JPH1083982A - ウェーハの洗浄装置 - Google Patents
ウェーハの洗浄装置Info
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- H10P72/0411—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H10P72/0416—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels
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- Y10S134/902—Semiconductor wafer
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 洗浄液噴射ノズルを介して噴射される洗浄液
がウェーハの下端縁部或いは側面に均一に噴射されるよ
うにして、ウェーハの洗浄効果を高めて洗浄均一度を向
上させる。 【解決手段】 多数のウェーハの積載されるウェーハカ
セットが内在する洗浄槽と、前記洗浄槽の下端に設置さ
れる洗浄液供給管と、一端が前記洗浄液供給管に接続さ
れ、他端が閉塞されると共に、表面に形成された複数の
孔１８−１を介して浄液が噴射される洗浄液噴射ノズル
１８と、を含んで構成されるウェーハの洗浄装置におい
て、洗浄液噴射ノズル１８の一端１から他端２に向かう
につれ、洗浄液が噴射される孔１８−１の断面積を次第
に減らすように形成し、各孔１８−１から噴射される洗
浄液の噴射圧力を略均一化させる。従って、ウェーハ上
に均一の圧力で前記洗浄液が噴射されるようになり、ウ
ェーハの洗浄効果が高まって洗浄均一度が向上する。
がウェーハの下端縁部或いは側面に均一に噴射されるよ
うにして、ウェーハの洗浄効果を高めて洗浄均一度を向
上させる。 【解決手段】 多数のウェーハの積載されるウェーハカ
セットが内在する洗浄槽と、前記洗浄槽の下端に設置さ
れる洗浄液供給管と、一端が前記洗浄液供給管に接続さ
れ、他端が閉塞されると共に、表面に形成された複数の
孔１８−１を介して浄液が噴射される洗浄液噴射ノズル
１８と、を含んで構成されるウェーハの洗浄装置におい
て、洗浄液噴射ノズル１８の一端１から他端２に向かう
につれ、洗浄液が噴射される孔１８−１の断面積を次第
に減らすように形成し、各孔１８−１から噴射される洗
浄液の噴射圧力を略均一化させる。従って、ウェーハ上
に均一の圧力で前記洗浄液が噴射されるようになり、ウ
ェーハの洗浄効果が高まって洗浄均一度が向上する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術】本発明はウェーハの洗浄装置に関
し、特に、ウェーハを洗浄するための洗浄液が噴射され
る洗浄液噴射ノズル(nozzle)の噴射圧力を均一にして、
ウェーハのエッチング率に対する均一度を向上させる技
術に関する。
し、特に、ウェーハを洗浄するための洗浄液が噴射され
る洗浄液噴射ノズル(nozzle)の噴射圧力を均一にして、
ウェーハのエッチング率に対する均一度を向上させる技
術に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体デバイスの小型化による高
集積化と、チップの高集積化のためのウェーハの大口径
化が次第になされるにつれて、ウェーハ上の微細パター
ン、ウェーハ周辺部及び湿式反応均一性などの洗浄効果
の向上が必要となり、ウェーハの湿式洗浄の洗浄効果向
上のためにいろいろな機能が提供されてきた。
集積化と、チップの高集積化のためのウェーハの大口径
化が次第になされるにつれて、ウェーハ上の微細パター
ン、ウェーハ周辺部及び湿式反応均一性などの洗浄効果
の向上が必要となり、ウェーハの湿式洗浄の洗浄効果向
上のためにいろいろな機能が提供されてきた。
【０００３】従来のウェーハの洗浄装置は、図１０，図
１１に示すように、多数のウェーハ(wafer) １０が洗浄
される内部洗浄槽(innerbath) １２と、内部洗浄槽１２
に接続され、洗浄液を供給する洗浄液供給管１５と、内
部洗浄槽１２下端に設置され、その一端が洗浄液供給管
１５に接続され、他端が閉塞されると共に、表面に形成
された複数の孔１８−１を介して洗浄液を噴射する洗浄
液噴射ノズル（nozzle) １８と、内部洗浄槽１２内から
あふれた洗浄液を受ける外部洗浄槽（outbath）１３
と、外部洗浄槽１３に接続され、洗浄液を外部に排出す
る洗浄液排出管１４と、を含んで構成される。
１１に示すように、多数のウェーハ(wafer) １０が洗浄
される内部洗浄槽(innerbath) １２と、内部洗浄槽１２
に接続され、洗浄液を供給する洗浄液供給管１５と、内
部洗浄槽１２下端に設置され、その一端が洗浄液供給管
１５に接続され、他端が閉塞されると共に、表面に形成
された複数の孔１８−１を介して洗浄液を噴射する洗浄
液噴射ノズル（nozzle) １８と、内部洗浄槽１２内から
あふれた洗浄液を受ける外部洗浄槽（outbath）１３
と、外部洗浄槽１３に接続され、洗浄液を外部に排出す
る洗浄液排出管１４と、を含んで構成される。
【０００４】ここで、従来の洗浄装置の動作を説明する
と、まず、ポンプＰＵＭＰをオン(ＯＮ) 動作させる
と、洗浄液供給管１５に供給される洗浄液はフィルタ(f
ilter)１６によって濾過されながら内部洗浄槽１２内へ
流入する。洗浄液は、図１０，図１２に示すように、洗
浄液供給管１５を介して内部洗浄槽１２の底面中央部か
ら供給されて満たされ、その液面が上昇するか、或い
は、洗浄液供給管１５に接続された洗浄液噴射ノズル１
