JPH1088067A - 照射硬化性組成物の重合に用いる水性酸素遮断組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 照射硬化性組成物が埋め込み成形された酸腐
蝕性基材に用いてもその基材を劣化させず、照射工程の
後に研磨除去可能な、照射硬化性組成物の重合に用いる
水性酸素遮断組成物を提供すること。 【解決手段】 （ａ）５０℃以下の最低成膜温度、４０
℃以上のガラス転移温度、厚さ５００μｍにおいて８０
％以上の光透過率及び１Ｈ〜３Ｈの鉛筆硬度を有する水
分散性酸素遮断性樹脂１００重量部；（ｂ）ステアリン
酸系又はラウリン酸系金属石鹸１〜１００重量部；及び
（ｃ）水溶性界面活性剤１〜２５重量部；を含有する照
射硬化性組成物の重合に用いる水性酸素遮断組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、照射硬化性組成物
をラジカル重合する際に用いる水性酸素遮断組成物に関
し、特に酸腐蝕性金属基材の上に設けられた照射硬化性
組成物をラジカル重合する際に用いる水性酸素遮断組成
物に関する。

【０００２】

【従来の技術】自動車の鈑金補修等の分野では、鈑金の
凹みが生じた部分に硬化性組成物を埋め込んで硬化さ
せ、車体の曲面を修復することが一般に行われる。しか
し、硬化性組成物がラジカル重合性、特にアクリル系樹
脂組成物である場合、重合工程を空気中で行うと、硬化
した組成物の空気に露出した表面が粘性となる。これ
は、硬化性組成物の空気に露出した表面では空気中の酸
素が照射硬化性組成物と結合して過酸化物ラジカルとな
り、重合の進行を禁止するからである。

【０００３】表面に粘性を有しない硬化樹脂材料を提供
するためには、従来、酸素遮断性のポリマーフィルム
を、成形された照射硬化性組成物の上に乗せて空気との
接触を断ち、硬化性組成物をラジカル重合させる方法が
行われてきた。

【０００４】しかしながら、この方法では、自動車の車
体のような複雑な曲面に沿って硬化樹脂材料を形成する
場合に、ポリマーフィルムを複雑な凹凸形状に対応させ
なければならず、実用が困難である。

【０００５】特開平５−１４２７６６号公報には、感光
層に用いるための、酸素遮断性水溶性ポリマー及び水溶
性リン酸塩化合物を含む上塗組成物が記載されている。
しかしながら、この上塗組成物はリン酸塩化合物を含む
ため酸性であり、鉄鋼材料のような酸で腐蝕し易い材料
を劣化させる。したがって、鈑金の補修部分のように照
射硬化性組成物が埋め込み成形された鋼材にこのような
上塗組成物を用いると、鋼材の表面が錆びてしまう。

【０００６】かかる問題を解決するため、本発明者らは
特願平８−５４９８１号において中性又は塩基性の酸素
遮断組成物を提供した。

【０００７】しかし、この酸素遮断組成物により照射硬
化性組成物上に形成される酸素遮断層は硬度が低く、か
らみが生じ易いため、硬化後の樹脂材料と共に研磨除去
することが困難である。そのため、照射工程の後、照射
硬化性組成物がラジカル重合して形成された硬化樹脂材
料の表面から酸素遮断層を除去するために、水洗工程や
水を含ませたウェス等で拭き取る工程が必要となり、使
用の際の操作が繁雑であった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来の問
題を解決するものであり、その目的とするところは、照
射硬化性組成物が埋め込み成形された酸腐蝕性基材に用
いてもその基材を劣化させず、照射工程の後に研磨除去
可能な、照射硬化性組成物の重合に用いる水性酸素遮断
組成物を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、（ａ）３０℃
以下の最低成膜温度、４０℃以上のガラス転移温度、厚
さ５００μｍにおいて波長４７０ｎｍの光について８０
％以上の光透過率及び１Ｈ〜３Ｈの鉛筆硬度を有する水
分散性酸素遮断性樹脂１００重量部；（ｂ）金属石鹸１
〜１００重量部；及び（ｃ）水溶性界面活性剤１〜２５
重量部；を含有する照射硬化性組成物の重合に用いる水
性酸素遮断組成物を提供するものであり、そのことによ
り上記目的が達成される。

