JPH1060676A - 洗浄装置及び洗浄方法 - Google Patents
洗浄装置及び洗浄方法Info
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- JPH1060676A JPH1060676A JP8217575A JP21757596A JPH1060676A JP H1060676 A JPH1060676 A JP H1060676A JP 8217575 A JP8217575 A JP 8217575A JP 21757596 A JP21757596 A JP 21757596A JP H1060676 A JPH1060676 A JP H1060676A
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- cleaning
- tank
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B2230/00—Other cleaning aspects applicable to all B08B range
- B08B2230/01—Cleaning with steam
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 蒸気洗浄と同等或いはそれ以上の洗浄効果が
得られ、しかもより短時間でワークを乾燥させることが
できるようにする。 【解決手段】 洗浄液２を貯蔵し大気圧下で加温する液
タンク３と、加温手段６を周囲に設けた洗浄槽５とを備
え、前記洗浄槽５の内部に前記液タンク３から加温され
て送られてくる洗浄液２を噴霧状態で噴射するシャワー
１１を配置するとともに、前記洗浄槽５内を減圧する真
空ポンプ３１等の減圧手段を備えたことを特徴とする。
得られ、しかもより短時間でワークを乾燥させることが
できるようにする。 【解決手段】 洗浄液２を貯蔵し大気圧下で加温する液
タンク３と、加温手段６を周囲に設けた洗浄槽５とを備
え、前記洗浄槽５の内部に前記液タンク３から加温され
て送られてくる洗浄液２を噴霧状態で噴射するシャワー
１１を配置するとともに、前記洗浄槽５内を減圧する真
空ポンプ３１等の減圧手段を備えたことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばリードフレ
ーム等の油の付着した被洗浄物（ワーク）を洗浄するの
に使用して最適な洗浄装置及び洗浄方法に関する。
ーム等の油の付着した被洗浄物（ワーク）を洗浄するの
に使用して最適な洗浄装置及び洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、前記リードフレームの洗浄にあ
っては、ワークを溶剤（洗浄液）蒸気雰囲気中に晒すこ
とにより、溶剤とワークの温度差の分だけワークに熱を
奪われた溶剤をワークの表面に凝縮させて付着させ、こ
の時にワークに付着した汚れを液状の溶剤と一緒に洗い
流すようにした蒸気洗浄が広く行われている。
っては、ワークを溶剤（洗浄液）蒸気雰囲気中に晒すこ
とにより、溶剤とワークの温度差の分だけワークに熱を
奪われた溶剤をワークの表面に凝縮させて付着させ、こ
の時にワークに付着した汚れを液状の溶剤と一緒に洗い
流すようにした蒸気洗浄が広く行われている。
【０００３】この種の蒸気洗浄においては、洗浄液とし
て、例えばトリクレン等の塩素系溶剤、炭化水素系溶
剤、または１００〜３００℃程度の炭化水素系溶剤やグ
リコールエーテル系溶剤等が一般に用いられている。ま
たこのような溶剤がワークの最終洗浄等に広く利用され
ており、従来の洗浄法等と比べて高い洗浄効果を得るこ
とができる。
て、例えばトリクレン等の塩素系溶剤、炭化水素系溶
剤、または１００〜３００℃程度の炭化水素系溶剤やグ
リコールエーテル系溶剤等が一般に用いられている。ま
たこのような溶剤がワークの最終洗浄等に広く利用され
ており、従来の洗浄法等と比べて高い洗浄効果を得るこ
とができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
たような蒸気洗浄にあっては、溶剤（洗浄液）を蒸気化
する必要があるばかりでなく、ワークが溶剤蒸気と同じ
温度になると、それ以上の時間をかけても溶剤がワーク
上で凝縮しないので洗浄効果が無くなってしまう。一
方、浸漬洗浄にあっては、洗浄液の汚れに伴って洗浄効
果が低下してしまうばかりでなく、洗浄後のワークを乾
燥させるのに多大の時間を要するのが現状であった。
たような蒸気洗浄にあっては、溶剤（洗浄液）を蒸気化
する必要があるばかりでなく、ワークが溶剤蒸気と同じ
温度になると、それ以上の時間をかけても溶剤がワーク
上で凝縮しないので洗浄効果が無くなってしまう。一
方、浸漬洗浄にあっては、洗浄液の汚れに伴って洗浄効
果が低下してしまうばかりでなく、洗浄後のワークを乾
燥させるのに多大の時間を要するのが現状であった。
【０００５】例えば本発明者らは、ワークとして３０
℃、１０ｋｇの鉄(比熱０．１２ｃａｌ／deg.-kg）を１
００℃の洗浄液で蒸気洗浄する場合のワーク上で凝縮す
る洗浄液量を計算したところ、１０ｋｇ×０．１２cal/
deg.ーkg×（１００℃−３０℃）÷６６ｃａl/ｌ（溶剤
の蒸発潜熱）＝１．０９リットルしか凝縮せず、この量
が理論的に最大の凝縮量であることを見出した。
℃、１０ｋｇの鉄(比熱０．１２ｃａｌ／deg.-kg）を１
００℃の洗浄液で蒸気洗浄する場合のワーク上で凝縮す
る洗浄液量を計算したところ、１０ｋｇ×０．１２cal/
deg.ーkg×（１００℃−３０℃）÷６６ｃａl/ｌ（溶剤
の蒸発潜熱）＝１．０９リットルしか凝縮せず、この量
が理論的に最大の凝縮量であることを見出した。
【０００６】本発明は上記に鑑み、蒸気洗浄を行なう場
合には上記したような制限を受けるため、洗浄に寄与す
る液量を自由に選択することができ蒸気洗浄と同等或い
はそれ以上の洗浄効果が得られ、しかもより短時間でワ
ークを乾燥させることができるようにした洗浄装置及び
洗浄方法を提供することを目的とする。
合には上記したような制限を受けるため、洗浄に寄与す
る液量を自由に選択することができ蒸気洗浄と同等或い
はそれ以上の洗浄効果が得られ、しかもより短時間でワ
ークを乾燥させることができるようにした洗浄装置及び
洗浄方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の洗浄装置(シャ
ワー洗浄装置）は、洗浄液を貯蔵し大気圧下で加温する
液タンクと、周囲に加温手段を設けた洗浄槽とを備え、
前記洗浄槽の内部に前記液タンクから加温されて送られ
てくる洗浄液を噴霧状態で噴射するシャワーを配置する
とともに、前記洗浄槽内を減圧する減圧手段を備えたこ
とを特徴とする。
ワー洗浄装置）は、洗浄液を貯蔵し大気圧下で加温する
液タンクと、周囲に加温手段を設けた洗浄槽とを備え、
前記洗浄槽の内部に前記液タンクから加温されて送られ
てくる洗浄液を噴霧状態で噴射するシャワーを配置する
とともに、前記洗浄槽内を減圧する減圧手段を備えたこ
とを特徴とする。
【０００８】このように構成した本発明によれば、洗浄
槽を加温手段を介して加温しつつ加温された洗浄液を噴
霧状態でワークに振り掛けることによって、汚れのない
洗浄液を用いて大気圧下でワークを洗浄・加温し、洗浄
終了後に洗浄槽内を減圧することによって、この内部に
残った洗浄液を瞬時に蒸発させてワークをより短時間で
乾燥させることができる。
槽を加温手段を介して加温しつつ加温された洗浄液を噴
霧状態でワークに振り掛けることによって、汚れのない
洗浄液を用いて大気圧下でワークを洗浄・加温し、洗浄
終了後に洗浄槽内を減圧することによって、この内部に
残った洗浄液を瞬時に蒸発させてワークをより短時間で
乾燥させることができる。
【０００９】ここに、前記加温媒体として加温した洗浄
液を使用することが好ましく、これによって、洗浄液の
より有効利用を図ることができる。また洗浄液を洗浄槽
に導入するには、洗浄槽内を減圧手段によって減圧する