８を介してウェーハ１０の下端縁部或いは側面に噴射さ
れる。
と、まず、ポンプＰＵＭＰをオン(ＯＮ) 動作させる
と、洗浄液供給管１５に供給される洗浄液はフィルタ(f
ilter)１６によって濾過されながら内部洗浄槽１２内へ
流入する。洗浄液は、図１０，図１２に示すように、洗
浄液供給管１５を介して内部洗浄槽１２の底面中央部か
ら供給されて満たされ、その液面が上昇するか、或い
は、洗浄液供給管１５に接続された洗浄液噴射ノズル１
８を介してウェーハ１０の下端縁部或いは側面に噴射さ
れる。
【０００５】即ち、洗浄液が供給される洗浄液供給管１
５は、それぞれ内部洗浄槽１２の側面と底面中央に形成
されており、洗浄液は、底面中央に形成された洗浄液供
給管１５を介して( Ａ方向) 、または、側面に形成され
た洗浄液供給管１５に接続された洗浄液噴射ノズル１８
を介して( Ｂ方向) 内部洗浄槽１２に流入して、ウェー
ハとウェーハとの間を循環しながらウェーハ１０の表面
とケミカル(chemical)反応してウェーハ洗浄工程が進め
られる。
５は、それぞれ内部洗浄槽１２の側面と底面中央に形成
されており、洗浄液は、底面中央に形成された洗浄液供
給管１５を介して( Ａ方向) 、または、側面に形成され
た洗浄液供給管１５に接続された洗浄液噴射ノズル１８
を介して( Ｂ方向) 内部洗浄槽１２に流入して、ウェー
ハとウェーハとの間を循環しながらウェーハ１０の表面
とケミカル(chemical)反応してウェーハ洗浄工程が進め
られる。
【０００６】そして、内部洗浄槽１２下端で、ウェーハ
カセット１１内のウェーハ１０が積載されている、ウェ
ーハカセット１１の長手方向に配設された洗浄液噴射ノ
ズル１８の表面には、直径が略一定、かつ、軸方向に沿
って略等間隔に孔１８−１が形成され、孔１８ー１を介
して洗浄液が噴射され、ウェーハ１０の縁部と側面が洗
浄される。
カセット１１内のウェーハ１０が積載されている、ウェ
ーハカセット１１の長手方向に配設された洗浄液噴射ノ
ズル１８の表面には、直径が略一定、かつ、軸方向に沿
って略等間隔に孔１８−１が形成され、孔１８ー１を介
して洗浄液が噴射され、ウェーハ１０の縁部と側面が洗
浄される。
【０００７】また、内部洗浄槽１２内に流入した洗浄液
は、その液面が一定水位以上になると、オーバーフロー
方式で外部洗浄槽１３へあふれ、外部洗浄槽１３の下端
に接続された洗浄液排出管１４を介して装置の外へ排出
されるか、或いは、洗浄液供給管１５に接続された循環
パイプ１９を介して洗浄液供給管１５に供給され、フィ
ルタ１６により不純物が濾過されて再び内部洗浄槽１２
内に流入する。
は、その液面が一定水位以上になると、オーバーフロー
方式で外部洗浄槽１３へあふれ、外部洗浄槽１３の下端
に接続された洗浄液排出管１４を介して装置の外へ排出
されるか、或いは、洗浄液供給管１５に接続された循環
パイプ１９を介して洗浄液供給管１５に供給され、フィ
ルタ１６により不純物が濾過されて再び内部洗浄槽１２
内に流入する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の洗浄装
置では、図１３に示すように、洗浄液噴射ノズル１８の
表面に形成された複数の孔１８−１から噴射される洗浄
液の噴射圧力は、孔１８−１の形成位置によって差がつ
く。即ち、洗浄液の噴射圧力は、洗浄液噴射ノズル１８
の一端から他端に向かうほど大きくなるが、これは、洗
浄液噴射ノズル１８の閉塞部における背圧(back pressu
re) の影響を受けるからである。
置では、図１３に示すように、洗浄液噴射ノズル１８の
表面に形成された複数の孔１８−１から噴射される洗浄
液の噴射圧力は、孔１８−１の形成位置によって差がつ
く。即ち、洗浄液の噴射圧力は、洗浄液噴射ノズル１８
の一端から他端に向かうほど大きくなるが、これは、洗
浄液噴射ノズル１８の閉塞部における背圧(back pressu
re) の影響を受けるからである。
【０００９】従って、ウェーハカセット１１に積載され
たウェーハ１０の洗浄均一度がよくないという問題点が
発生する。本発明はかかる従来の問題点を解決するため
のもので、特に、洗浄液噴射ノズルを介して噴射される
洗浄液がウェーハの下端縁部或いは側面に均一に噴射さ
れるようにして、ウェーハの洗浄効果を高めて洗浄均一
度を向上させたウェーハの洗浄装置を提供することを目
的とする。
たウェーハ１０の洗浄均一度がよくないという問題点が
発生する。本発明はかかる従来の問題点を解決するため
のもので、特に、洗浄液噴射ノズルを介して噴射される
洗浄液がウェーハの下端縁部或いは側面に均一に噴射さ
れるようにして、ウェーハの洗浄効果を高めて洗浄均一
度を向上させたウェーハの洗浄装置を提供することを目
的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】このため、請求項１記載
の発明は、ウェーハが洗浄される洗浄槽と、該洗浄槽の
下部に配設され、洗浄槽内に洗浄液を噴射する洗浄液噴
射ノズルと、を含んで構成され、該洗浄液噴射ノズル
は、一端が洗浄液供給管に接続され、他端が閉塞される
と共に、洗浄液を噴射する噴射孔が軸方向に沿って略一
定間隔で複数形成されたウェーハの洗浄装置において、
前記噴射孔を、一端から他端に向けて、その断面積が減
少するように形成した。
の発明は、ウェーハが洗浄される洗浄槽と、該洗浄槽の
下部に配設され、洗浄槽内に洗浄液を噴射する洗浄液噴
射ノズルと、を含んで構成され、該洗浄液噴射ノズル
は、一端が洗浄液供給管に接続され、他端が閉塞される
と共に、洗浄液を噴射する噴射孔が軸方向に沿って略一
定間隔で複数形成されたウェーハの洗浄装置において、
前記噴射孔を、一端から他端に向けて、その断面積が減
