JPH1086053A - 研磨加工方法及び研磨加工装置 - Google Patents
研磨加工方法及び研磨加工装置Info
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- JPH1086053A JPH1086053A JP8245200A JP24520096A JPH1086053A JP H1086053 A JPH1086053 A JP H1086053A JP 8245200 A JP8245200 A JP 8245200A JP 24520096 A JP24520096 A JP 24520096A JP H1086053 A JPH1086053 A JP H1086053A
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- Japan
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- polisher
- work
- sheet
- polishing
- polishing apparatus
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 特別な熟練を要することなく、形状精度のき
わめて高い仕上げ面を得ることのできる研磨加工方法、
及び、それに用いる研磨加工装置を提供する。 【解決手段】 本発明の研磨加工装置1は、シートポリ
シャ21と、これを往復運動させるポリシャ送り機構
(駆動ローラー35等)を有する。また、シートポリシ
ャ21の加工面にワーク11を当てる手段(エアシリン
ダ5等)を有する。さらに、シートポリシャ21各部の
被加工面に対する押し付けを各部毎に変化させる手段
(磁性流体層23、電磁石25)を具備する。
わめて高い仕上げ面を得ることのできる研磨加工方法、
及び、それに用いる研磨加工装置を提供する。 【解決手段】 本発明の研磨加工装置1は、シートポリ
シャ21と、これを往復運動させるポリシャ送り機構
(駆動ローラー35等)を有する。また、シートポリシ
ャ21の加工面にワーク11を当てる手段(エアシリン
ダ5等)を有する。さらに、シートポリシャ21各部の
被加工面に対する押し付けを各部毎に変化させる手段
(磁性流体層23、電磁石25)を具備する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、棒状の光学素子
(レンズ、ミラー)等の表面仕上げに好適な研磨加工方
法、及び、それに用いる研磨加工装置に関する。特に
は、特別な熟練を要することなく、形状精度のきわめて
高い仕上げ面を得ることのできる研磨加工方法、及び、
それに用いる研磨加工装置に関する。
(レンズ、ミラー)等の表面仕上げに好適な研磨加工方
法、及び、それに用いる研磨加工装置に関する。特に
は、特別な熟練を要することなく、形状精度のきわめて
高い仕上げ面を得ることのできる研磨加工方法、及び、
それに用いる研磨加工装置に関する。
【0002】
【従来の技術】レンズ、プリズム、ミラー等の光学素子
の表面仕上げにおいては、従来より一般的にパッドポリ
シャやピッチポリシャと呼ばれる弾性研磨工具が用いら
れていた。パッドポリシャは、ポリウレタンパッドの表
面に研磨砥粒を付着させたものである。ピッチポリシャ
は、研磨砥粒と油脂とを混合したものである。それらの
工具とワーク(被加工物)を相対的に摺動運動させ、工
具・ワーク界面に介在する研磨砥粒が主たる材料除去を
担っていた。そのような加工に用いる研磨加工装置とし
ては、通常オスカー型と呼ばれる横振り型研磨機や、円
揺動型研磨機が用いられていた。
の表面仕上げにおいては、従来より一般的にパッドポリ
シャやピッチポリシャと呼ばれる弾性研磨工具が用いら
れていた。パッドポリシャは、ポリウレタンパッドの表
面に研磨砥粒を付着させたものである。ピッチポリシャ
は、研磨砥粒と油脂とを混合したものである。それらの
工具とワーク(被加工物)を相対的に摺動運動させ、工
具・ワーク界面に介在する研磨砥粒が主たる材料除去を
担っていた。そのような加工に用いる研磨加工装置とし
