JPH1067063A - 防眩、帯電防止被膜と方法 - Google Patents

防眩、帯電防止被膜と方法

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JPH1067063A
JPH1067063A JP9108979A JP10897997A JPH1067063A JP H1067063 A JPH1067063 A JP H1067063A JP 9108979 A JP9108979 A JP 9108979A JP 10897997 A JP10897997 A JP 10897997A JP H1067063 A JPH1067063 A JP H1067063A
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thiophene
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Patrizia Cinquina
チンクイナ パトリツィア
Magnone Giuseppe
マニョーン ジュゼッペ
Guido Manciocco
マンシオッコ グイード
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    • H01J1/62—Luminescent screens; Selection of materials for luminescent coatings on vessels
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    • H—ELECTRICITY
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 透明で環境安定性と防眩、帯電防止性能を有
する高分子導電性被膜を提供する。 【解決手段】 本発明に従い、反射する透過表面３９に
適用された防眩、帯電防止被膜はチオフェンを基体とす
る導電性高分子とケイ質物質からなる。反射する透過表
面に適用されたとき光のぎらつきを減少して帯電防止特
性を提供する合成物はまた、ＣＲＴ２１のフェースプレ
ートパネル２７の外部表面３９に被膜３７を提供する方
法のように開示される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ブラウン管（ＣＲ
Ｔ）のフェースプレートパネルの外部表面のような反射
する透過表面に対する防眩、帯電防止被膜に関し、そし
てフェースプレートパネルを塗布する合成物と方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】多くの応用にとって、防眩と帯電防止の
特性の両方を持つＣＲＴフェースプレートを有すること
が望ましい。ここで用いられる”防眩”の語句は輝度の
減少と周囲にある光源の反射像の解消を意味する。周囲
にある光源からのぎらぎらする光はフェースプレート管
上の画像を見ることを妨害し、そのため、見る物にとっ
て不愉快なものである。コーティングの”帯電防止”特
性はコーティングされたフェースプレートの静電的な電
圧の放電に必要な経過時間に関係する。
【０００３】１９８６年１月７日にＤｅａｌ他により発
行されたアメリカ特許第４，５６３，６１２号は防眩性
能を提供する珪酸塩物質と被膜に帯電防止性能を付与す
るために実施可能な量の無機金属化合物とを含む水溶液
から形成される防眩、帯電防止被膜等について記載す
る。被膜は、ＣＲＴの（４０−４５°Ｃに温められた）
フェースプレートパネル上に被膜溶液をエアースプレイ
し、３０分間の加熱期間と３０分間の冷却を伴い少なく
とも１０分間１２０°Ｃの温度でその後ＣＲＴを焼成す
ることにより適用される。
【０００４】ポリピロール等の有機高分子は、それらの
室温での非常に高い導電性により、透明な帯電防止層を
提供するために用いられることが増えている。しかし、
これらの物質の多くは機械強度的に弱く、溶剤への耐性
が不十分であり、又は安定性に限度があり、それらが調
製された後は簡単に加工処理がなされなければならな
い。１９９５年５月２日にＤｅ Ｂｏｅｒにより発行さ
れたアメリカ特許第５，４１２，２７９号は、上記の欠
点を解消する二酸化珪素地中のポリピロール化合物のラ
テックス粒子を含むＣＲＴ用の帯電防止被膜を記載す
る。被膜は加水分解されたアルコキシシラン化合物水溶
液中に分散されたポリピロール化合物のラテックス粒子
をＣＲＴフェースプレートに適用することによって形成
される。被膜はまた、ＣＲＴ画面の光透過率を減少す
