JPH1063025A

JPH1063025A - 電子写真感光体

Info

Publication number: JPH1063025A
Application number: JP21837396A
Authority: JP
Inventors: Shinji Kato; 愼治加藤; Yoshitomo Yonehara; 祥友米原; Shiyoushin Boku; 鐘震朴
Original assignee: Kawamura Institute of Chemical Research
Current assignee: Kawamura Institute of Chemical Research
Priority date: 1996-08-20
Filing date: 1996-08-20
Publication date: 1998-03-06

Abstract

(57)【要約】【解決手段】電極層、例えば表面にアルミニウム酸化
物層を有するアルミニウム板と感光体層を有する電子写
真感光体であって、該電極層の感光体層側に自己組織化
ポリマー薄膜、例えばアルコキシシリル基、ハロシリル
基、カルボキシル基、ヒドロキサム酸基、ホスホン酸
基、リン酸エステル基、メルカプト基、スルフィド基、
ジスルフィド基等の表面活性基を有する薄膜形成用ポリ
マー等からなる自己組織化ポリマー薄膜、例えばメタク
リル酸−３−トリメトキシシリルプロピルとメタクリル
酸メチルのコポリマーからなる自己組織化されたポリマ
ー薄膜が形成されている電子写真感光体。【効果】感度が向上した電子写真感光体である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真感光体に
関し、更に詳しくは、電極層を自己組織化ポリマー薄膜
で被覆した上に感光層を形成してなる改善された感度を
有する電子写真感光体、例えば、コピー機械用感光体、
レーザープリンター用感光体等に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、電子写真感光体における光導電性
物質としては、種々の無機系および有機系の光導電物質
が用いられてきた（東レリサーチセンター、電子写真用
感光材料の新展開、（１９９４））。有機系光導電物質
を使用する場合、感光体の感度および耐久性を改善する
ために、電極層上に電荷発生層と電荷輸送層を積層した
機能分離型電子写真感光体が主に使用されている。ま
た、電極層上に電荷発生と電荷輸送の両機能を有した単
層の感光層を形成した感光体も開発されている。

【０００３】このような電子写真感光体は、基本的には
電極層と感光層とから構成されており、電極層として
は、加工性、表面性状、価格、重量などの点から、アル
ミニウム管が一般に使用されている。

【０００４】しかしながら、アルミニウム表面の欠陥に
起因して、電気特性の不均一化、塗膜外観上の欠陥ある
いは印字における画像上の黒点、白ぬけ、かぶり等の種
々の欠陥を生じていた（相沢政男、電子写真学会誌、第
２８巻、ｐ１８６−１９５（１９８９））。これらの欠
陥を抑えるために種々の工夫がなされている。即ち、感
光体の電気特性の改良、電極層と感光層との接着性の向
上、感光層の塗工性の改善、電極層の欠陥被覆、電極層
からの電荷注入の防止、あるいは干渉縞の防止などを目
的として、下引き層が電極層と感光層の間に設けられて
きた。

【０００５】これらの工夫としては、ポリマー塗膜（特
開平５−６１２３２号公報）、カーボンをポリマーに分
散させた塗膜（特開昭５１−６５９４２号公報）、スズ
あるいはアルミニウム酸化物をポリマーに分散させた塗
膜（特開昭５８−５８５５６号公報）、シランカップリ
ング剤をナイロンに分散させた塗膜（特開平５−１０７
７９２号公報）、シランカップリング剤で処理された金
属酸化物粒子をポリマー中に分散させた塗膜（特開平４
−２２９８７２号公報）、シランカップリング剤を電極
表面に塗布した上に硫化亜鉛薄膜を形成した感光体（特
開昭５６−７２４４８号公報）、シランカップリング剤
溶液を電極層上に塗布して電荷注入阻止層を設ける方法
（特開昭６１−１０９０６４号公報）、電極層をシリル
化することにより異常画像の発生を防止する方法（特開
昭６２−２８７２５９号公報）、シランカップリング剤
処理を陽極酸化されたアルミニウム基板に施して親水化
層を形成し、その上に感光層を設ける方法（特開昭６３
−５０８５５号公報）、電極層をシランカップリング剤
のフロン溶液で処理する方法（特開平１−１１４８５６
号公報）、シランカップリング剤を電極層に塗布するこ
とで電極層の濡れ性を改善する手法（特開平４−２４７
４６１号公報）などが開示されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の開示例は、いずれも電極層と感光体層の間にシランカ
プリング剤等を含む塗膜を形成するものであり、膜厚も
５０ｎｍ〜１５μｍと厚く、感度を低下させないとして
も、感度を向上させる効果はなかった。また、その厚さ
のため、感度を犠牲にして、前記欠陥の除去のみを目的
とするものもあり、高感度感光体を構築するには未だ不
満足なものであった。

【０００７】本発明の課題は、感度が向上した電子写真
感光体を提供することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、電極層の感光
体層側に自己組織化ポリマー薄膜、好ましくは電極層と
直接化学結合している自己組織化ポリマー薄膜、例え
ば、アルコキシシリル基、ハロシリル基、カルボキシル
基、メルカプト基等の官能基を有する薄膜形成用ポリマ
ーからなる薄膜や有機アルコキシシラン類、有機ハロシ
ラン類、カルボン酸類、チオール類等の自己組織化膜形
成用化合物からなる自己組織化膜上にポリマーが化学結
合してなる薄膜などが形成されている電子写真感光体
は、該自己組織化ポリマー薄膜が形成されていることに
より、上記課題が解決され、感度が向上した電子写真感
光体であることを見い出し、本発明を完成するに至っ
た。

【０００９】即ち、本発明は、（１）電極層と感光体
層を有する電子写真感光体であって、該電極層の感光体
層側に自己組織化ポリマー薄膜が形成されていることを
特徴とする電子写真感光体、（２）自己組織化ポリマ
ー薄膜が、電極層上に直接化学結合している膜である上
記（１）記載の電子写真感光体、（３）自己組織化ポ
リマー薄膜が、アルコキシシリル基、ハロシリル基、カ
ルボキシル基およびメルカプト基からなる群から選ばれ
る１種以上の表面活性基を有する自己組織化ポリマー薄
膜形成用ポリマーからなる薄膜である上記（２）記載の
電子写真感光体、（４）自己組織化ポリマー薄膜が、
アルコキシシリル基、ハロシリル基およびカルボキシル
基からなる群から選ばれる１種以上の表面活性基を含む
自己組織化ポリマー薄膜形成用ポリマーからなる自己組
織化ポリマー薄膜であり、かつ、表面にスズ、インジウ
ム、アルミニウムまたは銅の酸化物を有する電極層の酸
化物と化学結合している薄膜である上記（２）記載の電
子写真感光体、（５）自己組織化ポリマー薄膜が、
（メタ）アクリル酸誘導体単位を含むポリマー類から選
ばれた１種以上の自己組織化ポリマー薄膜形成用ポリマ
ーからなる膜である上記（２）、（３）または（４）記
載の電子写真感光体、

【００１０】（６）自己組織化ポリマー薄膜が、電極
層を自己組織化ポリマー薄膜形成用ポリマーの溶液に接
触させて自己組織化ポリマー薄膜形成用ポリマーを電極
層と反応させた後、電極層を該溶液から分離し、自己組
織化ポリマー薄膜形成用ポリマーが溶解する溶液で洗浄
して、未反応の自己組織化ポリマー薄膜形成用ポリマー
を除去して得たものである上記（１）〜（５）のいずれ
か１つに記載の電子写真感光体、（７）自己組織化ポ
リマー薄膜が、電極層をアルコキシシリル基、および／
またはハロシリル基を含む自己組織化ポリマー薄膜形成
用ポリマーの溶液に接触させて自己組織化ポリマー薄膜
形成用ポリマーを電極層と反応させた後、電極層を該溶
液から分離し、自己組織化ポリマー薄膜形成用ポリマー
が溶解する溶液で洗浄して、未反応の自己組織化ポリマ
ー薄膜形成用ポリマーを除去した後、加熱処理して得た
ものである上記（１）〜（５）のいずれか１つに記載の
電子写真感光体、（８）自己組織化ポリマー薄膜形成
用ポリマーの溶液が、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水
素、ハロゲン化炭化水素、アルコール、エーテル系化合
物、ケトン系化合物および水からなる群から選ばれる１
種以上の溶媒に自己組織化ポリマー薄膜形成用ポリマー
を、この自己組織化ポリマー薄膜形成用ポリマー中の表
面活性基濃度が０．００１ｍｍｏｌ／リットル〜１ｍｏ
ｌ／リットルとなる範囲で溶解させた溶液である上記
（６）または（７）記載の電子写真感光体、

【００１１】（９）自己組織化ポリマー薄膜が、有機
アルコキシシラン類、有機ハロシラン類、カルボン酸類
およびチオール類からなる群から選ばれる１種以上の自
己組織化膜形成用化合物からなる自己組織化膜上に、ポ
リマーが化学結合されてなる薄膜である上記（２）記載
の電子写真感光体、（１０）自己組織化ポリマー薄膜
が、末端に官能基を有する自己組織化膜を電極層上に形
成した後、該官能基と反応する官能基を有するポリマー
を反応させて形成した薄膜である上記（９）記載の電子
写真感光体、（１１）自己組織化膜が、有機アルコキ
シシラン類、有機ハロシラン類およびカルボン酸類から
なる群から選ばれる１種以上の自己組織化膜形成用化合
物からなる自己組織化膜であり、かつ、表面にスズ、イ
ンジウム、アルミニウムまたは銅の酸化物を有する電極
層の酸化物と化学結合している自己組織化膜である上記
（９）または（１０）記載の電子写真感光体、

【００１２】（１２）自己組織化膜が、有機アルコキ
シシラン類、有機ハロシラン類およびカルボン酸類から
なる群から選ばれる１種以上の自己組織化膜形成用化合
物であって、炭素原子数１〜３０のアルキレン基を介し
てアミノ基を有するものからなる、末端にアミノ基を有
する自己組織化膜であり、かつ、自己組織化ポリマー薄
膜が、該末端にアミノ基を有する自己組織化膜とカルボ
キシル基を有するポリマーとを反応させてアンモニウム
塩を形成させて得た薄膜である上記（１０）または（１
１）記載の電子写真感光体、（１３）自己組織化ポリ
マー薄膜が、末端にアミノ基を有する自己組織化膜とマ
レイン酸単位を有するポリマーとを反応させてアンモニ
ウム塩を形成させた後、加熱処理してイミド結合を形成
させて得た薄膜である上記（１２）記載の電子写真感光
体、（１４）自己組織化ポリマー薄膜が、末端に官能
基を有する自己組織化膜が形成された電極層を、該官能
基と反応する官能基を有するポリマーの溶液に接触させ
て反応させた後、電極層を該溶液から分離し、ポリマー
が溶解する溶媒で洗浄して、未反応のポリマーを除去し
て得た薄膜である上記（９）〜（１３）のいずれか１つ
に記載の電子写真感光体、（１５）末端に官能基を有
する自己組織化膜が形成された電極層の末端の官能基と
反応する官能基を有するポリマーの溶液が、脂肪族炭化
水素、芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、アルコー
ル、エーテル系化合物、ケトン系化合物および水からな
る群から選ばれる１種以上の溶媒に該ポリマーを、その
官能基濃度が０．００１ｍｍｏｌ／リットル〜１ｍｏｌ
／リットルとなる範囲で溶解させた溶液である上記（１
４）記載の電子写真感光体、

【００１３】（１６）自己組織化膜が、電極層を自己
組織化膜形成用化合物の溶液に接触させて自己組織化膜
形成用化合物を電極層と反応させた後、電極層を該溶液
から分離し、自己組織化膜形成用化合物が溶解する溶液
で洗浄して、未反応の自己組織化膜形成用化合物を除去
して得た自己組織化膜である上記（９）〜（１５）のい
ずれか１つに記載の電子写真感光体、（１７）自己組
織化膜が、自己組織化膜形成用化合物として有機アルコ
キシシラン類および／または有機ハロシラン類を用い、
かつ電極層を自己組織化膜形成用化合物の溶液に接触さ
せて自己組織化膜形成用化合物を電極層と反応させた
後、電極層を該溶液から分離し、自己組織化膜形成用化
合物が溶解する溶液で洗浄して、未反応の自己組織化膜
形成用化合物を除去し、次いで加熱処理して得た自己組
織化膜である上記（９）〜（１５）のいずれか１つに記
載の電子写真感光体、（１８）自己組織化膜形成用化
合物の溶液が、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、アル
コール、エーテル系化合物および水からなる群から選ば
れる１種以上の溶媒に自己組織化膜形成用化合物を、そ
の濃度が０．００１ｍｍｏｌ／リットル〜５ｍｏｌ／リ
ットルとなる範囲で溶解させた溶液である上記（１６）
または（１７）記載の電子写真感光体、

【００１４】（１９）自己組織化ポリマー薄膜の膜厚
が、１〜１０ｎｍの範囲にある上記（１）〜（１８）の
いずれか１つに記載の電子写真感光体、（２０）感光
体層が、感光性物質としてフタロシアニン顔料を含有す
るものである上記（１）〜（１９）のいずれか１つに記
載の電子写真感光体、および（２１）フタロシアニン
顔料が、オキソチタニウムフタロシアニンである上記
（２０）記載の電子写真感光体、に関する。

【００１５】

【発明の実施の形態】次に、本発明を詳細に説明する。
本発明の電子写真感光体において、電極層としては、電
気の良導体であれば良く、例えば、アルミニウム、
銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデ
ン、バナジウム、インジウム、金、銀、白金等の金属、
またはこれら金属の１種以上を含む合金で形成された金
属板、金属ドラム、金属ベルト等からなる電極層、ポ
リマーフィルム、ポリマー管等への金属の蒸着またはス
パッタリング、金属コロイドの塗布・加熱処理等の手法
によりドラム、ベルト等の表面に形成された上記金属の
１種以上を含む金属からなる電極層、ポリマーフィル
ム、ポリマー管等への塗布、蒸着、パッタリング等の手
法によりドラム、ベルト等の表面に形成された酸化スズ
（ＮＥＳＡ）、インジウムチンオキシド（ＩＴＯ）、酸
化亜鉛、酸化チタン等を含んでなる電極層等が挙げられ
る。これら電極層の中でも、価格の面からは、アルミニ
ウムドラム、および蒸着、イオンプレーティング、スパ
ッタリング等の手法によりドラム、ベルト等の表面に形
成されたアルミニウム、酸化スズ（ＮＥＳＡ）もしくは
インジウムチンオキシド（ＩＴＯ）からなる電極層が好
ましい。

