JPH1068801A - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
- Publication number
- JPH1068801A JPH1068801A JP8228104A JP22810496A JPH1068801A JP H1068801 A JPH1068801 A JP H1068801A JP 8228104 A JP8228104 A JP 8228104A JP 22810496 A JP22810496 A JP 22810496A JP H1068801 A JPH1068801 A JP H1068801A
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- Japan
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- deposited
- deposition
- antireflection film
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 反射防止膜は媒体の屈折率から求まる最適な
屈折率（振幅条件）を持ったものでなければならない
が、一般的な光学材料の中で屈折率が一致する事はまれ
である。そこで斜め蒸着によって屈折率が小さくなる事
を利用した反射防止膜が使用されているが、斜め蒸着の
ため複屈折を有するという課題があった。 【解決手段】 斜め蒸着角度を第１層目の蒸着膜９と第
２層目の蒸着膜１１で互いに直交するように形成し、２
層からなる斜め蒸着膜を反射防止膜として使用する、あ
るいは被蒸着物を回転させながら斜め蒸着を行った斜め
蒸着膜を反射防止膜として使用する。
屈折率（振幅条件）を持ったものでなければならない
が、一般的な光学材料の中で屈折率が一致する事はまれ
である。そこで斜め蒸着によって屈折率が小さくなる事
を利用した反射防止膜が使用されているが、斜め蒸着の
ため複屈折を有するという課題があった。 【解決手段】 斜め蒸着角度を第１層目の蒸着膜９と第
２層目の蒸着膜１１で互いに直交するように形成し、２
層からなる斜め蒸着膜を反射防止膜として使用する、あ
るいは被蒸着物を回転させながら斜め蒸着を行った斜め
蒸着膜を反射防止膜として使用する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は斜め蒸着膜を使用し
た光学部品の反射防止膜に関するものである。
た光学部品の反射防止膜に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、光学材料を被蒸着物に対して斜め
に蒸着することによって、屈折率を小さくして最適な屈
折率にした反射防止膜が知られている（特開平７−２７
９０２号公報、５−８０２０２号公報）。
に蒸着することによって、屈折率を小さくして最適な屈
折率にした反射防止膜が知られている（特開平７−２７
９０２号公報、５−８０２０２号公報）。
【０００３】図９は従来の斜め蒸着膜を使用した反射防
止膜の製造装置を示し、図１０は従来の蒸着時の被蒸着
物と蒸着物質の飛散状態を示し、図１１は従来の蒸着後
の断面を示したものである。また、２１は真空槽を、２
５は蒸着しようとする光学材料、２６はルツボを示す。
被蒸着物２３は蒸着物の仮想飛散線２４に対して斜めに
基板ホルダ２２に取り付けられ蒸着される。又、蒸着厚
みを均一にするため、基板ホルダの中心を軸に回転させ
ながら蒸着する。
止膜の製造装置を示し、図１０は従来の蒸着時の被蒸着
物と蒸着物質の飛散状態を示し、図１１は従来の蒸着後
の断面を示したものである。また、２１は真空槽を、２
５は蒸着しようとする光学材料、２６はルツボを示す。
被蒸着物２３は蒸着物の仮想飛散線２４に対して斜めに
基板ホルダ２２に取り付けられ蒸着される。又、蒸着厚
みを均一にするため、基板ホルダの中心を軸に回転させ
ながら蒸着する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】反射防止膜の光学材料
としては、一般的にＭｇＦ2等の金属フッ化物やＳｉＯ2
等の金属酸化物が使われている。反射防止膜は境界面に
よる光の反射を防止する物であり、例えば光学部品と空
気の境界面による光の反射を防止する為には、光学部品
の屈折率をＮs、空気の屈折率をＮo（≒１）とすると屈
折率Ｎu が、（Ｎs＊Ｎo）1/2の物を選定し、光学厚み
（膜厚ｄ＊Ｎu）は波長の１／４にする必要がある（以
下、無反射条件と呼ぶ）。
としては、一般的にＭｇＦ2等の金属フッ化物やＳｉＯ2
等の金属酸化物が使われている。反射防止膜は境界面に
よる光の反射を防止する物であり、例えば光学部品と空
気の境界面による光の反射を防止する為には、光学部品
