JPH1084057A - メタルキャリヤフレームを用いたbga半導体パッケージの製造方法及びそのbga半導体パッケージ - Google Patents
メタルキャリヤフレームを用いたbga半導体パッケージの製造方法及びそのbga半導体パッケージInfo
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- JPH1084057A JPH1084057A JP9019725A JP1972597A JPH1084057A JP H1084057 A JPH1084057 A JP H1084057A JP 9019725 A JP9019725 A JP 9019725A JP 1972597 A JP1972597 A JP 1972597A JP H1084057 A JPH1084057 A JP H1084057A
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- carrier frame
- metal carrier
- semiconductor package
- manufacturing
- pcb substrate
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K7/00—Constructional details common to different types of electric apparatus
- H05K7/20—Modifications to facilitate cooling, ventilating, or heating
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 BGAパッケージの熱放出を容易にし、品質
を向上させるとともにその製造単価を節減し得るメタル
キャリヤフレームを用いたBGAパッケージの製造方法
及びその半導体パッケージを提供することである。 【解決手段】 ストリップ又はリール形態のメタルキャ
リヤフレームにユニットPCB基板を付着し、メタルキ
ャリヤフレームの一部を半導体パッケージのヒートスプ
レッダとして構成して半導体パッケージを製造する。
を向上させるとともにその製造単価を節減し得るメタル
キャリヤフレームを用いたBGAパッケージの製造方法
及びその半導体パッケージを提供することである。 【解決手段】 ストリップ又はリール形態のメタルキャ
リヤフレームにユニットPCB基板を付着し、メタルキ
ャリヤフレームの一部を半導体パッケージのヒートスプ
レッダとして構成して半導体パッケージを製造する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はメタルキャリヤフレ
ーム(Metal CarrierFrame)を用いたBGA(Ball Gri
d Array)半導体パッケージの製造方法及びその半導体
パッケージに関するもので、より詳しくはメタルキャリ
ヤフレームにユニットPCB基板をキャリヤユニットご
とに付着してストリップ単位又はリール形態のメタルキ
ャリヤフレームを製造し、このメタルキャリヤフレーム
の一部がBGAパッケージのヒートスプレッダとして機
能するようにすることにより、BGAパッケージの熱放
出を容易にし、品質を向上させるとともにその製造単価
を節減し得るメタルキャリヤフレームを用いたBGAパ
ッケージの製造方法及びその半導体パッケージに関する
ものである。
ーム(Metal CarrierFrame)を用いたBGA(Ball Gri
d Array)半導体パッケージの製造方法及びその半導体
パッケージに関するもので、より詳しくはメタルキャリ
ヤフレームにユニットPCB基板をキャリヤユニットご
とに付着してストリップ単位又はリール形態のメタルキ
ャリヤフレームを製造し、このメタルキャリヤフレーム
の一部がBGAパッケージのヒートスプレッダとして機
能するようにすることにより、BGAパッケージの熱放
出を容易にし、品質を向上させるとともにその製造単価
を節減し得るメタルキャリヤフレームを用いたBGAパ
ッケージの製造方法及びその半導体パッケージに関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】従来の通常的なBGA半導体パッケージ
の構造は、図1の(A)及び(B)に示すように、PC
B基板1の上面に半導体チップ2が付着されており、こ
の半導体チップ2上のチップパッドとPCB基板1の上
面回路パターン11とはワイヤー3でボンディングさ
れ、前記半導体チップ2は外部の酸化及び腐蝕から保護
するためにモルディングコンパウンド4でモルディング
されており、前記PCB基板1の底面には多数のソルダ
ボール5が付着された構造である。
の構造は、図1の(A)及び(B)に示すように、PC
B基板1の上面に半導体チップ2が付着されており、こ
の半導体チップ2上のチップパッドとPCB基板1の上
面回路パターン11とはワイヤー3でボンディングさ
れ、前記半導体チップ2は外部の酸化及び腐蝕から保護
するためにモルディングコンパウンド4でモルディング
されており、前記PCB基板1の底面には多数のソルダ
ボール5が付着された構造である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなBGA半導体パッケージを製造するためには、回路
パターン11が形成されたPCB基板1をストリップ単
位に製作して使用したところ、高価であるPCB基板1
の浪費を来して価格上昇の要因となった。即ち、従来の
BGA半導体パッケージの製造方法では、製造工程上の
移送及び位置制御の円滑化のため、PCB基板1をスト
リップ単位に使用し、これによりPCB基板1のマージ
ン部分は製造工程後に切断されて廃棄処分されるので、
価格上昇の要因となる。さらに、このようなPCB基板
1はその材質が樹脂であるので、パッケージの製造時に