少するように形成した。
【００１１】かかる構成によれば、洗浄液噴射ノズルに
は、洗浄液供給管から洗浄液が供給され、供給された洗
浄液は、噴射孔からウェーハに向けて噴射される。この
場合、噴射孔は、洗浄液噴射ノズルの一端から他端に向
かうにつれ、その断面積が減少するように形成されてい
るので、噴射孔の形成位置にかかわらず、各噴射孔から
噴射される洗浄液の噴射圧力が略均一化される。
は、洗浄液供給管から洗浄液が供給され、供給された洗
浄液は、噴射孔からウェーハに向けて噴射される。この
場合、噴射孔は、洗浄液噴射ノズルの一端から他端に向
かうにつれ、その断面積が減少するように形成されてい
るので、噴射孔の形成位置にかかわらず、各噴射孔から
噴射される洗浄液の噴射圧力が略均一化される。
【００１２】請求項２記載の発明は、前記噴射孔を、直
径が略一定である少なくとも１つの孔から形成し、か
つ、前記洗浄液噴射ノズルの一端から他端に向けて、孔
の数が次第に減少するように形成した。かかる構成によ
れば、孔の数に応じて噴射孔の断面積が任意に設定され
るので、洗浄液噴射ノズルが簡単に形成される。
径が略一定である少なくとも１つの孔から形成し、か
つ、前記洗浄液噴射ノズルの一端から他端に向けて、孔
の数が次第に減少するように形成した。かかる構成によ
れば、孔の数に応じて噴射孔の断面積が任意に設定され
るので、洗浄液噴射ノズルが簡単に形成される。
【００１３】請求項３記載の発明は、前記噴射孔を、１
つの孔から形成し、かつ、前記洗浄液噴射ノズルの一端
から他端に向けて、孔の直径が次第に減少するように形
成した。かかる構成によれば、孔の直径に応じて噴射孔
の断面積が任意に設定されるので、洗浄液噴射ノズルが
簡単に形成される。
つの孔から形成し、かつ、前記洗浄液噴射ノズルの一端
から他端に向けて、孔の直径が次第に減少するように形
成した。かかる構成によれば、孔の直径に応じて噴射孔
の断面積が任意に設定されるので、洗浄液噴射ノズルが
簡単に形成される。
【００１４】請求項４記載の発明は、前記洗浄液噴射ノ
ズルを、その一端が他端より高位置となるように、鉛直
面に沿って少なくとも１回屈曲形成し、前記噴射孔を、
直径が略一定である１つの孔から形成した。かかる構成
によれば、洗浄液噴射ノズルの一端が他端より高位置と
なるように、鉛直面に沿って少なくとも１回屈曲形成し
たので、各噴射孔における洗浄液供給圧力が異なって
も、噴射孔から噴射される洗浄液の水頭の先端部が略同
一高さとなる。
ズルを、その一端が他端より高位置となるように、鉛直
面に沿って少なくとも１回屈曲形成し、前記噴射孔を、
直径が略一定である１つの孔から形成した。かかる構成
によれば、洗浄液噴射ノズルの一端が他端より高位置と
なるように、鉛直面に沿って少なくとも１回屈曲形成し
たので、各噴射孔における洗浄液供給圧力が異なって
も、噴射孔から噴射される洗浄液の水頭の先端部が略同
一高さとなる。
【００１５】請求項５記載の発明は、ウェーハが洗浄さ
れる洗浄槽と、該洗浄槽の下部に配設され、洗浄槽内に
洗浄液を噴射する洗浄液噴射ノズルと、を含んで構成さ
れ、該洗浄液噴射ノズルは、一端が洗浄液供給管に接続
され、他端が閉塞されると共に、洗浄液を噴射する略同
一直径の噴射孔が軸方向に沿って略一定間隔で複数形成
されたウェーハの洗浄装置において、前記洗浄液噴射ノ
ズルを、その一端から他端に向けて、洗浄液の流路面積
が減少するように形成した。
れる洗浄槽と、該洗浄槽の下部に配設され、洗浄槽内に
洗浄液を噴射する洗浄液噴射ノズルと、を含んで構成さ
れ、該洗浄液噴射ノズルは、一端が洗浄液供給管に接続
され、他端が閉塞されると共に、洗浄液を噴射する略同
一直径の噴射孔が軸方向に沿って略一定間隔で複数形成
されたウェーハの洗浄装置において、前記洗浄液噴射ノ
ズルを、その一端から他端に向けて、洗浄液の流路面積
が減少するように形成した。
【００１６】かかる構成によれば、洗浄液噴射ノズルの
一端から他端に向けて、洗浄液の流路面積が減少するよ
うに形成したので、各噴射孔における洗浄液供給圧力が
略均一化される。請求項６記載の発明は、ウェーハが洗
浄される洗浄槽と、該洗浄槽の下部に配設され、洗浄槽
内に洗浄液を噴射する洗浄液噴射ノズルと、を含んで構
成され、該洗浄液噴射ノズルは、一端が洗浄液供給管に
接続され、他端が閉塞されると共に、洗浄液を噴射する
略同一直径の噴射孔が軸方向に沿って略一定間隔で複数
形成されたウェーハの洗浄装置において、前記洗浄液噴
射ノズルの他端に、前記洗浄液供給管との接続部の流路
面積より小さい洗浄液排出孔を形成した。
一端から他端に向けて、洗浄液の流路面積が減少するよ
うに形成したので、各噴射孔における洗浄液供給圧力が
略均一化される。請求項６記載の発明は、ウェーハが洗
浄される洗浄槽と、該洗浄槽の下部に配設され、洗浄槽
内に洗浄液を噴射する洗浄液噴射ノズルと、を含んで構
成され、該洗浄液噴射ノズルは、一端が洗浄液供給管に
接続され、他端が閉塞されると共に、洗浄液を噴射する
略同一直径の噴射孔が軸方向に沿って略一定間隔で複数
形成されたウェーハの洗浄装置において、前記洗浄液噴
射ノズルの他端に、前記洗浄液供給管との接続部の流路
面積より小さい洗浄液排出孔を形成した。
【００１７】かかる構成によれば、洗浄液噴射ノズルが
閉塞される他端に、洗浄液排出孔が形成されるので、他
端における排圧の影響が低減され、各噴射孔における洗
浄液供給圧力が略均一化される。請求項７記載の発明
は、前記洗浄液排出孔には、その断面積より小さい貫通
孔が形成された調整栓が嵌合されること構成とした。
閉塞される他端に、洗浄液排出孔が形成されるので、他
端における排圧の影響が低減され、各噴射孔における洗