ては、通常オスカー型と呼ばれる横振り型研磨機や、円
揺動型研磨機が用いられていた。
【0003】図4は、従来の代表的な、パッドポリシャ
を有する研磨加工装置の主要部を示す図である。(A)
は側面図、(B)は平面図である。図4の研磨加工装置
は、円盤状の回転するラップ盤111を有する。ラップ
盤111の上面にはポリウレタンパッド109が貼られ
ている。このポリウレタンパッド109上表面には、ノ
ズル104から研磨砥粒を含む研磨液が供給される。
を有する研磨加工装置の主要部を示す図である。(A)
は側面図、(B)は平面図である。図4の研磨加工装置
は、円盤状の回転するラップ盤111を有する。ラップ
盤111の上面にはポリウレタンパッド109が貼られ
ている。このポリウレタンパッド109上表面には、ノ
ズル104から研磨砥粒を含む研磨液が供給される。
【0004】ポリウレタンパッド109上には、ワーク
107が、ワークホルダー105中に保持されて載置さ
れている。ワークホルダー105は、全体として円盤状
であるが、下面にワーク107の形をした凹部106が
掘り込まれており、その凹部106にワーク107がは
め込まれている。そして、ワーク107の下面をポリウ
レタンパッド109表面に押し当てて加工する。ワーク
ホルダー105は、ワークホルダー支持棒103(カン
ザシピンと通称される)によって上から押さえられてい
るとともに、左右に往復運動(トラバース)させられ
る。なお、カンザシピン103とワークホルダー105
との連結部は球面軸受状となっている。したがって、ワ
ークホルダー105及びワーク107は、トラバースす
るとともに、ワーク107にかかるポリウレタンパッド
109からの回転摩擦力の合計モーメントを受けて回転
する(連れ回る)こととなる。そして、このワーク10
7自身の回転・トラバースと、ポリウレタンパッド10
9(ラップ盤111)の回転の速度差に対応する摺動速
度で、相対的に摺動する。
107が、ワークホルダー105中に保持されて載置さ
れている。ワークホルダー105は、全体として円盤状
であるが、下面にワーク107の形をした凹部106が
掘り込まれており、その凹部106にワーク107がは
め込まれている。そして、ワーク107の下面をポリウ
レタンパッド109表面に押し当てて加工する。ワーク
ホルダー105は、ワークホルダー支持棒103(カン
ザシピンと通称される)によって上から押さえられてい
るとともに、左右に往復運動(トラバース)させられ
る。なお、カンザシピン103とワークホルダー105
との連結部は球面軸受状となっている。したがって、ワ
ークホルダー105及びワーク107は、トラバースす
るとともに、ワーク107にかかるポリウレタンパッド
109からの回転摩擦力の合計モーメントを受けて回転
する(連れ回る)こととなる。そして、このワーク10
7自身の回転・トラバースと、ポリウレタンパッド10
9(ラップ盤111)の回転の速度差に対応する摺動速
度で、相対的に摺動する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上述の従来のラップ盤
を用いた加工においては、次のような問題点があった。 上述のワークの連れ回りに伴い、特にワークが細長
い棒状の物である場合、被加工物の中心を起点として被
加工面に対して逆方向の摩擦力が加わるため、被加工面
が図5に示すようなねじれた面形状となる傾向がある。
を用いた加工においては、次のような問題点があった。 上述のワークの連れ回りに伴い、特にワークが細長
い棒状の物である場合、被加工物の中心を起点として被
加工面に対して逆方向の摩擦力が加わるため、被加工面
が図5に示すようなねじれた面形状となる傾向がある。
【0006】図5は、従来のラップ盤研磨加工における
棒状のワークの加工癖を模式的に示す図である。
(A)、(C)は側面図、(B)は正面図である。図中
において、ワーク201下面の破線部203が加工除去
される部分(拡大)を示す。
棒状のワークの加工癖を模式的に示す図である。
(A)、(C)は側面図、(B)は正面図である。図中
において、ワーク201下面の破線部203が加工除去
される部分(拡大)を示す。
【0007】 ワークが長物の場合、長手方向におい