多数の高温工程を経る間、熱膨張によりPCB基板1に
変形が発生して、後続工程が困難になる課題があった。
うなBGA半導体パッケージを製造するためには、回路
パターン11が形成されたPCB基板1をストリップ単
位に製作して使用したところ、高価であるPCB基板1
の浪費を来して価格上昇の要因となった。即ち、従来の
BGA半導体パッケージの製造方法では、製造工程上の
移送及び位置制御の円滑化のため、PCB基板1をスト
リップ単位に使用し、これによりPCB基板1のマージ
ン部分は製造工程後に切断されて廃棄処分されるので、
価格上昇の要因となる。さらに、このようなPCB基板
1はその材質が樹脂であるので、パッケージの製造時に
多数の高温工程を経る間、熱膨張によりPCB基板1に
変形が発生して、後続工程が困難になる課題があった。
【0004】又、BGA半導体パッケージは入出力端子
としてソルダボール5を使用しているが、このようなソ
ルダボール5はその偏平度が適合しないと、マザーボー
ドへの実装時にオープンになる端子が生じてパッケージ
の不良を来す要因となり、高温の製造工程を経ながらP
CB基板1に曲がりが発生すると、その上に付着される
多数のソルダボール5は自然に偏平度が悪くなり、よっ
て不良を起こして生産性低下及び完製品の信頼性低下を
来す要因となる課題があった。
としてソルダボール5を使用しているが、このようなソ
ルダボール5はその偏平度が適合しないと、マザーボー
ドへの実装時にオープンになる端子が生じてパッケージ
の不良を来す要因となり、高温の製造工程を経ながらP
CB基板1に曲がりが発生すると、その上に付着される
多数のソルダボール5は自然に偏平度が悪くなり、よっ
て不良を起こして生産性低下及び完製品の信頼性低下を
来す要因となる課題があった。
【0005】従って、本発明はこのような従来の課題を
解決するためのもので、PCB基板を各々のユニットに
形成してメタルキャリヤフレームに付着させることによ
り、製造工程上の高温によるフレームの変形を最小化
し、パッケージに完成された後には前記キャリヤフレー
ムの一部がPCB基板の上面に付着されて外部に露出さ
れた状態のヒートスプレッダに構成されることにより、
熱放出を容易にしてパッケージの信頼性を向上させるメ
タルキャリヤフレームを用いたBGA半導体パッケージ
の製造方法及びその半導体パッケージを提供することに
その目的がある。
解決するためのもので、PCB基板を各々のユニットに
形成してメタルキャリヤフレームに付着させることによ
り、製造工程上の高温によるフレームの変形を最小化
し、パッケージに完成された後には前記キャリヤフレー
ムの一部がPCB基板の上面に付着されて外部に露出さ
れた状態のヒートスプレッダに構成されることにより、
熱放出を容易にしてパッケージの信頼性を向上させるメ
タルキャリヤフレームを用いたBGA半導体パッケージ
の製造方法及びその半導体パッケージを提供することに
その目的がある。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
の本発明のメタルキャリヤフレームを用いたBGA半導
体パッケージの製造方法は、半導体チップの大きさより
大きく、一列に断続的に形成された多数のホールと、前
記各ホールの周縁を取り囲むように、その付近に形成さ
れる複数のスリット形の貫通ホールと、前記各ホールの
周縁と複数の貫通ホールにより限定され、一列に断続的
に形成される多数の四角環状のPCB基板支持部とを含
むストリップ又はリール形態のメタルキャリヤフレーム
の形成段階と、前記メタルキャリヤフレームに形成され
た各々の四角環状のPCB基板支持部の底面にユニット
PCB基板を接着させて前記ホールを密閉させるユニッ
トPCB基板の付着段階と、前記メタルキャリヤフレー
ムの多数の四角環状のPCB基板支持部の底面にそれぞ
れ付着されたユニットPCB基板の上面に半導体チップ
を実装する半導体チップの実装段階と、実装された半導
体チップのパッドとユニットPCB基板の銅回路パター
ンとを電気的に接続させるため、ワイヤーでボンディン
グするワイヤーボンディング段階と、前記半導体チップ
とワイヤーを外部環境から保護するため、モルディング
コンパウンドでモルディングするモルディング段階と、
前記PCB基板の底面に入出力端子としてのソルダボー
ルを融着させるソルダボール安着段階と、前記メタルキ
ャリヤフレームに形成された複数のスリット形状の貫通
ホール間の領域を切断させる半導体パッケージの分離段
階とから構成されることを特徴とする。
の本発明のメタルキャリヤフレームを用いたBGA半導
体パッケージの製造方法は、半導体チップの大きさより
大きく、一列に断続的に形成された多数のホールと、前
記各ホールの周縁を取り囲むように、その付近に形成さ
れる複数のスリット形の貫通ホールと、前記各ホールの
周縁と複数の貫通ホールにより限定され、一列に断続的
に形成される多数の四角環状のPCB基板支持部とを含
むストリップ又はリール形態のメタルキャリヤフレーム
の形成段階と、前記メタルキャリヤフレームに形成され
た各々の四角環状のPCB基板支持部の底面にユニット
PCB基板を接着させて前記ホールを密閉させるユニッ
トPCB基板の付着段階と、前記メタルキャリヤフレー
ムの多数の四角環状のPCB基板支持部の底面にそれぞ
れ付着されたユニットPCB基板の上面に半導体チップ
を実装する半導体チップの実装段階と、実装された半導
体チップのパッドとユニットPCB基板の銅回路パター
ンとを電気的に接続させるため、ワイヤーでボンディン
グするワイヤーボンディング段階と、前記半導体チップ
とワイヤーを外部環境から保護するため、モルディング
コンパウンドでモルディングするモルディング段階と、
前記PCB基板の底面に入出力端子としてのソルダボー
ルを融着させるソルダボール安着段階と、前記メタルキ
ャリヤフレームに形成された複数のスリット形状の貫通
