JPH1074993A - ガスレーザ装置及びそのレーザガス注入方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】レーザガス注入時の塵埃の混入を防止できるガ
スレーザ装置及びそのレーザガス注入方法を提供する。 【解決手段】 レーザガスを封入するレーザチャンバ４
と、レーザ光を透過して外部に出射するウィンドウ２５
と、レーザチャンバ４内のレーザガスを還流させるクロ
スフローファン３９と、レーザチャンバ４内のレーザガ
スを清浄化した後にウィンドウ２５に吹きつけるフィル
タ２９と、レーザガス交換時にレーザガスをレーザチャ
ンバ４内から排気する排気装置と、レーザガスをレーザ
チャンバ４内に注入する注入装置とを有するガスレーザ
装置において、排気後のレーザチャンバ４内のガス圧値
を設定するガス圧設定手段と、レーザチャンバ４内のガ
ス圧値を検出するガス圧検出器５と、この検出したガス
圧値と前記ガス圧設定手段で設定したガス圧値とを比較
して両ガス圧値が略一致するまで前記排気装置を駆動し
てレーザガスを排気した後、クロスフローファン３９を
回転させながら前記注入装置を駆動して、レーザガスを
フィルタ２９を経由させてレーザチャンバ４内に注入す
る制御器１とを備えた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ガスレーザ装置の
レーザガス注入方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ガスレーザ装置は、レーザ光を発振させ
る媒質ガスを封入した容器（以後、レーザチャンバと呼
ぶ）内において、電極間に高電圧パルスで放電させ、こ
の放電エネルギーにより媒質ガス原子を励起させてレー
ザ光を発生させている。ガスレーザ装置の内で、エキシ
マレーザ装置などの放電励起式ガスレーザ装置において
は、媒質ガス（以後、レーザガスと呼ぶ）とレーザチャ
ンバ内部の構成部品との反応や、放電による電極部材の
スパッタリング等によって、様々な物質の塵埃が発生し
てレーザチャンバ内に浮遊する。この浮遊塵埃は、レー
ザ光を透過してレーザチャンバ内部から外部に出射する
ウィンドウに付着するので、レーザ出力を低下させる大
きな要因となっている。特にエキシマレーザ装置では、
レーザガスとしてハロゲンガスを使用しているので、ハ
ロゲン化金属が塵埃中に含まれており、このハロゲン化
金属がウィンドウに付着して腐食させることもある。し
たがって、従来からこの浮遊塵埃の量を低下させる色々
な工夫がなされている。

【０００３】図５及び図６に上記のような浮遊塵埃の量
を低下させる従来技術の一例を示しており、以下、同図
に基づいて説明する。ここでは、ガスレーザ装置として
エキシマレーザ装置の例を示しており、図５はレーザ光
軸に直交するレーザチャンバの断面図を示し、図６はガ
スレーザ装置の側面図を示している。

【０００４】レーザチャンバ４の内部には、レーザガス
を励起するための主放電を行う１対の主放電電極２２
ａ、２２ｂが設けられており、この主放電電極２２ａ、
２２ｂはそれぞれ光軸方向に細長い形状を成している。
一方の主放電電極２２ａはレーザチャンバ４の外周壁に
設けられた絶縁体２１に取着されており、他方の主放電
電極２２ｂは導電性を有する支持部材３３を介してレー
ザチャンバ４の導電性の側壁に支持されている。また、
レーザガスを予備電離させるための１対の予備電離電極
３６ａ、３６ｂが主放電電極２２ａ、２２ｂの主放電空
間の側方に配設されている。予備電離電極３６ｂはレー
ザチャンバ４の導電性の側壁に取着され、また、予備電
離電極３６ａは、絶縁体を介してレーザチャンバ４の側
壁に取着されている給電端子３４に接続されている。さ
らに、主放電電極２２ａは給電端子３５に接続されてい
る。なお、給電端子３５は図示しない放電電源の主放電
電圧出力端子に、給電端子３４は上記放電電源の予備放
電電圧出力端子に接続され、また、レーザチャンバ４の
導電性の側壁（すなわち、主放電電極２２ｂ及び予備電
離電極３６ｂ）は上記放電電源の共通出力端子に接続さ
れている。

【０００５】また、レーザチャンバ４内には、レーザガ
スを循環させるクロスフローファン３９、及び、放電に
よって加熱されたレーザガスを冷却するラジエータ４０
が設けられている。そして、レーザガスはクロスフロー
ファン３９によって矢印２４に沿って主放電電極２２
ａ、２２ｂの間の主放電空間に流れ、ラジエータ４０の
内部を通過して冷却され、クロスフローファン３９に戻
って還流するようになっている。また、レーザチャンバ
４の側壁にはレーザガス供給管路４１が設けられてお
り、レーザガス供給管路４１のガス注入方向はレーザチ
ャンバ４の底面を向いている。そして、レーザガス交換
時には、このレーザガス供給管路４１を経由して、外部
に設けられたレーザガスボンベからレーザガスを注入さ
れるようになっている。

【０００６】さらに、レーザチャンバ４の側方にはフィ
ルタ２９が設けられている。レーザチャンバ４の内部の
レーザガスは管路２６を経由してフィルタ２９に導か
れ、このフィルタ２９から出力されたガスは管路２７及
び管路２８を経由してレーザチャンバ４の内部に戻され
る。このとき、戻されるガスがウィンドウ２５の近傍に
吹きつけられるようにしている。

【０００７】上記のような構成によると、主放電電極２
２ａ、２２ｂ間の主放電２３によってレーザガスが励起
されてレーザ光３０が発振し、レーザ光３０がフロント
側のウィンドウ２５から出射される。レーザ光を発振し
ているとき、クロスフローファン３９によりレーザガス
が主放電空間及びラジエータ４０を矢印２４の方向に還
流する。と同時に、クロスフローファン３９によってレ
ーザガスが管路２６を経由してフィルタ２９に導かれ、
レーザガス中の前記塵埃がフィルタ２９で除去された
後、塵埃の除去されたガスが管路２７、２８を経由して
ウィンドウ２５の近傍に吹きつけられる。このガスはウ
ィンドウ２５に対してエアカーテンとして作用するの
で、レーザチャンバ４内の塵埃がウィンドウ２５に付着
することを防止している。

