JPH1069632A - 磁気ディスク製造方法および装置、磁気ディスク、磁気ディスク装置 - Google Patents
磁気ディスク製造方法および装置、磁気ディスク、磁気ディスク装置Info
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- JPH1069632A JPH1069632A JP20775897A JP20775897A JPH1069632A JP H1069632 A JPH1069632 A JP H1069632A JP 20775897 A JP20775897 A JP 20775897A JP 20775897 A JP20775897 A JP 20775897A JP H1069632 A JPH1069632 A JP H1069632A
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- fine particles
- solid fine
- magnetic disk
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気ディスクの保護膜等において、表面の固
体微粒子付着面積比率を自由に制御し、複数の固体微粒
子を凝集させることなくディスク面に付着させて均一な
大きさのエッチング用マスクを得ること。 【構成】 空間において固体微粒子群を同一極性に帯電
し、固体微粒子間に働く電気的反発力を用いて、多数の
単一固体微粒子からなる固体微粒子群または多数の単一
固体微粒子を主構成とする固体微粒子群を形成し、さら
に磁気ディスクを無電位または上記極性と反対の極性に
帯電し、上記多数の単一固体微粒子からなる固体微粒子
群または多数の単一固体微粒子を主構成とする上記固体
微粒子群を上記磁気ディスク表面に静電付着し、次に上
記付着した固体微粒子群を磁気ディスクのエッチングプ
ロセスにおけるマスクとして用い、多数の凸部を形成す
る。
体微粒子付着面積比率を自由に制御し、複数の固体微粒
子を凝集させることなくディスク面に付着させて均一な
大きさのエッチング用マスクを得ること。 【構成】 空間において固体微粒子群を同一極性に帯電
し、固体微粒子間に働く電気的反発力を用いて、多数の
単一固体微粒子からなる固体微粒子群または多数の単一
固体微粒子を主構成とする固体微粒子群を形成し、さら
に磁気ディスクを無電位または上記極性と反対の極性に
帯電し、上記多数の単一固体微粒子からなる固体微粒子
群または多数の単一固体微粒子を主構成とする上記固体
微粒子群を上記磁気ディスク表面に静電付着し、次に上
記付着した固体微粒子群を磁気ディスクのエッチングプ
ロセスにおけるマスクとして用い、多数の凸部を形成す
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク製造方法
および装置、磁気ディスク、磁気ディスク装置にかか
り、特に表面に保護膜を備えた磁気ディスクまたは磁気
ディスク基板表面に多数の固体微粒子を静電塗布して製
造するのに好適な磁気ディスク製造方法および装置、さ
らに製造された磁気ディスク、そのような磁気ディスク
を備えた磁気ディスク装置に関する。
および装置、磁気ディスク、磁気ディスク装置にかか
り、特に表面に保護膜を備えた磁気ディスクまたは磁気
ディスク基板表面に多数の固体微粒子を静電塗布して製
造するのに好適な磁気ディスク製造方法および装置、さ
らに製造された磁気ディスク、そのような磁気ディスク
を備えた磁気ディスク装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来技術において、スパッタディスクの
磁気ヘッドに対する粘着防止は、磁気ディスクの下地基
板に円周状のテクスチャ溝を形成することにより行わ
れ、同時に磁気ディスクの下地基板にテクスチャ溝を形
成することにより磁気ディスクに磁気異方性を与え、磁
気異方性とヘッドの粘着防止の双方を両立させてきた。
磁気ヘッドに対する粘着防止は、磁気ディスクの下地基
板に円周状のテクスチャ溝を形成することにより行わ
れ、同時に磁気ディスクの下地基板にテクスチャ溝を形
成することにより磁気ディスクに磁気異方性を与え、磁
気異方性とヘッドの粘着防止の双方を両立させてきた。
【0003】しかし、磁気ディスクの高密度化とダウン
サイジングから、磁気ヘッドの低浮上化および磁気特性
の向上が重要な問題となるにしたがい、下地基板の加工
では磁気異方性を与える最小限の加工を行い、磁性膜を
平滑な一定の膜厚にして、磁気特性の向上を図る必要性
が出てきている。このように下地基板に最小限の加工を
行うと、ディスク表面粗さは小さくなり、ヘッドの粘着
防止に対する保証は出来なくなる。このために、粘着防
止は、保護膜上の表面形状で保証することが必要となっ
てくる。
サイジングから、磁気ヘッドの低浮上化および磁気特性
の向上が重要な問題となるにしたがい、下地基板の加工
では磁気異方性を与える最小限の加工を行い、磁性膜を
平滑な一定の膜厚にして、磁気特性の向上を図る必要性
が出てきている。このように下地基板に最小限の加工を
行うと、ディスク表面粗さは小さくなり、ヘッドの粘着
防止に対する保証は出来なくなる。このために、粘着防
止は、保護膜上の表面形状で保証することが必要となっ
てくる。
【0004】特開平3−252922号公報は、上記の
問題を解決するため、磁気ディスクの保護膜上にフォト
リソ法によるマスクを作製し、エッチングによって任意
の突起を保護膜に形成する方法を開示している。
問題を解決するため、磁気ディスクの保護膜上にフォト
リソ法によるマスクを作製し、エッチングによって任意
の突起を保護膜に形成する方法を開示している。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記特開平3−252
922号公報に開示された従来の技術では、目的とする
磁気ディスクの表面形状を得るために、フォトリソ法に
よるマスク材を用いてエッチングしている。この方法に
よると、製造期間が長い、各種薬剤の使用による危険性
が高い等の問題点がある。
922号公報に開示された従来の技術では、目的とする
磁気ディスクの表面形状を得るために、フォトリソ法に
よるマスク材を用いてエッチングしている。この方法に
よると、製造期間が長い、各種薬剤の使用による危険性
が高い等の問題点がある。
【0006】これらの問題点を解決する技術としては、
固体微粒子を保護膜表面に付着させ、該固体微粒子をエ
ッチングのマスク材として用いる方法がある。この固体
微粒子マスクをディスク表面に付着させるための手法と
して、スピンコーティング法、スプレー法及び分散液へ
の浸漬法が容易に考えられ、検討を行なった。しかし、
これらの方法では、ディスク面内の粒子付着面積比率の
バラツキが大きい、微粒子が凝集し均一なマスクの大き
さが得られない、エッチング後に固体微粒子を洗浄する
のが難しい等の問題点があった。
固体微粒子を保護膜表面に付着させ、該固体微粒子をエ
ッチングのマスク材として用いる方法がある。この固体
微粒子マスクをディスク表面に付着させるための手法と
して、スピンコーティング法、スプレー法及び分散液へ
の浸漬法が容易に考えられ、検討を行なった。しかし、
これらの方法では、ディスク面内の粒子付着面積比率の
バラツキが大きい、微粒子が凝集し均一なマスクの大き
さが得られない、エッチング後に固体微粒子を洗浄する
のが難しい等の問題点があった。
【0007】本発明はこのような従来技術の問題点に鑑
みなされたもので、ディスク面内の固体微粒子付着面積
比率を自由に制御することができ、かつ複数の固体微粒
子を凝集させることなくディスク面に付着させて均一な
大きさのマスクを得ることができる磁気ディスク製造方
法および装置、さらに製造された磁気ディスク、そのよ
うな磁気ディスクを備えた磁気ディスク装置を提供する
ことを目的とする。
みなされたもので、ディスク面内の固体微粒子付着面積
比率を自由に制御することができ、かつ複数の固体微粒
子を凝集させることなくディスク面に付着させて均一な
大きさのマスクを得ることができる磁気ディスク製造方
法および装置、さらに製造された磁気ディスク、そのよ
うな磁気ディスクを備えた磁気ディスク装置を提供する
ことを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気ディスク製
造方法は、固体微粒子群を空間に吹き出し、空間におい
