JPH108241A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
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- JPH108241A JPH108241A JP16401196A JP16401196A JPH108241A JP H108241 A JPH108241 A JP H108241A JP 16401196 A JP16401196 A JP 16401196A JP 16401196 A JP16401196 A JP 16401196A JP H108241 A JPH108241 A JP H108241A
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- metal
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 膜厚が一定した処理厚さの金属被膜を帯鋼に
蒸着し、帯鋼の品質を向上させる。 【解決手段】 シャッタシャフト2を微小回転角で回転
して蒸気流通穴と蒸気流量調整穴との開口面積を微調節
することにより、帯材蒸着部に供給する金属蒸気40a
の流量を微調整し、一定した金属蒸気40aの流量を維
持して膜厚が一定した処理厚さの金属被膜を帯鋼50に
蒸着し、帯鋼50の品質を向上させる。
蒸着し、帯鋼の品質を向上させる。 【解決手段】 シャッタシャフト2を微小回転角で回転
して蒸気流通穴と蒸気流量調整穴との開口面積を微調節
することにより、帯材蒸着部に供給する金属蒸気40a
の流量を微調整し、一定した金属蒸気40aの流量を維
持して膜厚が一定した処理厚さの金属被膜を帯鋼50に
蒸着し、帯鋼50の品質を向上させる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、走行する被蒸着帯材に
略真空状態で金属被膜を蒸着めっきする真空蒸着装置に
関する。
略真空状態で金属被膜を蒸着めっきする真空蒸着装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】図8に基づいて従来の真空蒸着装置を説
明する。図8には従来の真空蒸着装置の縦断面を示して
ある。
明する。図8には従来の真空蒸着装置の縦断面を示して
ある。
【0003】図8において、51はるつぼであり、るつ
ぼ51の周囲には誘導加熱器52が装着され、るつぼ5
1は真空チャンバ61に内装されている。真空チャンバ
61には帯鋼搬入路63及び帯鋼搬出路64及び排気管
62が設けられている。また、真空チャンバ61の外部
下方には溶解炉54が配設され、溶解炉54は真空チャ
ンバ61を貫通する吸引管53を介してるつぼ51に接
続されている。
ぼ51の周囲には誘導加熱器52が装着され、るつぼ5
1は真空チャンバ61に内装されている。真空チャンバ
61には帯鋼搬入路63及び帯鋼搬出路64及び排気管
62が設けられている。また、真空チャンバ61の外部
下方には溶解炉54が配設され、溶解炉54は真空チャ
ンバ61を貫通する吸引管53を介してるつぼ51に接
続されている。
【0004】58は断熱箱であり、断熱箱58の上面及
び下面には帯鋼50が通過するスリット58aが穿設さ
れ、断熱箱58には加熱器59が内装されている。そし
て、断熱箱58は真空チャンバ61に内装されている。
また、56は蒸着路であり、蒸着路56は帯鋼50の走
行路となって開口部56aが対向するように二股に分か
れており、蒸着路56は断熱箱58に内装されている。
30はシャッタユニットであり、シャッタユニット30
はシャッタブロック31とシャッタ板32とから成って
おり、シャッタユニット30は断熱箱58を貫通してる
つぼ51の金属蒸発面41の上方に接続された供給管5
5と蒸着路56とに介装されている。
び下面には帯鋼50が通過するスリット58aが穿設さ
れ、断熱箱58には加熱器59が内装されている。そし
て、断熱箱58は真空チャンバ61に内装されている。
また、56は蒸着路であり、蒸着路56は帯鋼50の走
行路となって開口部56aが対向するように二股に分か
れており、蒸着路56は断熱箱58に内装されている。
30はシャッタユニットであり、シャッタユニット30
はシャッタブロック31とシャッタ板32とから成って
おり、シャッタユニット30は断熱箱58を貫通してる
つぼ51の金属蒸発面41の上方に接続された供給管5
5と蒸着路56とに介装されている。
【0005】例えば、Mg或いはZn等の金属を溶解炉
54によって溶融金属40に溶解すると共に、断熱箱5
8内を加熱器59によって加熱し、真空チャンバ61内
を排気管62から吸引して例えば10-3torrの略真空状