【００１０】

【発明の実施の形態】酸素遮断性樹脂としては、通常の
使用環境の温度において成膜可能で、被膜を形成する過
程で亀裂やひび割れを形成しない良好な成膜性を有し、
成膜後の樹脂フィルムが、照射硬化性組成物の硬化を阻
害しない程度の低い酸素透過性、良好な透明性及び硬化
後の樹脂材料と共に研磨除去できる程度の硬度を有し、
室温で水に分散可能な樹脂を用いる。

【００１１】酸素遮断性樹脂は、５０℃以下、好ましく
は２０〜３０℃の最低成膜温度を有する。最低成膜温度
が５０℃を上回ると広い面積の塗布面を乾燥する際に大
型の熱風送風設備を準備しなければならず、設備的、工
程時間等の面で実用的でなくなるからである。

【００１２】また、酸素遮断性樹脂は、４０℃以上のガ
ラス転移温度を有する。ガラス転移温度が４０℃を下回
ると室温下での弾性率が低く、研磨するには軟らかくな
り、研磨紙にカラミを生じるようになるからである。

【００１３】酸素遮断性樹脂に良好な成膜性が要求され
るのは、樹脂の成膜性が悪いと皮膜表面にヒビ割れを生
じやすくなり、酸素遮断が不完全となるからである。

【００１４】水分散性酸素遮断性樹脂は、添加剤を用い
ないで５００μmの厚さに成膜した場合に波長４７０ｎ
ｍの光について８０％以上の光透過率を有することが好
ましい。また、以下に説明する所定の添加剤を配合して
成膜させた樹脂フィルム(厚さ５００μm)は５０％以上
の光透過率を有することが好ましい。光透過率が５０を
下回ると、下層にある照射硬化性組成物が短時間(５〜
１０分)では硬化しなくなるからである。

【００１５】水分散性酸素遮断性樹脂は、例えば、ガラ
ス板のような透明な支持体上に噴霧器を用いてスプレー
し、加熱乾燥することにより成膜できる。成膜した樹脂
の光透過率は、支持体を参照として、ＵＶ−可視光分光
光度計（例えば、日立製作所社製、「ＵＶ−ＶＩＳスペ
クトロホトメータ」）を用いて当業者に周知の方法で測
定される。

【００１６】また、この樹脂フィルムは１Ｈ〜３Ｈの鉛
筆硬度を有する。樹脂フィルムの鉛筆硬度が１Ｈを下回
ると軟らかく研磨性に劣り、具体的には研磨紙にカラミ
を生じやすくなる。逆に、３Ｈを上回ると、熱風を直接
吹付けたような過酷ではあるが実使用時に行われる工程
において皮膜形成時に膜に割れを生じやすくなるからで
ある。樹脂フィルムの鉛筆硬度は、ＪＩＳ Ｋ ５４００
に記載の方法で測定される。

【００１７】酸素遮断性樹脂の具体例には、酢酸ビニ
ル、酢酸ビニル−アクリル共重合体、酢酸ビニル−エチ
レン共重合体、アクリル−スチレン共重合体、ウレタン
系樹脂塩化ビニリデン樹脂等が挙げられる。好ましい酸
素遮断性樹脂は、アクリル系共重合体である。

【００１８】酸素遮断性樹脂は水中に分散された水性エ
マルジョンの形態で本発明の水性酸素遮断組成物に提供
されることが好ましい。上記樹脂の水性エマルジョンの
調製法は当業者に周知である。この場合には、水中に樹
脂を懸濁させた後、水のｐＨを７〜９に調整することに
より調製される。水性エマルジョンとして市販されてい
る樹脂を酸素遮断性樹脂の水性エマルジョンとして使用
してもよい。

【００１９】好ましい市販品には、例えばヘキスト合成
化学社製のノニオン性アクリル系樹脂エマルジョン「モ
ビニール７４７」である。このアクリル系樹脂は、最低
成膜温度約１５℃で成膜性が良く、そのフィルムは透明
かつ鉛筆硬度２Ｈである。

