JPH1093004A - Electronic component and method of manufacturing the same - Google Patents

Electronic component and method of manufacturing the same

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JPH1093004A
JPH1093004A JP8240183A JP24018396A JPH1093004A JP H1093004 A JPH1093004 A JP H1093004A JP 8240183 A JP8240183 A JP 8240183A JP 24018396 A JP24018396 A JP 24018396A JP H1093004 A JPH1093004 A JP H1093004A
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JP
Japan
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weight
metal layer
electronic component
electrode lead
external connection
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JP8240183A
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Japanese (ja)
Inventor
Masami Yokozawa
眞覩 横沢
Kazuhiro Aoi
和廣 青井
Toru Nomura
徹 野村
Ryoji Sawada
良治 澤田
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
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Filing date
Publication date
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    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W74/00—Encapsulations, e.g. protective coatings
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00—Package configurations
    • H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electronic component and manufacture thereof, enabling the forming of a metal layer having good solderability, contg. no Pb, and having high mechanical strength and high bond reliability on electrode leads for external connections. SOLUTION: On electrode leads 5 for external connections, a metal layer 6 of an Sn alloy contg. Bi 4-15wt.% and Ag plus Cu 5wt.% or less is formed by the electroplating at a current density of 1.5A/dm<2> after forming an Ni or Cu base layer on the leads 5.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、Pbを含まない外
部接続用電極リード線を備えた半導体装置等の電子部品
およびその製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electronic component such as a semiconductor device having an electrode lead wire for external connection which does not contain Pb, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の半導体装置における外部接続用電
極リード線には、予め鉛−錫(Pb−Sn)系半田層を
付着形成しておくことにより、容易にプリント基板や回
路基板に半導体装置を取り付け(半田付け)できるよう
にしていた。したがって、ほとんどの半導体装置には、
外部接続用電極リード線の部分にPbを含有していた。
そのPb−Sn系半田層はメッキまたはディップによっ
て付着形成されていた。
2. Description of the Related Art A lead-tin (Pb-Sn) -based solder layer is attached to electrode lead wires for external connection in a conventional semiconductor device in advance so that the semiconductor device can be easily mounted on a printed circuit board or a circuit board. Could be attached (soldered). Therefore, most semiconductor devices have
The portion of the external connection electrode lead wire contained Pb.
The Pb-Sn-based solder layer was formed by plating or dipping.

【0003】近年、半田付けの容易な金属であるパラジ
ウム(Pd)を予めリードフレームに付着形成させてお
くことで、組み立て後の半田付着を不要にするととも
に、Pbを含まない半導体装置が紹介されている(例え
ば、日経エレクトロニクスno.622,p17,19
94)。
[0003] In recent years, a semiconductor device that does not require Pb and does not need to be soldered after assembling by previously attaching palladium (Pd), which is an easily solderable metal, to a lead frame has been introduced. (Eg, Nikkei Electronics no. 622, p17, 19)
94).

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明はPbを排除し
た(環境対策上、適当なレベルにPbを削減した)半導
体装置等の電子部品を実現するため、特に外部接続用電
極リード線に付着形成していたPb−Sn系半田を、P
bを含まない(Pbを素材の不純物レベル以下にした)
金属層に替えたときに、プリント基板や回路基板に強固
に半田付けでき、高い信頼性を得ることができる電子部
品およびその製造方法を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is intended to realize electronic parts such as semiconductor devices which eliminate Pb (Pb is reduced to an appropriate level in terms of environmental measures). The formed Pb-Sn based solder is replaced with P
does not contain b (Pb is reduced below the impurity level of the material)
An object of the present invention is to provide an electronic component that can be firmly soldered to a printed board or a circuit board when replaced with a metal layer, and that can obtain high reliability, and a method for manufacturing the same.

【0005】また、本発明は、半田付けを容易に行うこ
とができる電子部品およびその製造方法を提供すること
を目的とする。さらに、本発明は、経時変化の少ない電
子部品およびその製造方法を提供することを目的とす
る。
Another object of the present invention is to provide an electronic component which can be easily soldered and a method for manufacturing the same. Still another object of the present invention is to provide an electronic component with less change over time and a method for manufacturing the same.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の電子部品は、外
部接続用電極リード線に付着形成する最外層金属とし
て、従来のPb−Sn系半田に代えて、主として接着の
役目を果たすSn(融点232℃)に、その融点を低下
させる金属としてビスマス(Bi)を混ぜたSn−Bi
系合金を採用した。また、外部接続用電極リード線の半
田付けを容易にするための添加金属としてAgとCuを
選択した。すなわち、本発明では、電子部品の外部接続
用電極リード線の最外層金属として、Sn−Bi系の合
金を用い、AgとCuを添加している。なお、AgとC
uについては、いずれか片方だけの添加もしくは両方の
添加のいずれでもよく、また添加しなくてもよい。添加
する場合には、同量ではCuに比べてAgの方が効果が
大である。
According to the electronic component of the present invention, Sn (mainly serving as an adhesive) replaces the conventional Pb-Sn-based solder as the outermost layer metal adhered to the external connection electrode lead wire. Sn-Bi mixed with bismuth (Bi) as a metal for lowering its melting point.
A system alloy was adopted. Further, Ag and Cu were selected as additive metals for facilitating soldering of the external connection electrode lead wires. That is, in the present invention, Ag and Cu are added as the outermost layer metal of the electrode lead wire for external connection of the electronic component using a Sn-Bi alloy. Note that Ag and C
With respect to u, either one of them may be added, or both may be added, or u may not be added. When added, Ag is more effective than Cu at the same amount.