て前記固体微粒子群を同一極性に帯電し、固体微粒子間
に働く電気的反発力を用いて、多数の単一固体微粒子か
らなる固体微粒子群または多数の単一固体微粒子を主構
成とする固体微粒子群を形成し、さらに表面に保護膜を
備えた磁気ディスクを無電位または上記極性と反対の極
性に帯電し、上記多数の単一固体微粒子からなる固体微
粒子群または多数の単一固体微粒子を主構成とする上記
固体微粒子群を上記磁気ディスクの保護膜表面に静電付
着し、次に、上記付着した固体微粒子群を磁気ディスク
の保護膜のエッチングプロセスにおけるマスクとして用
い、多数の保護膜の凸部を形成することを特徴としてい
る。
造方法は、固体微粒子群を空間に吹き出し、空間におい
て前記固体微粒子群を同一極性に帯電し、固体微粒子間
に働く電気的反発力を用いて、多数の単一固体微粒子か
らなる固体微粒子群または多数の単一固体微粒子を主構
成とする固体微粒子群を形成し、さらに表面に保護膜を
備えた磁気ディスクを無電位または上記極性と反対の極
性に帯電し、上記多数の単一固体微粒子からなる固体微
粒子群または多数の単一固体微粒子を主構成とする上記
固体微粒子群を上記磁気ディスクの保護膜表面に静電付
着し、次に、上記付着した固体微粒子群を磁気ディスク
の保護膜のエッチングプロセスにおけるマスクとして用
い、多数の保護膜の凸部を形成することを特徴としてい
る。
【0009】また、本発明の他の磁気ディスク製造方法
は、固体微粒子群を空間に吹き出し、空間において前記
固体微粒子群を同一極性に帯電し、固体微粒子間に働く
電気的反発力を用いて、多数の単一固体微粒子からなる
固体微粒子群または多数の単一固体微粒子を主構成とす
る固体微粒子群を形成し、さらに磁気ディスク基板を無
電位または上記極性と反対の極性に帯電し、上記多数の
単一固体微粒子からなる固体微粒子群または多数の単一
固体微粒子を主構成とする上記固体微粒子群を上記磁気
ディスク基板表面に静電付着し、次に、上記付着した固
体微粒子群を磁気ディスク基板のエッチングプロセスに
おけるマスクとして用い、基板上に多数の凸部を形成す
ることを特徴としている。
は、固体微粒子群を空間に吹き出し、空間において前記
固体微粒子群を同一極性に帯電し、固体微粒子間に働く
電気的反発力を用いて、多数の単一固体微粒子からなる
固体微粒子群または多数の単一固体微粒子を主構成とす
る固体微粒子群を形成し、さらに磁気ディスク基板を無
電位または上記極性と反対の極性に帯電し、上記多数の
単一固体微粒子からなる固体微粒子群または多数の単一
固体微粒子を主構成とする上記固体微粒子群を上記磁気
ディスク基板表面に静電付着し、次に、上記付着した固
体微粒子群を磁気ディスク基板のエッチングプロセスに
おけるマスクとして用い、基板上に多数の凸部を形成す
ることを特徴としている。
【0010】本発明の磁気ディスクは、磁気ディスクの
保護膜表面上に、多数の単一固体微粒子または単一固体
微粒子を主構成とする多数の固体微粒子を静電塗布し、
上記静電塗布された多数の単一固体微粒子または固体微
粒子をマスクとして上記保護膜をエッチングし、これに
よって形成された多数の保護膜の凸部を備えたことを特
徴としている。
保護膜表面上に、多数の単一固体微粒子または単一固体
微粒子を主構成とする多数の固体微粒子を静電塗布し、
上記静電塗布された多数の単一固体微粒子または固体微
粒子をマスクとして上記保護膜をエッチングし、これに
よって形成された多数の保護膜の凸部を備えたことを特
徴としている。
【0011】また、本発明の磁気ディスク装置は、上記
磁気ディスクを備えたものである。また本発明の他の磁
気ディスクは、磁気ディスクの基板上に、多数の単一固
体微粒子または単一固体微粒子を主構成とする多数の固
体微粒子を静電塗布し、上記静電塗布された多数の単一
固体微粒子または固体微粒子をマスクとして上記基板を
エッチングし、これによって形成された多数の凸部を基
板上に備えたことを特徴としている。
磁気ディスクを備えたものである。また本発明の他の磁
気ディスクは、磁気ディスクの基板上に、多数の単一固
体微粒子または単一固体微粒子を主構成とする多数の固
体微粒子を静電塗布し、上記静電塗布された多数の単一
固体微粒子または固体微粒子をマスクとして上記基板を
エッチングし、これによって形成された多数の凸部を基
板上に備えたことを特徴としている。
【0012】また、本発明の他の磁気ディスク装置は、
上記他の磁気ディスクを備えたものである。
上記他の磁気ディスクを備えたものである。
【0013】また、本発明の磁気ディスク製造装置は、
磁気ディスク基板表面または表面に保護膜を備えた磁気
ディスク上に、多数の固体微粒子を吹出口から放出する
放出手段と、多数の固体微粒子を上記放出手段に供給す
る微粒子供給手段と、上記放出手段の吹き出し口近傍に
設けられ、放出手段から放出された多数の微粒子を同一
極性に帯電させる電圧印加手段と、上記磁気ディスク基
板または表面に保護膜を備えた磁気ディスクを無電位ま
たは上記極性と反対の極性に帯電させる帯電手段とを備
え、上記同一極性に帯電した多数の固体微粒子を、磁気
ディスク基板表面または表面に保護膜を備えた磁気ディ
スクに静電塗布することを特徴としている。
磁気ディスク基板表面または表面に保護膜を備えた磁気
ディスク上に、多数の固体微粒子を吹出口から放出する
放出手段と、多数の固体微粒子を上記放出手段に供給す
る微粒子供給手段と、上記放出手段の吹き出し口近傍に
設けられ、放出手段から放出された多数の微粒子を同一
極性に帯電させる電圧印加手段と、上記磁気ディスク基
板または表面に保護膜を備えた磁気ディスクを無電位ま
たは上記極性と反対の極性に帯電させる帯電手段とを備
え、上記同一極性に帯電した多数の固体微粒子を、磁気
ディスク基板表面または表面に保護膜を備えた磁気ディ
スクに静電塗布することを特徴としている。
【0014】さらに、本発明の他の磁気ディスク製造装
置は、多数の固体微粒子と該固体微粒子の分散媒とを混
合して攪拌し、該固体微粒子の攪拌された溶液を吐出し
て上記分散媒を気化し、多数の固体微粒子を空間に漂わ
せる微粒子供給手段と、上記微粒子供給手段から吐出さ
れ、互いに分離している多数の固体微粒子と上記気化し
た分散媒とを、磁気ディスク基板表面または表面に保護
膜を備えた磁気ディスクに向かって放出口から放出する
放出手段と、上記放出手段の吹き出し口近傍に設けら
れ、放出手段から放出された多数の微粒子を同一極性に
帯電させる電圧印加手段と、上記磁気ディスク基板また
は表面に保護膜を備えた磁気ディスクを無電位または上
記極性と反対の極性に帯電させる帯電手段とを備え、上
記同一極性に帯電した多数の固体微粒子を、磁気ディス
ク基板表面または表面に保護膜を備えた磁気ディスクに
静電塗布することを特徴としている。
置は、多数の固体微粒子と該固体微粒子の分散媒とを混
合して攪拌し、該固体微粒子の攪拌された溶液を吐出し
て上記分散媒を気化し、多数の固体微粒子を空間に漂わ
せる微粒子供給手段と、上記微粒子供給手段から吐出さ
れ、互いに分離している多数の固体微粒子と上記気化し
た分散媒とを、磁気ディスク基板表面または表面に保護
膜を備えた磁気ディスクに向かって放出口から放出する
放出手段と、上記放出手段の吹き出し口近傍に設けら
れ、放出手段から放出された多数の微粒子を同一極性に
帯電させる電圧印加手段と、上記磁気ディスク基板また
は表面に保護膜を備えた磁気ディスクを無電位または上
記極性と反対の極性に帯電させる帯電手段とを備え、上
記同一極性に帯電した多数の固体微粒子を、磁気ディス
ク基板表面または表面に保護膜を備えた磁気ディスクに
静電塗布することを特徴としている。
【0015】
【作用】本発明の磁気ディスク製造方法および装置によ
れば、空間において固体微粒子間に働く電気的反発力に
より、単一固体微粒子からなる固体微粒子群または多数
の単一固体微粒子を主構成とする固体微粒子群が形成さ
れ、これが磁気ディスク基板または磁気ディスク表面に
静電塗布される。このとき、既に固体微粒子が塗布され
た部分には、その電気的反発力によって重ねて固体微粒
子が塗布されることはない。さらに、前記放出手段にお
いて空間に放出する固体微粒子の密度を制御したり、前
記微粒子供給手段内の固体微粒子の濃度を制御したり、
前記放出手段における放出ノズルの磁気ディスクに対す
る相対位置を変化させる等により、磁気ディスク基板ま
たは磁気ディスク保護膜表面に静電塗布する固体微粒子