の屈折率をＮs、空気の屈折率をＮo（≒１）とすると屈
折率Ｎu が、（Ｎs＊Ｎo）1/2の物を選定し、光学厚み
（膜厚ｄ＊Ｎu）は波長の１／４にする必要がある（以
下、無反射条件と呼ぶ）。
【０００５】使用波長７９５ｎｍ、基板にガラス（ＢＫ
７、屈折率１．５１）を使用した場合、反射防止膜の最
適屈折率は１．２３となるが、一般的な光学材料として
は屈折率１．３８のＭｇＦ2しかなく、反射率は１．３
％と大きくなってしまう。そこで光学材料を斜め蒸着す
る事によって屈折率が小さくなる事を利用した反射防止
膜が使用されている。
７、屈折率１．５１）を使用した場合、反射防止膜の最
適屈折率は１．２３となるが、一般的な光学材料として
は屈折率１．３８のＭｇＦ2しかなく、反射率は１．３
％と大きくなってしまう。そこで光学材料を斜め蒸着す
る事によって屈折率が小さくなる事を利用した反射防止
膜が使用されている。
【０００６】しかしながらこのように単に斜め蒸着した
膜は複屈折を有するため、例えば１／４波長板の反射防
止膜として使用した場合、１／４波長板の位相差に反射
防止膜の複屈折による位相差が加わって誤差を生じる事
になる。
膜は複屈折を有するため、例えば１／４波長板の反射防
止膜として使用した場合、１／４波長板の位相差に反射
防止膜の複屈折による位相差が加わって誤差を生じる事
になる。
【０００７】又、特開平５−８０２０２号公報の実施例
２として、互いに直交する４層からなる斜め蒸着膜を使
用した反射防止膜が示されている。このように構成する
事によって開示されてはいないものの、付随的に複屈折
をキャンセルすることが出来るが、反射防止膜の層数が
少なくとも４層必要という複雑な構造の為、作りにくく
コストがかかるものであった。
２として、互いに直交する４層からなる斜め蒸着膜を使
用した反射防止膜が示されている。このように構成する
事によって開示されてはいないものの、付随的に複屈折
をキャンセルすることが出来るが、反射防止膜の層数が
少なくとも４層必要という複雑な構造の為、作りにくく
コストがかかるものであった。
【０００８】本発明は、最低限の反射防止膜の層数で複
屈折を持たない斜め蒸着膜を使用した反射防止膜を提供
することを目的としてなされたものである。
屈折を持たない斜め蒸着膜を使用した反射防止膜を提供
することを目的としてなされたものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明の反射防止膜は斜め蒸着膜を少なくとも２層有
し、被蒸着物に対する斜め蒸着角度を１層目と２層目で
互いに直交するように形成し斜め蒸着膜を反射防止膜と
して使用した物、あるいは被蒸着物を被蒸着物の略中心
から直交する軸で回転させながら斜め蒸着を行った斜め
蒸着膜を反射防止膜として使用した物である。
に本発明の反射防止膜は斜め蒸着膜を少なくとも２層有
し、被蒸着物に対する斜め蒸着角度を１層目と２層目で
互いに直交するように形成し斜め蒸着膜を反射防止膜と
して使用した物、あるいは被蒸着物を被蒸着物の略中心
から直交する軸で回転させながら斜め蒸着を行った斜め
蒸着膜を反射防止膜として使用した物である。
【００１０】これにより、最低限の層数で反射による光
量の損失がほとんど無く複屈折を持たない反射防止膜を
得る事が出来る。
量の損失がほとんど無く複屈折を持たない反射防止膜を
得る事が出来る。
【００１１】
【発明の実施の形態】請求項１に記載の発明は、光学材
料を斜めに蒸着した斜め蒸着膜を少なくとも２層有し、
被蒸着物に対する斜め蒸着角度を１層目と２層目で互い
に直交するように形成した物であり、斜め蒸着膜は複屈
折を有するが１層目と２層目を直交させる事により複屈
折をキャンセルする事が出来ると共に、斜めに蒸着する
事によって屈折率が小さくなるため、必要とする屈折率
より大きな屈折率の光学材料を用い、被蒸着物に対する
蒸着物質の入射角度を変える事によって必要とする無反
射条件の屈折率が得られ、反射による光量の損失がほと
んど無いという作用を有する。
料を斜めに蒸着した斜め蒸着膜を少なくとも２層有し、
被蒸着物に対する斜め蒸着角度を１層目と２層目で互い
に直交するように形成した物であり、斜め蒸着膜は複屈
折を有するが１層目と２層目を直交させる事により複屈
折をキャンセルする事が出来ると共に、斜めに蒸着する
事によって屈折率が小さくなるため、必要とする屈折率
より大きな屈折率の光学材料を用い、被蒸着物に対する
蒸着物質の入射角度を変える事によって必要とする無反
射条件の屈折率が得られ、反射による光量の損失がほと
んど無いという作用を有する。
【００１２】請求項２に記載の発明は、被蒸着物を被蒸
着物の略中心から直交する軸で回転させながら斜め蒸着
を行った斜め蒸着膜を有した物であり、被蒸着物を被蒸
着物の略中心から直交する軸で回転させながら斜め蒸着
を行う事によって複屈折をキャンセルする事が出来ると
