JPH1087834A - ポリオルガノシルセスキオキサン、その製造方法並びに該化合物を含有する樹脂組成物 - Google Patents
ポリオルガノシルセスキオキサン、その製造方法並びに該化合物を含有する樹脂組成物Info
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- JPH1087834A JPH1087834A JP8239395A JP23939596A JPH1087834A JP H1087834 A JPH1087834 A JP H1087834A JP 8239395 A JP8239395 A JP 8239395A JP 23939596 A JP23939596 A JP 23939596A JP H1087834 A JPH1087834 A JP H1087834A
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Abstract
止基であり、かつ、全側鎖基が水酸基含有基であるかま
たは側鎖基が実質的に水酸基含有基とエポキシ基含有基
とからなり、数平均分子量が1000〜30000であ
る水酸基含有ポリオルガノシルセスキオキサン。この化
合物は、エポキシ基含有トリアルコキシシランと水とを
反応させて、該エポキシ基含有トリアルコキシシランを
加水分解・縮重合させるとともに、該エポキシ基を水と
反応させてジオール化した後、1官能性シリル化剤と反
応させることにより製造される。 【効果】 この化合物は、保存安定性に優れ、均一で高
い反応性を有する。この方法では、製造時にゲル化せ
ず、安定供給可能。
Description
ルセスキオキサン、その製造方法並びに該水酸基含有ポ
リオルガノシルセスキオキサンを含有する樹脂組成物に
関し、さらに詳しくは側鎖に水酸基、エポキシ基含有基
(例:グリシジル基)等の反応性基を有するポリオルガ
ノシルセスキオキサン、その製造方法並びに該水酸基含
有ポリオルガノシルセスキオキサンを含有する樹脂組成
物に関する。
アルキル基、アリール基等の側鎖〕で示される梯子状ポ
リオルガノシロキサンは、通称「ラダーシリコーン」と
呼ばれ、その特異な構造と性能に着目して古くから研究
されてきた。
またはR’)として、それまでのメチル基等のアルキル
基やフェニル基等のアリール基以外の側鎖を有するラダ
ーシリコーンの合成を試み、側鎖に、ビニル基やメタク
リロキシプロピル基をフェニル基とともに併せ持つラダ
ーシリコーンの合成に成功したことを報告している(Pr
eprints Japan,29,73(1980)Polymer)。
ル基、アルケニル基の他にアラルキル基、これらのハロ
ゲン置換誘導体基を有するラダーシリコーンも提案され
ている(例えば特開昭50−111198号公報、特開
平3−20331号公報)。
含有するラダーシリコーンの主鎖末端にγ-メタクリロ
キシアルキルトリアルコキシシラン(特開昭57−12
057)やγ-メタクリロキシアルキルジメチルクロル
シラン(特開昭59−213728号公報)を反応させ
て、レジスト等に使用される光重合性のシリコーン化合
物;側鎖にメチル基とγ-メタクリロキシ基が5/1の
割合で存在するラダーシリコーン(数平均分子量450
0)に、ω-ジメルカプト変性ジメチルポリシロキサン
を反応させたメルカプト基含有ラダーシリコーン(特開
平5−125192号公報);側鎖に不飽和基またはメ
ルカプト基を1分子当たり少なくとも1個含有する直鎖
状ポリシロキサンをグラフトしてなるグラフト変性ラダ
ーシリコーン(特開平6−41307号公報);などが
提案され、この特開平6−41307号公報には、該不
飽和基やメルカプト基を12.5〜20モル%含むラダ
ーシリコーンの合成例が報告されている。
ラフト用基体ラダーシリコーンの側鎖として、該不飽和
基やメルカプト基の他に炭素原子数1〜3のアルキル
基、置換または非置換フェニル基から選ばれたものが好
ましいとしており、その実施例にはメチル基が75モル
%以上のラダーシリコーンが例示されている。
るメチルトリアルコキシシランの反応性が他のシランモ
ノマーに比べ著しく高いため、実際には側鎖にメルカプ
ト基が導入されないラダーシリコーンが統計学上数%〜
十数%の確率で生成することになり、均一で高い反応性
を有する水酸基含有ラダーシリコーンを得ることは困難
である。
酸基、アルコキシル基等を有するポリオルガノシルセス
キオキサンは、末端の水酸基、アルコキシル基などの官
能基の反応性が高く、ゲル化を起こしてしまい、合成不
可能であったと述べている。
ンは、例えば、特開平2−107638公報に記載され
ているが、具体的な実施例はなく、また、この水酸基含
有ポリオルガノシルセスキオキサン調製用モノマーに相
当する水酸基含有トリアルコキシシランを原料として従
来知られている方法で、この公報に記載のものに相当す
る水酸基含有ポリオルガノシルセスキオキサンの合成を
試みたところ、ゲル化が起こり目的とする水酸基含有ポ
リオルガノシルセスキオキサンは得られなかった。
酸基を含有するポリオルガノシルセスキオキサンを得る
べく鋭意研究を重ねた結果、グリシジル基等のエポキシ
基含有トリアルコキシシランを加水分解・縮重合しラダ
ー構造を構築する際に、特定の酸性触媒を用いることに
よって、グリシジル基等の側鎖のエポキシ基と水とを反
応させることにより、少なくとも1分子中(側鎖基中)
に1個以上の水酸基を含有するポリオルガノシルセスキ
オキサンを得ることができることなどを見出して本発明
を完成するに至った。
題点を解決しようとするものであって、保存安定性に優
れ、均一で高い反応性を有するポリオルガノシルセスキ
オキサンおよび該水酸基含有ポリオルガノシルセスキオ
キサンを含有する樹脂組成物を提供することを目的とし
ている。
可能な水酸基含有ポリオルガノシルセスキオキサンの製
造方法を提供することを目的とする。
ルセスキオキサン(官能基含有ポリオルガノシロキサ
ン)は、主鎖末端基の75モル%以上が、末端封止基
(endcap group)、好ましくはトリアルキ
ルシリル基、トリフェニルシリル基、、フェニルジアル
キルシリル基、ジフェニルアルキル基のうちから選択さ
れる何れか1種または2種以上の基(但し、これらの基
中の水素原子の全部または一部がハロゲン原子で置換さ
れていてもよい。)であり、かつ、全側鎖基が水酸基含
有基であるかまたは実質的に水酸基含有基とエポキシ基
含有基とからなっているかであり、数平均分子量が10
00〜30000であることを特徴としている。
セスキオキサンの製造方法は、エポキシ基含有トリアル
コキシシランと水とを反応させて、該エポキシ基含有ト
リアルコキシシランを加水分解・縮重合させるととも
に、該エポキシ基を水と反応させてジオール化した後、
1官能性シリル化剤と反応させることにより、上記の水
酸基含有ポリオルガノシルセスキオキサンを得ることを
特徴としている。
コキシシランを、加水分解・縮重合する際に、酸触媒、
好ましくは硫酸の存在下に行うことが好ましく、さらに
は硫酸を該シラン1モルに対して0.00005〜0.
