JPH1064873A - ワーク処理容器への気体導入装置 - Google Patents
ワーク処理容器への気体導入装置Info
- Publication number
- JPH1064873A JPH1064873A JP23987296A JP23987296A JPH1064873A JP H1064873 A JPH1064873 A JP H1064873A JP 23987296 A JP23987296 A JP 23987296A JP 23987296 A JP23987296 A JP 23987296A JP H1064873 A JPH1064873 A JP H1064873A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- work
- control valve
- gas
- flow control
- container
- Prior art date
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- Pending
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- Prevention Of Fouling (AREA)
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ワーク処理容器内においてワーク上に帯電し
た静電気を容器内において除電するため無塵清浄イオン
化気体を流量調節しながら容器に供給する。 【解決手段】 外部気体イオン化装置１０、ラインフィ
ルタ１３、電磁開閉弁１４及び電磁流量調節弁１５を直
列接続して全体をユニット化してワーク処理容器１に対
して着脱自在にする。
た静電気を容器内において除電するため無塵清浄イオン
化気体を流量調節しながら容器に供給する。 【解決手段】 外部気体イオン化装置１０、ラインフィ
ルタ１３、電磁開閉弁１４及び電磁流量調節弁１５を直
列接続して全体をユニット化してワーク処理容器１に対
して着脱自在にする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、ガラス基板又は
半導体ウェーハ等（以下ワークという）を加圧、減圧又
は常圧下で加熱或は冷却その他の処理を施すためのワー
ク処理容器内に洗浄用又は処理用気体を導入する装置に
関する。
半導体ウェーハ等（以下ワークという）を加圧、減圧又
は常圧下で加熱或は冷却その他の処理を施すためのワー
ク処理容器内に洗浄用又は処理用気体を導入する装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】ワーク処理容器においては容器内ワーク
の気体洗浄時の他、真空処理容器においてはワークの装
入及び取出しの都度、外部気体を導入して真空破壊する
必要がある。従来装置は図２のようであって圧力センサ
２を備えた容器１とラインフィルタ３との間にスローリ
ーク回路Ａと開閉弁６を接続したメインリーク回路Ｂが
並列接続され、スローリーク回路は開閉弁４と半固定式
ニードル弁５で構成され、ニードル弁５は気体導入中は
調節不能のものである。この装置において気体を導入す
る方法は、先ず開閉弁４を開き、ニードル弁５によって
予め設定した流量で導入し、圧力センサ２によって監視
されている容器内圧力が所定圧力になったときにメイン
開閉弁６が開くように制御されている。この装置では導
入時の流量調節が不能であって、容器底部にダストが存
在している場合はこれを巻き上げてワークＷを汚染する
他、ワーク取出し時にワーク自体の静電気によって損傷
を受け易い。そこで静電気対策として２点鎖線で示すよ
うに直流高電圧又は発振回路に接続したイオン発生用電
極７を容器内に設けることが考えられるが、このように
すると容器が大型になる他、電極に吸引付着された微粒
子がダストとなってワーク上に落下して新たな汚染原因
となる。更に容器底部に堆積したダスト８が気体導入時
に巻き上げられてワークを汚染するおそれがある。
の気体洗浄時の他、真空処理容器においてはワークの装
入及び取出しの都度、外部気体を導入して真空破壊する
必要がある。従来装置は図２のようであって圧力センサ
２を備えた容器１とラインフィルタ３との間にスローリ
ーク回路Ａと開閉弁６を接続したメインリーク回路Ｂが
並列接続され、スローリーク回路は開閉弁４と半固定式
ニードル弁５で構成され、ニードル弁５は気体導入中は
調節不能のものである。この装置において気体を導入す
る方法は、先ず開閉弁４を開き、ニードル弁５によって
予め設定した流量で導入し、圧力センサ２によって監視
されている容器内圧力が所定圧力になったときにメイン
開閉弁６が開くように制御されている。この装置では導
入時の流量調節が不能であって、容器底部にダストが存
在している場合はこれを巻き上げてワークＷを汚染する
他、ワーク取出し時にワーク自体の静電気によって損傷
を受け易い。そこで静電気対策として２点鎖線で示すよ
うに直流高電圧又は発振回路に接続したイオン発生用電