て中心から遠く離れるほどラップ盤から受ける摩擦力が
大きくなり(あるいは摩擦距離が長くなり)、より多く
の研磨加工を受けることとなる。その結果、両端部分が
より多く削られたダレ面形状(図6参照、213加工除
去部)となる。
て中心から遠く離れるほどラップ盤から受ける摩擦力が
大きくなり(あるいは摩擦距離が長くなり)、より多く
の研磨加工を受けることとなる。その結果、両端部分が
より多く削られたダレ面形状(図6参照、213加工除
去部)となる。
【0008】 ポリウレタンパッド自体の表面形状が
絶えず凹又は凸のどちらかに変化しようとし、被加工面
も変化するポリウレタンパッド表面形状に追随して変化
する。したがって、超高精度表面を得ようとすると、ポ
リウレタンパッドの使用位置等の管理を行わなければな
らない。
絶えず凹又は凸のどちらかに変化しようとし、被加工面
も変化するポリウレタンパッド表面形状に追随して変化
する。したがって、超高精度表面を得ようとすると、ポ
リウレタンパッドの使用位置等の管理を行わなければな
らない。
【0009】このような状況下において、従来の熟練し
た技能者は、所望の面精度を得るために、ワークホルダ
ーのトラバース幅、カンザシピンの前後の出し入れ、ラ
ップ盤の回転数等の加工パラメーターを自己の経験に基
づいて調整していた。また、ピッチポリシャを用いる場
合は、ピッチ面の慣らし、削り及び修正を、パッドポリ
シャを用いる場合には、そのツルーイング方法の変更等
の工具修正手段を講じていた。
た技能者は、所望の面精度を得るために、ワークホルダ
ーのトラバース幅、カンザシピンの前後の出し入れ、ラ
ップ盤の回転数等の加工パラメーターを自己の経験に基
づいて調整していた。また、ピッチポリシャを用いる場
合は、ピッチ面の慣らし、削り及び修正を、パッドポリ
シャを用いる場合には、そのツルーイング方法の変更等
の工具修正手段を講じていた。
【0010】つまり、従来の光学素子の高精度加工にお
いては、作業者の技能に、その精度及び生産性が大きく
依存していたのが実情であった。近年、光学素子に要求
される形状精度は益々厳しくなってきており、さらに熟
練技能者の確保・養成が一層困難となっているので、要
求精度を満たす製品を安定的に生産することは益々困難
となっている。特に、上述の長物の研磨加工において
は、作業内容が、加工者の技能に大きく依存していると
いうことが作業の標準化の大きな妨げとなっており、所
謂、標準作業書や、作業指導標等について統一的なもの
が、作成しにくいという問題点がある。また、これに付
随し、後進の育成という観点からみても、系統的な教育
が困難であるという問題があった。
いては、作業者の技能に、その精度及び生産性が大きく
依存していたのが実情であった。近年、光学素子に要求
される形状精度は益々厳しくなってきており、さらに熟
練技能者の確保・養成が一層困難となっているので、要
求精度を満たす製品を安定的に生産することは益々困難
となっている。特に、上述の長物の研磨加工において
は、作業内容が、加工者の技能に大きく依存していると
いうことが作業の標準化の大きな妨げとなっており、所
謂、標準作業書や、作業指導標等について統一的なもの
が、作成しにくいという問題点がある。また、これに付
随し、後進の育成という観点からみても、系統的な教育
が困難であるという問題があった。
【0011】本発明は、特別な熟練を要することなく、
形状精度のきわめて高い仕上げ面を得ることのできる研
磨加工方法、及び、それに用いる研磨加工装置を提供す
ることを目的とする。
形状精度のきわめて高い仕上げ面を得ることのできる研
磨加工方法、及び、それに用いる研磨加工装置を提供す
ることを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】これまで列記してきた、
従来研磨加工における様々な問題を解決するため、本発
明者は長期にわたり鋭意研究を行った。そして、その結
果、数々の研磨要因の中で、ラップ盤とワークの摩擦方
向及び従来の研磨皿の運動方向を変化させること、即
ち、従来の研磨加工においてラップ盤が回転し被加工物
が左右に揺動する、この基本となる運動条件の中に問題