05モルの量で用いることが望ましい。
含有ポリオルガノシルセスキオキサンと、アルコール性
水酸基含有アクリル樹脂と、ポリイソシアネートとを含
有することを特徴としている。
セスキオキサンは、保存安定性に優れている。このよう
な水酸基含有ポリオルガノシルセスキオキサンは、上記
方法によればゲル化が生ずることなく製造できる。
側鎖基中の水酸基含有基、エポキシ基含有基の量(モル
%)、あるいは主鎖中のトリアルキルシリル基等の末端
封止基(エンド キャップ基)の量(モル%)は、特に
その趣旨に反しない限り、何れもその平均値で示す。
リオルガノシルセスキオキサンおよびその製造方法につ
いて具体的に説明する。
サン]本発明に係る水酸基含有ポリオルガノシルセスキ
オキサンは、主鎖末端基の75モル%以上が、末端封止
基(end cap group)、好ましくはトリアル
キルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジアル
キルシリル基、ジフェニルアルキルシリル基のうちから
選択される何れか1種または2種以上の基(置換基)で
あり、かつこれらの基中の水素原子の全部または一部が
ハロゲン原子で置換されていてもよい。
ノシルセスキオキサンでは、全側鎖基中に、水酸基含有
基が1〜100モル%、好ましくは50〜100モル
%、特に好ましくは75〜100モル%の量で存在し、
残部が実質的にエポキシ基含有基であり、数平均分子量
が1000〜30000(3万)、好ましくは1000
〜10000(1万)、特に好ましくは2000〜50
00である。
%未満でも合成上、オリゴマーの安定性等の点では特に
問題はないが、このような量ではイソシアネート硬化を
させる際に充分な効果を発揮し得ない恐れがある。
スキオキサンの数平均分子量が1000未満では、ラダ
ー構造を形成することが困難となる傾向があり、300
00を超えると汎用性溶剤との相溶性が低下する傾向が
ある。
スキオキサンは、例えば、下記式(A)で表わされる構造
を有しており、式中、Rm,Rnは、側鎖有機基であり、
-O-Rq,-O-Rr,-O-Rs,-O-Rtは、主鎖の末端基
であり、pは繰り返し単位を示し、2〜90の数であ
る。
セスキオキサンでは、この(ii)主鎖末端基(式(A)で
は、Rq,Rr,Rs,Rt)が、末端封止基(end c
ap group)、好ましくはトリアルキルシリル
基、トリフェニルシリル基、フェニルジアルキルシリル
基、ジフェニルアルキルシリル基のうちから選択される
何れか1種または2種以上の基(置換基)であり、かつ
これらの基(置換基)中の水素原子の全部または一部が
ハロゲン原子で置換されていてもよい。
R11R12(R10,R11,R12は、互いに同一または相異
なるアルキル基、好ましくはそれぞれ炭素数1〜5、さ
らには1〜3の鎖状炭化水素基を示す。)で示され、R
10、R11、R12中の水素原子は、その全部または一部が
Cl,Br,I等のハロゲン原子で置換されていてもよ
い。
は、具体的には、例えば、Si原子に3個の鎖状炭化水
素基が結合したトリメチルシリル基、トリエチルシリル
基、トリプロピルシリル基、エチルジメチルシリル基、
ジエチルメチルシリル基、プロピルジメチルシリル基、
ジプロピルメチルシリル基、プロピルジエチルシリル
基、ジプロピルエチルシリル基、ブチルジメチルシリル
基、t-ブチルジメチルシリル基等;Si原子に3個の
芳香族炭化水素基が結合したトリフェニルシリル基等;
トリアルキルシリル基中の水素原子の一部がハロゲン原
子で置換されたクロルメチルジメチルシリル基:-Si
(CH3)2CH2Cl;などが挙げられる。
原子に1個のフェニル基が結合し、2個の鎖状炭化水素
基が結合した官能基で、例えば、フェニルジメチルシリ
ル基、フェニルジエチルシリル基、フェニルジプロピル
シリル基、フェニルエチルメチルシリル基、フェニルプ
ロピルメチルシリル基、フェニルプロピルエチルシリル
基等が挙げられる。
i原子に2個のフェニル基が結合し、1個の鎖状炭化水
素基が結合した官能基で、例えば、ジフェニルメチルシ
リル基、ジフェニルエチルシリル基、ジフェニルプロピ
ルシリル基等が挙げられる。
は、水酸基含有ポリオルガノシルセスキオキサン中に複
数個存在しており、これらの側鎖基は実質的に水酸基含
有基またはエポキシ基含有基の何れかからなっており、
水酸基含有基は、側鎖基(側鎖有機基)中の1〜100
モル%、好ましくは50〜100モル%、さらに好まし
くは75〜100モル%の量(エポキシ基含有基はそれ
ぞれ残部量であって、「実質的に」とは、場合によって
は数モル%以内でアルキル基、アルケニル基、フェニル
基など他の有機基が存在できるの意である。)で含まれ
ていることが望ましい。この水酸基含有基が、1モル%
未満でも合成上オリゴマーの安定性等の点では特に問題
はないが、このような量ではイソシアネート硬化をさせ
る際に充分な効果を発揮し得ない恐れがある。
α、β−ジオールが挙げられ、例えば、下記の式(イ)
または式(ロ)のようなものが適当である。
くは6のシクロアルキル基を示し、Dは、単結合または
2価炭化水素基を示し、この2価炭化水素基は炭素数1
〜8、好ましくは1〜5であり、直鎖状または分岐状で
あってもよく、酸素原子(エーテル結合)、硫黄原子
(チオエーテル結合)を含んでいてもよいアルキレン基
である。式(ロ)中、nは0から3の整数、好ましくは
0であり、Dは、単結合または2価炭化水素基を示し、
この2価炭化水素基は炭素数1〜8、好ましくは1〜5
であり、直鎖状または分岐状であってもよく、酸素原子
(エーテル結合)、硫黄原子(チオエーテル結合)を含
んでいてもよいアルキレン基である。] このような式(イ)で示される水酸基含有基としては、
例えば、β−(3,4−ジヒドロキシシクロヘキシル)
エチル基、β−(3,4−ジヒドロキシシクロヘキシ
ル)プロピル基、γ−(3,4−ジヒドロキシシクロヘ
