JPH1064437A - イオンビーム発生装置 - Google Patents
イオンビーム発生装置Info
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- JPH1064437A JPH1064437A JP8212826A JP21282696A JPH1064437A JP H1064437 A JPH1064437 A JP H1064437A JP 8212826 A JP8212826 A JP 8212826A JP 21282696 A JP21282696 A JP 21282696A JP H1064437 A JPH1064437 A JP H1064437A
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- JP
- Japan
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- ion beam
- cathode
- anode
- grid electrode
- metallic
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ビーム引き出し用グリット電極前面で均一な
プラズマ分布を与え、引き出されるイオンビームを偏り
のない均一なものとなし得るようにする。 【解決手段】 アノード１と複数の金属カソード３との
間で真空アーク放電を起こさせてイオンビームを引き出
すようにしたイオンビーム発生装置において、複数の金
属カソード３をイオン源軸心Ａに対して対称となる位置
に設け、対称位置にある複数の金属カソード３に同時に
真空アーク放電を起こさせるようにした。また、前記金
属カソード３を、そのカソード軸心Ｂがグリッド電極の
中心に向かうように設けると共に、アノードとグリッド
電極との間に、グリッド電極に対して垂直な磁場３３を
印加するようにした点にある。
プラズマ分布を与え、引き出されるイオンビームを偏り
のない均一なものとなし得るようにする。 【解決手段】 アノード１と複数の金属カソード３との
間で真空アーク放電を起こさせてイオンビームを引き出
すようにしたイオンビーム発生装置において、複数の金
属カソード３をイオン源軸心Ａに対して対称となる位置
に設け、対称位置にある複数の金属カソード３に同時に
真空アーク放電を起こさせるようにした。また、前記金
属カソード３を、そのカソード軸心Ｂがグリッド電極の
中心に向かうように設けると共に、アノードとグリッド
電極との間に、グリッド電極に対して垂直な磁場３３を
印加するようにした点にある。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、イオンビーム発生
装置に関するものである。
装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】イオンビーム発生装置には、図８及び図
９に示すように真空中で互いに絶縁されて設置されたア
ノード５１と複数の金属カソード５２とを設けると共
に、アノード５１の後方にビーム引き出し用のグリッド
電極である加速グリッド５３、サプレッサグリッド５４
及びグランドグリッド５５を設け、アノード５１と複数
の金属カソード５２との間で真空アーク放電を起こさせ
てイオンビームを引き出すようにしたものがある。
９に示すように真空中で互いに絶縁されて設置されたア
ノード５１と複数の金属カソード５２とを設けると共
に、アノード５１の後方にビーム引き出し用のグリッド
電極である加速グリッド５３、サプレッサグリッド５４
及びグランドグリッド５５を設け、アノード５１と複数
の金属カソード５２との間で真空アーク放電を起こさせ
てイオンビームを引き出すようにしたものがある。
【０００３】しかし、従来のこの種のイオンビーム発生
装置では、同図に示すように複数の金属性カソード５２
を周方向に等間隔をおいて配置すると共に、アノード５
１に各金属性カソード５２に対応して複数の開口部５６
を設けており、各金属性カソード５２は、その構成上ビ
ーム引き出し用グリッド電極の中心位置から偏って設け
られていた（例えば特開平５−２０５６８３号公報）。
装置では、同図に示すように複数の金属性カソード５２
を周方向に等間隔をおいて配置すると共に、アノード５
１に各金属性カソード５２に対応して複数の開口部５６
を設けており、各金属性カソード５２は、その構成上ビ
ーム引き出し用グリッド電極の中心位置から偏って設け
られていた（例えば特開平５−２０５６８３号公報）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の場合、複数の金