【０００８】なお、上記よりさらに進んだ他の従来技術
の例として、ウィンドウ２５とレーザチャンバ４内部と
の間の小さな空間にラビリンスのような突起状部材など
を設けたものも提案されている。これは、主放電による
衝撃波が、上記塵埃を含んだレーザガスをウィンドウ２
５の方向に移動させるとき、上記突起状部材の部分でレ
ーザガスが渦を作って上記衝撃波のエネルギーが減衰す
るので、塵埃を含んだレーザガスがウィンドウ２５に到
達する量が減少することを利用している。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】上記のようなガスレー
ザ装置において、レーザガスが劣化して出力が低下して
来たときは、レーザガスを交換する必要がある。しかし
ながら、レーザガス供給管路４１を介してレーザガスを
注入するとき、このレーザガスがレーザチャンバ４の底
面に当たるので、底面に付着している塵埃を吹き上げて
しまう。この結果、塵埃がウィンドウ２５に付着するの
で、レーザガス交換の効果が無くなり、レーザガス交換
後のレーザ出力が低下するという問題が生じている。

【００１０】本発明は、上記の問題点に着目してなされ
たものであり、レーザガス注入時の塵埃のウィンドウ２
５への付着を防止できるガスレーザ装置及びそのレーザ
ガス注入方法を提供することを目的としている。

【００１１】

【課題を解決するための手段、作用及び効果】上記の目
的を達成するために、請求項１に記載の発明は、レーザ
ガスを封入するレーザチャンバ４と、レーザチャンバ４
内で発振されたレーザ光を透過して外部に出射するウィ
ンドウ２５と、レーザチャンバ４内に配設され、かつ、
レーザガスを還流させるクロスフローファン３９と、レ
ーザチャンバ４に付設され、かつ、レーザガスを清浄化
した後にウィンドウ２５に吹きつけるフィルタ２９と、
レーザガス交換時にレーザガスをレーザチャンバ４内か
ら排気する排気装置と、レーザガスをレーザチャンバ４
内に注入する注入装置とを有するガスレーザ装置におい
て、レーザガス排気後のレーザチャンバ４内のガス圧値
を設定するガス圧設定手段と、レーザチャンバ４内のガ
ス圧値を検出するガス圧検出器５と、ガス圧検出器５で
検出したガス圧値と前記ガス圧設定手段で設定したガス
圧値とを比較して両ガス圧値が略一致するまで前記排気
装置を駆動してレーザガスを排気した後、前記クロスフ
ローファン３９を回転させながら前記注入装置を駆動し
て、レーザガスを前記フィルタ２９を経由させてレーザ
チャンバ４内に注入する制御器１とを備えた構成として
いる。

【００１２】また、請求項１０に記載の発明は、クロス
フローファン３９によってレーザチャンバ４内のレーザ
ガスを還流させ、かつ、このレーザガスをフィルタ２９
を経由させて清浄化した後にウィンドウ２５に吹きつけ
ると共に、レーザチャンバ４内で放電させてレーザガス
を励起し、レーザ光を発振させるガスレーザ装置のレー
ザガス交換時のレーザガス注入方法において、レーザガ
ス排気後のレーザチャンバ４内のガス圧値を設定し、こ
のガス圧値までレーザガスを排気した後、新しいレーザ
ガスをレーザチャンバ４内に注入すると共に、前記クロ
スフローファン３９を回転させて上記注入されたレーザ
ガスを前記フィルタ２９を経由させ、この清浄化された
レーザガスをウィンドウに吹きつける方法としている。

【００１３】請求項１、１０に記載の発明によると、レ
ーザガスを排気するときに、レーザチャンバ内を真空状
態にするのではなく、所定のガス圧値に相当する微量の
レーザガスが残るように排気する。この排気の後、新し
いレーザガスをレーザチャンバ内に注入するので、真空
状態のときのように、ガスの流れに乱れが生じることが
なく、レーザチャンバ４の底部に堆積している塵埃が巻
き上がることが少なくなる。さらに、このとき、クロス
フローファンを回転させながらレーザガスを注入するの
で、このレーザガスがフィルタ２９に導かれて塵埃が除
去され、清浄化されたレーザガスがウィンドウに吹きつ
けられる。したがって、ウィンドウが塵埃で汚染される
のが防止される。

【００１４】請求項２に記載の発明は、レーザガスを封
入するレーザチャンバ４と、レーザチャンバ４内で発振
されたレーザ光を透過して外部に出射するウィンドウ２
５と、レーザチャンバ４内に配設され、かつ、レーザガ
スを還流させるクロスフローファン３９と、レーザチャ
ンバ４に付設され、かつ、レーザガスを清浄化した後に
ウィンドウ２５に吹きつけるフィルタ２９と、レーザガ
ス交換時にレーザガスをレーザチャンバ４内から排気す
る排気装置と、レーザガスをレーザチャンバ４内に注入
する注入装置とを有するガスレーザ装置において、レー
ザガス排気後のレーザチャンバ４内のガス圧値を設定す
るガス圧設定手段と、レーザチャンバ４内のガス圧値を
検出するガス圧検出器５と、ガス圧検出器５で検出した
ガス圧値と前記ガス圧設定手段で設定したガス圧値とを
比較して両ガス圧値が略一致するまで前記排気装置を駆
動してレーザガスを排気した後、前記クロスフローファ
ン３９を回転させながら前記注入装置を駆動して、希ガ
ス、ハロゲンガス、希ガスの順に各レーザガスをそれぞ
れガス圧検出器５で検出したガス圧値が所定値に略一致
するまで前記フィルタ２９を経由させてレーザチャンバ
４内に注入する制御器１とを備えた構成としている。

【００１５】また、請求項１１に記載の発明は、クロス
フローファン３９によってレーザチャンバ４内のレーザ
ガスを還流させ、かつ、このレーザガスをフィルタ２９
を経由させて清浄化した後にウィンドウ２５に吹きつけ
ると共に、レーザチャンバ４内で放電させてレーザガス
を励起し、レーザ光を発振させるガスレーザ装置のレー
ザガス交換時のレーザガス注入方法において、レーザガ
ス排気後のレーザチャンバ４内のガス圧値を設定し、こ
のガス圧値までレーザガスを排気した後、新しいレーザ
ガスを希ガス、ハロゲンガス、希ガスの順にレーザチャ
ンバ４内にそれぞれ所定圧まで注入すると共に、前記ク
ロスフローファン３９を回転させて上記レーザガスを前
記フィルタ２９を経由させ、この清浄化されたレーザガ
スをウィンドウに吹きつける方法としている。