共に、請求項１と同様の作用を有する。
着物の略中心から直交する軸で回転させながら斜め蒸着
を行った斜め蒸着膜を有した物であり、被蒸着物を被蒸
着物の略中心から直交する軸で回転させながら斜め蒸着
を行う事によって複屈折をキャンセルする事が出来ると
共に、請求項１と同様の作用を有する。
【００１３】以下本発明の実施の形態について、図１か
ら図８を用いて説明する。尚、同一部材には同一番号を
付している。
ら図８を用いて説明する。尚、同一部材には同一番号を
付している。
【００１４】（実施の形態１）図１から図５は本発明の
請求項１の実施の形態における反射防止膜であり、図１
は反射防止膜の製造装置を示したものであり、１は真空
槽を、５は蒸着しようとする光学材料、６はルツボをそ
れぞれ示す。被蒸着物３は蒸着物の仮想飛散線４に対し
て斜めに基板ホルダ２に取り付けられ蒸着される。又、
蒸着厚みを均一にするため、基板ホルダの中心を軸に回
転させながら蒸着する。
請求項１の実施の形態における反射防止膜であり、図１
は反射防止膜の製造装置を示したものであり、１は真空
槽を、５は蒸着しようとする光学材料、６はルツボをそ
れぞれ示す。被蒸着物３は蒸着物の仮想飛散線４に対し
て斜めに基板ホルダ２に取り付けられ蒸着される。又、
蒸着厚みを均一にするため、基板ホルダの中心を軸に回
転させながら蒸着する。
【００１５】図２は第１層目の蒸着時の被蒸着物と蒸着
物質の飛散状態を示した物であり、７と８は互いに直交
する被蒸着物の中心線をそれぞれ示し、８は蒸着方向、
７は８に直交する軸に相当する。図３は第１層目の蒸着
後の断面を示し、蒸着装置内において光学材料の飛来方
向に対して被蒸着物３を傾斜させて配置して蒸着を行う
事によって、被蒸着物表面から斜め方向に成長する柱状
組織として斜め蒸着膜９が形成される。斜め蒸着膜９
は、図２の８を進相軸とし７を遅相軸とする複屈折膜と
なる。
物質の飛散状態を示した物であり、７と８は互いに直交
する被蒸着物の中心線をそれぞれ示し、８は蒸着方向、
７は８に直交する軸に相当する。図３は第１層目の蒸着
後の断面を示し、蒸着装置内において光学材料の飛来方
向に対して被蒸着物３を傾斜させて配置して蒸着を行う
事によって、被蒸着物表面から斜め方向に成長する柱状
組織として斜め蒸着膜９が形成される。斜め蒸着膜９
は、図２の８を進相軸とし７を遅相軸とする複屈折膜と
なる。
【００１６】図４は第２層目の蒸着時の被蒸着物と蒸着
物質の飛散状態を示した物であり、７の方向に蒸着され
る。図５は第２層目の蒸着後の断面を示し、９は第１層
目の斜め蒸着膜を、１１は第２層目の斜め蒸着膜をそれ
ぞれ示し、斜め蒸着膜１１は、図４の７を進相軸とし８
を遅相軸とする複屈折膜となり第１層目の斜め蒸着膜９
と反対の光学軸を持った複屈折膜となる。
物質の飛散状態を示した物であり、７の方向に蒸着され
る。図５は第２層目の蒸着後の断面を示し、９は第１層
目の斜め蒸着膜を、１１は第２層目の斜め蒸着膜をそれ
ぞれ示し、斜め蒸着膜１１は、図４の７を進相軸とし８
を遅相軸とする複屈折膜となり第１層目の斜め蒸着膜９
と反対の光学軸を持った複屈折膜となる。
【００１７】以上のように構成された反射防止膜につい
て、以下その動作について説明する。
て、以下その動作について説明する。
【００１８】実施例として、使用波長７９５ｎｍ、基板
にガラス（ＢＫ７、屈折率１．５１）、斜め蒸着膜にＳ
ｉＯ2（屈折率１．４７）を使用し、被蒸着物に対する
蒸着物質の入射角度を略３０度にするとＳｉＯ2を用い
た斜め蒸着膜の屈折率は１．２３となり、無反射条件と
同じ屈折率を持った反射防止膜を得る事が出来ると共
に、第１層目と第２層目の光学軸を直交する事によって
複屈折をキャンセルする事ができる。
にガラス（ＢＫ７、屈折率１．５１）、斜め蒸着膜にＳ
ｉＯ2（屈折率１．４７）を使用し、被蒸着物に対する
蒸着物質の入射角度を略３０度にするとＳｉＯ2を用い
た斜め蒸着膜の屈折率は１．２３となり、無反射条件と
同じ屈折率を持った反射防止膜を得る事が出来ると共
に、第１層目と第２層目の光学軸を直交する事によって
複屈折をキャンセルする事ができる。
【００１９】以上のように本実施形態によれば、反射に
よる光量の損失がほとんど無く、複屈折を持たない反射
防止膜を得る事が出来ることとなる。
よる光量の損失がほとんど無く、複屈折を持たない反射
防止膜を得る事が出来ることとなる。
【００２０】（実施の形態２）次に、図６から図８は請
求項２の実施の形態における反射防止膜を示し、図６は
反射防止膜の製造装置を示したものであり、基板ホルダ
の中心と被蒸着物の中心に直交する軸で回転させながら
蒸着する。
求項２の実施の形態における反射防止膜を示し、図６は
反射防止膜の製造装置を示したものであり、基板ホルダ
の中心と被蒸着物の中心に直交する軸で回転させながら
蒸着する。