【００２０】水性酸素遮断組成物が成膜して形成される
酸素遮断層が良好な研磨除去性を有する為には適度な硬
度と共に適度な脆さを有する必要がある。酸素遮断層に
脆性を付与するために、本発明の水性酸素遮断組成物に
は金属石鹸を含有させる。一般に、金属石鹸は粒径１０
μm以下の粉体状であり、中性又は塩基性を示す。

【００２１】金属石鹸は、酸素遮断性樹脂の水性エマル
ジョンと共に水中で懸濁する必要がある。従って、非水
溶性のものが好ましく、水溶性であるアルカリ金属石鹸
は好ましくない。

【００２２】好ましい金属石鹸としては、ステアリン酸
ストロンチウム、ステアリン酸アルミニウム、ステアリ
ン酸バリウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸
亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸鉛、ラ
ウリン酸バリウム、ラウリン酸亜鉛、二塩基性フタル酸
鉛及びこれらの混合物等が挙げられる。特に好ましいも
のは、ステアリン酸カルシウムとステアリン酸亜鉛であ
る。

【００２３】金属石鹸は水性酸素遮断組成物中に酸素遮
断性樹脂（固形分）１００重量部に対して１〜１００重
量部、好ましくは１０〜７０重量部含有される。金属石
鹸の含有量が１重量部を下回ると酸素遮断層の靱性が強
くなり、結果的にカラミを生じやすくなって研磨除去困
難となり、１００重量部を上回ると酸素遮断層の光透過
性が悪くなり照射硬化性組成物の硬化に時間を要する。

【００２４】水溶性界面活性剤は、本発明の水性酸素遮
断組成物を照射硬化性組成物の表面上に塗布した際に、
水性酸素遮断組成物がその表面上に均一に濡れ広がるよ
うにし、また水性酸素遮断組成物中の酸素遮断性樹脂及
び金属石鹸の分散性を高めるために用いる。

【００２５】アニオン性、カチオン性及びノニオン性水
溶性界面活性剤のいずれの水溶性界面活性剤も本発明の
水性酸素遮断組成物に用い得る。具体的には、脂肪酸ソ
ーダ石鹸及び脂肪酸カリウム石鹸のような水溶性のアル
カリ金属石鹸；アルキル硫酸エステル塩、アルキルベン
ゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、
アルキルスルホコハク酸塩及びアルキルリン酸塩のよう
なアニオン性界面活性剤；ポリオキシエチレンアルキル
エーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテ
ル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソ
ルビトール脂肪酸エステル及びグリセリン脂肪酸エステ
ルのようなノニオン性界面活性剤；及びアルキルアミン
塩及び４級アンモニウム塩のようなカチオン性界面活性
剤；等が挙げられる。好ましい水溶性界面活性剤は、
「サーフィノールＧＡ」として日信化学工業社から市販さ
れているノニオン性水溶性界面活性剤、「トリトンＧＲ
−５Ｍ」としてアルドリッヒ化学社(Aldrich chemical c
ompany)から市販されているアニオン性のジオクチルス
ルホコハク酸ナトリウム、及び「ノンサールＳＮ−１」
として日本油脂社から市販されている脂肪酸ソーダ石鹸
である。特に好ましいものは、アルキルスルホコハク酸
塩及び脂肪酸ソーダ石鹸である。

【００２６】水溶性界面活性剤は水性酸素遮断組成物中
に酸素遮断性樹脂（固形分）１００重量部に対して１〜
２５重量部、好ましくは５〜１５重量部含有される。水
溶性界面活性剤の含有量が１重量部を下回ると金属石鹸
の水分散安定性が乏しくなり、また、水性組成物の表面
濡れ性が小さくなって水性酸素遮断組成物の被覆にむら
が生じうる。２５重量部を上回る量で含有させてもそれ
に応じた効果は得られない。