【００１６】請求項２、１１に記載の発明によると、レ
ーザガスの排気のときは、レーザチャンバ内を真空状態
にするのではなく、所定のガス圧値に相当する微量のレ
ーザガスが残るように排気する。この排気の後、新しい
レーザガスをレーザチャンバ内に注入するので、真空状
態のときのように、ガスの流れに乱れが生じることがな
く、レーザチャンバ４の底部に堆積している塵埃が巻き
上がることが少なくなる。そして、このレーザガスの注
入順序として、まず希ガスをある程度大きな所定圧まで
注入し、次に微量のハロゲンガスを所定圧まで、そして
最後に再び希ガスを所定圧まで注入している。よって、
注入初期に希ガスがある程度の大きなガス圧を示すまで
注入されているので、次にハロゲンガスを注入するとき
は、ガス圧検出器等で精度良くガス圧を検出可能とな
り、微量のハロゲンガスのガス分圧が正確に検出され
る。さらに、このとき、クロスフローファンを回転させ
ながら上記レーザガスを注入するので、このレーザガス
がフィルタ２９に導かれて塵埃が除去され、清浄化され
たレーザガスがウィンドウに吹きつけられる。したがっ
て、ウィンドウが塵埃で汚染されるのが防止される。

【００１７】請求項３に記載の発明は、請求項１又は２
に記載のガスレーザ装置において、前記制御器１は、レ
ーザガスを注入する初期の所定時間にのみ前記クロスフ
ローファン３９を回転させ、上記レーザガスを前記フィ
ルタ２９を経由させてレーザチャンバ４内に注入するよ
うにしている。

【００１８】また、請求項１２に記載の発明は、請求項
１０又は１１に記載のレーザガス注入方法において、レ
ーザガスを注入する初期の所定時間にのみ前記クロスフ
ローファン３９を回転させ、上記レーザガスを前記フィ
ルタ２９を経由させてレーザチャンバ４内に注入する方
法としている。

【００１９】請求項３、１２に記載の発明によると、レ
ーザガスの排気直後はレーザチャンバ内のレーザガスが
微量となるので、新しいレーザガスを注入する際に、こ
のガスの流れに乱れが発生する可能性がある。このガス
流の乱れによって、レーザチャンバの底部に堆積してい
る塵埃が巻き上がることになる。したがって、レーザガ
スの注入初期の、上記のガス流の乱れが無くなるまでの
所定時間にのみ、クロスフローファンを回転させ、注入
するレーザガスがフィルタ２９を経由するようにする。
これによって、上記塵埃がフィルタ２９により除去さ
れ、清浄化されたレーザガスがウィンドウに対してエア
カーテンとして作用するので、ウィンドウが塵埃で汚染
されるのが防止される。

【００２０】請求項４に記載の発明は、請求項１又は２
に記載のガスレーザ装置において、前記制御器１は、レ
ーザガスを注入する初期で、かつ、レーザチャンバ４内
のガス圧が所定ガス圧値に達するまでの間のみ前記クロ
スフローファン３９を回転させ、上記レーザガスを前記
フィルタ２９を経由させてレーザチャンバ４内に注入す
るようにしている。

【００２１】また、請求項１３に記載の発明は、請求項
１０又は１１に記載のレーザガス注入方法において、レ
ーザガスを注入する初期で、かつ、レーザチャンバ４内
のガス圧が所定ガス圧値に達するまでの間のみ前記クロ
スフローファン３９を回転させ、上記レーザガスを前記
フィルタ２９を経由させてレーザチャンバ４内に注入す
る方法としている。

【００２２】請求項４、１３に記載の発明によると、レ
ーザガスの排気直後はレーザチャンバ内のレーザガスが
微量となるので、新しいレーザガスを注入する際に、こ
のガスの流れに乱れが発生する可能性がある。このガス
流の乱れによって、レーザチャンバの底部に堆積してい
る塵埃が巻き上がることになる。したがって、レーザガ
スの注入初期で、かつ、レーザチャンバ内に所定量のレ
ーザガスが注入されるまでの間、すなわち、ガス圧が所
定値に達して上記のガス流の乱れが無くなるまでの間の
み、クロスフローファンを回転させ、注入するレーザガ
スがフィルタ２９を経由するようにする。これによっ
て、上記塵埃がフィルタ２９により除去され、清浄化さ
れたレーザガスがウィンドウに対してエアカーテンとし
て作用するので、ウィンドウが塵埃で汚染されるのが防
止される。

【００２３】請求項５に記載の発明は、請求項２に記載
のガスレーザ装置において、前記制御器１は、最初の希
ガスを注入するときにのみ前記クロスフローファン３９
を回転させ、上記レーザガスを前記フィルタ２９を経由
させてレーザチャンバ４内に注入するようにしている。

【００２４】また、請求項１４に記載の発明は、請求項
１１に記載のレーザガス注入方法において、最初の希ガ
スを注入するときにのみ前記クロスフローファン３９を
回転させ、上記希ガスを前記フィルタ２９を経由させて
レーザチャンバ４内に注入する方法としている。

【００２５】請求項５、１４に記載の発明によると、レ
ーザガスの排気直後はレーザチャンバ内のレーザガスが
微量となるので、新しいレーザガスを注入する際に、こ
のガスの流れに乱れが発生する可能性がある。このガス
流の乱れによって、レーザチャンバの底部に堆積してい
る塵埃が巻き上がることになる。したがって、レーザガ
スの内、最初の希ガスを注入するときにのみ、クロスフ
ローファンを回転させ、注入する希ガスがフィルタ２９
を経由するようにする。これによって、上記塵埃がフィ
ルタ２９により除去され、清浄化された希ガスがウィン
ドウに対してエアカーテンとして作用するので、ウィン
ドウが塵埃で汚染されるのが防止される。また、レーザ
チャンバ内に所定量の希ガスが注入されると、上記のガ
ス流の乱れが無くなり、上記のように塵埃が巻き上がる
ことが無くなるので、ウィンドウが塵埃で汚染されなく
なる。

【００２６】請求項６に記載の発明は、請求項１〜５の
いずれか一つに記載のガスレーザ装置において、前記レ
ーザチャンバ４内にレーザガスが注入される方向は、レ
ーザチャンバ４の底面以外を向いている。

【００２７】請求項６に記載の発明によると、レーザチ
ャンバ内にレーザガスが注入される向がレーザチャンバ
の底面以外を向いているので、レーザガスが直接底面に
吹きつけられることがなく、底部に堆積している塵埃を
巻き上げる可能性が小さくなる。よって、レーザガス注
入時に塵埃がレーザガスに混入することが少なくなる。

【００２８】請求項７に記載の発明は、請求項１〜５の
いずれか一つに記載のガスレーザ装置において、前記レ
ーザチャンバ４内にレーザガスが注入されるガス注入口
は、レーザチャンバ４内の上部に設けられている。

【００２９】請求項７に記載の発明によると、レーザチ
ャンバ内にレーザガスが注入されるガス注入口がレーザ
チャンバ４内の上部に設けられているので、レーザガス
が直接底面に吹きつけられることがなく、底部に堆積し
ている塵埃を巻き上げる可能性が小さくなる。よって、
レーザガス注入時に塵埃がレーザガスに混入することが
少なくなる。