態に減圧する。この真空チャンバ61の内部と外部との
気圧差によって溶解炉54内の溶融金属40を吸引管5
3からるつぼ51に吸い上げ、溶融金属40を誘導加熱
器52によって所要の温度に加熱して金属蒸気40aを
蒸発させ、シャッタ板32をシャッタブロック31内で
昇降させてその開度を調節し、金属蒸気40aの流量を
調整しながら供給管55及びシャッタ57から蒸着路5
6に供給して双方の開口部56aから吐出させる。そし
て、金属蒸気40aよりも低温の帯鋼50を帯鋼搬入路
63、断熱箱58のスリット58aから双方の開口部間
を走行させ、その両面に金属蒸気40aを蒸着して帯鋼
搬出路64から搬出する。
54によって溶融金属40に溶解すると共に、断熱箱5
8内を加熱器59によって加熱し、真空チャンバ61内
を排気管62から吸引して例えば10-3torrの略真空状
態に減圧する。この真空チャンバ61の内部と外部との
気圧差によって溶解炉54内の溶融金属40を吸引管5
3からるつぼ51に吸い上げ、溶融金属40を誘導加熱
器52によって所要の温度に加熱して金属蒸気40aを
蒸発させ、シャッタ板32をシャッタブロック31内で
昇降させてその開度を調節し、金属蒸気40aの流量を
調整しながら供給管55及びシャッタ57から蒸着路5
6に供給して双方の開口部56aから吐出させる。そし
て、金属蒸気40aよりも低温の帯鋼50を帯鋼搬入路
63、断熱箱58のスリット58aから双方の開口部間
を走行させ、その両面に金属蒸気40aを蒸着して帯鋼
搬出路64から搬出する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来の真空蒸着装置で
は、図8に示すようにシャッタ板32を昇降させてシャ
ッタユニット30の開度を調節するので、特に金属蒸気
40aの微小流量域における微細な流量調整が困難であ
る。従って、双方の蒸着路56の開口部56a間で蒸着
される帯鋼50の金属被膜厚さの微調整ができないの
で、その品質が低下してしまう。
は、図8に示すようにシャッタ板32を昇降させてシャ
ッタユニット30の開度を調節するので、特に金属蒸気
40aの微小流量域における微細な流量調整が困難であ
る。従って、双方の蒸着路56の開口部56a間で蒸着
される帯鋼50の金属被膜厚さの微調整ができないの
で、その品質が低下してしまう。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の構成は、金属蒸気流通方向と直交する方向に
シャフト回転穴を穿設すると共にこのシャフト回転穴と
直交して貫通する蒸気流通穴を穿設したシャッタブロッ
クと、前記蒸気流通穴と係合可能な蒸気流量調整穴を穿
設して前記シャフト回転穴に回転可能に嵌挿したシャッ
タシャフトとから成るロータリシャッタユニットを、真
空チャンバ内の金属蒸発槽の金属蒸気蒸発面と帯材蒸着
部とに介装して成ることを特徴とする。
の本発明の構成は、金属蒸気流通方向と直交する方向に
シャフト回転穴を穿設すると共にこのシャフト回転穴と
直交して貫通する蒸気流通穴を穿設したシャッタブロッ
クと、前記蒸気流通穴と係合可能な蒸気流量調整穴を穿
設して前記シャフト回転穴に回転可能に嵌挿したシャッ
タシャフトとから成るロータリシャッタユニットを、真
空チャンバ内の金属蒸発槽の金属蒸気蒸発面と帯材蒸着
部とに介装して成ることを特徴とする。
【0008】そして、大径の蒸気流量調整穴及びこの大
径の蒸気流量調整穴よりも小径で前記シャッタシャフト
に径の異なる複数の蒸気流量調整穴を軸方向に並べて穿
設したシャッタシャフトと、前記シャッタブロックとか
ら成るロータリシャッタユニットを、真空チャンバ内の
金属蒸発槽の金属蒸気蒸発面と帯材蒸着部とに介装して
成ることを特徴とする。
径の蒸気流量調整穴よりも小径で前記シャッタシャフト
に径の異なる複数の蒸気流量調整穴を軸方向に並べて穿
設したシャッタシャフトと、前記シャッタブロックとか
ら成るロータリシャッタユニットを、真空チャンバ内の
金属蒸発槽の金属蒸気蒸発面と帯材蒸着部とに介装して
成ることを特徴とする。
【0009】
【発明の実施の形態】真空チャンバ内を略真空に減圧
し、金属蒸発槽内の溶融金属蒸発面から金属蒸気を蒸発
させ、ロータリシャッタユニットのシャッタシャフトを
所要の回転角で回転してその蒸気流量調整穴とシャッタ
ブロックの蒸気流通穴とを係合させると共にその開口面
積を調節し、金属蒸気の流量を微調整して帯材蒸着部に
供給し、走行する帯材に蒸着して膜厚が一定した所要厚
さの金属被膜を形成する。
し、金属蒸発槽内の溶融金属蒸発面から金属蒸気を蒸発
させ、ロータリシャッタユニットのシャッタシャフトを
所要の回転角で回転してその蒸気流量調整穴とシャッタ
