JPH1092980A - Wireless card and method of manufacturing the same - Google Patents
Wireless card and method of manufacturing the sameInfo
- Publication number
- JPH1092980A JPH1092980A JP8243778A JP24377896A JPH1092980A JP H1092980 A JPH1092980 A JP H1092980A JP 8243778 A JP8243778 A JP 8243778A JP 24377896 A JP24377896 A JP 24377896A JP H1092980 A JPH1092980 A JP H1092980A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- card
- wireless card
- internal module
- composite sheet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Credit Cards Or The Like (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 機械的強度が高く、表面の平坦性に優れると
ともに十分な屈曲性を有する無線カードを提供する。
【解決手段】 ICモジュール(3)およびアンテナ
(1)を含む内部モジュール部と、前記内部モジュール
部の上に配置された第1の樹脂層と、前記内部モジュー
ル部の下に配置された第2の樹脂層とを具備する無線カ
ードである。前記第1および第2の樹脂層の少なくとも
一方の樹脂層中には、無機または有機材料からなるファ
イバーが含有されていることを特徴とする。
(57) [Problem] To provide a wireless card having high mechanical strength, excellent surface flatness, and sufficient flexibility. SOLUTION: An internal module section including an IC module (3) and an antenna (1), a first resin layer disposed on the internal module section, and a second resin layer disposed below the internal module section. And a resin layer. At least one of the first and second resin layers contains fibers made of an inorganic or organic material.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、多種の情報データ
を送受信することが可能な無線カードおよびその製造方
法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wireless card capable of transmitting and receiving various types of information data and a method for manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、情報データを送受信するためカー
ドとしてICカードや磁気カードが知られているが、最
近では、より多くの情報データの送受信が可能な無線カ
ードが普及し始めている。一般に無線カードは、図3お
よび図4に示すように、平板状のカード本体の中に、I
Cモジュール3と導線をコイル状に複数回巻いたアンテ
ナ1とが樹脂4により封入された構成である。このよう
な無線カードの製造方法としては、表面に印刷面を有す
る2枚のフィルム2の間にICモジュール3、アンテナ
1および樹脂4を配置し、上下から加熱した金型で圧縮
成形する方法や、トランスファ成形および射出成形する
方法などが知られている。2. Description of the Related Art Conventionally, IC cards and magnetic cards have been known as cards for transmitting and receiving information data. Recently, wireless cards capable of transmitting and receiving more information data have begun to spread. Generally, as shown in FIGS. 3 and 4, a wireless card has an I-card inside a flat card body.
In this configuration, a C module 3 and an antenna 1 in which a conductive wire is wound a plurality of times in a coil shape are sealed with a resin 4. Examples of a method for manufacturing such a wireless card include a method in which an IC module 3, an antenna 1, and a resin 4 are arranged between two films 2 each having a printing surface on the surface, and compression molding is performed using a mold heated from above and below. There are known transfer molding and injection molding methods.
【0003】従来のICカードや磁気カードあるいはそ
の他の情報カードを構成するカード材料としては、熱可
塑性樹脂である硬質塩化ビニル積層体などが用いられて
おり、例えば、ICカードは、カード材料に埋設用凹部
を形成し、この埋設用凹部にICモジュールを埋設して
製造される。ここでの埋設用凹部はエンドミル等の手段
を用いて形成するので切削加工が必要となり、製造能率
が低いという問題があった。この問題を解決するため、
射出成型法でICカード用材料を製造することが提案さ
れている(特開平5−286292号公報)。しかしな
がら、トランスファ成型や射出成型法を用いて無線カー
ドのような薄い製品を作製する場合には、ICモジュー
ル埋設用凹部を形成する必要があるため、金型のキャビ
ティおよびゲート部等をかなり高精度で複雑に工夫しな
ければならない。また、無線カードを製造する際には、
内部に納めるアンテナやICチップの配線等が溶融した
樹脂の流れによって成形中に損傷破損する危険性が高い
という欠点が存在する。これらを考慮すると、無線カー
ドの製造には、金型のキャビティ等に複雑な工夫が必要
なく、溶融した樹脂によるアンテナ等の損傷のおそれも
ない点から圧縮成型法が最も好ましい。As a card material constituting a conventional IC card, magnetic card or other information card, a rigid vinyl chloride laminate, which is a thermoplastic resin, is used. For example, an IC card is embedded in the card material. The recess is formed, and the IC module is buried in the recess. Since the recess for embedding here is formed by using a means such as an end mill, there is a problem that cutting is required, and the production efficiency is low. To solve this problem,
It has been proposed to produce an IC card material by an injection molding method (Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-286292). However, when a thin product such as a wireless card is manufactured using transfer molding or injection molding, it is necessary to form a recess for embedding an IC module. Must be devised complicatedly. Also, when manufacturing wireless cards,
There is a disadvantage that there is a high risk that the antenna and the wiring of the IC chip to be housed inside are damaged or damaged during molding due to the flow of the molten resin. Considering these, the compression molding method is most preferable in the production of the wireless card from the viewpoint that no complicated device is required for the cavity of the mold and the like, and there is no possibility that the antenna or the like is damaged by the molten resin.
【0004】一方、従来から、半導体チップの封止に用
いられる樹脂材料として、エポキシ樹脂および充填材
(組成比10:90重量%)などを主体としたエポキシ
成形材料が知られており、未硬化樹脂を加熱溶融するト
ランスファ成形法により一般に製造されている。この方
法で製造される樹脂硬化型半導体装置は、半導体チップ
がエポキシ樹脂組成物によって完全に覆われているので
信頼性が高く、その外観も良好で問題はなかった。この
ようにエポキシ樹脂は、半導体封止用樹脂としては極め
て有用な樹脂であるので、無線カードの製造にも応用す
ることが考えられる。On the other hand, conventionally, as a resin material used for encapsulating a semiconductor chip, an epoxy molding material mainly composed of an epoxy resin and a filler (composition ratio: 10: 90% by weight) has been known. It is generally manufactured by a transfer molding method in which a resin is heated and melted. The resin-curable semiconductor device manufactured by this method has high reliability because the semiconductor chip is completely covered with the epoxy resin composition, has a good appearance, and has no problem. As described above, the epoxy resin is an extremely useful resin as a resin for semiconductor encapsulation, and therefore, it is considered that the epoxy resin is also applied to the manufacture of a wireless card.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、無線カ
ードは、カード表面に表示・印刷を施す必要があるた
め、カード表面は凹凸がない高精度の平坦性が要求され
る。さらに、一般のカードと同様に扱われる可能性が高
いため、無線カードは、かなりの曲げ負荷が加えられて
も、耐えられる強度と復元力とを有していることが必要
となり、十分な屈曲性が要求される。However, since a wireless card needs to be displayed and printed on the card surface, the card surface is required to have high-precision flatness without unevenness. Furthermore, since the wireless card is likely to be handled in the same manner as a general card, the wireless card needs to have strength and restoring force that can endure even when a considerable bending load is applied. Is required.
【0006】すなわち、厚みの小さい無線カードは、樹
脂封止型半導体装置とは異なって、機械的強度に加えて
表面の平坦性および屈曲性が必要とされる。このため、
エポキシ樹脂を用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法
を適用しても、満足な特性を有する無線カードを製造す
ることは困難であった。That is, unlike a resin-encapsulated semiconductor device, a wireless card having a small thickness requires flatness and flexibility on the surface in addition to mechanical strength. For this reason,
Even if a method of manufacturing a resin-sealed semiconductor device using an epoxy resin is applied, it has been difficult to manufacture a wireless card having satisfactory characteristics.
【0007】なお、圧縮成形法により無線カードを製造
する際には、生産効率を向上させる目的で、ICモジュ
ール上下に搬送する未硬化の熱硬化性樹脂シートを成形
前にロール状に巻き付けておく必要がある。このように
ロール状に巻かれた樹脂シートを連続供給することによ
って生産効率は高められるが、ロール状の樹脂シートが
ブロッキングを起こすおそれがある。[0007] When a wireless card is manufactured by the compression molding method, an uncured thermosetting resin sheet conveyed up and down the IC module is wound into a roll before molding in order to improve production efficiency. There is a need. Although the production efficiency is improved by continuously supplying the resin sheet wound in a roll shape as described above, the roll-shaped resin sheet may cause blocking.