【００３０】請求項８に記載の発明は、請求項１〜５の
いずれか一つに記載のガスレーザ装置において、前記レ
ーザチャンバ４内にレーザガスが注入されるガス注入口
は、前記クロスフローファン３９によるガス流での前記
フィルタ２９の下流側と前記ウィンドウ２５との間に設
けられている。

【００３１】請求項８に記載の発明によると、レーザチ
ャンバ内にレーザガスが注入されるガス注入口が、クロ
スフローファンによるガス流のフィルタ２９の下流と、
ウィンドウとの間に設けられているので、新しく注入さ
れた清浄なレーザガスが上記ガス流に沿ってウィンドウ
に吹きつけられる。したがって、ウィンドウが塵埃に汚
染されることが無くなる。

【００３２】請求項９に記載の発明は、請求項１〜５の
いずれか一つに記載のガスレーザ装置において、前記レ
ーザチャンバ４内からレーザガスを排気するガス排気口
は、前記ウィンドウ２５と前記フィルタ２９の入口との
間に設けられている。

【００３３】請求項９に記載の発明によると、レーザチ
ャンバ内からレーザガスを排気するガス排気口は、ウィ
ンドウとフィルタ２９の入口との間に設けられているの
で、レーザガスの排気の時に、ウィンドウからレーザチ
ャンバ内に向かってレーザガスの流れが発生する。よっ
て、レーザチャンバ内の塵埃がウィンドウの方に移動す
ることが無くなり、ウィンドウが塵埃に汚染されなくな
る。

【００３４】請求項１５に記載の発明は、レーザガスを
封入したレーザチャンバ４の内部で放電させてレーザガ
スを励起し、レーザ光を発振させるガスレーザ装置のレ
ーザガス交換時のレーザガス注入方法において、レーザ
チャンバ４内のレーザガスを排気した後、レーザガスを
レーザチャンバ４内に注入する際に、注入初期の所定時
間はレーザガス流量を所定値に制限し、上記所定時間が
経過した後は上記レーザガス流量をこの制限値より増加
させて注入する方法としている。

【００３５】請求項１５に記載の発明によると、レーザ
ガスの排気直後はレーザチャンバ内のレーザガスが微量
となるので、新しいレーザガスを注入する際に、このガ
スの流れに乱れが発生する可能性がある。このガス流の
乱れによって、レーザチャンバの底部に堆積している塵
埃が巻き上がることになる。したがって、レーザガスの
注入初期の、上記のガス流の乱れが無くなるまでの所定
時間にのみ、レーザガスの流量を所定値に制限して、注
入するレーザガスの流速を制限する。これによって、上
記塵埃を巻き上げることが無くなり、ウィンドウが塵埃
で汚染されるのが防止される。

【００３６】請求項１６に記載の発明は、レーザガスを
封入したレーザチャンバ４の内部で放電させてレーザガ
スを励起し、レーザ光を発振させるガスレーザ装置のレ
ーザガス交換時のレーザガス注入方法において、レーザ
チャンバ４内のレーザガスを排気した後、レーザガスを
レーザチャンバ４内に注入する際に、注入初期で、か
つ、ガス圧が所定圧力値に達するまでの間レーザガス流
量を所定値に制限し、ガス圧が上記所定圧力値に達した
後は上記レーザガス流量を増加させて注入する方法とし
ている。

【００３７】請求項１６に記載の発明によると、レーザ
ガスの排気直後はレーザチャンバ内のレーザガスが微量
となるので、新しいレーザガスを注入する際に、このガ
スの流れに乱れが発生する可能性がある。このガス流の
乱れによって、レーザチャンバの底部に堆積している塵
埃が巻き上がることになる。したがって、レーザガスの
注入初期で、レーザガスの注入量が所定量以上になるま
での間、すなわち、ガス圧が所定値以上になって上記の
ガス流の乱れが無くなるまでの間、レーザガスの流量を
所定値に制限して、注入するレーザガスの流速を制限す
る。これによって、上記塵埃を巻き上げることが無くな
り、ウィンドウが塵埃で汚染されるのが防止される。

【００３８】請求項１７に記載の発明は、請求項１５又
は１６に記載のレーザガス注入方法において、前記レー
ザチャンバ４内のレーザガスを排気するときは、レーザ
ガス排気後のレーザチャンバ４内のガス圧値を設定し、
このガス圧値までレーザガスを排気する方法としてい
る。

【００３９】請求項１７に記載の発明によると、レーザ
ガスを排気するときに、所定量のレーザガスが残るよう
に、予め設定した所定のガス圧値まで排気する。残った
微量のレーザガスによってガス流の乱れがなくなり、よ
って、注入するレーザガスで塵埃が巻き上がることが無
くなる。したがって、レーザガスの注入時にガス流量を
制限して流速を小さくすることにより、さらに塵埃が巻
き上がる可能性が小さくなり、ウィンドウが塵埃で汚染
されるのが防止される。

【００４０】

【発明の実施の形態】以下に、本発明に係わるガスレー
ザ装置及びそのレーザガス注入方法の実施形態を図面を
参照しながら説明する。図１は、本発明に係わるガスレ
ーザ装置のレーザチャンバの断面図である。ここでも、
ガスレーザ装置としてエキシマレーザ装置を例にして説
明し、従来技術において説明した図５の構成と同じ部品
には同一の符号を付している。レーザチャンバ４の側方
にはフィルタ２９が設けられていて、レーザチャンバ４
の内部とフィルタ２９のガス入口とは管路２６を経由し
て連通している。また、フィルタ２９のガス出口は管路
２７、２８を経由して、前述同様にウィンドウ２５の近
傍に連通している。（図６を参照）上記管路２６のレー
ザチャンバ４側の入口は、クロスフローファン３９の回
転によるガス還流路がクロスフローファン３９から主放
電電極２２ａ、２２ｂに至る中間の位置に設けられる方
が望ましい。クロスフローファン３９が回転すると、レ
ーザチャンバ４内のレーザガスが管路２６を経由してフ
ィルタ２９に導かれ、清浄化されたレーザガスがウィン
ドウ２５に吹きつけられてレーザチャンバ４内に戻され
るようになっている。

【００４１】また、レーザチャンバ４には外部のレーザ
ガス供給手段（例えば、ガスボンベ等）からレーザガス
を注入するための管路が接続されている。この管路は、
例えば図示の管路４２、４３、４４のように、レーザチ
ャンバ４側のガス出口が底面近傍以外、すなわち、レー
ザチャンバ４の上部に位置し、かつ、レーザガスの注入
方向が底面以外を向くように設けられている。また、管
路４４で示すように、レーザガスの注入方向をレーザチ
ャンバ４内部からフィルタ２９の方に向けることによっ
て、レーザガス注入時にフィルタ２９を経由する方向の
ガスの流れが生成される。なお、これらの管路４２、４
３、４４は、外部に設けられた図示しないバルブ等によ
って選択可能としている。また、これらの管路４２、４
３、４４を経由して、レーザチャンバ４内のレーザガス
を排気できるように、排気装置が接続されている。