【００１６】また、電極層として、酸化スズ（ＮＥＳ
Ａ）あるいはインジウムチンオキシド（ＩＴＯ）からな
る電極層を用いる場合、蒸着、イオンプレーティング、
スパッタリング等の手法により形成した電極層を、アル
カリ溶液処理、オゾン処理、酸素存在下での紫外光の照
射、真空紫外光の照射、プラズマによる親水化等の親水
化処理を施して用いると、自己組織化ポリマー薄膜形成
を完全ならしめる上で有効であり、好ましい。アルカリ
溶液処理の場合、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化リ
チウム、水酸化カリウム等の水溶液、アルコール溶液、
水／アルコール混合溶液等に浸漬すれば良く、この時、
アルカリは、通常０．００１ｍｍｏｌ／リットル〜５ｍ
ｏｌ／リットルとなる濃度で用いられるが、なかでも
０．０１ｍｍｏｌ／リットル〜１ｍｏｌ／リットルとな
る濃度が推奨できる。処理時間に特に制限は無いが、通
常、室温下、０．５〜５時間の範囲が推奨できる。ま
た、酸素存在下での紫外光や真空紫外光の照射は、酸素
含有気体中で、波長１５０ｎｍ〜３８０ｎｍの範囲の光
を短時間、例えば、１分から１時間程度照射することで
行える。プラズマによる親水化処理は専用のプラズマ装
置やスパッタリング用装置を用いて酸素存在下で処理す
ることで達成される。

【００１７】本発明の電子写真感光体としては、電荷発
生層と電荷輸送層を積層した機能分離型感光体層が主に
使用されるが、電荷発生と電荷輸送の両機能を有した単
層の感光体層であってもよい。

【００１８】上記の感光体層で用いられる電荷発生材料
としては、有機材料、無機材料いずれでもよいが、有機
光導電材料が好ましく、例えば、アゾ系顔料、キノン系
顔料、ペリレン系顔料、インジゴ系顔料、チオインジゴ
系顔料、ビスベンゾイミダゾール系顔料、フタロシアニ
ン系顔料、ナフタロシアニン系顔料、キナクリドン系顔
料、キノリン系顔料、アントラキノン系顔料、オキサジ
ン系顔料、トリフェニルメタン系顔料、アズレニウム系
染料、スクアリリウム系染料、ピリリウム系染料、シア
ニン系染料、ピロロピロール系顔料、Ｃ６０，Ｃ７０等
のフラーレン系化合物等を挙げることができる。これら
は、例示の化合物に限定されるものではなく、混合して
用いることもできる。また、これらの中でも、フタロシ
アニン系顔料が好ましく、特にオキソチタニウムフタロ
シアニンが好適である。

【００１９】これらの電荷発生材料は、例えば、電極上
に自己組織化ポリマー薄膜を介して結着樹脂中に分散し
て塗布されるか、真空蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ等
の手法で製膜されて用いられる。

【００２０】機能分離型感光体層で用いられる電荷輸送
材料としては、一般に電子を輸送する物質と、正孔を輸
送する物質に分類されるが、本発明の電子写真感光体に
は何れも使用できる。これらの材料として、特に限定は
なく、既知の材料系を使用できる。例えば、電子写真用
感光材料の新展開（東レリサーチセンター、（１９９
４））に記載されている材料等を用いることができる。
例示するならば、クロラニル系化合物、テトラシアノキ
ノジメタン系化合物、トリニトロフルオレノン系化合
物、ジフェノキノン系化合物、縮合多環芳香族系化合
物、ヒドラゾン系化合物、トリフェニルアミン系化合
物、ポリビニルカルバゾール系化合物、ポリシラン系化
合物等があり、これらは２種以上混合して用いても良
い。これらの材料は、結着樹脂中に分散して塗布される
か、真空蒸着等の手法で製膜されて感光層に用いられる
が、好ましくは結着樹脂中に分散して塗布されて用いら
れる。

【００２１】また、単層の感光体層の場合は、前記電荷
発生材料が結着樹脂中に分散して塗布されるか、真空蒸
着等の手法で製膜されて用いられる。この場合、２種以
上の電荷発生材料を混合して用いても良く、更に電荷発
生層材料と電荷輸送層材料を混合して用いることもでき
る。

【００２２】感光体層で用いる結着樹脂としては、特に
制限はなく、例えば、電子写真用感光材料の新展開（東
レリサーチセンター、（１９９４））に記載されている
材料等を用いることができる。例示するならば、ポリビ
ニル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系
樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリメタクリル系樹脂、ス
チレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリ
ロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マ
レイン酸共重合体、シリコン樹脂、フェノール樹脂、ア
ルキッド樹脂、ポリビニルブチラール、ポリスルフォ
ン、ポリウレタン等が挙げられるが、これらに限定され
るものではなく、また２種以上を混合して用いることも
できる。

【００２３】また、これらの結着樹脂とともに、添加
剤、例えば、可塑剤、増感剤、表面改質剤等を添加する
こともできる。

【００２４】塗布により単層の感光体層を構成する場合
は、通常上記電荷発生材料を結着樹脂溶液に分散または
溶解した塗料を用いる。この場合、溶媒に特に制限はな
く、結着樹脂を溶解すれば良い。また、必要に応じて上
記電荷発生材料を溶解する溶剤を選択すれば良い。

【００２５】塗布により機能分離型感光体層を構成する
場合も同様に、通常上記電荷発生材料あるいは電荷輸送
材料を結着樹脂溶液に分散または溶解した塗料を用い
る。この場合も同様に、溶媒に特に制限はなく、電荷発
生材料用結着樹脂あるいは電荷輸送材料用結着樹脂を溶
解する適当な溶媒を用いることができる。一般には電荷
発生層の上に電荷輸送層を形成するので、電荷輸送用塗
料溶液を作製する際は、電荷発生層を溶解しない溶媒を
用いることが好ましい。具体的溶媒例としては、メタノ
ール、エタノール、プロパノール、ペンタノール等のア
ルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ジク
ロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，１，２−
トリクロロエタン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサ
ン、１，２−ジメトキシエタン、ジグライム等のエーテ
ル類、酢酸エチル、酢酸プロピル等のエステル類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、１，２−
ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメ
チルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン等の非プロト
ン性極性溶媒等の中から適宜選択できる。また、これら
は混合して用いることもできる。

【００２６】電荷発生材料を、結着樹脂中に分散させる
方法としては、特に一般に使用される手法、例えば、相
沢政男著、電子写真学会誌、第２８巻、ｐ１８６−１９
５（１９８９）等に記載の分散手法等を用いることがで
きる。例示するならば、ボールミル、ペイントコンディ
ショナー、サンドミル、ニーダー、アトライター、三本
ロール、ジェットミル等を用いて分散させる方法が挙げ
られる。

【００２７】感光体層の塗工方法としては、特に一般に
使用される手法、例えば、相沢政男著、電子写真学会
誌、第２８巻、ｐ１８６−１９５（１９８９）等に記載
の塗工方法等を用いることができる。例示するならば、
ディップコート、スプレーコート、リングコート、ブレ
ードコート法等による塗工方法が挙げられる。

【００２８】本発明の電子写真感光体の特徴は、電極層
の感光体層側に自己組織化ポリマー薄膜が形成されてい
ることにあり、この自己組織化ポリマー薄膜と類似の薄
膜として、特定の化合物、例えば、有機アルコキシシラ
ン類、有機ハロシラン類、カルボン酸類、ヒドロキサム
酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類、チオール類、
スルフィド類（ジスルフィド類も含む。以下同様）等か
らなる自己組織化膜が既に公知である。

【００２９】上記特定の化合物（以下、「自己組織化膜
形成用化合物」と言う）の溶液に金属等の基板を浸漬す
ると、この自己組織化膜形成用化合物が、まず基板表面
に吸着し、次いで化学結合あるいは化学結合に匹敵する
エネルギーで表面に特殊な吸着（化学吸着）を起こし、
自ら組織化しながら最終的には基板表面に緻密な単分子
膜（自己組織化膜）を形成する（Ｌ．Ｗｅｔｚｅｒ、
Ｒ．Ｉｓｏｃｏｖｉｃｈｉ、Ｊ．Ｓａｇｉｖ、
ＴｈｉｎＳｏｌｉｄＦｉｌｍｓ、第９９巻、
ｐ２３５（１９８３）、Ｊ．Ｐ．Ｆｏｌｋｅｒ
ｓ、Ｃ．Ｂ．Ｇｏｒｍａｎ、Ｐ．Ｅ．Ｌａｉ
ｂｉｎｉｓ、Ｓ．Ｂｕｃｈｈｏｌｚ、Ｇ．Ｍ．
Ｗｈｉｔｅｓｉｄｅｓ、Ｒ．Ｇ．Ｎｕｚｚｏ、
Ｌａｎｇｍｕｉｒ、第１１巻、ｐ８１３（１９９
５））。

【００３０】ここにおいて、例えば、表面に金属酸化物
を有する基板を用いた場合は、図１の概念図のように、
有機アルコキシシラン類、有機ハロシラン類、カルボン
酸類、ヒドロキサム酸類、ホスホン酸類、リン酸エステ
ル類等が有するアルコキシシリル基、ハロシリル基、カ
ルボキシル基、ヒドロキサム酸基、ホスホン酸基、リン
酸エステル基等の表面活性基が表面の金属酸化物と化学
結合して、また、表面に金属酸化物を有していない基板
を用いた場合は、図２の概念図のように、チオール類、
スルフィド類の有するメルカプト基、スルフィド基、ジ
スルフィド基等の表面活性基が表面と化学結合に匹敵す
る吸着（化学吸着）をして、基板表面に組織化された緻
密な自己組織化膜を形成する（Ｉ．Ｍ．Ｔｉｄｓｗ
ｅｌｌら著，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｐｈｙｓ．、第９
５巻、ｐ２８５４（１９９１）、東芝シリコーン、
ＰｒｏｄｕｃｔｓＩｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ、Ｓ−０
００２等参照）。尚、図１および図２において、１は置
換されていてもよいアルキル基、Ｍは金属原子である。

【００３１】本発明において、自己組織化ポリマー薄膜
とは、電極層表面に自己組織的に形成されたポリマーの
薄膜であり、例えば、基板として電極層を用い、１）自
己組織化膜形成用化合物の代わりに、自己組織化膜形成
用化合物と同様の表面活性基を有するポリマー（以下、
「自己組織化ポリマー薄膜形成用ポリマー」と言う）を
用いた以外は上記の自己組織化膜形成方法と同様にし
て、電極層表面に自己組織的に形成されたポリマー薄膜
や、２）上記の自己組織化膜形成方法と同様にして電極
層表面に形成された自己組織化膜上に、ポリマーが化学
結合されてなるポリマー薄膜等が挙げられる。また、上
記２）のポリマー薄膜としては、例えば、ａ）末端に官
能基を有する自己組織化膜を形成した後、該官能基と反
応する官能基を有するポリマーを反応させてなるポリマ
ー薄膜や、ｂ）末端に重合性基を有する自己組織化膜を
形成した後、重合させてなるポリマー薄膜等がある。

【００３２】上記本発明の自己組織化ポリマー薄膜をよ
り具体的に説明すると、まず、上記１）のポリマー薄膜
としては、自己組織化ポリマー薄膜形成用ポリマーとし
て、例えば、アルコキシシリル基、ハロシリル基、カル
ボキシル基、ヒドロキサム酸基、ホスホン酸基、リン酸
エステル基、メルカプト基、スルフィド基、ジスルフィ
ド基等の表面活性基を有するポリマーを用いて、図３の
概念図のように、電極層上に形成した自己組織化ポリマ
ー薄膜等が挙げられる。尚、図３において、２はポリマ
ー主鎖、３は置換されていてもよいアルキレン基、４は
電極層表面、Ｘは表面活性基、Ｙは電極層表面と結合後
のＸ中の残基である。

【００３３】次いで、上記２）のポリマー薄膜として
は、ａ）図４の概念図のように、自己組織化膜形成用化
合物として末端に官能基を有する自己組織化膜形成用化
合物を用いて、末端に官能基、例えば、アミノ基を有す
る自己組織化膜を電極層上に得た後、これと反応する官
能基、例えば、カルボキシル基を有するポリマーとを反
応させて形成した自己組織化ポリマー薄膜や、ｂ）図５
の概念図のように、自己組織化膜形成用化合物として末
端に重合性基を有する自己組織化膜形成用化合物を用い
て、末端に重合性基を有する自己組織化膜を電極層上に
得た後、得られた自己組織化膜の末端の重合性基を重合
せしめて形成した自己組織化ポリマー薄膜等が挙げられ
る。尚、図４および図５において、２はポリマー主鎖、
３は置換されていてもよいアルキレン基、４は電極層表
面、Ｘは表面活性基、Ｙは電極層表面と結合後のＸ中の
残基、Ａは官能基、Ａ′はＡと反応する官能基、ＢはＡ
とＡ′の反応により生じた結合単位、Ｃは重合性基、５
はＣの重合により生じたポリマー主鎖である。

【００３４】上記１）の製造方法において、自己組織化
ポリマー薄膜形成用ポリマーのうち、表面活性基として
アルコキシシリル基、ハロシリル基、カルボキシル基、
ヒドロキサム酸基、ホスホン酸基、リン酸エステル基等
を有するポリマーは、表面に金属酸化物を有する電極層
と反応して自己組織化ポリマー薄膜を形成し、表面活性
基としてメルカプト基、スルフィド基、ジスルフィド基
等を有するポリマーは、金属酸化物を有さない電極層と
反応して、電極層表面に自己組織化ポリマー薄膜を形成
する。また、上記２）のａ）、ｂ）の製造方法におい
て、自己組織化膜形成用化合物のうち、有機アルコキシ
シラン類、有機ハロシラン類、カルボン酸類、ヒドロキ
サム酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類等は、表面
に金属酸化物を有する電極層と反応して自己組織化膜を
形成し、チオール類、スルフィド類は、金属酸化物を有
さない電極層と反応して、電極層表面に自己組織化膜を
形成する。

【００３５】上記表面に金属酸化物を有する電極層とし
ては、元々酸化物導電体からなる、酸化スズ（ＮＥＳ
Ａ）、インジウムチンオキシド（ＩＴＯ）等の電極層に
加えて、アルミニウム、銅、クロム、チタニウム、鉄、
ニッケル等の金属の上に発生した自然酸化膜を含有する
電極層等が好適である。これらの金属においては、これ
らの金属の自然酸化膜がそれぞれの表面に形成されるこ
とが知られている〔Ｗ．Ａ．Ｎｅｖｉｎ、Ｇ．Ａ．Ｃｈ
ａｍｂｅｒｌａｉｎ、ＩＥＥＥＴｒａｎｓ．Ｅｌｅｃ
ｔｒｏｎＤｅｖｉｃｅｓ、第４０巻、ｐ７５（１９９
３）、Ｌ．Ｗｅｔｚｅｒ、Ｒ．Ｉｓｏｃｏｖｉｃｈｉ、
Ｊ．Ｓａｇｉｖ、ＴｈｉｎＳｏｌｉｄＦｉｌｍｓ、第
９９巻、ｐ２３５（１９８３）およびＪ．Ｐ．Ｆｏｌｋ
ｅｒｓ、Ｃ．Ｂ．Ｇｏｒｍａｎ、Ｐ．Ｅ．Ｌａｉｂｉｎ
ｉｓ、Ｓ．Ｂｕｃｈｈｏｌｚ、Ｇ．Ｍ．Ｗｈｉｔｅｓｉ
ｄｅｓ、Ｒ．Ｇ．Ｎｕｚｚｏ、Ｌａｎｇｍｕｉｒ、第１
１巻、ｐ８１３（１９９５）等〕。更に、これら自然酸
化膜を電気化学的に陽極酸化等を行って、金属酸化物層
を厚くして用いることもできる。