【0007】なお、AgまたはCuを添加すると、半田
付けが容易になるのは、Snに対してAgやCuが溶解
しやすいためである。すなわち、半田付け時の半田ペー
スト中のSnに対してこちら側(リード線側)のAgや
Cuが溶解しやすくなり、半田付けが容易になるのであ
る。ここで、Biの含有量を4〜15重量%としたの
は、4重量%未満であると融点が高く(225℃)、プ
リント基板や回路基板に半田付けする際の温度を高くす
る(260℃以上)必要があり、半田付けが困難にな
り、15重量%を超えると、合金の機械的強度が著しく
弱くなるからである。Biの含有量は半田接合部の信頼
性に関係し、これを解決するために、例えば1〜4重量
%のAgや1重量%程度のCuというように、合計1〜
5重量%の範囲内でAgとCuの何れか少なくとも一方
を添加した。また、例えばAgを1〜5重量%添加し、
Cuは0重量%としてもよく、また、Cuを1〜5重量
%添加してAgを0重量%としてもよい。なお、Agと
Cuの合計を5重量%とする場合の組み合わせとして
は、例えば、Ag:5%−Cu:0%,Ag:4.5%
−Cu:0.5%,Ag:4.0%−Cu:1.0%,
‥‥‥,Ag:0.5%−Cu:4.5%,Ag:0%
−Cu:5%などが考えられるが、合計の添加量が同じ
なら、Agを多くした方が効果が高く、Agが5〜3重
量でCuが0〜2重量%の範囲の組み合わせが最良であ
る。
The reason why the addition of Ag or Cu facilitates soldering is that Ag or Cu is easily dissolved in Sn. That is, Ag and Cu on this side (lead wire side) are easily dissolved in Sn in the solder paste at the time of soldering, and soldering is facilitated. Here, the content of Bi is set to 4 to 15% by weight. When the content is less than 4% by weight, the melting point is high (225 ° C.), and the temperature at the time of soldering to a printed circuit board or a circuit board is increased (260). C. or higher), making soldering difficult. If it exceeds 15% by weight, the mechanical strength of the alloy is significantly reduced. The Bi content is related to the reliability of the solder joint, and in order to solve this, for example, a total of 1 to 4% by weight of Ag or 1% by weight of Cu is used.
At least one of Ag and Cu was added within a range of 5% by weight. Also, for example, 1 to 5% by weight of Ag is added,
Cu may be 0% by weight, or 1 to 5% by weight of Cu may be added to make 0% by weight of Ag. As a combination when the total of Ag and Cu is 5% by weight, for example, Ag: 5% -Cu: 0%, Ag: 4.5%
-Cu: 0.5%, Ag: 4.0% -Cu: 1.0%,
‥‥‥, Ag: 0.5% -Cu: 4.5%, Ag: 0%
-Cu: 5% or the like is conceivable, but if the total amount of addition is the same, increasing the Ag is more effective, and the combination of Ag in the range of 5 to 3% by weight and Cu of 0 to 2% by weight is the best. is there.

【0008】なお、Ag,Cuの添加量が5重量%以下
としのは、それを超えると、析出が早くなり、表面が凹
凸化してザラザラになり、またマイグレーション現象に
よって電気的ショート不良を発生しやすくなり、さらに
半田付けの改善効果が弱くなるからである。ここで、半
田接合部の信頼性とAgとCuの含有量との関係につい
て説明する。Biの添加量が4%以下であると、Snの
酸化が著しく進行して半田付けが困難で接続の信頼性が
低くなる。Biの添加量がそれ以上であってもSnの酸
化はある程度は生じるが、このときにAgとCuを添加
すると前述したように、SnにAg,Cuが溶解しやす
いという理由で半田付けが容易になり、半田付け接続を
確実に行って信頼性を向上させることができる。なお、
Biの含有量が15重量%を超えると、上述したよう
に、機械的強度が低下して半田付け接続の信頼性が低下
するので、Biの含有量は4〜15重量%が適切であ
る。
When the addition amount of Ag and Cu is set to 5% by weight or less, if the addition amount exceeds 5% by weight, precipitation is accelerated, and the surface becomes rough due to unevenness, and an electrical short failure occurs due to a migration phenomenon. This is because the effect of improving soldering becomes weaker. Here, the relationship between the reliability of the solder joint and the contents of Ag and Cu will be described. If the added amount of Bi is 4% or less, the oxidation of Sn proceeds remarkably, making it difficult to solder and lowering the reliability of the connection. Although the oxidation of Sn occurs to some extent even when the added amount of Bi is larger than that, when Ag and Cu are added at this time, soldering is easy because Ag and Cu are easily dissolved in Sn as described above. And reliability can be improved by reliably performing the soldering connection. In addition,
If the content of Bi exceeds 15% by weight, as described above, the mechanical strength decreases and the reliability of the soldered connection decreases. Therefore, the content of Bi is appropriately 4 to 15% by weight.