ことによって導入することが好ましく、これにより洗浄
液を洗浄槽に導入する液送ポンプ手段を省くことができ
る。しかも導入する際に洗浄液が万一気化していても外
部に漏れることがなく、爆発などの危険は無い。
液を使用することが好ましく、これによって、洗浄液の
より有効利用を図ることができる。また洗浄液を洗浄槽
に導入するには、洗浄槽内を減圧手段によって減圧する
ことによって導入することが好ましく、これにより洗浄
液を洗浄槽に導入する液送ポンプ手段を省くことができ
る。しかも導入する際に洗浄液が万一気化していても外
部に漏れることがなく、爆発などの危険は無い。
【００１０】本発明の洗浄方法(シャワー洗浄方法）
は、洗浄槽を加温しつつ該洗浄槽内に加温した洗浄液を
噴霧状態で導入してワークを大気圧下または減圧下で洗
浄・加温し、前記洗浄槽を加温したまま該洗浄槽内を減
圧してワークを乾燥することを特徴とする。
は、洗浄槽を加温しつつ該洗浄槽内に加温した洗浄液を
噴霧状態で導入してワークを大気圧下または減圧下で洗
浄・加温し、前記洗浄槽を加温したまま該洗浄槽内を減
圧してワークを乾燥することを特徴とする。
【００１１】このように構成した本発明によれば、加温
雰囲気下で汚れのない任意の温度に加温した洗浄液を特
に重量に比して表面積の多い薄板状のワークや液だまり
の多いワークに振り掛けつつ、ワークを洗浄・加温し、
洗浄終了後に洗浄液を瞬時に蒸発させてワークをより短
時間で乾燥させることができる。
雰囲気下で汚れのない任意の温度に加温した洗浄液を特
に重量に比して表面積の多い薄板状のワークや液だまり
の多いワークに振り掛けつつ、ワークを洗浄・加温し、
洗浄終了後に洗浄液を瞬時に蒸発させてワークをより短
時間で乾燥させることができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して説明する。図１は、本発明に係る洗
浄装置の一例を示す系統図で、同図に示すように、この
洗浄装置には、蒸留再生器１から送られてくる再生後の
洗浄液２を貯蔵する液タンク３が備えられ、この液タン
ク３の内部には、この内部に貯えられている洗浄液２を
大気圧下で、例えば８０℃〜１００℃に加温する温度調
節器４が配置されている。
て、図面を参照して説明する。図１は、本発明に係る洗
浄装置の一例を示す系統図で、同図に示すように、この
洗浄装置には、蒸留再生器１から送られてくる再生後の
洗浄液２を貯蔵する液タンク３が備えられ、この液タン
ク３の内部には、この内部に貯えられている洗浄液２を
大気圧下で、例えば８０℃〜１００℃に加温する温度調
節器４が配置されている。
【００１３】ここに、前記洗浄液２としては、例えばト
リクレン等の塩素系溶剤等の低沸点溶剤や沸点が１００
℃〜３００℃程度の水系溶剤、親水性溶剤、シリコン系
溶剤、グリコールエーテル系溶剤、ＮＭＰ（Ｎ−メチル
−２−ピロリドン）などが用いられている。
リクレン等の塩素系溶剤等の低沸点溶剤や沸点が１００
℃〜３００℃程度の水系溶剤、親水性溶剤、シリコン系
溶剤、グリコールエーテル系溶剤、ＮＭＰ（Ｎ−メチル
−２−ピロリドン）などが用いられている。
【００１４】一方、リードフレーム等のワーク（被洗浄
物）Ｗを内部にセットして、この最終洗浄を行う洗浄槽
５が備えられ、この洗浄槽５の周囲には、加温手段とし
ての加温媒体導入部６が設けられ、この加温媒体導入部
６内に導入される加温媒体によって、洗浄槽５が加温さ
れるようになっている。さらに洗浄槽５には、この槽の
頂部で開口し、排気タンク２３に接続された配管１０ｇ
が備えられ、この配管１０ｇ内には、バルブ９ｅ、コン
デンサ３０及び減圧手段としての真空ポンプ３１が順次
介装されている。更に、洗浄槽５には、この内部を大気
圧に戻すリーク弁３２が設けられている。
物）Ｗを内部にセットして、この最終洗浄を行う洗浄槽
５が備えられ、この洗浄槽５の周囲には、加温手段とし
ての加温媒体導入部６が設けられ、この加温媒体導入部
６内に導入される加温媒体によって、洗浄槽５が加温さ