【００４２】図２は、本発明に係わるレーザガス注入方
法を説明するためのガスレーザ装置構成ブロック図を示
している。エキシマレーザ装置においては、レーザガス
としてハロゲンガスと希ガスの混合ガスが使用される
が、本実施形態ではフッ素ガス、クリプトンガス及びネ
オンガスの使用例を示している。レーザ発振時間の経過
に伴って、このレーザガス中に含まれる不純物の量が多
くなったり、ハロゲンガス濃度が低下したりして、レー
ザガスが次第に劣化するので、所定の状態に至ったとき
はレーザガスを交換する必要がある。このために、レー
ザチャンバ４には、上記の劣化したレーザガスを排気す
るための排気装置が接続されており、本実施形態ではこ
の排気装置の一例として、バルブ１９及びトラップ１８
を介して真空ポンプ２０が接続されている。真空ポンプ
２０の内部には、ハロゲンガス除去用の活性炭が含まれ
たフィルタ等が装着されている。また、トラップ１８は
エキシマレーザ装置の場合に必要とするものであり、排
気されるレーザガス中のハロゲンガスを吸着する。これ
によって、人体に有害であり、また真空ポンプ２０の上
記フィルタに温度異常上昇等の弊害を及ぼすハロゲンガ
スが除去された後に排気される。

【００４３】そして、レーザチャンバ４内に各レーザガ
スを注入する注入装置が接続されている。すなわち、レ
ーザチャンバ４に、バルブ１１を介してフッ素とネオン
の混合ガスボンベ８が、バルブ１２を介してクリプトン
ガスボンベ９が、バルブ１３を介してネオンガスボンベ
１０が接続されている。上記の各バルブ１１、１２、１
３、１９とレーザチャンバ４との間のガス管路は、それ
ぞれ別個に設けてもよいし、また共通に設けてもよい。
また、レーザチャンバ４には、内部のガス圧を検出する
ガス圧検出器５が設けられている。各バルブ１１、１
２、１３、１９は電磁弁、あるいは電磁弁を介したエア
駆動バルブ等で構成されている。そして、これらの各バ
ルブの駆動指令、真空ポンプ２０の駆動指令は制御器１
から出力されており、また、ガス圧検出器５の検出信号
は制御器１に接続されている。

【００４４】制御器１は例えばマイクロコンピュータを
主体にしたコンピュータシステムで構成されている。制
御器１には、上記信号の他に、図示しないモニタ装置か
らレーザ出力パワーやレーザ特性をモニタするためのモ
ニタ信号が入力されたり、図示しない外部の他装置から
ガス交換指令等の指令信号が入力される。制御器１は上
記外部装置から上記ガス交換指令を入力したときに、ガ
ス圧検出器５の検出信号に基づいて、上記各バルブ及び
真空ポンプ２０の駆動を制御し、レーザガスの交換を開
始する。また、ガス圧設定器２はレーザガスの排気後の
レーザチャンバ４内部のガス圧値を設定するものであ
り、例えばテンキーや設定用スイッチ等で設定値を入力
してもよい。この設定値データは、制御器１に入力され
ている。なお、ガス圧設定手段として、上記外部装置等
の内部に予め設定されている設定値データを通信等によ
って入力してもよい。

【００４５】図３は本実施形態に係わるレーザガス注入
方法を表す制御フローチャートの例を示しており、具体
的には上記の制御器１によって処理される。ここでは、
各ステップ番号にＳを付して示している。Ｓ１で、ガス
圧設定器２から入力される設定値データにより、排気後
のレーザチャンバ４内のガス圧Ｐr を設定し、次にＳ２
で、ガス圧検出器５で検出したレーザチャンバ４内のガ
ス圧Ｐc を読み込む。そして、Ｓ３で、このガス圧Ｐc
と設定されたガス圧Ｐr とを比較し、ガス圧Ｐc がガス
圧Ｐr より大きいか否かを判断する。この判断の結果で
大きいときは、Ｓ４で真空ポンプ２０を駆動し、バルブ
１９を開いてレーザガスの排気を継続し、次にＳ２に戻
って処理を繰り返す。また、Ｓ３の判断で大きくないと
き、すなわち、ガス圧Ｐc がガス圧Ｐr 以下になったと
きは、Ｓ５において、真空ポンプ２０を停止し、かつ、
バルブ１９を閉じて排気を停止した後、クロスフローフ
ァン３９を回転させる。次に、Ｓ６で新しいレーザガス
を注入する。ここで、各バルブ１１、１２、１３は所定
の開度に制御され、混合ガスボンベ８、クリプトンガス
ボンベ９及びネオンガスボンベ１０からの各ガス流量が
所定値に調整される。

【００４６】そして、Ｓ７でガス圧検出器５で検出した
ガス圧Ｐc を読み込み、このガス圧Ｐc が所定圧力値以
上になったか否かを判断し、所定圧力値より小さい間は
Ｓ６に戻ってレーザガスの注入を継続する。ガス圧Ｐc
が所定圧力値以上になったときは、Ｓ８で、バルブ１
１、１２、１３を閉じると共に、クロスフローファン３
９の回転を停止させ、レーザガスの注入を終了する。

【００４７】レーザガスの注入方法において、レーザガ
スを排気するときに、レーザチャンバ４の内部が略真空
になるまで排気した場合は、新しいレーザガスを注入し
始めるときにレーザチャンバ４の底部に堆積している塵
埃を巻き上げてしまう。そして、この塵埃を含むレーザ
ガスがほとんど抵抗を受けることなくウィンドウ２５の
方向へも移動するので、ウィンドウ２５が塵埃によって
汚染される可能性がある。したがって、本実施形態のレ
ーザガス注入方法においては、上述のＳ３及びＳ４で示
すように、レーザガスを排気するときに、設定されたガ
ス圧Ｐr に相当する微量のレーザガスをレーザチャンバ
４内部に残しておき、次いでＳ５及びＳ６で、クロスフ
ローファン３９を回転させながら新しいレーザガスを注
入している。クロスフローファン３９の回転により、上
記の残っている微量のレーザガスによるガスの流れが生
じ、新しいレーザガスが注入されたときに、このレーザ
ガスが管路２６に導かれてフィルタ２９を経由してレー
ザチャンバ４内に注入されることになる。この結果、レ
ーザガスの注入初期の段階から、フィルタ２９により清
浄化されたレーザガスがウィンドウ２５の表面に吹きつ
けられるので、このレーザガスがエアカーテンとして作
用してウィンドウ２５が塵埃によって汚染されるのが防
止される。また、レーザチャンバ４内に微量のレーザガ
スを残すので、新しいレーザガスの注入初期でもガスの
流れに乱れが発生し難くなり、堆積している塵埃が巻き
上げられる可能性が小さくなる。