【００２７】上述の水分散性酸素遮断性樹脂、金属石
鹸、水溶性界面活性剤及び水を当業者に知られた適当な
方法で混合することにより本発明の水性酸素遮断組成物
が得られる。また、本発明の水性酸素遮断組成物は、当
業者に知られた種々の添加剤及び水混和性溶媒を含有し
得る。

【００２８】例えば、均一な塗布、又は硬化樹脂材料か
らの除去を確実に行うために、照射硬化性組成物に含ま
れる光開始剤の光吸収を阻害しない着色剤を含有させて
よい。照射硬化性組成物の光開始剤としてカンファーキ
ノンを用いる場合は、その吸収波長のピークは４７０nm
なので、その波長の透過率を妨げない青色で人体に害の
無い食品添加物の食品青色１号を酸素遮断性樹脂１００
重量部に対して０.００１％〜０.０１％本発明の水性酸
素遮断組成物に含有させることができる。

【００２９】水性酸素遮断組成物の乾燥性を高めるため
に、エタノールを水混和性溶媒として含有させてもよ
い。その場合、エタノールは酸素遮断性樹脂１００重量
部に対して１０〜２００重量部、好ましくは５０〜１５
０重量部含有させる。エタノールの含有量が１０重量部
を下回ると水との共沸点反応が生じ難く、２００重量部
を上回ると水性酸素遮断組成物の安定性が悪くなる。

【００３０】本発明の水性酸素遮断組成物を照射硬化性
組成物に塗布する方法に応じて、また、塗布後に、照射
硬化性組成物が流動しないように、水性酸素遮断組成物
を粘度調節することが好ましい。そのため、本発明の水
性酸素遮断組成物に粘度調節剤(増粘剤及びチクソトロ
ピー性付与剤等)を含有させうる。例えば、ローム・ア
ンド・ハース・ジャパン社製のアルカリ膨潤タイプのエ
マルジョン「アクリリック・レジン・ＴＴ−６１５・ア
クリゾル」を０．１〜５重量％の量で、及びトリエタノ
ールアミンを０．１〜３重量％の量で用い得る。

【００３１】例えば、水性酸素遮断組成物をスプレー塗
布法により行う場合は、水性酸素遮断組成物の粘度を４
０ｃｐｓ以下に調節することが好ましい。

【００３２】さらに、保存安定性を得るために防腐剤を
添加することができる。例えば、武田薬品工業社製「ス
ラオフＡＹ」を０.１重量％程度の量で用いうる。

【００３３】本発明で得られる水性酸素遮断組成物は酸
腐蝕性基材に設けられた照射硬化性組成物を硬化させる
のに適する。本発明の水性酸素遮断組成物は中性又は塩
基性なので、酸腐蝕性基材に付着してもこれを劣化させ
ないからである。

【００３４】その場合、まず、基材上に照射硬化性組成
物を任意の形状に成形する。照射硬化性組成物の形状は
平面に限られず、複雑な立体形状であってもよい。照射
硬化性組成物の種類は特に限定されないが、自動車の鈑
金補修の分野で用いるものが好ましい。

【００３５】ついで、水性酸素遮断組成物を、任意の形
状に成形された照射硬化性組成物の空気に露出した表面
上に塗布する。塗布方法は特に限定されず、スプレー塗
布法、ハケ塗り法等当業者に知られたいずれかの方法を
用い得る。しかし、成形された照射硬化性組成物を変形
させる怖れが少なく、複雑な立体形状にも簡便に均一な
塗布が可能なスプレー塗布法によることが好ましい。

【００３６】塗布量は、水性酸素遮断組成物が乾燥して
形成される酸素遮断層の厚さが１０〜５００μmとなる
量とすることが好ましい。酸素遮断層の厚さが１０μm
を下回ると酸素遮断性が悪くなり、５００μmを上回る
と光透過率が悪くなり照射硬化性組成物の反応が阻害さ
れる怖れがある。

【００３７】その後、照射硬化性組成物の上に塗布され
た水性酸素遮断組成物を乾燥させて酸素遮断層とする。

【００３８】この酸素遮断層で被覆された照射硬化性組
成物を照射してラジカル重合させる。照射は、用いる照
射硬化性組成物の種類に依存して、これを照射硬化させ
る際に当業者が通常用いる方法及び条件で行い得る。