の付着面積比率を自由に制御することができる。すなわ
ち、ディスク面内の固体微粒子の付着面積比率を自由に
制御することができ、かつ複数の固体微粒子を凝集させ
ることなくディスク面に付着させて均一な大きさのエッ
チング用マスクを得ることができる。
れば、空間において固体微粒子間に働く電気的反発力に
より、単一固体微粒子からなる固体微粒子群または多数
の単一固体微粒子を主構成とする固体微粒子群が形成さ
れ、これが磁気ディスク基板または磁気ディスク表面に
静電塗布される。このとき、既に固体微粒子が塗布され
た部分には、その電気的反発力によって重ねて固体微粒
子が塗布されることはない。さらに、前記放出手段にお
いて空間に放出する固体微粒子の密度を制御したり、前
記微粒子供給手段内の固体微粒子の濃度を制御したり、
前記放出手段における放出ノズルの磁気ディスクに対す
る相対位置を変化させる等により、磁気ディスク基板ま
たは磁気ディスク保護膜表面に静電塗布する固体微粒子
の付着面積比率を自由に制御することができる。すなわ
ち、ディスク面内の固体微粒子の付着面積比率を自由に
制御することができ、かつ複数の固体微粒子を凝集させ
ることなくディスク面に付着させて均一な大きさのエッ
チング用マスクを得ることができる。
【0016】したがって、ディスクの面内分布性が良
く、粒子の分離性がよい、固体微粒子塗布の塗布を低コ
ストで行うことができる。これにより、磁気ヘッドに対
する粘着防止に優れ、かつ磁気異方性に優れた磁気ディ
スク、これを搭載した優れた磁気ディスク装置を得るこ
とができる。
く、粒子の分離性がよい、固体微粒子塗布の塗布を低コ
ストで行うことができる。これにより、磁気ヘッドに対
する粘着防止に優れ、かつ磁気異方性に優れた磁気ディ
スク、これを搭載した優れた磁気ディスク装置を得るこ
とができる。
【0017】
【実施例】以下、本発明の実施例を図を用いて説明す
る。
る。
【0018】図1は本発明の第1の実施例を示す全体概
略図である。図1において、フッ素系樹脂粒子を付着さ
せる磁気デイスク1は、中心の穴にチャック3を通して
スピンドル2に固定され、スピンドル2の反対側からカ
ップ4で覆いをされている。スピンドル2の他端にはモ
ータ13が設置され、磁気ディスク1を回転させる。ま
た、スピンドル2は接地ニードル16によって電気的に
接地され、これによって磁気ディスク1が接地されてい
る。ここで、磁気ディスク1は、表面に保護膜が形成さ
れた状態の磁気ディスクである。
略図である。図1において、フッ素系樹脂粒子を付着さ
せる磁気デイスク1は、中心の穴にチャック3を通して
スピンドル2に固定され、スピンドル2の反対側からカ
ップ4で覆いをされている。スピンドル2の他端にはモ
ータ13が設置され、磁気ディスク1を回転させる。ま
た、スピンドル2は接地ニードル16によって電気的に
接地され、これによって磁気ディスク1が接地されてい
る。ここで、磁気ディスク1は、表面に保護膜が形成さ
れた状態の磁気ディスクである。
【0019】磁気ディスク1の面に対向して吹出ノズル
5a,5bが設置されている。また、タンク9内にフッ
素系樹脂粒子とフッ素系溶媒を任意の割合で投入し、モ
ータ19と攪拌器20によって、混合、攪拌し、フッ素
系樹脂粒子を分散する。その分散溶液を、輸送管8を通
して吐出ノズル7a,7bへ送り、ジェネレータ6a,
6bに吐出する。吐出ノズル7a,7bから吐出された
分散溶液は気化し、フッ素樹脂粒子はジェネレータ6
a,6b内の空間に漂う状態になる。この状態におい
て、フッ素系樹脂粒子は、ガスノズル11から吹き出し
ているキャリアガス(例えば高圧空気や窒素ガス等)に
よって吹出ノズル5a,5bから磁気ディスク1の表面
に向けて放出される。
5a,5bが設置されている。また、タンク9内にフッ
素系樹脂粒子とフッ素系溶媒を任意の割合で投入し、モ
ータ19と攪拌器20によって、混合、攪拌し、フッ素
系樹脂粒子を分散する。その分散溶液を、輸送管8を通
して吐出ノズル7a,7bへ送り、ジェネレータ6a,
6bに吐出する。吐出ノズル7a,7bから吐出された
分散溶液は気化し、フッ素樹脂粒子はジェネレータ6
a,6b内の空間に漂う状態になる。この状態におい
て、フッ素系樹脂粒子は、ガスノズル11から吹き出し
ているキャリアガス(例えば高圧空気や窒素ガス等)に
よって吹出ノズル5a,5bから磁気ディスク1の表面
に向けて放出される。
【0020】吹出ノズル5a,5bと磁気ディスク1の
間には、下方に印加ニードル10a,10bが設置され
ている。印加ニードル10a,10bは配線ケーブル1
1a,11bを介して高圧電源12に接続され、その結
果、磁気ディスク1と吹出ノズル5a,5bの間に高圧
電界がかけられ、この電界によって吹出ノズル5a,5
bから放出されたフッ素系樹脂粒子は帯電状態となる。
磁気ディスク1は、スピンドル2を通して電位0の状態
にあり、フッ素系樹脂粒子と磁気ディスク1間の電位差
によって、粒子は磁気ディスク1の表面に引かれて付着
する。さらに、帯電によりフッ素系樹脂粒子は相互に反
発し、空間において単一粒子の状態に保たれると共に、
ディスク表面に先に付着したフッ素系樹脂粒子には他の
フッ素系樹脂粒子が付着しない。これによって、磁気デ
ィスク1の表面にフッ素樹脂粒子の付着層が形成され
る。このときスピンドル2は、20rpm〜1000r
pmの間の速度で回転している。
間には、下方に印加ニードル10a,10bが設置され
ている。印加ニードル10a,10bは配線ケーブル1
1a,11bを介して高圧電源12に接続され、その結
果、磁気ディスク1と吹出ノズル5a,5bの間に高圧
電界がかけられ、この電界によって吹出ノズル5a,5
bから放出されたフッ素系樹脂粒子は帯電状態となる。
磁気ディスク1は、スピンドル2を通して電位0の状態
にあり、フッ素系樹脂粒子と磁気ディスク1間の電位差
によって、粒子は磁気ディスク1の表面に引かれて付着
する。さらに、帯電によりフッ素系樹脂粒子は相互に反
発し、空間において単一粒子の状態に保たれると共に、
ディスク表面に先に付着したフッ素系樹脂粒子には他の
フッ素系樹脂粒子が付着しない。これによって、磁気デ
ィスク1の表面にフッ素樹脂粒子の付着層が形成され
る。このときスピンドル2は、20rpm〜1000r
pmの間の速度で回転している。
【0021】なお、磁気ディスク1とジェネレータ5
a,5bなどは、筐体18で周囲から遮蔽して装置を構
成する。また、装置の上部に設けられたファン15によ
り、フィルタ17を通した塵埃の無い空気を装置内に安
定に送りこむことによって、磁気ディスク1表面に対す
る塵埃の付着を防ぎ、フッ素系樹脂粒子の付着状態を安
定に保つことができる。
a,5bなどは、筐体18で周囲から遮蔽して装置を構
成する。また、装置の上部に設けられたファン15によ
り、フィルタ17を通した塵埃の無い空気を装置内に安
定に送りこむことによって、磁気ディスク1表面に対す
る塵埃の付着を防ぎ、フッ素系樹脂粒子の付着状態を安
定に保つことができる。
【0022】次に、こうしてフッ素系樹脂粒子が付着し
た磁気ディスクに対し、酸素ガスを用いて、15秒間エ
ッチング処理する。これによって、フッ素系樹脂粒子が
付着した部分以外の保護膜領域を均一にエッチングし、
その後純水を用いて洗浄する。これにより、磁気ディス
ク1の保護膜表面に凸部が形成される。
た磁気ディスクに対し、酸素ガスを用いて、15秒間エ
ッチング処理する。これによって、フッ素系樹脂粒子が
付着した部分以外の保護膜領域を均一にエッチングし、
その後純水を用いて洗浄する。これにより、磁気ディス
ク1の保護膜表面に凸部が形成される。
【0023】なお、純水による洗浄は、水量が少なくて
すみ、短時間で終了する。これは、フッ素系樹脂粒子が
水に対する反発力を有しているため(例えば、フッ素系
樹脂粒子は比重が2以上であるにもかかわらず、水に浮
く)である。反発力としては、例えば水の場合、水に対
する接触角が90度程度以上の材料を微粒子化したもの
が望ましい。この洗浄は、通常の洗浄のように、洗浄液
として汚染物質に馴染みの良いものを選んで、洗浄液に
汚染物質を分散させて洗浄する場合と異なっている。
すみ、短時間で終了する。これは、フッ素系樹脂粒子が
水に対する反発力を有しているため(例えば、フッ素系
樹脂粒子は比重が2以上であるにもかかわらず、水に浮
く)である。反発力としては、例えば水の場合、水に対
する接触角が90度程度以上の材料を微粒子化したもの