【0009】なお、外部接続用電極リード線にSn−B
iの金属層をディップ法(浸漬法)により形成する場合
には、付着形成時に金属層が酸化されやすいので、Ag
とCuの添加は行った方がよいが、電気メッキや無電界
メッキ等で金属層を形成する場合には、付着形成時に金
属層の酸化は少なく、AgとCuの添加は行わなくても
よい。ただ、長時間の放置あるい後の工程で基板との接
続時などに酸化されることが考えられるので、AgとC
uは添加した方が好ましい。
The electrode lead wire for external connection is made of Sn-B.
When the metal layer of i is formed by the dipping method (immersion method), the metal layer is easily oxidized at the time of adhesion formation.
And Cu are preferably added. However, when a metal layer is formed by electroplating, electroless plating, or the like, oxidation of the metal layer during adhesion formation is small, and addition of Ag and Cu may not be performed. . However, it is conceivable that oxidation may occur during connection with the substrate in a process that is left for a long time or in a subsequent process.
u is preferably added.

【0010】また、外部接続用電極リード線に付着形成
する際に、一つの合金層として付着するだけでなく、S
n,Bi,Ag,Cuの単体もしくは合金などの多層構
造の金属層としてもよく、この場合、外部接続用電極リ
ード線の半田付け時に金属層が溶融して混ざり合い、均
一な組成になる。また、外部接続用電極リード線に金属
層を付着形成する前に、外部接続用電極リード線にCu
もしくはNi等の下地金属層を形成しておき、この下地
金属層の上に金属層を付着形成することにより、経時変
化の少ない接合とすることができる。つまり、下地金属
層(NiもしくはCu)の下は、一般にFe/Ni合金
またはCuである。このFe/Ni合金またはCuは、
工程を経過することで、変質(化合物の形成もしくは酸
化)し、金属層の付着性を悪くし、経時変化によってそ
の接合部分にクラックが生成し、断線に至る可能性があ
るが、上記のように下地金属層を設けておくと、そのよ
うな問題を回避することができる。
In addition, when forming on the electrode lead wire for external connection, not only does it adhere as a single alloy layer,
A metal layer having a multilayer structure such as a simple substance or an alloy of n, Bi, Ag, and Cu may be used. In this case, the metal layers are melted and mixed at the time of soldering the external connection electrode lead wires, so that a uniform composition is obtained. Before the metal layer is attached to the external connection electrode lead, Cu
Alternatively, by forming a base metal layer of Ni or the like and attaching and forming a metal layer on the base metal layer, it is possible to achieve a junction with little change with time. In other words, below the underlying metal layer (Ni or Cu) is generally an Fe / Ni alloy or Cu. This Fe / Ni alloy or Cu
During the process, the metal layer is deteriorated (formation or oxidation of the compound), the adhesion of the metal layer is deteriorated, and cracks may be generated in the joints due to aging, which may lead to disconnection. Such a problem can be avoided if a base metal layer is provided in advance.

【0011】また、製造方法としては、金属層を電流密
度1.5A/dm2 以下の条件で電気メッキすることに
より外部接続用電極リード線に付着する金属層を構成す
る粒子の粒径を小さくすることができ、その結果、外部
接続用電極リード線の半田付けを容易に行うことができ
る。以上をまとめると、以下のようになる。すなわち、
本発明は、外部接続用電極リード線に、最外層金属とし
てSnにBiを4〜15重量%含有した金属層を付着形
成し、つまり被覆したことを基本発明とする。そして、
SnにBiを4〜15重量%含有した金属層に、さらに
1〜5重量%の範囲でAgを含有し、または1〜5重量
%の範囲でCuを含有し、または合計で1〜5重量%の
範囲でAgとCuを含有したものをその応用発明として
いる。上記では、範囲を1〜5重量%としているが、5
重量%以下の範囲でAgまたはCuまたはそれらの両方
を含有させればよい。つまり、0重量%を除くという意
味で、下限を1重量%としているが、1重量%より少な
くてもその含有量に応じた分だけ効果が得られるので、
0重量%を除くという条件で0〜5重量%としてもよ
い。
[0011] Further, as a manufacturing method, the metal layer is electroplated under a condition of a current density of 1.5 A / dm 2 or less to reduce the particle diameter of the particles constituting the metal layer adhered to the external connection electrode lead wire. As a result, the external connection electrode lead wire can be easily soldered. The above is summarized as follows. That is,
The present invention is based on the fact that a metal layer containing 4 to 15% by weight of Bi in Sn as an outermost metal layer is attached to an electrode lead wire for external connection, that is, covered. And
The metal layer containing 4 to 15% by weight of Bi in Sn further contains Ag in the range of 1 to 5% by weight, or Cu in the range of 1 to 5% by weight, or 1 to 5% in total. The invention containing Ag and Cu in the range of% is defined as the applied invention. In the above, the range is set to 1 to 5% by weight.
Ag or Cu or both of them may be contained in a range of not more than% by weight. In other words, the lower limit is set to 1% by weight in the sense that 0% by weight is excluded. However, even if the lower limit is less than 1% by weight, the effect can be obtained by the amount corresponding to the content.
It may be 0 to 5% by weight provided that 0% by weight is excluded.