【００２１】図７は蒸着時の被蒸着物と蒸着物質の飛散
状態を示した物であり、７と８は互いに直交する被蒸着
物の中心線をそれぞれ示し、被蒸着物３は被蒸着物の中
心を軸に回転する。
状態を示した物であり、７と８は互いに直交する被蒸着
物の中心線をそれぞれ示し、被蒸着物３は被蒸着物の中
心を軸に回転する。
【００２２】図８は蒸着後の断面を示し、蒸着装置内に
おいて光学材料の飛来方向に対して被蒸着物３を傾斜さ
せて配置し、被蒸着物の中心に直交する軸で回転させな
がら蒸着を行う事によって、被蒸着物表面から斜め方向
にらせん状に成長する斜め蒸着膜１２が形成される。
おいて光学材料の飛来方向に対して被蒸着物３を傾斜さ
せて配置し、被蒸着物の中心に直交する軸で回転させな
がら蒸着を行う事によって、被蒸着物表面から斜め方向
にらせん状に成長する斜め蒸着膜１２が形成される。
【００２３】以上のように構成された反射防止膜につい
て、以下その動作について説明する。
て、以下その動作について説明する。
【００２４】蒸着装置内において光学材料の飛来方向に
対して被蒸着物３を傾斜させて配置し、被蒸着物の中心
に直交する軸で回転させながら蒸着を行う事によって複
屈折をキャンセルする事ができ、この斜め蒸着膜を反射
防止膜とする事によって実施の形態１と同様の動作を得
る事が出来る。
対して被蒸着物３を傾斜させて配置し、被蒸着物の中心
に直交する軸で回転させながら蒸着を行う事によって複
屈折をキャンセルする事ができ、この斜め蒸着膜を反射
防止膜とする事によって実施の形態１と同様の動作を得
る事が出来る。
【００２５】以上のように本実施形態によれば、反射に
よる光量の損失がほとんど無く、複屈折を持たない反射
防止膜を得る事が出来ることとなる。
よる光量の損失がほとんど無く、複屈折を持たない反射
防止膜を得る事が出来ることとなる。
【００２６】尚、斜め蒸着膜は蒸着のみならずスパッタ
等で形成した物も同様であり、多層の反射防止膜でも同
様である事はいうまでもない。
等で形成した物も同様であり、多層の反射防止膜でも同
様である事はいうまでもない。
【００２７】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、反射によ
る光量の損失がほとんど無く複屈折の無い、無反射条件
とほぼ同じ反射防止膜を得る事が出来るという有利な効
果が得られる。
る光量の損失がほとんど無く複屈折の無い、無反射条件
とほぼ同じ反射防止膜を得る事が出来るという有利な効
果が得られる。
【図１】本発明の請求項１の実施の形態における反射防
止膜の製造装置の略図
止膜の製造装置の略図
【図２】請求項１の実施の形態における第１層目の蒸着
時の被蒸着物と蒸着物質の飛散状態を示した図
時の被蒸着物と蒸着物質の飛散状態を示した図
【図３】請求項１の実施の形態における第１層目の蒸着
後の断面を示した図
後の断面を示した図
【図４】請求項１の実施の形態における第２層目の蒸着
時の被蒸着物と蒸着物質の飛散状態を示した図
時の被蒸着物と蒸着物質の飛散状態を示した図
【図５】請求項１の実施の形態における第２層目の蒸着
後の断面を示した図
後の断面を示した図
【図６】請求項２の実施の形態における反射防止膜の製
造装置の略図
造装置の略図
【図７】請求項２の実施の形態における蒸着時の被蒸着
物と蒸着物質の飛散状態を示した図
物と蒸着物質の飛散状態を示した図
【図８】請求項２の実施の形態における蒸着後の断面を
示した図
示した図
【図９】従来の反射防止膜の製造装置の略図
【図１０】従来の蒸着時の被蒸着物と蒸着物質の飛散状
態を示した図
態を示した図
【図１１】従来の蒸着後の断面を示した図
１，２１ 真空槽 ２，２２ 基板ホルダ ３，２３ 被蒸着物 ４，２４ 蒸着物の仮想飛散線 ５，２５ 蒸着しようとする光学材料 ６，２６ ルツボ ７，２７，８，２８ 被蒸着物の中心線 ９ 第１層目の斜め蒸着膜 １０ 第２層目の蒸着物の仮想飛散線 １１ 第２層目の斜め蒸着膜 １２，２９ 斜め蒸着膜
Claims (2)
- 【請求項１】 光学材料を斜めに蒸着した斜め蒸着膜を
少なくとも２層有し、被蒸着物に対する斜め蒸着角度を
１層目と２層目で互いに直交するように形成した事を特
徴とする反射防止膜。 - 【請求項２】 被蒸着物を被蒸着物の略中心から直交す
る軸で回転させながら斜め蒸着を行った斜め蒸着膜を有
する反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8228104A JPH1068801A (ja) | 1996-08-29 | 1996-08-29 | 反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8228104A JPH1068801A (ja) | 1996-08-29 | 1996-08-29 | 反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1068801A true JPH1068801A (ja) | 1998-03-10 |