ホール間の領域を切断させる半導体パッケージの分離段
階とから構成されることを特徴とする。
【0007】また、本発明のメタルキャリヤフレームを
用いたBGA半導体パッケージの製造方法は、メタルキ
ャリヤフレームの形成段階で形成される、複数のスリッ
ト形状の貫通ホールにより限定される四角環状のPCB
基板支持部の外周縁がユニット基板の外周縁と一致する
ように形成されることを特徴とする。
用いたBGA半導体パッケージの製造方法は、メタルキ
ャリヤフレームの形成段階で形成される、複数のスリッ
ト形状の貫通ホールにより限定される四角環状のPCB
基板支持部の外周縁がユニット基板の外周縁と一致する
ように形成されることを特徴とする。
【0008】また、本発明のメタルキャリヤフレームを
用いたBGA半導体パッケージの製造方法は、メタルキ
ャリヤフレーム形成段階で貫通ホールを四つの直線状に
構成して正方形に形成させたことを特徴とする。
用いたBGA半導体パッケージの製造方法は、メタルキ
ャリヤフレーム形成段階で貫通ホールを四つの直線状に
構成して正方形に形成させたことを特徴とする。
【0009】また、本発明のメタルキャリヤフレームを
用いたBGA半導体パッケージの製造方法は、半導体パ
ッケージの分離段階での切断を容易にするため、メタル
キャリヤフレーム形成段階でスリット形状の貫通ホール
間のコーナー部に孔を形成することを特徴とする。
用いたBGA半導体パッケージの製造方法は、半導体パ
ッケージの分離段階での切断を容易にするため、メタル
キャリヤフレーム形成段階でスリット形状の貫通ホール
間のコーナー部に孔を形成することを特徴とする。
【0010】また、本発明のメタルキャリヤフレームを
用いたBGA半導体パッケージの製造方法は、モルディ
ング段階で、モルディングコンパウンドの流入口である
モルドランナーゲートを形成するため、一側コーナー部
には孔を形成しないことを特徴とする。
用いたBGA半導体パッケージの製造方法は、モルディ
ング段階で、モルディングコンパウンドの流入口である
モルドランナーゲートを形成するため、一側コーナー部
には孔を形成しないことを特徴とする。
【0011】また、本発明のメタルキャリヤフレームを
用いたBGA半導体パッケージの製造方法は、モルディ
ング段階で、モルディングコンパウンドの流入口である
モルドランナーゲートを形成するため、ホールの一側の
貫通ホールを一定間隔を置いて離隔された二つに形成す
ることを特徴とする。
用いたBGA半導体パッケージの製造方法は、モルディ
ング段階で、モルディングコンパウンドの流入口である
モルドランナーゲートを形成するため、ホールの一側の
貫通ホールを一定間隔を置いて離隔された二つに形成す
ることを特徴とする。
【0012】また、本発明のメタルキャリヤフレームを
用いたBGA半導体パッケージの製造方法は、メタルキ
ャリヤフレームの形成段階で、メタルキャリヤフレーム
を熱伝導性に優れた銅、銅合金又はステンレスで形成す
ることを特徴とする。
用いたBGA半導体パッケージの製造方法は、メタルキ
ャリヤフレームの形成段階で、メタルキャリヤフレーム
を熱伝導性に優れた銅、銅合金又はステンレスで形成す
ることを特徴とする。
【0013】また、本発明のメタルキャリヤフレームを
用いたBGA半導体パッケージの製造方法は、メタルキ
ャリヤフレームの形成段階で、メタルキャリヤフレーム
の少なくとも一面を銀又はパラジウムスポット鍍金、又
はニッケル鍍金することを特徴とする。
用いたBGA半導体パッケージの製造方法は、メタルキ
ャリヤフレームの形成段階で、メタルキャリヤフレーム
の少なくとも一面を銀又はパラジウムスポット鍍金、又
はニッケル鍍金することを特徴とする。
【0014】また、本発明のメタルキャリヤフレームを
用いたBGA半導体パッケージの製造方法は、ユニット
PCB基板の付着段階で接着に熱伝導性に優れた銀充填
エポキシを使用することを特徴とする。
用いたBGA半導体パッケージの製造方法は、ユニット
PCB基板の付着段階で接着に熱伝導性に優れた銀充填
エポキシを使用することを特徴とする。
【0015】また、本発明のメタルキャリヤフレームを
用いたBGA半導体パッケージの製造方法は、メタルキ
ャリヤフレームの形成段階で、メタルキャリヤフレーム
のPCB基板支持部の上面のホールに隣接した部分に溝
を形成することを特徴とする。
用いたBGA半導体パッケージの製造方法は、メタルキ
ャリヤフレームの形成段階で、メタルキャリヤフレーム
のPCB基板支持部の上面のホールに隣接した部分に溝
を形成することを特徴とする。
【0016】また、本発明のメタルキャリヤフレームを
用いたBGA半導体パッケージの製造方法は、溝が形成
された周辺領域を下方に断層に形成することを特徴とす
る。
用いたBGA半導体パッケージの製造方法は、溝が形成
された周辺領域を下方に断層に形成することを特徴とす
る。
【0017】また、本発明のメタルキャリヤフレームを
用いたBGA半導体パッケージの製造方法は、ユニット
PCB基板の銅回路パターンを含む領域にソルダレジス
ト層を積層することを特徴とする。
用いたBGA半導体パッケージの製造方法は、ユニット
PCB基板の銅回路パターンを含む領域にソルダレジス
ト層を積層することを特徴とする。
【0018】また、本発明のBGA半導体パッケージ
は、半導体チップと、前記半導体チップが上面に実装さ
れ、前記半導体チップの実装された領域の他側に銅回路
パターンが形成されているPCB基板と、前記半導体チ
ップと銅回路パターンとを電気的に接続させるボンドワ
イヤーと、前記PCB基板の上面外郭に、前記半導体チ
ップを取り囲む形態に接着される四角環状のヒートスプ
レッダと、前記半導体チップとワイヤーとを外部環境か
ら保護するよう、前記四角環状のヒートスプレッダの内
側領域を封止するモルディングコンパウンドと、前記P
CB基板の底面に入出力端子として形成される多数のソ
ルダボールとから構成されることを特徴とする。