【0012】ここで、AgとCuの添加の作用について
説明する。Ag+Cuの構成は、以下の3種類のSn酸
化進行の課題を(工程順)およびSn酸化後の半田付け
性の4種類の課題を総合して解決するものである。 A:被覆層の形成時 A1:ディップ法(溶融したものに漬けるため、Snが
酸化しやすい)このときのSnの酸化防止のために、A
g+Cuを5重量%以下を含有させるとよい。AgとC
uは、単独でもよく。なお、酸化防止の効果は、同じ量
ならAgの方が高い。
Here, the action of the addition of Ag and Cu will be described. The structure of Ag + Cu solves the following three problems of Sn oxidation progress (in the order of steps) and the four problems of solderability after Sn oxidation. A: At the time of forming a coating layer A1: Dipping method (Sn is easily oxidized because it is immersed in a molten material) To prevent oxidation of Sn at this time, A
It is preferable to contain g + Cu at 5% by weight or less. Ag and C
u may be alone. The effect of preventing oxidation is higher for Ag if the amount is the same.

【0013】A2:電気メッキ法(Snの酸化は少な
い) Ag+Cuは、後工程を考慮すると、含有させた方が望
ましい。 B:リードが製造されてから実際に使用されるまでに、
長い場合で1年程度放置されることに対して日本の日常
1年分に相当する85℃16時間の試験で、リード被覆
層のSnに酸化が見られる。その酸化防止に、Ag+C
uを5重量%以下を含有させるとよい。AgとCuは、
単独でもよく。なお、酸化防止の効果は、同じ量ならA
gの方が高い。
A2: Electroplating method (Sn is less oxidized) It is desirable that Ag + Cu be contained in consideration of a post-process. B: From the time the lead is manufactured until it is actually used,
In a test at 85 ° C. for 16 hours, which is equivalent to one year's worth of daily life in Japan, oxidation of Sn in the lead coating layer is observed for being left for about one year in a long case. To prevent its oxidation, Ag + C
It is preferable to contain 5% by weight or less of u. Ag and Cu are
Can be alone. In addition, the effect of oxidation prevention is as follows if the amount is the same.
g is higher.

【0014】C:基板などに電子部品を半田付けすると
きの課題 C1:半田ペースト、リード被覆層のSnが酸化する。
その酸化防止に、Ag+Cuを5重量%以下を含有させ
るとよい。AgとCuは、単独でもよく。なお、酸化防
止の効果は、同じ量ならAgの方が高い。 C2:Snの酸化があると、半田ペーストによる電子部
品の半田付けが困難で、信頼性が低下する。その解決策
として、Ag+Cuを5重量%以下を含有させるとよ
い。AgとCuは、単独でもよく。
C: Problems when soldering electronic components to a board or the like C1: The solder paste and Sn of the lead coating layer are oxidized.
To prevent the oxidation, it is preferable that Ag + Cu contains 5% by weight or less. Ag and Cu may be used alone. The effect of preventing oxidation is higher for Ag if the amount is the same. C2: If Sn is oxidized, it is difficult to solder the electronic component with a solder paste, and the reliability is reduced. As a solution, it is preferable to contain Ag + Cu at 5% by weight or less. Ag and Cu may be used alone.

【0015】なお、Ag+Cuは以下のように作用す
る。つまり、半田ペースト中のSnにリード被覆層中の
Ag+Cuが溶解し、Snの酸化があっても、半田付け
が容易となり、リードと基板と半田ペーストとの付着強
度が高く、信頼性が向上する。以上のように、Ag+C
uの効果は、最終的にはC2の項に述べた通りである
が、途中段階のA1,B,C1の項の工程での酸化防止
効果も複合されたものとなる。言い換えれば、A,B,
Cの各項でのSnの酸化防止が、半田付け容易というこ
とになり、したがって、リードと基板と半田ペーストと
の付着強度が高く、信頼性が向上するということにな
る。
Ag + Cu acts as follows. That is, Ag + Cu in the lead coating layer dissolves in Sn in the solder paste, and even if Sn is oxidized, soldering becomes easy, the adhesion strength between the lead, the substrate and the solder paste is high, and the reliability is improved. . As described above, Ag + C
Although the effect of u is finally as described in the section of C2, the effect of preventing oxidation in the steps of A1, B and C1 in the middle stage is also combined. In other words, A, B,
Prevention of oxidation of Sn in each item of C means that soldering is easy, so that the bonding strength between the lead, the substrate, and the solder paste is high, and the reliability is improved.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら説明する。半導体装置等の電子部
品の外部接続用電極リード線は、プリント基板や回路基
板にフロー法またはリフロー法などに半田付けされる。
したがって、電子部品の電極リード線に付着形成する金
属としては、それぞれに対応する必要がある。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Electrode leads for external connection of electronic components such as semiconductor devices are soldered to a printed circuit board or a circuit board by a flow method or a reflow method.
Therefore, it is necessary to correspond to each of the metals attached to the electrode lead wires of the electronic component.