【0008】本発明は、前記問題点を解決し、機械的強
度が高く、表面の平坦性に優れるとともに十分な屈曲性
を有する無線カードを提供することを目的とする。また
本発明は、機械的強度が高く、表面平坦性および屈曲性
に優れた無線カードを、熱可塑性樹脂を用いた加熱圧縮
成形法により効率よく製造し得る方法を提供することを
目的とする。An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to provide a wireless card having high mechanical strength, excellent surface flatness, and sufficient flexibility. Another object of the present invention is to provide a method for efficiently manufacturing a wireless card having high mechanical strength and excellent surface flatness and flexibility by a heat compression molding method using a thermoplastic resin.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、半導体素子およびアンテナを含む内部モ
ジュール部と、前記内部モジュール部の上に配置された
第1の樹脂層と、前記内部モジュール部の下に配置され
た第2の樹脂層とを具備し、前記第1および第2の樹脂
層の少なくとも一方の樹脂層中には、無機または有機材
料からなるファイバーが含有されていることを特徴とす
る無線カードを提供する。According to the present invention, there is provided an internal module portion including a semiconductor element and an antenna, a first resin layer disposed on the internal module portion, A second resin layer disposed below the internal module portion, wherein at least one of the first and second resin layers contains a fiber made of an inorganic or organic material. A wireless card is provided.
【0010】また本発明は、無機または有機材料からな
るファイバー織布上に、樹脂または樹脂と無機フィラー
とを含む樹脂組成物を塗工して複合シートを作製する工
程と、半導体素子およびアンテナを含む内部モジュール
部の上下に、前記ファイバー層が前記モジュール部側と
なるよう前記複合シートを配置して、複合シート/内部
モジュール部/複合シートの積層構造体を得る工程と、
前記複合シート/内部モジュール部/複合シートの積層
構造体に加熱・加圧処理を施して内部モジュール部を樹
脂または樹脂と無機フィラーとを含む樹脂組成物中に埋
設一体化する工程とを具備する無線カードの製造方法を
提供する。[0010] The present invention also provides a step of applying a resin or a resin composition containing a resin and an inorganic filler to a fiber woven fabric made of an inorganic or organic material to form a composite sheet; A step of arranging the composite sheet so that the fiber layer is on the module section side above and below the internal module section including the module section, to obtain a composite sheet / internal module section / composite sheet laminated structure;
Subjecting the laminated structure of the composite sheet / internal module / composite sheet to heat and pressure treatment to embed and integrate the internal module in a resin or a resin composition containing a resin and an inorganic filler. A method for manufacturing a wireless card is provided.
【0011】以下、本発明を詳細に説明する。図1は、
本発明の無線カードの一例を模式的に示す断面図であ
る。図示するように本発明の無線カードにおいては、I
Cモジュール3およびアンテナ1はファイバー層5を含
む樹脂層6中に配置されており、最表面はフィルム2で
被覆されている。Hereinafter, the present invention will be described in detail. FIG.
It is sectional drawing which shows an example of the wireless card of this invention typically. As shown, in the wireless card of the present invention, I
The C module 3 and the antenna 1 are arranged in a resin layer 6 including a fiber layer 5, and the outermost surface is covered with a film 2.
【0012】かかる無線カードは、ファイバー層5およ
び樹脂層6を用いて、例えば図2に示すようにして製造
することができる。すなわち、内部モジュール部となる
ICモジュール3およびアンテナ1を所定位置に配置
し、その上下にファイバー層5/樹脂層6の積層構造の
複合シートを図示せぬローラーによって供給する。Such a wireless card can be manufactured using the fiber layer 5 and the resin layer 6, for example, as shown in FIG. That is, the IC module 3 and the antenna 1 serving as the internal module are arranged at predetermined positions, and a composite sheet having a laminated structure of the fiber layer 5 and the resin layer 6 is supplied to the upper and lower portions thereof by rollers (not shown).
【0013】内部モジュール部の上下に複合シートが配
置されたら、例えば打抜型カッター等により所定のカー
ド寸法にシートを切断した後、加熱圧縮して一体成形す
る。カードの寸法は、例えば70×100mmとするこ
とができるが、これに限定されるものではなく、適用す
るカードの寸法等に応じて適宜選択することができる。
また、加熱圧縮の条件は、カードの厚さや寸法、用いる
樹脂の種類等にもよるが、通常、90〜180℃、1〜
10HPa程度である。When the composite sheet is arranged above and below the internal module portion, the sheet is cut into a predetermined card size by, for example, a punching cutter or the like, and then heated and compressed to be integrally formed. The size of the card can be, for example, 70 × 100 mm, but is not limited thereto, and can be appropriately selected according to the size of the card to be applied.
In addition, the conditions of heating and compression depend on the thickness and dimensions of the card, the type of resin used, and the like, but are usually 90 to 180 ° C and 1 to 1 ° C.
It is about 10 HPa.
【0014】最後に、上下にフィルム2を被覆して無線
カードが完成する。図示するように、成形前のファイバ
ー層5/樹脂層6からなる複合シートはロール状に巻か
れているが、本発明においては、樹脂層の間には必ずフ
ァイバー層5が挟まれているので、ブロッキングが発生
するおそれは全くない。しかも、ロール状に巻いたこと
により複合シートを連続的に供給可能であるので、効率
よく無線カードを製造することができる。Finally, the wireless card is completed by covering the film 2 on the upper and lower sides. As shown in the figure, the composite sheet composed of the fiber layer 5 and the resin layer 6 before molding is wound in a roll, but in the present invention, the fiber layer 5 is always sandwiched between the resin layers. There is no risk of blocking. Moreover, since the composite sheet can be continuously supplied by being wound into a roll, a wireless card can be manufactured efficiently.
【0015】なお、図2に示した例では樹脂層6は単層
としているが、これに限定されず、複数の樹脂シートを
多層化して用いてもよい。例えば、ファイバー層5に接
する側に熱硬化性樹脂を配置し、ファイバー層5に接し
ない側には、種々の特性を備えた熱硬化性樹脂フィルム
を用いることができる。Although the resin layer 6 is a single layer in the example shown in FIG. 2, the present invention is not limited to this, and a plurality of resin sheets may be used in a multi-layer form. For example, a thermosetting resin can be disposed on the side that is in contact with the fiber layer 5, and a thermosetting resin film having various characteristics can be used on the side that is not in contact with the fiber layer 5.
【0016】本発明の無線カードにおいて、ICモジュ
ールの上下に配置される樹脂層を構成する樹脂組成物の
主マトリックスとしては、特に限定されず任意の樹脂を
使用することができるが、溶融粘度の点から熱硬化性樹
脂であることが望ましい。さらに、樹脂組成物中には、
硬化剤、硬化促進剤、無機質充填材、低応力添加剤、難
燃剤、離型剤、着色剤等のその他各種の添加剤を配合し
てもよい。In the wireless card of the present invention, the main matrix of the resin composition constituting the resin layers disposed above and below the IC module is not particularly limited, and any resin can be used. From the viewpoint, a thermosetting resin is desirable. Furthermore, in the resin composition,
Various other additives such as a curing agent, a curing accelerator, an inorganic filler, a low stress additive, a flame retardant, a release agent, and a colorant may be blended.
【0017】熱可塑性樹脂としては、加熱により三次元
的に架橋された硬化物を生成するものであれば特に限定
されないが、好ましくはエポキシ系、またはマレイミド
系、およびこれらの複合系の熱硬化性樹脂が挙げられ
る。The thermoplastic resin is not particularly limited as long as it produces a three-dimensionally cross-linked cured product by heating, but is preferably an epoxy-based or maleimide-based resin, or a thermoset of these composites. Resins.