れるようになっている。さらに洗浄槽５には、この槽の
頂部で開口し、排気タンク２３に接続された配管１０ｇ
が備えられ、この配管１０ｇ内には、バルブ９ｅ、コン
デンサ３０及び減圧手段としての真空ポンプ３１が順次
介装されている。更に、洗浄槽５には、この内部を大気
圧に戻すリーク弁３２が設けられている。
【００１５】また、前記液タンク３の底部に連通し、内
部にシャワーポンプ８及びバルブ９ａを介装した配管１
０ａが備えられ、この配管１０ａの先端は、前記温度調
節器４によって加温された洗浄液２を洗浄槽５の内部に
噴霧状態で噴射するシャワー１１に連結されている。な
お洗浄槽内を減圧手段により減圧して洗浄液を洗浄槽内
に導入する場合には、シャワーポンプ８を省略してもよ
い。
部にシャワーポンプ８及びバルブ９ａを介装した配管１
０ａが備えられ、この配管１０ａの先端は、前記温度調
節器４によって加温された洗浄液２を洗浄槽５の内部に
噴霧状態で噴射するシャワー１１に連結されている。な
お洗浄槽内を減圧手段により減圧して洗浄液を洗浄槽内
に導入する場合には、シャワーポンプ８を省略してもよ
い。
【００１６】洗浄槽内を減圧する手段またはシャワーポ
ンプによって、液タンク３内に貯蔵され減圧下または大
気圧下で加温された洗浄液２が、洗浄槽５内でワークＷ
に向けてシャワー１１から噴霧状態で噴射され、この洗
浄液２がワークＷに振り掛けられて、常に汚れのない洗
浄液２でこの洗浄が行われるようになっている。ここで
汚れのない洗浄液はたとえば図３に示すような洗浄液再
生ユニット１によって再生される。この洗浄液再生ユニ
ット１は、蒸気発生槽４１と、発生した蒸気を少なくと
もその蒸気の一部を凝縮して液化する第１凝縮槽５１
と、第２凝縮槽５２とからなり、前記第２凝縮槽から凝
縮液輸送手段であるポンプを介してエゼクター５３に液
輸送することにより、第１凝縮槽内が減圧されている。
このようなユニット内で洗浄液は減圧下で蒸留再生され
るため、再生された洗浄液は酸化などにより変成される
ことがない。
ンプによって、液タンク３内に貯蔵され減圧下または大
気圧下で加温された洗浄液２が、洗浄槽５内でワークＷ
に向けてシャワー１１から噴霧状態で噴射され、この洗
浄液２がワークＷに振り掛けられて、常に汚れのない洗
浄液２でこの洗浄が行われるようになっている。ここで
汚れのない洗浄液はたとえば図３に示すような洗浄液再
生ユニット１によって再生される。この洗浄液再生ユニ
ット１は、蒸気発生槽４１と、発生した蒸気を少なくと
もその蒸気の一部を凝縮して液化する第１凝縮槽５１
と、第２凝縮槽５２とからなり、前記第２凝縮槽から凝
縮液輸送手段であるポンプを介してエゼクター５３に液
輸送することにより、第１凝縮槽内が減圧されている。
このようなユニット内で洗浄液は減圧下で蒸留再生され
るため、再生された洗浄液は酸化などにより変成される
ことがない。
【００１７】なお、前記例では、複数のシャワーを備え
た例を示しているが、内部に長さ方向に沿って複数のシ
ャワーノズルを穿設した噴出管によって、シャワーを構
成するすることもできる。
た例を示しているが、内部に長さ方向に沿って複数のシ
ャワーノズルを穿設した噴出管によって、シャワーを構
成するすることもできる。
【００１８】また、図示しないが、この例には、オイル
加熱装置が備えられ、このオイル加熱装置によって加熱
されたオイルを前記温度調整器４に導くとともに、この
加熱されたオイルを加温媒体として前記加温媒体導入部
６に導入するように構成されているが、前記液タンク３
内に貯蔵され加温された洗浄液２を加温媒体として使用
することもできる。
加熱装置が備えられ、このオイル加熱装置によって加熱
されたオイルを前記温度調整器４に導くとともに、この
加熱されたオイルを加温媒体として前記加温媒体導入部
６に導入するように構成されているが、前記液タンク３
内に貯蔵され加温された洗浄液２を加温媒体として使用
することもできる。
【００１９】前記洗浄槽５には、この底部に溜まった洗
浄液２を引き抜くための配管１０ｂが接続され、この配