【0017】請求項1記載の電子部品は、外部接続用電
極リード線に、最外層金属としてSnにBiを4〜15
重量%含有した金属層を付着形成したことを特徴とす
る。このような構成によって、低い温度で電子部品をプ
リント基板や回路基板に半田付けによって容易に取り付
けることができるとともに、金属層に十分な機械的強度
をもたせることができて半田接合部分の信頼性を高くす
ることができる。
In the electronic component according to the first aspect of the present invention, 4 to 15 Bi of Sn is used as the outermost metal in the electrode lead wire for external connection.
It is characterized in that a metal layer containing by weight is deposited and formed. With this configuration, the electronic components can be easily attached to the printed circuit board or circuit board by soldering at a low temperature, and the metal layer can have sufficient mechanical strength to improve the reliability of the solder joint. Can be higher.

【0018】請求項2記載の電子部品は、外部接続用電
極リード線に、最外層金属としてSnにBiを5〜12
重量%含有した金属層を付着形成したことを特徴とす
る。このような構成によって、いっそう低い温度で電子
部品をプリント基板や回路基板に半田付けによって容易
に取り付けることができるとともに、金属層にいっそう
十分な機械的強度をもたせることができて半田接合部分
の信頼性を高くすることができる。
In the electronic component according to the second aspect of the present invention, the outermost metal lead may include 5 to 12 Bi of Sn as the outermost layer metal.
It is characterized in that a metal layer containing by weight is deposited and formed. With such a configuration, electronic components can be easily attached to a printed circuit board or a circuit board at a lower temperature by soldering, and the metal layer can have more sufficient mechanical strength, and the reliability of the solder joint can be improved. Can be enhanced.

【0019】請求項3記載の外部接続用電極リード線
に、最外層金属としてSnにBiを6〜10重量%含有
した金属層を付着形成したことを特徴とする。このよう
な構成によって、さらにいっそう低い温度で電子部品を
プリント基板や回路基板に半田付けによって容易に取り
付けることができるとともに、金属層にさらにいっそう
十分な機械的強度をもたせることができて半田接合部分
の信頼性を高くすることができる。
A metal layer containing 6 to 10% by weight of Bi in Sn as an outermost layer metal is formed on the electrode lead wire for external connection according to the third aspect of the present invention. With such a configuration, electronic components can be easily attached to a printed circuit board or a circuit board at a lower temperature by soldering, and the metal layer can have more sufficient mechanical strength, so that a solder joint portion can be provided. Reliability can be increased.

【0020】請求項4記載の電子部品は、外部接続用電
極リード線に、最外層金属としてSnにBiを4〜15
重量%、AgとCuとを合計で1〜5重量%含有した金
属層を付着形成したことを特徴とする。このような構成
によって、低い温度で電子部品をプリント基板や回路基
板に半田付けによってさらに容易に取り付けることがで
きるとともに、金属層に十分な機械的強度をもたせるこ
とができて半田接合部分の信頼性を高くすることができ
る。
In the electronic component according to the fourth aspect, Bi is added to Sn as the outermost layer metal in the electrode lead wire for external connection.
A metal layer containing 1 to 5% by weight of Ag and Cu in total is deposited and formed. With such a configuration, electronic components can be more easily attached to a printed circuit board or a circuit board by soldering at a low temperature, and the metal layer can have sufficient mechanical strength, and the reliability of the solder joint portion can be improved. Can be higher.

【0021】請求項5記載の電子部品は、外部接続用電
極リード線に、最外層金属としてSnにBiを5〜12
重量%、AgとCuとを合計で2〜5重量%含有した金
属層を付着形成したことを特徴とする。このような構成
によって、いっそう低い温度で電子部品をプリント基板
や回路基板に半田付けによってさらに容易に取り付ける
ことができるとともに、金属層にいっそう十分な機械的
強度をもたせることができて半田接合部分の信頼性を高
くすることができる。
In the electronic component according to the fifth aspect, Bi is contained in Sn as the outermost layer metal in the electrode lead wire for external connection.
A metal layer containing 2 to 5% by weight of Ag and Cu in total is deposited and formed. With such a configuration, the electronic components can be more easily attached to the printed circuit board or the circuit board at a lower temperature by soldering, and the metal layer can have more sufficient mechanical strength, so that the solder joint portion can be formed. Reliability can be increased.