があると着目した。
従来研磨加工における様々な問題を解決するため、本発
明者は長期にわたり鋭意研究を行った。そして、その結
果、数々の研磨要因の中で、ラップ盤とワークの摩擦方
向及び従来の研磨皿の運動方向を変化させること、即
ち、従来の研磨加工においてラップ盤が回転し被加工物
が左右に揺動する、この基本となる運動条件の中に問題
があると着目した。
【0013】図4(B)に示すように、被加工物がポリ
シャ(ポリウレタンパッド)の中心部分に来たとき、図
に示す大きな矢印はポリシャの回転方向で、被加工物の
中心を起点とし被加工物の両側部が前後から研磨され
る。これが、被加工物の仕上げ面に、ねじれた面形状を
形成させる原因となる。また、被加工物の形状自体が、
縦と横の長さが違うため、摩擦抵抗が縦長方向の両端部
分が大きく、面形状において縁ダレを起こす原因となっ
ている。
シャ(ポリウレタンパッド)の中心部分に来たとき、図
に示す大きな矢印はポリシャの回転方向で、被加工物の
中心を起点とし被加工物の両側部が前後から研磨され
る。これが、被加工物の仕上げ面に、ねじれた面形状を
形成させる原因となる。また、被加工物の形状自体が、
縦と横の長さが違うため、摩擦抵抗が縦長方向の両端部
分が大きく、面形状において縁ダレを起こす原因となっ
ている。
【0014】そこで、本発明者は、従来のラップ盤にお
ける基本的な運動形態を抜本的に見直し、本発明を完成
するに到った。すなわち、本発明の研磨加工方法は、シ
ート状の研磨工具(シートポリシャ)を往復運動させな
がら、その加工面にワークの被加工面を当てて研磨し、
この際、該シートポリシャの各部の被加工面に対する押
し付けを、該各部毎に変化させることを特徴とする。
ける基本的な運動形態を抜本的に見直し、本発明を完成
するに到った。すなわち、本発明の研磨加工方法は、シ
ート状の研磨工具(シートポリシャ)を往復運動させな
がら、その加工面にワークの被加工面を当てて研磨し、
この際、該シートポリシャの各部の被加工面に対する押
し付けを、該各部毎に変化させることを特徴とする。
【0015】また、本発明の研磨加工装置は、シートポ
リシャと、 このシートポリシャを往復運動させる機構
(ポリシャ送り機構)と、 シートポリシャの加工面に
ワークの被加工面を当てる手段(ワーク当て手段)と、
シートポリシャ各部の被加工面に対する押し付けを各
部毎に変化させる手段(押し付け調整手段)と、 を具
備することを特徴とする。
リシャと、 このシートポリシャを往復運動させる機構
(ポリシャ送り機構)と、 シートポリシャの加工面に
ワークの被加工面を当てる手段(ワーク当て手段)と、
シートポリシャ各部の被加工面に対する押し付けを各
部毎に変化させる手段(押し付け調整手段)と、 を具
備することを特徴とする。
【0016】すなわち、本発明では、被加工面にねじれ
が発生するような加工力は一切働かない。また、研磨工
具が往復を繰り返すため、一方向だけの摩擦力(摩擦距
離)の増大を抑制することができる。また、シートポリ
シャの各部の被加工面に対する押し付けをコントロール
できるので、被加工面の加工癖(面癖)を任意に変化さ
せることができる。
が発生するような加工力は一切働かない。また、研磨工
具が往復を繰り返すため、一方向だけの摩擦力(摩擦距
離)の増大を抑制することができる。また、シートポリ
シャの各部の被加工面に対する押し付けをコントロール
できるので、被加工面の加工癖(面癖)を任意に変化さ
せることができる。
【0017】
【実施例】以下、図面を参照しつつさらに詳しく説明す
る。図1は、本発明の1実施例に係る研磨加工装置を模
式的に示す正面図である。図2は、図1の研磨加工装置
の側面図である。図3は、図1の研磨加工装置の主要部
(磁性流体層周り)の詳細を示す一部断面正面図であ
る。
る。図1は、本発明の1実施例に係る研磨加工装置を模
式的に示す正面図である。図2は、図1の研磨加工装置
の側面図である。図3は、図1の研磨加工装置の主要部
(磁性流体層周り)の詳細を示す一部断面正面図であ
る。
【0018】本実施例の研磨加工装置1は、大きな逆三
角形のループをなすシートポリシャ21を有する。シー
トポリシャ21の上辺の左右は、サポートローラー31