ブロックの蒸気流通穴とを係合させると共にその開口面
積を調節し、金属蒸気の流量を微調整して帯材蒸着部に
供給し、走行する帯材に蒸着して膜厚が一定した所要厚
さの金属被膜を形成する。
【0010】また、シャッタシャフトを所要の回転角で
回転してその大径蒸気流量調整穴及びシャッタシャフト
に配設した各々の蒸気流量調整穴とシャッタブロックの
各々の蒸気流通穴とを係合させると共にその開口面積を
微調節し、金属蒸気の流量をさらに微調整して帯材蒸着
部に供給し、走行する帯材に蒸着してさらに膜厚が一定
した所要厚さの金属被膜を形成する。
回転してその大径蒸気流量調整穴及びシャッタシャフト
に配設した各々の蒸気流量調整穴とシャッタブロックの
各々の蒸気流通穴とを係合させると共にその開口面積を
微調節し、金属蒸気の流量をさらに微調整して帯材蒸着
部に供給し、走行する帯材に蒸着してさらに膜厚が一定
した所要厚さの金属被膜を形成する。
【0011】
【実施例】図1には本発明の第1実施例に係る真空蒸着
装置の縦断面、図2には図1中のロータリシャッタユニ
ットを拡大した縦断面、図3には図2のIII-III 線矢視
状態、図4にはロータリシャッタユニットの作用説明、
図5には実験によるシャッタシャフトの回転角と金属蒸
気の流量率を表す線図を示してある。尚、従来の真空蒸
着装置と同一の部材及び部位には同一の符号を付して重
複する説明は省略してある。
装置の縦断面、図2には図1中のロータリシャッタユニ
ットを拡大した縦断面、図3には図2のIII-III 線矢視
状態、図4にはロータリシャッタユニットの作用説明、
図5には実験によるシャッタシャフトの回転角と金属蒸
気の流量率を表す線図を示してある。尚、従来の真空蒸
着装置と同一の部材及び部位には同一の符号を付して重
複する説明は省略してある。
【0012】図1において、るつぼ51内の溶融金属4
0の金属蒸発面41の上方には供給路55が配置され、
この供給路55と蒸着路56とにはロータリシャッタユ
ニット10が介装されている。
0の金属蒸発面41の上方には供給路55が配置され、
この供給路55と蒸着路56とにはロータリシャッタユ
ニット10が介装されている。
【0013】図2及び図3において、1はシャッタブロ
ックであり、シャッタブロック1にはシャフト回転穴1
aが供給路55及び蒸着路56内の金属蒸気40aの流
通方向と直交する水平方向に穿設されている。シャッタ
ブロック1には入側溝1b及び出側溝1cが水平方向に
刻設されると共に、入側溝1bと出側溝1cを接続する
複数の蒸気流通穴1dがシャフト回転穴1aを貫通して
穿設されている。
ックであり、シャッタブロック1にはシャフト回転穴1
aが供給路55及び蒸着路56内の金属蒸気40aの流
通方向と直交する水平方向に穿設されている。シャッタ
ブロック1には入側溝1b及び出側溝1cが水平方向に
刻設されると共に、入側溝1bと出側溝1cを接続する
複数の蒸気流通穴1dがシャフト回転穴1aを貫通して
穿設されている。
【0014】2はシャッタシャフトであり、シャッタシ
ャフト2には例えば内径30mm,28mm,24mm,20
mmのそれぞれ径が異なる流量調整穴2a,2b,2c,
2dが、図5のような連続的に流量調整が可能となる配
置で穿設されている。シャッタシャフト2は、シャフト
回転穴1aに回転可能に嵌挿されている。このシャッタ
ブロック1とシャッタシャフト2とにより、ロータリシ
ャッタユニット10が構成されている。
ャフト2には例えば内径30mm,28mm,24mm,20
mmのそれぞれ径が異なる流量調整穴2a,2b,2c,
2dが、図5のような連続的に流量調整が可能となる配
置で穿設されている。シャッタシャフト2は、シャフト
回転穴1aに回転可能に嵌挿されている。このシャッタ
ブロック1とシャッタシャフト2とにより、ロータリシ
ャッタユニット10が構成されている。
【0015】その他の構成は図8に示した真空蒸着装置
と同一である。上述した真空蒸着装置の作用を説明す
る。
と同一である。上述した真空蒸着装置の作用を説明す
る。
【0016】図1に示すように、断熱箱58内に加熱器
59によって加熱し、排気管62から図示しない真空吸
引装置によって真空チャンバ61内を吸引し、真空チャ
ンバ61内を例えば10-3torrの略真空状態に減圧す
る。真空チャンバ61の内部と外部との気圧差によって
溶解炉54内の溶融金属40を吸引管53からるつぼ5
1内に吸い上げ、誘導加熱器52によって加熱して金属
蒸気40aを蒸発させ、ロータリシャッタユニット10
によってその流量を調整しながら供給管55から二股に
分かれている蒸着路56に供給する。
59によって加熱し、排気管62から図示しない真空吸
引装置によって真空チャンバ61内を吸引し、真空チャ