【0018】ここでエポキシ樹脂としては、1分子中に
2個以上のエポキシ基を有するものであればいかなるも
のでもよい。例えば、ビフェニル型エポキシ樹脂、フェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹
脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、グリシジルエス
テル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹
脂、脂環式エポキシ樹脂、フェノールまたはアルキルフ
ェノール類とヒドロキシベンズアルデヒド類との縮合物
をエポキシ化して得られるトリス(ヒドロキシフェニ
ル)アルカンベースのエポキシ樹脂、テトラ(ヒドロキ
シフェニル)アルカンベースのエポキシ樹脂、2,2
´,4,4´−テトラグリシジルベンゾフェノン、パラ
アミノフェノールのトリグリシジルエーテル、1,3,
5−トリグリシジルエーテル化ベンゼン、および2,2
´,4,4´−テトラグリシジドキシベンゼン等が挙げ
られる。これらの樹脂は単独で用いても、2種以上を組
み合わせてもよい。Here, any epoxy resin may be used as long as it has two or more epoxy groups in one molecule. For example, biphenyl type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, naphthol novolak type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, glycidylamine type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, phenol Or a tris (hydroxyphenyl) alkane-based epoxy resin, a tetra (hydroxyphenyl) alkane-based epoxy resin obtained by epoxidizing a condensate of an alkylphenol and a hydroxybenzaldehyde, 2,2
', 4,4'-tetraglycidylbenzophenone, triglycidyl ether of para-aminophenol, 1,3
5-triglycidyl etherified benzene, and 2,2
', 4,4'-tetraglycididoxybenzene and the like. These resins may be used alone or in combination of two or more.
【0019】一方、マレイミド樹脂としては、1分子中
に2個以上のイミド基を有するものであれば任意の樹脂
を使用することができ、例えば、下記一般式(1)で表
わされるN,N´−置換ビスマレイミド化合物、および
下記一般式(2)で表わされるポリ(フェニルメチレ
ン)ポリマレイミドが挙げられる。On the other hand, as the maleimide resin, any resin can be used as long as it has two or more imide groups in one molecule. For example, N, N represented by the following general formula (1) can be used. '-Substituted bismaleimide compounds and poly (phenylmethylene) polymaleimides represented by the following general formula (2).
【0020】[0020]
【化1】 Embedded image
【0021】上記一般式(1)中、Xはアルキレン基、
シクロアルキレン基、単環式または多環式のアリーレン
基など2価の原子団によって結合された2価の炭化水素
基である。In the above general formula (1), X is an alkylene group,
It is a divalent hydrocarbon group linked by a divalent atomic group such as a cycloalkylene group, a monocyclic or polycyclic arylene group.
【0022】[0022]
【化2】 Embedded image
【0023】上記一般式(2)中、nは1〜6の整数で
ある。より具体的には、N,N´−フェニレンビスマレ
イミド、N,N´−ヘキサメチレンビスマレイミド、
N,N´−オキシ−ジ−p−フェニレンビスマレイミ
ド、N,N´−4,4´−ベンゾフェノンビスマレイミ
ド、N,N´−p−ジフェニレンスルホンビスマレイミ
ド、およびポリ(フェニルメチレン)ポリマレイミド等
が挙げられる。In the general formula (2), n is an integer of 1 to 6. More specifically, N, N'-phenylenebismaleimide, N, N'-hexamethylenebismaleimide,
N, N'-oxy-di-p-phenylene bismaleimide, N, N'-4,4'-benzophenone bismaleimide, N, N'-p-diphenylene sulfone bismaleimide, and poly (phenylmethylene) polymaleimide And the like.
【0024】本発明においては、上述したようなエポキ
シ樹脂およびマレイミド樹脂を、それぞれ単独または2
種以上組み合わせて用いてもよく、さらにこれらの樹脂
に対して、硬化剤を配合して用いることもできる。この
場合、硬化剤は特に限定されないが、例えば、フェノー
ル樹脂、有機酸無水物、およびアミン類などが挙げられ
る。In the present invention, the above-described epoxy resin and maleimide resin may be used alone or in combination with each other.
These resins may be used in combination, or a curing agent may be added to these resins. In this case, the curing agent is not particularly limited, and examples thereof include a phenol resin, an organic acid anhydride, and amines.
【0025】エポキシ樹脂とフェノール樹脂等の硬化剤
との配合量は、硬化剤の反応性官能基当量と、エポキシ
樹脂のエポキシ当量の比(反応性官能基当量/エポキシ
当量)が0.5以上1.5以下の範囲内になるように規
定することが好ましい。この値が0.5未満では硬化反
応が十分に起こりにくくなり、一方1.5を越えると、
硬化樹脂の特性、特に耐湿性が劣化しやすくなる。な
お、硬化剤の反応性官能基当量とは、硬化剤がフェノー
ル樹脂の場合にはフェノール性水酸基当量であり、アミ
ン化合物の場合には活性水素当量である。The amount of the epoxy resin and the curing agent such as a phenol resin is such that the ratio of the reactive functional group equivalent of the curing agent to the epoxy equivalent of the epoxy resin (reactive functional group equivalent / epoxy equivalent) is 0.5 or more. It is preferable that the content is defined so as to fall within the range of 1.5 or less. If this value is less than 0.5, the curing reaction is unlikely to occur sufficiently, while if it exceeds 1.5,
The properties of the cured resin, especially the moisture resistance, are likely to deteriorate. The reactive functional group equivalent of the curing agent is a phenolic hydroxyl group equivalent when the curing agent is a phenol resin, and an active hydrogen equivalent when the curing agent is an amine compound.
【0026】さらに、マレイミド系樹脂をエポキシ樹脂
に混合して使用する場合には、その配合量は、エポキシ
樹脂と硬化剤とを含む樹脂マトリックスの総量に対して
20〜80体積%であることが好ましい。20体積%未
満では、硬化物耐熱性等のイミドマトリックスを配合し
た効果を十分に得ることが困難となり、一方80体積%
を越えると、エポキシ樹脂−硬化剤系の硬化反応阻害を
発現して、樹脂組成物の成形性の低下を招くおそれがあ
る。Further, when a maleimide resin is used by being mixed with an epoxy resin, the compounding amount is preferably 20 to 80% by volume based on the total amount of the resin matrix containing the epoxy resin and the curing agent. preferable. When the content is less than 20% by volume, it is difficult to sufficiently obtain the effect of blending the imide matrix such as the heat resistance of the cured product.
If the ratio exceeds the above range, the curing reaction of the epoxy resin-curing agent system may be inhibited, and the moldability of the resin composition may be reduced.
【0027】このような樹脂に対しては、硬化反応を促
進させるために硬化触媒をさらに配合してもよい。硬化
触媒としては特に限定されず、例えば、各種アミン類、
イミダゾール類、ジアザビシクロアルケン類、有機ホス
フィン類、ジルコニウムアルコラート類およびジルコニ
ウムキレート等が挙げられる。具体的には、アミン類と
しては、N,N´−ジメチルシクロヘキシルアミン、N
−メチルジシクロヘキシルアミン、トリエチレンジアミ
ン、ジアミノジフェニルスルホン、ジメチルアミノメチ
ルフェノール、ベンジルジメチルアミン、およびトリス
ジメチルアミノメチルフェノール等が挙げられ、イミダ
ゾール類としては、2−メチルイミダゾール、2−フェ
ニルイミダゾール、ヘプタデシルイミダゾール、2−ヘ
プタデシルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、お
よび2−エチル−4−メチルイミダゾール等が挙げられ
る。また、ジアザビシクロアルケン類としては、1,8
−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7(DB
U)、およびDBUのフェノール塩(例えば、U−CA
T SA No.1)等が挙げられ、有機ホスフィン類
としては、トリフェニルホスフィン(TPP)、トリブ
チルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、およ
びメチルジフェニルホスフィン等が挙げられる。これら
の硬化促進剤のうちでは、電気特性の点から、トリフェ
ニルホスフィンおよびヘプタデシルイミダゾールが特に
好ましい。A curing catalyst may be further added to such a resin in order to accelerate the curing reaction. The curing catalyst is not particularly limited, for example, various amines,
Examples include imidazoles, diazabicycloalkenes, organic phosphines, zirconium alcoholates, zirconium chelates, and the like. Specifically, the amines include N, N'-dimethylcyclohexylamine, N
-Methyldicyclohexylamine, triethylenediamine, diaminodiphenylsulfone, dimethylaminomethylphenol, benzyldimethylamine, and trisdimethylaminomethylphenol, and the like, and as imidazoles, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, heptadecylimidazole , 2-heptadecylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole and the like. Further, as diazabicycloalkenes, 1,8
-Diazabicyclo (5,4,0) undecene-7 (DB
U), and phenol salts of DBU (eg, U-CA
TSA No. 1) and the like, and examples of the organic phosphine include triphenylphosphine (TPP), tributylphosphine, tricyclohexylphosphine, and methyldiphenylphosphine. Among these curing accelerators, triphenylphosphine and heptadecyl imidazole are particularly preferred from the viewpoint of electrical properties.