る。しかし、１５０°Ｃと１７５°Ｃの間にある比較的
高い処理温度が、加水分解されたアルコキシシラン化合
物を二酸化珪素に変えるのに必要とされる。Ｄｅ Ｂｏ
ｅｒの特許に記載された被膜は防眩被膜ではなく；引っ
かき耐性のもない。そのため、公知の対反射若しくは防
眩効果を持つ層、又は引っかき耐性をさらに増加させる
層が追加される必要がある。
【０００５】１９９４年３月１日Ｋａｗａｍｕｒａ他に
より発行されたアメリカ特許第５，２９１，０９７号は
帯電防止、防眩特性を保持する被膜を記載する。二つの
分離された別個の層が、フェースプレートの外部表面上
に提供される。ＣＴＥ（着色した透明導電性の）領域と
して示される第一の層はフェースプレートと直接に接し
ている。ＮＧＰ（ぎらぎらが無くて保護をする）領域と
して示される第二の層はＣＴＥ層の上に積層される。Ｃ
ＴＥの層又は領域は、少なくとも一の有機色素、少なく
とも一の導電性金属酸化物、珪酸アルキル、水及び酸触
媒を含むアルコール溶液から形成される。ＮＧＰ層は珪
酸アルキル、水及び酸触媒を含むアルコール溶液から形
成される。一般に、ＣＴＥ領域における珪酸アルキルの
機能は、安定な反応生成物を提供することであり、一方
シリカからなる積層ＮＧＰ領域は被膜層の化学的及び機
械的安定性を改善する。ＮＧＰ層が加えられる前に、Ｃ
ＴＥ層を焼成又は蒸気処理の何れかにより完全に乾燥す
る必要があり；さもなければ、ＣＴＥ層中の色素によっ
て供給される色は”滲み出て”退色し、それによって被
膜のコントラストが低下する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明にかかる課題
は、透明で環境安定性と防眩、帯電防止性能を有する高
分子導電性被膜を提供することである。さらに、適用が
容易で高い処理温度又は延長された焼成時間を必要とし
ない単一の両立する特性を有する物質層からなる被膜に
かかる。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、反射す
る透過表面に適用された防眩、帯電防止被膜はチオフェ
ンを基本とする導電性高分子とケイ質物質からなる。反
射する透過表面に適用されたときに光のぎらつきを無く
し帯電防止性能を提供するための組成は、５乃至２５重
量％のチオフェンを基本とする導電性高分子と、０．５
乃至３重量％のケイ質物質と；残余分のアルコールと脱
イオン化された水からなる群から選択された一の溶媒と
からなる。ＣＲＴのフェースプレートの外部表面上の防
眩、帯電防止被膜の形成方法は第一の温度にフェースプ
レートパネルを温め、該温められたフェースプレートパ
ネルを５乃至２５重量％ポリエチレンジオキシチオフェ
ンと、０．５乃至３重量％のリチウム安定化シリカゾル
とテトラエトキシシランからなる群より選択された一の
ケイ質物質と、イソプロピルアルコールと脱イオン化さ
れた水からなる群から選択された一の溶媒とからなる組
成をもつ溶液でコーティングする段階とからなる。該被
膜は第二の温度まで空気中で加熱することにより焼成さ
れ、その後、該被膜は第三の温度まで加熱された脱イオ
ン化水の中で洗浄される。該被膜はその後空気中で乾燥
される。
【０００８】
【発明の実施の形態】図１に示されるブラウン管２１
は、ファンネル部２５と一体型のネック部２３を持つ真
空のガラスの筒を含む。ガラス製のフェースプレートパ
ネル２７は、不透明化したガラス製のフリットシール２
９によりファンネル部２５に連結される。リン化合物に
よる蛍光面３１がフェースプレートパネル２７の内表面
に適用される。例えばアルミニウムの光反射金属膜３３
が蛍光面３１上に堆積される。銃３５から一又はそれ以
上の電子ビーム（図示されない）が走査されたとき、蛍
光面３１はフェースプレートパネル２７を通って観察さ
れる蛍光画像を作製することができる。新規な防眩、帯
電防止被膜３７は、静電的な電荷の高まりを抑え、フェ
ースプレートパネル２７を通して観察されるときに画像
のコントラストを改善するためにフェースプレートパネ
ル２７の外部表面３９のような反射する透過表面に適用
される。
【０００９】防眩、帯電防止被膜３７は、有機高分子と
適当な量のケイ質物質からなるという特徴を持つ。有機
高分子はポリチオフェンを基体とし、成分濃度に依存す
る制御された反射率を持つ導電性膜を形成する。チオフ
ェンベースの高分子は、ＳｉＯ２とＬｉＯ２の比が約
４：１と約２５：１の間にあるリチウム安定化シリカゾ
ルであるリチウムポリシリケートと素早く混合される。
該ゾルは水酸基以外の他のアニオンを実質的に有しな