ンバ61内を例えば10-3torrの略真空状態に減圧す
る。真空チャンバ61の内部と外部との気圧差によって
溶解炉54内の溶融金属40を吸引管53からるつぼ5
1内に吸い上げ、誘導加熱器52によって加熱して金属
蒸気40aを蒸発させ、ロータリシャッタユニット10
によってその流量を調整しながら供給管55から二股に
分かれている蒸着路56に供給する。
【0017】そして、金属蒸気40aを吐出している双
方の開口部56a間で金属蒸気40aよりも低温の帯鋼
50を走行させ、帯鋼50に金属蒸気40aを蒸着して
所要の膜厚の金属被膜を形成する。
方の開口部56a間で金属蒸気40aよりも低温の帯鋼
50を走行させ、帯鋼50に金属蒸気40aを蒸着して
所要の膜厚の金属被膜を形成する。
【0018】図2、図3にはロータリシャッタユニット
10を完全に閉にした状態を示してある。図に流量調整
穴2a,2b,2c,2dを二点鎖線で示すように、シ
ャッタシャフト2を回転すると、シャッタ開口度は全開
の状態になる。また、図4に示すように、シャッタシャ
フト2を全開の位置から例えば30度の回転角θで回転
し、蒸気流通穴1dと流量調整穴2a,2b,2c,2
dを所要の開度で係合させる。
10を完全に閉にした状態を示してある。図に流量調整
穴2a,2b,2c,2dを二点鎖線で示すように、シ
ャッタシャフト2を回転すると、シャッタ開口度は全開
の状態になる。また、図4に示すように、シャッタシャ
フト2を全開の位置から例えば30度の回転角θで回転
し、蒸気流通穴1dと流量調整穴2a,2b,2c,2
dを所要の開度で係合させる。
【0019】そして、蒸着される帯鋼50の金属微膜の
膜厚によってシャッタシャフト2を微小角度で回転して
各々の流量調整穴2a,2b,2c,2dの開口面積を
微調節し、金属蒸気40aの流量を微調整して蒸着路5
6に供給し、開口部から金属蒸気40aを吐出させて走
行する帯鋼50に蒸着する。このように、シャッタシャ
フト2を微小回転して金属蒸気40aの流量を微調整す
ることで、膜厚が一定した所要厚さの金属被膜を形成す
ることが可能になる。
膜厚によってシャッタシャフト2を微小角度で回転して
各々の流量調整穴2a,2b,2c,2dの開口面積を
微調節し、金属蒸気40aの流量を微調整して蒸着路5
6に供給し、開口部から金属蒸気40aを吐出させて走
行する帯鋼50に蒸着する。このように、シャッタシャ
フト2を微小回転して金属蒸気40aの流量を微調整す
ることで、膜厚が一定した所要厚さの金属被膜を形成す
ることが可能になる。
【0020】図5には、シャッタブロック1及びシャッ
タシャフト2の常温及び700℃に加熱した状態での実
験結果である各々の回転角θにおけるロータリシャッタ
ユニット10の開口面積比及び金属蒸気40aの流量率
を示してある。
タシャフト2の常温及び700℃に加熱した状態での実
験結果である各々の回転角θにおけるロータリシャッタ
ユニット10の開口面積比及び金属蒸気40aの流量率
を示してある。
【0021】図6、図7に基づいて本発明の第2実施例
を説明する。図6には本発明の第2実施例に係る真空蒸
着装置のロータリシャッタユニットの縦断面、図7には
図6中のVII-VII 線矢視状態を示してある。
を説明する。図6には本発明の第2実施例に係る真空蒸
着装置のロータリシャッタユニットの縦断面、図7には
図6中のVII-VII 線矢視状態を示してある。
【0022】図示の例は、シャッタブロック11の供給
路55及び蒸着路56内における金属蒸気40aの流通
方向と直交する水平方向にシャフト回転穴11aを穿設
すると共に、シャフト回転穴11aを水平方向に貫通す
る各々の蒸気流通穴11dを穿設し、第1実施例の入側
溝1b及び出側溝1cを省略してその構造を簡単にした
ものである。その他の構成は第1実施例と同一である。
路55及び蒸着路56内における金属蒸気40aの流通
方向と直交する水平方向にシャフト回転穴11aを穿設
すると共に、シャフト回転穴11aを水平方向に貫通す
る各々の蒸気流通穴11dを穿設し、第1実施例の入側
溝1b及び出側溝1cを省略してその構造を簡単にした
ものである。その他の構成は第1実施例と同一である。
【0023】上述した構成によると、シャッタシャフト
2を回転してその各々の流量調整穴2a〜2dと上下流
通穴11dとを係合させ、シャッタシャフト2を微小回
転して金属蒸気40aの流量を微調整することで、膜厚
が一定した所要厚さの金属被膜を形成することが可能に
なる。
2を回転してその各々の流量調整穴2a〜2dと上下流
通穴11dとを係合させ、シャッタシャフト2を微小回
転して金属蒸気40aの流量を微調整することで、膜厚
が一定した所要厚さの金属被膜を形成することが可能に
なる。
【0024】