属カソード５２が、ビーム引き出し用グリッド電極の中
心位置から偏って設けられていたため、引き出されたイ
オンビームも、金属カソード５２の偏りに応じてイオン
源軸心Ａ上から偏りが生じ、この結果、イオンビームを
照射された被処理物へのイオン注入量に偏りが生じ、均
一な改質特性が得られないという問題があった。
属カソード５２が、ビーム引き出し用グリッド電極の中
心位置から偏って設けられていたため、引き出されたイ
オンビームも、金属カソード５２の偏りに応じてイオン
源軸心Ａ上から偏りが生じ、この結果、イオンビームを
照射された被処理物へのイオン注入量に偏りが生じ、均
一な改質特性が得られないという問題があった。
【０００５】本発明は上記問題点に鑑み、ビーム引き出
し用グリット電極前面で均一なプラズマ分布を与え、引
き出されるイオンビームを偏りのない均一なものとなし
得るようにしたものである。
し用グリット電極前面で均一なプラズマ分布を与え、引
き出されるイオンビームを偏りのない均一なものとなし
得るようにしたものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この技術的課題を解決す
る本発明の第１の技術的手段は、アノード１と複数の金
属カソード３との間で真空アーク放電を起こさせてイオ
ンビームを引き出すようにしたイオンビーム発生装置に
おいて、複数の金属カソード３をイオン源軸心Ａに対し
て対称となる位置に設け、対称位置にある複数の金属カ
ソード３に同時に真空アーク放電を起こさせるようにし
た点にある。
る本発明の第１の技術的手段は、アノード１と複数の金
属カソード３との間で真空アーク放電を起こさせてイオ
ンビームを引き出すようにしたイオンビーム発生装置に
おいて、複数の金属カソード３をイオン源軸心Ａに対し
て対称となる位置に設け、対称位置にある複数の金属カ
ソード３に同時に真空アーク放電を起こさせるようにし
た点にある。
【０００７】本発明の第２の技術的手段は、アノード１
と複数の金属カソード３との間で交互に真空アーク放電
を起こさせてイオンビームを引き出すようにしたイオン
ビーム発生装置において、前記金属カソード３を、その
カソード軸心Ｂがグリッド電極の中心に向かうように設
けると共に、アノードとグリッド電極との間に、グリッ
ド電極に対して垂直な磁場３３を印加するようにした点
にある。
と複数の金属カソード３との間で交互に真空アーク放電
を起こさせてイオンビームを引き出すようにしたイオン
ビーム発生装置において、前記金属カソード３を、その
カソード軸心Ｂがグリッド電極の中心に向かうように設
けると共に、アノードとグリッド電極との間に、グリッ
ド電極に対して垂直な磁場３３を印加するようにした点
にある。
【０００８】従って、発生する金属プラズマは、イオン
源軸心Ａに対して対称となる位置に設けられた複数個の
金属性カソード３とアノード１との間に発生した真空ア
ーク放電によるものであるから、発生する全体として均
一なプラズマ分布２４となり、そのイオンビーム分布２
６は偏りのない均一なものになる。また、金属性カソー
ド３をそのカソード軸心Ｂがグリッド電極の中心に向か
うように傾斜させているため、真空アーク放電により発
生するプラズマ密度分布２４の中心をグリッド電極の中
心に合わせることができ、グリッド電極に対して垂直な
磁場３３によりプラズマが捕捉され、イオンの進行方向
がグリッド電極に対して垂直になり、その結果、偏りの
ないイオンビーム分布２６が得られる。
源軸心Ａに対して対称となる位置に設けられた複数個の
金属性カソード３とアノード１との間に発生した真空ア
ーク放電によるものであるから、発生する全体として均
一なプラズマ分布２４となり、そのイオンビーム分布２
６は偏りのない均一なものになる。また、金属性カソー
ド３をそのカソード軸心Ｂがグリッド電極の中心に向か
うように傾斜させているため、真空アーク放電により発
生するプラズマ密度分布２４の中心をグリッド電極の中
心に合わせることができ、グリッド電極に対して垂直な
磁場３３によりプラズマが捕捉され、イオンの進行方向
がグリッド電極に対して垂直になり、その結果、偏りの
ないイオンビーム分布２６が得られる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づき説明する。図１及び図２において、１はアノー
ドで、開口部２が２個設けられている。３は金属性カソ
ードで、イオン源軸心Ａに対して対称となる位置に２個
設けられている。各金属性カソード３と前記アノード１
の開口部２とは互いに対応した位置にある。各金属カソ
ード３には絶縁材４が外嵌されると共に、トリガーリン
グ６を介してトリガー電極７に接続されている。
に基づき説明する。図１及び図２において、１はアノー