が支えている。シートポリシャ21の下端部には、シー
トポリシャ21を長手方向に駆動する駆動ローラー35
(ポリシャ送り機構)が内側から係合している。駆動ロ
ーラー35は、タイミングベルト37を介してモーター
39によって回転駆動される。シートポリシャ21の張
り具合は、シートポリシャ21の両斜辺を内側に押し付
ける張り調整ローラー33の位置により調整できる。
角形のループをなすシートポリシャ21を有する。シー
トポリシャ21の上辺の左右は、サポートローラー31
が支えている。シートポリシャ21の下端部には、シー
トポリシャ21を長手方向に駆動する駆動ローラー35
(ポリシャ送り機構)が内側から係合している。駆動ロ
ーラー35は、タイミングベルト37を介してモーター
39によって回転駆動される。シートポリシャ21の張
り具合は、シートポリシャ21の両斜辺を内側に押し付
ける張り調整ローラー33の位置により調整できる。
【0019】シートポリシャ21の上辺上には、ワーク
ホルダー9(ワーク当て手段)に保持されたワーク11
が当てられている。ワーク11はワークホルダー9の下
面に掘り込まれた凹部にはめ込まれている。ワークホル
ダー9は、ロッド7を介してエアーシリンダ5によって
シートポリシャ21に押し当てられる。エアーシリンダ
5の基部(上部)はエアースライド3に固定されてい
る。エアースライド3は、図の左右にスライド(トラバ
ース)する。したがって、ワークホルダー9及びワーク
11も左右にトラバースする。シートポリシャ21の上
辺上面には、ノズル13から研磨液が供給され、シート
ポリシャ21上面とワーク11下面(被加工面)間に研
磨砥粒が入り、被加工面の研磨加工が進行する。
ホルダー9(ワーク当て手段)に保持されたワーク11
が当てられている。ワーク11はワークホルダー9の下
面に掘り込まれた凹部にはめ込まれている。ワークホル
ダー9は、ロッド7を介してエアーシリンダ5によって
シートポリシャ21に押し当てられる。エアーシリンダ
5の基部(上部)はエアースライド3に固定されてい
る。エアースライド3は、図の左右にスライド(トラバ
ース)する。したがって、ワークホルダー9及びワーク
11も左右にトラバースする。シートポリシャ21の上
辺上面には、ノズル13から研磨液が供給され、シート
ポリシャ21上面とワーク11下面(被加工面)間に研
磨砥粒が入り、被加工面の研磨加工が進行する。
【0020】シートポリシャ21上辺の下側には、多数
の電磁石25(押し付け調整手段)が、マトリックス状
に配列されている。図示されていないが、シートポリシ
ャ21の幅方向にも、複数の電磁石25が配列されてい
る。電磁石25のコイル27は電磁石用電源41に接続
されている。電磁石25とシートポリシャ21との間に
は、図3に拡大して示されているように、磁性流体層2
3が一面に設けられている。磁性流体23は、浅い受け
皿63の中に溜めてあり、その上表面はシート61(ゴ
ム、テフロン等)で覆われている。シート61の上表面
は、シートポリシャ21が通過する。
の電磁石25(押し付け調整手段)が、マトリックス状
に配列されている。図示されていないが、シートポリシ
ャ21の幅方向にも、複数の電磁石25が配列されてい
る。電磁石25のコイル27は電磁石用電源41に接続
されている。電磁石25とシートポリシャ21との間に
は、図3に拡大して示されているように、磁性流体層2
3が一面に設けられている。磁性流体23は、浅い受け
皿63の中に溜めてあり、その上表面はシート61(ゴ
ム、テフロン等)で覆われている。シート61の上表面
は、シートポリシャ21が通過する。
【0021】電磁石のコイル27への通電方向に応じて
発生した電磁石の磁界が磁性流体23に影響を与え、電
磁石25上方の磁性流体23が上に盛り上がったり、下
に凹んだりする。この作用によって、シートポリシャ2
1上表面の凹凸を微妙に調整できる。なお、磁性流体2
3という流体を介在させたのは、剛性の高い調整手段と
比べて当りを軟らかくすることができるからである。
発生した電磁石の磁界が磁性流体23に影響を与え、電
磁石25上方の磁性流体23が上に盛り上がったり、下
