JPH1057862A - ロールコータ - Google Patents

ロールコータ

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JPH1057862A
JPH1057862A JP8239813A JP23981396A JPH1057862A JP H1057862 A JPH1057862 A JP H1057862A JP 8239813 A JP8239813 A JP 8239813A JP 23981396 A JP23981396 A JP 23981396A JP H1057862 A JPH1057862 A JP H1057862A
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JP
Japan
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roll
coating
peripheral surface
substrate
offset
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JP8239813A
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Yoshito Ishizaki
義人 石崎
Kenichi Nakamura
研一 中村
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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    • B05C1/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is applied to the surface of the work by contact with a member carrying the liquid or other fluent material, e.g. a porous member loaded with a liquid to be applied as a coating
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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    • G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner

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  • General Physics & Mathematics (AREA)
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 コーティングロール周面の、基板表面との接
触位置を通過した後の部分に残留した塗布液が原因とな
り、基板表面に塗布形成された塗膜に膜厚差を生じる、
といったことを防止できるロールコータを提供する。 【解決手段】 コーティングロール１の周面にスクレー
パ１０を付設し、コーティングロール周面と基板Ｗの表
面との接触位置よりコーティングロールの回転進行方向
側の位置でスクレーパをコーティングロール周面に当接
させ、コーティングロール周面から塗布液を掻き取る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、液晶用ガラス基
板、フィルム液晶用基板、イメージセンサ用基板、プリ
ント配線用基板、半導体ウエハなどの各種基板を水平方
向へ搬送しながら、コーティングロールの周面を基板の
表面に接触させて回転させることにより、基板の表面に
塗布液、例えばフォトレジスト液、カラーフィルタ用顔
料、ポリイミド樹脂などを塗布するロールコータ、特
に、コーティングロールを基板の搬送方向と逆方向に回
転させる、いわゆるリバースコーティング方式のロール
コータに関する。
【０００２】
【従来の技術】リバースコーティング方式のロールコー
タとしては、例えば実開平４−９９２６６号公報などに
開示されたものが一般に知られている。このロールコー
タでは、基板を定盤上に真空吸着し一体的に保持して水