ドで、開口部２が２個設けられている。３は金属性カソ
ードで、イオン源軸心Ａに対して対称となる位置に２個
設けられている。各金属性カソード３と前記アノード１
の開口部２とは互いに対応した位置にある。各金属カソ
ード３には絶縁材４が外嵌されると共に、トリガーリン
グ６を介してトリガー電極７に接続されている。
【００１０】９はアーク電源で、アノード１と各金属性
カソード３との間に電圧を印加する。１０はトリガー電
源で、各金属性カソード３と各トリガー電極７との間に
高電圧を瞬間的に印加する。１２は加速グリッド、１３
はサプレッサグリッド、１４はグランドグリッドであ
り、これらはビーム引き出し用のグリッド電極を構成す
る。１７は加速電源で、加速グリッド１２及びアノード
１を数ＫＶ〜数百ＫＶの高電圧に保持している。１８は
サプレッサー電源で、サプレッサグリッド１３に負電圧
を印加している。前記グランドグリッド１４は接地され
ている。
カソード３との間に電圧を印加する。１０はトリガー電
源で、各金属性カソード３と各トリガー電極７との間に
高電圧を瞬間的に印加する。１２は加速グリッド、１３
はサプレッサグリッド、１４はグランドグリッドであ
り、これらはビーム引き出し用のグリッド電極を構成す
る。１７は加速電源で、加速グリッド１２及びアノード
１を数ＫＶ〜数百ＫＶの高電圧に保持している。１８は
サプレッサー電源で、サプレッサグリッド１３に負電圧
を印加している。前記グランドグリッド１４は接地され
ている。
【００１１】上記実施の形態の構成によれば、トリガー
電源１０によって金属性カソード３と各トリガー電極７
との間に高電圧を瞬間的に印加することにより、各トリ
ガーリング６と金属性カソード３との間にトリガー放電
を発生させる。このトリガー放電をきっかけにアノード
１と各金属性カソード３との間に真空アーク放電が発生
する。真空アーク放電発生によりカソード３の先端部に
カソードスポットと呼ばれるエネルギーの集中した点が
出現し、この部分の物質を蒸発しかつイオン化して金属
プラズマが発生する。
電源１０によって金属性カソード３と各トリガー電極７
との間に高電圧を瞬間的に印加することにより、各トリ
ガーリング６と金属性カソード３との間にトリガー放電
を発生させる。このトリガー放電をきっかけにアノード
１と各金属性カソード３との間に真空アーク放電が発生
する。真空アーク放電発生によりカソード３の先端部に
カソードスポットと呼ばれるエネルギーの集中した点が
出現し、この部分の物質を蒸発しかつイオン化して金属
プラズマが発生する。
【００１２】発生した金属プラズマは、金属性カソード
３とアノード１との間の放電領域２０からアノード１の
開口部２を通過してプラズマ室２１に導かれる。この金
属プラズマは、イオン源軸心Ａに対して対称となる位置
に設けられた２個の金属性カソード３とアノード１との
間に発生した真空アーク放電によるものであるから、一
方の金属性カソード３とアノード１との間に発生した真
空アーク放電による第１の金属プラズマ密度分布２４ａ
と、他方の金属性カソード３とアノード１との間に発生
した真空アーク放電による第２の金属プラズマ密度分布
２４ｂとが、重ね合わさったものとなり、全体として均
一なプラズマ分布２４となる。
３とアノード１との間の放電領域２０からアノード１の
開口部２を通過してプラズマ室２１に導かれる。この金
属プラズマは、イオン源軸心Ａに対して対称となる位置
に設けられた２個の金属性カソード３とアノード１との
間に発生した真空アーク放電によるものであるから、一
方の金属性カソード３とアノード１との間に発生した真
空アーク放電による第１の金属プラズマ密度分布２４ａ
と、他方の金属性カソード３とアノード１との間に発生
した真空アーク放電による第２の金属プラズマ密度分布
２４ｂとが、重ね合わさったものとなり、全体として均
一なプラズマ分布２４となる。
【００１３】また、プラズマ室２１に導かれた金属イオ
ンビーム２５はグリッド間で電界により加速されグリッ
ド開口部を通過して処理室２３へ引き出され、そのイオ
ンビーム分布２６は偏りのない均一なものになる。ここ
で、サプレッサグリッド１３は処理室２３に存在する自
由電子がプラズマ室２１へ逆流することを防止する。図
３は他の実施の形態を示し、金属性カソード３（３Ａ、
３Ｂ、３Ｃ、３Ｄ、３Ｅ、３Ｆ）を周方向等間隔おきに
６個設けると共に、トリガー切換器２９を設け、トリガ
ー切換器２９によって、イオン源軸心Ａに対して対称と
なる位置にある金属性カソード３Ａ及び金属性カソード
３Ｄの組、金属性カソード３Ｂ及び金属性カソード３Ｅ
の組又は金属性カソード３Ｃ及び金属性カソード３Ｆの
組のいずれかを選択し、その選択した組の２個の金属性