【００４８】そして、Ｓ７で示したように、新しいレー
ザガスのガス圧が所定の必要なガス圧値に達するまで、
クロスフローファン３９を回転させている。ここで、ク
ロスフローファン３９を回転させる時間は、本実施形態
に限定されない。すなわち、レーザガスを注入する初期
で、かつ、注入したレーザガスが所定量に達して上記の
ガス流の乱れが発生しなくなるまで、すなわち、レーザ
ガスのガス圧が上記所定量に対応した所定ガス圧値に達
するまでの時間のみ、クロスフローファン３９を回転さ
せてもよい。さらに、また、レーザガスの注入開始時か
ら上記の所定ガス圧値に達するまでの、初期の所定時間
にのみ、クロスフローファン３９を回転させるようにし
てもよい。

【００４９】また、レーザガスを注入するとき、管路４
２、４３、４４のいずれか一つを選択してレーザチャン
バ４内に注入する。管路４２、４３、４４のガス注入口
はレーザチャンバ４の上部に位置しており、また、その
ガス注入方向は底面以外を向いているので、レーザチャ
ンバ４の底部に堆積している塵埃を巻き上げる可能性が
小さくなる。この結果、レーザガスの注入初期に、塵埃
が巻き上がるのを防止できる。さらに、管路４４によっ
てレーザガスを注入する場合は、レーザチャンバ４内部
からフィルタ２９の方向にガスの流れが発生するので、
フィルタ２９によって清浄化されたレーザガスをウィン
ドウ２５に導くことが可能となる。したがって、上記同
様に、ウィンドウ２５が塵埃により汚染されるのを防止
できるので、レーザ出力特性の低下が少なくなる。

【００５０】なお、レーザガスが注入されるガス注入口
は、クロスフローファン３９によるガス流でのフィルタ
２９の下流側とウィンドウ２５との間に設けてもよい。
この場合には、塵埃を含まない新しいレーザガスがウィ
ンドウ２５の方に流れるので、ウィンドウ２５が塵埃に
より汚染されるのを防止できる。また、このとき、レー
ザチャンバ４内からレーザガスを排気するガス排気口
は、上記のガス注入口と別個に、ウィンドウ２５とフィ
ルタ２９の入口側との間に設けた方がよい。これによっ
て、排気時に、ウィンドウ２５からレーザチャンバ４内
の方向にレーザガスの流れが発生するので、レーザガス
に含まれる塵埃がウィンドウ２５に付着する可能性が小
さくなる。

【００５１】次に、第２の実施形態に係わるレーザガス
の注入方法を説明する。本実施形態でのガスレーザ装置
の構成は前実施形態で説明した図１及び図２と同様であ
り、ここでの説明を省く。

【００５２】図４は本実施形態に係わるレーザガス注入
方法を表す制御フローチャートの例を示しており、前述
と同様に制御器１によって処理される。Ｓ１１で、ガス
圧設定器２から入力される設定値データにより、排気後
のレーザチャンバ４内のガス圧Ｐr を設定し、次にＳ１
２で、ガス圧検出器５で検出したレーザチャンバ４内の
ガス圧Ｐc を読み込む。そして、Ｓ１３で、このガス圧
Ｐc と設定されたガス圧Ｐr とを比較し、ガス圧Ｐc が
ガス圧Ｐr より大きいか否かを判断する。この判断の結
果で大きいときは、Ｓ１４で真空ポンプ２０を駆動し、
バルブ１９を開いてレーザガスの排気を継続し、次にＳ
１２に戻って処理を繰り返す。また、Ｓ１３の判断で大
きくないとき、すなわち、ガス圧Ｐc がガス圧Ｐr 以下
になったときは、Ｓ１５において、真空ポンプ２０を停
止し、かつ、バルブ１９を閉じて排気を停止した後、ク
ロスフローファン３９を回転させる。次に、Ｓ１６で、
バルブ１２、１３を所定開度に開け、クリプトンガスボ
ンベ９及びネオンガスボンベ１０からの各ガス流量を所
定値に調整して、新しいクリプトンガス及びネオンガス
を注入する。そして、Ｓ１７で、ガス圧検出器５からレ
ーザチャンバ４内のガス圧Ｐc を読み込み、このガス圧
Ｐc が所定圧力値Ｐ1以上になったか否かを判断し、所
定圧力値Ｐ1 より小さい間はＳ１６に戻って新しいクリ
プトンガス及びネオンガスの注入を継続する。また、ガ
ス圧Ｐc が所定圧力値Ｐ1 以上になったときは、Ｓ１８
に進む。

【００５３】Ｓ１８では、バルブ１２、１３を閉じてク
リプトンガス及びネオンガスの注入を停止すると共に、
クロスフローファン３９の回転を停止させる。次にＳ１
９で、バルブ１１を所定開度に開けてフッ素とネオンの
混合ガスボンベ８からのガス流量を所定値に調整し、新
しいフッ素の混合ガスを注入する。そして、Ｓ２０で、
ガス圧検出器５からレーザチャンバ４内のガス圧Ｐc を
読み込み、このガス圧Ｐc が所定圧力値Ｐ2 （ただし、
Ｐ2 ＞Ｐ1 ）以上になったか否かを判断し、所定圧力値
Ｐ2 より小さい間はＳ１９に戻ってフッ素の混合ガスの
注入を継続する。また、ガス圧Ｐc が所定圧力値Ｐ2 以
上になったときは、Ｓ２１で、バルブ１１を閉じてフッ
素の混合ガスの注入を停止する。次にＳ２２で、バルブ
１２、１３を所定開度に開け、新しいクリプトンガス及
びネオンガスを注入する。そして、Ｓ２３で、ガス圧検
出器５からレーザチャンバ４内のガス圧Ｐc を読み込
み、このガス圧Ｐc が所定圧力値Ｐ3 （ただし、Ｐ3 ＞
Ｐ2 ）以上になったか否かを判断し、所定圧力値Ｐ3 よ
り小さい間はＳ２２に戻って新しいクリプトンガス及び
ネオンガスの注入を継続する。また、ガス圧Ｐc が所定
圧力値Ｐ3 以上になったときは、Ｓ２４で、バルブ１
２、１３を閉じてクリプトンガス及びネオンガスの注入
を終了する。