平方向へ搬送させながら、その搬送路の上方に配設され
たコーティングロール（アプリケータロール）を、その
最下点が定盤上の基板の表面に接触する位置まで下降さ
せた状態で基板の搬送方向と逆方向に回転（リバース回
転）させる。そして、定盤上に保持された基板がコーテ
ィングロールの周面に接触しながらその下方を通過する
ことにより、コーティングロールの周面に供給された塗
布液がコーティングロールの周面から基板の表面へ転写
されて、基板の表面に塗膜が形成されるようになってい
る。
【０００３】また、別構成のリバースコーティング方式
のロールコータとして、コーティングロールの下方側
に、基板の裏面に当接して基板を支持し基板の搬送方向
の順方向に回転して基板を搬送するバックアップロール
を配設するとともに、コーティングロールおよびバック
アップロールの、基板の搬送方向における手前側および
その反対側にそれぞれ、基板の搬送路に沿って複数本の
搬送ロールを列設することにより構成されたロールコー
タも開発されている。このロールコータでは、図７に示
すように、少なくとも周面がゴム材で形成されたコーテ
ィングロール１を基板Ｗの搬送方向と逆方向に回転させ
ながら、基板Ｗの搬送方向におけるコーティングロール
１およびバックアップロール２の手前側に列設された搬
送ロール３により基板Ｗをバックアップロール２の位置
へ送り込み、基板Ｗの搬送方向の順方向に回転駆動され
るバックアップロール２によって基板Ｗを前方へ送り、
基板Ｗの表面をコーティングロール１の周面に接触させ
ながらコーティグロール１とバックアップロール２との
間の隙間に基板を通すことにより、コーティングロール
の周面に供給された塗布液をコーティングロール１の周
面から基板Ｗの表面へ転写して、基板Ｗの表面に塗膜を
形成するようにしている。
【０００４】以上のようなロールコータにおいて、コー
ティングロール１の周面へ塗布液、例えばフォトレジス
ト液を供給する塗布液供給ユニットは、例えば図７に示
すように、塗布液４が貯留された貯液槽５と、少なくと
も周面がゴム材で形成され、水平姿勢に支持されて貯液
槽５内に収容された塗布液４中に周面の一部が浸漬され
たピックアップロール６と、少なくとも周面がゴム材で
形成されまたは金属材料で形成され、ピックアップロー
ル６と平行に配設されてピックアップロール６の周面に
周面が接触したオフセットロール７とを備えて構成され
ている。ピックアップロール６は、一方向に回転するこ
とにより、貯液槽５内から塗布液４を持ち出して周面に
保持する。オフセットロール７は、ピックアップロール
６の回転方向と反対方向に回転することにより、ピック
アップロールの周面に保持された塗布液を周面に転移さ
せて保持する。オフセットロール７とコーティングロー
ル１とは互いに平行に配置されて周面同士が接触し、両
ローラ１、７が同一方向に回転（リバース回転）するこ
とにより、オフセットロール７の周面に保持された塗布
液がコーティングロール１の周面に転移されて供給され
るようになっている。
【０００５】コーティングロール１の周面に供給された
塗布液は、上記したように基板Ｗの表面へ転写される
が、コーティングロール１の周面の、基板Ｗの表面との
接触位置を通過した後の部分に残留した塗布液は、コー
ティングロール１に対しリバース回転するオフセットロ
ール７によってコーティングロール１の周面上から掻き
取られる。そして、コーティングロール１の周面からオ
フセットロール７の周面へ転移した残留塗布液をオフセ
ットロール７の周面上から掻き取るために、オフセット
ロール７の周面に当接したスクレーパロール８が設けら
れている。また、スクレーパロール８の下方には、オフ
セットロール７の周面上から掻き取られた残留塗布液を
回収するための回収トレイ９が配設されている。なお、
スクレーパロール８は、回転しても回転しなくてもよ
く、スクレーパロール８が固定されずに回転する場合
は、さらにスクレーパロール８の周面に当接するように
固定のスクレーパが付設される。また、スクレーパロー
ル８に代えて板状のスクレーパを付設するようにしても
よい。
【０００６】また、コーティングロールの周面へ塗布液
を供給する塗布液供給ユニットとしては、少なくとも周
面がゴム材で形成されたドクターロールと少なくとも周
面がゴム材で形成されまたは金属材料で形成されたオフ
セットロールとを互いに平行にかつそれぞれ水平姿勢に