キシル)プロピル基、β−(3,4−ジヒドロキシシク
ロヘプチル)エチル基、β−(3,4−ジヒドロキシシ
クロヘキシル)ブチル基、β−(3,4−ジヒドロキシ
シクロヘキシル)ペンチル基などが挙げられ、β−
(3,4−ジヒドロキシシクロヘキシル)エチル基、β
−(3,4−ジヒドロキシシクロヘキシル)プロピル基
が好ましい。
は、例えば、β−(2,3−ジヒドロキシプロピルオキ
シ)エチル基、γ−(3,4−ジヒドロキシプロピルオ
キシ)プロピル基、γ−(3,4−ジヒドロキシプロピ
ルオキシ)ブチル基、2,3−ジヒドロキシプロピル
基、3,4−ジヒドロキシブチル基などが挙げられ、β
−(2,3−ジヒドロキシプロピルオキシ)エチル基、
γ−(3,4−ジヒドロキシプロピルオキシ)プロピル
基が好ましい。特に好ましくは、γ−(3,4−ジヒド
ロキシプロピルオキシ)プロピル基である。
基、オキシラン基含有基)としては、好ましくは、下記
式(ハ)、(ニ)が挙げられる。
くは6のシクロアルキル基を示し、Dは、単結合または
2価炭化水素基を示し、この2価炭化水素基は炭素数1
〜8、好ましくは1〜5であり、直鎖状または分岐状で
あってもよく、酸素原子(エーテル結合)、硫黄原子
(チオエーテル結合)を含んでいてもよいアルキレン基
である。] このような脂環族系のエポキシ基含有基としては、具体
的には、例えば、β-(3,4-エポキシシクロヘキシ
ル)エチル基、γ−(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル)プロピル基、β−(3,4−エポキシシクロヘプチ
ル)エチル基、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)
プロピル基、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)ブ
チル基、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)ペンチ
ル基などが挙げられ、β−(3,4−ジヒドロキシシク
ロヘキシル)エチル基、β-(3,4-エポキシシクロヘ
キシル)エチル基、β-(3,4-エポキシシクロヘキシ
ル)プロピル基が好ましい。
しくは0であり、Dは、2価炭化水素基を示し、この2
価炭化水素基は炭素数1〜8、好ましくは1〜5であ
り、直鎖状または分岐状であってもよく、酸素原子(エ
ーテル結合)、硫黄原子(チオエーテル結合)を含んで
いてもよいアルキレン基である。] このような直鎖状または分岐状で脂肪族系のエポキシ基
含有基としては、例えば、β-グリシドキシエチル基、
γ-グリシドキシプロピル基、γ-グリシドキシブチル
基、グリシジル基、3,4−エポキシブチル基などが挙
げられ、β−グリシドキシエチル基、γ-グリシドキシ
プロピル基が好ましい。特に好ましくは、γ-グリシド
キシプロピル基である。
シ基含有基は1種含まれていてもよく2種以上含まれて
いてもよい。エポキシ基含有基以外の有機基としては、
側鎖基の数モル%以内で、例えば、メチル基、エチル
基、n−プロピル基、フェニル基などを含ませることが
できる。
オルガノシルセスキオキサンの製造方法について説明す
る。
ルコキシシランと水とを反応させて、該エポキシ基含有
トリアルコキシシランを加水分解・縮重合させるととも
に、該エポキシ基を水と反応させてジオール化した後、
1官能性シリル化剤と反応させて上記の水酸基含有ポリ
オルガノシルセスキオキサンを製造することが好まし
い。
有トリアルコキシシランとしては、下記(ホ−1)、
(ヘ−1)に示すようなものが例示しうる。
ましくは6のシクロアルキル基を示し、Dは、単結合ま
たは2価炭化水素基を示し、この2価炭化水素基は炭素
数1〜8、好ましくは1〜5であり、直鎖状または分岐
状であってもよく、酸素原子(エーテル結合)、硫黄原
子(チオエーテル結合)を含んでいてもよいアルキレン
基である。R3、R4、R5は、それぞれ独立に、炭素数
1〜8好ましくは1〜5の炭化水素基を示し、これら炭
化水素基は直鎖状であってもよく分岐状であってもよ
い。R3、R4、R5は、それぞれ独立に、炭素数1〜8
好ましくは1〜5の炭化水素基を示し、これら炭化水素
基は直鎖状であってもよく分岐状であってもよい。] このようなエポキシ基が脂環構造の炭化水素基に含まれ
たエポキシ基含有トリアルコキシシランとしては、具体
的には、例えば、β-(3,4-エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリメトキシシラン、β-(3,4-エポキシ
シクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、γ-
(3,4-エポキシシクロヘキシル)プロピルトリメト
キシシラン、γ-(3,4-エポキシシクロヘキシル)プ
ロピルトリエトキシシラン、β-(3,4-エポキシシク
ロヘプチル)エチルトリメトキシシラン、β-(3,4-
エポキシシクロヘプチル)エチルトリエトキシシラン、
β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)ブチルトリメト
キシシラン、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)ブ
チルトリエトキシシラン、β-(3,4-エポキシシクロ
ヘキシル)ペンチルトリメトキシシランなどが挙げら
れ、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリ
メトキシシラン、β-(3,4-エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリエトキシシラン、β-(3,4-エポキシ
シクロヘキシル)プロピルトリメトキシシランが好まし
く用いられる。
好ましくは0であり、Dは、2価炭化水素基を示し、こ