管１０ｂの他端は、液戻しタンク１２に接続されている
とともに、この配管１０ｂの内部にはバルブ９ｂが介装
されている。なお、この液戻しタンク１２の内部には、
一対の液面検知スイッチ１４ａ，１４ｂを備えた水位計
１３が配置されている。
浄液２を引き抜くための配管１０ｂが接続され、この配
管１０ｂの他端は、液戻しタンク１２に接続されている
とともに、この配管１０ｂの内部にはバルブ９ｂが介装
されている。なお、この液戻しタンク１２の内部には、
一対の液面検知スイッチ１４ａ，１４ｂを備えた水位計
１３が配置されている。
【００２０】更に、超音波発振器２０を備えた超音波洗
浄槽２１が備えられ、この超音波洗浄槽２１と前記液戻
しタンク１２とは、配管１０ｃで繋がれているととも
に、この配管１０ｃ内にポンプ２２及びバルブ９ｃが介
装され、前記液戻しタンク１２内の洗浄液２が超音波洗
浄機２１内に導入されるようになっている。
浄槽２１が備えられ、この超音波洗浄槽２１と前記液戻
しタンク１２とは、配管１０ｃで繋がれているととも
に、この配管１０ｃ内にポンプ２２及びバルブ９ｃが介
装され、前記液戻しタンク１２内の洗浄液２が超音波洗
浄機２１内に導入されるようになっている。
【００２１】そして、前記超音波洗浄槽２１をオーバー
フローした洗浄液２は、配管１０ｄから排気タンク２３
内に導かれ、この排気タンク２３の内部に配置された冷
却コイル２４を介して冷却された後、配管１０ｅを通っ
て前記蒸留再生器１に戻されるよう構成されている。な
お、前記排気タンク２３の内部の液面の上方位置には、
ミスト回収フィルタ２５が配置されている。
フローした洗浄液２は、配管１０ｄから排気タンク２３
内に導かれ、この排気タンク２３の内部に配置された冷
却コイル２４を介して冷却された後、配管１０ｅを通っ
て前記蒸留再生器１に戻されるよう構成されている。な
お、前記排気タンク２３の内部の液面の上方位置には、
ミスト回収フィルタ２５が配置されている。
【００２２】ここに、前記液タンク２をオーバーフロー
した洗浄液２も、配管１０ｆ及びバルブ９ｄを介して、
排気タンク２３内に流入するようになっている。一方、
洗浄槽５には、前記したように、排気タンク２３に接続
された配管１０ｇが備えられ、バルブ９ｅ、コンデンサ
３０及び真空ポンプ３１が順次介装され、リーク弁３２
が設けられている。またコンデンサ３０は、バルブを介
して廃液タンク２３に接続されている。
した洗浄液２も、配管１０ｆ及びバルブ９ｄを介して、
排気タンク２３内に流入するようになっている。一方、
洗浄槽５には、前記したように、排気タンク２３に接続
された配管１０ｇが備えられ、バルブ９ｅ、コンデンサ
３０及び真空ポンプ３１が順次介装され、リーク弁３２
が設けられている。またコンデンサ３０は、バルブを介
して廃液タンク２３に接続されている。
【００２３】そして、大気圧または減圧下での洗浄が終
了した後、洗浄槽に貯留した洗浄液をバルブを開いて廃
液タンクに輸送した後、真空ポンプ３１によって、洗浄
槽５内を、例えば１００torr以下に減圧し、この減圧に
よって、洗浄槽５内に残留している洗浄液２を蒸発さ
せ、これによって、ワークＷをより短時間で乾燥するよ
うに構成されている。
了した後、洗浄槽に貯留した洗浄液をバルブを開いて廃
液タンクに輸送した後、真空ポンプ３１によって、洗浄
槽５内を、例えば１００torr以下に減圧し、この減圧に
よって、洗浄槽５内に残留している洗浄液２を蒸発さ
せ、これによって、ワークＷをより短時間で乾燥するよ
うに構成されている。
【００２４】次に、前記洗浄装置によるワークＷの洗浄
を、図２を参照して工程順に説明する。先ず、内部に洗
浄液２を導入した超音波洗浄機２１内にワークＷをセッ
トすることにより、常温大気圧下でワークＷを洗浄液２
内に浸漬させ、この状態で超音波発振器２０を作動させ
て超音波洗浄を行う（ステップ１）。この超音波洗浄を
行う際に超音波洗浄槽内を減圧する操作と、大気圧に開
放する操作とを１サイクル以上繰り返してもよい。この
操作を繰り返すことにより、たとえば袋物（中空のも