カソード３とこれらに対応するトリガー電極７との間に
同時にトリガー電源１０によって高電圧を瞬間的に印加
することにより、イオン源軸心Ａに対して対称となる位
置にある２個の金属性カソード３とアノード１との間に
同時にトリガー放電を発生させるようにしたものであ
り、この場合も均一なプラズマ分布となり、そのイオン
ビーム分布は偏りのない均一なものになる。
ンビーム２５はグリッド間で電界により加速されグリッ
ド開口部を通過して処理室２３へ引き出され、そのイオ
ンビーム分布２６は偏りのない均一なものになる。ここ
で、サプレッサグリッド１３は処理室２３に存在する自
由電子がプラズマ室２１へ逆流することを防止する。図
３は他の実施の形態を示し、金属性カソード３（３Ａ、
３Ｂ、３Ｃ、３Ｄ、３Ｅ、３Ｆ）を周方向等間隔おきに
６個設けると共に、トリガー切換器２９を設け、トリガ
ー切換器２９によって、イオン源軸心Ａに対して対称と
なる位置にある金属性カソード３Ａ及び金属性カソード
３Ｄの組、金属性カソード３Ｂ及び金属性カソード３Ｅ
の組又は金属性カソード３Ｃ及び金属性カソード３Ｆの
組のいずれかを選択し、その選択した組の２個の金属性
カソード３とこれらに対応するトリガー電極７との間に
同時にトリガー電源１０によって高電圧を瞬間的に印加
することにより、イオン源軸心Ａに対して対称となる位
置にある２個の金属性カソード３とアノード１との間に
同時にトリガー放電を発生させるようにしたものであ
り、この場合も均一なプラズマ分布となり、そのイオン
ビーム分布は偏りのない均一なものになる。
【００１４】なお、図３の場合、トリガー切換器２９に
よってイオン源軸心Ａに対して対称となる位置にある金
属性カソード３Ａ、金属性カソード３Ｃ及び金属性カソ
ード３Ｅの組又は金属性カソード３Ｂ、金属性カソード
３Ｄ及び金属性カソード３Ｆの組のいずれかを選択し、
その選択した組の３個の金属性カソード３とこれらに対
応する各トリガー電極７との間に同時にトリガー電源１
０によって高電圧を瞬間的に印加することにより、イオ
ン源軸心Ａに対して対称となる位置にある３個の金属性
カソード３とアノード１との間に同時にトリガー放電を
発生させるようにしてもよく、この場合も均一なプラズ
マ分布となり、そのイオンビーム分布は偏りのない均一
なものになる。
よってイオン源軸心Ａに対して対称となる位置にある金
属性カソード３Ａ、金属性カソード３Ｃ及び金属性カソ
ード３Ｅの組又は金属性カソード３Ｂ、金属性カソード
３Ｄ及び金属性カソード３Ｆの組のいずれかを選択し、
その選択した組の３個の金属性カソード３とこれらに対
応する各トリガー電極７との間に同時にトリガー電源１
０によって高電圧を瞬間的に印加することにより、イオ
ン源軸心Ａに対して対称となる位置にある３個の金属性
カソード３とアノード１との間に同時にトリガー放電を
発生させるようにしてもよく、この場合も均一なプラズ
マ分布となり、そのイオンビーム分布は偏りのない均一
なものになる。
【００１５】なお、図３の実施の形態の場合、まず選択
した組の金属性カソード３のみをイオンビームの発生に
使用し、その金属性カソード３が消耗したとき、次の組
の金属性カソード３を選択してイオンビームの発生に使
用するようにしてもよいし、またイオン源軸心Ａに対し
て対称となる位置にある複数の金属性カソード３の組
を、順次交互に真空アーク放電を起こさせて、全ての組
の金属性カソード３をイオンビームの発生に順次使用す
るようにしてもよい。また、各組の金属性カソード３
は、異種金属の金属性カソードであっても良いし、また
同種金属の金属性カソード３であってもよい。
した組の金属性カソード３のみをイオンビームの発生に
使用し、その金属性カソード３が消耗したとき、次の組
の金属性カソード３を選択してイオンビームの発生に使
用するようにしてもよいし、またイオン源軸心Ａに対し
て対称となる位置にある複数の金属性カソード３の組
を、順次交互に真空アーク放電を起こさせて、全ての組
の金属性カソード３をイオンビームの発生に順次使用す
るようにしてもよい。また、各組の金属性カソード３
は、異種金属の金属性カソードであっても良いし、また
同種金属の金属性カソード３であってもよい。
【００１６】図４は他の実施の形態を示し、各金属性カ
ソード３での真空アーク放電の発生を確実なものとする
ために、金属性カソード３毎にアーク電源９を設けたも
のである。その他の点は前記図１の実施の形態と同様な
構成である。なお、図３の実施の形態の場合において、
図４の実施の形態と同様に各金属性カソード３での真空
アーク放電の発生を確実なものとするために、金属性カ
ソード３毎にアーク電源９を設ける場合には、図３のト
リガー切換器２９と同様に、アーク電源の切換器を用い