が望ましい。この洗浄は、通常の洗浄のように、洗浄液
として汚染物質に馴染みの良いものを選んで、洗浄液に
汚染物質を分散させて洗浄する場合と異なっている。
【0024】なお、図1に示す第1の実施例において、
筐体18やスピンドル2などのフッ素系樹脂粒子を付着
させたくない部分は、絶縁体を用いて構成するのが望ま
しい。
筐体18やスピンドル2などのフッ素系樹脂粒子を付着
させたくない部分は、絶縁体を用いて構成するのが望ま
しい。
【0025】また、磁気ディスク基板の表面に凸部を形
成する場合には、上記した表面に保護膜を備えた磁気デ
ィスクの場合と比らべて、エッチング処理に用いるガス
を酸素から、例えばアルミ基板の場合、アルゴンに変え
るだけで良い。
成する場合には、上記した表面に保護膜を備えた磁気デ
ィスクの場合と比らべて、エッチング処理に用いるガス
を酸素から、例えばアルミ基板の場合、アルゴンに変え
るだけで良い。
【0026】さらに、用いるフッ素系樹脂粒子は、粒度
分布の揃っているものが、タンク9における分散性がよ
く、望ましい。
分布の揃っているものが、タンク9における分散性がよ
く、望ましい。
【0027】図2は磁気ディスク表面のフッ素系樹脂粒
子付着状態を示す図である。図2は、磁気ディスク表面
を拡大して撮影した画像をビデオプリンタから出力して
得られたものであり、この図から明らかなように、フッ
素系樹脂粒子は単一粒子を主構成として付着している。
子付着状態を示す図である。図2は、磁気ディスク表面
を拡大して撮影した画像をビデオプリンタから出力して
得られたものであり、この図から明らかなように、フッ
素系樹脂粒子は単一粒子を主構成として付着している。
【0028】図3は、本実施例におけるフッ素系樹脂粒
子の半径方向の付着面積比率の面内分布を示している。
ここで、付着面積比率とは、磁気ディスク表面の単位面
積当たりにおける粒子の付着面積をいい、パーセントで
表している。
子の半径方向の付着面積比率の面内分布を示している。
ここで、付着面積比率とは、磁気ディスク表面の単位面
積当たりにおける粒子の付着面積をいい、パーセントで
表している。
【0029】また、図4は、本実施例におけるフッ素系
樹脂粒子の円周方向の付着面積比率の面内分布を示して
いる。図3と図4は、共に付着面積比率が3パーセント
と8パーセントの例を示しているが、付着面積比率が
0.3〜30パーセントの範囲について確認されてい
る。
樹脂粒子の円周方向の付着面積比率の面内分布を示して
いる。図3と図4は、共に付着面積比率が3パーセント
と8パーセントの例を示しているが、付着面積比率が
0.3〜30パーセントの範囲について確認されてい
る。
【0030】なお、上記第1の実施例において、磁気デ
ィスク1と吐出ノズル5a,5bとの相対位置を変えた
り、タンク9内のフッ素系樹脂粒子の濃度を可変した
り、用いるフッ素系樹脂粒子の粒経を可変することによ
って、磁気ディスクの保護膜表面または磁気ディスク基
板に付着させるフッ素系樹脂粒子の付着面積比率を磁気
ディスクの内周側・外周側等で任意に制御することが可
能である。したがって、本実施例によれば、図2および
図3から明らかなように、固体微粒子を制御して、ディ
スク表面の任意の位置に任意の付着面積比率で付着させ
ることが可能である。
ィスク1と吐出ノズル5a,5bとの相対位置を変えた
り、タンク9内のフッ素系樹脂粒子の濃度を可変した
り、用いるフッ素系樹脂粒子の粒経を可変することによ
って、磁気ディスクの保護膜表面または磁気ディスク基
板に付着させるフッ素系樹脂粒子の付着面積比率を磁気
ディスクの内周側・外周側等で任意に制御することが可
能である。したがって、本実施例によれば、図2および
図3から明らかなように、固体微粒子を制御して、ディ
スク表面の任意の位置に任意の付着面積比率で付着させ
ることが可能である。
【0031】図5は本発明の第2の実施例を示す全体概
略図である。図5に示す第2の実施例が図1に示す第1
の実施例と異なる点は、ジェネレータ5a,5b内に分
散媒を溜めるトラップ21a,21bを形成した点であ
る。トラップ21a,21b内には、フッ素系溶媒が溜
めてある。このことによって、ジエネレータ21a,2
1b内に浮遊している粒子が塊状になり、凝集粒子とな
った場合、該凝集粒子はその自重によりトラップ21
a,21b内に落ち、浮遊しなくなる。したがって、該
凝集粒子がガスノズル14a,14bから導入されるキ
ャリアガスによって、吹出ノズル5a,5bから放出さ
れるのを防ぐことができる。このことによって、磁気デ
ィスク1面に静電塗布されるフッ素系樹脂粒子の面内均
一性の向上を図ることができる。
略図である。図5に示す第2の実施例が図1に示す第1
の実施例と異なる点は、ジェネレータ5a,5b内に分
散媒を溜めるトラップ21a,21bを形成した点であ
る。トラップ21a,21b内には、フッ素系溶媒が溜
めてある。このことによって、ジエネレータ21a,2
1b内に浮遊している粒子が塊状になり、凝集粒子とな
った場合、該凝集粒子はその自重によりトラップ21
a,21b内に落ち、浮遊しなくなる。したがって、該
凝集粒子がガスノズル14a,14bから導入されるキ
ャリアガスによって、吹出ノズル5a,5bから放出さ
れるのを防ぐことができる。このことによって、磁気デ
ィスク1面に静電塗布されるフッ素系樹脂粒子の面内均
一性の向上を図ることができる。
【0032】図6は、第1の実施例および第2の実施例
を用いて、磁気ディスク1の保護膜表面にフッ素系樹脂
粒子を静電塗布したとき、静電塗布されたフッ素系樹脂
粒子に含まれる凝集粒子数の比較結果を示す図であり、
横軸にキャリアガス流量、縦軸に凝集粒子数を示してい
る。このとき用いたフッ素系樹脂粒子は、平均粒径が5
μmのもであり、凝集粒子とは粒径が15μm以上のも
のを意味している。図6から明らかなように、第1の実
施例に対して第2の実施例の場合は、凝集粒子数が6割
程度減少していることが分かる。このことから、上記第
2の実施例は、凝集粒子減少に大きな効果のあることが
わかる。
を用いて、磁気ディスク1の保護膜表面にフッ素系樹脂
粒子を静電塗布したとき、静電塗布されたフッ素系樹脂
粒子に含まれる凝集粒子数の比較結果を示す図であり、
横軸にキャリアガス流量、縦軸に凝集粒子数を示してい
る。このとき用いたフッ素系樹脂粒子は、平均粒径が5
μmのもであり、凝集粒子とは粒径が15μm以上のも
のを意味している。図6から明らかなように、第1の実
施例に対して第2の実施例の場合は、凝集粒子数が6割
程度減少していることが分かる。このことから、上記第
2の実施例は、凝集粒子減少に大きな効果のあることが
わかる。
【0033】図7は本発明の第3の実施例を示す全体概
略図であり、第3の実施例は分散媒を用いないものであ
る。すなわち、図7に示すように、タンク9a,9b内
にフッ素系樹脂粒子のみを投入し、吹出ノズル7a,7
bによって、一定量をジェネレータ6に投入する。投入
されたフッ素系樹脂粒子は、フィルタ17を介して導入
されるキャリアガス(高圧空気など)によって、ノズル
5a,5bよりスピンドル2によって支持された磁気デ
ィスク1に向かって放出され、ノズル5a,5bの近傍
に設置された印加ニードル10によって帯電させる。こ
の帯電により、接地ニードル16により電位0となって
いる磁気ディスク1の表面に引かれて付着する。
略図であり、第3の実施例は分散媒を用いないものであ
る。すなわち、図7に示すように、タンク9a,9b内
にフッ素系樹脂粒子のみを投入し、吹出ノズル7a,7
bによって、一定量をジェネレータ6に投入する。投入
されたフッ素系樹脂粒子は、フィルタ17を介して導入
されるキャリアガス(高圧空気など)によって、ノズル
5a,5bよりスピンドル2によって支持された磁気デ
ィスク1に向かって放出され、ノズル5a,5bの近傍
に設置された印加ニードル10によって帯電させる。こ
の帯電により、接地ニードル16により電位0となって
いる磁気ディスク1の表面に引かれて付着する。
【0034】次に、図1に示すタンク9内において、フ
ッ素系樹脂粒子(密度2.25)をフッ素系溶媒(密度
1.76)に攪拌して分散し、フッ素系溶媒100cc
当たりフッ素系樹脂粒子を1g含む分散液(濃度;1g
/100ccの分散液)を調整した。その後、タンク9
の上部、中部、下部から分散液を採取し、濃度を比較す
ることにより、フッ素系樹脂粒子の分散性を調べた。
ッ素系樹脂粒子(密度2.25)をフッ素系溶媒(密度