浄液供給圧力が略均一化される。請求項７記載の発明
は、前記洗浄液排出孔には、その断面積より小さい貫通
孔が形成された調整栓が嵌合されること構成とした。
【００１８】かかる構成によれば、噴射孔から噴射され
る洗浄液の噴射圧力に応じて調整栓を交換するだけで、
洗浄液噴射ノズルの他端から排出される洗浄液の量が調
整される。
る洗浄液の噴射圧力に応じて調整栓を交換するだけで、
洗浄液噴射ノズルの他端から排出される洗浄液の量が調
整される。
【００１９】
【発明の実施の形態】図１〜図７は、本発明のウェーハ
の洗浄装置を説明するために示す図である。具体的に
は、図１〜図６は洗浄液噴射ノズルの実施例（第１実施
例〜第５実施例）を示す図であり( 矢印は洗浄液が流入
する方向を示す) 、図７は洗浄液が流入する洗浄洗浄液
噴射ノズルの一端から閉塞された他端へ行くほどに変化
する、洗浄液噴射ノズルの表面に形成された孔から噴射
される洗浄液噴射圧力の強度を比較して示す図である。
の洗浄装置を説明するために示す図である。具体的に
は、図１〜図６は洗浄液噴射ノズルの実施例（第１実施
例〜第５実施例）を示す図であり( 矢印は洗浄液が流入
する方向を示す) 、図７は洗浄液が流入する洗浄洗浄液
噴射ノズルの一端から閉塞された他端へ行くほどに変化
する、洗浄液噴射ノズルの表面に形成された孔から噴射
される洗浄液噴射圧力の強度を比較して示す図である。
【００２０】また、図８と図９は、洗浄液噴射ノズルの
他の実施例（第６実施例及び第７実施例）を説明するた
めの図である。以下、添付図面を参照して本発明を説明
する。ウェーハの洗浄装置は、従来の洗浄装置と略同一
の構成からなり、図１０〜図１２に示すように、多数の
ウェーハ１０が積載されるウェーハカセット１１が内在
する内部洗浄槽１２と、内部洗浄槽内１２に洗浄液を噴
射するために内部洗浄槽１２下端に設置され、一端が洗
浄液供給管１５に接続され、他端が閉塞されると共に、
洗浄液が噴射される複数の孔１８−１が表面に形成され
た洗浄液噴射ノズル１８と、内部洗浄槽１２の下端には
洗浄液排出管１５が形成され、内部洗浄槽１２からあふ
れる洗浄液を受ける外部洗浄槽１３と、を含んで構成さ
れる。
他の実施例（第６実施例及び第７実施例）を説明するた
めの図である。以下、添付図面を参照して本発明を説明
する。ウェーハの洗浄装置は、従来の洗浄装置と略同一
の構成からなり、図１０〜図１２に示すように、多数の
ウェーハ１０が積載されるウェーハカセット１１が内在
する内部洗浄槽１２と、内部洗浄槽内１２に洗浄液を噴
射するために内部洗浄槽１２下端に設置され、一端が洗
浄液供給管１５に接続され、他端が閉塞されると共に、
洗浄液が噴射される複数の孔１８−１が表面に形成され
た洗浄液噴射ノズル１８と、内部洗浄槽１２の下端には
洗浄液排出管１５が形成され、内部洗浄槽１２からあふ
れる洗浄液を受ける外部洗浄槽１３と、を含んで構成さ
れる。
【００２１】洗浄液噴射ノズル１８に形成された孔１８
−１から噴射される洗浄液の噴射圧力を略一定にするた
めの洗浄液噴射ノズル１８の第１及び第２実施例は、図
１（第１実施例），図２（第２実施例）に示すように、
洗浄液が流入する洗浄液噴射ノズル１８の一端１から閉
塞された他端２へ向かうにつれ、次第に清浄液が噴射さ
れる孔１８−１の断面積が減るように形成される。
−１から噴射される洗浄液の噴射圧力を略一定にするた
めの洗浄液噴射ノズル１８の第１及び第２実施例は、図
１（第１実施例），図２（第２実施例）に示すように、
洗浄液が流入する洗浄液噴射ノズル１８の一端１から閉
塞された他端２へ向かうにつれ、次第に清浄液が噴射さ
れる孔１８−１の断面積が減るように形成される。
【００２２】即ち、洗浄液が噴射される孔１８−１の断
面積を減らすために、図１に示すように、洗浄液噴射ノ
ズル１８の孔１８−１の直経を、一端１から他端２に向
かうにつれ、次第に小さくなるように形成するか、或い
は、図２に示すように、洗浄液噴射ノズル１８の孔１８
−１の数を、一端１から他端２に向かうにつれ、次第に
少なくなるように形成する。
面積を減らすために、図１に示すように、洗浄液噴射ノ
ズル１８の孔１８−１の直経を、一端１から他端２に向
かうにつれ、次第に小さくなるように形成するか、或い
は、図２に示すように、洗浄液噴射ノズル１８の孔１８
−１の数を、一端１から他端２に向かうにつれ、次第に
少なくなるように形成する。
【００２３】要するに、孔１８−１は、その数が洗浄液
が流入する洗浄液噴射ノズル１８の一端１から閉塞され
た他端２に向かうにつれて、それぞれの孔形成位置にお
ける孔１８−１の合計断面積が次第に減少するように形
成される。また、洗浄液噴射ノズル１８に形成された孔
１８−１から噴射される洗浄液の噴射圧力を略一定にす
るための洗浄液噴射ノズル１８の第３実施例は、図３に
示すように、洗浄液噴射ノズル１８を、その一端１が他
端２より高位置となるように、鉛直面に沿って少なくと
も１回屈曲形成し、一方、孔１８−１は、直径が略一定
である１つの孔から形成する。
が流入する洗浄液噴射ノズル１８の一端１から閉塞され
た他端２に向かうにつれて、それぞれの孔形成位置にお
ける孔１８−１の合計断面積が次第に減少するように形
成される。また、洗浄液噴射ノズル１８に形成された孔
１８−１から噴射される洗浄液の噴射圧力を略一定にす
るための洗浄液噴射ノズル１８の第３実施例は、図３に
示すように、洗浄液噴射ノズル１８を、その一端１が他
端２より高位置となるように、鉛直面に沿って少なくと
も１回屈曲形成し、一方、孔１８−１は、直径が略一定
である１つの孔から形成する。
【００２４】このように、洗浄液噴射ノズルを屈曲形成
すると、洗浄液噴射ノズル１８の他端２における洗浄液