【００３６】また、表面に金属酸化物を有さない電極層
としては、金、白金、銀、銅等の表面に酸化物層を有さ
ない電極層が好適である。

【００３７】尚、上記自己組織化ポリマー薄膜形成用ポ
リマーまたは自己組織化膜形成用化合物と電極層との組
み合わせとしては、アルコキシシリル基、ハロシリル基
およびカルボキシル基からなる群から選ばれる１種以上
の表面活性基を有する自己組織化ポリマー薄膜形成用ポ
リマー、または有機アルコキシシラン類、有機ハロシラ
ン類およびカルボン酸類からなる群から選ばれる１種以
上の自己組織化膜形成用化合物と、表面にスズ、インジ
ウム、アルミニウムまたは銅の酸化物を有する電極層と
の組み合わせが好ましい。

【００３８】上記１）の製造方法で用いる自己組織化ポ
リマー薄膜形成用ポリマーの主鎖構造は、特に制限はな
く、ホモポリマーあるいはコポリマーいずれでもよく、
繰り返し単位としてエチレン構造、オキシエチレン構
造、イミノエチレン構造、ペプチド構造、無機ポリマー
構造等が挙げられるが、この例示の繰り返し単位に限定
されるものではない。特に、(メタ)アクリル酸誘導体単
位を含むポリマーが推奨される。

【００３９】また、この自己組織化ポリマー薄膜形成用
ポリマーは、アルコキシシリル基、ハロシリル基、カル
ボキシル基、ヒドロキサム酸基、ホスホン酸基、リン酸
エステル基、メルカプト基、スルフィド基、ジスルフィ
ド基等の表面活性基を通常側鎖末端に有する。これらの
表面活性基の中でも、アルコキシシリル基、ハロシリル
基、カルボキシル基が好ましく、特にアルコキシシリル
基、ハロシリル基が好ましい。

【００４０】更に、これらの表面活性基を自己組織化ポ
リマー薄膜形成用ポリマーの主鎖に連結するスペーサー
の構造は特に制限はないが、炭素原子数１〜３０のアル
キレン基が好ましい。自己組織化ポリマー薄膜形成用ポ
リマーの重合度は、特に制限はないが、５〜１００００
の範囲が好ましく、特に２０〜５０００の範囲が推奨で
きる。

【００４１】上記自己組織化ポリマー薄膜形成用ポリマ
ーは、例えば、重合性基を有する自己組織化膜形成用化
合物、即ち、有機アルコキシシラン類、有機ハロシラン
類、カルボン酸類、ヒドロキサム酸類、ホスホン酸類、
リン酸エステル類、チオール類、スルフィド類等であっ
て、重合性基を有するものを単独重合させて、あるいは
他の重合性化合物と共重合させて得ることができる。そ
れらを例示すると、（メタ）アクリル酸エステル基、ス
チリル基等のビニル基によるポリビニル誘導体、エポキ
シ基によるポリオキシエチレン、オキサゾリル基による
ポリイミノエチレン誘導体、アミノ酸単位によるポリペ
プチド誘導体、ボロン酸単位による無機ポリマー等が挙
げられるが、これら例示に限定されるものではない。こ
こで用いる重合性基を有する自己組織化膜形成用化合物
は、市販されている化合物（例えば、信越化学工業株式
会社の珪素化合物試薬カタログ記載のメタクリル酸−３
−トリメトキシシリルプロピル等）を使用してもよく、
また、適宜合成して使用することもできる（例えば、メ
タクリル酸−１１−トリエトキシシリルウンデシル
等）。

【００４２】上記２）のａ）の製造方法で用いる末端に
官能基を有する自己組織化膜形成用化合物としては、一
種以上の官能基を有するポリマーと反応可能な官能基を
有するものであればよく、例えば下記一般式（１）〜
（６）、ＡＲ₁ＳｉＲ₂Ｒ₃Ｘ・・・（１）ＡＲ₁ＣＯ₂Ｈ・・・（２）ＡＲ₁ＣＯＮＨＯＨ・・・（３）ＡＲ₁ＰＯ₃Ｈ₂ ・・・（４）ＡＲ₁ＯＰＯ₃Ｈ₂・・・（５）ＡＲ₁ＳＨ・・・（６）（式中、Ａは一種以上の官能基を有するポリマーと反応
可能な官能基、Ｒ₁は置換されていてもよいアルキレン
基または芳香族基、Ｒ₂、Ｒ₃は同一でも異なっていても
よい、低級アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原
子、Ｘはアルコキシ基またはハロゲン原子を表わす。）
で示される化合物等が挙げられ、これらの中でも、有機
アルコキシシラン類、有機ハロシラン類、カルボン酸類
が好ましく、特に有機アルコキシシラン類、有機ハロシ
ラン類が好ましい。

【００４３】上記官能基を有する自己組織化膜形成用化
合物をより具体的に示すと、有機アルコキシシラン類、
有機ハロシラン類、カルボン酸類、ヒドロキサム酸類、
ホスホン酸類、リン酸エステル類、チオール類、スルフ
ィド類等であって、炭素原子数１〜３０のアルキレン基
を介してアミノ基、メルカプト基、シアノ基、カルボキ
シル基またはハロゲン原子を有するもの、炭素原子数１
〜３０のアルキレン基を介してアミノ基、メルカプト
基、シアノ基、カルボキシル基またはハロゲン原子等で
置換されていてもよい芳香族基を有するもの等が挙げら
れ、なかでも有機アルコキシシラン類、有機ハロシラン
類、カルボン酸類であって、炭素原子数１〜３０のアル
キレン基を介してアミノ基を有するものが好ましい。こ
れらは市販されている化合物であってもよく、また、適
宜合成したものであってもよい。更に、上記炭素原子数
１〜３０のアルキレン基は置換されていてもよい。

【００４４】有機アルコキシシラン類および有機ハロシ
ラン類としては、市販されている化合物、例えば、信越
化学工業株式会社の珪素化合物試薬カタログあるいは東
芝シリコーン株式会社の有機ケイ素化合物カタログ記載
の化合物等を使用してもよく、また、適宜合成して使用
することもできる。

【００４５】これらの中でも、有機シラントリアルコキ
ドまたは有機シラントリハライドであって、末端に官能
基を有するものが好ましい。具体例としては、クロロメ
チルトリメトキシシラン、２−シアノエチルトリクロロ
シラン、３−クロロプロピルトリクロロシラン、３−シ
アノプロピルトリクロロシラン、メルカプトメチルトリ
メトキシシラン、２−シアノエチルトリメトキシシラ
ン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、３−（２−アミノエチル）アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロ
ピルトリメトキシシラン、３−アニリノプロピルトリメ
トキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、４−
クロロフェニルトリメトキシシラン、３−モルフォリノ
プロピルトリメトキシシラン、３−ピペリジノプロピル
トリメトキシシラン、メタクリル酸−３−トリメトキシ
シリルプロピル、メタクリル酸−１１−トリエトキシシ
リルウンデシル、６−シアノヘキシルトリエトキシシラ
ン、１１−シアノウンデシルトリエトキシシラン、３−
（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ）プロピルトリエトキシシ
ラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノ）プロピルトリ
エトキシシラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジ−２−エチルヘキシ
ルアミノ）プロピルトリエトキシシラン、１１−トリエ
トキシシリルウンデカン酸メチル、１１−ブロモウンデ
シルトリエトキシシラン、１０−ブロモデシルトリエト
キシシラン、５−ブロモペンチルトリエトキシシラン、
１０−シアノデシルトリエトキシシラン、５−シアノペ
ンチルトリエトキシシラン、１０−メルカプトデシルト
リエトキシシラン、５−メルカプトペンチルトリエトキ
シシラン、チオ酢酸−１０−トリエトキシシリルデシ
ル、チオ酢酸−５−トリエトキシシリルペンチル、５−
〔５′−（２′−メチル−２′−ボラ−１′，３′−ジ
オキサ）シクロヘキシル〕ペンチルトリクロロシラン等
が挙げられるが、ここに例示の化合物に限定されるもの
ではない。これらの中でも、アミノ基を末端に有するも
のが推奨される。

【００４６】また、末端に官能基を有するカルボン酸類
の具体例としては、トリメチルシリル酢酸、３−メルカ
プトプロピオン酸、３−シアノプロピオン酸、３−クロ
ロプロピオン酸、３−ブロモプロピオン酸、３−ヨード
プロピオン酸、４−クロロブタン酸、４−ブロモブタン
酸、５−ブロモペンタン酸、６−ブロモヘキサン酸、８
−ブロモオクタン酸、１１−ブロモウンデカン酸、１２
−ブロモドデカン酸、１０−ヒドロキシデカン酸、１２
−ヒドロキシドデカン酸、１６−ヒドロキシヘキサデカ
ン酸、（＋／−）−チオクト酸、ｂ−アラニン、４−ア
ミノブタン酸、５−アミノペンタン酸、６−アミノヘキ
サン酸、７−アミノヘプタン酸、８−アミノオクタン
酸、１１−アミノウンデカン酸、１２−アミノドデカン
酸、４−シアノ安息香酸、４−クロロフェニル酢酸、４
−ブロモフェニル酢酸、４−ヒドロキシフェニル酢酸、
３−（４−ヒロキシフェニル）プロピオン酸、４−アミ
ノフェニル酢酸、４−クロロケイ皮酸、４−ブロモケイ
皮酸、４−ヒドロキシケイ皮酸等が挙げられるが、ここ
に例示の化合物に限定されるものではない。

【００４７】更に、末端に官能基を有するヒドロキサム
酸類の具体例としては、１６，Ｎ−ジヒドロキシヘキサ
デカナミド等が挙げられるが、この例示の化合物に限定
されるものではない。

【００４８】ホスホン酸類またはリン酸エステル類であ
って、末端に官能基を有するものの具体例としては、２
−アミノエチルホスホン酸、３−アミノプロピルホスホ
ン酸、ジヒドロリン酸−２−アミノエチル、ジヒドロリ
ン酸−６−アミノヘキシル等が挙げられるが、ここに例
示の化合物に限定されるものではない。

【００４９】チオール類またはスルフィド類であって、
末端に官能基を有するものの具体例としては、３−クロ
ロプロパンチオール、２−ヒドロキシエタンチオール、
２−クロロエチルメチルスルフィド、２−クロロエチル
エチルスルフィド、２−ヒドロキシエチルメチルスルフ
ィド、２−ヒドロキシエチルエチルスルフィド、３−ヒ
ドロキシプロピルメチルスルフィド、４−ヒドロキシブ
チルメチルスルフィド、２−ヒドロキシエチルジスルフ
ィド、３−ヒドロキシプロピルスルフィド、３−メルカ
プトプロピオン酸、４−クロロチオフェノール、４−ブ
ロモチオフェノール、４−ヒドロキシチオフェノール、
２−（４−クロロフェニル）エタンチオール等が挙げら
れるが、ここに例示の化合物に限定されるものではな
い。また、ハロゲン化アルキルと硫化水素ナトリウムま
たはチオ尿素の反応により合成した脂肪族チオールや、
アリールグリニアール試薬と硫黄の反応により合成した
芳香族チオールも用いることができるものとして挙げら
れる。

【００５０】次いで、上記２）のａ）の製造方法で用い
るポリマーは、自己組織化膜が有する官能基と反応可能
な官能基を有するものであればよく、該ポリマーが有す
る官能基が側鎖中あることが好ましい。自己組織化膜と
ポリマーの反応は、イオン結合、共有結合等種々の結合
形態をとることができる。ポリマーの主鎖構造は、特に
制限はなく、ホモポリマーあるいはコポリマーいずれで
もよく、繰り返し単位としてエチレン構造、オキシエチ
レン構造、イミノエチレン構造、ペプチド構造、無機ポ
リマー構造が挙げられるが、この例示の繰り返し単位に
限定されるものではない。このポリマーが有する官能基
を例示すると、アミノ基、メルカプト基、シアノ基、カ
ルボキシル基、ハロゲン置換基等が挙げられる。

【００５１】上記ポリマーとして代表的なものとして
は、アリルアミン系ポリマー、エチレンイミン系ポリマ
ー、４−ビニルピリジン系ポリマー、アクリロニトリル
系ポリマー、（メタ）アクリル酸系ポリマー、マレイン
酸系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー等が挙げられる
が、この例示のポリマーに限定されるものではない。更
に、イオン性基を含むポリマー、例えば、カチオン性基
としてアンモニウム基、ホスホニウム基等のオニウム基
やピリジニウム基を含むポリマー、アニオン性基として
スルホン酸基や、カルボン酸基を含むポリマー等が挙げ
られる。また、主鎖中にイオン性基を有するイオノマー
も使用できる。

【００５２】このポリマーの重合度は、特に制限はない
が、５〜１００００の範囲が好ましく、特に、２０〜５
０００の範囲が推奨できる。

【００５３】上記ポリマーはいずれを使用してもよい
が、なかでも、末端に官能基を有する自己組織化膜形成
用化合物として、官能基がアミノ基であり、炭素原子数
１〜３０のアルキレン基を介してアルコキシシリル基、
ハロシリル基、カルボキシル基と結合したものを用いた
場合には、カルボキシル基を有するポリマー、特に（メ
タ）アクリル酸単位、マレイン酸単位、フマル酸単位等
を含むポリマーが好ましく、マレイン酸モノエステル単
位を有するポリマーが最も好ましい。

【００５４】電極層上に形成した末端に官能基を有する
自己組織化膜と、該官能基と反応する官能基を有するポ
リマーとの反応は、通常該官能基と反応する官能基を有
するポリマーの溶液中において行なう。反応は、常温、
常圧であってもよいし、必要に応じて、加熱、加圧、光
照射条件下で行ってもよい。

【００５５】上記２）のｂ）の製造方法で用いる重合性
基を有する自己組織化膜形成用化合物としては、電極層
上に重合性基を有する自己組織化膜を形成できる化合物
であって、かつ、形成された重合性基を有する自己組織
化膜が重合可能なものであればよい。重合性基として、
例えば、（メタ）アクリル酸エステル基、スチリル基等
のビニル基、グリシドキシ基、エポキシ基等の環状エー
テル基、オキサゾリル基、アミノ酸単位、環状ジスルフ
ィド基およびボロン酸エステル基等が挙げられる。