【0028】硬化剤の配合量は、エポキシ樹脂と硬化剤
とを含む樹脂マトリックスに対して0.1〜10体積%
であることが好ましく、1.0〜5.0体積%であるこ
とがより好ましい。0.1体積%未満では、硬化反応速
度を十分に促進させることが困難となって成形性の低下
を招くおそれがある。一方10体積%を越えると、硬化
樹脂の耐熱性、耐湿性、電気特性が著しく低下し、さら
にマレイミド硬化系にも悪影響を及ぼして成形性の低下
を誘発する。The amount of the curing agent is 0.1 to 10% by volume based on the resin matrix containing the epoxy resin and the curing agent.
And more preferably 1.0 to 5.0% by volume. If the content is less than 0.1% by volume, it is difficult to sufficiently promote the curing reaction rate, and the moldability may be reduced. On the other hand, if it exceeds 10% by volume, the heat resistance, moisture resistance and electrical properties of the cured resin will be significantly reduced, and will also adversely affect the maleimide cured system, leading to a reduction in moldability.
【0029】また、本発明で用いられる熱硬化樹脂中に
は、粉体状の無機充填材を含有せしめるとカード表面の
平坦性が向上するので好ましい。使用され得る無機充填
材としては、例えば石英ガラス、結晶性シリカ、溶融シ
リカ、ガラス、アルミナ、ケイ酸カルシウム、硫酸バリ
ウム、マグネシア、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、酸
化アルミニウム、酸化マグネシウム、雲母および金属な
どが挙げられる。これらの形状は目的に応じて決定する
ことができ、樹脂の粘度を低下させる場合には、球状も
しくは亜球状のものを用いることが好ましく、一方、樹
脂の強度をより向上させるためには、破砕状シリカを用
いることが好ましい。なお、溶融成形時に、樹脂組成物
がファイバー層中に含浸しやすいように100μm以上
の粒径のものをカットした充填材を用いるのが好まし
い。It is preferable that the thermosetting resin used in the present invention contains a powdery inorganic filler because the flatness of the card surface is improved. Examples of the inorganic filler that can be used include quartz glass, crystalline silica, fused silica, glass, alumina, calcium silicate, barium sulfate, magnesia, silicon nitride, aluminum nitride, aluminum oxide, magnesium oxide, mica, and metal. No. These shapes can be determined according to the purpose. In order to reduce the viscosity of the resin, it is preferable to use a spherical or subspherical shape, while, in order to further improve the strength of the resin, crushing It is preferred to use fumed silica. At the time of melt molding, it is preferable to use a filler having a particle size of 100 μm or more cut so that the resin composition is easily impregnated into the fiber layer.
【0030】充填材の配合量は、樹脂組成物中20体積
%以上であることが好ましい。20体積%未満ではカー
ド表面を十分に平坦にすることが困難となって、面平均
粗さが50μmを越えるおそれがある。カード表面の面
平均粗さが50μmを越えると、カード表面に印刷を施
す場合に問題が生じる。このように、無機充填材の添加
は、カード表面の平坦性に寄与するという効果があるた
め、例えば、充填材の含有量を変化させて作製された複
数の樹脂シートを用意し、カード表面近傍のシートほど
無機充填材の含有量が多くなるようにこのシートを多層
化して、充填材含有量に傾斜をつけた積層樹脂シートを
用いることもできる。The amount of the filler is preferably 20% by volume or more in the resin composition. If it is less than 20% by volume, it is difficult to make the card surface sufficiently flat, and the average surface roughness may exceed 50 μm. If the surface average roughness of the card surface exceeds 50 μm, a problem occurs when printing is performed on the card surface. As described above, since the addition of the inorganic filler has an effect of contributing to the flatness of the card surface, for example, a plurality of resin sheets prepared by changing the content of the filler are prepared, and the vicinity of the card surface is prepared. The sheet may be multi-layered so that the content of the inorganic filler increases as the sheet becomes, and a laminated resin sheet in which the filler content is inclined may be used.
【0031】さらに本発明においては、樹脂の硬化、ま
たは熱収縮に伴う機械的応力や熱的応力を緩和させるた
めに低応力添加剤を使用してもよく、通常は合成ゴムが
用いられる。合成ゴムとしては、例えば、ブタジエンス
チレンゴム、ブチルゴム、ニトリルゴム、クロロプレン
ゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム、フッソゴムおよ
びステレオゴム等が挙げられ、これらを単独または2種
以上組み合わせて用いることができる。Further, in the present invention, a low-stress additive may be used in order to relieve the mechanical stress and thermal stress accompanying the curing or thermal shrinkage of the resin, and a synthetic rubber is usually used. Examples of the synthetic rubber include butadiene styrene rubber, butyl rubber, nitrile rubber, chloroprene rubber, urethane rubber, silicone rubber, fluorine rubber and stereo rubber, and these can be used alone or in combination of two or more.
【0032】低応力添加剤の配合量は、適用するカード
の規格等に応じて適宜変化するが、一般的には、エポキ
シ樹脂プラス無機充填材を100体積%とした場合に、
1〜90体積%、好ましくは20〜80体積%程度であ
る。合成ゴムが多すぎる場合には、成形体をなすカード
の表面の平坦性および機械的強度が低下する傾向があ
る。一方、未添加あるいは添加量が少なすぎる場合に
は、組成物は剛直でフレキシビリティがなくなり、無線
カードとしての定める曲げ強度や屈曲性等が低下するた
め、規格を満足しなくなるおそれがある。なお、規格と
は、JIS×6303にある長辺20mm、短辺10m
mで表裏各250回、計1000回の曲げを加えても機
能に影響しないことである。The amount of the low-stress additive varies depending on the specifications of the card to be applied and the like. Generally, when the epoxy resin plus the inorganic filler is 100% by volume,
It is about 1 to 90% by volume, preferably about 20 to 80% by volume. If the amount of the synthetic rubber is too large, the flatness and mechanical strength of the surface of the card forming the molded body tend to decrease. On the other hand, when the composition is not added or the addition amount is too small, the composition is rigid and loses flexibility, and the flexural strength and flexibility determined as a wireless card are reduced, so that the composition may not be satisfied. In addition, the standard is a long side of 20 mm and a short side of 10 m in JIS × 6303.
The function is not affected even if bending is performed 1,000 times in total, 250 times on the front and back sides in m.
【0033】本発明においては、樹脂組成物に難燃剤を
配合してもよく、例えば、ハロゲン系、リン系および無
機系の難燃剤が挙げられる。ハロゲン系難燃剤は、主に
臭素系と塩素系とに大別され、臭素系は塩素系に比べて
難燃効果が高く、三酸化アンチモンとの併用効果が大き
いという利点を有している。使用が好ましい塩素系難燃
剤としては、塩素系パラフィンが挙げられる。なお、ハ
ロゲン系難燃剤としては、カード成形性の点で臭素化ビ
スフェノールA型エポキシ樹脂が特に好ましい。In the present invention, a flame retardant may be added to the resin composition, and examples thereof include halogen-based, phosphorus-based and inorganic flame retardants. Halogen-based flame retardants are mainly classified into bromine-based and chlorine-based flame retardants, and bromine-based flame retardants have the advantage of a higher flame-retardant effect than chlorine-based flame retardants, and have a greater effect of being used in combination with antimony trioxide. Chlorine-based paraffins are mentioned as preferred chlorine-based flame retardants. As the halogen-based flame retardant, a brominated bisphenol A type epoxy resin is particularly preferable from the viewpoint of card moldability.
【0034】難燃剤の配合量は、全組成物100体積%
に対して、1〜10体積%程度とすることが好ましい。
本発明に用いられる樹脂シートは、上述したような成分
を、例えばヘンシェルミキサー等のミキサーにより十分
混合して樹脂組成物を得、次いで熱ロールによる溶融混
合処理を加えることによって容易に作製することができ
る。樹脂シートの膜厚は、適用するカードの規格等に応
じて適宜決定し得るが、通常0.05〜0.30mm程
度である。なお、シート厚は、ロールの間隙を調整する
ことによって制御することができる。The amount of the flame retardant was 100% by volume of the total composition.
Is preferably about 1 to 10% by volume.