の）あるいは隙間が小さいため、洗浄液が浸入しにくい
ワークの一部分を精密に洗浄したり、また、ワークの洗
浄速度を早めることができる。
を、図２を参照して工程順に説明する。先ず、内部に洗
浄液２を導入した超音波洗浄機２１内にワークＷをセッ
トすることにより、常温大気圧下でワークＷを洗浄液２
内に浸漬させ、この状態で超音波発振器２０を作動させ
て超音波洗浄を行う（ステップ１）。この超音波洗浄を
行う際に超音波洗浄槽内を減圧する操作と、大気圧に開
放する操作とを１サイクル以上繰り返してもよい。この
操作を繰り返すことにより、たとえば袋物（中空のも
の）あるいは隙間が小さいため、洗浄液が浸入しにくい
ワークの一部分を精密に洗浄したり、また、ワークの洗
浄速度を早めることができる。
【００２５】次に、超音波洗浄後のワークを超音波洗浄
機２１から取出し、これを洗浄槽５内に移動させる（ス
テップ２）。そして、この状態で、加温媒体を加温媒体
導入部６に導入して、洗浄槽５を加温しつつ、バルブ９
ａを開き、シャワーポンプ８を駆動するかまたはバルブ
９ｅを開くとともに、真空ポンプ３１を駆動させること
により、液タンク３内に貯蔵され温度調節器４を介し
て、任意の温度例えば８０℃〜１００℃に加温された洗
浄液２を洗浄槽５内に導いて、ワークＷを大気圧または
減圧下で最終洗浄する（ステップ３）。
機２１から取出し、これを洗浄槽５内に移動させる（ス
テップ２）。そして、この状態で、加温媒体を加温媒体
導入部６に導入して、洗浄槽５を加温しつつ、バルブ９
ａを開き、シャワーポンプ８を駆動するかまたはバルブ
９ｅを開くとともに、真空ポンプ３１を駆動させること
により、液タンク３内に貯蔵され温度調節器４を介し
て、任意の温度例えば８０℃〜１００℃に加温された洗
浄液２を洗浄槽５内に導いて、ワークＷを大気圧または
減圧下で最終洗浄する（ステップ３）。
【００２６】この時、前記洗浄液２は、シャワー１１を
介して噴霧状でワークＷに降り掛かり、この結果、常に
汚れのない洗浄液２によってワークＷの洗浄が行われ、
しかも、洗浄槽５が加温されているため、洗浄槽５の周
壁の濡れが防止され、ワークＷも均一に加温される。
介して噴霧状でワークＷに降り掛かり、この結果、常に
汚れのない洗浄液２によってワークＷの洗浄が行われ、
しかも、洗浄槽５が加温されているため、洗浄槽５の周
壁の濡れが防止され、ワークＷも均一に加温される。
【００２７】しかる後、バルブ９ｂを開いて、洗浄槽５
の底部に溜まった洗浄液を液戻しタンク１２に排出する
（ステップ４）。これによって、洗浄槽５の底部に溜ま
った汚れた洗浄液がワークＷに再付着してしまうことを
防止することができる。また洗浄液が洗浄槽に残留して
いると、減圧して乾燥させる際に突沸によって汚染され
た洗浄液がワークに再付着してしまうことを防止するこ
とができる。
の底部に溜まった洗浄液を液戻しタンク１２に排出する
（ステップ４）。これによって、洗浄槽５の底部に溜ま
った汚れた洗浄液がワークＷに再付着してしまうことを
防止することができる。また洗浄液が洗浄槽に残留して
いると、減圧して乾燥させる際に突沸によって汚染され
た洗浄液がワークに再付着してしまうことを防止するこ
とができる。
【００２８】次に、前述のように、加温媒体を加温媒体
導入部６に導入して、洗浄槽５を加温したまま、バルブ
９ｅを開くとともに、真空ポンプ３１を駆動させて、洗
浄槽５内を、例えば１００torr以下に減圧し、洗浄・加
温されたワークＷを乾燥する（ステップ５）。
導入部６に導入して、洗浄槽５を加温したまま、バルブ
９ｅを開くとともに、真空ポンプ３１を駆動させて、洗
浄槽５内を、例えば１００torr以下に減圧し、洗浄・加
温されたワークＷを乾燥する（ステップ５）。
【００２９】この時、ワークＷを含め洗浄槽５内は一様
に加温されているため、この減圧に伴って、洗浄槽５内
に残留する洗浄液２は瞬時に蒸発し、これによって、ワ
ークＷの乾燥に要する時間の短縮化を図ることができ
る。
に加温されているため、この減圧に伴って、洗浄槽５内