【００５６】上記末端に重合性基を有する自己組織化膜
形成用化合物の具体例としては、メタクリル酸−３−ト
リメトキシシリルプロピル、アクリル酸−３−トリメト
キシシリルプロピル、メタクリル酸−１１−トリエトキ
シシリルウンデシル、アクリル酸−１１−トリエトキシ
シリルウンデシル、Ｎ，Ｎ−ビス〔３−（トリメトキシ
シリル）プロピル〕メタクリルアミド、８−ビス（２−
メタクリロキシエチル）アミノオクチルトリエトキシシ
ラン、３−（Ｎ−スチリルメチル−２−アミノエチルア
ミノ）プロピルトリメトキシシラン塩酸塩、３−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、３−（Ｎ−アリル
−Ｎ−グリシジル）アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、３−（Ｎ，Ｎ−ジグリシジル）アミノプロピルトリ
メトキシシラン、Ｎ−グリシジル−Ｎ，Ｎ−ビス〔３−
（トリメトキシシリル）プロピル〕アミン、Ｓ−（８−
トリエトキシシリルオクチル）−Ｌ−システイン、３−
リポイルオキシアミノプロピルトリエトキシシラン、１
０−〔２′−（５′−ジメチル−２′−ボラ−１′，
３′−オキサ）シクロヘキシル〕デシルトリエトキシシ
ラン等が挙げられるが、ここに例示の化合物に限定され
るものではない。

【００５７】電極層上に形成された末端に重合性基を有
する自己組織化膜の重合は、通常、固相または溶液中で
行うことができる。。重合方法としては、ビニル基を有
する自己組織化膜では重合開始剤存在下あるいは非存在
下において熱または光照射によるラジカル重合が、環状
エーテル基を有する自己組織化膜では重合開始剤を用い
たアニオン重合が、オキサゾリル基を有する自己組織化
膜では重合開始剤を用いたカチオン重合が、アミノ酸単
位を有する自己組織化膜では縮合剤を用いた重縮合が、
環状ジスルフィド基を有する自己組織化膜では還元剤を
用いた解重合が、ボロン酸エステル基を有する自己組織
化膜では非極性溶媒中または減圧条件により誘起された
重合が、それぞれ挙げられる。重合度は、特に制限はな
いが、５〜１００００の範囲が好ましく、特に、２０〜
５０００の範囲が推奨できる。

【００５８】表面活性基を有する自己組織化ポリマー薄
膜形成用ポリマーの自己組織化ポリマー薄膜、または官
能基を有する自己組織化膜形成用化合物もしくは重合性
基を有する自己組織化膜形成用化合物の自己組織化膜
を、電極層上に形成させる方法としては、例えば上記自
己組織化ポリマー薄膜形成用ポリマーまたは自己組織化
膜形成用化合物を溶媒に溶解させ、得られた溶液に電極
層を浸漬等の方法により接触させて、自己組織化膜形成
用化合物を電極層と反応させた後、この電極層を該溶液
から分離し、次いで上記自己組織化ポリマー薄膜形成用
ポリマーまたは自己組織化膜形成用化合物が溶解する溶
液で洗浄して、未反応の自己組織化ポリマー薄膜形成用
ポリマーまたは自己組織化膜形成用化合物を除去する方
法が挙げられる。尚、ここでの反応は、自己組織化ポリ
マー薄膜形成用ポリマーまたは自己組織化膜形成用化合
物と電極層表面との間で起こる化学結合あるいは化学結
合に匹敵するエネルギーで表面に特殊な吸着（化学吸
着）を言う。

【００５９】ここで用いる溶媒としては、上記自己組織
化ポリマー薄膜形成用ポリマーまたは自己組織化膜形成
用化合物を溶解するものであればよく、例えば、脂肪族
炭化水素、芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、アル
コール、エーテル系化合物、ケトン系化合物、水等の中
から適宜選択し、単独あるいは混合して用いる。

【００６０】これらの溶媒のうち、上記自己組織化ポリ
マー薄膜形成用ポリマーまたは自己組織化膜形成用化合
物であって、ハロシリル基を有するものに適した溶媒と
しては、通常、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、ハロ
ゲン化炭化水素、エーテル系化合物が挙げられる。これ
らの溶媒を例示すると、ヘキサン、デカン、ヘキサデカ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン、四塩化炭素、クロ
ロホルム、塩化メチレン、１，１，２−トリクロロエタ
ン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−
ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン等を挙げること
ができるが、これらの溶媒に限定されるものではなく、
水酸基あるいはカルボニル基を有さない溶媒であれば使
用できる。

【００６１】また、上記自己組織化ポリマー薄膜形成用
ポリマーまたは自己組織化膜形成用化合物であって、ア
ルコキシシリル基を有するものに適した溶媒としては、
通常、水、アルコール、ケトン、更に上記自己組織化ポ
リマー薄膜形成用ポリマーまたは自己組織化膜形成用化
合物であって、ハロシリル基を有するものに適した溶媒
等を挙げることができる。これらの溶媒を例示すると、
水、メタノール、エタノール、プロパノール、２−プロ
パノール、アセトン、２−ブタノン、更に上記で例示し
た溶媒等を挙げることができる。

【００６２】更に、上記自己組織化ポリマー薄膜形成用
ポリマーまたは自己組織化膜形成用化合物であって、カ
ルボキシル基、ヒドロキサム酸基、ホスホン酸基、リン
酸エステル基、メルカプト基、スルフィド基、スルフィ
ド基またはジスルフィド基を有するものに適した溶媒と
しては、通常、上記自己組織化ポリマー薄膜形成用ポリ
マーまたは自己組織化膜形成用化合物であって、アルコ
キシシリル基を有するものに適した溶媒やハロシリル基
を有するものに適した溶媒等を挙げることができる。

【００６３】上記溶液の濃度に、特に限定はないが、薄
すぎると反応の進行に時間を要し、また、濃すぎると薄
膜、例えば、膜厚１００オングストローム以下の薄膜を
形成しづらくなる。従って、工業的生産性の見地から、
表面活性基を有する自己組織化ポリマー薄膜形成用ポリ
マーでは、表面活性基濃度が０．００１ｍｍｏｌ／リッ
トル〜１ｍｏｌ／リットルとなる範囲が、また、官能基
を有する自己組織化膜形成用化合物もしくは重合性基を
有する自己組織化膜形成用化合物では、該化合物の濃度
が０．００１ｍｍｏｌ／リットル〜１ｍｏｌ／リットル
となる範囲が、それぞれ推奨されるが、この範囲に限定
されるものではない。

【００６４】尚、ハロシリル基を有する上記自己組織化
ポリマー薄膜形成用ポリマーまたは自己組織化膜形成用
化合物を用いる場合、副生するハロゲン化水素を捕捉す
る目的でピリジン、トリエチルアミン、ジメチルアニリ
ン等のアミンを共存させてもよい。また、アルコキシシ
リル基を有する自己組織化ポリマー薄膜形成用ポリマー
または自己組織化膜形成用化合物を用いる場合、ギ酸、
酢酸等のカルボン酸を触媒として添加することも有効な
手法である。

【００６５】上記自己組織化ポリマー薄膜形成用ポリマ
ーまたは自己組織化膜形成用化合物の溶液と電極層を浸
漬等の方法により接触させて自己組織化ポリマー薄膜ま
たは自己組織化膜を形成する際の処理温度は、特に限定
されないが、薄膜、好ましくは膜厚１００オングストロ
ーム以下の薄膜を形成するためには、−１０〜１５０℃
の範囲が好ましく、特に０〜１００℃の範囲が推奨でき
る。処理時間は、特に限定されないが、温度が低いと長
時間を要し、また、処理温度が高いと短時間で処理が終
了する。一般に、１０分間〜２日間の範囲が好ましく、
特に３０分間〜１日間の範囲が推奨できる。また、短時
間、例えば、１時間の処理を２回以上、好ましくは２〜
３回繰り返すことも緻密な薄膜の形成にとって有利とな
り、推奨できる。更に、上記自己組織化ポリマー薄膜形
成用ポリマーまたは自己組織化膜形成用化合物であっ
て、アルコキシシリル基またはハロシリル基を有するも
のを使用する場合、処理後の電極層を熱処理すること
は、自己組織化膜の形成を完全ならしめる上で有効であ
る。この熱処理温度としては、特に制限はないが、５０
〜２００℃の範囲が好ましく、５０〜１５０℃の範囲が
特に好ましい。

【００６６】上記自己組織化ポリマー薄膜や自己組織化
膜の形成にとって重要なことは、電極層を所定濃度の上
記自己組織化ポリマー薄膜形成用ポリマーまたは自己組
織化膜形成用化合物の溶液と浸漬等の方法により所定時
間接触させた後、溶液から分離し、溶媒で洗浄すること
で未反応の上記自己組織化ポリマー薄膜形成用ポリマー
または自己組織化膜形成用化合物を除去することにあ
る。このとき、使用できる溶媒としては、自己組織化ポ
リマー薄膜または自己組織化膜の作製時に用いる溶媒を
用いることができる。この洗浄時、超音波洗浄器等を用
いることも有効な手段である。

【００６７】上記２）のａ）の製造方法において、電極
層上に形成した末端に官能基を有する自己組織化膜と、
該官能基と反応する官能基を有するポリマーを反応させ
る方法としては、例えば、上記官能基を有するポリマー
を溶媒に溶解させ、得られた溶液に末端に官能基を有す
る自己組織化膜を形成した電極層を浸漬等の方法により
接触させて官能基を有するポリマーと反応させた後、こ
の電極層を該溶液から分離し、次いで上記官能基を有す
るポリマーが溶解する溶液で洗浄して、未反応の官能基
を有するポリマーを除去する方法が挙げられる。

【００６８】ここで用いる溶媒としては、上記官能基を
有するポリマーを溶解するものであればよく、それぞれ
単独あるいは混合して用いることができる。これらの溶
媒としては、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、ハロゲ
ン化炭化水素、アルコール、エーテル系化合物、ケトン
系化合物、水、アミド系化合物、スルホキシド系化合物
等が挙げられ、具体例としては、ヘキサン、デカン、ヘ
キサデカン、ベンゼン、トルエン、キシレン、四塩化炭
素、クロロホルム、塩化メチレン、１，１，２−トリク
ロロエタン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、２−プロパノー
ル、アセトン、２−ブタノン、ホルムアミド、Ｎ−メチ
ルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアセチルアミド、ジメチルスルホキシド、
ヘキサメチルホスホリックトリアミド、水等を挙げるこ
とができる。これらの中でも、脂肪族炭化水素、芳香族
炭化水素、ハロゲン化炭化水素、アルコール、エーテル
系化合物、ケトン系化合物、水が好ましく、特にケトン
系化合物が好ましい。

【００６９】上記溶液の濃度に、特に限定はないが、薄
すぎると反応の進行に時間を要し、また、濃すぎると薄
膜、例えば、膜厚１００オングストローム以下の薄膜を
形成しづらくなる。従って、工業的生産性の見地から、
官能基濃度が０．００１ｍｍｏｌ／リットル〜１ｍｏｌ
／リットルの範囲となる範囲が推奨されるが、この範囲
に限定されるものではない。

【００７０】上記末端に官能基を有する自己組織化膜と
該官能基と反応する官能基を有するポリマーの溶液とを
接触させる際の処理温度は、特に限定はないが、薄膜、
好ましくは膜厚１００オングストローム以下の薄膜を形
成するためには、−１０〜１５０℃の範囲が好ましく、
特に０〜１００℃の範囲が推奨できる。また、処理時間
は、特に限定されないが、温度が低いと長時間を要し、
また、処理温度が高いと短時間で処理が終了する。一般
に、１０分間〜２日間の範囲が好ましく、特に３０分間
〜１日間の範囲が推奨できる。

【００７１】また、電極層上の末端に官能基を有する自
己組織化膜と該官能基と反応する官能基を有するポリマ
ーの結合がイオン結合である場合、自己組織化膜形成
後、更に加熱処理を行なうことによって共有結合に変換
させ、より強固で安定な薄膜とすることができる。例え
ば、末端にアミノ基を有する自己組織化膜とカルボキシ
ル基を有するポリマーを反応させてアンモニウム塩を形
成させた場合、自己組織化膜形成後、更に加熱処理を行
なうことによってアミド結合やイミド結合に変換させ、
より強固で安定な薄膜とすることができる。ここで用い
る末端にアミノ基を有する自己組織化膜としては、有機
アルコキシシラン類、有機ハロシラン類およびカルボン
酸類からなる群から選ばれる１種以上の自己組織化膜形
成用化合物であって、炭素原子数１〜３０のアルキレン
基を介してアミノ基を有するものからなる、末端にアミ
ノ基を有する自己組織化膜が好ましく、カルボキシル基
を有するポリマーとしては、マレイン酸単位を有するポ
リマー、特にマレイン酸モノエステル単位を有するポリ
マーが好ましい。

【００７２】イオン結合を共有結合に変換させる際の加
熱処理の温度は６０〜２５０℃の範囲が好ましく、特に
１００〜２００℃の範囲が推奨でき、処理時間は３０分
間〜４８時間の範囲が好ましく、特に１〜２４時間の範
囲が推奨できる。この加熱処理は、減圧下において行な
うこともできる。

【００７３】ここにおいて、末端に官能基を有する自己
組織化膜と該官能基と反応する官能基を有するポリマー
を反応させて自己組織化ポリマー薄膜を形成する場合に
重要なことは、末端に官能基を有する自己組織化膜を形
成した電極層を所定濃度の上記官能基を有するポリマー
の溶液と浸漬等の方法により所定時間接触させた後、溶
液から分離し、溶媒で洗浄することで未反応の上記官能
基を有するポリマーを除去することにある。このとき、
使用できる溶媒としては、上記官能基を有するポリマー
を溶解することのできる溶媒を用いることができる。こ
の洗浄時、超音波洗浄器等を用いることも有効な手段で
ある。

【００７４】また、上記２）のｂ）の製造方法におい
て、電極層上に形成した末端に重合性基を有する自己組
織化膜を重合させる方法としては、例えば、重合開始剤
を溶媒に溶解させ、その溶液に末端に重合性基を有する
自己組織化膜を形成した電極層を浸漬等の方法により接
触させて重合させた後、この電極層を該溶液から分離
し、次いで上記重合開始剤が溶解する溶液で洗浄して、
未反応の重合開始剤を除去する方法が挙げられる。

【００７５】ここで用いる溶媒としては、重合開始剤を
溶解するものであればよく、例えば、上記２）のａ）の
製造方法において官能基を有するポリマーを溶解させる
際に用いた溶媒と同様の溶媒が挙げられる。これらの溶
媒は、それぞれ単独あるいは混合して用いることができ
る。また、これらの溶媒を用いた重合開始剤溶液の濃度
は、特に限定されないが、０．００１〜１ｍｍｏｌ／リ
ットルの範囲が推奨される。

【００７６】上記末端に重合性基を有する自己組織化膜
を形成した電極層を重合させる際の処理温度は、３０〜
２００℃の範囲が好ましく、特に５０〜１５０℃の範囲
が推奨できる。処理時間は、特に限定されないが、１０
分間〜２日間の範囲が好ましく、特に３０分間〜１日間
の範囲が推奨できる。