【００３９】例えば、光開始剤としてカンファーキノン
を含む照射硬化性組成物の場合は、照射源としてハロゲ
ンランプ(３６０Ｗ)を用い、１０〜５０cmの距離で１〜
１０分間照射する。

【００４０】また、光開始剤として２−ヒドロキシ−２
−メチルプロピオフェノンを含む照射硬化性組成物の場
合は、照射源としてＵＶランプ(８０Ｗ／cm)を用い、１
０〜３０cmの距離で１０秒〜５分間照射する。

【００４１】照射後、照射硬化性組成物がラジカル重合
して形成された硬化樹脂材料の表面から酸素遮断層を除
去する。本発明の水性酸素遮断組成物で形成される酸素
遮断層は適度な硬度及び脆さを有するので、容易に研磨
除去できる。従って、本発明の水性酸素遮断組成物を用
いて照射硬化性組成物の重合を行うと、その後、酸素遮
断層の除去と硬化樹脂材料の成形とを連続した研磨操作
により行うことができる。

【００４２】

【実施例】以下の実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらに限定されない。尚、特に断ら
ない限り、「部」は重量基準である。

【００４３】調製例１ 照射硬化性組成物の調製 ビスフェノールＡジグリシジルメタクリレート７０部、
ヒドロキシエチルメタクリレート３０部、カンファーキ
ノン０．２５部、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル
０．５部、平均粒径４０μｍのガラス製中空球（ミネソ
タ・マイニング・アンド・マニュファクチュアリング社
製「グラスバブルズＳ２２」）２０部及び微小非晶質シ
リカ（日本アエロジル社製「ＡＥＲＯＳＩＬ２００」）
７部を撹拌機を用いて混合することにより照射硬化性組
成物を得た。

【００４４】調製例２ 照射硬化性組成物の調製 ビスフェノールＡジグリシジルメタクリレート４０部、
ヒドロキシエチルメタクリレート２０部、メタクリル残
基を有するウレタンオリゴマー（新中村化学社製「ＵＡ
−４０００」）４０部、カンファーキノン０．２５部、
p−ジメチルアミノ安息香酸エチル０．５部、平均粒径
４０μmのガラス製中空球（ミネソタ・マイニング・ア
ンド・マニュファクチュアリング社製「グラスバブルス
Ｓ２２」）２０部及び疎水処理した微小非晶質シリカ
（日本アロエジル社製「ＲＸ２００」）７部を撹拌機を
用いて混合することにより照射硬化性組成物を得た。

【００４５】実施例１ ヘキスト合成化学社製のノニオン性アクリル系樹脂エマ
ルジョン「モビニール７４７」を固形分として１００
部、ステアリン酸亜鉛５０部、ジオクチルスルホコハク
酸ナトリウム（アルドリッヒ化学社製「トリトンＧＲ−
５Ｍ」）５部、食品青色１号０．００１部及びエタノー
ル７０部を混合することにより水性酸素遮断組成物を得
た。

【００４６】調製例１で得られた照射硬化性組成物をヘ
ラで鉄鋼板(０．２％Ｃ)上に厚さ１ｍｍに成形した。

【００４７】次いで、水性酸素遮断組成物を噴射剤とし
てジメチルエーテルを用いたスプレーに充填し、成形さ
れた照射硬化性組成物の露出表面にスプレー塗布及び乾
燥し、層厚１００μmの酸素遮断層を形成した。

【００４８】酸素遮断層で被覆した照射硬化性組成物を
２５℃にて、３６０Ｗのハロゲンランプを２個用い、照
射距離２０cmで５分間照射して硬化させ、硬化樹脂材料
を得た。ついで、硬化樹脂材料上の酸素遮断層を＃１８
０グリットの紙やすりで研磨除去した。