1.76)に攪拌して分散し、フッ素系溶媒100cc
当たりフッ素系樹脂粒子を1g含む分散液(濃度;1g
/100ccの分散液)を調整した。その後、タンク9
の上部、中部、下部から分散液を採取し、濃度を比較す
ることにより、フッ素系樹脂粒子の分散性を調べた。
【0035】用いたフッ素系樹脂粒子は、標準偏差/平
均粒径が0.4,0.3,0.2のもの3種類と、粒子
化の工程が異なるもの4種類(A,B,C,D)であ
る。表1と表2に得られた濃度結果を示す。この表1、
表2に示した数字(濃度)は、分散液100cc当たり
に含まれるフッ素系樹脂粒子の重量(g)を示す。
均粒径が0.4,0.3,0.2のもの3種類と、粒子
化の工程が異なるもの4種類(A,B,C,D)であ
る。表1と表2に得られた濃度結果を示す。この表1、
表2に示した数字(濃度)は、分散液100cc当たり
に含まれるフッ素系樹脂粒子の重量(g)を示す。
【0036】
【表1】
【0037】
【表2】
【0038】表1から明らかなように、タンク9内の分
散性が良いのは(すなわちタンク9内の上部、中部、下
部における濃度差が少ないもの)、標準偏差が小さく、
粒度分布の良い粒子であることがわかる。
散性が良いのは(すなわちタンク9内の上部、中部、下
部における濃度差が少ないもの)、標準偏差が小さく、
粒度分布の良い粒子であることがわかる。
【0039】また、表2から明らかなように、粒子の分
散性は、粒子化の工程により異なることがわかる。本実
施例において、分散性の良かった粒子化工程は、粒子化
の際に粒子中の空気を除く工程が含まれていることか
ら、粒子中の空気を除いて密度を上げることにより(分
散液の密度に近づける)、分散性の良い分散液が得られ
ることがわかる。
散性は、粒子化の工程により異なることがわかる。本実
施例において、分散性の良かった粒子化工程は、粒子化
の際に粒子中の空気を除く工程が含まれていることか
ら、粒子中の空気を除いて密度を上げることにより(分
散液の密度に近づける)、分散性の良い分散液が得られ
ることがわかる。
【0040】次に、本発明で用いると良好な結果が得れ
られる粒子の平均粒径と付着面積比率について説明す
る。
られる粒子の平均粒径と付着面積比率について説明す
る。
【0041】平均粒径が凸部の高さの5倍より小さい場
合には、ドライエッチング時の回り込みによって、粒子
の下でもエッチングが生じてしまい、目的の凸部高さが
得られない現象が生じる。また、粒径がヘッドスライダ
幅の1/4よりも大きくなると、ヘッドと磁気ディスク
の間に粘着現象が見られるものも出てくるため、平均粒
径の範囲は、凸部の高さの5倍からヘッドスライダ幅の
1/4までが望ましい。 また、表面に保護膜を備えた
磁気ディスクまたは磁気ディスク基板のうねりをAn
m、さらに該磁気ディスクにおける磁気ヘッドの浮上量
をBnmとすると、上記エッチング量(すなわち、凸部
の高さ)は(B−A)nm以下であることが望ましく、
かつ形成された凸部の等価円直径は磁気ヘッドのヘッド
スライダ幅の1/4以下であることが望ましい。
合には、ドライエッチング時の回り込みによって、粒子
の下でもエッチングが生じてしまい、目的の凸部高さが
得られない現象が生じる。また、粒径がヘッドスライダ
幅の1/4よりも大きくなると、ヘッドと磁気ディスク
の間に粘着現象が見られるものも出てくるため、平均粒
径の範囲は、凸部の高さの5倍からヘッドスライダ幅の
1/4までが望ましい。 また、表面に保護膜を備えた
磁気ディスクまたは磁気ディスク基板のうねりをAn
m、さらに該磁気ディスクにおける磁気ヘッドの浮上量
をBnmとすると、上記エッチング量(すなわち、凸部
の高さ)は(B−A)nm以下であることが望ましく、
かつ形成された凸部の等価円直径は磁気ヘッドのヘッド
スライダ幅の1/4以下であることが望ましい。
【0042】図8は、保護膜に対するフッ素系樹脂粒子
の付着面積比率が互いに異なる複数の磁気ディスクにつ
いて、それぞれコンタクト・スタート・ストップ(CS
S)を3000回行った後、磁気ディスクと磁気ヘッド
の粘着力を磁気ディスクの接線方向のトルク(SCC接
線力)として測定した結果を示す図である。図8から明
らかなように、付着面積比率が0.3〜30パーセント
の範囲において、CSS接線力(粘着力)が小さく、安
定していることがわかる。
の付着面積比率が互いに異なる複数の磁気ディスクにつ
いて、それぞれコンタクト・スタート・ストップ(CS
S)を3000回行った後、磁気ディスクと磁気ヘッド
の粘着力を磁気ディスクの接線方向のトルク(SCC接
線力)として測定した結果を示す図である。図8から明
らかなように、付着面積比率が0.3〜30パーセント
の範囲において、CSS接線力(粘着力)が小さく、安
定していることがわかる。
【0043】付着面積比率が0.3パーセントよりも小
さく、かつフッ素系樹脂粒子の粒径が大きい場合には、
単位面積当たりの凸部の数が少なくなり、凸部がヘッド
スライダの下に均一に存在しない状態が生じ、CSS接
線力(粘着力)が大きくなってしまう。
さく、かつフッ素系樹脂粒子の粒径が大きい場合には、
単位面積当たりの凸部の数が少なくなり、凸部がヘッド
スライダの下に均一に存在しない状態が生じ、CSS接
線力(粘着力)が大きくなってしまう。
【0044】また、フッ素系樹脂粒子の粒径が小さい場
合には、磁気ヘッドとの接触により、凸部が削られてし
まい、CSS接線力が大きくなってしまう。
合には、磁気ヘッドとの接触により、凸部が削られてし
まい、CSS接線力が大きくなってしまう。
【0045】付着面積比率が30パーセントよりも大き
い場合、磁気ヘッドと凸部の接触面積が大きくなり、摩
擦力が大きくなり、CSS接線力が大きくなる。これら
のことから、付着面積比率は、0.3〜30パーセント
の範囲にあることが望ましい。 以上の説明において
は、固体微粒子としてフッ素系樹脂粒子を用いたが、本
発明はこれに限定されるものではなく、任意の固体微粒
子を用いることが可能である。
い場合、磁気ヘッドと凸部の接触面積が大きくなり、摩
擦力が大きくなり、CSS接線力が大きくなる。これら
のことから、付着面積比率は、0.3〜30パーセント
の範囲にあることが望ましい。 以上の説明において
は、固体微粒子としてフッ素系樹脂粒子を用いたが、本
発明はこれに限定されるものではなく、任意の固体微粒
子を用いることが可能である。
【0046】なお、固体微粒子としてフッ素系樹脂粒子
を用いる場合には、次のようなメリットがある。すなわ
ち、フッ素系樹脂粒子はドライエッチングに対して反応
性がなく(ドライエッチングの際の熱に強く、溶解・分
解等が生じない)、さらに前記したように水で容易に洗
浄でき、さらに仮に磁気ディスク表面にフッ素系樹脂粒
子が残こり、これがつぶれて膜になっても、磁気ディス
クの特性やCSS特性に影響を与えることがない(磁気
ディスク基板や保護膜に対して非干渉)。
を用いる場合には、次のようなメリットがある。すなわ
ち、フッ素系樹脂粒子はドライエッチングに対して反応
性がなく(ドライエッチングの際の熱に強く、溶解・分
解等が生じない)、さらに前記したように水で容易に洗
浄でき、さらに仮に磁気ディスク表面にフッ素系樹脂粒
子が残こり、これがつぶれて膜になっても、磁気ディス
クの特性やCSS特性に影響を与えることがない(磁気
ディスク基板や保護膜に対して非干渉)。
【0047】また、本発明は、フォトリソ膜形成用のマ
スク材の形成や、電子機器の微小間隔材の塗布等の装置
にも応用できる。
スク材の形成や、電子機器の微小間隔材の塗布等の装置
にも応用できる。
【0048】本発明は、次に述べる実施形態としても表
すことができる。 <実施形態A>固体微粒子群を空間に吹き出し、空間に
おいて前記固体微粒子群を同一極性に帯電し、固体微粒
子間に働く電気的反発力を用いて、多数の単一固体微粒
子からなる固体微粒子群または多数の単一固体微粒子を
主構成とする固体微粒子群を形成し、さらに表面に保護
膜を備えた磁気ディスクを無電位または上記極性と反対
の極性に帯電し、上記多数の単一固体微粒子からなる固
体微粒子群または多数の単一固体微粒子を主構成とする
上記固体微粒子群を上記磁気ディスクの保護膜表面に静
電付着し次に、上記付着した固体微粒子群を磁気ディス
クの保護膜のエッチングプロセスにおけるマスクとして
用い、多数の保護膜の凸部を形成することを特徴とする
磁気ディスク製造方法。
すことができる。 <実施形態A>固体微粒子群を空間に吹き出し、空間に
