／−０．７５゜
であることを特徴とする請求項６記載の装置。
【請求項８】含み角の各々が対称的に−０．７５゜と
０．７５゜との間を変化するときに、縞の間隔は約４３
５ｎｍから５４０ｎｍに変化することを特徴とする請求
項７記載の装置。
【請求項９】光源は、およそ１００ｎｍから６００ｎ
ｍの範囲の波長を有することを特徴とする請求項６記載
の装置。
【請求項１０】光源はエキシマレーザであり、場合に
応じて、前記エキシマレーザはおよそ１０μｍから２．
５ｃｍの範囲のコヒーレンス長を有し、または、前記エ
キシマレーザはおよそ１００ｎｍから４００ｎｍの範囲
の波長とおよそ１００μｍのコヒーレンス長とを有する
ことを特徴とする請求項９記載の装置。