は、半導体チップと、前記半導体チップが上面に実装さ
れ、前記半導体チップの実装された領域の他側に銅回路
パターンが形成されているPCB基板と、前記半導体チ
ップと銅回路パターンとを電気的に接続させるボンドワ
イヤーと、前記PCB基板の上面外郭に、前記半導体チ
ップを取り囲む形態に接着される四角環状のヒートスプ
レッダと、前記半導体チップとワイヤーとを外部環境か
ら保護するよう、前記四角環状のヒートスプレッダの内
側領域を封止するモルディングコンパウンドと、前記P
CB基板の底面に入出力端子として形成される多数のソ
ルダボールとから構成されることを特徴とする。
【0019】また、本発明のBGA半導体パッケージ
は、ヒートスプレッダの上面が銀又はパラジウムスポッ
ト鍍金、又はニッケル鍍金されることを特徴とする。
は、ヒートスプレッダの上面が銀又はパラジウムスポッ
ト鍍金、又はニッケル鍍金されることを特徴とする。
【0020】また、本発明のBGA半導体パッケージ
は、ヒートスプレッダの上面一部がモルディングコンパ
ウンドにより封止され、前記封止された上面がグラウン
ドボンディングされることを特徴とする。
は、ヒートスプレッダの上面一部がモルディングコンパ
ウンドにより封止され、前記封止された上面がグラウン
ドボンディングされることを特徴とする。
【0021】また、本発明のBGA半導体パッケージ
は、モルディングコンパウンドにより封止されるヒート
スプレッダの上面領域に多数のV形溝が形成されること
を特徴とする。
は、モルディングコンパウンドにより封止されるヒート
スプレッダの上面領域に多数のV形溝が形成されること
を特徴とする。
【0022】また、本発明のBGA半導体パッケージ
は、モルディングコンパウンドにより封止されるヒート
スプレッダの上面領域が下方に断層に形成されることを
特徴とする。
は、モルディングコンパウンドにより封止されるヒート
スプレッダの上面領域が下方に断層に形成されることを
特徴とする。
【0023】また、本発明のBGA半導体パッケージ
は、ヒートスプレッダに隣接した部分のモルディングコ
ンパウンドが前記ヒートスプレッダの上面と同一平面を
成すことを特徴とする。
は、ヒートスプレッダに隣接した部分のモルディングコ
ンパウンドが前記ヒートスプレッダの上面と同一平面を
成すことを特徴とする。
【0024】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を添
付図面を参照して詳細に説明する。図2の(A)及び
(B)は本実施の形態のメタルキャリヤフレームを用い
たBGA半導体パッケージの製造方法により製造された
BGA半導体パッケージの断面図及び平面図である。本
発明のBGA半導体パッケージは、PCB基板10の上
面に半導体チップ20が付着されており、この半導体チ
ップ20上のチップパッドとPCB基板10の上面に形
成された回路パターン11とはワイヤー30でボンディ
ングされ、前記半導体チップ20は外部の酸化及び腐蝕
から保護するためにモルディングコンパウンド40でモ
ルディングされており、前記PCB基板10の底面には
多数のソルダボール50が付着され、前記PCB基板1
0の上面外側、つまりモルディングコンパウンド40の
モルディング領域外側にメタルキャリヤフレーム60の
一部であるPCB基板支持部64がヒートスプレッダと
して付着された構造である。
付図面を参照して詳細に説明する。図2の(A)及び
(B)は本実施の形態のメタルキャリヤフレームを用い
たBGA半導体パッケージの製造方法により製造された
BGA半導体パッケージの断面図及び平面図である。本
発明のBGA半導体パッケージは、PCB基板10の上
面に半導体チップ20が付着されており、この半導体チ
ップ20上のチップパッドとPCB基板10の上面に形
成された回路パターン11とはワイヤー30でボンディ
ングされ、前記半導体チップ20は外部の酸化及び腐蝕
から保護するためにモルディングコンパウンド40でモ
ルディングされており、前記PCB基板10の底面には
多数のソルダボール50が付着され、前記PCB基板1
0の上面外側、つまりモルディングコンパウンド40の
モルディング領域外側にメタルキャリヤフレーム60の
一部であるPCB基板支持部64がヒートスプレッダと
して付着された構造である。
【0025】図3の(A)及び(B)は本実施の形態に
使用されるメタルキャリヤフレーム60を示す平面図で
あり、図4は銀(Ag)又はパラジウム(Pd)のスポ
ット鍍金(spot plate)又は上面がニッケル(Ni)で
鍍金されたメタルキャリヤフレーム60のPCB基板支
持部64の底面に接着剤70によりユニットPCB基板
10を付着したものを示す。
使用されるメタルキャリヤフレーム60を示す平面図で
あり、図4は銀(Ag)又はパラジウム(Pd)のスポ
ット鍍金(spot plate)又は上面がニッケル(Ni)で
鍍金されたメタルキャリヤフレーム60のPCB基板支
持部64の底面に接着剤70によりユニットPCB基板
10を付着したものを示す。
【0026】前記メタルキャリヤフレーム60はとして
は銅、銅合金又はステンレス等のような熱伝導性に非常
に優れた素材を使用することが好ましい。又、前記メタ
ルキャリヤフレーム60にユニットPCB基板10を付
着させる接着剤70としては銀充填エポキシ等のような
熱伝達性のよい接着剤を使用することが好ましい。
は銅、銅合金又はステンレス等のような熱伝導性に非常
に優れた素材を使用することが好ましい。又、前記メタ
ルキャリヤフレーム60にユニットPCB基板10を付
着させる接着剤70としては銀充填エポキシ等のような
熱伝達性のよい接着剤を使用することが好ましい。
【0027】図3の(A)及び(B)はストリップ又は
リール形態になったメタルキャリヤフレーム60の一部
を示す平面図で、多数のユニットPCB基板10が一定
間隔を置いて一列に付着される中央部分にPCB基板1
0より小さく半導体チップよりは大きいホール61を一