おいて前記固体微粒子群を同一極性に帯電し、固体微粒
子間に働く電気的反発力を用いて、多数の単一固体微粒
子からなる固体微粒子群または多数の単一固体微粒子を
主構成とする固体微粒子群を形成し、さらに表面に保護
膜を備えた磁気ディスクを無電位または上記極性と反対
の極性に帯電し、上記多数の単一固体微粒子からなる固
体微粒子群または多数の単一固体微粒子を主構成とする
上記固体微粒子群を上記磁気ディスクの保護膜表面に静
電付着し次に、上記付着した固体微粒子群を磁気ディス
クの保護膜のエッチングプロセスにおけるマスクとして
用い、多数の保護膜の凸部を形成することを特徴とする
磁気ディスク製造方法。
【0049】<実施形態B>上記固体微粒子としてフッ
素系樹脂粒子を用いることを特徴とする実施形態A記載
の磁気ディスク製造方法。
素系樹脂粒子を用いることを特徴とする実施形態A記載
の磁気ディスク製造方法。
【0050】<実施形態C>上記固体微粒子としてフッ
素系樹脂粒子を用い、かつ該フッ素系樹脂粒子群を空間
に吹き出す際に上記フッ素系樹脂粒子の分散媒としてフ
ッ素系溶媒を用いることを特徴とする実施形態A記載の
磁気ディスク製造方法。
素系樹脂粒子を用い、かつ該フッ素系樹脂粒子群を空間
に吹き出す際に上記フッ素系樹脂粒子の分散媒としてフ
ッ素系溶媒を用いることを特徴とする実施形態A記載の
磁気ディスク製造方法。
【0051】<実施形態D>上記フッ素系樹脂粒子に含
まれる空気を除去して密度を上げ、フッ素系樹脂粒子の
密度をフッ素溶媒の密度に近づけることを特徴とする実
施形態C記載の磁気ディスク製造方法。
まれる空気を除去して密度を上げ、フッ素系樹脂粒子の
密度をフッ素溶媒の密度に近づけることを特徴とする実
施形態C記載の磁気ディスク製造方法。
【0052】<実施形態E>上記固体微粒子として、粒
度分布の揃っているものを用いることを特徴とする実施
形態A記載の磁気ディスク製造方法。
度分布の揃っているものを用いることを特徴とする実施
形態A記載の磁気ディスク製造方法。
【0053】<実施形態F>上記固体微粒子として、平
均粒子径が上記凸部高さの5倍からヘッドスライダ幅の
1/4までのものを用いることを特徴とする実施形態A
記載の磁気ディスク製造方法。
均粒子径が上記凸部高さの5倍からヘッドスライダ幅の
1/4までのものを用いることを特徴とする実施形態A
記載の磁気ディスク製造方法。
【0054】<実施形態G>上記固体微粒子を磁気ディ
スク保護膜の表面に0.3〜30パーセントの付着面積
比率で静電塗布することを特徴とする実施形態A記載の
磁気ディスク製造方法。
スク保護膜の表面に0.3〜30パーセントの付着面積
比率で静電塗布することを特徴とする実施形態A記載の
磁気ディスク製造方法。
【0055】<実施形態H>上記固体微粒子として、水
に対する反発力のある粒子を用いたことを特徴とする実
施形態A記載の磁気ディスク製造方法。
に対する反発力のある粒子を用いたことを特徴とする実
施形態A記載の磁気ディスク製造方法。
【0056】<実施形態I>上記表面に保護膜を備えた
磁気ディスクのうねりをAnm、さらに磁気ヘッドの浮
上量をBnmとすると、上記エッチング量は(B−A)
nm以下であり、かつ形成された凸部の等価円直径が磁
気ヘッドのヘッドスライダ幅の1/4以下であることを
特徴とする実施形態A記載の磁気ディスク製造方法。
磁気ディスクのうねりをAnm、さらに磁気ヘッドの浮
上量をBnmとすると、上記エッチング量は(B−A)
nm以下であり、かつ形成された凸部の等価円直径が磁
気ヘッドのヘッドスライダ幅の1/4以下であることを
特徴とする実施形態A記載の磁気ディスク製造方法。
【0057】<実施形態J>固体微粒子群を空間に吹き
出し、空間において前記固体微粒子群を同一極性に帯電
し、固体微粒子間に働く電気的反発力を用いて、多数の
単一固体微粒子からなる固体微粒子群または多数の単一
固体微粒子を主構成とする固体微粒子群を形成し、さら
に磁気ディスク基板を無電位または上記極性と反対の極
性に帯電し、上記多数の単一固体微粒子からなる固体微
粒子群または多数の単一固体微粒子を主構成とする上記
固体微粒子群を上記磁気ディスク基板表面に静電付着
し、次に、上記付着した固体微粒子群を磁気ディスク基
板のエッチングプロセスにおけるマスクとして用い、基
板上に多数の凸部を形成することを特徴とする磁気ディ
スク製造方法。
出し、空間において前記固体微粒子群を同一極性に帯電
し、固体微粒子間に働く電気的反発力を用いて、多数の
単一固体微粒子からなる固体微粒子群または多数の単一
固体微粒子を主構成とする固体微粒子群を形成し、さら
に磁気ディスク基板を無電位または上記極性と反対の極
性に帯電し、上記多数の単一固体微粒子からなる固体微
粒子群または多数の単一固体微粒子を主構成とする上記
固体微粒子群を上記磁気ディスク基板表面に静電付着
し、次に、上記付着した固体微粒子群を磁気ディスク基
板のエッチングプロセスにおけるマスクとして用い、基
板上に多数の凸部を形成することを特徴とする磁気ディ
スク製造方法。
【0058】<実施形態K>上記固体微粒子としてフッ
素系樹脂粒子を用いることを特徴とする実施形態I記載
の磁気ディスク製造方法。
素系樹脂粒子を用いることを特徴とする実施形態I記載
の磁気ディスク製造方法。
【0059】<実施形態L>上記固体微粒子としてフッ
素系樹脂粒子を用い、かつ該フッ素系樹脂粒子群を空間
に吹き出す際に上記フッ素系樹脂粒子の分散媒としてフ
ッ素系溶媒を用いることを特徴とする実施形態I記載の
磁気ディスク製造方法。
素系樹脂粒子を用い、かつ該フッ素系樹脂粒子群を空間
に吹き出す際に上記フッ素系樹脂粒子の分散媒としてフ
ッ素系溶媒を用いることを特徴とする実施形態I記載の
磁気ディスク製造方法。
【0060】<実施形態M>上記フッ素系樹脂粒子に含
まれる空気を除去して密度を上げ、フッ素系樹脂粒子の
密度をフッ素溶媒の密度に近づけることを特徴とする請
求項L記載の磁気ディスク製造方法。
まれる空気を除去して密度を上げ、フッ素系樹脂粒子の
密度をフッ素溶媒の密度に近づけることを特徴とする請
求項L記載の磁気ディスク製造方法。
【0061】<実施形態N>上記固体微粒子として、粒
度分布の揃っているものを用いることを特徴とする実施
形態I記載の磁気ディスク製造方法。
度分布の揃っているものを用いることを特徴とする実施
形態I記載の磁気ディスク製造方法。
【0062】<実施形態O>上記固体微粒子として、平
均粒子径が上記凸部高さの5倍からヘッドスライダ幅の
1/4までのものを用いることを特徴とする実施形態I
記載の磁気ディスク製造方法。
均粒子径が上記凸部高さの5倍からヘッドスライダ幅の
1/4までのものを用いることを特徴とする実施形態I
記載の磁気ディスク製造方法。
【0063】<実施形態P>上記固体微粒子を磁気ディ
スク保護膜の表面に0.3〜30パーセントの付着面積
比率で静電塗布することを特徴とする実施形態I記載の
磁気ディスク製造方法。
スク保護膜の表面に0.3〜30パーセントの付着面積
比率で静電塗布することを特徴とする実施形態I記載の
磁気ディスク製造方法。
【0064】<実施形態Q>上記固体微粒子として、水
に対する反発力のある粒子を用いたことを特徴とする実
施形態I記載の磁気ディスク製造方法。
に対する反発力のある粒子を用いたことを特徴とする実
施形態I記載の磁気ディスク製造方法。
【0065】<実施形態R>上記磁気ディスク基板のう
ねりをAnm、さらに磁気ヘッドの浮上量をBnmとす
ると、上記エッチング量は(B−A)nm以下であり、
かつ形成された凸部の等価円直径が磁気ヘッドのヘッド
スライダ幅の1/4以下であることを特徴とする実施形
態I記載の磁気ディスク製造方法。
ねりをAnm、さらに磁気ヘッドの浮上量をBnmとす
ると、上記エッチング量は(B−A)nm以下であり、
かつ形成された凸部の等価円直径が磁気ヘッドのヘッド
スライダ幅の1/4以下であることを特徴とする実施形
態I記載の磁気ディスク製造方法。
【0066】<実施形態S>磁気ディスクの保護膜表面
上に、多数の単一固体微粒子または単一固体微粒子を主
構成とする多数の固体微粒子を静電塗布し、上記静電塗
布された多数の単一固体微粒子または固体微粒子をマス
クとして上記保護膜をエッチングし、これによって形成
された多数の保護膜の凸部を備えたことを特徴とする磁
気ディスク。
上に、多数の単一固体微粒子または単一固体微粒子を主