The resin sheet used in the present invention can be easily prepared by sufficiently mixing the above-described components with a mixer such as a Henschel mixer to obtain a resin composition, and then performing a melt-mixing process using a hot roll. it can. The thickness of the resin sheet can be appropriately determined according to the standard of the card to be applied, and is usually about 0.05 to 0.30 mm. The sheet thickness can be controlled by adjusting the gap between the rolls.
【0035】次に、本発明の無線カードの樹脂層中に含
有されるファイバーについて詳細に説明する。樹脂層中
に含有されるファイバーとしては、一般に化合繊維およ
び無機繊維と呼ばれている繊維であれば特に限定され
ず、具体的には、アクリル繊維、アセテート繊維、アラ
ミド繊維、ナイロン、ノボロイド繊維、パルプ、レーヨ
ン、ビニリデン繊維、ビニロン、フッ素繊維、プロミッ
クス繊維、ポリアセタール繊維、ポリウレタン繊維、ポ
リエステル繊維、ポリエチレン繊維、ポリ塩化ビニル繊
維、ポリクラール繊維、ポリノジック繊維、ポリプロピ
レン繊維および各種ポリマー繊維が挙げられる。また、
無機ファイバーとしては、アルミナ繊維、ガラス繊維、
炭化ケイ素系繊維、炭素繊維、ボロン繊維および各種セ
ラミックスファイバー等が挙げられる。Next, the fibers contained in the resin layer of the wireless card of the present invention will be described in detail. The fibers contained in the resin layer are not particularly limited as long as they are fibers generally called compound fibers and inorganic fibers.Specifically, acrylic fibers, acetate fibers, aramid fibers, nylon, novoloid fibers, Examples include pulp, rayon, vinylidene fiber, vinylon, fluorine fiber, promix fiber, polyacetal fiber, polyurethane fiber, polyester fiber, polyethylene fiber, polyvinyl chloride fiber, polyclar fiber, polynosic fiber, polypropylene fiber and various polymer fibers. Also,
As inorganic fibers, alumina fibers, glass fibers,
Examples thereof include silicon carbide fibers, carbon fibers, boron fibers, and various ceramic fibers.
【0036】本発明の無線カードにおいては、これらの
繊維が樹脂層中に単独で存在する場合であっても、カー
ドの端面から対向する端面まで繊維が貫通していれば、
端面を観察することによってカードの偽造を発見できる
ので有効である。In the wireless card of the present invention, even when these fibers are present alone in the resin layer, if the fibers penetrate from the end face of the card to the opposite end face,
This is effective because it is possible to detect forgery of the card by observing the end face.
【0037】しかしながら、上述した繊維が単独または
低繊維密度で樹脂層中に含有されている場合や、繊維が
樹脂層中にランダムな状態で含有されている場合には、
本発明で唱っている効果を十分に得ることが困難とな
る。そこで、本発明においては、繊維は、無線カードの
樹脂層中に層状で存在していることが好ましく、さらに
は織布状または不織布状の繊維を用いるのが最も好まし
い。上述したなかで、カード内部にかかる熱応力などを
考慮すると、無機繊維のほうが有機繊維より好ましく、
ガラス織布は安価に入手できる点で最も好ましい。However, when the above-mentioned fibers are contained in the resin layer alone or at a low fiber density, or when the fibers are contained in the resin layer in a random state,
It is difficult to sufficiently obtain the effects claimed in the present invention. Thus, in the present invention, the fibers are preferably present in a layered form in the resin layer of the wireless card, and most preferably, woven or nonwoven fibers are used. Among the above, considering the thermal stress applied to the inside of the card, inorganic fibers are more preferable than organic fibers,
Glass woven fabrics are most preferred because they are available at low cost.
【0038】ガラス織布としては、各種ガラス素材、繊
維径のものが挙げられるが、本発明の薄型の無線カード
に用いるためには、綿密に織られ、かつ薄いガラス織布
が望ましい。このようなガラス織布の具体例を下記表1
および2に示す。Examples of the glass woven fabric include various glass materials and fiber diameters. For use in the thin wireless card of the present invention, a finely woven and thin glass woven fabric is desirable. Table 1 below shows specific examples of such a glass woven fabric.
And 2.
【0039】[0039]
【表1】 [Table 1]
【0040】[0040]
【表2】 [Table 2]
【0041】表2中、強力は、剪断強さに対する引っ張
り強さである。なお、これらのガラス織布は、通常、カ
ップリング剤などによる表面処理を施して樹脂との濡れ
性を高めて用いられる。カップリング剤としては、エポ
キシシラン系、メタクリルシラン系、アミノシラン系、
および耐熱シラン系等が挙げられる。In Table 2, the strength is the tensile strength against the shear strength. In addition, these glass woven fabrics are usually used after being subjected to a surface treatment with a coupling agent or the like to increase wettability with a resin. As coupling agents, epoxy silane, methacryl silane, amino silane,
And heat-resistant silanes.
【0042】上述したようなファイバーの含有量は、カ
ード内部に占める樹脂組成物全体の中、20体積%以下
となるように設定することが望ましい。20体積%を越
えると、加圧成形工程時にファイバー層にうねりを生
じ、カード表面の平坦性を低下させるおそれがあるから
である。カード表面の平坦性が低下すると、表面に良好
に印刷することが困難となってしまう。The content of the fiber as described above is desirably set so as to be 20% by volume or less in the entire resin composition occupying the inside of the card. If the content exceeds 20% by volume, the fiber layer may undulate during the pressure molding step, and the flatness of the card surface may be reduced. If the flatness of the card surface is reduced, it becomes difficult to print well on the surface.
【0043】本発明の無線カードには、リボン等を用い
た方式、熱転写方式、インクジェットによる方法等、被
印刷層に合わせた種々の方式を用いて印刷を施すことが
できるが、いずれの方法を用いる場合も、カード表面の
面平均粗さは50μm以下であることが好ましい。50
μmを越えると、400dpiを越える密度で印刷する
場合に印字や写真などに欠け、抜けが目立ってくるおそ
れがある。The wireless card of the present invention can be printed using various methods suitable for the layer to be printed, such as a method using a ribbon or the like, a thermal transfer method, an ink jet method, and the like. Also when used, the surface average roughness of the card surface is preferably 50 μm or less. 50
If it exceeds μm, when printing at a density exceeding 400 dpi, there is a possibility that printouts, photographs, etc. may be missing and noticeable omissions may occur.
【0044】なお、本発明の無線カードに用いられるI
Cモジュールやアンテナとしては、通常のTCPやTS
OPなどの薄型パッケージに巻線コイルを備えたものを
使用することができる。It should be noted that the I used for the wireless card of the present invention
Normal TCP or TS as C module and antenna
A thin package such as an OP provided with a winding coil can be used.
【0045】本発明の無線カードは、樹脂層中にファイ
バーを含有しているので、表面の平坦性が大きく、良好
に表示・印刷を行なうことができる。しかも、十分な屈
曲性を有しているため、使用時に相当の曲げ負荷が加え
られても耐えて、何ら損傷を受けることなく復元する。Since the wireless card of the present invention contains fibers in the resin layer, the flatness of the surface is large, and display and printing can be performed well. In addition, since it has sufficient flexibility, it can withstand a considerable bending load during use and can be restored without any damage.
【0046】特に、ファイバー層として織布または不織
布を用いた場合には、埋設する半導体素子およびアンテ
ナ素子が成形時に傾いて表面に露出することが防止で
き、完全に埋設することが可能となる。In particular, when a woven or nonwoven fabric is used as the fiber layer, the semiconductor element and the antenna element to be embedded can be prevented from being inclined and exposed to the surface during molding, and can be completely embedded.
【0047】また、樹脂シートとファイバー層とを含む
複合シートは、ロール状に巻き付けてもブロッキングを
生じるおそれは全くないので、このような複合シートを
ICモジュールの上に連続供給した後、加熱圧縮するこ
とにより、平坦性および屈曲性に優れた無線カードを効
率よく製造することが可能である。Further, since the composite sheet including the resin sheet and the fiber layer does not cause any blocking even when wound in a roll shape, after continuously supplying such a composite sheet onto the IC module, it is heated and compressed. By doing so, a wireless card excellent in flatness and flexibility can be efficiently manufactured.