に凹んだりする。この作用によって、シートポリシャ2
1上表面の凹凸を微妙に調整できる。なお、磁性流体2
3という流体を介在させたのは、剛性の高い調整手段と
比べて当りを軟らかくすることができるからである。
【0022】図2に示されているように、サポートロー
ラー31は、その両軸端をスライド51に支持されてい
る。スライド51は、マイクロメーターヘッド53を回
すことにより上下に位置調整できるので、サポートロー
ラー31の上下位置及び傾き、ひいてはシートポリシャ
21の全体的な高さ・傾きを調整できる。
ラー31は、その両軸端をスライド51に支持されてい
る。スライド51は、マイクロメーターヘッド53を回
すことにより上下に位置調整できるので、サポートロー
ラー31の上下位置及び傾き、ひいてはシートポリシャ
21の全体的な高さ・傾きを調整できる。
【0023】本実施例の研磨加工装置を用いた研磨加工
方法をまとめて説明する。シートポリシャ21に適当な
張力をかけて、図の左右に往復動させる。その際、基本
的には、往動と復動の距離は同じとする。ノズル13か
ら研磨液をシートポリシャ21上に垂らす。ワークホル
ダー9の凹部にワーク11を入れ、ワーク11の下面を
シートポリシャ21上表面に押し当てる。そしてワーク
11も適当に左右トラバースさせる。各電磁石25の動
作は、電磁石用電源41を介してNC装置43によって
コントロールする。さらに、シートポリシャ21の往復
動やワークホルダー9のトラバースもNC装置43でコ
ントロールする。このコントロール方法としては、同種
のワークにおける過去の作業の経験をパターン化しても
よいし、何らかのオンマシン形状測定装置からの信号を
フィードバックするものであってもよい。
方法をまとめて説明する。シートポリシャ21に適当な
張力をかけて、図の左右に往復動させる。その際、基本
的には、往動と復動の距離は同じとする。ノズル13か
ら研磨液をシートポリシャ21上に垂らす。ワークホル
ダー9の凹部にワーク11を入れ、ワーク11の下面を
シートポリシャ21上表面に押し当てる。そしてワーク
11も適当に左右トラバースさせる。各電磁石25の動
作は、電磁石用電源41を介してNC装置43によって
コントロールする。さらに、シートポリシャ21の往復
動やワークホルダー9のトラバースもNC装置43でコ
ントロールする。このコントロール方法としては、同種
のワークにおける過去の作業の経験をパターン化しても
よいし、何らかのオンマシン形状測定装置からの信号を
フィードバックするものであってもよい。
【0024】なお、本発明の研磨加工方法にあっては、
シートポリシャ21の往復は必須である。もし一方向の
送りのみでは、ポリシャと被加工物の摩擦力の関係か
ら、ポリシャの入側の方の端部が多く加工されるため、
面形状が不良となる。
シートポリシャ21の往復は必須である。もし一方向の
送りのみでは、ポリシャと被加工物の摩擦力の関係か
ら、ポリシャの入側の方の端部が多く加工されるため、
面形状が不良となる。
【0025】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
は、被検面のねじれが原理的に発生しないので、高い面
精度が簡単に得られることになる。即ち、作業中におい
て従来まで必要であった、熟練した技能をさほど必要と
せずに、所望の面精度が得られるため、作業内容の標準
化が可能となる。
は、被検面のねじれが原理的に発生しないので、高い面
精度が簡単に得られることになる。即ち、作業中におい
て従来まで必要であった、熟練した技能をさほど必要と
せずに、所望の面精度が得られるため、作業内容の標準
化が可能となる。
【0026】また、工具等の精度も最小限に抑えること
ができるので、安定した研磨加工が可能となる。故に、
生産性も大きく向上させることができる。
ができるので、安定した研磨加工が可能となる。故に、
生産性も大きく向上させることができる。
【図1】本発明の1実施例に係る研磨加工装置を模式的
に示す正面図である。
に示す正面図である。
【図2】図1の研磨加工装置の側面図である。
【図3】図1の研磨加工装置の主要部(磁性流体層周
り)の詳細を示す一部断面正面図である。