い。リチウム安定化シリカゾルは、ゾルではなく溶媒中
に溶解された化合物であるリチウムシリケート溶液とは
実質的に異なる。適当な加熱により、リチウムゾル被膜
は乾燥して珪酸リチウム被膜を形成する。さらに、ポリ
チオフェンベースの有機高分子とテトラエトキシシラン
は、ＣＲＴのフェースプレートパネルに適用されうる全
体が有機の溶液を形成するためにイソプロピルアルコー
ルに溶解される。
【００１０】被膜は、埃、糸くず、油、浮きかす等を取
り除くために用いられる公知のすり磨き及び洗浄方法の
何れかであって、フェースプレートパネルの表面に引っ
かき傷を着けないものにより表面３９を注意深くクリー
ニングすることによって、シールされ真空にされたチュ
ーブ２１のフェースプレートパネル２７の外部表面３９
に適用される。市販の磨き化合物で表面をごしごし洗
し、その後水で表面をリンスすることが望ましい。表面
はそれから２乃至８重量％のアンモニウムビフロライド
溶液で塗布されることによりエッチングされ、例えば脱
イオン化等、脱金属化された水でリンスされ、そして水
のシミを防止するためエアーカーテンを用いて乾燥され
る。フェースプレートパネルはそれから約３０°Ｃ乃至
８０°Ｃまでオーブン中で又は他の適当な手段により温
められ、該新規の被膜溶液でコートされる。被膜は約７
０°Ｃから８０°Ｃの範囲内の温度で空気中でそれを乾
燥することにより焼成する。被膜は次に約４０°Ｃから
５０°Ｃの温度にある温かい脱イオン化水で約１５乃至
６０秒間洗浄される。被膜は糸くず又は他の外部粒子の
被膜上での堆積を避けるために空気中で注意深く乾燥さ
れる。
【００１１】新規な被膜は、接地されれば、該チューブ
が通常の方法で使用されたとき被膜が静電的な電荷をた
めることはないという帯電防止性能を有する。新規な被
膜はまた、防眩、又は光のぎらつきの低減特性を有す
る。つまり、被膜は反射された光を散乱し、画像コント
ラストを改善する。加えて、該被膜は金属化合物を含ま
ないため、被膜中の金属化合物の存在による分光反射の
増大は無い。
【００１２】本発明にかかる被膜、合成物及びその製造
工程は例として以下で明確に記載される。
【００１３】
【実施例】例１ 真空にされたＣＲＴ２１のフェースプレートパネル２７
の外部表面３９は、公知のすり磨き及び洗浄方法の何れ
かによりクリーニングされ、そして直ぐに５重量％アン
モニアビフロライド溶液でエッチングされて脱イオン化
された水中でリンスされる。次に、チューブのフェース
プレートパネル２７は３０°Ｃから８０°Ｃの範囲内で
加熱され、それから新規な液体被膜合成物が温かいガラ
ス表面に適用される。
【００１４】該被膜溶液は：ドイツ、レバークーゼンの
バイエルＡＧにより生産されたポリエチレンジオキシチ
オフェンのような５重量％の重合導電性高分子；アメリ
カ、ウィルミントンのＥ．Ｉ．デュポンにより販売され
たリチウムシリケート４８のような１重量％のリチウム
安定化シリカゾル；及び残りが、脱イオン化された水か
らなる。
【００１５】好ましくは、被膜溶液はスプレイによりフ
ェースプレートパネル２７の外部表面３９に適用され
る。被膜は約７０°Ｃから８０°Ｃの範囲内の温度で空
気中でそれを乾燥することにより焼成される。被膜は次
に約４０°Ｃから５０°Ｃの温度にある温かい脱イオン
化水で約１５乃至６０秒間洗浄される。被膜は空気中で
乾燥される。得られた被膜は２５％ＲＨ（相対湿度）、
２５°Ｃの温度で測定された１０8 から１０9 Ω／□の
範囲内の表面抵抗を有する。被膜３７は７０グロスの鏡
面反射率を有する。
【００１６】例２ ＣＲＴ２１の外部表面３９は、例１で記載したようにき
れいにされてコーティングの準備がされた。 該被膜溶液は：ドイツ、レバークーゼンのバイエルＡＧ
により生産されたポリエチレンジオキシチオフェンのよ
うな５重量％の重合導電性高分子；アメリカ、ウィルミ
ントンのＥ．Ｉ．デュポンにより販売されたリチウムシ
リケート４８のような０．５重量％のリチウム安定化シ
リカゾル；及び残りが、脱イオン化された水からなる。
【００１７】該溶液は、例１で記載したようにフェース
プレートパネル２７の外部表面３９上にスプレイされ、
焼成され、洗浄され、そして空気乾燥される。得られた
被膜は２５％ＲＨ、２５°Ｃの温度で測定された１０9
から１０10Ω／□の範囲内の表面抵抗を有し、８５グロ
スの鏡面反射率を有する。例３ ＣＲＴ２１の外部表面３９は、例１で記載したようにき
れいにされてコーティングの準備がされた。
【００１８】該被膜溶液は：ドイツ、レバークーゼンの
バイエルＡＧにより生産されたポリエチレンジオキシチ
オフェンのような２５重量％の重合導電性高分子；テト