【発明の効果】本発明の真空蒸着装置では、シャッタシ
ャフトを微小回転角で回転して蒸気流通穴と蒸気流量調
整穴との開口面積を微調節することにより、帯材蒸着部
に供給する金属蒸気の流量を微調整することができる。
この結果、一定した金属蒸気の流量を維持することが可
能になり、膜厚が一定した処理厚さの金属被膜を帯材に
蒸着してその品質を向上することができる。
ャフトを微小回転角で回転して蒸気流通穴と蒸気流量調
整穴との開口面積を微調節することにより、帯材蒸着部
に供給する金属蒸気の流量を微調整することができる。
この結果、一定した金属蒸気の流量を維持することが可
能になり、膜厚が一定した処理厚さの金属被膜を帯材に
蒸着してその品質を向上することができる。
【0025】また、本発明の真空蒸着装置では、大径の
蒸気流量調整穴及びこの大径の蒸気流量調整穴よりも小
径でシャッタシャフトに配設した径の異なる複数の蒸気
流量調整穴を穿設したシャッタシャフトを微小角度で回
転して蒸気流通穴と蒸気流量調整穴との開口面積をさら
に微細に調節することにより、金属蒸気の流量をさらに
微調整して帯材蒸着部に供給する金属蒸気の流量をさら
に微細に調整することができる。この結果、膜厚がさら
に一定した所要厚さの金属被膜を帯材に蒸着することが
可能になり、その品質をさらに向上することができる。
蒸気流量調整穴及びこの大径の蒸気流量調整穴よりも小
径でシャッタシャフトに配設した径の異なる複数の蒸気
流量調整穴を穿設したシャッタシャフトを微小角度で回
転して蒸気流通穴と蒸気流量調整穴との開口面積をさら
に微細に調節することにより、金属蒸気の流量をさらに
微調整して帯材蒸着部に供給する金属蒸気の流量をさら
に微細に調整することができる。この結果、膜厚がさら
に一定した所要厚さの金属被膜を帯材に蒸着することが
可能になり、その品質をさらに向上することができる。
【図1】本発明の第1実施例に係る真空蒸着装置の縦断
面図。
面図。
【図2】図1中のロータリシャッタユニットを拡大した
縦断面図。
縦断面図。
【図3】図2のIII-III 線矢図。
【図4】ロータリシャッタユニットの作用説明図。
【図5】実験によるシャッタシャフトの回転角と金属蒸
気の流量率を示す線図。
気の流量率を示す線図。
【図6】本発明の第2実施例に係る真空蒸着装置におけ
るロータリシャッタユニットの縦断図。
るロータリシャッタユニットの縦断図。
【図7】図6中のVII-VII 矢視図。
【図8】従来の真空蒸着装置の縦断面図。
1,11 シャッタブロック 1d,11d 蒸気流通穴 2 シャッタシャフト 2a,2b,2c,2d 流量調整穴 10,20 ロータリシャッタユニット 40 溶融金属 40a 金属蒸気 41 蒸発面 50 帯鋼 51 るつぼ 52 誘導加熱器 55 供給路 56 蒸着路 56a 開口部 61 真空チャンバ θ 回転角
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松田 直彦 広島県広島市西区観音新町四丁目6番22号 三菱重工業株式会社広島研究所内
Claims (2)
- 【請求項1】 金属蒸気流通方向と直交する方向にシャ
フト回転穴を穿設すると共にこのシャフト回転穴と直交
して貫通する蒸気流通穴を穿設したシャッタブロック
と、前記蒸気流通穴と係合可能な蒸気流量調整穴を穿設
して前記シャフト回転穴に回転可能に嵌挿したシャッタ
シャフトとから成るロータリシャッタユニットを、真空
チャンバ内の金属蒸発槽の金属蒸気蒸発面と帯材蒸着部
とに介装して成ることを特徴とする真空蒸着装置。 - 【請求項2】 請求項1において、大径の蒸気流量調整
穴及びこの大径の蒸気流量調整穴よりも小径で前記シャ
ッタシャフトに径の異なる複数の蒸気流量調整穴を軸方
向に並べて穿設したシャッタシャフトと、前記シャッタ
ブロックとから成るロータリシャッタユニットを、真空
チャンバ内の金属蒸発槽の金属蒸気蒸発面と帯材蒸着部
とに介装して成ることを特徴とする真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16401196A JPH108241A (ja) | 1996-06-25 | 1996-06-25 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16401196A JPH108241A (ja) | 1996-06-25 | 1996-06-25 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH108241A true JPH108241A (ja) | 1998-01-13 |
Family
ID=15785085