列に形成し、前記ホール61の四方にはスリット形状の
貫通ホール62を形成する。前記貫通ホール62のホー
ル61に隣接する周縁は、PCB基板10が付着された
とき、PCB基板1の外周縁と一致するように形成され
る。即ち、メタルキャリヤフレーム60にPCB基板1
0が付着される領域であるPCB基板支持部64はホー
ル61と貫通ホール62間の部位に接着剤70により付
着されるものである。又、PCB基板支持部64のホー
ル61に隣接した部分には溝を形成し、半導体パッケー
ジの製造時にモルディングコンパウンドで封止させるこ
とにより、モルディングコンパウンドとの結合力向上及
び水分浸透防止効果の向上を期待することもできる。
リール形態になったメタルキャリヤフレーム60の一部
を示す平面図で、多数のユニットPCB基板10が一定
間隔を置いて一列に付着される中央部分にPCB基板1
0より小さく半導体チップよりは大きいホール61を一
列に形成し、前記ホール61の四方にはスリット形状の
貫通ホール62を形成する。前記貫通ホール62のホー
ル61に隣接する周縁は、PCB基板10が付着された
とき、PCB基板1の外周縁と一致するように形成され
る。即ち、メタルキャリヤフレーム60にPCB基板1
0が付着される領域であるPCB基板支持部64はホー
ル61と貫通ホール62間の部位に接着剤70により付
着されるものである。又、PCB基板支持部64のホー
ル61に隣接した部分には溝を形成し、半導体パッケー
ジの製造時にモルディングコンパウンドで封止させるこ
とにより、モルディングコンパウンドとの結合力向上及
び水分浸透防止効果の向上を期待することもできる。
【0028】又、前記ホール61の四方に位置する貫通
ホール62と貫通ホール62間のコーナー部には、パッ
ケージの製造後に切断を容易にするため、孔63がそれ
ぞれ形成されている。このような貫通ホール62と孔6
3はパッケージの製造工程中の熱膨張及び収縮による応
力を緩和させ、切断工程においてパンチにより切断され
る断面積を最小化するためのものである。孔63は各コ
ーナー部に形成されるが、図3の(A)に示すように一
側コーナー部には孔63を形成しなく、この部分をモル
ディング時にモルディングコンパウンド40が流入され
るモルドランナーゲート(Mold Runner Gate)として使
用するか、又は図3の(B)に示すように孔63を各コ
ーナー部に全て形成し、一側の貫通ホール62を二つに
分離させ、その二つに分離された貫通ホール62間の領
域はモルディング時にモルディングコンパウンド40が
流入されるモルドランナーゲートとして使用することも
できる。即ち、モルディングコンパウンドが流入される
モルドランナーゲートをメタルキャリヤフレーム60の
上面一部に形成するものである。
ホール62と貫通ホール62間のコーナー部には、パッ
ケージの製造後に切断を容易にするため、孔63がそれ
ぞれ形成されている。このような貫通ホール62と孔6
3はパッケージの製造工程中の熱膨張及び収縮による応
力を緩和させ、切断工程においてパンチにより切断され
る断面積を最小化するためのものである。孔63は各コ
ーナー部に形成されるが、図3の(A)に示すように一
側コーナー部には孔63を形成しなく、この部分をモル
ディング時にモルディングコンパウンド40が流入され
るモルドランナーゲート(Mold Runner Gate)として使
用するか、又は図3の(B)に示すように孔63を各コ
ーナー部に全て形成し、一側の貫通ホール62を二つに
分離させ、その二つに分離された貫通ホール62間の領
域はモルディング時にモルディングコンパウンド40が
流入されるモルドランナーゲートとして使用することも
できる。即ち、モルディングコンパウンドが流入される
モルドランナーゲートをメタルキャリヤフレーム60の
上面一部に形成するものである。
【0029】図4は、前記メタルキャリヤフレーム60
にユニットPCB基板10が接着剤70で付着された状
態の断面を示すもので、メタルキャリヤフレーム60に
一列に形成された多数のホール61ごとにユニットPC
B基板10を付着してストリップ単位に製作するか、又
はリール(Reel)の形態に製作し後続工程を進行させる
ことにより、既存の製造工程をそのまま用いて半導体パ
ッケージを製造した後、最終的にメタルキャリヤフレー
ム60に付着されたPCB基板10の周囲に形成されて
いる貫通ホール62と貫通ホール62との間を切断して
PCB基板支持部64を分離して本実施の形態のBGA
半導体パッケージを製造するものである。
にユニットPCB基板10が接着剤70で付着された状
態の断面を示すもので、メタルキャリヤフレーム60に
一列に形成された多数のホール61ごとにユニットPC
B基板10を付着してストリップ単位に製作するか、又
はリール(Reel)の形態に製作し後続工程を進行させる
ことにより、既存の製造工程をそのまま用いて半導体パ
ッケージを製造した後、最終的にメタルキャリヤフレー
ム60に付着されたPCB基板10の周囲に形成されて
いる貫通ホール62と貫通ホール62との間を切断して
PCB基板支持部64を分離して本実施の形態のBGA
半導体パッケージを製造するものである。
【0030】本実施の形態のメタルキャリヤフレームを
用いたBGA半導体パッケージの製造方法により製造さ
れたBGA半導体パッケージの好ましい具体例を図5乃
至図7に基づいて説明すると次のようである。図5は本
実施の形態の好ましい第1具体例によるBGA半導体パ
ッケージの一部を示す側断面図であり、第1具体例によ
るBGA半導体パッケージは、多数のチップパッドを備
える半導体チップ20と、上下面に銅回路パターン11
が形成され、その上に選択的なソルダレジスト層12が
積層され、半導体チップ20が実装されるPCB基板1
0と、前記半導体チップ20上に備えられたチップパッ
ドとPCB基板10の銅回路パターン11とにボンディ
ングされたワイヤー30と、前記半導体チップ20とそ