の2価炭化水素基は炭素数1〜8、好ましくは1〜5で
あり、直鎖状または分岐状であってもよく、酸素原子
(エーテル結合)、硫黄原子(チオエーテル結合)を含
んでいてもよいアルキレン基である。R3、R4、R
5は、それぞれ独立に、炭素数1〜8好ましくは1〜5
の炭化水素基を示し、これら炭化水素基は直鎖状であっ
てもよく分岐状であってもよい。] このようなエポキシ基(オキシラン基)が鎖状の炭化水
素基に結合したエポキシ基含有トリアルコキシシランと
しては、具体的には、例えば、β-グリシドキシエチル
トリメトキシシラン、β-グリシドキシエチルトリエト
キシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、
γ-グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ-グリシ
ドキシブチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシペ
ンチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシペンチル
トリエトキシシラン、グリシジルトリエトキシシラン等
が挙げられ、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、
β-グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β-グリシ
ドキシエチルトリエトキシシランが好ましく用いられ
る。
有トリアルコキシシランを1種または2種以上組み合わ
せて用いてもよい。本発明では、このようなエポキシ基
含有トリアルコキシシランと水とを反応(加水分解・縮
重合、ジオール化)させるが、この反応に際しては、エ
ポキシ基含有トリアルコキシシランの総モル数に対し
て、水は、1.0〜8.0倍モル、好ましくは1.5〜
8.0倍モル、さらに好ましくは3.0〜6.0倍モル
の量で用いられる。
に硫酸の共存下に行うことが好ましく、エポキシ基含有
トリアルコキシシラン1モルに対して酸触媒は、0.0
0005〜0.05倍モル、好ましくは0.005〜
0.05倍モルの量で用いられる。
1.0倍モル未満では加水分解が十分に進行せず、また
水の使用量が8.0倍モルを越えると、縮合反応が急速
に起こり、ゲル化が生じやすくなる。
シシラン1モルに対して0.00005モル未満では、
加水分解、縮合が極めて遅くなり効率的でない。また酸
の使用量が0.05モルを越える場合は不規則な三次元
的縮合反応が起こって、規則性の高い所望のラダー構造
が得られないばかりでなく、ゲル化を生じる傾向があ
る。
硝酸、硫酸等の無機酸や蟻酸、酢酸、蓚酸等の有機酸が
挙げられ、硫酸が好ましく用いられる。なお、グリシジ
ル基と反応してエステルを生成する酸、例えば、塩酸、
酢酸等は反応中にグリシジル基と反応してしまうため、
加水分解・縮合が上記の触媒量では進行せず、本反応で
の使用はあまり好ましくない。また、硝酸は、危険性の
高い硝酸エステル化合物が生成する恐れがあり好ましく
なく、本反応では硫酸を使用することが最も好ましい。
一般的に反応温度は、通常0〜100℃程度であり、反
応時間は1〜24時間程度である。反応を効率よく行
い、また、ラダー構造の規則性を高めるために、最初の
加水分解反応を0〜20℃の比較的低温で0.5〜1.
0時間行ってから、引き続き昇温し、50〜100℃、
好ましくは60〜75℃で1〜10時間反応させること
が望ましい。このような反応は、不活性ガス中で行うこ
とが好ましく、このような不活性ガスとしては、窒素ガ
ス、アルゴンガスなどが挙げられる。
用いて中和することにより行い、その際に生じる塩は、
濾過あるいは水洗等により除去する。場合によっては脱
塩に先立ち、充分に水分を除去することが必要であり、
その際には水と共沸性を有する溶媒、例えば酢酸ブチ
ル、アルコールやトルエン等を添加して、蒸留操作を行
ってもよい。
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、n-ブチルアミ
ン、トリエチルアミン等が挙げられる。上記のような反
応(エポキシ基含有トリアルコキシシランの加水分解・
縮重合反応、および該エポキシ基のジオール化)を行う
と、主鎖末端未封止の水酸基含有ポリオルガノシルセス
キオキサン(a)が得られる。得られた主鎖末端未封止の
水酸基含有ポリオルガノシルセスキオキサン(a)の主鎖
末端には、水酸基及び/又はアルコキシ基が存在してい
る。
用いて、このような未封止の主鎖末端の末端封止(シリ
ル化)反応を行うことにより、主鎖末端の少なくとも7
5モル%以上、好ましくは80〜100モル%を末端封
止基(エンドキャップ基)に置換することが望ましい。
未封止の主鎖末端基からエンドキャップ基(末端封止
基)への置換の量、すなわち末端封止基の量が75モル
%未満では、水酸基含有ポリオルガノシルセスキオキサ
ン(b)(例:全側鎖に水酸基を含有したポリオルガノシ
ルセスキオキサン)の貯蔵時における安定性に乏しく、
ゲル化を生じやすく実用上不都合が生じることがある。
リオルガノシルセスキオキサン(a)の末端シリル化反応
を行うには、主鎖末端未封止の水酸基含有ポリオルガノ
シルセスキオキサン(a)の溶液に、下記のシリル化剤
(末端封止剤、end cap剤)を添加し反応させれ
ばよい。ここで言うエンドキャップとは、ポリオルガノ
シルセスキオキサンの珪素原子に直結した反応性の高い
Si−OR、Si−OHのOR基、OH基などを、OS
i(CH3)3等で置換することを言う(R:アルキル
基)。エンドキャップ化を行うことにより、ポリシルセ
スキオキサンの多量化反応が遅くなり、保存安定性が良
好となる。
(例:ヘキサメチルジシロキサン)は、計算量よりやや
過剰量(例:末端シラノール基1個に対して、通常1.