に残留する洗浄液２は瞬時に蒸発し、これによって、ワ
ークＷの乾燥に要する時間の短縮化を図ることができ
る。
【００３０】最後に、加温媒体の加温媒体導入部６への
導入を停止し、リーク弁３２を開いて、洗浄槽５内を大
気圧に戻し、洗浄及び乾燥後のワークＷを洗浄槽５から
取出して次工程に搬送する（ステップ６）。なお、前記
真空ポンプ３１の前段にはコンデンサ３０が設けられ、
前記コンデンサ３０にはバルブ９ｈを介してトラップ液
タンク１３に接続し配管１０ｈを経て廃液タンクに接続
されている。このため真空ポンプ３１を停止せずにコン
デンサでトラップした洗浄液を抜くことができるので、
洗浄作業が中断されることが無く、また前段に設けられ
たコンデンサによって洗浄液の蒸気を完全にトラップで
きるので、真空ポンプを傷めることもなく、乾燥までに
時間を要せず、高温下では洗浄できないワークでも洗浄
が可能である。
導入を停止し、リーク弁３２を開いて、洗浄槽５内を大
気圧に戻し、洗浄及び乾燥後のワークＷを洗浄槽５から
取出して次工程に搬送する（ステップ６）。なお、前記
真空ポンプ３１の前段にはコンデンサ３０が設けられ、
前記コンデンサ３０にはバルブ９ｈを介してトラップ液
タンク１３に接続し配管１０ｈを経て廃液タンクに接続
されている。このため真空ポンプ３１を停止せずにコン
デンサでトラップした洗浄液を抜くことができるので、
洗浄作業が中断されることが無く、また前段に設けられ
たコンデンサによって洗浄液の蒸気を完全にトラップで
きるので、真空ポンプを傷めることもなく、乾燥までに
時間を要せず、高温下では洗浄できないワークでも洗浄
が可能である。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
洗浄槽を加温手段を介して加温しつつ、加温された洗浄
液を噴霧状態でワークに振り掛けることにより、汚れの
ない洗浄液を用いて大気圧下でワークを洗浄・加温する
ことができ、これによって、蒸気洗浄と同等或いはそれ
以上の洗浄効果を得ることができる。しかも、洗浄終了
後に洗浄槽内を減圧することによって、この内部に残っ
た洗浄剤を容易に蒸発させてワークをより短時間で乾燥
させることができる。
洗浄槽を加温手段を介して加温しつつ、加温された洗浄
液を噴霧状態でワークに振り掛けることにより、汚れの
ない洗浄液を用いて大気圧下でワークを洗浄・加温する
ことができ、これによって、蒸気洗浄と同等或いはそれ
以上の洗浄効果を得ることができる。しかも、洗浄終了
後に洗浄槽内を減圧することによって、この内部に残っ
た洗浄剤を容易に蒸発させてワークをより短時間で乾燥
させることができる。
【図１】本発明の一実施の形態を示す洗浄装置の系統
図。
図。
【図２】同じく、本発明の他の実施の形態を示す洗浄装
置の系統図。
置の系統図。
【図３】本発明に使用される洗浄液再生ユニット。
【図４】同じく、洗浄工程を工程順に示す工程図。
２ 洗浄液 ３ 液タンク ４ 温度調節器 ５ 洗浄槽 ６ 加熱媒体導入部（加温手段） ９ａ〜９ｈ バルブ １０ａ〜１０ｈ 配管 １１ シャワー １２ 廃液タンク １３ トラップ液タンク ２１ 超音波洗浄槽 ３０ コンデンサ ３１ 真空ポンプ（減圧手段） ３２ 大気開放手段
Claims (4)
- 【請求項１】 洗浄液を貯蔵し加温する液タンクと、周
囲に加温手段を設けた洗浄槽とを備え、前記洗浄槽の内
部に前記液タンクから加温されて送られてくる洗浄液を
噴霧状態で噴射するシャワーを配置するとともに、前記
洗浄槽内を減圧する減圧手段を備えたことを特徴とする
洗浄装置。 - 【請求項２】 前記加温手段の加熱媒体として加温した
洗浄液を使用したことを特徴とする請求項１記載の洗浄
装置。 - 【請求項３】 前記減圧手段の前段に洗浄液をトラップ
するためのコンデンサを設け、該コンデンサはバルブを
介してトラップ液タンクと接続されていることを特徴と
する請求項１または２に記載の洗浄装置 - 【請求項４】 洗浄槽を加温しつつ該洗浄槽内に加温し
た洗浄液を噴霧状態で導入してワークを大気圧下または