Family
ID=16871268
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8228104A Pending JPH1068801A (ja) | 1996-08-29 | 1996-08-29 | 反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1068801A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100784338B1 (ko) | 2005-08-04 | 2007-12-13 | 인하대학교 산학협력단 | 저굴절률 박막 제조방법 및 이를 이용한 무반사 코팅 방법 |
| JP2011221272A (ja) * | 2010-04-09 | 2011-11-04 | Seiko Epson Corp | 反射型スクリーン、投影システム、フロントプロジェクションテレビ、および、反射型スクリーンの製造方法 |
| WO2012018199A3 (ko) * | 2010-08-02 | 2012-05-10 | 광주과학기술원 | 점진적으로 굴절률이 변하는 실리콘 다층 무반사막 및 그 제조방법 및 이를 구비하는 태양전지 및 그 제조방법 |
| JP2012522395A (ja) * | 2009-03-31 | 2012-09-20 | エルジー イノテック カンパニー リミテッド | 太陽光発電装置及びその製造方法 |
| WO2014065371A1 (ja) * | 2012-10-25 | 2014-05-01 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止多層膜 |
| JP2020520040A (ja) * | 2017-05-11 | 2020-07-02 | 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司Ｂｏｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｇｒｏｕｐ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． | 表示パネル、その製造方法、および表示装置 |
-
1996
- 1996-08-29 JP JP8228104A patent/JPH1068801A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100784338B1 (ko) | 2005-08-04 | 2007-12-13 | 인하대학교 산학협력단 | 저굴절률 박막 제조방법 및 이를 이용한 무반사 코팅 방법 |
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| CN104755967A (zh) * | 2012-10-25 | 2015-07-01 | 富士胶片株式会社 | 防反射多层膜 |
| US20150226881A1 (en) * | 2012-10-25 | 2015-08-13 | Fujifilm Corporation | Antireflection multilayer film |
| JP5796140B2 (ja) * | 2012-10-25 | 2015-10-21 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止多層膜 |
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| US9651714B2 (en) | 2012-10-25 | 2017-05-16 | Fujifilm Corporation | Antireflection multilayer film |
| JP2020520040A (ja) * | 2017-05-11 | 2020-07-02 | 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司Ｂｏｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｇｒｏｕｐ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． | 表示パネル、その製造方法、および表示装置 |
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