2〜5倍程度の量)で使用することが好ましい。
応は、上記エポキシ基含有トリアルコキシシランの加水
分解・縮重合反応、ジオール化などと同様に、例えば、
窒素等の不活性ガス中で、通常、20〜100℃、好ま
しくは30〜95℃、さらに好ましくは50〜90℃
で、例えば1〜8時間程度実施される。また、このよう
な反応を停止させるには、例えば水酸化カリウムのメタ
ノール溶液などが用いられる。
タノール、イソプロピルアルコール、酢酸ブチル、酢酸
エチル、MIBKなどを少量[主鎖末端未封止の水酸基
含有ポリオルガノシルセスキオキサン(a)とシリル化剤
との合計100重量部に対して、10〜1000重量
部、好ましくは10〜100重量部程度]で使用するこ
とができる。本発明の好ましい態様においては、エポキ
シ基含有トリアルコキシシランを加水分解・縮重合して
水酸基含有ポリオルガノシルセスキオキサンを製造する
際に副生するアルコール(好ましくはメタノール、エタ
ノールまたはこれらの混合物)を、主鎖末端の水酸基及
び/またはアルコキシ基の主鎖末端封止基(エンドキャ
ップ基)への置換工程での溶媒として使用することが望
ましい。
はpH3〜5程度の酸性下で行うと効果的である。この
場合、用いられる酸としては、例えば、塩酸、硫酸、硝
酸等の無機酸や蟻酸、酢酸、蓚酸等の有機酸が挙げられ
る。
止(例:トリメチルシリル化)の度合いや溶媒の種類等
によって適宜設定し得る。 <末端封止剤(シリル化剤)>末端封止剤(end c
ap)としては、例えば、前記加水分解の際の過剰量の
水の影響を受けにくいもの、あるいはトリアルキルシリ
ル化剤自体が酸性雰囲気下で加水分解されてシリル化剤
となるもの等が用いられる。
(i):
以上の非置換または置換炭化水素基を示し、これらは互
いに同一であってもよく、異なっていてもよい。Aは、
水酸基または加水分解性基を示す。)で表わされる化合
物が好ましい。
ノマーを加水分解縮合するのに要した過剰の水で加水分
解される基を意味し、このような加水分解性基Aとして
は、具体的には、例えば、水素、メルカプト基、ハロゲ
ン、ヒドロキシ基、ビニル基、アミノ基、グリシジル
基、カルボキシル基、非置換または置換炭化水素基含有
オキシ基(例:アラルキルオキシ基、アリールオキシ基
など)、アミノ基、非置換または置換炭化水素基含有カ
ルボニルオキシ基、あるいは、下記式(ii):
1以上の非置換または置換炭化水素基を示し、これら
は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
Bは、エーテル酸素、アミノ基を示す。)で表わされる
基等が挙げられる。
は、例えば、次のような化合物が挙げられる。すなわ
ち、トリメチルシラノール、メトキシトリメチルシラ
ン、メトキシトリエチルシラン、トリエチルエトキシシ
ラン、2−クロロエトキシトリメチルシラン、クロロメ
チルジメチルエトキシシラン、エトキシトリメチルシラ
ン、2−プロピニルオキシトリメチルシラン、ジメチル
エトキシエチニルシラン、1−クロロメチル−2−クロ
ロエトキシトリメチルシラン、アリルオキシトリメチル
シラン、エトキシジメチルビニルシラン、イソプロペン
オキシトリメチルシラン、3−クロロプロピルトリメチ
ルシラン、アリルオキシジメチルビニルシラン、1−ク
ロロメチルエトキシジメチルビニルシラン、tert−
ブトキシトリメチルシラン、1−メチルプロピルオキシ
トリメチルシラン、イソブトキシトリメチルシラン、ブ
トキシトリメチルシラン、3−アミノプロピルジメチル
エトキシシラン、フルフリルオキシトリメチルシラン、
トリメチルペンチルオキシシラン、イソペンチルオキシ
トリメチルシラン、2,4−ジクロロフェニルオキシト
リメチルシラン、クロロメチルジメチルフェノキシシラ
ン、2−クロロフェノキシトリメチルシラン、4−ニト
ロフェノキシトリメチルシラン、ヒドロキシフェノキシ
トリメチルシラン、ジメチルフルフリルオキシビニルシ
ラン、2−ヒドロキシフェノキシトリメチルシラン、1
−クロロヘキセニルオキシトリメチルシラン、シクロヘ
キシルオキシトリメチルシラン、ヘキシルオキシトリメ
チルシラン、ブチル−2−ヒドロキシエチルチオメチル
ジメチルシラン、ジメチルエチニル−2,4,5−トリ
クロロフェノキシシラン、2,4−ジクロロフェノキシ
エチニルジメチルシラン、トリメチルシリルベンゾエー
ト、ベンジルオキシクロロメチルジメチルシラン、3−
アミノフェノキシジメチルビニルシラン、ジメチルエト
キシ−3−グリシドキシプロピルシラン、ジメチル−2
−[(2−エトキシエトキシ)エトキシ]ビニルシラ
ン、メトキシトリプロピルシラン、ジメチル−3−メチ
ル−4−クロロフェノキシビニルシラン、ジメチル−2
−メチル−4−クロロフェノキシビニルシラン、クロロ
メチルジメチル−2−フェニルエトキシシラン、ベンジ
ルジメチルエトキシシラン、ジメチル−2−ピペリジノ
エトキシビニルシラン、2−エチルヘキシルオキシトリ
メチルシラン、オクチルトリメチルシラン、トリエチル
シリルベンゾエート、ベンジリデン−3−エトキシジメ
チルシリルプロピルアミン、ジフェニルエトキシメチル
シラン、ドデシルオキシトリメチルシラン、ジフェニル
エトキシビニルシラン、アセチルトリフェニルシラン、
エトキシトリフェニルシラン、トリフェニルシラノー
ル、トリメチルシラノール、トリエチルシラノール、ト
リプロピルシラノール、トリブチルシラノール、ペンタ
メチルジシロキサン、1,3−ジエチニル−1,1,
3,3−テトラメチルジシロキサン、N,O−Bis
(トリメチルシリル)トリフルオロアセトアミド、1,
3−ジビニル1,1,3,3−テトラメチルジシロキサ
ン、Bis(トリメチルシリル)ウラシル、Bis(ト
リメチルシリル)チロシン、1,3−Bis(アセトキ
シメチル)テトラメチルジシロキサン、1−(N,N−
ジメチルチオカルバモイルチオメチル)−1,1,3,
3−テトラメチル−3−ビニルジシロキサン、1,3−
Bis(3−クロロプロピル)テトラメチルジシロキサ
ン、1,3−Bis(3−メルカプトプロピル)テトラ
メチルジシロキサン、1,3−Bis(3−ヒドロキシ
プロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサ
ン、1,3−Bis(3−アミノプロピル)テトラメチ
ルジシロキサン、1,3−Bis(2−アミノエチルア
ミノメチル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキ
サン、3−メチルピペリジノメチルペンタメチルジシロ
キサン、4−メチルピペリジノメチルペンタメチルジシ
ロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、1,3−ジブチ
ル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1−
(2−メチルピペリジノメチル)−1,1,3,3−テ