ラエトキシシランような３重量％の有機シラン；及び残
りが、イソプロピルアルコールからなる。
【００１９】該溶液は、例１で記載したようにフェース
プレートパネル２７の外部表面３９上にスプレイされ、
焼成され、洗浄され、そして空気乾燥される。得られた
被膜は２５％ＲＨ及び２５°Ｃの温度で測定された１０
6 から１０7 Ω／□の範囲内の表面抵抗を有し、７０グ
ロスの鏡面反射率を有する。例４ ＣＲＴ２１の外部表面３９は、例１で記載したようにき
れいにされてコーティングの準備がされた。
【００２０】該被膜溶液は：ドイツ、レバークーゼンの
バイエルＡＧにより生産されたポリエチレンジオキシチ
オフェンのような２５重量％の重合導電性高分子；テト
ラエトキシシランような３重量％の有機シラン；３６重
量％イソプロピルアルコール；及び残りが、脱イオン化
された水からなる。
【００２１】該溶液は、例１で記載したようにフェース
プレートパネル２７の外部表面３９上にスプレイされ、
焼成され、洗浄され、そして空気乾燥される。得られた
被膜は２５％ＲＨ及び２５°Ｃの温度で測定された１０
6 から１０7 Ω／□の範囲内の表面抵抗を有し、７０グ
ロスの鏡面反射率を有する。例５ ＣＲＴ２１の外部表面３９は、例１で記載したようにき
れいにされてコーティングの準備がされた。
【００２２】該被膜溶液は：ドイツ、レバークーゼンの
バイエルＡＧにより生産されたポリエチレンジオキシチ
オフェンのような２５重量％の重合導電性高分子；アメ
リカ、ウィルミントンのＥ．Ｉ．デュポンにより販売さ
れたリチウムシリケート４８のような１重量％のリチウ
ム安定化シリカゾル；及び残りが、脱イオン化された水
からなる。
【００２３】該溶液は、例１で記載したようにフェース
プレートパネル２７の外部表面３９上にスプレイされ、
焼成され、洗浄され、そして空気乾燥される。得られた
被膜は２５％ＲＨ、２５°Ｃの温度で測定された１０6
から１０7 Ω／□の範囲内の表面抵抗を有し、６６グロ
スの鏡面反射率を有する。図２は、７０グロス（曲線
１）を持つ新規な被膜３７、及び被膜の無いフェースプ
レートパネル（曲線２）の低下時間のグラフである。曲
線１は例１に記載された被膜溶液を用いて作られ、１０
8 から１０9 Ω／□の範囲内の表面抵抗を有する被膜を
表す。
【００２４】図３は、表面抵抗へのポリエチレンジオキ
シチオフェンであるチオフェンベースの有機高分子の濃
度効果を示すグラフである。すなわち、被膜溶液中で有
機高分子の１２．５重量％の濃度で導電性は最大にな
り、抵抗は最小になる。被膜溶液中での追加量の高分子
は最終的な被膜３７の抵抗を変化させない。
【００２５】
【発明の効果】新規な被膜は、接地されれば、チューブ
が通常の方法で使用されたとき被膜が静電的な電荷をた
めることはないという帯電防止性能を有する。新規な被
膜はまた、防眩、又は光のぎらつきを低減する特性を有
する。つまり、被膜は反射された光を散乱し、画像コン
トラストを改善する。加えて、該被膜は金属化合物を含
まないため、被膜中の金属化合物の存在による分光反射
の増大が無い。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかり製造されたＣＲＴを部分的に分
解し、長手方向から見た図である。
【図２】２５％ＲＨ（相対湿度）で２５°Ｃでの、被膜
の無いフェースプレートパネル（曲線２）と本発明にか
かり製造されたフェースプレートパネル（曲線１）の放
電時間に対する電圧の低下を示す帯電防止性能を表すグ
ラフである。
【図３】被膜溶液中の有機高分子の重量パーセント（ｗ
ｔ．％）による濃度に対する単位面積当りのオーム（Ω
／□）による表面抵抗の対数を表すグラフである。
【符号の説明】
２１ ブラウン管 ２３ ネック部 ２５ ファンネル部 ２７ フェースプレートパネル ２９ フリットシール ３１ 蛍光面 ３３ 光反射金属膜 ３５ 銃 ３７ 防眩、帯電防止膜 ３９ 外部表面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０９Ｋ 3/16 １０８ Ｃ０９Ｋ 3/16 １０８Ａ １０９ １０９ １１４ １１４ Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｈ０１Ｊ 9/20 Ａ Ｈ０１Ｊ 9/20 29/88 29/88 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ (72)発明者 ジュゼッペ マニョーン イタリア国，03011 アラトリ （エッフ ェエレ），ヴィア・ムレッテ ４ (72)発明者 グイード マンシオッコ イタリア国，00034 コレフェロ （ロー マ），コルソ・フィリッポ・ツラチ 44