【００５４】上記のフローチャートにおいて、レーザガ
スを排気するときは、前実施形態と同様に、設定された
ガス圧Ｐr に相当する微量のレーザガスをレーザチャン
バ４内部に残しておき、次いでクロスフローファン３９
を回転させながら新しいクリプトンガス及びネオンガス
を所定量注入している。したがって、新しいレーザガス
の注入初期でも、堆積している塵埃を巻き上げることが
少なくなり、またフィルタ２９を経由して注入されたレ
ーザガスが塵埃によるウィンドウ２５の汚染を防止する
ことができる。また、フッ素ガスの混合ガスを注入する
ときは、クロスフローファン３９を停止させているが、
これは、クロスフローファン３９によるガスの流れがフ
ッ素ガスの注入時のガス圧検出においてノイズとなるの
を防止するためである。これによって、レーザガス内の
他の希ガス（クリプトンガス及びネオンガス）より微量
なフッ素ガスの分圧を正確に検出できるので、エキシマ
レーザ装置のレーザ発振特性が非常に良くなる。また、
フッ素ガスの混合ガスを注入した後、最後の希ガスを注
入するときにはクロスフローファン３９の回転を停止さ
せているが、これは、既にレーザチャンバ４内に所定量
のレーザガスが注入されているので、注入ガスによって
塵埃を巻き上げる可能性が少ないからである。なお、こ
のとき、クロスフローファン３９を回転させながら最後
の希ガスを注入してもよい。

【００５５】なお、排気後のレーザガスの注入方法とし
て、注入初期で、かつ、ガス圧が所定圧力値に達するま
での間レーザガス流量を所定値に制限し、ガス圧が上記
所定圧力値に達した後は上記レーザガス流量をこの制限
値より増加させて注入してもよい。また、同様に、注入
初期の所定時間の間、すなわち、上記所定圧力値に達す
るまでの所定時間の間は、レーザガス流量を所定値に制
限し、この所定時間経過後は上記レーザガス流量をこの
制限値より増加させてもよい。この場合に、レーザガス
流量を制限する手段として、例えば質量流量制御弁（マ
スフローコントロール弁）やオリフィス、フィルタ等を
クリプトンガスボンベ９及びネオンガスボンベ１０の出
口に設けてもよい。このようにレーザガス流量を制御す
ることによって、注入初期はガス流速を遅くできるので
塵埃を巻き上げる可能性が少なくなる。また、所定量の
レーザガスが注入された後はガス流の乱れが無くなるの
で、レーザガス流量を増加させることができる。そし
て、この場合も、レーザガス排気時に微量のレーザガス
を残しておくと、レーザガス注入時にガス流の乱れが無
いので、塵埃の巻き上げを少なくする効果が大きくなる
ことは言うまでも無い。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係わるガスレーザ装置のレーザチャン
バの断面図を示す。

【図２】本発明に係わるガスレーザ装置の構成ブロック
図を示す。

【図３】本発明の第１実施形態のレーザガス注入方法を
表す制御フローチャートの例を示す。

【図４】本発明の第２実施形態のレーザガス注入方法を
表す制御フローチャートの例を示す。

【図５】従来技術に係わるガスレーザ装置のレーザチャ
ンバの断面図を示す。

【図６】従来技術に係わるガスレーザ装置の側面図を示
す。

【符号の説明】

１…制御器、２…ガス圧設定器、４…レーザチャンバ、
５…ガス圧検出器、８…混合ガスボンベ、９…クリプト
ンガスボンベ、１０…ネオンガスボンベ、１１、１２、
１３、１９…バルブ、１８…トラップ、２０…真空ポン
プ、２１…絶縁体、２２ａ、２２ｂ…主放電電極、２３
…主放電、２４…矢印、２５…ウィンドウ、２６、２
７、２８、４２、４３、４４…管路、２９…フィルタ、
３０…レーザ光、３３…支持部材、３４、３５…給電端
子、３６ａ、３６ｂ…予備電離電極、３９…クロスフロ
ーファン、４０…ラジエータ、４１…レーザガス供給管
路。