減圧下で洗浄・加温し、前記洗浄槽を加温したまま該洗
浄槽内を減圧してワークを乾燥することを特徴とする洗
浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21757596A JP3584126B2 (ja) | 1996-08-19 | 1996-08-19 | 洗浄装置及び洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21757596A JP3584126B2 (ja) | 1996-08-19 | 1996-08-19 | 洗浄装置及び洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1060676A true JPH1060676A (ja) | 1998-03-03 |
| JP3584126B2 JP3584126B2 (ja) | 2004-11-04 |
Family
ID=16706434
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21757596A Expired - Fee Related JP3584126B2 (ja) | 1996-08-19 | 1996-08-19 | 洗浄装置及び洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3584126B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002192091A (ja) * | 2000-12-27 | 2002-07-10 | Denso Corp | 被洗浄部材の洗浄方法および洗浄装置 |
| KR100794495B1 (ko) | 2006-11-29 | 2008-01-16 | 주식회사 고려반도체시스템 | 반도체 소자 제작용 설비의 플럭스 공급핀의 세척 장치 및 그 세척 방법 |
| JP2010022885A (ja) * | 2008-07-15 | 2010-02-04 | Shin Ootsuka Kk | 被処理物洗浄装置 |
| JP2016022414A (ja) * | 2014-07-18 | 2016-02-08 | 株式会社デンソー | 洗浄方法、及び、洗浄装置 |
| JP2018083155A (ja) * | 2016-11-24 | 2018-05-31 | 株式会社シー・シー・アイ | 真空脱脂洗浄装置、及びその洗浄方法 |
| JP2021115519A (ja) * | 2020-01-27 | 2021-08-10 | アクトファイブ株式会社 | 蒸気洗浄減圧乾燥装置 |
| JP2023112309A (ja) * | 2022-02-01 | 2023-08-14 | アクトファイブ株式会社 | 炭化水素回収装置及び洗浄装置 |
-
1996
- 1996-08-19 JP JP21757596A patent/JP3584126B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
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| KR100794495B1 (ko) | 2006-11-29 | 2008-01-16 | 주식회사 고려반도체시스템 | 반도체 소자 제작용 설비의 플럭스 공급핀의 세척 장치 및 그 세척 방법 |
| JP2010022885A (ja) * | 2008-07-15 | 2010-02-04 | Shin Ootsuka Kk | 被処理物洗浄装置 |
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| JP3584126B2 (ja) | 2004-11-04 |
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