【００７７】また、重合性基としてビニル基を有する自
己組織化膜を重合させる場合は、脱気下、固相における
光照射によりラジカル重合を行なう方法を用いることも
できる。用いられる光源としては、超高圧水銀灯、高圧
水銀灯、中圧水銀灯、メタルハライド灯等が挙げられ
る。処理温度は、特に限定されないが、０〜１００℃の
範囲が好ましく、特に２０〜５０℃の範囲が推奨でき
る。処理時間は、特に限定されないが、１０秒間〜１２
時間の範囲が好ましく、特に３０秒間〜１時間の範囲が
推奨できる。

【００７８】ただし、重合性基としてボロン酸エステル
基を有する自己組織化膜を重合させる場合は、通常、該
自己組織化膜を炭化水素溶媒に接触させて重合反応を誘
起して行なう。ここで用いる溶媒としては、例えば、ヘ
キサン、デカン、ヘキサデカン、イソオクタン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等を挙げることができるが、こ
れらの溶媒に限定されるものではない。処理温度は、特
に限定されないが、０〜１５０℃の範囲が好ましく、特
に２０〜６０℃の範囲が推奨できる。処理時間は、特に
限定されないが、３０分〜４８時間の範囲が好ましく、
特に１〜２４時間の範囲が推奨できる。

【００７９】このようにして形成された自己組織化ポリ
マー薄膜の膜厚は、構成単位の構造により異なるが、通
常、０．３〜１０ｎｍの膜厚を示す。特に０．３〜５ｎ
ｍの膜厚が感度向上の目的にとって推奨される。

【００８０】

【実施例】以下に、本発明の実施例を示し、本発明をさ
らに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限
定されるものではない。尚、例中で用いた溶液の濃度
（％）は重量％であり、部は重量部である。

【００８１】実施例１表面に自然酸化によるアルミニウム酸化物層が５．０ｎ
ｍの厚さで形成されている鏡面研磨された厚さ１．０ｍ
ｍのアルミニウム板を、メタクリル酸−３−トリメトキ
シシリルプロピル／メタクリル酸メチルコポリマー（平
均分子量４万、共重合比１／１３．３）のシリル基濃度
０．５ｍｍｏｌ／リットルのトルエン溶液に室温で６時
間浸漬した後、溶液から引き上げ、トルエンで十分洗浄
した後、１２０℃のオーブン中で１時間加熱し、表面上
に自己組織化ポリマー薄膜が形成されたアルミニウム板
を得た。

【００８２】このアルミニウム板上には、エリプソメト
リー分析から、厚さ２．０ｎｍの薄膜が形成されている
こと、また接触角測定およびＸＰＳ分析（Ｘ線光電子分
光分析）から、メタクリル酸−３−トリメトキシシリル
プロピル／メタクリル酸メチルコポリマーからなる膜が
形成されていることを確認した。即ち、このアルミニウ
ム板上にはメタクリル酸−３−トリメトキシシリルプロ
ピル／メタクリル酸メチルコポリマーからなる自己組織
化ポリマー薄膜が形成されていることを確認した。

【００８３】また、０．５２％ブチラール樹脂溶液（溶
媒はジクロロメタン／１，１，２−トリクロロエタンの
重量比が４／６の混合溶媒）１５ｇに、α−型オキソチ
タニウムフタロシアニン（α−ＯＴｉＰｃ）０．１５ｇ
およびガラスビーズを入れ、ペイントシェーカーで３時
間分散処理して、電荷発生剤分散液を得た。

【００８４】更に、１−（４′−ジフェニルアミノベン
ジリデン）−アミノ−２−メチルインドール４．２ｇお
よびポリカーボネート樹脂（三菱瓦斯化学社製ユーピロ
ンＰＣＺ−２００）４．７ｇをジクロロメタン／クロロ
ベンゼンの重量比が１／２の混合溶媒２８．５ｇに溶解
させて、電荷輸送剤溶液を得た。

【００８５】次いで、上記で得たメタクリル酸−３−ト
リメトキシシリルプロピル／メタクリル酸メチルコポリ
マーからなる自己組織化ポリマー薄膜で被覆されたアル
ミニウム板の自己組織化ポリマー薄膜上に、スピンコー
ターを用いて電荷発生剤分散液を乾燥膜厚が０．３μｍ
となるよう塗布し、１２０℃で３０分乾燥して電荷発生
層を形成した。更に、その上に電荷輸送剤溶液を同様に
スピンコーターを用いて乾燥膜厚が２０μｍとなるよう
に塗布し、１２０℃で１時間乾燥して、本発明の電子写
真感光体（１）を作製した。

【００８６】得られた電子写真感光体（１）の帯電光減
衰特性は、ペーパーアナライザー（川口電機製作所製Ｅ
ＰＡ８１００）を用い、以下のようにして求めた。即
ち、暗中で電子写真感光体（１）をコロナ帯電（−７Ｋ
Ｖ、スタティック方式）させ、その時の最大表面電位
（Ｖmax ）と、コロナ帯電後、暗中で５秒間保持後の表
面電位（Ｖlight ）を測定し、この間の電荷の保持率
（ＤＤ）＝（Ｖlight ／Ｖmax ×１００）を求めた。次
いで、暗中５秒間保持後の電子写真感光体（１）に波長
７９０ｎｍ、強度１μＷ／ｃｍ² の光を１０秒間照射
し、その間の表面電位の減衰を測定し、１０秒間光照射
後の残留電位（Ｖr ）と共に、電子写真感光体の感度の
指標となる、表面電位がＶlight の１／２に減衰するの
に要する時間（秒）と照射光強度の積（Ｅ_1/2 ）を求め
た。結果を表１に示す。

【００８７】実施例２メタクリル酸−３−トリメトキシシリルプロピル／メタ
クリル酸メチルコポリマー（平均分子量４万、共重合比
１／１３．３）の代わりに、メタクリル酸−３−トリメ
トキシシリルプロピル／メタクリル酸メチルコポリマー
（平均分子量４万、共重合比：１／７．０）を用いた以
外は実施例１と同様にして、アルミニウム板上に自己組
織化ポリマー薄膜を形成し、接触角測定、ＸＰＳ分析お
よびエリプソメトリー分析により、アルミニウム板上に
メタクリル酸−３−トリメトキシシリルプロピル／メタ
クリル酸メチルコポリマー（平均分子量４万、共重合比
１／７．０）からなる厚さ２．０ｎｍの自己組織化ポリ
マー薄膜が形成されていることを確認した。次いで、こ
のアルミニウム板を用いた以外は実施例１と同様にし
て、本発明の電子写真感光体（２）を作製し、その帯電
光減衰特性を求めた。結果を表１に示す。

【００８８】実施例３メタクリル酸−３−トリメトキシシリルプロピル／メタ
クリル酸メチルコポリマー（平均分子量４万、共重合比
１／１３．３）の代わりに、メタクリル酸−３−トリメ
トキシシリルプロピル／メタクリル酸メチルコポリマー
（平均分子量４万、共重合比１／３．５）を用いた以外
は実施例１と同様にして、アルミニウム板上に自己組織
化ポリマー薄膜を形成し、接触角測定、ＸＰＳ分析およ
びエリプソメトリー分析により、アルミニウム板上にメ
タクリル酸−３−トリメトキシシリルプロピル／メタク
リル酸メチルコポリマー（平均分子量４万、共重合比１
／３．５）からなる厚さ２．０ｎｍの自己組織化ポリマ
ー薄膜が形成されていることを確認した。次いで、この
アルミニウム板を用いた以外は実施例１と同様にして、
本発明の電子写真感光体（３）を作製し、その帯電光減
衰特性を求めた。結果を表１に示す。

【００８９】実施例４メタクリル酸−３−トリメトキシシリルプロピル／メタ
クリル酸メチルコポリマー（平均分子量４万、共重合比
１／１３．３）の代わりに、メタクリル酸−１１−トリ
エトキシシリルウンデシル／メタクリル酸メチルコポリ
マー（平均分子量７．５万、共重合比１／４９．６）を
用いた以外は実施例１と同様にして、アルミニウム板上
に自己組織化ポリマー薄膜を形成し、接触角測定、ＸＰ
Ｓ分析およびエリプソメトリー分析により、アルミニウ
ム板上にメタクリル酸−１１−トリエトキシシリルウン
デシル／メタクリル酸メチルコポリマー（平均分子量
７．５万、共重合比１／４９．６）からなる厚さ３．０
ｎｍの自己組織化ポリマー薄膜が形成されていることを
確認した。次いで、このアルミニウム板を用いた以外は
実施例１と同様にして、本発明の電子写真感光体（４）
を作製し、その帯電光減衰特性を求めた。結果を表１に
示す。

【００９０】実施例５メタクリル酸−３−トリメトキシシリルプロピル／メタ
クリル酸メチルコポリマー（平均分子量４万、共重合比
１／１３．３）の代わりに、メタクリル酸−１１−トリ
エトキシシリルウンデシル／メタクリル酸メチルコポリ
マー（平均分子量７．５万、共重合比１／２２．０）を
用いた以外は実施例１と同様にして、アルミニウム板上
に自己組織化ポリマー薄膜を形成し、接触角測定、ＸＰ
Ｓ分析およびエリプソメトリー分析により、アルミニウ
ム板上にメタクリル酸−１１−トリエトキシシリルウン
デシル／メタクリル酸メチルコポリマー（平均分子量
７．５万、共重合比１／２２．０）からなる厚さ３．０
ｎｍの自己組織化ポリマー薄膜が形成されていることを
確認した。次いで、このアルミニウム板を用いた以外は
実施例１と同様にして、本発明の電子写真感光体（５）
を作製し、その帯電光減衰特性を求めた。結果を表１に
示す。

【００９１】実施例６メタクリル酸−３−トリメトキシシリルプロピル／メタ
クリル酸メチルコポリマー（平均分子量４万、共重合比
１／１３．３）の代わりに、メタクリル酸−１１−トリ
エトキシシリルウンデシル／メタクリル酸メチルコポリ
マー（平均分子量７．５万、共重合比１／１１．６）を
用いた以外は実施例１と同様にして、アルミニウム板上
に自己組織化ポリマー薄膜を形成し、接触角測定、ＸＰ
Ｓ分析およびエリプソメトリー分析により、アルミニウ
ム板上にメタクリル酸−１１−トリエトキシシリルウン
デシル／メタクリル酸メチルコポリマー（平均分子量
７．５万、共重合比１／１１．６）からなる厚さ３．０
ｎｍの自己組織化ポリマー薄膜が形成されていることを
確認した。次いで、このアルミニウム板を用いた以外は
実施例１と同様にして、本発明の電子写真感光体（６）
を作製し、その帯電光減衰特性を求めた。結果を表１に
示す。

【００９２】実施例７メタクリル酸−３−トリメトキシシリルプロピル／メタ
クリル酸メチルコポリマー（平均分子量４万、共重合比
１／１３．３）の代わりに、メタクリル酸−１１−トリ
エトキシシリルウンデシルのホモポリマー（平均分子量
７．５万）を用いた以外は実施例１と同様にして、アル
ミニウム板上に自己組織化ポリマー薄膜を形成し、接触
角測定、ＸＰＳ分析およびエリプソメトリー分析によ
り、アルミニウム板上にメタクリル酸−１１−トリエト
キシシリルウンデシルホモポリマー（平均分子量７．５
万）からなる厚さ２．０ｎｍの自己組織化ポリマー薄膜
が形成されていることを確認した。次いで、このアルミ
ニウム板を用いた以外は実施例１と同様にして、本発明
の電子写真感光体（７）を作製し、その帯電光減衰特性
を求めた。結果を表１に示す。

【００９３】実施例８メタクリル酸−３−トリメトキシシリルプロピル／メタ
クリル酸メチルコポリマー（平均分子量４万、共重合比
１／１３．３）のシリル基濃度０．５ｍｍｏｌ／リット
ルのトルエン溶液の代わりに、メタクリル酸−１１−ト
リクロロシリルウンデシル／メタクリル酸メチルコポリ
マー（平均分子量７．５万、共重合比１／１０．２）の
シリル基濃度０．５ｍｍｏｌ／リットルのトルエン溶液
（１．５ｍｍｏｌ濃度のトリエチルアミンを含む）を用
いた以外は実施例１と同様にして、アルミニウム板上に
自己組織化ポリマー薄膜を形成し、接触角測定、ＸＰＳ
分析およびエリプソメトリー分析により、アルミニウム
板上にメタクリル酸−１１−トリクロロシリルウンデシ
ル／メタクリル酸メチルコポリマー（平均分子量７．５
万、共重合比１／１０．２）からなる厚さ３．０ｎｍの
自己組織化ポリマー薄膜が形成されていることを確認し
た。次いで、このアルミニウム板を用いた以外は実施例
１と同様にして本発明の電子写真感光体（８）を作製
し、その帯電光減衰特性を求めた。結果を表１に示す。

【００９４】比較例１鏡面研磨されたアルミニウム板をメタクリル酸−３−ト
リメトキシシリルプロピル／メタクリル酸メチルコポリ
マーのトルエン溶液による処理を行わずに用いた以外は
実施例１と同様にして、電子写真感光体（１′）を作製
し、その帯電光減衰特性を求めた。結果を表１に示す。

【００９５】比較例２特開昭６１−１０９０６４号公報の記載に従って、１０
％濃度のメタクリル酸−３−トリメトキシシリルプロピ
ルのメタノール溶液を、実施例１で用いたものと同一の
鏡面研磨されたアルミニウム板上にスピンコーターを用
いて塗布し、１００℃のオーブン中で１時間加熱して、
表面に塗膜を有するアルミニウム板を得た。

【００９６】この表面に塗膜を有するアルミニウム板上
には、エリプソメトリー分析から、０．３μｍの膜が形
成されてることを確認したが、ＸＰＳおよびＦＴＩＲ分
析（フーリエ変換赤外分光分析）の結果から、この膜中
でメタクリル酸−３−トリメトキシシリルプロピル分子
は秩序ある分子配向は示さず、ランダムな方向に積層し
ていることを確認した。次いで、この表面に塗膜を有す
るアルミニウム板を用いた以外は実施例１と同様にして
電子写真感光体（２′）を作製し、その帯電光減衰特性
を求めた。結果を表１に示す。

【００９７】比較例３特開平５−１０７７９２号公報の記載に準じて、ポリア
ミド樹脂（東レ社製ＣＭ−８０００）５部をメタノール
６５部に溶解した溶液にシリコン添加物（トーレシリコ
ン社製ＳＨ２１ＰＡ）０．０５部を添加し、実施例１で
用いたものと同一のアルミニウム板上に乾燥膜厚が１μ
ｍとなるように塗布して、表面に塗膜を有するアルミニ
ウム板を得、次いでこの表面に塗膜を有するアルミニウ
ム板を用いた以外は実施例１と同様にして電子写真感光
体（３′）を作製し、その帯電光減衰特性を求めた。結
果を表１に示す。