の圧力が減少し、結局、孔１８−１から噴射される洗浄
液の噴射圧力が、孔１８−１の形成位置にかかわらず略
一定になる。また、洗浄液噴射ノズル１８を少なくとも
１回屈曲形成すると、洗浄液が流入する洗浄液噴射ノズ
ル１８の一端１が他端２より高く形成されるので、ウェ
ーハ１０上に略均一な圧力で洗浄液が噴射される。
すると、洗浄液噴射ノズル１８の他端２における洗浄液
の圧力が減少し、結局、孔１８−１から噴射される洗浄
液の噴射圧力が、孔１８−１の形成位置にかかわらず略
一定になる。また、洗浄液噴射ノズル１８を少なくとも
１回屈曲形成すると、洗浄液が流入する洗浄液噴射ノズ
ル１８の一端１が他端２より高く形成されるので、ウェ
ーハ１０上に略均一な圧力で洗浄液が噴射される。
【００２５】即ち、従来のウェーハの洗浄装置は、洗浄
液が流入する洗浄液噴射ノズル１８の一端１から他端２
へ向かうにつれ、次第に大きい圧力で洗浄液を噴射する
が、本発明のウェーハの洗浄装置では、このような洗浄
液の噴射圧力を分圧化させてウェーハカセット１１に積
載されたウェーハ１０部に向かって洗浄液が略均一な圧
力で噴射されるようになる。
液が流入する洗浄液噴射ノズル１８の一端１から他端２
へ向かうにつれ、次第に大きい圧力で洗浄液を噴射する
が、本発明のウェーハの洗浄装置では、このような洗浄
液の噴射圧力を分圧化させてウェーハカセット１１に積
載されたウェーハ１０部に向かって洗浄液が略均一な圧
力で噴射されるようになる。
【００２６】さらに、洗浄液噴射ノズル１８に形成され
た孔１８−１から噴射される洗浄液の噴射圧力を略一定
にするための洗浄液噴射ノズル１８の第４及び第５実施
例は、洗浄液噴射ノズル１８は、その一端１から他端２
に向けて、洗浄液の流路面積が減少するように形成され
ると共に、孔１８−１の軸方向長さを変化させることに
より、孔１８−１から噴射される洗浄液の噴射圧力が、
孔１８−１の形成位置にかかわらず略一定になるように
する。
た孔１８−１から噴射される洗浄液の噴射圧力を略一定
にするための洗浄液噴射ノズル１８の第４及び第５実施
例は、洗浄液噴射ノズル１８は、その一端１から他端２
に向けて、洗浄液の流路面積が減少するように形成され
ると共に、孔１８−１の軸方向長さを変化させることに
より、孔１８−１から噴射される洗浄液の噴射圧力が、
孔１８−１の形成位置にかかわらず略一定になるように
する。
【００２７】即ち、図４〜図６に示すように、洗浄液噴
射ノズル１８の洗浄液が流通する流路面積が、洗浄液噴
射ノズルの一端１から他端２へ向かうにつれ、小さくな
るように形成させることにより、ウェーハ１０上に略均
一な圧力で洗浄液が噴射されるようにする。さらに、図
４及び図５に示す第４実施例では、洗浄液が流入する洗
浄液噴射ノズル１８の一端１から他端２に向かうにつ
れ、洗浄液噴射ノズル１８の洗浄液流路面積を次第に小
さく形成させると共に、孔１８−１の軸方向長さを長く
形成する。
射ノズル１８の洗浄液が流通する流路面積が、洗浄液噴
射ノズルの一端１から他端２へ向かうにつれ、小さくな
るように形成させることにより、ウェーハ１０上に略均
一な圧力で洗浄液が噴射されるようにする。さらに、図
４及び図５に示す第４実施例では、洗浄液が流入する洗
浄液噴射ノズル１８の一端１から他端２に向かうにつ
れ、洗浄液噴射ノズル１８の洗浄液流路面積を次第に小
さく形成させると共に、孔１８−１の軸方向長さを長く
形成する。
【００２８】以上、図１〜図６に示すように、一端１が
洗浄液供給管１５に接続され、他端２が閉塞されると共
に、洗浄液噴射ノズル１８の表面に略等間隔で複数形成
された孔１８−１から洗浄液が噴射される際に、図７に
示すように、洗浄液噴射ノズル１８及び洗浄液噴射ノズ
ル１８の表面に形成された孔１８−１の形状を変化させ
ることにより、孔１８−１の形成位置にかかわらず、洗
浄液が略同一の噴射圧力で噴射されるようになる。
洗浄液供給管１５に接続され、他端２が閉塞されると共
に、洗浄液噴射ノズル１８の表面に略等間隔で複数形成
された孔１８−１から洗浄液が噴射される際に、図７に
示すように、洗浄液噴射ノズル１８及び洗浄液噴射ノズ
ル１８の表面に形成された孔１８−１の形状を変化させ
ることにより、孔１８−１の形成位置にかかわらず、洗
浄液が略同一の噴射圧力で噴射されるようになる。
【００２９】次に、図８は、洗浄液噴射ノズル１８の他
端２を開放させる本発明のウェーハの洗浄装置の第６実
施例である。即ち、洗浄液噴射ノズル１８の他端２の一
部を開放させることにより、開放された部位から一定量
の洗浄液が排出するようにして、背圧に因る不均一な洗
浄液の噴射圧力を均一化させる。
端２を開放させる本発明のウェーハの洗浄装置の第６実
施例である。即ち、洗浄液噴射ノズル１８の他端２の一
部を開放させることにより、開放された部位から一定量
の洗浄液が排出するようにして、背圧に因る不均一な洗
浄液の噴射圧力を均一化させる。
【００３０】なお、連結ライン３０は、内部洗浄槽１２
に貫通されて形成されており、連結ライン３０に沿って
流通する洗浄液は、外部洗浄槽１３に接続された洗浄液
排出管１４を介して排出される。即ち、洗浄液噴射ノズ
ル１８の閉塞された他端２における背圧は、従来のもの
に比べて、開放された面積に相当する分だけ減少するの
で、背圧の直接的な影響を受ける洗浄液噴射ノズル１８
の孔１８−１の形成位置における洗浄液噴出強度は低下
する。従って、孔１８−１の形成位置にかかわらず略均
一な噴出圧力で洗浄液が噴射される。
に貫通されて形成されており、連結ライン３０に沿って
流通する洗浄液は、外部洗浄槽１３に接続された洗浄液
排出管１４を介して排出される。即ち、洗浄液噴射ノズ
ル１８の閉塞された他端２における背圧は、従来のもの