り)の詳細を示す一部断面正面図である。
【図4】従来の代表的なパッドポリシャを有する研磨加
工装置の主要部を示す図である。(A)は側面図、
(B)は平面図である。
工装置の主要部を示す図である。(A)は側面図、
(B)は平面図である。
【図5】従来のラップ盤研磨加工における棒状のワーク
の加工癖を模式的に示す図である。(A)、(C)は側
面図、(B)は正面図である。
の加工癖を模式的に示す図である。(A)、(C)は側
面図、(B)は正面図である。
【図6】従来のラップ盤研磨加工における棒状のワーク
の加工癖(面垂れ)を模式的に示す図である。
の加工癖(面垂れ)を模式的に示す図である。
1 研磨加工装置 3 エアースライ
ド 5 エアーシリンダ 7 ロッド 9 ワークホルダー 11 ワーク 13 ノズル 21 シートポリ
シャ 23 磁性流体層 25 電磁石 27 コイル 31 サポートロ
ーラー 33 張り調整ローラー 35 駆動ローラ
ー 37 タイミングベルト 39 モーター 41 電磁石用電源 43 NC装置 51 スライド 53 マイクロメ
ーターヘッド 61 シート 63 受け皿
ド 5 エアーシリンダ 7 ロッド 9 ワークホルダー 11 ワーク 13 ノズル 21 シートポリ
シャ 23 磁性流体層 25 電磁石 27 コイル 31 サポートロ
ーラー 33 張り調整ローラー 35 駆動ローラ
ー 37 タイミングベルト 39 モーター 41 電磁石用電源 43 NC装置 51 スライド 53 マイクロメ
ーターヘッド 61 シート 63 受け皿
Claims (5)
- 【請求項1】 シート状の研磨工具(シートポリシャ)
を往復運動させながら、その加工面にワークの被加工面
を当てて研磨し、この際、該シートポリシャの各部の被
加工面に対する押し付けを、該各部毎に変化させること
を特徴とする研磨加工方法。 - 【請求項2】 シートポリシャと、 このシートポリシャを往復運動させる機構(ポリシャ送
り機構)と、 シートポリシャの加工面にワークの被加工面を当てる手
段(ワーク当て手段)と、 シートポリシャ各部の被加工面に対する押し付けを各部
毎に変化させる手段(押し付け調整手段)と、 を具備することを特徴とする研磨加工装置。 - 【請求項3】 上記ワーク当て手段がトラバース機構を
有する請求項2記載の研磨加工装置。 - 【請求項4】 上記シートポリシャがループ状のベルト
である請求項2記載の研磨加工装置。 - 【請求項5】 上記押し付け調整手段が、上記シートポ
リシャの反加工面側に多数配置された電磁石と、該シー
トポリシャと電磁石との間に配置された磁性流体の層
と、を有する請求項2記載の研磨加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8245200A JPH1086053A (ja) | 1996-09-17 | 1996-09-17 | 研磨加工方法及び研磨加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8245200A JPH1086053A (ja) | 1996-09-17 | 1996-09-17 | 研磨加工方法及び研磨加工装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1086053A true JPH1086053A (ja) | 1998-04-07 |
Family
ID=17130118
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8245200A Pending JPH1086053A (ja) | 1996-09-17 | 1996-09-17 | 研磨加工方法及び研磨加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1086053A (ja) |
-
1996
- 1996-09-17 JP JP8245200A patent/JPH1086053A/ja active Pending
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