【００９８】比較例４１０％濃度のメタクリル酸−１１−トリエトキシシリル
ウンデシル／メタクリル酸メチルコポリマー（平均分子
量７．５万、共重合比１／１１．６）のトルエン溶液
を、実施例１で用いたものと同一の鏡面研磨されたアル
ミニウム板上にスピンコーターを用いて塗布し、１００
℃のオーブン中で１時間加熱して、表面に塗膜を有する
アルミニウム板を得た。この表面に塗膜を有するアルミ
ニウム板上には、エリプソメトリー分析から、０．４μ
ｍの膜が形成されてることを確認した。次いで、この表
面に塗膜を有するアルミニウム板を用いた以外は実施例
１と同様にして電子写真感光体（４′）を作製し、その
帯電光減衰特性を求めた。結果を表１に示す。

【００９９】比較例５１０％濃度のメタクリル酸−１１−トリクロロシリルウ
ンデシル／メタクリル酸メチルコポリマー（平均分子量
７．５万、共重合比１／１０．２）のトルエン溶液を、
実施例１で用いたものと同一の鏡面研磨されたアルミニ
ウム板上にスピンコーターを用いて塗布し、１００℃の
オーブン中で１時間加熱して、表面に塗膜を有するアル
ミニウム板を得た。この表面に塗膜を有するアルミニウ
ム板上には、エリプソメトリー分析から、０．３μｍの
膜が形成されてることを確認した。次いで、この表面に
塗膜を有するアルミニウム板を用いた以外は実施例１と
同様にして電子写真感光体（５′）を作製し、その帯電
光減衰特性を求めた。結果を表１に示す。

【０１００】

【表１】

【０１０１】上記表１の結果より、実施例１〜８の電子
写真感光体（１）〜（８）は、比較例１〜５の電子写真
感光体（１′）〜（５′）に比較して、いずれも感度の
指標となるＥ_1/2 の値が小さく、明らかに高感度であっ
た。

【０１０２】実施例９表面に自然酸化によるアルミニウム酸化物層が５．０ｎ
ｍの厚さで形成されている鏡面研磨された厚さ１．０ｍ
ｍのアルミニウム板を、メタクリル酸／メタクリル酸メ
チルコポリマー（平均分子量４万、共重合比１／４．
５）のカルボキシル基濃度０．５ｍｍｏｌ／リットルの
メタノール溶液に室温で７２時間浸漬した後、溶液から
引き上げ、メタノールで十分洗浄した後、１２０℃のオ
ーブン中で１時間加熱し、表面上に自己組織化ポリマー
薄膜が形成されたアルミニウム板を得た。

【０１０３】このアルミニウム板上には、エリプソメト
リー分析から、厚さ２．０ｎｍの薄膜が形成されている
こと、また接触角測定およびＸＰＳ分析から、メタクリ
ル酸／メタクリル酸メチルコポリマー（平均分子量４
万、共重合比１／４．５）からなる自己組織化ポリマー
薄膜が形成されていることを確認した。次いで、このア
ルミニウム板を用いた以外は実施例１と同様にして本発
明の電子写真感光体（９）を作製し、その帯電光減衰特
性を求めた。結果を表２に示す。

【０１０４】比較例６１０％濃度のメタクリル酸／メタクリル酸メチルコポリ
マー（平均分子量４万、共重合比１／４．５）のメタノ
ール溶液を、実施例９で用いたものと同一の鏡面研磨さ
れたアルミニウム板上にスピンコーターを用いて塗布
し、１００℃のオーブン中で１時間加熱して、表面に塗
膜を有するアルミニウム板を得た。この表面に塗膜を有
するアルミニウム板上には、エリプソメトリー分析か
ら、０．５μｍの膜が形成されてることを確認した。次
いで、この表面に塗膜を有するアルミニウム板を用いた
以外は実施例１と同様にして電子写真感光体（６′）を
作製し、その帯電光減衰特性を求めた。結果を表２に示
す。

【０１０５】実施例１０厚さ４０．０ｎｍのインジウムチンオキシド電極層がス
パッタリングで形成されている厚さ１ｍｍのパイレック
スガラス基板（以下、ＩＴＯ基板と略す）を、メタクリ
ル酸−１１−トリエトキシシリルウンデシル／メタクリ
ル酸メチルコポリマー（平均分子量７．５万、共重合比
１／１１．６）のシリル基濃度０．５ｍｍｏｌ／リット
ルのトルエン溶液に室温で６時間浸漬した後、溶液から
引き上げ、トルエンで十分洗浄した後、１２０℃のオー
ブン中で１時間加熱し、自己組織化ポリマー薄膜がイン
ジウムチンオキシド電極層上に形成されたＩＴＯ基板を
得た。

【０１０６】このＩＴＯ基板上には、厚さ３．０ｎｍの
メタクリル酸−１１−トリエトキシシリルウンデシル／
メタクリル酸メチルコポリマー（平均分子量７．５万、
共重合比１／１１．６）からなる自己組織化ポリマー薄
膜が形成されていることを、エリプソメトリー分析とＸ
ＰＳ分析により確認した。次いで、このＩＴＯ基板を用
いた以外は実施例１と同様にして本発明の電子写真感光
体（１０）を作製し、その帯電光減衰特性を求めた。結
果を表２に示す。

【０１０７】比較例７実施例１０で用いたものと同一のＩＴＯ基板を、メタク
リル酸−１１−トリエトキシシリルウンデシル／メタク
リル酸メチルコポリマーのトルエン溶液による処理を行
わずに用いた以外は実施例１と同様にして、電子写真感
光体（７′）を作製し、その帯電光減衰特性を求めた。
結果を表２に示す。

【０１０８】実施例１１表面に銅の酸化物を有する銅板を、メタクリル酸−１１
−トリエトキシシリルウンデシル／メタクリル酸メチル
コポリマー（平均分子量７．５万、共重合比１／１１．
６）のシリル基濃度０．５ｍｍｏｌ／リットルのトルエ
ン溶液に室温で６時間浸漬した後、溶液から引き上げ、
トルエンで十分洗浄した後、１２０℃のオーブン中で１
時間加熱し、自己組織化ポリマー薄膜が形成された銅板
を得た。

【０１０９】この銅板上には、厚さ３．０ｎｍのメタク
リル酸−１１−トリエトキシシリルウンデシル／メタク
リル酸メチルコポリマー（平均分子量７．５万、共重合
比１／１１．６）からなる自己組織化ポリマー薄膜が形
成されていることを、エリプソメトリー分析とＸＰＳ分
析により確認した。次いで、この銅板を用いた以外は実
施例１と同様にして本発明の電子写真感光体（１１）を
作製し、その帯電光減衰特性を求めた。結果を表２に示
す。

【０１１０】比較例８実施例１１で用いたものと同一の表面に銅の酸化物を有
する銅板を、メタクリル酸−１１−トリエトキシシリル
ウンデシル／メタクリル酸メチルコポリマーのトルエン
溶液による処理を行わずに用いた以外は実施例１と同様
にして、電子写真感光体（８′）を作製し、その帯電光
減衰特性を求めた。結果を表２に示す。

【０１１１】実施例１２パイレックスガラス基板を５ｍｍｏｌ／リットル濃度の
３−メルカプトプロピルトリメトキシシランのメタノー
ル溶液に室温で２４時間浸漬し、パイレックスガラス基
板上に３−メルカプトプロピルシロキシ基の単分子膜か
らなる自己組織化膜を形成した後、その上に金を１００
ｎｍの厚さに真空蒸着して、金電極層を自己組織化膜上
に有するパイレックスガラス基板を得た。次いで、この
パイレックスガラス基板を、メタクリル酸−３，４−ジ
チオペンチル／メタクリル酸メチルコポリマー（平均分
子量７．５万、共重合比１／１１．０）のシリル基濃度
０．５ｍｍｏｌ／リットルのトルエン溶液に室温で２４
時間浸漬した後、溶液から引き上げ、トルエンで十分洗
浄して、自己組織化ポリマー薄膜が金電極層上に形成さ
れたパイレックスガラス基板を得た。

【０１１２】このパイレックスガラス基板の金電極層上
には、厚さ３．０ｎｍのメタクリル酸−３，４−ジチオ
ペンチル／メタクリル酸メチルコポリマー（平均分子量
７．５万、共重合比１／１１．０）からなる自己組織化
ポリマー薄膜が形成されていることを、エリプソメトリ
ー分析とＸＰＳ分析により確認した。次いで、この自己
組織化ポリマー薄膜が金電極層上に形成されたパイレッ
クスガラス基板を用いた以外は実施例１と同様にして、
本発明の電子写真感光体（１２）を作製し、その帯電光
減衰特性を求めた。結果を表２に示す。

【０１１３】比較例９実施例１２と同様にして金電極層を自己組織化膜上に有
するパイレックスガラス基板を得、このパイレックスガ
ラス基板をメタクリル酸−３，４−ジチオペンチル／メ
タクリル酸メチルコポリマーのトルエン溶液による処理
を行わずに用いた以外は実施例１と同様にして、電子写
真感光体（９′）を作製し、その帯電光減衰特性を求め
た。結果を表２に示す。

【０１１４】比較例１０１０％濃度のメタクリル酸−３，４−ジチオペンチル／
メタクリル酸メチルコポリマー（平均分子量７．５万、
共重合比１／１１．０）のトルエン溶液を、実施例１２
で作成したものと同一の金電極層を自己組織化膜上に有
するパイレックスガラス基板の金電極層上にスピンコー
ターを用いて塗布し、１００℃のオーブン中で１時間加
熱した。このパイレックスガラス基板の金電極上には、
エリプソメトリー分析から、０．４μｍの膜が形成され
てることを確認した。次いで、このパイレックスガラス
基板を用いた以外は実施例１と同様にして電子写真感光
体（１０′）を作製し、その帯電光減衰特性を求めた。
結果を表２に示す。

【０１１５】実施例１３真空蒸着により形成した厚さ１００ｎｍの銅電極を有す
るパイレックス基板を、メタクリル酸−３，４−ジチオ
ペンチル／メタクリル酸メチルコポリマー（平均分子量
７．５万、共重合比１／１１．０）のシリル基濃度０．
５ｍｍｏｌ／リットルのトルエン溶液に室温で２４時間
浸漬した後、溶液から引き上げ、トルエンで十分洗浄し
た後、１２０℃のオーブン中で１時間加熱し、自己組織
化ポリマー薄膜が銅電極上に形成されたパイレックス基
板を得た。

【０１１６】このパイレックス基板上には、厚さ３．０
ｎｍのメタクリル酸−３，４−ジチオペンチル／メタク
リル酸メチルコポリマー（平均分子量７．５万、共重合
比１／１１．０）からなる自己組織化ポリマー薄膜が形
成されていることを、エリプソメトリー分析とＸＰＳ分
析により確認した。次いで、このパイレックス基板を用
いた以外は実施例１と同様にして本発明の電子写真感光
体（１３）を作製し、その帯電光減衰特性を求めた。結
果を表２に示す。

【０１１７】比較例１１実施例１３で用いたものと同一の銅電極を有するパイレ
ックスガラス基板を、メタクリル酸−３，４−ジチオペ
ンチル／メタクリル酸メチルコポリマーのトルエン溶液
による処理を行わずに用いた以外は実施例１と同様にし
て、電子写真感光体（１１′）を作製し、その帯電光減
衰特性を求めた。結果を表２に示す。

【０１１８】

【表２】

【０１１９】上記表２の結果より、実施例９の電子写真
感光体（９）は、比較例６の電子写真感光体（６′）お
よび表１中の比較例１、３の電子写真感光体（１′）、
（３′）に比較して、感度の指標となるＥ_1/2 の値が小
さく、明らかに高感度であった。

【０１２０】また、実施例１０の電子写真感光体（１
０）は比較例７の電子写真感光体（７′）に比較して、
実施例１１の電子写真感光体（１１）は比較例８の電子
写真感光体（８′）に比較して、実施例１２の電子写真
感光体（１２）は比較例９および比較例１０の電子写真
感光体（９′）および（１０′）に比較して、それぞれ
感度の指標となるＥ_1/2 の値が小さく、明らかに高感度
であった。

【０１２１】更に実施例１３の電子写真感光体（１３）
は、比較例１１の電子写真感光体（１１′）に比較し
て、感度の指標となるＥ_1/2 の値が小さく、明らかに高
感度であった。

【０１２２】実施例１４表面に自然酸化によるアルミニウム酸化物層が５．０ｎ
ｍの厚さで形成されている鏡面研磨された厚さ１．０ｍ
ｍのアルミニウム板を、３−アミノプロピルトリエトキ
シシランの５ｍｍｏｌ／リットルのエタノール溶液に室
温で１時間浸漬した後、溶液から引き上げ、エタノール
で十分洗浄した後、１２０℃のオーブン中で１時間加熱
し、室温に冷却した後、再度同一の処理を行って、表面
上に自己組織化膜が形成されたアルミニウム板を得た。
次いで、このアルミニウム板上には、厚さ１．０ｎｍの
３−アミノプロピルシロキシ基の単分子膜からなる自己
組織化膜が形成されていることを、エリプソメトリー分
析とＸＰＳ分析により確認した。

【０１２３】この３−アミノプロピルシロキシ基の単分
子膜を形成させたアルミニウム板を、マレイン酸モノエ
チルエステル／メチルビニルエーテル交互コポリマー
（平均分子量２１万）の繰り返し単位の濃度が２５ｍｍ
ｏｌ／リットルのメチルエチルケトン溶液に室温で２０
時間浸漬した後、溶液から引き上げ、メチルエチルケト
ンで十分に洗浄した後、３０℃で２時間減圧下に乾燥し
て、表面上に自己組織化ポリマー薄膜が形成されたアル
ミニウム板を得た。

【０１２４】接触角測定、ＸＰＳ分析、ＦＴＩＲ分析お
よびエリプソメトリー分析により、このアルミニウム板
上には、３−アミノプロピルシロキシ基の単分子膜と塩
形成してマレイン酸モノエチルエステル／メチルビニル
エーテル交互コポリマー（平均分子量２１万）が結合し
た自己組織化ポリマー薄膜が形成されていることを確認
した。この自己組織化ポリマー薄膜の膜厚は、４．０ｎ
ｍであった。

【０１２５】次いで、このアルミニウム板を用いた以外
は実施例１と同様にして本発明の電子写真感光体（１
４）を作製し、その帯電光減衰特性を求めた。結果を表
３に示す。

【０１２６】実施例１５マレイン酸モノエチルエステル／メチルビニルエーテル
交互コポリマー（平均分子量２１万）の代わりに、マレ
イン酸／メチルビニルエーテル交互コポリマー（平均分
子量１０万）を用いた以外は実施例１４と同様にして、
アルミニウム板上の３−アミノプロピルシロキシ基の単
分子膜と塩形成してマレイン酸／メチルビニルエーテル
交互コポリマー（平均分子量１０万）が結合した自己組
織化ポリマー薄膜を作成した。自己組織化ポリマー薄膜
の作成は、接触角測定、ＸＰＳ分析、ＦＴＩＲ分析およ
びエリプソメトリー分析により確認し、膜厚は４．０ｎ
ｍであった。次いで、このアルミニウム板を用いた以外
は実施例１と同様にして本発明の電子写真感光体（１
５）を作成し、その帯電光減衰特性を求めた。結果を表
３に示す。