トラメチル−3−ビニルジシロキサン、1−(3−メチ
ルピペリジノメチル)−1,1,3,3−テトラメチル
−3−ビニルジシロキサン、ペンタメチル−3−ピペリ
ジノプロピルジシロキサン、1,3−Bis(3−アセ
トキシプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3−
Bis[3−(N−メチルカルバモイルオキシプロピ
ル)テトラメチルジシロキサン、3−(4−メチルピペ
リジノプロピル)ペンタメチルジシロキサン、3−(2
−メチルピペリジノプロピル)ペンタメチルジシロキサ
ン、1,3−ジフェニル−1,1,3,3−テトラメチ
ルジシロキサン、1,3−Bis(ジオキシアニルエチ
ル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、
1,3−Bis(3−グリシドキシプロピル)−1,
1,3,3−テトラメチルジシロキサン、ヘキサプロピ
ルジシロキサン、1,3−ジメチル−1,1,3,3−
テトラフェニルジシロキサン、1,1,3,3−テトラ
フェニル−1,3−ジビニルシロキサン、アリルジメチ
ルシラン、ジエチルメチルシラン、トリエチルシラン、
ブチルジメチルシラン、ジメチルフェニルシラン、メチ
ルフェニルビニルシラン、トリプロピルシラン、ジフェ
ニルメチルシラン、トリフェニルシラン、1−ピペリジ
ノメチル−1,1,3,3−テトラメチル−3−ビニル
ジシロキサン、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テ
トラメチルジシラザン、ペンタメチルピペリジノメチル
ジシロキサン、4−トリメチルシロキシフェニルトリメ
チルシラン、ヘキサメチルジシロキサン、3−(3−メ
チルピペリジノプロピル)ペンタメチルジシロキサン、
トリメチルクロロシラン、トリエチルクロロシラン、ト
リプロピルクロロシラン、ジエチルメチルクロロシラ
ン、エチルジメチルクロロシラン、ブチルジメチルクロ
ロシラン、t-ブチルジメチルクロロシラン、ブチルジ
エチルクロロシラン、t-ブチルジエチルクロロシラ
ン、トリフェニルクロロシラン、ジフェニルメチルクロ
ロシラン、フェニルジメチルクロロシランなど。
上適宜組み合わせて用いることができる。このような末
端封止剤のうちでは、トリメチルシラノール、ヘキサメ
チルジシロキサン、クロルメチルジメチルエトキシシラ
ン、アセチルトリフェニルシラン、エトキシトリフェニ
ルシラン、トリフェニルシラノール、トリエチルシラノ
ール、トリプロピルシラノール、トリブチルシラノー
ル、ヘキサエチルジシロキサン、トリメチルメトキシシ
ラン、トリメチルエトキシシラン、トリエチルメトキシ
シラン、トリエチルエトキシシランが好ましく、さらに
はヘキサエチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサ
ン、トリメチルシラノール、トリエチルシラノールが好
ましく用いられる。
ガノシルセスキオキサン(b)は、そのまま単独で、接着
剤、耐熱性コーティング材料、印刷製版材料、プリント
配線作成材料、レタリング用レジスト材料等の用途に用
いてもよい。
セスキオキサン(b)と、例えば、アルコール性水酸基含
有アクリル樹脂と、ポリイソシアネートまたはメラミン
と、を配合して樹脂組成物として、接着剤、塗料等の用
途に用いてもよい。このような樹脂組成物は、アルミ等
の金属の他、ガラス、アクリル樹脂、ABS樹脂、ポリ
カーボネートなどとの接着に使用可能であり、特にアル
ミとの密着性に優れている。このような樹脂組成物が上
記金属用接着剤として使用される場合には、このような
樹脂組成物には、水酸基含有ポリオルガノシルセスキオ
キサン(b)は0.01〜20重量部、好ましくは0.1
〜10重量部の量で、アルコール性水酸基含有アクリル
樹脂は10〜90重量部、好ましくは30〜60重量部
の量で、ポリイソシアネートまたはメラミンは10〜9
0重量部、好ましくは30〜60重量部の量で、必要に
より含有されるトルエン、キシレン、酢酸ブチル、プロ
ピレングリコールメチルエーテルアセテート等の溶剤
(粘度調節剤)は、10〜90重量部、好ましくは30
〜60重量部の量で含まれていてもよい。但し、樹脂組
成物中の全成分合計を100重量部とする。
ては、例えば、水酸基価20〜200(KOHmg/
g)程度のアクリルポリオール、ポリエーテルポリオー
ル、ポリエステルポリオールなどが挙げられる。
キサメチレンジイソシアネート系ポリイソシアネート、
イソホロンジイソシアネート系ポリイソシアネートなど
が挙げられる。
にもよるが、例えば、塗料として用いられる場合には、
上記成分に加えて、さらに、着色顔料、可塑剤、顔料分
散剤、増粘剤、殺虫・殺菌剤、充填剤(増量剤)、錆止
剤、艶消し剤、防汚剤(毒物)、金属粉などの任意成分
が含まれていてもよい。
ポリオルガノシルセスキオキサンは、均一で高い反応性
を有しており、かつ保存安定性も優れており、しかも製
造時にゲル化しにくい。
ガノシルセスキオキサンと、アルコール性水酸基を有す
るアクリル共重合樹脂およびポリイソシアネート化合物
からなる樹脂組成物は、金属、特にアルミとの密着性に
優れている。
的に説明するが、本発明は下記の例に限定されるもので
はない。
下記の方法に従って測定した。 [密着性]JIS K5400に準じた碁盤目法(枡目
数100)で評価した。
r社製AMX-400を使用し、1H-NMR、13C-NM
R、29Si-NMRの解析を行った。
VALOR-III型フーリエ変換赤外分光光度計を使用
し、透過率測定により赤外吸収スペクトルを測定した。
クロマトグラフィー(GPC)を用いて測定した。測定
に際して、島津製作所製「CR-3A」を使用し、カラ
ムには、昭和電工株式会社製「ショウデックスKF-8
01、KF-802、KF-803、KF-804」を直
列につないで使用し、ポリスチレンを標準物質として測
定した。
入管を取付けた500ミリリットルのフラスコに窒素気
流下でγ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン2
36.34g(1000mmol)、水54.06g
(3000mmol)を仕込み、該フラスコ内の混合物
を5℃まで冷却した。
9g(5mmol)を30分かけて該混合物に滴下した
後、この混合物を10℃に60分間保った。次いで、反
応容器の温度を水浴で調節して、混合物の反応温度を7
0℃に保った。加水分解縮合反応を窒素気流下に3時間
行い、次にヘキサメチルジシロキサン65g(400m
mol)を添加してシリル化反応を3時間行った。
いで、反応溶液を水酸化カリウム水溶液で中和し、反応
液(混合物)を室温(25℃)下に一晩保持した。
いで、2層のうちで採取した下層に酢酸ブチル150g
を添加して、混合物を200mmHg、40℃で蒸留
し、200gの溶媒を除去した。
加した後、1時間撹拌した。次いで、平均細孔径が0.