支持し、それら両ロールの周面同士を接触させて、その
接触部の上部側に、塗布液を貯留するための液溜部を形
成し、ドクターロールおよびオフセットロールを互いに
反対方向に周面が移動するようにそれぞれ回転させて、
液溜部内に収容された塗布液を持ち出してオフセットロ
ールの周面に保持させるようにし、オフセットロールの
周面から、オフセットロールの周面と接触してオフセッ
トロールに対しリバース回転するコーティングロールの
周面へ塗布液を供給する構成のものがある。さらに、金
属材料で形成されたロール状をなしまたは金属材料で形
成され円弧状周面を有する形状のメタルドクタと金属材
料で形成されまたは少なくとも周面がゴム材で形成され
たオフセットロールとを互いに平行にかつそれぞれ水平
姿勢に支持し、それらメタルドクタとオフセットロール
との周面同士を近接させて、その近接部の上部側に、塗
布液を貯留するための液溜部を形成し、オフセットロー
ルを回転させて、液溜部内に収容された塗布液を持ち出
してオフセットロールの周面に保持させるようにし、オ
フセットロールの周面からコーティングロールの周面へ
塗布液を供給する構成の塗布液供給ユニットなどもあ
る。これらの塗布液供給ユニットにおいても、図７に示
したものと同様に、コーティングロールの周面に残留し
た塗布液がオフセットロールによってコーティングロー
ルの周面上から掻き取られる。そして、オフセットロー
ルに、その周面へ転移した残留塗布液をオフセットロー
ルの周面上から掻き取るためのスクレーパが付設されて
いる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記したように、従来
のリバースコーティング方式のロールコータでは、オフ
セットロールとコーティングロールとを、周面同士を接
触させた状態で相互にリバース回転させることにより、
コーティングロールの周面の、基板の表面との接触位置
を通過した後の部分に残留した塗布液をオフセットロー
ルによって掻き取るとともに、オフセットロールにスク
レーパを付設して、コーティングロールの周面上からオ
フセットロールの周面に転移した残留塗布液をオフセッ
トロールの周面上から掻き取るようにしている。しかし
ながら、コーティングロールの周面上の残留塗布液は、
その全部がオフセットロールによって掻き取られオフセ
ットロールの周面上に転移するわけではなく、一部は、
オフセットロールとコーティングロールとの接触位置を
通過してコーティングロールの周面に保持されたままと
なる。このため、図８に模式図を示すように、（ａ）に
示した待機状態から（ｂ）に示したように基板Ｗへの塗
布液Ｃ１の塗布が開始された時に、コーティングロール
１の周面の、基板Ｗの表面との接触位置を通過した後の
部分に残留した塗布液Ｃ１の量が、基板Ｗの表面に塗布
液が転写されなかった部分と塗布液が転写された部分と
で差を生じると、その塗布液量の差がそのままコーティ
ングロール１の周面上に残ってしまう。そして、その差
が、図９に示すように基板Ｗの表面に塗布形成された塗
膜Ｃ２の膜厚差となって現れることなる、といった問題
点がある。
【０００８】また、図７に示したような塗布液供給ユニ
ットの構成では、コーテイングロール１の周面上に必要
とする程度の量の塗布液をオフセットロール７から転移
させて保持させるために、オフセットロール７をコーテ
ィングロール１よりも高速、例えばコーティングロール
１の回転速度の３倍程度の速度で回転させるようにす
る。このようにオフセットロール７が高速で回転する
と、オフセットロール７に付設されたスクレーパロール
８による塗布液の掻き取りの効率が悪くなって、オフセ
ットロール７の周面からの残留塗布液の掻き取りが不十
分となる。この結果、スクレーパロール８によって掻き
取られずにオフセットロール７の周面上に残った残留塗
布液がそのままコーティングロール１の周面上に転移
し、これが基板Ｗの表面に形成される塗膜の膜厚差の原
因になる、といった問題点がある。
【０００９】この発明は、以上のような事情に鑑みてな
されたものであり、コーティングロールの周面の、基板
の表面との接触位置を通過した後の部分に残留した塗布
液に起因して、基板の表面に塗布形成された塗膜に膜厚
差を生じる、といった不都合を防止することができるリ
バースコーティング方式のロールコータを提供すること