に比べて、開放された面積に相当する分だけ減少するの
で、背圧の直接的な影響を受ける洗浄液噴射ノズル１８
の孔１８−１の形成位置における洗浄液噴出強度は低下
する。従って、孔１８−１の形成位置にかかわらず略均
一な噴出圧力で洗浄液が噴射される。
【００３１】また、本発明のウェーハの洗浄装置の第７
実施例は、図９に示すように、洗浄液噴射ノズル１８の
閉塞されている他端２の一部が開放するように形成させ
てから、開放された部位に流量調節用栓４０を嵌合させ
る。ここで、流量調節用栓４０には、軸方向に貫通する
貫通孔が形成され、流量調節用栓４０を洗浄液噴射ノズ
ル１８の連結ライン３０に着脱することで、ここから排
出される洗浄液の量を調節し得るようにする。
実施例は、図９に示すように、洗浄液噴射ノズル１８の
閉塞されている他端２の一部が開放するように形成させ
てから、開放された部位に流量調節用栓４０を嵌合させ
る。ここで、流量調節用栓４０には、軸方向に貫通する
貫通孔が形成され、流量調節用栓４０を洗浄液噴射ノズ
ル１８の連結ライン３０に着脱することで、ここから排
出される洗浄液の量を調節し得るようにする。
【００３２】即ち、本発明のウェーハの洗浄装置は、洗
浄液噴射ノズル１８の他端２の一部が開放されるように
形成させて、開放された部位から一定量の洗浄液が排出
されるようにして、洗浄液噴射ノズル１８の他端２にお
ける背圧を調節し、洗浄液が略均一な圧力でウェーハ１
０に噴射されるようにする。以上説明したように、図１
のように洗浄液が噴射される孔１８−１の断面積を次第
に減らした洗浄液噴射ノズル１８、或いは、図２のよう
に洗浄液噴射ノズルの表面に形成された孔１８−１の数
を一端１から他端２に向かうにつれ、次第に少なくした
洗浄液噴射ノズル１８を用いると、洗浄液が供給される
一端１側では孔１８−１の断面積が大きいので、洗浄液
が小さい抵抗で噴射され、閉塞された他端２側に向かう
につれ、孔１８−１の合計断面積が減るので、洗浄液が
噴射されるときの抵抗が増大する。従って、洗浄液の供
給圧力と孔１８−１の面積との関係を適切に予め設定す
ると、孔１８−１から噴射される洗浄液の噴射圧力を略
均一化させることができる。
浄液噴射ノズル１８の他端２の一部が開放されるように
形成させて、開放された部位から一定量の洗浄液が排出
されるようにして、洗浄液噴射ノズル１８の他端２にお
ける背圧を調節し、洗浄液が略均一な圧力でウェーハ１
０に噴射されるようにする。以上説明したように、図１
のように洗浄液が噴射される孔１８−１の断面積を次第
に減らした洗浄液噴射ノズル１８、或いは、図２のよう
に洗浄液噴射ノズルの表面に形成された孔１８−１の数
を一端１から他端２に向かうにつれ、次第に少なくした
洗浄液噴射ノズル１８を用いると、洗浄液が供給される
一端１側では孔１８−１の断面積が大きいので、洗浄液
が小さい抵抗で噴射され、閉塞された他端２側に向かう
につれ、孔１８−１の合計断面積が減るので、洗浄液が
噴射されるときの抵抗が増大する。従って、洗浄液の供
給圧力と孔１８−１の面積との関係を適切に予め設定す
ると、孔１８−１から噴射される洗浄液の噴射圧力を略
均一化させることができる。
【００３３】また、図３に示すように、洗浄液噴射ノズ
ル１８を少なくとも１回屈曲形成すると共に、洗浄液噴
射ノズル１８の一端１が他端２より高くなるように形成
したノズルを用いると、洗浄液が噴射される位置（高
さ）が互いに異なるので、洗浄液に相対的に高い圧力を
与える閉塞された他端２側の噴射水頭と一端１側の噴射
水頭が異なるが、水頭の先端部の高さが略均一になる。
ル１８を少なくとも１回屈曲形成すると共に、洗浄液噴
射ノズル１８の一端１が他端２より高くなるように形成
したノズルを用いると、洗浄液が噴射される位置（高
さ）が互いに異なるので、洗浄液に相対的に高い圧力を
与える閉塞された他端２側の噴射水頭と一端１側の噴射
水頭が異なるが、水頭の先端部の高さが略均一になる。
【００３４】さらに、図４〜図６に示すように、洗浄液
噴射ノズル１８の洗浄液が流通する流路面積が、洗浄液
が流入する洗浄液噴射ノズル１８の一端１側から閉塞さ
れた他端２に向かうにつれ、小さく形成された洗浄液噴
射ノズル１８を用いると、洗浄液が洗浄液噴射ノズル１
８内部を流通するときの流通抵抗が異なるので、一端１
から他端２に向かうにつれて、次第に洗浄液の圧力が低
下し、各孔１８−１における洗浄液供給圧力が略均一化
され、孔１８−１から噴射される洗浄液の水頭の先端部
の高さが略均一になる。図６に示した洗浄液噴射ノズル
１８が最も理想的であるが、製造はややこしいという短
所がある。
噴射ノズル１８の洗浄液が流通する流路面積が、洗浄液
が流入する洗浄液噴射ノズル１８の一端１側から閉塞さ
れた他端２に向かうにつれ、小さく形成された洗浄液噴
射ノズル１８を用いると、洗浄液が洗浄液噴射ノズル１
８内部を流通するときの流通抵抗が異なるので、一端１
から他端２に向かうにつれて、次第に洗浄液の圧力が低
下し、各孔１８−１における洗浄液供給圧力が略均一化
され、孔１８−１から噴射される洗浄液の水頭の先端部
の高さが略均一になる。図６に示した洗浄液噴射ノズル
１８が最も理想的であるが、製造はややこしいという短
所がある。
【００３５】この他には、図８に示すように、洗浄液噴
射ノズル１８の他端２に、一端１側より小さい断面積を
持つ排出孔を形成し、ここから洗浄液を排出する連結ラ
イン３０を接続した洗浄液噴射ノズル１８を用いると、
従来の洗浄液噴射ノズルのように，他端２における洗浄
液の噴射圧力が増加せずに略均一な圧力分布を実現させ
ることができる。
射ノズル１８の他端２に、一端１側より小さい断面積を
持つ排出孔を形成し、ここから洗浄液を排出する連結ラ