【００４９】研磨表面上のからみの多少を目視評価した
ところ、からみの量は僅かであった。

【００５０】その後、硬化樹脂材料を７０℃で２４時間
メチルエチルケトンに浸漬することにより未反応成分を
浸出させ、その後の硬化性樹脂材料の重量変化により重
合率を決定した。重合率は９６％であった。

【００５１】他方、同じ鉄鋼板に水性酸素遮断組成物を
直接塗布してそのまま大気中に５分放置した。その際、
塗布面に錆があるかどうかを目視評価した。その結果、
鉄鋼板の表面に錆は認められなかった。

【００５２】実施例２ 調製例２で得られた照射硬化性組成物を用いること以外
は実施例１と同様にして硬化樹脂材料を得、からみの
量、重合率及び錆の有無を評価した。結果を表１に示
す。

【００５３】実施例３ ヘキスト合成化学社製のノニオン性アクリル系樹脂エマ
ルジョン「モビニール７４７」１００部、ステアリン酸
カルシウム５０部、脂肪酸ソーダ石鹸（日本油脂社製
「ノンサールＳＮ−１」）５部、食品青色１号０．００
１部及びエタノール７０部を混合することにより水性酸
素遮断組成物を得た。

【００５４】実施例３の水性酸素遮断組成物を用いるこ
と以外は実施例１と同様にして硬化樹脂材料を得、から
みの量、重合率及び錆の有無を評価した。結果を表１に
示す。

【００５５】実施例４ 調製例２で得られた照射硬化性組成物を用いること以外
は実施例３と同様にして硬化樹脂材料を得、からみの
量、重合率及び錆の有無を評価した。結果を表１に示
す。

【００５６】比較例１ 調製例１で得られた照射硬化性組成物をヘラで鉄鋼板
(０．２％Ｃ)上に厚さ１ｍｍに成形した。次いで、成形
された照射硬化性組成物を２５℃にて、３６０Ｗのハロ
ゲンランプを２個用い、照射距離２０cmで５分間照射し
て硬化させ、硬化樹脂材料を得た。

【００５７】実施例１と同様にして得られた硬化樹脂材
料のからみの量及び重合率を評価した。結果を表１に示
す。

【００５８】比較例２ 調製例２で得られた照射硬化性組成物を用いること以外
は比較例１と同様にして硬化樹脂材料を得、からみの量
及び重合率を評価した。結果を表１に示す。

【００５９】比較例３ 市販の紫外線硬化型樹脂組成物（ホルツ社製「ノーミッ
クス」）をヘラで鉄鋼板(０．２％Ｃ)上に厚さ１ｍｍに
成形した。これを、よく晴れた日に、太陽光に暴露して
硬化させて硬化樹脂材料を得、実施例１と同様にしてか
らみの量及び重合率を評価した。結果を表１に示す。

【００６０】比較例４ 調製例２で得られた照射硬化性組成物をヘラで鉄鋼板
(０．２％Ｃ)上に厚さ１ｍｍに成形した。

【００６１】次いで、成形された照射硬化性組成物の露
出表面に厚さ１００μmのＰＥＴフィルムを乗せて酸素
遮断層とした。

【００６２】ＰＥＴフィルムで被覆した照射硬化性組成
物を２５℃にて、３６０Ｗのハロゲンランプを２個用
い、照射距離２０cmで５分間照射して硬化させ、硬化樹
脂材料を得た。

【００６３】実施例１と同様にして得られた硬化樹脂材
料のからみの量及び重合率を評価した。結果を表１に示
す。

【００６４】

【表１】実施例No. 硬化時間(分) 重合率(%) からみ量 錆の有無 １ ５ ９６ 少 無し ２ ５ ９４ 少 無し ３ ５ ９４ 少 無し ４ ５ ９５ 少 無し 比較１ １０^a ９１ 多 − 比較２ １０^a ９２ 多 − 比較３ ２０ ９７ 少 − 比較４ ５ ９６ 少 − ^a 表層部は硬化せず