を目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
塗布液が貯留された貯液槽と、この貯液槽内に収容され
た塗布液中に周面の一部が浸漬され、一方向に回転し
て、貯液槽内の塗布液を持ち出して周面に保持するピッ
クアップロールと、このピックアップロールの周面が接
触し、ピックアップロールの回転方向と反対方向に回転
して、ピックアップロールの周面に保持された塗布液を
周面に転移させて保持するオフセットロールと、このオ
フセットロールの周面に周面が接触し、オフセットロー
ルの回転方向と同一方向に回転して、オフセットロール
の周面に保持された塗布液が周面に転移されるコーティ
ングロールと、このコーティングロールの回転方向と逆
方向に基板を搬送して、基板をコーティングロールの直
下位置へ送り込み、基板の表面をコーティングロールの
周面に接触させて、コーティングロールの周面に転移さ
れた塗布液を基板の表面へ転移させ、その位置から基板
を送り出す基板搬送手段とを備えたロールコータにおい
て、また、請求項２に係る発明は、ドクターロールとオ
フセットロールとを互いに平行にかつそれぞれ水平姿勢
に支持し、それら両ロールの周面同士を接触させて、そ
の接触部の上部側に、塗布液を貯留するための液溜部を
形成し、前記ドクターロールおよび前記オフセットロー
ルを、互いに反対方向に、かつ、オフセットロールの周
面がドクターロールとの接触位置から下向きに移動する
ようにそれぞれ回転させて、前記液溜部内に収容された
塗布液がオフセットロールの周面に保持されるように
し、前記オフセットロールの周面に周面が接触し、オフ
セットロールの回転方向と同一方向に回転して、オフセ
ットロールの周面に保持された塗布液が周面に転移され
るコーティングロールと、このコーティングロールの回
転方向と逆方向に基板を搬送して、基板をコーティング
ロールの直下位置へ送り込み、基板の表面をコーティン
グロールの周面に接触させて、コーティングロールの周
面に転移された塗布液を基板の表面へ転移させ、その位
置から基板を送り出す基板搬送装置とを備えたロールコ
ータにおいて、さらにまた、請求項３に係る発明は、メ
タルドクタとオフセットロールとを互いに平行にかつそ
れぞれ水平姿勢に支持し、それらメタルドクタとオフセ
ットロールとの周面同士を近接させて、その近接部の上
部側に、塗布液を貯留するための液溜部を形成し、前記
オフセットロールを、その周面が前記メタルドクタの周
面との近接位置から下向きに移動するように回転させ
て、前記液溜部内に収容された塗布液がオフセットロー
ルの周面に保持されるようにし、前記オフセットロール
の周面に周面が接触し、オフセットロールの回転方向と
同一方向に回転して、オフセットロールの周面に保持さ
れた塗布液が周面に転移されるコーティングロールと、
このコーティングロールの回転方向と逆方向に基板を搬
送して、基板をコーティングロールの直下位置へ送り込
み、基板の表面をコーティングロールの周面に接触させ
て、コーティングロールの周面に転移された塗布液を基
板の表面へ転移させ、その位置から基板を送り出す基板
搬送装置とを備えたロールコータにおいて、それぞれ、
前記コーティングロールの周面に、基板の表面との接触
位置を通過した後の部分のコーティングロールの周面か
ら塗布液を掻き取るスクレーパを付設したことを特徴と
する。
【００１１】上記した構成をそれぞれ有する請求項１、
請求項２および請求項３に係る各発明のロールコータで
は、コーティングロールに付設されたスクレーパによ
り、コーティングロールの周面の、基板の表面との接触
位置を通過した後の部分に残留した塗布液が掻き取られ
るので、コーテイングロールの周面上の残留塗布液がオ
フセットロールとコーティングロールとの接触位置を通
過してコーティングロールの周面に保持されたままにな
る、といったことが生じない。したがって、コーティン
グロールの周面上の残留塗布液が原因となって、基板の
表面に塗布形成された塗膜に膜厚差を生じる、といった
ことは起こらない。
【００１２】また、スクレーパがコーティングロールに
付設されているので、請求項１および請求項２に係る各
発明のロールコータにおいてオフセットロールが高速で
回転しても、スクレーパによる塗布液の掻き取り効率が
悪くなることがなく、コーティングロールの周面からの
残留塗布液の掻き取りは十分に行われる。したがって、