イン３０を接続した洗浄液噴射ノズル１８を用いると、
従来の洗浄液噴射ノズルのように，他端２における洗浄
液の噴射圧力が増加せずに略均一な圧力分布を実現させ
ることができる。
【００３６】また、排出孔の断面積を調節する必要があ
るので、図９に示すように、排出孔より小さい断面積を
有する流量調整用栓４０を排出孔に着脱することによ
り、洗浄液が排出される排出孔の断面積を噴射圧力によ
って適当に調節することができる。
るので、図９に示すように、排出孔より小さい断面積を
有する流量調整用栓４０を排出孔に着脱することによ
り、洗浄液が排出される排出孔の断面積を噴射圧力によ
って適当に調節することができる。
【００３７】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の発
明によれば、噴射孔の形成位置にかかわらず、各噴射孔
から噴射される洗浄液の噴射圧力が略均一化されるの
で、ウェーハのエッチング率に対する均一度を向上させ
ることができる。請求項２記載の発明によれば、孔の数
に応じて噴射孔の断面積が任意に設定されるので、洗浄
液噴射ノズルが簡単に形成され、ウェーハの洗浄装置の
コスト上昇を抑制することができる。
明によれば、噴射孔の形成位置にかかわらず、各噴射孔
から噴射される洗浄液の噴射圧力が略均一化されるの
で、ウェーハのエッチング率に対する均一度を向上させ
ることができる。請求項２記載の発明によれば、孔の数
に応じて噴射孔の断面積が任意に設定されるので、洗浄
液噴射ノズルが簡単に形成され、ウェーハの洗浄装置の
コスト上昇を抑制することができる。
【００３８】請求項３記載の発明によれば、孔の直径に
応じて噴射孔の断面積が任意に設定されるので、洗浄液
噴射ノズルが簡単に形成され、ウェーハの洗浄装置のコ
スト上昇を抑制することができる。請求項４記載の発明
によれば、各噴射孔における洗浄液供給圧力が異なって
も、噴射孔から噴射される洗浄液の水頭の先端部が略同
一高さとなり、請求項１記載の発明と同様に、ウェーハ
のエッチング率に対する均一度を向上させることができ
る。
応じて噴射孔の断面積が任意に設定されるので、洗浄液
噴射ノズルが簡単に形成され、ウェーハの洗浄装置のコ
スト上昇を抑制することができる。請求項４記載の発明
によれば、各噴射孔における洗浄液供給圧力が異なって
も、噴射孔から噴射される洗浄液の水頭の先端部が略同
一高さとなり、請求項１記載の発明と同様に、ウェーハ
のエッチング率に対する均一度を向上させることができ
る。
【００３９】請求項５又は請求項６記載の発明によれ
ば、各噴射孔における洗浄液供給圧力が略均一化され、
請求項１及び請求項４記載の発明と同様に、ウェーハの
エッチング率に対する均一度を向上させることができ
る。請求項７記載の発明によれば、噴射孔から噴射され
る洗浄液の噴射圧力に応じて調整栓を交換するだけで、
洗浄液噴射ノズルの他端から排出される洗浄液の量が調
整されるので、汎用性を付与することができる。
ば、各噴射孔における洗浄液供給圧力が略均一化され、
請求項１及び請求項４記載の発明と同様に、ウェーハの
エッチング率に対する均一度を向上させることができ
る。請求項７記載の発明によれば、噴射孔から噴射され
る洗浄液の噴射圧力に応じて調整栓を交換するだけで、
洗浄液噴射ノズルの他端から排出される洗浄液の量が調
整されるので、汎用性を付与することができる。
【図１】 本発明に係る洗浄液噴射ノズルの第１実施例
を示す詳細図
を示す詳細図
【図２】 本発明に係る洗浄液噴射ノズルの第２実施例
を示す詳細図
を示す詳細図
【図３】 本発明に係る洗浄液噴射ノズルの第３実施例
を示す詳細図
を示す詳細図
【図４】 本発明に係る洗浄液噴射ノズルの第４実施例
を示す断面図
を示す断面図
【図５】 同上の洗浄液噴射ノズルの上面図
【図６】 本発明に係る洗浄液噴射ノズルの第５実施例
を示す詳細図
を示す詳細図
【図７】 同上の各噴射孔における洗浄液噴射の様子を
説明する図
説明する図
【図８】 本発明に係る洗浄液噴射ノズルの第６実施例
を示す詳細図
を示す詳細図
【図９】 本発明に係る洗浄液噴射ノズルの第７実施例
を示す詳細図
を示す詳細図
【図１０】 従来のウェーハの洗浄装置の一実施例を示
す図
す図
【図１１】 同上の洗浄液噴射ノズルの詳細図
【図１２】 同上の洗浄液供給経路を説明する図
【図１３】 同上の各噴射孔における洗浄液噴射の様子
を説明する図
を説明する図
【符号の説明】 １０ ウェーハ １２ 内部洗浄槽 １５ 洗浄液供給管 １８ 洗浄液噴射ノズル １８−１ 孔 ３０ 連結ライン ４０ 流量調節用栓
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ユン−ジュン フー 大韓民国、チューンチェオンブク−ド、チ ェオンジュ、フンダク−グ、ボンミュン ２−ドン（番地無し)
Claims (7)
- 【請求項１】ウェーハが洗浄される洗浄槽と、 該洗浄槽の下部に配設され、洗浄槽内に洗浄液を噴射す
る洗浄液噴射ノズルと、を含んで構成され、 該洗浄液噴射ノズルは、一端が洗浄液供給管に接続さ
れ、他端が閉塞されると共に、洗浄液を噴射する噴射孔
が軸方向に沿って略一定間隔で複数形成されたウェーハ
の洗浄装置において、 前記噴射孔は、一端から他端に向けて、その断面積が減
少するように形成されたことを特徴とするウェーハの洗
浄装置。 - 【請求項２】前記噴射孔は、直径が略一定である少なく
とも１つの孔から形成され、かつ、前記洗浄液噴射ノズ
ルの一端から他端に向けて、孔の数が次第に減少するよ
うに形成されたことを特徴とする請求項１記載のウェー
ハの洗浄装置。 - 【請求項３】前記噴射孔は、１つの孔から形成され、か