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 チオフェンを基体とする導電性高分子
    と、 ケイ質物質とからなり、 反射する透過表面に適用される防眩、帯電防止被膜。
  2. 【請求項２】 該チオフェンを基体とする導電性高分子
    はポリエチレンジオキシチオフェンからなる導電性高分
    子である請求項１記載の被膜。
  3. 【請求項３】 該ケイ質物質はリチウム安定化シリカゾ
    ルとテトラエトキシシランとからなる群から選択された
    ものである請求項１記載の被膜。
  4. 【請求項４】 ５乃至２５重量％のチオフェンを基体と
    する導電性高分子と：０．５乃至３重量％のケイ質物質
    と；残余分のアルコールと脱イオン化された水からなる
    群から選択された一の溶媒と：からなる、反射する透過
    表面に適用されて光のぎらつきの減少と帯電防止の性能
    を提供するための合成物。
  5. 【請求項５】 該チオフェンを基体とする導電性高分子
    はポリエチレンジオキシチオフェンであり、該ケイ質物
    質はリチウム安定化シリカゾルとテトラエトキシシラン
    とからなる群から選択されたものである請求項４記載の
    合成物。
  6. 【請求項６】 フェースプレートパネルを第一の温度ま
    で温める段階と；該温められたフェースプレートパネル
    の外部表面に、５乃至２５重量％のポリエチレンジオキ
    シチオフェンと、０．５乃至３重量％のリチウム安定化
    シリカゾルとテトラエトキシシランとからなる群から選
    択された一のケイ質物質と、イソプロピルアルコールと
    脱イオン化された水からなる群から選択された一の溶媒
    とからなる溶液を供給する段階と、 第二の温度で空気中の加熱により該被膜を焼成する段階
    と、 第三の温度に温められた脱イオン化された水中で該被膜
    を洗浄する段階と、 該被膜を空気中乾燥する段階とからなる；ＣＲＴのフェ
    ースプレートパネルの外部表面上に防眩、帯電防止被膜
    を形成する方法。
  7. 【請求項７】 該第一の温度は３０乃至８０°Ｃの範囲
    内にあり、該第二の温度は７０乃至８０°Ｃの範囲内に
    あり、該第三の温度は４０乃至５０°Ｃの範囲内にある
    請求項６記載の方法。
JP9108979A 1996-04-30 1997-04-25 防眩、帯電防止被膜と方法 Withdrawn JPH1067063A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
IT96/A000846 1996-04-30
IT96MI000846A IT1282387B1 (it) 1996-04-30 1996-04-30 Rivestimento antistatico,antiabbagliante,per una superficie a riflessione-trasmissione

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JPH1067063A true JPH1067063A (ja) 1998-03-10

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JP9108979A Withdrawn JPH1067063A (ja) 1996-04-30 1997-04-25 防眩、帯電防止被膜と方法

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US (1) US5750054A (ja)
EP (1) EP0805474B1 (ja)
JP (1) JPH1067063A (ja)
KR (1) KR100249053B1 (ja)
CN (1) CN1084774C (ja)
BR (1) BR9701975A (ja)
DE (1) DE69719107T2 (ja)
ID (1) ID16656A (ja)
IT (1) IT1282387B1 (ja)
MX (1) MX9703221A (ja)
PL (1) PL184439B1 (ja)
RU (1) RU2121195C1 (ja)

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