【0022】請求項6記載の電子部品は、外部接続用電
極リード線に、最外層金属としてSnにBiを5〜10
重量%、AgとCuとを合計で2〜4.5重量%含有し
た金属層を付着形成したことを特徴とする。このような
構成によって、さらにいっそう低い温度で電子部品をプ
リント基板や回路基板に半田付けによってさらに容易に
取り付けることができるとともに、金属層にさらにいっ
そう十分な機械的強度をもたせることができて半田接合
部分の信頼性を高くすることができる。
In the electronic component according to the sixth aspect of the present invention, the outermost metal lead may include 5 to 10 Bi of Sn as the outermost metal.
A metal layer containing 2 to 4.5% by weight of Ag and Cu in total is deposited and formed. With such a configuration, the electronic components can be more easily attached to the printed circuit board or the circuit board at a lower temperature by soldering, and the metal layer can have more sufficient mechanical strength, so that the soldering can be performed. The reliability of the part can be increased.

【0023】請求項7記載の電子部品は、外部接続用電
極リード線に、Sn,Bi,Ag,Cuの単体もしくは
合金の多層構造からなる金属層を付着形成してなり、金
属層の全体組成でBiが4〜15重量%で、AgとCu
の合計が1〜5重量%で、残りがSnであることを特徴
とする。このような構成によって、多層構造の金属層が
電子部品の外部接続用電極リード線の回路基板やプリン
ト基板への半田付けの際に溶融して均一な組成となり、
先の請求項4で示したような作用を奏する。
According to a seventh aspect of the present invention, in the electronic component, a metal layer having a multilayer structure of a single or alloy of Sn, Bi, Ag, and Cu is attached to the external connection electrode lead wire, and the entire composition of the metal layer is formed. At 4-15% by weight of Bi, Ag and Cu
Is 1 to 5% by weight, and the balance is Sn. With such a configuration, the metal layer of the multilayer structure is melted at the time of soldering the electrode lead wires for external connection of the electronic component to a circuit board or a printed board, and has a uniform composition,
The operation as described in claim 4 is achieved.

【0024】請求項8記載の電子部品は、外部接続用電
極リード線に、Sn,Bi,Ag,Cuの単体もしくは
合金の多層構造からなる金属層を付着形成してなり、金
属層の全体組成でBiが5〜12重量%で、AgとCu
の合計が2〜5重量%で、残りがSnであることを特徴
とする。このような構成によって、多層構造の金属層が
電子部品の外部接続用電極リード線の回路基板やプリン
ト基板への半田付けの際に溶融して均一な組成となり、
先の請求項5で示したような作用を奏する。
[0024] In the electronic component according to the present invention, a metal layer having a multilayer structure of a simple substance or an alloy of Sn, Bi, Ag and Cu is formed on the electrode lead wire for external connection by adhesion. With 5 to 12% by weight of Bi, Ag and Cu
Is 2 to 5% by weight, and the balance is Sn. With such a configuration, the metal layer of the multilayer structure is melted at the time of soldering the electrode lead wires for external connection of the electronic component to a circuit board or a printed board, and has a uniform composition,
The operation as described in claim 5 is provided.

【0025】請求項9記載の電子部品は、外部接続用電
極リード線に、Sn,Bi,Ag,Cuの単体もしくは
合金の多層構造からなる金属層を付着形成してなり、金
属層の全体組成でBiが6〜10重量%で、AgとCu
の合計が2〜4.5重量%で、残りがSnであることを
特徴とする。このような構成によって、多層構造の金属
層が電子部品の外部接続用電極リード線の回路基板やプ
リント基板への半田付けの際に溶融して均一な組成とな
り、先の請求項6で示したような作用を奏する。
According to a ninth aspect of the present invention, in the electronic component, a metal layer having a multilayer structure of a simple substance or an alloy of Sn, Bi, Ag, and Cu is formed on the external connection electrode lead wire. With 6 to 10% by weight of Bi, Ag and Cu
Is 2 to 4.5% by weight, and the balance is Sn. With such a configuration, the metal layer having a multilayer structure is melted at the time of soldering the electrode lead wires for external connection of the electronic component to a circuit board or a printed board, so that a uniform composition is obtained. It works like this.

【0026】請求項10記載の電子部品は、請求項1,
2,3,4,5,6,7,8または9記載の電子部品に
おいて、外部接続用電極リード線に付着形成した金属層
がCuもしくはNiからなる下地金属層上に形成されて
いることを特徴とする。このように、金属層をCuもし
くはNiからなる下地金属層上に形成することによっ
て、経時変化の少ない接合を得ることが可能となる。
An electronic component according to a tenth aspect is the first aspect.
2. The electronic component according to 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, or 9, wherein the metal layer attached to the external connection electrode lead wire is formed on a base metal layer made of Cu or Ni. Features. As described above, by forming the metal layer on the underlying metal layer made of Cu or Ni, it becomes possible to obtain a junction with little change over time.