構成とする多数の固体微粒子を静電塗布し、上記静電塗
布された多数の単一固体微粒子または固体微粒子をマス
クとして上記保護膜をエッチングし、これによって形成
された多数の保護膜の凸部を備えたことを特徴とする磁
気ディスク。
【0067】<実施形態T>上記形成された凸部の高さ
は、上記表面に保護膜を備えた磁気ディスクのうねりを
Anm、さらに磁気ヘッドの浮上量をBnmとすると、
(B−A)nm以下であり、かつ上記凸部の等価円直径
は磁気ヘッドのヘッドスライダ幅の1/4以下であるこ
とを特徴とする実施形態S記載の磁気ディスク。
は、上記表面に保護膜を備えた磁気ディスクのうねりを
Anm、さらに磁気ヘッドの浮上量をBnmとすると、
(B−A)nm以下であり、かつ上記凸部の等価円直径
は磁気ヘッドのヘッドスライダ幅の1/4以下であるこ
とを特徴とする実施形態S記載の磁気ディスク。
【0068】<実施形態U>磁気ディスクの基板上に、
多数の単一固体微粒子または単一固体微粒子を主構成と
する多数の固体微粒子を静電塗布し、上記静電塗布され
た多数の単一固体微粒子または固体微粒子をマスクとし
て上記基板をエッチングし、これによって形成された多
数の凸部を基板上に備えたことを特徴とする磁気ディス
ク。
多数の単一固体微粒子または単一固体微粒子を主構成と
する多数の固体微粒子を静電塗布し、上記静電塗布され
た多数の単一固体微粒子または固体微粒子をマスクとし
て上記基板をエッチングし、これによって形成された多
数の凸部を基板上に備えたことを特徴とする磁気ディス
ク。
【0069】<実施形態V>上記磁気ディスク基板に形
成された凸部の高さは、磁気ディスク基板のうねりをA
nm、さらに磁気ヘッドの浮上量をBnmとすると、
(B−A)nm以下であり、かつ上記凸部の等価円直径
は磁気ヘッドのヘッドスライダ幅の1/4以下であるこ
とを特徴とする実施形態U記載の磁気ディスク。
成された凸部の高さは、磁気ディスク基板のうねりをA
nm、さらに磁気ヘッドの浮上量をBnmとすると、
(B−A)nm以下であり、かつ上記凸部の等価円直径
は磁気ヘッドのヘッドスライダ幅の1/4以下であるこ
とを特徴とする実施形態U記載の磁気ディスク。
【0070】<実施形態W>磁気ディスクの保護膜表面
上に、多数の単一固体微粒子または単一固体微粒子を主
構成とする多数の固体微粒子を静電塗布し、上記静電塗
布された多数の単一固体微粒子または固体微粒子をマス
クとして上記保護膜をエッチングし、これによって多数
の保護膜の凸部が形成されている磁気ディスクを備えた
ことを特徴とする磁気ディスク装置。
上に、多数の単一固体微粒子または単一固体微粒子を主
構成とする多数の固体微粒子を静電塗布し、上記静電塗
布された多数の単一固体微粒子または固体微粒子をマス
クとして上記保護膜をエッチングし、これによって多数
の保護膜の凸部が形成されている磁気ディスクを備えた
ことを特徴とする磁気ディスク装置。
【0071】<実施形態X>磁気ディスクの基板上に、
多数の単一固体微粒子または単一固体微粒子を主構成と
する多数の固体微粒子を静電塗布し、上記静電塗布され
た多数の単一固体微粒子または固体微粒子をマスクとし
て上記基板をエッチングし、これによって形成された多
数の凸部を基板上に有する磁気ディスクを備えたことを
特徴とする磁気ディスク装置。
多数の単一固体微粒子または単一固体微粒子を主構成と
する多数の固体微粒子を静電塗布し、上記静電塗布され
た多数の単一固体微粒子または固体微粒子をマスクとし
て上記基板をエッチングし、これによって形成された多
数の凸部を基板上に有する磁気ディスクを備えたことを
特徴とする磁気ディスク装置。
【0072】<実施形態Y>磁気ディスク基板表面また
は表面に保護膜を備えた磁気ディスク上に、多数の固体
微粒子を吹出口から放出する放出手段と、多数の固体微
粒子を上記放出手段に供給する微粒子供給手段と、上記
放出手段の吹き出し口近傍に設けられ、放出手段から放
出された多数の微粒子を同一極性に帯電させる電圧印加
手段と、上記磁気ディスク基板または表面に保護膜を備
えた磁気ディスクを無電位または上記極性と反対の極性
に帯電させる帯電手段とを備え、上記同一極性に帯電し
た多数の固体微粒子を、磁気ディスク基板表面または表
面に保護膜を備えた磁気ディスクに静電塗布することを
特徴とする磁気ディスク製造装置。
は表面に保護膜を備えた磁気ディスク上に、多数の固体
微粒子を吹出口から放出する放出手段と、多数の固体微
粒子を上記放出手段に供給する微粒子供給手段と、上記
放出手段の吹き出し口近傍に設けられ、放出手段から放
出された多数の微粒子を同一極性に帯電させる電圧印加
手段と、上記磁気ディスク基板または表面に保護膜を備
えた磁気ディスクを無電位または上記極性と反対の極性
に帯電させる帯電手段とを備え、上記同一極性に帯電し
た多数の固体微粒子を、磁気ディスク基板表面または表
面に保護膜を備えた磁気ディスクに静電塗布することを
特徴とする磁気ディスク製造装置。
【0073】<実施形態Z>上記磁気ディスクを回転さ
せながら固体微粒子を静電塗布することを特徴とする実
施形態Y記載の磁気ディスク製造装置。
せながら固体微粒子を静電塗布することを特徴とする実
施形態Y記載の磁気ディスク製造装置。
【0074】<実施形態Z1>多数の固体微粒子と該固
体微粒子の分散媒とを混合して攪拌し、該固体微粒子の
攪拌された溶液を吐出して上記分散媒を気化し、多数の
固体微粒子を空間に漂わせる微粒子供給手段と、上記微
粒子供給手段から吐出され、互いに分離している多数の
固体微粒子と上記気化した分散媒とを、磁気ディスク基
板表面または表面に保護膜を備えた磁気ディスクに向か
って放出口から放出する放出手段と、上記放出手段の吹
き出し口近傍に設けられ、放出手段から放出された多数
の微粒子を同一極性に帯電させる電圧印加手段と、上記
磁気ディスク基板または表面に保護膜を備えた磁気ディ
スクを無電位または上記極性と反対の極性に帯電させる
帯電手段とを備え、上記同一極性に帯電した多数の固体
微粒子を、磁気ディスク基板表面または表面に保護膜を
備えた磁気ディスクに静電塗布することを特徴とする磁
気ディスク製造装置。
体微粒子の分散媒とを混合して攪拌し、該固体微粒子の
攪拌された溶液を吐出して上記分散媒を気化し、多数の
固体微粒子を空間に漂わせる微粒子供給手段と、上記微
粒子供給手段から吐出され、互いに分離している多数の
固体微粒子と上記気化した分散媒とを、磁気ディスク基
板表面または表面に保護膜を備えた磁気ディスクに向か
って放出口から放出する放出手段と、上記放出手段の吹
き出し口近傍に設けられ、放出手段から放出された多数
の微粒子を同一極性に帯電させる電圧印加手段と、上記
磁気ディスク基板または表面に保護膜を備えた磁気ディ
スクを無電位または上記極性と反対の極性に帯電させる
帯電手段とを備え、上記同一極性に帯電した多数の固体
微粒子を、磁気ディスク基板表面または表面に保護膜を
備えた磁気ディスクに静電塗布することを特徴とする磁
気ディスク製造装置。
【0075】<実施形態Z2>上記放出手段は、上記分
散媒を溜める分散液留めを備え、凝集した固体微粒子を
トラップすることを特徴とする実施形態Z1記載の磁気
ディスク製造装置。
散媒を溜める分散液留めを備え、凝集した固体微粒子を
トラップすることを特徴とする実施形態Z1記載の磁気
ディスク製造装置。
【0076】<実施形態Z3>上記磁気ディスクを回転
させながら固体微粒子を静電塗布することを特徴とする
実施形態Z2記載の磁気ディスク製造装置。
させながら固体微粒子を静電塗布することを特徴とする
実施形態Z2記載の磁気ディスク製造装置。
【0077】
【発明の効果】本発明の磁気ディスク製造方法および装
置によれば、ディスク面内の固体微粒子の付着面積比率
を自由に制御することができ、かつ複数の固体微粒子を
凝集させることなくディスク面に付着させて均一な大き
さのエッチング用マスクを得ることができる。
置によれば、ディスク面内の固体微粒子の付着面積比率
を自由に制御することができ、かつ複数の固体微粒子を
凝集させることなくディスク面に付着させて均一な大き
さのエッチング用マスクを得ることができる。
【0078】したがって、ディスクの面内分布性が良
く、粒子の分離性がよい、固体微粒子塗布の塗布を低コ
ストで行うことができる。これにより、磁気ヘッドに対
する粘着防止に優れ、かつ磁気異方性に優れた磁気ディ
スク、これを搭載した優れた磁気ディスク装置を得るこ
とができる。