の外部構成部品を保護するためにモルディングされたモ
ルディングコンパウンド40と、前記PCB基板10の
上面外郭部に接着剤70により付着されたメタルキャリ
ヤフレーム60の一部で、ヒートスプレッダとして機能
するPCB基板支持部64と、前記メタルキャリヤフレ
ーム60の少なくとも一面、特に上面に酸化及び腐蝕防
止とボンディング力の向上のために鍍金された銀(A
g)、ニッケル(Ni)又はパラジウム(Pb)鍍金層
67と、前記PCB基板10の底面に、外部に信号を引
出するために付着された多数のソルダボール50とから
構成されたものである。ここで、モルディングコンパウ
ンド40は図5の点線に沿ってモルディングされること
もでき、この場合、モルディングコンパウンド40の整
列が容易に成されるので好ましい。
用いたBGA半導体パッケージの製造方法により製造さ
れたBGA半導体パッケージの好ましい具体例を図5乃
至図7に基づいて説明すると次のようである。図5は本
実施の形態の好ましい第1具体例によるBGA半導体パ
ッケージの一部を示す側断面図であり、第1具体例によ
るBGA半導体パッケージは、多数のチップパッドを備
える半導体チップ20と、上下面に銅回路パターン11
が形成され、その上に選択的なソルダレジスト層12が
積層され、半導体チップ20が実装されるPCB基板1
0と、前記半導体チップ20上に備えられたチップパッ
ドとPCB基板10の銅回路パターン11とにボンディ
ングされたワイヤー30と、前記半導体チップ20とそ
の外部構成部品を保護するためにモルディングされたモ
ルディングコンパウンド40と、前記PCB基板10の
上面外郭部に接着剤70により付着されたメタルキャリ
ヤフレーム60の一部で、ヒートスプレッダとして機能
するPCB基板支持部64と、前記メタルキャリヤフレ
ーム60の少なくとも一面、特に上面に酸化及び腐蝕防
止とボンディング力の向上のために鍍金された銀(A
g)、ニッケル(Ni)又はパラジウム(Pb)鍍金層
67と、前記PCB基板10の底面に、外部に信号を引
出するために付着された多数のソルダボール50とから
構成されたものである。ここで、モルディングコンパウ
ンド40は図5の点線に沿ってモルディングされること
もでき、この場合、モルディングコンパウンド40の整
列が容易に成されるので好ましい。
【0031】図6は、本実施の形態のメタルキャリヤフ
レームを用いたBGA半導体パッケージの製造方法によ
る第2具体例であるBGA半導体パッケージの一部を示
す側断面図で、その構成は基本的に第1具体例と同様で
あるが、PCB基板10の上面外郭部に付着されたメタ
ルキャリヤフレーム60のPCBPCB基板支持部64
の一部がモルディングコンパウンド40により封止さ
れ、モルディングに先立ってメタルキャリヤフレーム6
0の封止部分にワイヤー31でグラウンドボンディング
したものである。又、前記メタルキャリヤフレーム60
の埋没部上面に多数の溝68を形成して、モルディング
時、結合力を向上させるとともに水分浸透を効果的に防
止させたもので、前記溝68はV形に形成できる。
レームを用いたBGA半導体パッケージの製造方法によ
る第2具体例であるBGA半導体パッケージの一部を示
す側断面図で、その構成は基本的に第1具体例と同様で
あるが、PCB基板10の上面外郭部に付着されたメタ
ルキャリヤフレーム60のPCBPCB基板支持部64
の一部がモルディングコンパウンド40により封止さ
れ、モルディングに先立ってメタルキャリヤフレーム6
0の封止部分にワイヤー31でグラウンドボンディング
したものである。又、前記メタルキャリヤフレーム60
の埋没部上面に多数の溝68を形成して、モルディング
時、結合力を向上させるとともに水分浸透を効果的に防
止させたもので、前記溝68はV形に形成できる。
【0032】図7は、本実施の形態のメタルキャリヤフ
レームを用いたBGA半導体パッケージの製造方法によ
る第3具体例であるBGA半導体パッケージの一部を示
す側断面図で、その構成は基本的に前記第2具体例と同
様であるが、PCB基板10の上面外郭部に付着された
メタルキャリヤフレーム60のPCB支持部64の一部
がモルディングコンパウンド40により封止される領域
が下部に段層に形成されたものである。前記メタルキャ
リヤフレーム60にはワイヤー31でグラウンドボンデ
ィングし、上面には多数の溝68を形成して、コンパウ
ンド40とのモルディング時、結合力を促進させること
は勿論、水分浸透を防止するものである。
レームを用いたBGA半導体パッケージの製造方法によ
る第3具体例であるBGA半導体パッケージの一部を示
す側断面図で、その構成は基本的に前記第2具体例と同
様であるが、PCB基板10の上面外郭部に付着された
メタルキャリヤフレーム60のPCB支持部64の一部
がモルディングコンパウンド40により封止される領域
が下部に段層に形成されたものである。前記メタルキャ
リヤフレーム60にはワイヤー31でグラウンドボンデ
ィングし、上面には多数の溝68を形成して、コンパウ
ンド40とのモルディング時、結合力を促進させること
は勿論、水分浸透を防止するものである。
【0033】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のメタルキ
ャリヤフレームを用いたBGA半導体パッケージの製造
方法及びその半導体パッケージに使用されるメタルキャ
リヤフレームは、パッケージの製造後、その一部が外部
に露出された状態にパッケージに付着されてヒートスプ
レッダとして作用するので、半導体チップの回路動作時
に発生される熱を外部に易しく放出させることにより、
パッケージの信頼性を向上させるものである。又、本発
明はストリップ又はリール形態のメタルキャリヤフレー
ムにユニットPCB基板を接着させた状態で半導体パッ
ケージの製造工程を遂行するので、PCB基板をストリ
ップ形態に使用して半導体パッケージの製造工程を遂行