スクレーパによる残留塗布液の掻き取り効率の低下が原
因となって、基板表面に形成された塗膜に膜厚差を生じ
る、といった心配は無い。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施形態
について図１ないし図６を参照しながら説明する。
【００１４】図１は、請求項１に係る発明の実施形態の
１例を示し、リバースコーティング方式のロールコータ
の概略構成を示す側断面図である。このロールコータの
基本構成自体は、図７に示した従来のロールコータと変
わるところがないので、同一の構成部材には図７に使用
した符号と同一符号を付して、その説明を省略する。こ
のロールコータが、図７に示した従来のロールコータと
異なるのは、オフセットロール７にスクレーパロールを
付設せずに、コーティングロール１にスクレーパロール
１０を付設した点である。スクレーパロール１０の付設
位置は、コーティングロール１の、基板Ｗの表面との接
触位置を通過した後の部分の塗布液を掻き取る位置であ
り、具体的には、基板Ｗの表面との接触位置よりコーテ
ィングロール１の回転進行方向側であって、オフセット
ロール７の周面との接触位置よりコーティングロール１
の回転進行方向における手前側すなわち後方側の位置で
ある。このスクレーパロール１０をコーティングロール
１の周面に当接させることにより、コーティングロール
１の周面の、基板Ｗの表面との接触位置を通過した後の
部分に残留した塗布液がスクレーパロール１０によって
掻き取られる。スクレーパロール１０の下方には、コー
ティングロール１の周面上から掻き取られた残留塗布液
を回収するための回収トレイ１２が配設されている。ス
クレーパロール１０は、この実施形態では回転せずに固
定されている。なお、スクレーパロールをコーティング
ロール１の回転方向と反対方向に回転可能に支持するよ
うにしてもよく、この場合には、スクレーパロールの周
面に当接するように固定のスクレーパが付設される。
【００１５】図２は、請求項２に係る発明の１実施形態
を示すロールコータの概略側断面図である。このロール
コータでは、ドクターロール１４とオフセットロール１
６とを互いに平行にかつそれぞれ水平姿勢に支持し、そ
れら両ロール１４、１６の周面同士を接触させて、その
接触部の上部側に、塗布液４を貯留するための液溜部１
８を形成することにより、コーティングロール２０の周
面へ塗布液を供給する塗布液供給ユニットが構成されて
いる。液溜部１８の上方には、塗布液供給ノズル２２が
設けられている。ドクターロール１４は、少なくとも周
面がゴム材で形成されており、オフセットロール１６
は、少なくとも周面がゴム材で形成されまたは金属材料
で形成されている。これらドクターロール１４およびオ
フセットロール１６は、互いに反対方向に、かつ、両ロ
ール１４、１６の接触側においてそれぞれ下向きに周面
が移動するように回転する。これにより、液溜部１８内
に収容された塗布液４が持ち出されてオフセットロール
１６の周面に保持される。そして、オフセットロール１
６の周面から、オフセットロール１６の周面と接触して
オフセットロール１６の回転方向と同一方向に回転（リ
バース回転）するコーティングロール２０の周面へ塗布
液が転移して供給される。
【００１６】このロールコータでも、オフセットロール
１６ではなくてコーティングロール２０にスクレーパロ
ール２４が付設されている。スクレーパロール２４の付
設位置は、基板Ｗの表面との接触位置よりコーティング
ロール２０の回転方向における後方側で、オフセットロ
ール１６の周面との接触位置よりコーティングロール２
０の回転進行方向側であって、オフセットロール１６の
周面との接触位置よりコーティングロール１の回転進行
方向における手前側すなわち後方側である。このスクレ
ーパロール２４により、コーティングロール２０の周面
の、基板Ｗの表面との接触位置を通過した後の部分に残
留した塗布液が掻き取られる。スクレーパロール２４の
下方には回収トレイ２６が設置されていて、コーティン
グロール２０の周面上から掻き取られた残留塗布液が回
収トレイ２６内に回収される。図２中の２８はバックア
ップロール、３０は搬送ロールである。
【００１７】なお、上述した図１の実施形態では、周面
がゴム材で形成されたピックアップロール６と周面がゴ
ム材または金属材料で形成されたオフセットロール７と