8ミクロンのフィルターで濾過し、無色透明の溶液(9
00g)を得た。
数平均分子量は3600であった。この化合物の1H-N
MR測定の結果、原料のグリシジル基は観測されず、ま
た、IR測定の結果から、水酸基が生成していることが
明らかとなった。これらのことより、グリシジル基と水
が反応して水酸基が生成したものと考えられる。
し、1H-NMR測定により、消失した水酸基の定量を行
ったところ、仕込み量のグリシジル基が水と反応して生
じたジオールと当量の水酸基が消失していることが確認
され、ここで合成したポリオルガノシルセスキオキサン
の側鎖のほとんど(95モル%以上)がジオールに変換
していることが確認された。
成されたポリオルガノシルセスキオキサンの主鎖末端基
の平均75モル%以上(具体的には82%)がトリアル
キルシリル化されていた。
の水の量を下記のように変更して水酸基含有ポリオルガ
ノシルセスキオキサンを製造した。
入管を取付けた500ミリリットルのフラスコに窒素気
流下でγ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン2
36.34g(1000mmol)、水18.02g
(1000mmol)を仕込み、混合物を5℃まで冷却
した。濃度10.0%の塩酸水溶液4.9g(5mmo
l)を30分かけて混合物に滴下した後、混合物を10
℃に60分間保った。
て、混合物の反応温度を70℃に保って、加水分解縮合
反応を窒素気流下に3時間行い、次にヘキサメチルジシ
ロキサン65g(400mmol)を添加して、同じ温
度(70℃)で、窒素気流下にシリル化反応を3時間行
った。
応溶液を水酸化カリウム水溶液で中和し、混合物を室温
(25)℃に一晩保持した。次いで、酢酸ブチル150
gを添加して、混合物を200mmHg、40℃で蒸留
し、200gの溶媒を除去した。得られた溶液に200
gの酢酸ブチルを添加した後、1時間撹拌した。平均細
孔径が0.8ミクロンのフィルターで濾過し、無色透明
の溶液(900g)を得た。
平均分子量は2000であった。この化合物の1H-NM
R測定から、未反応のグリシジル基が多く確認され、ま
た、この化合物は安定性が悪く、3日後にゲル化した。
の酸の量を下記のように変更して水酸基含有ポリオルガ
ノシルセスキオキサンを製造した。
入管を取付けた500ミリリットルのフラスコに窒素気
流下でγ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン23
6.34g(1000mmol)、水54.06g(3
000mmol)を仕込み、混合物を5℃まで冷却し
た。10.0%の塩酸水溶液0.01g(0.01mm
ol)を30分かけて混合物に滴下した後、混合物を1
0℃に60分間保った。
て、混合物の反応温度を70℃に保って、加水分解縮合
反応を窒素気流下に3時間行い、次にヘキサメチルジシ
ロキサン65g(400mmol)を添加して、同じ温
度(70℃)で、窒素気流下にシリル化反応を3時間行
った。得られた反応液を40℃まで冷却した。反応溶液
を水酸化カリウム水溶液で中和し、混合物を室温に一晩
保持した。得られた反応混合物に酢酸ブチル150gを
添加して、混合物を200mmHg、40℃で蒸留し、
240gの溶媒を除去した。
加した後、1時間撹拌した。平均細孔径0.8ミクロン
のフィルターで濾過し、無色透明の溶液(900g)を
得た。
平均均分子量は600であった。この化合物の1H-NM
R及び29Si-NMRを測定したところ、原料モノマー
の加水分解縮合反応が充分に進行せず、未反応のモノマ
ー、低分子のオリゴマーが多く観測され、また、求める
ラダー構造が殆ど構築されていなかった。
の酸の種類を下記のように変更して水酸基含有ポリオル
ガノシルセスキオキサンを製造した。
入管を取付けた500ミリリットルのフラスコに窒素気
流下でγ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン23
6.34g(1000mmol)、水54.06g(3
000mmol)を仕込み、仕込んだこの混合物を5℃
まで冷却した。濃度3.6%の塩酸水溶液10.13g
(10mmol)を、30分かけて混合物に滴下した
後、得られた混合物を10℃に60分間保った。
て、混合物の反応温度を70℃に保って、加水分解縮合
反応を窒素気流下に3時間行い、次にヘキサメチルジシ
ロキサン65g(400mmol)を添加して、同じ温
度(70℃)で、窒素気流下にシリル化反応を3時間行
った。得られた反応液を40℃まで冷却した。反応溶液
を水酸化カリウム水溶液で中和し、得られた混合物を室
温に一晩保持した。
を添加して、得られた混合物を200mmHg、40℃
で蒸留し、240gの溶媒を除去した。得られた溶液に
200gの酢酸ブチルを添加した後、1時間撹拌した。
平均細孔径0.8ミクロンのフィルターで濾過し、無色
透明の溶液(900g)を得た。
物の数平均分子量は600であった。この化合物は触媒
である塩酸がグリシジル基と反応してしまい加水分解縮
合がほとんど進行せず、また、1H-NMR測定の結果、
グリシジル基に対する水の付加反応もほとんど進行せ
ず、水酸基の生成が認められなかった。
記成分を均一に混合配合した組成物を調製した。この組
成物をアルミ鋼鈑(JIS A1050P)に、得られ
る乾燥膜厚が20μmになるように塗装後、室温で7日
間放置し、基材を作成した。この基材の碁盤目密着性評
価を行ったところ、100/100となった。
記成分を均一に混合配合した組成物を調製した。この組
成物をアルミ鋼鈑(JIS A1050P)に、得られ
る乾燥膜厚が20μmになるように塗装後、室温で7日
間放置し、基材を作成した。この基材の碁盤目密着性評
価を行ったところ、100/100となった。
製した。得られた組成物をアルミ鋼鈑(JIS A10
50P)にその乾燥膜厚が20μmになるように塗装
後、室温で7日間放置し、基材を作成した。この基材の
碁盤目密着性評価を行ったところ、0/100となっ
た。
着性試験)を測定した結果を併せて表1に示す。
用いたもの)温度計、撹拌装置、還流冷却器及び窒素導
入管を取付けた50ミリリットルのフラスコに窒素気流
下でγ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン23
6.34g(1000mmol)、水54.06g(3
000mmol)を仕込み、仕込んだこの混合物を5℃
まで冷却した。
4.9g(5mmol)を、30分かけて該混合物に滴
下した後、得られた混合物を10℃に60分間保った。
次いで、反応容器の温度を水浴で調節して、混合物の反
応温度を70℃に保って、加水分解縮合反応を窒素気流