する従来の場合に比べて、高温の作業工程においても製
品の曲がり発生を最小化させるとともに、作業工程を単
純化して生産性を向上させることができる。又、メタル
キャリヤフレームの一部であるPCB基板支持部の一部
表面をモルディング時のモルドランナーゲートとして使
用できるので、基板の一部領域を別に鍍金してモルドラ
ンナーゲートとして使用する必要がない。さらに、PC
B基板支持部のモルディング部分に溝を形成させること
により、モルディングコンパウンドとの結合力の向上と
水分浸透防止効果の向上を期待できる効果がある。
ャリヤフレームを用いたBGA半導体パッケージの製造
方法及びその半導体パッケージに使用されるメタルキャ
リヤフレームは、パッケージの製造後、その一部が外部
に露出された状態にパッケージに付着されてヒートスプ
レッダとして作用するので、半導体チップの回路動作時
に発生される熱を外部に易しく放出させることにより、
パッケージの信頼性を向上させるものである。又、本発
明はストリップ又はリール形態のメタルキャリヤフレー
ムにユニットPCB基板を接着させた状態で半導体パッ
ケージの製造工程を遂行するので、PCB基板をストリ
ップ形態に使用して半導体パッケージの製造工程を遂行
する従来の場合に比べて、高温の作業工程においても製
品の曲がり発生を最小化させるとともに、作業工程を単
純化して生産性を向上させることができる。又、メタル
キャリヤフレームの一部であるPCB基板支持部の一部
表面をモルディング時のモルドランナーゲートとして使
用できるので、基板の一部領域を別に鍍金してモルドラ
ンナーゲートとして使用する必要がない。さらに、PC
B基板支持部のモルディング部分に溝を形成させること
により、モルディングコンパウンドとの結合力の向上と
水分浸透防止効果の向上を期待できる効果がある。
【図1】従来のBGA半導体パッケージの構造を示し、
(A)は断面図、(B)は平面図である。
(A)は断面図、(B)は平面図である。
【図2】本発明の一実施の形態のBGA半導体パッケー
ジの構造を示し、(A)は断面図、(B)は平面図であ
る。
ジの構造を示し、(A)は断面図、(B)は平面図であ
る。
【図3】(A),(B)は、本発明の一実施の形態のメ
タルキャリヤフレームを用いたBGA半導体パッケージ
の製造方法及びその半導体パッケージに使用されるメタ
ルキャリヤフレームの構造を示す平面図である。
タルキャリヤフレームを用いたBGA半導体パッケージ
の製造方法及びその半導体パッケージに使用されるメタ
ルキャリヤフレームの構造を示す平面図である。
【図4】本発明の一実施の形態のメタルキャリヤフレー
ムを用いたBGA半導体パッケージの製造方法及びその
半導体パッケージに使用されるメタルキャリヤフレーム
にPCB基板が付着された状態を示す断面図である。
ムを用いたBGA半導体パッケージの製造方法及びその
半導体パッケージに使用されるメタルキャリヤフレーム
にPCB基板が付着された状態を示す断面図である。
【図5】本発明の一実施の形態における第1具体例であ
るBGA半導体パッケージを示す部分側断面図である。
るBGA半導体パッケージを示す部分側断面図である。
【図6】本発明の一実施の形態における第2具体例であ
るBGA半導体パッケージを示す部分側断面図である。
るBGA半導体パッケージを示す部分側断面図である。
【図7】本発明の一実施の形態における第3具体例であ
るBGA半導体パッケージを示す部分側断面図である。
るBGA半導体パッケージを示す部分側断面図である。
1、10 PCB基板 2、20 半導体チップ 3、30、31 ワイヤー 4、40 モルディングコンパウンド 5、50 ソルダボール 11 回路パターン 12 ソルダレジスト層 60 メタルキャリヤフレーム 61 ホール 62 貫通ホール 63 孔 64 PCB基板支持部 67 鍍金層 68 溝 70 接着剤
Claims (18)
- 【請求項1】 半導体チップの大きさより大きく、一列
に断続的に形成された多数のホールと、前記各ホールの
周縁を取り囲むように、その付近に形成される複数のス
リット形の貫通ホールと、前記各ホールの周縁と複数の
貫通ホールにより限定され、一列に断続的に形成される
多数の四角環状のPCB基板支持部とを含むストリップ
又はリール形態のメタルキャリヤフレームの形成段階
と、 前記メタルキャリヤフレームに形成された各々の四角環
状のPCB基板支持部の底面にユニットPCB基板を接
着させて前記ホールを密閉させるユニットPCB基板の
付着段階と、 前記メタルキャリヤフレームの多数の四角環状のPCB
基板支持部の底面にそれぞれ付着されたユニットPCB
基板の上面に半導体チップを実装する半導体チップの実
装段階と、 実装された半導体チップのパッドとユニットPCB基板
の銅回路パターンとを電気的に接続させるため、ワイヤ
ーでボンディングするワイヤーボンディング段階と、 前記半導体チップとワイヤーを外部環境から保護するた
め、モルディングコンパウンドでモルディングするモル
ディング段階と、 前記PCB基板の底面に入出力端子としてのソルダボー
ルを融着させるソルダボール安着段階と、 前記メタルキャリヤフレームに形成された複数のスリッ
ト形状の貫通ホール間の領域を切断させる半導体パッケ
ージの分離段階とから構成されることを特徴とするメタ
ルキャリヤフレームを用いたBGA半導体パッケージの
製造方法。 - 【請求項2】 前記メタルキャリヤフレームの形成段階
で形成される、複数のスリット形状の貫通ホールにより
限定される四角環状のPCB基板支持部の外周縁がユニ
ット基板の外周縁と一致するように形成されることを特
徴とする請求項1記載のメタルキャリヤフレームを用い
たBGA半導体パッケージの製造方法。 - 【請求項3】 前記メタルキャリヤフレーム形成段階で
貫通ホールを四つの直線状に構成して正方形に形成させ
たことを特徴とする請求項1又は請求項2記載のメタル
キャリヤフレームを用いたBGA半導体パッケージの製