を互いに押し付けるように設けて、その両者の間を通過
した比較的少ない量の塗布液をコーティングロール１に
供給しているが、基板Ｗに形成しようとする塗膜の厚み
によっては、必要な量の塗布液をコーティングロール１
に供給するために、オフセットロール７の回転速度を比
較的高く設定することになる。本実施形態では、このよ
うな場合でもスクレーパによる塗布液の掻き取り効率が
悪くなることはなく、塗布液の掻き取りが十分に行われ
る。これは、図２の実施形態でも同様であり、周面がゴ
ム材で形成されたドクターロール１４と周面がゴム材ま
たは金属材料で形成されたオフセットロール１６とを互
いに押し付けるように設けた場合に、オフセットロール
１６の回転速度が高くなったとしても、スクレーパによ
る塗布液の掻き取りは十分に行われる。
【００１８】図３は、請求項３に係る発明の１実施形態
を示すロールコータの概略側断面図である。このロール
コータでは、ロール状のメタルドクタ３２とオフセット
ロール３４とを互いに平行にかつそれぞれ水平姿勢に支
持し、それらメタルドクタ３２とオフセットロール３４
との周面同士を近接させて、その近接部の上部側に、塗
布液４を貯留するための液溜部３６を形成することによ
り、コーティングロール３８の周面へ塗布液を供給する
塗布液供給ユニットが構成されている。液溜部３６の上
方には、塗布液供給ノズル２２が設けられている。メタ
ルドクタ３２は、金属材料で形成されており、オフセッ
トロール３４は、金属材料で形成されまたは少なくとも
周面がゴム材で形成されている。オフセットロール３４
は、メタルドクタ３２との接触側において下向きに周面
が移動するように回転する。これにより、液溜部３６内
に収容された塗布液４が、液溜部３６の下部からメタル
ドクタ３２とオフセットロール３４との間の隙間を通っ
て必要量だけ流出し、オフセットロール３４の周面に保
持される。そして、オフセットロール３４の周面から、
オフセットロール３４の周面と接触してオフセットロー
ル３４に対しリバース回転するコーティングロール３８
の周面へ塗布液が転移して供給される。なお、メタルド
クタは、図示例のようなロール状でなく、オフセットロ
ール３４の周面に近接する円弧状周面を有した形状であ
ってもよい。
【００１９】このロールコータでは、水平方向へ直線移
動自在に配設されたステージ４０の上面に基板Ｗを保持
して搬送し、基板Ｗの搬送方向と逆方向に回転（リバー
ス回転）するコーティングロール３８の直下位置へ基板
Ｗを送り込んで、コーティングロール３８の周面に基板
Ｗの表面を接触させることにより、コーティングロール
３８の周面から基板Ｗの表面に塗布液が転写され、基板
Ｗの表面に塗膜が形成されるようになっている。このロ
ールコータでも、スクレーパロール４２がオフセットロ
ール３４ではなくてコーティングロール３８に付設され
ている。スクレーパロール４２の付設位置は、ステージ
４０上に保持された基板Ｗの表面との接触位置よりコー
ティングロール３８の回転進行方向側で、オフセットロ
ール３４の周面との接触位置よりコーティングロール３
８の回転進行方向における手前側すなわち後方側であ
る。また、スクレーパロール４２の下方には回収トレイ
４４が設置されている。そして、スクレーパロール４２
により、コーティングロール３８の周面の、基板Ｗの表
面との接触位置を通過した後の部分に残留した塗布液が
掻き取られ、その掻き取られた残留塗布液が回収トレイ
４４内に回収される。
【００２０】図４に示したロールコータでは、図１に示
したロールコータにおけるスクレーパロール１０に代え
て板状のスクレーパ４６がコーテイングロール１に付設
されている。スクレーパ４６は、その先端部がコーティ
ングロール１の周面に当接するように設けられる。スク
レーパ４６の付設位置はスクレーパロール１０と同じで
あり、スクレーパ４６の下方には回収トレイ４８が設置
される。また、図２および図３にそれぞれ示したロール
コータについても、スクレーパロール２４、４２に代え
て板状のスクレーパをコーティングロール２０、３８に
付設するようにしてもよい。
【００２１】なお、基板Ｗの搬送手段は、図１、図２お
よび図４に示したロールコータのように、基板Ｗの水平
搬送路に沿って複数本の搬送ロール３、３０を設置する
とともに、コーティングロール１、２０の下方側に基板
Ｗの裏面に当接して基板Ｗを支持し回転するバックアッ