るようにすれば、アーク電源９はトリガー電源７と共に
２個で済ますことができる。
ソード３での真空アーク放電の発生を確実なものとする
ために、金属性カソード３毎にアーク電源９を設けたも
のである。その他の点は前記図１の実施の形態と同様な
構成である。なお、図３の実施の形態の場合において、
図４の実施の形態と同様に各金属性カソード３での真空
アーク放電の発生を確実なものとするために、金属性カ
ソード３毎にアーク電源９を設ける場合には、図３のト
リガー切換器２９と同様に、アーク電源の切換器を用い
るようにすれば、アーク電源９はトリガー電源７と共に
２個で済ますことができる。
【００１７】図５は他の実施の形態を示し、金属性カソ
ード３を、イオン源軸心Ａに対して対称となる位置に２
個設けると共に、各金属性カソード３をそのカソード軸
心Ｂがグリッド電極の中心に向かうように傾斜させ、ア
ノード１を金属性カソード３の傾斜に対応するようにく
の字状に屈曲させている。また、アノード１とグリッド
電極（加速グリッド１２、サプレッサグリッド１３及び
グランドグリッド１４）との間に、環状の電磁コイル３
１を設けると共に、該電磁コイル３１に電力を供給する
たもめのコイル用電源３２を設け、この電磁コイル３１
により、アノード１とグリッド電極との間にグリッド電
極に対して垂直な磁場３３を印加するようにしている。
ード３を、イオン源軸心Ａに対して対称となる位置に２
個設けると共に、各金属性カソード３をそのカソード軸
心Ｂがグリッド電極の中心に向かうように傾斜させ、ア
ノード１を金属性カソード３の傾斜に対応するようにく
の字状に屈曲させている。また、アノード１とグリッド
電極（加速グリッド１２、サプレッサグリッド１３及び
グランドグリッド１４）との間に、環状の電磁コイル３
１を設けると共に、該電磁コイル３１に電力を供給する
たもめのコイル用電源３２を設け、この電磁コイル３１
により、アノード１とグリッド電極との間にグリッド電
極に対して垂直な磁場３３を印加するようにしている。
【００１８】上記図５の実施の形態とは異なり図７に示
すように各金属性カソード３をそのカソード軸心Ｂがイ
オン源軸心Ａと並行になるように配置すると共に、アノ
ード１とグリッド電極との間に磁場３３を設けない場合
には、同図に示すように真空アーク放電により発生した
プラズマによるプラズマ密度分布２４がイオン源軸心Ａ
に対して大きく偏ってしまい、イオンビーム分布２６も
偏りを生じる。これに対して、図５の実施の形態の場
合、各金属性カソード３をそのカソード軸心Ｂがグリッ
ド電極の中心に向かうように傾斜させているため、図６
に示すように真空アーク放電により発生したプラズマに
よるプラズマ密度分布２４の中心をグリッド電極の中心
に合わせることができる。また、グリッド電極に対して
垂直な磁場３３によりプラズマが捕捉され、イオンの進
行方向がグリッド電極に対して垂直になる。その結果、
中心より偏った位置にある個々のカソードから得られる
プラズマの偏りをなくし、偏りのないイオンビーム分布
２６が得られる。
すように各金属性カソード３をそのカソード軸心Ｂがイ
オン源軸心Ａと並行になるように配置すると共に、アノ
ード１とグリッド電極との間に磁場３３を設けない場合
には、同図に示すように真空アーク放電により発生した
プラズマによるプラズマ密度分布２４がイオン源軸心Ａ
に対して大きく偏ってしまい、イオンビーム分布２６も
偏りを生じる。これに対して、図５の実施の形態の場
合、各金属性カソード３をそのカソード軸心Ｂがグリッ
ド電極の中心に向かうように傾斜させているため、図６
に示すように真空アーク放電により発生したプラズマに
よるプラズマ密度分布２４の中心をグリッド電極の中心
に合わせることができる。また、グリッド電極に対して
垂直な磁場３３によりプラズマが捕捉され、イオンの進
行方向がグリッド電極に対して垂直になる。その結果、
中心より偏った位置にある個々のカソードから得られる
プラズマの偏りをなくし、偏りのないイオンビーム分布
２６が得られる。
【００１９】なお、図５の実施の形態の場合、トリガー
切換器２９による切り換えによって、２個の金属性カソ
ード３を交互に真空アーク放電を起こさせるようにして
もよいし、２個の金属性カソード３を同時に真空アーク
放電を起こさせるようにしてもよい。また、設ける金属
性カソード３の個数は２個のに限定されず、１個又は３
個以上金属性カソード３を設けるようにしてもよい。
切換器２９による切り換えによって、２個の金属性カソ
ード３を交互に真空アーク放電を起こさせるようにして
もよいし、２個の金属性カソード３を同時に真空アーク
放電を起こさせるようにしてもよい。また、設ける金属
性カソード３の個数は２個のに限定されず、１個又は３
個以上金属性カソード３を設けるようにしてもよい。