【0027】請求項11記載の電子部品の製造方法は、
請求項1,2,3,4,5,6,7,8または9記載の
電子部品を製造する電子部品の製造方法であって、電流
密度が1.5A/dm2 以下の条件の電気メッキ法によ
って、金属層を付着形成することを特徴とする。この方
法によって、外部接続用電極リード線に付着する粒径を
小さくでき、外部接続用電極リード線の回路基板やプリ
ント基板への半田付けによる取り付けを容易に行うこと
ができる。
[0027] According to a eleventh aspect of the invention, there is provided a method of manufacturing an electronic component.
An electronic component manufacturing method for manufacturing an electronic component according to claim 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, or 9, wherein a current density is 1.5 A / dm 2 or less. The method is characterized in that a metal layer is deposited and formed by a method. According to this method, the particle diameter adhering to the external connection electrode lead wire can be reduced, and the external connection electrode lead wire can be easily attached to a circuit board or a printed board by soldering.

【0028】図1は、電子部品の一つである半導体装置
の外部接続用電極リード線の断面図である。図中、1は
半導体素子、2は金属ワイヤ、3はダイボンド剤、4は
成形用樹脂、5は外部接続用電極リード線、6はプリン
ト基板や回路基板への取り付けを容易にするための金属
層を示す。以下、いくつかの実施例でもって説明する。
FIG. 1 is a sectional view of an external connection electrode lead wire of a semiconductor device which is one of electronic components. In the drawing, 1 is a semiconductor element, 2 is a metal wire, 3 is a die bonding agent, 4 is a molding resin, 5 is an electrode lead wire for external connection, 6 is a metal for facilitating attachment to a printed circuit board or a circuit board. Show layers. Hereinafter, a description will be given with some embodiments.

【0029】[0029]

【実施例】【Example】

〔実施例1〕銅材のリードフレーム上に半導体素子がダ
イボンドされ、外部電極との配線も施され、樹脂封止お
よびリード加工の終了した半導体装置の電極リード線に
厚さ1〜3μmの下地Niメッキ膜を形成した後、その
上に電流密度1.0A/dm 2 で、Biを10重量%含
むSn−Bi合金膜を厚さ10μmに付着形成した。
 [Example 1] A semiconductor element was mounted on a copper lead frame.
Is bonded, wiring to external electrodes is performed, and
And electrode lead wires of semiconductor devices after lead processing
After forming an underlying Ni plating film having a thickness of 1 to 3 μm,
Current density of 1.0 A / dm on top TwoContaining 10% by weight of Bi
A Sn—Bi alloy film was formed to a thickness of 10 μm.

【0030】〔実施例2〕上記と同様にして樹脂封止お
よびリード加工の終了した鉄−ニッケル材の電極リード
線に1〜2μmの下地Cuメッキ膜を形成した後、電極
密度1.5A/dm2 、Biを4重量%のSn−Bi合
金膜を厚さ12μmに付着形成した。 〔実施例3〕上記と同様にして樹脂封止およびリード加
工の終了した銅材の電極リード線を、下地Ni膜を形成
した後、280℃に加熱されているSn−Bi−Ag
(85−10−5重量%)中のディップし、金属層を厚
さ20μmに付着形成した。
Example 2 A 1-2 μm underlayer Cu plating film was formed on an iron-nickel electrode lead wire which had been subjected to resin encapsulation and lead processing in the same manner as described above. A 4 wt% Sn-Bi alloy film of dm 2 and Bi was deposited to a thickness of 12 μm. Example 3 A copper-based electrode lead wire that has been subjected to resin encapsulation and lead processing in the same manner as described above was used to form a base Ni film, and then heated to 280 ° C. by Sn-Bi-Ag.
(85-10-5% by weight), and a metal layer was deposited to a thickness of 20 μm.

【0031】〔実施例4〕上記と同様にして樹脂封止お
よびリード加工の終了した銅材の電極リード線に、まず
厚さ10μmのSn−Bi(80−20重量%)をメッ
キによって付着形成した後、280℃に加熱されたSn
−Ag(96−4重量%)中にディップした。電極リー
ド線上の金属層の組成はSn−Bi−Ag(85−11
−4重量%)であった。
Embodiment 4 First, Sn-Bi (80-20% by weight) having a thickness of 10 μm is formed by plating on an electrode lead made of a copper material which has been subjected to resin sealing and lead processing in the same manner as described above. And then heated to 280 ° C.
-Dipped in Ag (96-4% by weight). The composition of the metal layer on the electrode lead wire is Sn-Bi-Ag (85-11).
-4% by weight).