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16401196A Withdrawn JPH108241A (ja) | 1996-06-25 | 1996-06-25 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH108241A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10256038A1 (de) * | 2002-11-30 | 2004-06-17 | Applied Films Gmbh & Co. Kg | Bedampfungsvorrichtung |
| WO2006050847A1 (de) * | 2004-11-10 | 2006-05-18 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung zum aufdampfen eines beschichtungsmaterials |
| JP2006326455A (ja) * | 2005-05-25 | 2006-12-07 | Mitsubishi Heavy Industries Food & Packaging Machinery Co Ltd | 容器の殺菌洗浄ノズル、容器の殺菌方法、容器の洗浄方法及び容器の殺菌洗浄装置 |
| EP1752554A1 (de) | 2005-07-28 | 2007-02-14 | Applied Materials GmbH & Co. KG | Bedampfervorrichtung |
| US7899308B2 (en) | 2005-10-26 | 2011-03-01 | Applied Materials Gmbh & Co. Kg | Evaporation device with receptacle for receiving material to be evaporated |
| JP2011506776A (ja) * | 2007-12-21 | 2011-03-03 | インダストリアル プラズマ サービシーズ アンド テクノロジーズ − イーペーエステー ゲーエムベーハー | 真空蒸発法における蒸気流を制御するための方法及び装置 |
-
1996
- 1996-06-25 JP JP16401196A patent/JPH108241A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10256038A1 (de) * | 2002-11-30 | 2004-06-17 | Applied Films Gmbh & Co. Kg | Bedampfungsvorrichtung |
| EP1424404A3 (de) * | 2002-11-30 | 2004-09-15 | Applied Films GmbH & Co. KG | Bedampfungsvorrichtung |
| WO2006050847A1 (de) * | 2004-11-10 | 2006-05-18 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung zum aufdampfen eines beschichtungsmaterials |
| JP2006326455A (ja) * | 2005-05-25 | 2006-12-07 | Mitsubishi Heavy Industries Food & Packaging Machinery Co Ltd | 容器の殺菌洗浄ノズル、容器の殺菌方法、容器の洗浄方法及び容器の殺菌洗浄装置 |
| EP1752554A1 (de) | 2005-07-28 | 2007-02-14 | Applied Materials GmbH & Co. KG | Bedampfervorrichtung |
| US7899308B2 (en) | 2005-10-26 | 2011-03-01 | Applied Materials Gmbh & Co. Kg | Evaporation device with receptacle for receiving material to be evaporated |
| JP2011506776A (ja) * | 2007-12-21 | 2011-03-03 | インダストリアル プラズマ サービシーズ アンド テクノロジーズ − イーペーエステー ゲーエムベーハー | 真空蒸発法における蒸気流を制御するための方法及び装置 |
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