【００２０】
【発明の効果】本発明によれば、ビーム引き出し用グリ
ット電極前面で均一なプラズマ分布を得ることができ、
引き出されるイオンビームを偏りのない均一なものにす
ることができる。
ット電極前面で均一なプラズマ分布を得ることができ、
引き出されるイオンビームを偏りのない均一なものにす
ることができる。
【図１】本発明の一実施の形態を示す構成図である。
【図２】同金属性カソード部分の正面図である。
【図３】他の実施の形態を示す構成図である。
【図４】他の実施の形態を示す構成図である。
【図５】他の実施の形態を示す構成図である。
【図６】同作用説明用の説明図である。
【図７】同作用説明用の説明図である。
【図８】従来例を示す断面図である。
【図９】図８のＡ−Ａ線断面図である。
１ アノード ３ 金属性カソード １２ 加速グリッド １３ サプレッサグリッド １４ グランドグリッド ３３ 磁場
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 犬石 典之 兵庫県高砂市荒井町新浜２丁目３番１号 株式会社神戸製鋼所高砂製作所内
Claims (2)
- 【請求項１】 アノード（１）と複数の金属カソード
（３）との間で真空アーク放電を起こさせてイオンビー
ムを引き出すようにしたイオンビーム発生装置におい
て、 複数の金属カソード（３）をイオン源軸心Ａに対して対
称となる位置に設け、対称位置にある複数の金属カソー
ド（３）に同時に真空アーク放電を起こさせるようにし
たことを特徴とするイオンビーム発生装置。 - 【請求項２】 アノード（１）と複数の金属カソード
（３）との間で交互に真空アーク放電を起こさせてイオ
ンビームを引き出すようにしたイオンビーム発生装置に
おいて、 前記金属カソード（３）を、そのカソード軸心Ｂがグリ
ッド電極の中心に向かうように設けると共に、アノード
（１）とグリッド電極との間に、グリッド電極に対して
垂直な磁場（３３）を印加するようにしたことを特徴と
するイオンビーム発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8212826A JPH1064437A (ja) | 1996-08-12 | 1996-08-12 | イオンビーム発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8212826A JPH1064437A (ja) | 1996-08-12 | 1996-08-12 | イオンビーム発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1064437A true JPH1064437A (ja) | 1998-03-06 |
Family
ID=16629008
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8212826A Pending JPH1064437A (ja) | 1996-08-12 | 1996-08-12 | イオンビーム発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1064437A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005146363A (ja) * | 2003-11-17 | 2005-06-09 | Toshio Goto | 金属イオンの供給装置とその方法 |
| KR100837620B1 (ko) | 2007-06-12 | 2008-06-12 | 박흥균 | 4극관 구조의 전자빔 방출 장치 |
| CN104798170A (zh) * | 2012-11-21 | 2015-07-22 | 加州理工学院 | 用于制造基于碳纳米管的真空电子器件的系统和方法 |
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1996
- 1996-08-12 JP JP8212826A patent/JPH1064437A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005146363A (ja) * | 2003-11-17 | 2005-06-09 | Toshio Goto | 金属イオンの供給装置とその方法 |
| KR100837620B1 (ko) | 2007-06-12 | 2008-06-12 | 박흥균 | 4극관 구조의 전자빔 방출 장치 |
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