【0048】[0048]
【発明の実施の形態】以下、実施例および比較例を示し
て本発明をさらに詳細に説明する。まず、以下に示す各
成分を用いて樹脂組成物を作製した。 第1のエポキシ樹脂:エピコート825(油化シェルエポキシ社製、ビスフ ェノールA型)、エポキシ当量172〜178 第2のエポキシ樹脂:YX−4000H(油化シェルエポキシ社製、ビフェ ニル型)、エポキシ当量192 マレイミド樹脂 :MB−3000H(三菱化学社製) 酸無水物 :MH−700(新日本理化社製、メチルヘキサヒドロ 無水フタル酸)、当量85 フェノール樹脂 :BRG−555(昭和高分子社製、ノボラック樹脂) 水酸基当量104 硬化促進剤 :N,N´−ジメチルベンジルアミン(DMBA) 溶融シリカ :GR−80AK 低応力添加剤 :TSF-451 (東芝シリコーン社製、シリコーンゴム) 上述の樹脂原料を、下記表3に示す配合割合(体積%)
で配合して樹脂A〜樹脂Jの10種類の樹脂組成物を
得、ヘンシェルミキサーを用いて十分に混合した後、加
熱したロールにより溶融混練した。この際、ロールの間
隙を調整することにより、シート厚を0.1〜0.25
mmに制御した。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in more detail with reference to examples and comparative examples. First, a resin composition was prepared using the following components. First epoxy resin: Epicoat 825 (manufactured by Yuka Shell Epoxy, bisphenol A type), epoxy equivalent 172 to 178 Second epoxy resin: YX-4000H (manufactured by Yuka Shell Epoxy, biphenyl type), epoxy Equivalent 192 Maleimide resin: MB-3000H (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) Acid anhydride: MH-700 (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd., methylhexahydrophthalic anhydride), equivalent weight 85 Phenol resin: BRG-555 (manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.) , Novolak resin) Hydroxy group equivalent 104 Curing accelerator: N, N'-dimethylbenzylamine (DMBA) Fused silica: GR-80AK Low stress additive: TSF-451 (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd., silicone rubber) , The mixing ratio (% by volume) shown in Table 3 below
Were mixed by using the above-mentioned procedures to obtain ten kinds of resin compositions of Resin A to Resin J. After sufficiently mixing using a Henschel mixer, the mixture was melt-kneaded by a heated roll. At this time, the sheet thickness is adjusted to 0.1 to 0.25 by adjusting the gap between the rolls.
mm.
【0049】[0049]
【表3】 [Table 3]
【0050】得られた樹脂を、下記表4〜6に示すよう
にファイバー層5としてのガラス織布またはポリエステ
ル不織布と組み合わせて複合シートとし、図2に示した
ようにICモジュール3およびアンテナ1の上下に配置
した。その後、打抜型カッターにより複合シートを70
×100mmサイズに切断し、同表に示すような条件で
加熱圧縮を行なって、実施例1〜12の無線カードを製
造した。The obtained resin is combined with a glass woven fabric or a polyester non-woven fabric as a fiber layer 5 as shown in Tables 4 to 6 below to form a composite sheet, and as shown in FIG. Arranged up and down. After that, the composite sheet is 70
The wireless cards of Examples 1 to 12 were cut to a size of × 100 mm and heated and compressed under the conditions shown in the table.
【0051】なお、ファイバー層5としてここで用いた
ガラス織布LPC100は、表1および2に示したよう
な特性を有するものであり、ポリエステル不織布は、厚
さ0.07mm、見掛密度0.43g/cm3 のH81
03(日本バイリーン社製)である。また、半導体IC
としてはTCP、アンテナとしては巻線コイルを用い
た。The glass woven fabric LPC100 used here as the fiber layer 5 has the properties shown in Tables 1 and 2, and the polyester nonwoven fabric has a thickness of 0.07 mm and an apparent density of 0.3. 43 g / cm 3 of H81
03 (manufactured by Japan Vilene Co., Ltd.). Also, semiconductor IC
, And a coil was used as the antenna.
【0052】[0052]
【表4】 [Table 4]
【0053】[0053]
【表5】 [Table 5]
【0054】[0054]
【表6】 [Table 6]
【0055】さらに、溶融シリカの配合量の多い樹脂F
および樹脂Gのシートのみを用いて、表6に示すような
条件でそれぞれ比較例1および2のカードを作製した。
上述のようにして作製した実施例1〜12および比較例
1,2の無線カードについて、表面の平坦性および屈曲
性を以下に示す方法で評価するとともに、表面観察を行
なった。 (1)表面平坦性の測定:熱硬化成形後のカードを定番
上に置き、隙間ゲージを用いて4方向からカード表面に
ついて隙間測定を行なった。 (2)屈曲性試験:成形したカードの長辺方向に20m
m、短辺方向に10mmの撓みを表裏各250回、各樹
脂についてクラックの発生やカードの折れ曲がりなどを
観察した。試験後、試験前の状態と変化しないものを
“OK”とし、カードに折れやクラックが発生したもの
を“NG”とした。 (3)表面観察:成型したカードの表面および側面を目
視し、アンテナの露出の有無を観察した。Further, resin F containing a large amount of fused silica
And cards of Comparative Examples 1 and 2, respectively, using only the sheet of resin G and the conditions shown in Table 6.
The flatness and flexibility of the surfaces of the wireless cards of Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 and 2 produced as described above were evaluated by the following method, and the surfaces were observed. (1) Measurement of surface flatness: A card after thermosetting molding was placed on a standard, and a gap was measured on the card surface from four directions using a gap gauge. (2) Flexibility test: 20 m in the long side direction of the molded card
m, bending of 10 mm in the short side direction was observed 250 times on each of the front and back sides, and occurrence of cracks and bending of the card were observed for each resin. After the test, the one that did not change from the state before the test was “OK”, and the one in which the card was broken or cracked was “NG”. (3) Surface observation: The surface and side surfaces of the molded card were visually observed to determine whether the antenna was exposed.
【0056】さらに、樹脂/ガラス織布シートをロール
状に巻き取り、40℃で168時間放置し、ブロッキン
グの有無も観察した。なお、比較例については、樹脂シ
ートのみをロール状にして観察した。得られた結果を、
前述の評価結果と合わせて下記表7にまとめる。Further, the resin / glass woven fabric sheet was wound into a roll and left at 40 ° C. for 168 hours, and the presence or absence of blocking was observed. In the comparative example, only the resin sheet was observed in the form of a roll. The obtained result is
Table 7 below summarizes the evaluation results.
【0057】[0057]
【表7】 [Table 7]
【0058】表7に示したように、本発明(実施例1〜
12)の無線カードのほとんどは、溶融シリカを多量に
配合量することにより高充填した樹脂組成物(F,G)
を用いた比較例と同等あるいはそれより優れた表面平坦
性を有している。特に、比較例と同量の無機充填材を含
有した樹脂シートを用いた実施例6,7のサンプルは、
隙間ゲージ20μm以下を示し、表面平坦性が極めて良
好であった。As shown in Table 7, the present invention (Examples 1 to 5)
Most of the wireless cards 12) are highly filled resin compositions (F, G) by blending a large amount of fused silica.
The surface flatness is equal to or better than that of the comparative example using. In particular, the samples of Examples 6 and 7 using the resin sheet containing the same amount of the inorganic filler as the comparative example are:
The gap gauge showed 20 μm or less, and the surface flatness was extremely good.
【0059】また、本発明の無線カードは屈曲性も十分
であり、ブロッキングは全く起こらず、ファイバー層の
効果が大きいことがわかる。さらに、ガラス織布等のフ
ァイバー層で上下から挟まれているので、アンテナの露
出も全く生じていない。したがって、ゆがみ等が生じ
ず、信頼性の高い無線カードが得られた。Further, it can be seen that the wireless card of the present invention has sufficient flexibility, no blocking occurs at all, and the effect of the fiber layer is large. Further, since the antenna is sandwiched from above and below by a fiber layer such as a glass woven fabric, the antenna is not exposed at all. Therefore, a highly reliable wireless card without distortion or the like was obtained.
【0060】これに対して、ファイバー層を有しない比
較例のサンプルは、屈曲性が劣っており、ブロッキング
も発生している。また、比較例1のサンプルはアンテナ
の露出が認められた。On the other hand, the sample of the comparative example having no fiber layer is inferior in flexibility and also has blocking. In the sample of Comparative Example 1, exposure of the antenna was observed.