造方法。 - 【請求項4】 半導体パッケージの分離段階での切断を
容易にするため、メタルキャリヤフレーム形成段階でス
リット形状の貫通ホール間のコーナー部に孔を形成する
ことを特徴とする請求項3記載のメタルキャリヤフレー
ムを用いたBGA半導体パッケージの製造方法。 - 【請求項5】 モルディング段階で、モルディングコン
パウンドの流入口であるモルドランナーゲートを形成す
るため、一側コーナー部には孔を形成しないことを特徴
とする請求項4記載のメタルキャリヤフレームを用いた
BGA半導体パッケージの製造方法。 - 【請求項6】 モルディング段階で、モルディングコン
パウンドの流入口であるモルドランナーゲートを形成す
るため、ホールの一側の貫通ホールを一定間隔を置いて
離隔された二つに形成することを特徴とする請求項4記
載のメタルキャリヤフレームを用いたBGA半導体パッ
ケージの製造方法。 - 【請求項7】 前記メタルキャリヤフレームの形成段階
で、メタルキャリヤフレームを熱伝導性に優れた銅、銅
合金又はステンレスで形成することを特徴とする請求項
1記載のメタルキャリヤフレームを用いたBGA半導体
パッケージの製造方法。 - 【請求項8】 前記メタルキャリヤフレームの形成段階
で、メタルキャリヤフレームの少なくとも一面を銀又は
パラジウムスポット鍍金、又はニッケル鍍金することを
特徴とする請求項1又は請求項7記載のメタルキャリヤ
フレームを用いたBGA半導体パッケージの製造方法。 - 【請求項9】 ユニットPCB基板の付着段階で接着に
熱伝導性に優れた銀充填エポキシを使用することを特徴
とする請求項1記載のメタルキャリヤフレームを用いた
BGA半導体パッケージの製造方法。 - 【請求項10】 前記メタルキャリヤフレームの形成段
階で、メタルキャリヤフレームのPCB基板支持部の上
面のホールに隣接した部分に溝を形成することを特徴と
する請求項1記載のメタルキャリヤフレームを用いたB
GA半導体パッケージの製造方法。 - 【請求項11】 溝が形成された周辺領域を下方に断層
に形成することを特徴とする請求項10記載のメタルキ
ャリヤフレームを用いたBGA半導体パッケージの製造
方法。 - 【請求項12】 ユニットPCB基板の銅回路パターン
を含む領域にソルダレジスト層を積層することを特徴と
する請求項1記載のメタルキャリヤフレームを用いたB
GA半導体パッケージの製造方法。 - 【請求項13】 半導体チップと、 前記半導体チップが上面に実装され、前記半導体チップ
の実装された領域の他側に銅回路パターンが形成されて
いるPCB基板と、 前記半導体チップと銅回路パターンとを電気的に接続さ
せるボンドワイヤーと、 前記PCB基板の上面外郭に、前記半導体チップを取り
囲む形態に接着される四角環状のヒートスプレッダと、 前記半導体チップとワイヤーとを外部環境から保護する
よう、前記四角環状のヒートスプレッダの内側領域を封
止するモルディングコンパウンドと、 前記PCB基板の底面に入出力端子として形成される多
数のソルダボールとから構成されることを特徴とするB
GA半導体パッケージ。 - 【請求項14】 前記ヒートスプレッダの上面が銀又は
パラジウムスポット鍍金、又はニッケル鍍金されること
を特徴とする請求項13記載のBGA半導体パッケー
ジ。 - 【請求項15】 ヒートスプレッダの上面一部がモルデ
ィングコンパウンドにより封止され、前記封止された上
面がグラウンドボンディングされることを特徴とする請
求項13記載のBGA半導体パッケージ。 - 【請求項16】 モルディングコンパウンドにより封止
されるヒートスプレッダの上面領域に多数のV形溝が形
成されることを特徴とする請求項15記載のBGA半導
体パッケージ。 - 【請求項17】 モルディングコンパウンドにより封止
されるヒートスプレッダの上面領域が下方に断層に形成
されることを特徴とする請求項15又は16記載のBG
A半導体パッケージ。 - 【請求項18】 ヒートスプレッダに隣接した部分のモ
ルディングコンパウンドが前記ヒートスプレッダの上面
と同一平面を成すことを特徴とする請求項13記載のB
GA半導体パッケージ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1996P5345 | 1996-02-29 | ||
| KR1019960005345A KR100192760B1 (ko) | 1996-02-29 | 1996-02-29 | 메탈 캐리어 프레임을 이용한 bag반도체 패키지의 제조방법 및 그반도체 패키지 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1084057A true JPH1084057A (ja) | 1998-03-31 |
| JP2900311B2 JP2900311B2 (ja) | 1999-06-02 |
Family
ID=19452244
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9019725A Expired - Fee Related JP2900311B2 (ja) | 1996-02-29 | 1997-01-17 | メタルキャリヤフレームを用いたbga半導体パッケージの製造方法及びそのbga半導体パッケージ |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5905633A (ja) |
| JP (1) | JP2900311B2 (ja) |
| KR (1) | KR100192760B1 (ja) |
Families Citing this family (46)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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