Claims (17)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レーザガスを封入するレーザチャンバ４
   と、レーザチャンバ４内で発振されたレーザ光を透過し
   て外部に出射するウィンドウ２５と、レーザチャンバ４
   内に配設され、かつ、レーザガスを還流させるクロスフ
   ローファン３９と、レーザチャンバ４に付設され、か
   つ、レーザガスを清浄化した後にウィンドウ２５に吹き
   つけるフィルタ２９と、レーザガス交換時にレーザガス
   をレーザチャンバ４内から排気する排気装置と、レーザ
   ガスをレーザチャンバ４内に注入する注入装置とを有す
   るガスレーザ装置において、 レーザガス排気後のレーザチャンバ４内のガス圧値を設
   定するガス圧設定手段と、 レーザチャンバ４内のガス圧値を検出するガス圧検出器
   ５と、 ガス圧検出器５で検出したガス圧値と前記ガス圧設定手
   段で設定したガス圧値とを比較して両ガス圧値が略一致
   するまで前記排気装置を駆動してレーザガスを排気した
   後、前記クロスフローファン３９を回転させながら前記
   注入装置を駆動して、レーザガスを前記フィルタ２９を
   経由させてレーザチャンバ４内に注入する制御器１とを
   備えたことを特徴とするガスレーザ装置。
2. 【請求項２】 レーザガスを封入するレーザチャンバ４
   と、レーザチャンバ４内で発振されたレーザ光を透過し
   て外部に出射するウィンドウ２５と、レーザチャンバ４
   内に配設され、かつ、レーザガスを還流させるクロスフ
   ローファン３９と、レーザチャンバ４に付設され、か
   つ、レーザガスを清浄化した後にウィンドウ２５に吹き
   つけるフィルタ２９と、レーザガス交換時にレーザガス
   をレーザチャンバ４内から排気する排気装置と、レーザ
   ガスをレーザチャンバ４内に注入する注入装置とを有す
   るガスレーザ装置において、 レーザガス排気後のレーザチャンバ４内のガス圧値を設
   定するガス圧設定手段と、 レーザチャンバ４内のガス圧値を検出するガス圧検出器
   ５と、 ガス圧検出器５で検出したガス圧値と前記ガス圧設定手
   段で設定したガス圧値とを比較して両ガス圧値が略一致
   するまで前記排気装置を駆動してレーザガスを排気した
   後、前記クロスフローファン３９を回転させながら前記
   注入装置を駆動して、希ガス、ハロゲンガス、希ガスの
   順に各レーザガスをそれぞれガス圧検出器５で検出した
   ガス圧値が所定値に略一致するまで前記フィルタ２９を
   経由させてレーザチャンバ４内に注入する制御器１とを
   備えたことを特徴とするガスレーザ装置。
3. 【請求項３】 請求項１又は２に記載のガスレーザ装置
   において、 前記制御器１は、レーザガスを注入する初期の所定時間
   にのみ前記クロスフローファン３９を回転させ、上記レ
   ーザガスを前記フィルタ２９を経由させてレーザチャン
   バ４内に注入することを特徴とするガスレーザ装置。
4. 【請求項４】 請求項１又は２に記載のガスレーザ装置
   において、 前記制御器１は、レーザガスを注入する初期で、かつ、
   レーザチャンバ４内のガス圧が所定ガス圧値に達するま
   での間のみ前記クロスフローファン３９を回転させ、上
   記レーザガスを前記フィルタ２９を経由させてレーザチ
   ャンバ４内に注入することを特徴とするガスレーザ装
   置。
5. 【請求項５】 請求項２に記載のガスレーザ装置におい
   て、 前記制御器１は、最初の希ガスを注入するときにのみ前
   記クロスフローファン３９を回転させ、上記レーザガス
   を前記フィルタ２９を経由させてレーザチャンバ４内に
   注入することを特徴とするガスレーザ装置。
6. 【請求項６】 請求項１〜５のいずれか一つに記載のガ
   スレーザ装置において、 前記レーザチャンバ４内にレーザガスが注入される方向
   は、レーザチャンバ４の底面以外を向いていることを特
   徴とするガスレーザ装置。
7. 【請求項７】 請求項１〜５のいずれか一つに記載のガ
   スレーザ装置において、 前記レーザチャンバ４内にレーザガスが注入されるガス
   注入口は、レーザチャンバ４内の上部に設けられたこと
   を特徴とするガスレーザ装置。
8. 【請求項８】 請求項１〜５のいずれか一つに記載のガ
   スレーザ装置において、 前記レーザチャンバ４内にレーザガスが注入されるガス
   注入口は、前記クロスフローファン３９によるガス流で
   の前記フィルタ２９の下流側と前記ウィンドウ２５との
   間に設けられたことを特徴とするガスレーザ装置。
9. 【請求項９】 請求項１〜５のいずれか一つに記載のガ
   スレーザ装置において、 前記レーザチャンバ４内からレーザガスを排気するガス
   排気口は、前記ウィンドウ２５と前記フィルタ２９の入
   口との間に設けられたことを特徴とするガスレーザ装
   置。
10. 【請求項１０】 クロスフローファン３９によってレー
    ザチャンバ４内のレーザガスを還流させ、かつ、このレ
    ーザガスをフィルタ２９を経由させて清浄化した後にウ
    ィンドウ２５に吹きつけると共に、レーザチャンバ４内
    で放電させてレーザガスを励起し、レーザ光を発振させ
    るガスレーザ装置のレーザガス交換時のレーザガス注入
    方法において、 レーザガス排気後のレーザチャンバ４内のガス圧値を設
    定し、このガス圧値までレーザガスを排気した後、新し
    いレーザガスをレーザチャンバ４内に注入すると共に、
    前記クロスフローファン３９を回転させて上記注入され
    たレーザガスを前記フィルタ２９を経由させ、この清浄
    化されたレーザガスをウィンドウに吹きつけることを特
    徴とするレーザガス注入方法。
11. 【請求項１１】 クロスフローファン３９によってレー
    ザチャンバ４内のレーザガスを還流させ、かつ、このレ
    ーザガスをフィルタ２９を経由させて清浄化した後にウ
    ィンドウ２５に吹きつけると共に、レーザチャンバ４内
    で放電させてレーザガスを励起し、レーザ光を発振させ
    るガスレーザ装置のレーザガス交換時のレーザガス注入
    方法において、 レーザガス排気後のレーザチャンバ４内のガス圧値を設
    定し、このガス圧値までレーザガスを排気した後、新し
    いレーザガスを希ガス、ハロゲンガス、希ガスの順にレ
    ーザチャンバ４内にそれぞれ所定圧まで注入すると共
    に、前記クロスフローファン３９を回転させて上記レー
    ザガスを前記フィルタ２９を経由させ、この清浄化され
    たレーザガスをウィンドウに吹きつけることを特徴とす
    るレーザガス注入方法。
12. 【請求項１２】 請求項１０又は１１に記載のレーザガ
    ス注入方法において、 レーザガスを注入する初期の所定時間にのみ前記クロス
    フローファン３９を回転させ、上記レーザガスを前記フ
    ィルタ２９を経由させてレーザチャンバ４内に注入する
    ことを特徴とするレーザガス注入方法。
13. 【請求項１３】 請求項１０又は１１に記載のレーザガ
    ス注入方法において、 レーザガスを注入する初期で、かつ、レーザチャンバ４
    内のガス圧が所定ガス圧値に達するまでの間のみ前記ク
    ロスフローファン３９を回転させ、上記レーザガスを前
    記フィルタ２９を経由させてレーザチャンバ４内に注入
    することを特徴とするレーザガス注入方法。
14. 【請求項１４】 請求項１１に記載のレーザガス注入方
    法において、 最初の希ガスを注入するときにのみ前記クロスフローフ
    ァン３９を回転させ、上記希ガスを前記フィルタ２９を
    経由させてレーザチャンバ４内に注入することを特徴と
    するレーザガス注入方法。
15. 【請求項１５】 レーザガスを封入したレーザチャンバ
    ４の内部で放電させてレーザガスを励起し、レーザ光を
    発振させるガスレーザ装置のレーザガス交換時のレーザ
    ガス注入方法において、 レーザチャンバ４内のレーザガスを排気した後、レーザ
    ガスをレーザチャンバ４内に注入する際に、注入初期の
    所定時間はレーザガス流量を所定値に制限し、上記所定
    時間が経過した後は上記レーザガス流量をこの制限値よ
    り増加させて注入することを特徴とするレーザガス注入
    方法。
16. 【請求項１６】 レーザガスを封入したレーザチャンバ
    ４の内部で放電させてレーザガスを励起し、レーザ光を
    発振させるガスレーザ装置のレーザガス交換時のレーザ
    ガス注入方法において、 レーザチャンバ４内のレーザガスを排気した後、レーザ
    ガスをレーザチャンバ４内に注入する際に、注入初期
    で、かつ、ガス圧が所定圧力値に達するまでの間レーザ
    ガス流量を所定値に制限し、ガス圧が上記所定圧力値に
    達した後は上記レーザガス流量を増加させて注入するこ
    とを特徴とするレーザガス注入方法。
17. 【請求項１７】 請求項１５又は１６に記載のレーザガ
    ス注入方法において、前記レーザチャンバ４内のレーザ
    ガスを排気するときは、レーザガス排気後のレーザチャ
    ンバ４内のガス圧値を設定し、このガス圧値までレーザ
    ガスを排気することを特徴とするレーザガス注入方法。