く、粒子の分離性がよい、固体微粒子塗布の塗布を低コ
ストで行うことができる。これにより、磁気ヘッドに対
する粘着防止に優れ、かつ磁気異方性に優れた磁気ディ
スク、これを搭載した優れた磁気ディスク装置を得るこ
とができる。
【図1】本発明の第1の実施例を示す全体概略図。
【図2】第1の実施例における磁気ディスク表面のフッ
素系樹脂粒子付着状態の一例を示す図。
素系樹脂粒子付着状態の一例を示す図。
【図3】第1の実施例におけるフッ素系樹脂粒子の半径
方向の付着面積比率の面内分布を示す図。
方向の付着面積比率の面内分布を示す図。
【図4】第1の実施例におけるフッ素系樹脂粒子の円周
方向の付着面積比率の面内分布を示す図。
方向の付着面積比率の面内分布を示す図。
【図5】本発明の第2の実施例を示す全体概略図であ
る。
る。
【図6】第1の実施例および第2の実施例において、磁
気ディスクの保護膜表面にフッ素系樹脂粒子を静電塗布
したとき、静電塗布されたフッ素系樹脂粒子に含まれる
凝集粒子数の比較結果を示す図。
気ディスクの保護膜表面にフッ素系樹脂粒子を静電塗布
したとき、静電塗布されたフッ素系樹脂粒子に含まれる
凝集粒子数の比較結果を示す図。
【図7】本発明の第3の実施例を示す全体概略図であ
る。
る。
【図8】付着面積比率とコンタクト・スタート・ストッ
プ(CSS)を3000回行った後のSCC接線力との
関係を示す図。
プ(CSS)を3000回行った後のSCC接線力との
関係を示す図。
1…磁気ディスク、2…スピンドル、3…チャック、4
…カップ、5a,5b…吹出ノズル、6,6a,6b…
ジェネレータ、7a,7b…吐出ノズル、8…輸送管、
9,9a,9b…タンク、10,10a,10b…印加
ノズル、11a,11b…配線ケーブル、12…高圧電
源、13…モータ、14a,14b…ガスノズル、15
…ファン、16…接地ニードル、17…フィルタ、18
…筐体、19…モータ、20…攪拌器、21a,21b
…トラップ。
…カップ、5a,5b…吹出ノズル、6,6a,6b…
ジェネレータ、7a,7b…吐出ノズル、8…輸送管、
9,9a,9b…タンク、10,10a,10b…印加
ノズル、11a,11b…配線ケーブル、12…高圧電
源、13…モータ、14a,14b…ガスノズル、15
…ファン、16…接地ニードル、17…フィルタ、18
…筐体、19…モータ、20…攪拌器、21a,21b
…トラップ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 屋鋪 博 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者 大浦 正樹 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者 加藤 義喜 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内
Claims (8)
- 【請求項1】磁気ディスクの保護膜表面上に、多数の単
一固体微粒子または単一固体微粒子を主構成とする多数
の固体微粒子を静電塗布し、上記静電塗布された多数の
単一固体微粒子または固体微粒子をマスクとして上記保
護膜をエッチングし、これによって形成された多数の保
護膜の凸部を備えたことを特徴とする磁気ディスク。 - 【請求項2】上記形成された凸部の高さは、上記表面に
保護膜を備えた磁気ディスクのうねりをAnm、さらに
磁気ヘッドの浮上量をBnmとすると、(B−A)nm
以下であり、かつ上記凸部の等価円直径は磁気ヘッドの
ヘッドスライダ幅の1/4以下であることを特徴とする
請求項1記載の磁気ディスク。 - 【請求項3】磁気ディスクの基板上に、多数の単一固体
微粒子または単一固体微粒子を主構成とする多数の固体
微粒子を静電塗布し、上記静電塗布された多数の単一固
体微粒子または固体微粒子をマスクとして上記基板をエ
ッチングし、これによって形成された多数の凸部を基板
上に備えたことを特徴とする磁気ディスク。 - 【請求項4】上記磁気ディスク基板に形成された凸部の
高さは、磁気ディスク基板のうねりをAnm、さらに磁
気ヘッドの浮上量をBnmとすると、(B−A)nm以
下であり、かつ上記凸部の等価円直径は磁気ヘッドのヘ
ッドスライダ幅の1/4以下であることを特徴とする請
求項3記載の磁気ディスク。 - 【請求項5】磁気ディスクの保護膜表面上に、多数の単
一固体微粒子または単一固体微粒子を主構成とする多数
の固体微粒子を静電塗布し、上記静電塗布された多数の
単一固体微粒子または固体微粒子をマスクとして上記保
護膜をエッチングし、これによって多数の保護膜の凸部
が形成されている磁気ディスクを備えたことを特徴とす
る磁気ディスク装置。 - 【請求項6】磁気ディスクの基板上に、多数の単一固体
微粒子または単一固体微粒子を主構成とする多数の固体
微粒子を静電塗布し、上記静電塗布された多数の単一固
体微粒子または固体微粒子をマスクとして上記基板をエ
ッチングし、これによって形成された多数の凸部を基板
上に有する磁気ディスクを備えたことを特徴とする磁気
ディスク装置。 - 【請求項7】固体微粒子群を空間に吹き出し、空間にお
いて前記固体微粒子群を同一極性に帯電し、固体微粒子
間に働く電気的反発力を用いて、多数の単一固体微粒子
からなる固体微粒子群または多数の単一固体微粒子を主
構成とする固体微粒子群を形成し、 さらに表面に保護膜を備えた磁気ディスクを無電位また
は上記極性と反対の極性に帯電し、 上記多数の単一固体微粒子からなる固体微粒子群または
多数の単一固体微粒子を主構成とする上記固体微粒子群
を上記磁気ディスクの保護膜表面に静電付着し、 次
に、上記付着した固体微粒子群を磁気ディスクの保護膜
のエッチングプロセスにおけるマスクとして用い、多数
の保護膜の凸部を形成することを特徴とする磁気ディス
ク製造方法。 - 【請求項8】磁気ディスク基板表面または表面に保護膜
を備えた磁気ディスク上に、多数の固体微粒子を吹出口
から放出する放出手段と、 多数の固体微粒子を上記放出手段に供給する微粒子供給
手段と、 上記放出手段の吹き出し口近傍に設けられ、放出手段か
ら放出された多数の微粒子を同一極性に帯電させる電圧
印加手段と、 上記磁気ディスク基板または表面に保護膜を備えた磁気
ディスクを無電位または上記極性と反対の極性に帯電さ
せる帯電手段とを備え、 上記同一極性に帯電した多数の固体微粒子を、磁気ディ
スク基板表面または表面に保護膜を備えた磁気ディスク
に静電塗布することを特徴とする磁気ディスク製造装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20775897A JPH1069632A (ja) | 1997-08-01 | 1997-08-01 | 磁気ディスク製造方法および装置、磁気ディスク、磁気ディスク装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20775897A JPH1069632A (ja) | 1997-08-01 | 1997-08-01 | 磁気ディスク製造方法および装置、磁気ディスク、磁気ディスク装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4302167A Division JP2717048B2 (ja) | 1992-11-12 | 1992-11-12 | 磁気ディスク製造方法および製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1069632A true JPH1069632A (ja) | 1998-03-10 |
Family
ID=16545068
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20775897A Pending JPH1069632A (ja) | 1997-08-01 | 1997-08-01 | 磁気ディスク製造方法および装置、磁気ディスク、磁気ディスク装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1069632A (ja) |
-
1997
- 1997-08-01 JP JP20775897A patent/JPH1069632A/ja active Pending
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