極７を容器内に設けることが考えられるが、このように
すると容器が大型になる他、電極に吸引付着された微粒
子がダストとなってワーク上に落下して新たな汚染原因
となる。更に容器底部に堆積したダスト８が気体導入時
に巻き上げられてワークを汚染するおそれがある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は容器内におい
てワークの除電を行なうと共に導入気体の流量を導入中
においても無段階で調節することによってワークの汚染
を少なくして製品歩留りを向上させる装置を提供するも
のである。更に、外部気体の導入調節装置をカートリッ
ヂ化してワーク処理容器に対して交換着脱自在にして処
理容器の稼働効率を向上させることにある。
てワークの除電を行なうと共に導入気体の流量を導入中
においても無段階で調節することによってワークの汚染
を少なくして製品歩留りを向上させる装置を提供するも
のである。更に、外部気体の導入調節装置をカートリッ
ヂ化してワーク処理容器に対して交換着脱自在にして処
理容器の稼働効率を向上させることにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明気体導入装置は、
外部空気又は不燃性気体が供給され該気体をイオン化す
るための気密容器でなる荷電装置とラインフィルタ、電
磁開閉元弁及び電磁流量制御弁がその順に直列接続さ
れ、前記電磁流量制御弁の二次側がワーク処理容器に接
続されてなるものである。更に、上記装置がチャンバー
内に収容されてカートリッヂ化され、これがユニットと
してワーク処理容器に着脱自在に接続されるように構成
されている。
外部空気又は不燃性気体が供給され該気体をイオン化す
るための気密容器でなる荷電装置とラインフィルタ、電
磁開閉元弁及び電磁流量制御弁がその順に直列接続さ
れ、前記電磁流量制御弁の二次側がワーク処理容器に接
続されてなるものである。更に、上記装置がチャンバー
内に収容されてカートリッヂ化され、これがユニットと
してワーク処理容器に着脱自在に接続されるように構成
されている。
【０００５】
【発明の実施の形態】図１は、本発明装置を真空処理容
器に適用した場合の例であって、図において１０はイオ
ン発生用電極１１を備えたイオン化装置、１２は筐体で
ある。１３はラインフィルタ、１４は電磁開閉元弁、１
５は電磁流量調節弁である。９は外部気体導入ライン、
１６は真空処理容器への接続ラインである。２０はこれ
らを内蔵又は収容したカートリッヂ又はボックスであっ
て移動可能である。９ａ，１６ａは夫々のライン接続口
である。
器に適用した場合の例であって、図において１０はイオ
ン発生用電極１１を備えたイオン化装置、１２は筐体で
ある。１３はラインフィルタ、１４は電磁開閉元弁、１
５は電磁流量調節弁である。９は外部気体導入ライン、
１６は真空処理容器への接続ラインである。２０はこれ
らを内蔵又は収容したカートリッヂ又はボックスであっ
て移動可能である。９ａ，１６ａは夫々のライン接続口
である。
【０００６】上記装置においてイオン化電極１１には外
部気体の導入前に高電圧等が印加されている。導入操作
時に元弁１４が開かれ次いで流量弁１５が順次開度を大
きくするように調節される。外部気体はイオン化装置を
通過する間にイオン化され、フィルタ１３によってイオ
ン化気体中の塵埃が除去されてイオン化除塵気体とされ
て真空容器内に供給される。この場合、外部気体中の塵
埃の一部はイオン化電極に吸着されて容器１２の底部に
ダストとして集積するのでフィルタ１３の汚損は従来装
置より少なくなり長寿命となる他、容器内には従来より
清浄な気体が供給される。容器内ワークＷの静電気は、
イオン化導入気体によって除電されるのでワークの容器
外取出し時の静電気障害のおそれが除去される。
部気体の導入前に高電圧等が印加されている。導入操作
時に元弁１４が開かれ次いで流量弁１５が順次開度を大
きくするように調節される。外部気体はイオン化装置を
通過する間にイオン化され、フィルタ１３によってイオ
ン化気体中の塵埃が除去されてイオン化除塵気体とされ
て真空容器内に供給される。この場合、外部気体中の塵
埃の一部はイオン化電極に吸着されて容器１２の底部に
ダストとして集積するのでフィルタ１３の汚損は従来装
置より少なくなり長寿命となる他、容器内には従来より
清浄な気体が供給される。容器内ワークＷの静電気は、
イオン化導入気体によって除電されるのでワークの容器
外取出し時の静電気障害のおそれが除去される。
【０００７】
【効果】本発明装置は、外部気体をイオン化装置におい
てイオン化と共に吸塵し、その後にフィルタを通過させ
て除塵しているから従来より清浄な導入気体が供給され
る。また、気体導入時においては、供給気体圧力と容器
内圧力に基づいて気体流量を無段階で自由に調節でき、
ワークの冷却処理なども効率よく行なうことができる。
更に、本装置をチャンバ内に収納してユニット化するこ
とによって処理容器への接続又は交換等の作業が簡単且
つ迅速に行なえるようになり処理装置全体の稼働効率を