つ、前記洗浄液噴射ノズルの一端から他端に向けて、孔
の直径が次第に減少するように形成されたことを特徴と
する請求項１記載のウェーハの洗浄装置。 - 【請求項４】前記洗浄液噴射ノズルは、その一端が他端
より高位置となるように、鉛直面に沿って少なくとも１
回屈曲形成され、前記噴射孔は、直径が略一定である１
つの孔から形成されたことを特徴とする請求項１記載の
ウェーハの洗浄装置。 - 【請求項５】ウェーハが洗浄される洗浄槽と、 該洗浄槽の下部に配設され、洗浄槽内に洗浄液を噴射す
る洗浄液噴射ノズルと、を含んで構成され、 該洗浄液噴射ノズルは、一端が洗浄液供給管に接続さ
れ、他端が閉塞されると共に、洗浄液を噴射する略同一
直径の噴射孔が軸方向に沿って略一定間隔で複数形成さ
れたウェーハの洗浄装置において、 前記洗浄液噴射ノズルは、その一端から他端に向けて、
洗浄液の流路面積が減少するように形成されたことを特
徴とするウェーハの洗浄装置。 - 【請求項６】ウェーハが洗浄される洗浄槽と、 該洗浄槽の下部に配設され、洗浄槽内に洗浄液を噴射す
る洗浄液噴射ノズルと、を含んで構成され、 該洗浄液噴射ノズルは、一端が洗浄液供給管に接続さ
れ、他端が閉塞されると共に、洗浄液を噴射する略同一
直径の噴射孔が軸方向に沿って略一定間隔で複数形成さ
れたウェーハの洗浄装置において、 前記洗浄液噴射ノズルは、その他端に、前記洗浄液供給
管との接続部の流路面積より小さい洗浄液排出孔が形成
されていることを特徴とするウェーハの洗浄装置。 - 【請求項７】前記洗浄液排出孔には、その断面積より小
さい貫通孔が形成された調整栓が嵌合されることを特徴
とする請求項６記載のウェーハの洗浄装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960033875A KR100195334B1 (ko) | 1996-08-16 | 1996-08-16 | 세정장치 |
| KR33875/1996 | 1996-08-16 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1083982A true JPH1083982A (ja) | 1998-03-31 |
Family
ID=19469692
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9219604A Pending JPH1083982A (ja) | 1996-08-16 | 1997-08-14 | ウェーハの洗浄装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5850841A (ja) |
| JP (1) | JPH1083982A (ja) |
| KR (1) | KR100195334B1 (ja) |
| CN (1) | CN1091543C (ja) |
| DE (1) | DE19734485C2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2006238756A (ja) * | 2005-03-02 | 2006-09-14 | Iseki & Co Ltd | 作物洗浄装置 |
| KR100876987B1 (ko) | 2007-11-01 | 2009-01-07 | 주식회사 해진아이엠피 | 이중관 노즐을 가지는 글라스 식각 장치 |
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| JP2016196838A (ja) * | 2015-04-02 | 2016-11-24 | 三菱日立パワーシステムズ株式会社 | ターボ型流体機械の洗浄装置及びターボ型流体機械 |
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| US11097291B2 (en) | 2016-01-14 | 2021-08-24 | Dürr Systems Ag | Perforated plate with increased hole spacing in one or both edge regions of a row of nozzles |
| KR20240052178A (ko) * | 2022-10-14 | 2024-04-23 | 국립공주대학교 산학협력단 | 와이어 컷 방전 가공기 전용 지그 |
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| KR19990086185A (ko) * | 1998-05-26 | 1999-12-15 | 윤종용 | 다양한 크기의 분출구가 형성된 순수 공급관을 갖춘 웨이퍼 세정조 |
| TW391895B (en) * | 1998-10-02 | 2000-06-01 | Ultra Clean Technology Asia Pt | Method and apparatus for washing and drying semi-conductor devices |
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| KR100753335B1 (ko) * | 2001-05-21 | 2007-08-30 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 세정장치의 배스 플레이트 |
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