下に3時間行い、次にヘキサフェニルジシロキサン21
3.92g(400mmol)を添加して、同じ温度
(70℃)で、窒素気流下にシリル化反応を3時間行っ
た。得られた反応液を40℃まで冷却した。反応溶液を
水酸化カリウム水溶液で中和し、得られた反応液(混合
物)を室温(25℃)下に一晩放置した。
た。該下層からの採取物に酢酸ブチル150gを添加し
て、得られた混合物を200mmHg、40℃で蒸留
し、200gの溶媒を除去した。得られた溶液に200
gの酢酸ブチルを添加した後、1時間撹拌した。
ィルターで濾過し、無色透明の溶液(1000g)を得
た。GPCにて分子量測定したところ、得られた化合物
(溶液)の数平均分子量は4000であった。
のグリシジル基は観測されず、また、IR測定の結果か
ら、水酸基が生成していることが明かとなった。これら
のことより、グリシジル基と水が反応して水酸基が生成
したものと考えられる。
し、1H-NMR測定により、消失した水酸基の定量を行
ったところ、仕込み量のグリシジル基が水と反応して生
じたジオールと当量の水酸基が消失していることが確認
され、ここで合成したポリオルガノシルセスキオキサン
の側鎖のほとんど(95モル%以上)がジオールに変換
していることが確認された。
成されたポリオルガノシルセスキオキサンの主鎖末端基
の平均75モル%以上がトリアルキルシリル化されてい
た。
入管を取付けた50ミリリットルのフラスコに窒素気流
下でβ-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリ
メトキシシラン246.4g(1000mmol)、水
54.06g(3000mmol)を仕込み、仕込んだ
この混合物を5℃まで冷却した。
4.9g(5mmol)を、30分かけて該混合物に滴
下した後、得られた混合物を10℃に60分間保った。
次いで、反応容器の温度を水浴で調節して、混合物の反
応温度を70℃に保って、加水分解縮合反応を窒素気流
下に3時間行い、次にヘキサメチルジシロキサン65g
(400mmol)を添加して、同じ温度(70℃)
で、窒素気流下にシリル化反応を3時間行った。得られ
た反応液を40℃まで冷却した。反応溶液を水酸化カリ
ウム水溶液で中和し、得られた反応液(混合物)を室温
(25℃)下に一晩放置した。
た。該下層からの採取物に酢酸ブチル150gを添加し
て、得られた混合物を200mmHg、40℃で蒸留
し、200gの溶媒を除去した。得られた溶液に200
gの酢酸ブチルを添加した後、1時間撹拌した。
ィルターで濾過し、無色透明の溶液(900g)を得
た。GPCにて分子量を測定したところ、得られた化合
物(溶液)の数平均分子量は3700であった。
のグリシジル基は観測されず、また、IR測定の結果か
ら、水酸基が生成していることが明かとなった。これら
のことより、グリシジル基と水が反応して水酸基が生成
したものと考えられる。
し、1H-NMR測定により、消失した水酸基の定量を行
ったところ、仕込み量のグリシジル基が水と反応して生
じたジオールと当量の水酸基が消失していることが確認
され、ここで合成したポリオルガノシルセスキオキサン
の側鎖のほとんど(95モル%以上)がジオールに変換
していることが確認された。
成されたポリオルガノシルセスキオキサンの主鎖末端基
の平均75モル%以上がトリアルキルシリル化されてい
た。
Claims (5)
- 【請求項1】主鎖末端基の75モル%以上が、末端封止
基であり、 かつ、全側鎖基が水酸基含有基であるかまたは実質的に
水酸基含有基とエポキシ基含有基とからなっているかで
あり、 数平均分子量が1000〜30000であることを特徴
とする水酸基含有ポリオルガノシルセスキオキサン。 - 【請求項2】上記末端封止基が、トリアルキルシリル
基、トリフェニルシリル基、フェニルジアルキルシリル
基、ジフェニルアルキル基のうちから選択される何れか
1種または2種以上の基(但し、これらの基中の水素原
子の全部または一部がハロゲン原子で置換されていても
よい。)であることを特徴とする請求項1に記載の水酸
基含有ポリオルガノシルセスキオキサン。 - 【請求項3】エポキシ基含有トリアルコキシシランと水
とを反応させて、該エポキシ基含有トリアルコキシシラ
ンを加水分解・縮重合させるとともに、該エポキシ基を
水と反応させてジオール化した後、1官能性シリル化剤
と反応させることを特徴とする、請求項1に記載の水酸
基含有ポリオルガノシルセスキオキサンの製造方法。 - 【請求項4】エポキシ基含有トリアルコキシシランを加
水分解・縮重合する際に、酸触媒として、硫酸を該シラ
ン1モルに対して0.00005〜0.05モルの量で
用いることを特徴とする請求項3記載の水酸基含有ポリ
オルガノシルセスキオキサンの製造方法。 - 【請求項5】請求項1または2に記載の水酸基含有ポリ
オルガノシルセスキオキサンと、アルコール性水酸基含
有アクリル樹脂と、ポリイソシアネートとを含有するこ
とを特徴とする樹脂組成物。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP8239395A JPH1087834A (ja) | 1996-09-10 | 1996-09-10 | ポリオルガノシルセスキオキサン、その製造方法並びに該化合物を含有する樹脂組成物 |
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| JP8239395A JPH1087834A (ja) | 1996-09-10 | 1996-09-10 | ポリオルガノシルセスキオキサン、その製造方法並びに該化合物を含有する樹脂組成物 |
Publications (1)
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| JPH1087834A true JPH1087834A (ja) | 1998-04-07 |
Family
ID=17044150
Family Applications (1)
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| JP8239395A Pending JPH1087834A (ja) | 1996-09-10 | 1996-09-10 | ポリオルガノシルセスキオキサン、その製造方法並びに該化合物を含有する樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JPH1087834A (ja) |
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