【0061】[0061]
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
機械的強度が高く、表面平坦性に優れるとともに十分な
屈曲性を有する無線カードが提供される。また、本発明
によれば、機械的強度、表面平坦性および屈曲性の全て
の条件を満足した無線カードを、連続加熱圧縮成形によ
り効率よく製造し得る製造方法が提供される。本発明の
無線カードは、その表面に良好に表示・印刷可能である
とともに高い信頼性を有しており、情報データの送受信
用として有効である。As described in detail above, according to the present invention,
A wireless card having high mechanical strength, excellent surface flatness, and sufficient flexibility is provided. Further, according to the present invention, there is provided a manufacturing method capable of efficiently manufacturing a wireless card satisfying all the conditions of mechanical strength, surface flatness, and flexibility by continuous heating and compression molding. INDUSTRIAL APPLICABILITY The wireless card of the present invention can be displayed and printed well on its surface and has high reliability, and is effective for transmitting and receiving information data.
【図1】本発明の無線カードの一例を示す断面図。FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an example of a wireless card of the present invention.
【図2】本発明の無線カードの製造方法を説明するため
の模式図。FIG. 2 is a schematic view for explaining a method of manufacturing a wireless card according to the present invention.
【図3】従来の無線カードの構成を示す斜視図。FIG. 3 is a perspective view showing a configuration of a conventional wireless card.
【図4】従来の無線カードの構成を示す断面図。FIG. 4 is a sectional view showing a configuration of a conventional wireless card.
1…アンテナ 2…表面フィルム 3…ICモジュール 4…カード成形樹脂 5…ファイバー層 6…樹脂層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Antenna 2 ... Surface film 3 ... IC module 4 ... Card molding resin 5 ... Fiber layer 6 ... Resin layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 奥山 哲生 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝研究開発センター内 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Tetsuo Okuyama 1 Toshiba-cho, Komukai Toshiba-cho, Saisaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Inside the R & D Center of Toshiba Corporation
Claims (4)
ジュール部と、 前記内部モジュール部の上に配置された第1の樹脂層
と、 前記内部モジュール部の下に配置された第2の樹脂層と
を具備し、 前記第1および第2の樹脂層の少なくとも一方の樹脂層
中には、無機または有機材料からなるファイバーが含有
されていることを特徴とする無線カード。1. An internal module section including a semiconductor element and an antenna, a first resin layer disposed on the internal module section, and a second resin layer disposed under the internal module section. A wireless card comprising: at least one of the first and second resin layers containing a fiber made of an inorganic or organic material.
も一方の樹脂層中には、微粒子からなる無機充填材が2
0体積%以上の割合で含有されている請求項1に記載の
無線カード。2. An inorganic filler made of fine particles is contained in at least one of the first and second resin layers.
The wireless card according to claim 1, wherein the content of the wireless card is 0% by volume or more.
占有率が20体積%以下である請求項1に記載の無線カ
ード。3. The wireless card according to claim 1, wherein the occupation ratio of the fibers contained in the resin layer is 20% by volume or less.
層上に、樹脂または樹脂と無機フィラーとを含む樹脂組
成物を塗工して複合シートを作製する工程と、 半導体素子およびアンテナを含む内部モジュール部の上
下に、前記ファイバー層が前記モジュール部側となるよ
う前記複合シートを配置して、複合シート/内部モジュ
ール部/複合シートの積層構造体を得る工程と、 前記複合シート/内部モジュール部/複合シートの積層
構造体に加熱・加圧処理を施して内部モジュール部を、
樹脂または樹脂と無機フィラーとを含む樹脂組成物中に
埋設一体化する工程とを具備する無線カードの製造方
法。4. A step of applying a resin or a resin composition containing a resin and an inorganic filler on a fiber layer made of an inorganic or organic material to produce a composite sheet; and an internal module portion including a semiconductor element and an antenna. A step of arranging the composite sheet so that the fiber layer is on the module section side above and below to obtain a composite sheet / internal module section / composite sheet laminated structure; and the composite sheet / internal module section / composite. Heat and pressure treatment is applied to the laminated structure of the sheet to make the internal module part,
Embedding and integrating in a resin or a resin composition containing a resin and an inorganic filler.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8243778A JPH1092980A (en) | 1996-09-13 | 1996-09-13 | Wireless card and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8243778A JPH1092980A (en) | 1996-09-13 | 1996-09-13 | Wireless card and method of manufacturing the same |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1092980A true JPH1092980A (en) | 1998-04-10 |
Family
ID=17108840
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8243778A Pending JPH1092980A (en) | 1996-09-13 | 1996-09-13 | Wireless card and method of manufacturing the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1092980A (en) |
Cited By (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008270762A (en) * | 2007-03-26 | 2008-11-06 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Method for manufacturing semiconductor device |
| EP2019425A1 (en) | 2007-07-27 | 2009-01-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
| EP1970951A3 (en) * | 2007-03-13 | 2009-05-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
| EP1970952A3 (en) * | 2007-03-13 | 2009-05-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
| JP2009141020A (en) * | 2007-12-04 | 2009-06-25 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Electronic component sealing sheet |
| EP2131394A1 (en) * | 2008-06-06 | 2009-12-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
| JP2010003936A (en) * | 2008-06-23 | 2010-01-07 | Spansion Llc | Semiconductor device and method of manufacturing the same |
| JP2010016362A (en) * | 2008-06-06 | 2010-01-21 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Method for manufacturing semiconductor device |
| US7736958B2 (en) | 2007-03-26 | 2010-06-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing semiconductor device |
| US7759788B2 (en) | 2007-08-30 | 2010-07-20 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd | Semiconductor device |
| US7883939B2 (en) | 2008-11-11 | 2011-02-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing semiconductor device |
| US7906847B2 (en) | 2007-06-07 | 2011-03-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
| US8044499B2 (en) | 2008-06-10 | 2011-10-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Wiring substrate, manufacturing method thereof, semiconductor device, and manufacturing method thereof |
| US8049292B2 (en) | 2008-03-27 | 2011-11-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device |
| US8102034B2 (en) | 2008-09-25 | 2012-01-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method of the same |
| US8133749B2 (en) | 2008-04-25 | 2012-03-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
| US8144013B2 (en) | 2008-01-31 | 2012-03-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
| US8148818B2 (en) | 2008-05-23 | 2012-04-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
| US8169588B2 (en) | 2008-07-10 | 2012-05-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device and method for manufacturing the same |
| US8227886B2 (en) | 2008-02-01 | 2012-07-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device |
| US8237248B2 (en) | 2008-05-23 | 2012-08-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
| US8264144B2 (en) | 2008-07-10 | 2012-09-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and electronic device utilizing fibrous barrier layers impregnated with organic resin |
| US8288773B2 (en) | 2004-08-23 | 2012-10-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Wireless chip and manufacturing method thereof |
| US8384209B2 (en) | 2008-05-12 | 2013-02-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device |
| US8432254B2 (en) | 2008-01-31 | 2013-04-30 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
| US8459561B2 (en) | 2007-09-07 | 2013-06-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
| US8552498B2 (en) | 2008-09-19 | 2013-10-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
| US8555497B2 (en) | 2008-06-20 | 2013-10-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Manufacturing method of a wiring substrate |
| US8563397B2 (en) | 2008-07-09 | 2013-10-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
| US8609464B2 (en) | 2008-06-06 | 2013-12-17 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for shielding semiconductor device |
| US8642899B2 (en) | 2009-10-21 | 2014-02-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Terminal structure, electronic device, and manufacturing method thereof |
| US9087950B2 (en) | 2009-06-05 | 2015-07-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Photoelectric conversion device and method for manufacturing the same |
| US9196593B2 (en) | 2008-10-01 | 2015-11-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
| US9536755B2 (en) | 2004-06-02 | 2017-01-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laminating system |
-
1996
- 1996-09-13 JP JP8243778A patent/JPH1092980A/en active Pending
Cited By (69)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9536755B2 (en) | 2004-06-02 | 2017-01-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laminating system |
| US8790994B2 (en) | 2004-08-23 | 2014-07-29 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Wireless chip and manufacturing method thereof |
| US8288773B2 (en) | 2004-08-23 | 2012-10-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Wireless chip and manufacturing method thereof |
| EP1970952A3 (en) * | 2007-03-13 | 2009-05-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
| US7808098B2 (en) | 2007-03-13 | 2010-10-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
| EP2372756A1 (en) * | 2007-03-13 | 2011-10-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
| US7968427B2 (en) | 2007-03-13 | 2011-06-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Manufacturing method of semiconductor device |
| KR101448485B1 (en) * | 2007-03-13 | 2014-10-08 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
| EP1970951A3 (en) * | 2007-03-13 | 2009-05-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
| US8558370B2 (en) | 2007-03-13 | 2013-10-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device with antenna |