【００６５】実施例１から実施例４は、いずれも研磨材
へのからみは少なく、その重合率は高い。比較例１と比
較例２は、樹脂の表面処理を施さなかった例であるが、
表層は未硬化で、その重合率も低く、研磨材のからみも
多い。比較例３の市販の照射硬化性樹脂は完全硬化に至
るまでの時間が長く、研磨材のからみは少ないものの、
非常に硬く、作業性が悪い。比較例４は、ＰＥＴフィル
ムで大気中の酸素を遮断すると、硬化時間、重合率及び
研磨材のからみ評価において良好であるが、光ラジカル
重合性樹脂パテの形状が平面でなければ適応することが
できないという欠点がある。

【００６６】

【発明の効果】照射硬化性組成物が埋め込み成形された
酸腐蝕性基材に用いてもその基材を劣化させず、照射工
程の後に研磨除去可能な、照射硬化性組成物の重合に用
いる水性酸素遮断組成物が提供された。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｌ 33/08 ＬＨＷ Ｃ０８Ｌ 33/08 ＬＨＷ Ｃ０９Ｄ 7/12 ＰＳＬ Ｃ０９Ｄ 7/12 ＰＳＬ 131/04 ＰＦＴ 131/04 ＰＦＴ 133/08 ＰＧＣ 133/08 ＰＧＣ

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ａ）５０℃以下の最低成膜温度、４０
   ℃以上のガラス転移温度、厚さ５００μｍにおいて波長
   ４７０ｎｍの光について８０％以上の光透過率及び１Ｈ
   〜３Ｈの鉛筆硬度を有する水分散性酸素遮断性樹脂１０
   ０重量部； （ｂ）ステアリン酸系又はラウリン酸系金属石鹸１〜１
   ００重量部；及び （ｃ）水溶性界面活性剤１〜２５重量部；を含有する照
   射硬化性組成物の重合に用いる水性酸素遮断組成物。
2. 【請求項２】 （ａ）酢酸ビニル、酢酸ビニル−アクリ
   ル共重合体、酢酸ビニル−エチレン共重合体及びアクリ
   ル−スチレン共重合体からなる群から選択される少なく
   とも１種であり、５０℃以下の最低成膜温度、４０℃以
   上のガラス転移温度、厚さ５００μｍにおいて８０％以
   上の光透過率及び１Ｈ〜３Ｈの鉛筆硬度を有する水分散
   性酸素遮断性樹脂１００重量部； （ｂ）ステアリン酸ストロンチウム、ステアリン酸アル
   ミニウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸カルシ
   ウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、
   ステアリン酸鉛、ラウリン酸バリウム、ラウリン酸亜鉛
   及び二塩基性フタル酸鉛からなる群から選択される少な
   くとも１種の金属石鹸１〜１００重量部；及び （ｃ）脂肪酸ソーダ石鹸、脂肪酸カリウム石鹸、アルキ
   ル硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、ア
   ルキルナフタレンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク
   酸塩、アルキルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキル
   エーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテ
   ル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソ
   ルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステ
   ル、アルキルアミン塩及び第四級アンモニウム塩からな
   る群から選択される少なくとも１種の水溶性界面活性剤
   １〜２５重量部；を含有する照射硬化性組成物の重合に
   用いる水性酸素遮断組成物。
3. 【請求項３】 ４０ｃｐｓ以下の粘度を有する請求項１
   又は２記載の水性酸素遮断組成物。
4. 【請求項４】 （ａ）基材上に照射硬化性組成物を任意
   の形状に成形する工程； （ｂ）請求項１〜３のいずれか記載の水性酸素遮断組成
   物を、成形された照射硬化性組成物の空気に露出した表
   面上に塗布する工程； （ｃ）水性酸素遮断組成物を乾燥及び成膜させて酸素遮
   断層とする工程； （ｄ）酸素遮断層で被覆された照射硬化性組成物を照射
   してラジカル重合させる工程；及び （ｅ）酸素遮断層を研磨除去する工程；を包含する照射
   硬化性組成物の重合方法。
5. 【請求項５】 前記基材が酸腐蝕性金属基材である請求
   項４記載の方法。
6. 【請求項６】 前記水性酸素遮断組成物の照射硬化性組
   成物への塗布をスプレー塗布法により行う請求項４又は
   ５記載の方法。