プロール２、２８を配設した構成のもの、および、図３
に示したロールコータのように、基板Ｗを上面に保持し
て水平方向へ直線移動するステージ４０のいずれであっ
てもよい。
【００２２】図５は、コーティングロール５０に対しス
クレーパロール５２を接触および離間させるための機構
の１例を示し、図６は、コーティングロール５０に対し
板状のスクレーパ６０の先端部を接触および離間させる
ための機構の１例を示す。図５に示したものは、支点５
６を中心として揺動する左右一対の揺動板５４の上端部
にスクレーパロール５２を保持し、揺動板５４の下端部
をシリンダ５８のロッドに連結した構成を有し、シリン
ダ５８を作動させることにより、揺動板５４が支点５６
を中心として揺動し、スクレーパロール５２がコーティ
ングロール５０の周面に接触しおよびその周面から離間
するようになっている。図６に示したものは、スクレー
パ６０を保持部材６２に取着し、支軸６４を中心として
スクレーパ６０が回動するよう支持し、保持部材６２の
端部をシリンダ６６のロッドに連結した構成を有し、シ
リンダ６６を作動させることにより、スクレーパ６０が
支軸６４を中心として回動し、スクレーパ６０がコーテ
ィングロール５０の周面に接触しおよびその周面から離
間するようになっている。
【００２３】
【発明の効果】請求項１ないし請求項３に係る各発明の
リバースコーティング方式のロールコータを使用する
と、コーティングロールの周面の、基板の表面との接触
位置を通過した後の部分に残留した塗布液は、コーティ
ングロールの周面自体に接触したスクレーパによってコ
ーティングロールの周面上から確実に掻き取られるの
で、コーティングロールの周面上の残留塗布液が原因と
なって、基板の表面に塗布形成された塗膜の膜厚差を生
じる、といった不都合が防止され、塗布品質の向上を図
ることができる。
【００２４】また、請求項１および請求項２に係る各発
明のロールコータでは、コーティングロールと比較して
オフセットロールが高速で回転することになっても、ス
クレーパがオフセットロールではなくて低速回転のコー
ティングロールに付設されているため、スクレーパによ
る塗布液の掻き取り効率が悪くなることがない。したが
って、スクレーパによる残留塗布液の掻き取り効率の低
下が原因となって、基板表面に塗布形成された塗膜の膜
厚差を生じる、といった心配が無くなり、塗布品質が保
持される。
【００２５】さらに、請求項１ないし請求項３に係る各
発明のロールコータでは、基板上に付着していてコーテ
ィングロールの周面へ転移したパーティクルや何らかの
原因でコーティングロールの周面上に付着したパーティ
クルが、コーティングロールの周面に接融したスクレー
パにより残留塗布液と一緒にコーティングロールの周面
上から除去される。このため、コーティングロールの周
面から基板の表面へパーティクルが転移して品質を低下
させる、といったことが防止される。
【図面の簡単な説明】
【図１】請求項１に係る発明の実施形態の１例を示し、
ロールコータの概略構成を示す側断面図である。
【図２】請求項２に係る発明の実施形態の１例を示し、
ロールコータの概略構成を示す側断面図である。
【図３】請求項３に係る発明の実施形態の１例を示し、
ロールコータの概略構成を示す側断面図である。
【図４】請求項１に係る発明の別の実施形態を示し、ロ
ールコータの概略構成を示す側断面図である。
【図５】ロールコータに対しスクレーパロールを接離さ
せるための機構の１例を示す概略側面図である。
【図６】ロールコータに対し板状のスクレーパを接離さ
せるための機構の１例を示す概略側面図である。
【図７】従来のロールコータの構成の１例を示す概略側
断面図である。
【図８】従来のロールコータにおける問題点を説明する
ための模式的側面図である。
【図９】従来のロールコータを使用して基板の表面に塗
布形成された塗膜の状態を示す側面図である。
【符号の説明】
１、２０、３８、５０ コーティングロール ２、２８ バックアップロール ３、３０ 搬送ロール ４ 塗布液 ５ 貯液槽 ６ ピックアップロール ７、１６、３４ オフセットロール １０、２４、４２、５２ スクレーパロール １２、２６、４４、４８ 回収トレイ １４ ドクターロール １８、３６ 液溜部 ２２、４０ 塗布液供給ノズル ３２ メタルドクタ ４０ ステージ ４６、６０ 板状のスクレーパ Ｗ 基板