【０１２７】実施例１６マレイン酸モノエチルエステル／メチルビニルエーテル
交互コポリマー（平均分子量２１万）の代わりに、ポリ
メタクリル酸（平均分子量１２万）を用いた以外は実施
例１４と同様にして、アルミニウム板上の３−アミノプ
ロピルシロキシ基の単分子膜と塩形成してポリメタクリ
ル酸（平均分子量１２万）が結合した自己組織化ポリマ
ー薄膜を作成した。自己組織化ポリマー薄膜の作成は、
接触角測定、ＸＰＳ分析、ＦＴＩＲ分析およびエリプソ
メトリー分析により確認し、膜厚は５．０ｎｍであっ
た。次いで、このアルミニウム板を用いた以外は実施例
１と同様にして本発明の電子写真感光体（１６）を作成
し、その帯電光減衰特性を求めた。結果を表３に示す。

【０１２８】実施例１７マレイン酸モノエチルエステル／メチルビニルエーテル
交互コポリマー（平均分子量２１万）の代わりに、メタ
クリル酸／メタクリル酸メチルコポリマー（平均分子量
４万、共重合比１／４．５）を用いた以外は実施例１４
と同様にして、アルミニウム板上の３−アミノプロピル
シロキシ基の単分子膜と塩形成してメタクリル酸／メタ
クリル酸メチルコポリマー（平均分子量４万、共重合比
１／４．５）が結合した自己組織化ポリマー薄膜を作成
した。自己組織化ポリマー薄膜の作成は、接触角測定、
ＸＰＳ分析、ＦＴＩＲ分析およびエリプソメトリー分析
により確認し、膜厚は４．５ｎｍであった。次いで、こ
のアルミニウム板を用いた以外は実施例１と同様にして
本発明の電子写真感光体（１７）を作成し、その帯電光
減衰特性を求めた。結果を表３に示す。

【０１２９】実施例１８マレイン酸モノエチルエステル／メチルビニルエーテル
交互コポリマー（平均分子量２１万）の代わりに、ポリ
−Ｌ−グルタミン酸（平均分子量５万）を用いた以外は
実施例１４と同様にして、アルミニウム板上の３−アミ
ノプロピルシロキシ基の単分子膜と塩形成してポリ−Ｌ
−グルタミン酸（平均分子量５万）が結合した自己組織
化ポリマー薄膜を作成した。自己組織化ポリマー薄膜の
作成は、接触角測定、ＸＰＳ分析、ＦＴＩＲ分析および
エリプソメトリー分析により確認し、膜厚は４．０ｎｍ
であった。次いで、このアルミニウム板を用いた以外は
実施例１と同様にして本発明の電子写真感光体（１８）
を作成し、その帯電光減衰特性を求めた。結果を表３に
示す。

【０１３０】実施例１９実施例１４で用いたものと同一のアルミニウム板を、１
２−アミノドデカン酸の５ｍｍｏｌ／リットルのメタノ
ール溶液に室温で７２時間浸漬した後、溶液から引き上
げ、メタノールで十分洗浄した後、１２０℃のオーブン
中で１時間加熱し、表面上に自己組織化膜が形成された
アルミニウム板を得た。次いで、このアルミニウム板上
には、厚さ１．８ｎｍの１２−アミノドデカン酸の単分
子膜からなる自己組織化膜が形成されていることを、エ
リプソメトリー分析とＸＰＳ分析により確認した。

【０１３１】３−アミノプロピルシロキシ基の単分子膜
を形成させたアルミニウム板の代わりに、この１２−ア
ミノドデカン酸の単分子膜を形成させたアルミニウム板
を用いた以外は実施例１４と同様にして、アルミニウム
板上の１２−アミノドデカン酸の単分子膜と塩形成して
マレイン酸モノエチルエステル／メチルビニルエーテル
交互コポリマー（平均分子量２１万）が結合した自己組
織化ポリマー薄膜を作成した。自己組織化ポリマー薄膜
の作成は、接触角測定、ＸＰＳ分析、ＦＴＩＲ分析およ
びエリプソメトリー分析により確認し、膜厚は５．０ｎ
ｍであった。次いで、このアルミニウム板を用いた以外
は実施例１と同様にして本発明の電子写真感光体（１
９）を作成し、その帯電光減衰特性を求めた。結果を表
３に示す。

【０１３２】比較例１２１０％濃度のマレイン酸モノエチルエステル／メチルビ
ニルエーテル交互コポリマー（平均分子量２１万）のエ
タノール溶液を、実施例１４で用いたものと同一のアル
ミニウム板上にスピンコーターを用いて塗布し、１００
℃のオーブン中で１時間加熱して、表面に塗膜を有する
アルミニウム板を得、この表面に塗膜を有するアルミニ
ウム板上には、エリプソメトリー分析から、０．４μｍ
の膜が形成されてることを確認した。次いで、この表面
に塗膜を有するアルミニウム板上を用いた以外は実施例
１と同様にして電子写真感光体（１２′）を作成し、そ
の帯電光減衰特性を求めた。結果を表３に示す。

【０１３３】比較例１３１０％濃度のポリメタクリル酸（平均分子量１２万）の
メタノール溶液を、実施例１４で用いたものと同一のア
ルミニウム板上にスピンコーターを用いて塗布し、１０
０℃のオーブン中で１時間加熱して、表面に塗膜を有す
るアルミニウム板を得、この表面に塗膜を有するアルミ
ニウム板上には、エリプソメトリー分析から、０．５μ
ｍの膜が形成されてることを確認した。次いで、この表
面に塗膜を有するアルミニウム板上を用いた以外は実施
例１と同様にして電子写真感光体（１３′）を作成し、
その帯電光減衰特性を求めた。結果を表３に示す。

【０１３４】

【表３】

【０１３５】上記表３の結果より、実施例１４〜１９の
電子写真感光体（１４）〜（１９）は、比較例１２、１
３の電子写真感光体（１２′）、（１３′）、表１中の
比較例１、比較例３、の電子写真感光体（１′）、
（３′）および表２中の比較例６の電子写真感光体
（６′）に比較して、いずれも感度の指標となるＥ_1/2
の値がいずれも小さく、明らかに高感度であった。

【０１３６】実施例２０鏡面研磨されたアルミニウム板の代わりに、ＩＴＯ基板
（厚さ４０．０ｎｍのインジウムチンオキシド電極層が
スパッタリングで形成されている厚さ１ｍｍのパイレッ
クスガラス基板）を用いた以外は実施例１４と同様にし
て、３−アミノプロピルシロキシ基の単分子膜と塩形成
してマレイン酸モノエチルエステル／メチルビニルエー
テル交互コポリマー（平均分子量２１万）が結合した自
己組織化ポリマー薄膜をインジウムチンオキシド電極層
上に有するＩＴＯ基板を得た。自己組織化ポリマー薄膜
の作成は、接触角測定、ＸＰＳ分析、ＦＴＩＲ分析およ
びエリプソメトリー分析により確認し、膜厚は４．０ｎ
ｍであった。次いで、実施例１と同様にして本発明の電
子写真感光体（２０）を作成し、その帯電光減衰特性を
求めた。結果を表４に示す。

【０１３７】比較例１４１０％濃度のマレイン酸モノエチルエステル／メチルビ
ニルエーテル交互コポリマー（平均分子量２１万）のエ
タノール溶液を、実施例２０で用いたものと同一のＩＴ
Ｏ基板上にスピンコーターを用いて塗布し、１００℃の
オーブン中で１時間加熱して、表面に塗膜を有するＩＴ
Ｏ基板を得た。このＩＴＯ基板上には、エリプソメトリ
ー分析から、０．４μｍの膜が形成されてることを確認
した。次いで、このＩＴＯ基板を用いた以外は実施例１
と同様にして電子写真感光体（１４′）を作成し、その
帯電光減衰特性を求めた。結果を表４に示す。

【０１３８】実施例２１鏡面研磨されたアルミニウム板の代わりに、表面に銅の
酸化物を有する銅板を用いた以外は実施例１４と同様に
して、３−アミノプロピルシロキシ基の単分子膜と塩形
成してマレイン酸モノエチルエステル／メチルビニルエ
ーテル交互コポリマー（平均分子量２１万）が結合した
自己組織化ポリマー薄膜を銅酸化物上に有する銅板を得
た。自己組織化ポリマー薄膜の作成は、接触角測定、Ｘ
ＰＳ分析、ＦＴＩＲ分析およびエリプソメトリー分析に
より確認し、膜厚は４．５ｎｍであった。次いで、実施
例１と同様にして本発明の電子写真感光体（２１）を作
成し、その帯電光減衰特性を求めた。結果を表４に示
す。

【０１３９】実施例２２実施例１２と同様にして金電極層を自己組織化膜上に有
するパイレックスガラス基板を用い、これを１６−メル
カプトヘキサデカン酸の５ｍｍｏｌ／リットルのエタノ
ール溶液に室温で２４時間浸漬した後、溶液から引き上
げ、エタノールで十分洗浄して、金電極層上に自己組織
化膜が形成されたパイレックスガラス基板を得た。次い
で、このパイレックスガラス基板の金電極層上には、厚
さ２．０ｎｍの１６−メルカプトヘキサデカン酸からな
る自己組織化膜が形成されていることを、エリプソメト
リー分析とＸＰＳ分析により確認した。

【０１４０】この１６−メルカプトヘキサデカン酸から
なる自己組織化膜を金電極層上に形成させたパイレック
スガラス基板を、ポリアリルアミン（平均分子量１万）
の繰り返し単位の濃度が２５ｍｍｏｌ／リットルのメチ
ルエチルケトン溶液に室温で２０時間浸漬した後、溶液
から引き上げ、メチルエチルケトンで十分に洗浄し、３
０℃で２時間減圧下に乾燥して、金電極層上の１６−メ
ルカプトヘキサデカン酸の単分子膜と塩形成してポリア
リルアミン（平均分子量１万）が結合した自己組織化ポ
リマー薄膜を作成した。自己組織化ポリマー薄膜の作成
は、接触角測定、ＸＰＳ分析、ＦＴＩＲ分析およびエリ
プソメトリー分析により確認し、膜厚は４．０ｎｍであ
った。

【０１４１】次いで、この自己組織化ポリマー薄膜が金
電極層上に形成されたパイレックスガラス基板を用いた
以外は実施例１と同様にして本発明の電子写真感光体
（２０）を作成し、その帯電光減衰特性を求めた。結果
を表４に示す。

【０１４２】比較例１５１０％濃度のポリアリルアミン（平均分子量１万）のエ
タノール溶液を、実施例２２で用いたものと同一の金電
極層を有するパイレックス基板上にスピンコーターを用
いて塗布し、１００℃のオーブン中で１時間加熱して、
金電極層上に塗膜を有するパイレックスガラス基板を
得、このパイレックスガラス基板の金電極層上には、エ
リプソメトリー分析から、０．６μｍの膜が形成されて
ることを確認した。次いで、このパイレックスガラス基
板を用いた以外は実施例１と同様にして電子写真感光体
（１５′）を作成し、その帯電光減衰特性を求めた。結
果を表に示す。

【０１４３】

【表４】

【０１４４】上記表４の結果より、実施例２０の電子写
真感光体（２０）は、比較例１４の電子写真感光体（１
４′）および表２中の比較例７の電子写真感光体
（７′）に比較して、感度の指標となるＥ_1/2 の値が小
さく、明らかに高感度であった。

【０１４５】また、実施例２１の電子写真感光体（２
１）は、表２中の比較例８の電子写真感光体（８′）に
比較して、感度の指標となるＥ_1/2 の値が小さく、明ら
かに高感度であった。

【０１４６】更に、実施例２２の電子写真感光体（２
２）は、比較例１５の電子写真感光体（１５′）および
表２中の比較例９の電子写真感光体（９′）に比較し
て、感度の指標となるＥ_1/2 の値が小さく、明らかに高
感度であった。

【０１４７】実施例２３実施例１４と同様にして得た、３−アミノプロピルシロ
キシ基の単分子膜と塩形成してマレイン酸モノエチルエ
ステル／メチルビニルエーテル交互コポリマー（平均分
子量２１万）が結合した自己組織化ポリマー薄膜が形成
されたアルミニウム板を用い、これを減圧下、１５０℃
で６時間加熱処理して、加熱処理された自己組織化ポリ
マー薄膜を有するアルミニウム板を得た。接触角測定、
ＸＰＳ分析、ＦＴＩＲ分析およびエリプソメトリー分析
により、このアルミニウム板表面に、３−アミノプロピ
ルシロキシ基の単分子膜のアミノ基とマレイン酸モノエ
チルエステル／メチルビニルエーテル交互コポリマー
（平均分子量２１万）のカルボキシル基が反応してイミ
ド結合を形成した構造の自己組織化ポリマー薄膜が形成
されていることを確認した。この自己組織化ポリマー薄
膜の膜厚は４．０ｎｍであった。

【０１４８】次いで、このアルミニウム板を用いた以外
は実施例１と同様にして本発明の電子写真感光体（２
３）を作成し、その帯電光減衰特性を求めた。結果を表
５に示す。

【０１４９】実施例２４実施例１９と同様にして得た、３−アミノプロピルシロ
キシ基の単分子膜と塩形成してマレイン酸モノエチルエ
ステル／メチルビニルエーテル交互コポリマー（平均分
子量２１万）が結合した自己組織化ポリマー薄膜が形成
されたＩＴＯ基板を用い、これを減圧下、１５０℃で６
時間加熱処理して、加熱処理された自己組織化ポリマー
薄膜を有するＩＴＯ基板を得た。接触角測定、ＸＰＳ分
析、ＦＴＩＲ分析およびエリプソメトリー分析により、
ＩＴＯ基板表面に、３−アミノプロピルシロキシ基の単
分子膜のアミノ基とマレイン酸モノエチルエステル／メ
チルビニルエーテル交互コポリマー（平均分子量２１
万）のカルボキシル基が反応してイミド結合を形成した
構造の自己組織化ポリマー薄膜が形成されていることを
確認した。この自己組織化ポリマー薄膜の膜厚は４．０
ｎｍであった。

【０１５０】次いで、このＩＴＯ基板を用いた以外は実
施例１と同様にして本発明の電子写真感光体（２４）を
作成し、その帯電光減衰特性を求めた。結果を表５に示
す。

【０１５１】実施例２５実施例１２と同様にして金電極層を自己組織化膜上に有
するパイレックスガラス基板を用い、これを１１−メル
カプトウンデカノールの５ｍｍｏｌ／リットルのエタノ
ール溶液に室温で２４時間浸漬した後、溶液から引き上
げ、エタノールで十分洗浄して、金電極層上に自己組織
化膜が形成されたパイレックスガラス基板を得た。次い
で、このパイレックスガラス基板の金電極層上には、厚
さ２．０ｎｍの１１−メルカプトウンデカノールからな
る自己組織化膜が形成されていることを、エリプソメト
リー分析とＸＰＳ分析により確認した。