向上させることもできる。
てイオン化と共に吸塵し、その後にフィルタを通過させ
て除塵しているから従来より清浄な導入気体が供給され
る。また、気体導入時においては、供給気体圧力と容器
内圧力に基づいて気体流量を無段階で自由に調節でき、
ワークの冷却処理なども効率よく行なうことができる。
更に、本装置をチャンバ内に収納してユニット化するこ
とによって処理容器への接続又は交換等の作業が簡単且
つ迅速に行なえるようになり処理装置全体の稼働効率を
向上させることもできる。
【図１】本発明装置を真空処理容器に適用した構成図。
【図２】従来装置の構成図。
１ ワーク処理容器 ２ 圧力センサ １０ イオン化装置 １１ 電極 １２ 筐体 １３ ラインフィルタ １４ 電磁開閉弁 １５ 電磁流量調節弁 ２０ カートリッヂ
Claims (2)
- 【請求項１】 外部空気又は不燃性気体が供給され該気
体をイオン化するための気密容器でなる荷電装置とライ
ンフィルタ、電磁開閉元弁及び電磁流量制御弁がその順
に直列接続され、前記電磁流量制御弁の二次側がワーク
処理容器に接続されてなるワーク処理容器への気体導入
装置。 - 【請求項２】 外部空気又は不燃性気体が供給され該気
体をイオン化するための気密容器でなる荷電装置とライ
ンフィルタ、電磁開閉元弁及び電磁流量制御弁がその順
に直列接続されてチャンバー内に収容されると共に前記
チャンバーの外壁に前記電磁流量制御弁の二次側が接続
されたワーク処理容器接続口が設けられてなるワーク処
理容器への空気導入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23987296A JPH1064873A (ja) | 1996-08-22 | 1996-08-22 | ワーク処理容器への気体導入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23987296A JPH1064873A (ja) | 1996-08-22 | 1996-08-22 | ワーク処理容器への気体導入装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1064873A true JPH1064873A (ja) | 1998-03-06 |
Family
ID=17051143
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23987296A Pending JPH1064873A (ja) | 1996-08-22 | 1996-08-22 | ワーク処理容器への気体導入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1064873A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020092088A (ko) * | 2001-06-02 | 2002-12-11 | 삼성전자 주식회사 | 이오나이저가 구비된 진공챔버 |
| JP2006324506A (ja) * | 2005-05-19 | 2006-11-30 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板の乾燥処理装置及び乾燥処理方法 |
| JP2021072446A (ja) * | 2019-10-31 | 2021-05-06 | セメス カンパニー，リミテッド | 薬液供給装置、薬液のパーティクル除去方法、ノズルユニット、及び基板処理装置 |
-
1996
- 1996-08-22 JP JP23987296A patent/JPH1064873A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020092088A (ko) * | 2001-06-02 | 2002-12-11 | 삼성전자 주식회사 | 이오나이저가 구비된 진공챔버 |
| JP2006324506A (ja) * | 2005-05-19 | 2006-11-30 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板の乾燥処理装置及び乾燥処理方法 |
| JP2021072446A (ja) * | 2019-10-31 | 2021-05-06 | セメス カンパニー，リミテッド | 薬液供給装置、薬液のパーティクル除去方法、ノズルユニット、及び基板処理装置 |
| US11981995B2 (en) | 2019-10-31 | 2024-05-14 | Semes Co., Ltd. | Chemical supply apparatus, method for removing particles from chemical, nozzle unit, and substrate treating apparatus |
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