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 塗布液が貯留された貯液槽と、 この貯液槽内に収容された塗布液中に周面の一部が浸漬
    され、一方向に回転して、貯液槽内の塗布液を持ち出し
    て周面に保持するピックアップロールと、 このピックアップロールの周面が接触し、ピックアップ
    ロールの回転方向と反対方向に回転して、ピックアップ
    ロールの周面に保持された塗布液を周面に転移させて保
    持するオフセットロールと、 このオフセットロールの周面に周面が接触し、オフセッ
    トロールの回転方向と同一方向に回転して、オフセット
    ロールの周面に保持された塗布液が周面に転移されるコ
    ーティングロールと、 このコーティングロールの回転方向と逆方向に基板を搬
    送して、基板をコーティングロールの直下位置へ送り込
    み、基板の表面をコーティングロールの周面に接触させ
    て、コーティングロールの周面に転移された塗布液を基
    板の表面へ転移させ、その位置から基板を送り出す基板
    搬送手段とを備えたロールコータにおいて、 前記コーティングロールの周面に、基板の表面との接触
    位置を通過した後の部分のコーティングロールの周面か
    ら塗布液を掻き取るスクレーパを付設したことを特徴と
    するロールコータ。
  2. 【請求項２】 ドクターロールとオフセットロールとを
    互いに平行にかつそれぞれ水平姿勢に支持し、それら両
    ロールの周面同士を接触させて、その接触部の上部側
    に、塗布液を貯留するための液溜部を形成し、 前記ドクターロールおよび前記オフセットロールを、互
    いに反対方向に、かつ、オフセットロールの周面がドク
    ターロールとの接触位置から下向きに移動するようにそ
    れぞれ回転させて、前記液溜部内に収容された塗布液が
    オフセットロールの周面に保持されるようにし、 前記オフセットロールの周面に周面が接触し、オフセッ
    トロールの回転方向と同一方向に回転して、オフセット
    ロールの周面に保持された塗布液が周面に転移されるコ
    ーティングロールと、 このコーティングロールの回転方向と逆方向に基板を搬
    送して、基板をコーティングロールの直下位置へ送り込
    み、基板の表面をコーティングロールの周面に接触させ
    て、コーティングロールの周面に転移された塗布液を基
    板の表面へ転移させ、その位置から基板を送り出す基板
    搬送装置とを備えたロールコータにおいて、 前記コーティングロールの周面に、基板の表面との接触
    位置を通過した後の部分のコーティングロールの周面か
    ら塗布液を掻き取るスクレーパを付設したことを特徴と
    するロールコータ。
  3. 【請求項３】 メタルドクタとオフセットロールとを互
    いに平行にかつそれぞれ水平姿勢に支持し、それらメタ
    ルドクタとオフセットロールとの周面同士を近接させ
    て、その近接部の上部側に、塗布液を貯留するための液
    溜部を形成し、 前記オフセットロールを、その周面が前記メタルドクタ
    の周面との近接位置から下向きに移動するように回転さ
    せて、前記液溜部内に収容された塗布液がオフセットロ
    ールの周面に保持されるようにし、 前記オフセットロールの周面に周面が接触し、オフセッ
    トロールの回転方向と同一方向に回転して、オフセット
    ロールの周面に保持された塗布液が周面に転移されるコ
    ーティングロールと、 このコーティングロールの回転方向と逆方向に基板を搬
    送して、基板をコーティングロールの直下位置へ送り込
    み、基板の表面をコーティングロールの周面に接触させ
    て、コーティングロールの周面に転移された塗布液を基
    板の表面へ転移させ、その位置から基板を送り出す基板
    搬送装置とを備えたロールコータにおいて、 前記コーティングロールの周面に、基板の表面との接触
    位置を通過した後の部分のコーティングロールの周面か
    ら塗布液を掻き取るスクレーパを付設したことを特徴と
    するロールコータ。
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