| US8552418B2 (en) | 2007-03-13 | 2013-10-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
| US7736958B2 (en) | 2007-03-26 | 2010-06-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing semiconductor device |
| US7785933B2 (en) | 2007-03-26 | 2010-08-31 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing semiconductor device |
| JP2008270762A (en) * | 2007-03-26 | 2008-11-06 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Method for manufacturing semiconductor device |
| US8338931B2 (en) | 2007-03-26 | 2012-12-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and product tracing system utilizing the semiconductor device having top and bottom fibrous sealing layers |
| KR101466594B1 (en) * | 2007-03-26 | 2014-11-28 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | Method of manufacturing semiconductor device |
| EP1976000A3 (en) * | 2007-03-26 | 2009-05-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing semiconductor device |
| US7906847B2 (en) | 2007-06-07 | 2011-03-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
| US8872331B2 (en) | 2007-07-27 | 2014-10-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
| US7932589B2 (en) | 2007-07-27 | 2011-04-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
| KR101489167B1 (en) * | 2007-07-27 | 2015-02-03 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
| JP2009054145A (en) * | 2007-07-27 | 2009-03-12 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
| US9412060B2 (en) | 2007-07-27 | 2016-08-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
| KR101489173B1 (en) * | 2007-07-27 | 2015-02-05 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
| EP2019425A1 (en) | 2007-07-27 | 2009-01-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
| US7759788B2 (en) | 2007-08-30 | 2010-07-20 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd | Semiconductor device |
| US8459561B2 (en) | 2007-09-07 | 2013-06-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
| US9508619B2 (en) | 2007-09-07 | 2016-11-29 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
| JP2009141020A (en) * | 2007-12-04 | 2009-06-25 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Electronic component sealing sheet |
| US8432254B2 (en) | 2008-01-31 | 2013-04-30 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
| US8144013B2 (en) | 2008-01-31 | 2012-03-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
| US9460377B2 (en) | 2008-01-31 | 2016-10-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
| US8227886B2 (en) | 2008-02-01 | 2012-07-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device |
| US8049292B2 (en) | 2008-03-27 | 2011-11-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device |
| US8507308B2 (en) | 2008-03-27 | 2013-08-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device |
| US8637932B2 (en) | 2008-04-25 | 2014-01-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
| US9171808B2 (en) | 2008-04-25 | 2015-10-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
| US8133749B2 (en) | 2008-04-25 | 2012-03-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
| JP2020074497A (en) * | 2008-04-25 | 2020-05-14 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | Semiconductor device |
| US8384209B2 (en) | 2008-05-12 | 2013-02-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device |
| US9048277B2 (en) | 2008-05-12 | 2015-06-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device |
| US8148818B2 (en) | 2008-05-23 | 2012-04-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
| US8237248B2 (en) | 2008-05-23 | 2012-08-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
| US8609464B2 (en) | 2008-06-06 | 2013-12-17 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for shielding semiconductor device |
| JP2010016362A (en) * | 2008-06-06 | 2010-01-21 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Method for manufacturing semiconductor device |
| EP2131394A1 (en) * | 2008-06-06 | 2009-12-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
| US8420409B2 (en) | 2008-06-06 | 2013-04-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing semiconductor device |
| US8053253B2 (en) | 2008-06-06 | 2011-11-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing semiconductor device |
| US7888163B2 (en) | 2008-06-06 | 2011-02-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
| US8044499B2 (en) | 2008-06-10 | 2011-10-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Wiring substrate, manufacturing method thereof, semiconductor device, and manufacturing method thereof |
| US8555497B2 (en) | 2008-06-20 | 2013-10-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Manufacturing method of a wiring substrate |
| JP2010003936A (en) * | 2008-06-23 | 2010-01-07 | Spansion Llc | Semiconductor device and method of manufacturing the same |
| US8563397B2 (en) | 2008-07-09 | 2013-10-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
| US8264144B2 (en) | 2008-07-10 | 2012-09-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and electronic device utilizing fibrous barrier layers impregnated with organic resin |
| US8169588B2 (en) | 2008-07-10 | 2012-05-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device and method for manufacturing the same |
| US8860306B2 (en) | 2008-07-10 | 2014-10-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device having a fibrous encapsulating structure |
| US11908976B2 (en) | 2008-07-10 | 2024-02-20 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and electronic device |
| US11557697B2 (en) | 2008-07-10 | 2023-01-17 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Flexible light emitting device comprising a polyimide resin |
| US11101407B2 (en) | 2008-07-10 | 2021-08-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device sealed in a fibrous body to improve manufacturability and electronic device including the light emitting device |
| US10205062B2 (en) | 2008-07-10 | 2019-02-12 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device that is highly reliable, thin and is not damaged by external local pressure and electronic device |
| US10079330B2 (en) | 2008-07-10 | 2018-09-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and electronic device having an embedded pixel electrode |
| US8552498B2 (en) | 2008-09-19 | 2013-10-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
| US8957423B2 (en) | 2008-09-19 | 2015-02-17 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
| US8102034B2 (en) | 2008-09-25 | 2012-01-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method of the same |
| US8803298B2 (en) | 2008-09-25 | 2014-08-12 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method of the same |
| US9196593B2 (en) | 2008-10-01 | 2015-11-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
| US7883939B2 (en) | 2008-11-11 | 2011-02-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing semiconductor device |
| US9087950B2 (en) | 2009-06-05 | 2015-07-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Photoelectric conversion device and method for manufacturing the same |
| US8642899B2 (en) | 2009-10-21 | 2014-02-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Terminal structure, electronic device, and manufacturing method thereof |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH1092980A (en) | Wireless card and method of manufacturing the same | |
| EP1220240B1 (en) | Insulating material, electric winding, and method of manufacture thereof | |
| KR102051272B1 (en) | Multilayer resin sheet, resin sheet laminate, cured multilayer resin sheet and method for producing same, multilayer resin sheet with metal foil, and semiconductor device | |
| CN101973146B (en) | Process for producing prepreg with carrier, prepreg with carrier, process for producing thin-type double sided board, thin-type double sided board, and process for producing multilayered printed wirin | |
| KR102359868B1 (en) | Film-like epoxy resin composition, method of producing film-like epoxy resin composition, and method of producing semiconductor device | |
| US20040226740A1 (en) | Insulating material and electric machine winding and method for manufacturing the same | |
| US6512031B1 (en) | Epoxy resin composition, laminate film using the same, and semiconductor device | |
| KR102186998B1 (en) | Substrate containing sealing material for sealing semiconductor, semiconductor device, and method for manufacturing semiconductor device | |
| SG172601A1 (en) | Semiconductor device | |
| EP2641736A1 (en) | Multilayer resin sheet and resin-sheet laminate | |
| JP3672009B2 (en) | Epoxy resin composition and laminated film and semiconductor device using this epoxy resin composition | |
| JPH0873621A (en) | Resin sheet | |
| JP2012025907A (en) | Method for producing electronic part-sealing sheet-like epoxy resin composition material and electronic part | |
| JPH11272831A (en) | IC card manufacturing method and IC card | |
| KR102687490B1 (en) | Encapsulation method and thermosetting sheet for electronic component mounting boards | |
| US12441856B2 (en) | Resin sheet, prepreg, insulating resin member, and printed wiring board | |
| KR102879272B1 (en) | Thermally conductive sheets, laminates, and semiconductor devices | |
| TW201117960A (en) | Multi-layered laminated board with spherical fillers and electronic circuit thereof | |
| CN223296558U (en) | A medical polymer radiation shielding plate | |
| JP2021174932A (en) | Manufacturing method of electronic parts | |
| JP2007201387A (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof | |
| CN119058209B (en) | Medical polymer nanometer radiation shielding plate | |
| JP7414162B2 (en) | Light emitting device package and its manufacturing method | |
| KR102828170B1 (en) | Wafer protective tape | |
| KR20120038052A (en) | Build-up film structrue and circuit board manufactured using the build-up film structure, and method for manufacturing circuit board using the build-up film structure |