【０１５２】この１１−メルカプトウンデカノールから
なる自己組織化膜を形成させたパイレックスガラス基板
を、ポリシロキサンオリゴマー（三菱化学社製ＭＫＣシ
リケート、平均分子量５５０）の繰り返し単位の濃度が
１０ｍｍｏｌ／リットルのメタノール溶液に室温で１２
時間浸漬した後、溶液から引き上げ、メチルエチルケト
ンで十分に洗浄し、３０℃で２時間減圧下に乾燥して、
金電極層上の１１−メルカプトウンデカノールの単分子
膜とシロキサン結合を形成してポリシロキサンオリゴマ
ー（平均分子量５５０）が結合した自己組織化ポリマー
薄膜を作成した。自己組織化ポリマー薄膜の作成は、接
触角測定、ＸＰＳ分析、ＦＴＩＲ分析およびエリプソメ
トリー分析により確認し、膜厚は４．０ｎｍであった。

【０１５３】次いで、この自己組織化ポリマー薄膜が金
電極層上に形成されたパイレックスガラス基板を用いた
以外は実施例１と同様にして、本発明の電子写真感光体
（２５）を作成し、その帯電光減衰特性を求めた。結果
を表５に示す。

【０１５４】比較例１６１０％濃度のポリシロキサンオリゴマー（三菱化学社製
ＭＫＣシリケート）のメタノール溶液を、実施例２５で
用いたものと同一の金電極層を有するパイレックス基板
上にスピンコーターを用いて塗布し、１００℃のオーブ
ン中で１時間加熱して、今電極層上に塗膜を有するパイ
レックスガラス基板を得、このパイレックスガラス基板
の金電極層上には、エリプソメトリー分析から、０．４
μｍの膜が形成されてることを確認した。次いで、この
パイレックスガラス基板を用いた以外は実施例１と同様
にして電子写真感光体（１６′）を作成し、その帯電光
減衰特性を求めた。結果を表５に示す。

【０１５５】

【表５】

【０１５６】上記表５の結果より、実施例２３の電子写
真感光体（２３）は、表１中の比較例１、比較例３の電
子写真感光体（１′）、（３′）および表３中の比較例
１２の電子写真感光体（１２′）に比較して、感度の指
標となるＥ_1/2 の値が小さく、明らかに高感度であっ
た。

【０１５７】また、実施例２４の電子写真感光体（２
４）は、表２中の比較例７の電子写真感光体（７′）お
よび表４中の比較例１４の電子写真感光体（１４′）に
比較して、感度の指標となるＥ_1/2 の値が小さく、明ら
かに高感度であった。

【０１５８】更に、実施例２５の電子写真感光体（２
５）は、比較例１６の電子写真感光体（１６′）および
表２中の比較例９の電子写真感光体（９′）に比較し
て、感度の指標となるＥ_1/2 の値が小さく、明らかに高
感度であった。

【０１５９】実施例２６実施例１４と同様にして、３−アミノプロピルシロキシ
基の単分子膜と塩形成してマレイン酸モノエチルエステ
ル／メチルビニルエーテル交互コポリマー（平均分子量
２１万）が結合した構造の厚さ４．０ｎｍの自己組織化
ポリマー薄膜を有するアルミニウム板を得た。

【０１６０】次いで、ｘ型無金属フタロシアニン（ｘ−
Ｈ₂Ｐｃ）０．３５ｇ、１０％エスレックスＭ（積水化
学社製塩化ビニル系樹脂）のジオキサン溶液１．７５
ｇ、メチルエチルケトン／トルエン（重量比３／１）混
合溶媒１１．０ｇおよびガラスビーズをマヨネーズ瓶に
仕込み、ペイントシェーカーで２時間分散処理して電荷
発生剤分散液を得た。更に、実施例１と同様にして電荷
輸送剤溶液を得た。

【０１６１】上記で得た自己組織化ポリマー薄膜を有す
るアルミニウム板上に、上記電荷発生剤分散液を用いた
以外は実施例１と同様にして、電荷発生層を作成し、更
に同様にしてその上に電荷輸送層を形成し、電子写真感
光体（２６）を作成した。次いで、コロナ帯電を−６ｋ
Ｖ、スタティック方式に変更した以外は実施例１と同様
にして、その帯電光減衰特性を求めた。結果を表６に示
す。

【０１６２】実施例２７実施例２３と同様にして、３−アミノプロピルシロキシ
基の単分子膜のアミノ基とマレイン酸モノエチルエステ
ル／メチルビニルエーテル交互コポリマー（平均分子量
２１万）のカルボキシル基が反応してイミド結合を形成
した構造の自己組織化ポリマー薄膜を作成し、このアル
ミニウム板上に厚さ４．０ｎｍの自己組織化ポリマー薄
膜が形成されたアルミニウム板を得た。

【０１６３】次いで、実施例２６と同様にして電荷発生
剤分散液を得、更に実施例１と同様にして電荷輸送剤溶
液を得た。

【０１６４】上記で得た自己組織化ポリマー薄膜を有す
るアルミニウム板上に、上記電荷発生剤分散液を用いた
以外は実施例１と同様にして、電荷発生層を作成し、更
に同様にしてその上に電荷輸送層を形成し、電子写真感
光体（２７）を作成した。次いで、コロナ帯電を−６ｋ
Ｖ、スタティック方式に変更した以外は実施例１と同様
にして、その帯電光減衰特性を求めた。結果を表６に示
す。

【０１６５】比較例１７自己組織化ポリマー薄膜を作成せずに、鏡面研磨された
アルミニウム板をそのまま用いた以外は実施例２６と同
様にして、電子写真感光体（１７′）を作成しし、次い
で、コロナ帯電を−６ｋＶ、スタティック方式に変更し
た以外は実施例１と同様にして、その帯電光減衰特性を
求めた。結果を表６に示す。

【０１６６】

【表６】

【０１６７】上記表６の結果より、実施例２６、２７の
電子写真感光体（２６）、（２７）は、比較例１７の電
子写真感光体（１７′）に比較して、いずれも感度の指
標となるＥ_1/2 の値が小さく、明らかに高感度であっ
た。

【０１６８】

【発明の効果】本発明の電子写真感光体は、感度が向上
した電子写真感光体である。

【図面の簡単な説明】

【図１】表面に金属酸化物を有する基板上に自己組織化
膜を形成する場合の概念図である。

【図２】表面に金属酸化物を有していない基板上に自己
組織化膜を形成する場合の概念図である。

【図３】表面活性基を有するポリマーを用いて電極層上
に自己組織化ポリマー薄膜を形成する場合の概念図であ
る。

【図４】末端に官能基Ａを有する自己組織化膜形成用化
合物を用いて電極層上に自己組織化ポリマー薄膜を形成
する場合の概念図である。

【図５】末端に重合性基Ｃを有する自己組織化膜形成用
化合物を用いて電極層上に自己組織化ポリマー薄膜を形
成する場合の概念図である。

【符号の説明】

１置換されていてもよいアルキル基Ｍ金属原子２ポリマー主鎖３置換されていてもよいアルキレン基４電極層表面Ｘ表面活性基Ｙ電極層表面と結合後のＸ中の残基Ａ官能基Ａ′Ａと反応する官能基ＢＡとＡ′の反応により生じた結合単位Ｃ重合性基５Ｃの重合により生じたポリマー主鎖

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】電極層と感光体層を有する電子写真感光
体であって、該電極層の感光体層側に自己組織化ポリマ
ー薄膜が形成されていることを特徴とする電子写真感光
体。
【請求項２】自己組織化ポリマー薄膜が、電極層上に
直接化学結合している膜である請求項１記載の電子写真
感光体。
【請求項３】自己組織化ポリマー薄膜が、アルコキシ
シリル基、ハロシリル基、カルボキシル基およびメルカ
プト基からなる群から選ばれる１種以上の表面活性基を
有する自己組織化ポリマー薄膜形成用ポリマーからなる
薄膜である請求項２記載の電子写真感光体。
【請求項４】自己組織化ポリマー薄膜が、アルコキシ
シリル基、ハロシリル基およびカルボキシル基からなる
群から選ばれる１種以上の表面活性基を含む自己組織化
ポリマー薄膜形成用ポリマーからなる自己組織化ポリマ
ー薄膜であり、かつ、表面にスズ、インジウム、アルミ
ニウムまたは銅の酸化物を有する電極層の酸化物と化学
結合している薄膜である請求項２記載の電子写真感光
体。
【請求項５】自己組織化ポリマー薄膜が、（メタ）ア
クリル酸誘導体単位を含むポリマー類から選ばれた１種
以上の自己組織化ポリマー薄膜形成用ポリマーからなる
膜である請求項２、３または４記載の電子写真感光体。
【請求項６】自己組織化ポリマー薄膜が、電極層を自
己組織化ポリマー薄膜形成用ポリマーの溶液に接触させ
て自己組織化ポリマー薄膜形成用ポリマーを電極層と反
応させた後、電極層を該溶液から分離し、自己組織化ポ
リマー薄膜形成用ポリマーが溶解する溶液で洗浄して、
未反応の自己組織化ポリマー薄膜形成用ポリマーを除去
して得たものである請求項１〜５のいずれか１つに記載
の電子写真感光体。
【請求項７】自己組織化ポリマー薄膜が、電極層をア
ルコキシシリル基、および／またはハロシリル基を含む
自己組織化ポリマー薄膜形成用ポリマーの溶液に接触さ
せて自己組織化ポリマー薄膜形成用ポリマーを電極層と
反応させた後、電極層を該溶液から分離し、自己組織化
ポリマー薄膜形成用ポリマーが溶解する溶液で洗浄し
て、未反応の自己組織化ポリマー薄膜形成用ポリマーを
除去した後、加熱処理して得たものである請求項１〜５
のいずれか１つに記載の電子写真感光体。
【請求項８】自己組織化ポリマー薄膜形成用ポリマー
の溶液が、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、ハロゲン
化炭化水素、アルコール、エーテル系化合物、ケトン系
化合物および水からなる群から選ばれる１種以上の溶媒
に自己組織化ポリマー薄膜形成用ポリマーを、この自己
組織化ポリマー薄膜形成用ポリマー中の表面活性基濃度
が０．００１ｍｍｏｌ／リットル〜１ｍｏｌ／リットル
となる範囲で溶解させた溶液である請求項６または７記
載の電子写真感光体。
【請求項９】自己組織化ポリマー薄膜が、有機アルコ
キシシラン類、有機ハロシラン類、カルボン酸類および
チオール類からなる群から選ばれる１種以上の自己組織
化膜形成用化合物からなる自己組織化膜上に、ポリマー
が化学結合されてなる薄膜である請求項２記載の電子写
真感光体。
【請求項１０】自己組織化ポリマー薄膜が、末端に官
能基を有する自己組織化膜を電極層上に形成した後、該
官能基と反応する官能基を有するポリマーを反応させて
形成した薄膜である請求項９記載の電子写真感光体。
【請求項１１】自己組織化膜が、有機アルコキシシラ
ン類、有機ハロシラン類およびカルボン酸類からなる群
から選ばれる１種以上の自己組織化膜形成用化合物から
なる自己組織化膜であり、かつ、表面にスズ、インジウ
ム、アルミニウムまたは銅の酸化物を有する電極層の酸
化物と化学結合している自己組織化膜である請求項９ま
たは１０記載の電子写真感光体。
【請求項１２】自己組織化膜が、有機アルコキシシラ
ン類、有機ハロシラン類およびカルボン酸類からなる群
から選ばれる１種以上の自己組織化膜形成用化合物であ
って、炭素原子数１〜３０のアルキレン基を介してアミ
ノ基を有するものからなる、末端にアミノ基を有する自
己組織化膜であり、かつ、自己組織化ポリマー薄膜が、
該末端にアミノ基を有する自己組織化膜とカルボキシル
基を有するポリマーとを反応させてアンモニウム塩を形
成させて得た薄膜である請求項１０または１１記載の電
子写真感光体。
【請求項１３】自己組織化ポリマー薄膜が、末端にア
ミノ基を有する自己組織化膜とマレイン酸単位を有する
ポリマーとを反応させてアンモニウム塩を形成させた
後、加熱処理してイミド結合を形成させて得た薄膜であ
る請求項１２記載の電子写真感光体。
【請求項１４】自己組織化ポリマー薄膜が、末端に官
能基を有する自己組織化膜が形成された電極層を、該官
能基と反応する官能基を有するポリマーの溶液に接触さ
せて反応させた後、電極層を該溶液から分離し、ポリマ
ーが溶解する溶媒で洗浄して、未反応のポリマーを除去
して得た薄膜である請求項９〜１３のいずれか１つに記
載の電子写真感光体。
【請求項１５】末端に官能基を有する自己組織化膜が
形成された電極層の末端の官能基と反応する官能基を有
するポリマーの溶液が、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水
素、ハロゲン化炭化水素、アルコール、エーテル系化合
物、ケトン系化合物および水からなる群から選ばれる１
種以上の溶媒に該ポリマーを、その官能基濃度が０．０
０１ｍｍｏｌ／リットル〜１ｍｏｌ／リットルとなる範
囲で溶解させた溶液である請求項１４記載の電子写真感
光体。
【請求項１６】自己組織化膜が、電極層を自己組織化
膜形成用化合物の溶液に接触させて自己組織化膜形成用
化合物を電極層と反応させた後、電極層を該溶液から分
離し、自己組織化膜形成用化合物が溶解する溶液で洗浄
して、未反応の自己組織化膜形成用化合物を除去して得
た自己組織化膜である請求項９〜１５のいずれか１つに
記載の電子写真感光体。
【請求項１７】自己組織化膜が、自己組織化膜形成用
化合物として有機アルコキシシラン類および／または有
機ハロシラン類を用い、かつ電極層を自己組織化膜形成
用化合物の溶液に接触させて自己組織化膜形成用化合物
を電極層と反応させた後、電極層を該溶液から分離し、
自己組織化膜形成用化合物が溶解する溶液で洗浄して、
未反応の自己組織化膜形成用化合物を除去し、次いで加
熱処理して得た自己組織化膜である請求項９〜１５のい
ずれか１つに記載の電子写真感光体。
【請求項１８】自己組織化膜形成用化合物の溶液が、
脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、アルコール、エーテ
ル系化合物および水からなる群から選ばれる１種以上の
溶媒に自己組織化膜形成用化合物を、その濃度が０．０
０１ｍｍｏｌ／リットル〜５ｍｏｌ／リットルとなる範
囲で溶解させた溶液である請求項１６または１７記載の
電子写真感光体。
【請求項１９】自己組織化ポリマー薄膜の膜厚が、１
〜１０ｎｍの範囲にある請求項１〜１８のいずれか１つ
に記載の電子写真感光体。
【請求項２０】感光体層が、感光性物質としてフタロ
シアニン顔料を含有するものである請求項１〜１９のい
ずれか１つに記載の電子写真感光体。
【請求項２１】フタロシアニン顔料が、オキソチタニ
ウムフタロシアニンである請求項２０記載の電子写真感
光体。