【0032】図2に、Sn−Bi系合金におけるBiの
含有量(重量%)の変化によるSn−Bi系合金の相対
的接合強度の変化および融点の変化の測定結果を示す。
同図において、横軸にBi含有量(重量%)をとり、縦
軸左側に相対的接合強度(kg)をとり、縦軸右側に融
点(℃)をとっている。同図中、白丸を付けた曲線は、
Biの含有量(重量%)と相対的接合強度(kg)の関
係を示す曲線であり、黒丸を付けた曲線はBiの含有量
(重量%)と融点(℃)の関係を示す曲線であり、Bi
の含有量(重量%)が4%を下回ると融点が急に上昇
し、また、Biの含有量(重量%)が15%を超える
と、相対的接合強度が急に低下していることがわかる。
FIG. 2 shows the measurement results of the change of the relative bonding strength and the change of the melting point of the Sn—Bi alloy due to the change of the Bi content (% by weight) in the Sn—Bi alloy.
In the figure, the Bi content (% by weight) is plotted on the horizontal axis, the relative bonding strength (kg) is plotted on the left side of the vertical axis, and the melting point (° C.) is plotted on the right side of the vertical axis. In the figure, the curve with a white circle is
It is a curve showing the relationship between the Bi content (% by weight) and the relative bonding strength (kg), and the curve with a black circle is the curve showing the relationship between the Bi content (% by weight) and the melting point (° C.). , Bi
When the content (% by weight) of Ni is less than 4%, the melting point sharply rises, and when the content (% by weight) of Bi exceeds 15%, the relative bonding strength decreases sharply. Recognize.

【0033】また、電気メッキにおいて、電流密度を
1.5A/dm2 以下としたのは、電流密度によって粒
子径が変化し、半田付け性が劣化するからである。つま
り、電流密度が大きいと粒子径が大きくなり、半田付け
性が悪くなる。図3にメニスコグラフによる半田付け性
(ゼロクロスタイムと電流密度の関係)を示した。同図
では、電流密度が1.5A/dm2 を超えると、ゼロク
ロスタイムが約3秒を超えることになり、半田付け不良
が発生することを示している。なお、メニスコグラフに
おけるゼロクロタイムとは、つぎのような時間をいって
いる。すなわち、溶融半田槽に試料片を差し込んだとき
に、試料片の周囲の半田面がいったん低下するが、ある
時間経過すると試料片と半田とがなじんで試料片の表面
に沿って半田面が元の高さよりも上昇することになる。
この際、試料片を差し込んでから半田面が元の高さに戻
るまでの時間をゼロクロタイムという。
Further, the reason why the current density is set to 1.5 A / dm 2 or less in the electroplating is because the particle size changes depending on the current density, and the solderability deteriorates. In other words, when the current density is large, the particle diameter increases, and the solderability deteriorates. FIG. 3 shows the solderability (the relationship between the zero cross time and the current density) by a meniscograph. In the figure, when the current density exceeds 1.5 A / dm 2 , the zero cross time exceeds about 3 seconds, which indicates that a soldering failure occurs. The zero-clock time in a meniscograph refers to the following time. That is, when the sample piece is inserted into the molten solder bath, the solder surface around the sample piece temporarily drops, but after a certain period of time, the sample piece and the solder blend together and the solder surface returns along the surface of the sample piece. Will rise above the height of
At this time, the time from the insertion of the sample piece until the solder surface returns to the original height is referred to as zero black time.

【0034】本発明の実施の形態によると、鉛を使用し
ない外部接続用電極リード線を有した電子部品を提供す
ることができる。また、外部接続用電極リード線に付着
形成するのが、熱疲労に対して劣化の少ないSn−Bi
合金半田となり、高信頼性の半田とすることができる。
表1には、本発明の例として、実施例1〜4の外部接続
用電極リード線、そして従来例としてPb−Sn半田
(40−60重量%)をメッキまたはディップにより付
着形成した外部接続用電極リード線を、フロー法(Sn
−Bi半田,80−20重量%)およびリフロー法(S
n−Bi−Ag系半田,田中貴金属株式会社製(商品名
アロイH:組成Sn−90%,Bi−7.5%,Ag−
2%,Cu−0.5%)にてプリント基板に接着した時
の接着強度の熱衝撃サイクルによる変化を示した(熱衝
撃は−55℃←→+150℃、各30分)。なお、フロ
ー法でSn−Bi半田(80−20重量%)を用いたの
は、半田ペーストを用いたときの作業温度(230℃〜
240℃)に合わせるためである。
According to the embodiment of the present invention, it is possible to provide an electronic component having an external connection electrode lead wire that does not use lead. In addition, the adhesion and formation of the external connection electrode lead wire is made of Sn-Bi with little deterioration due to thermal fatigue.
It becomes an alloy solder and can be a highly reliable solder.
Table 1 shows, as examples of the present invention, electrode lead wires for external connection of Examples 1 to 4 and, as a conventional example, Pb-Sn solder (40 to 60% by weight) for external connection formed by plating or dipping. The electrode lead wire is connected by the flow method (Sn
-Bi solder, 80-20% by weight) and reflow method (S
n-Bi-Ag solder, manufactured by Tanaka Kikinzoku Co., Ltd. (trade name: Alloy H: composition Sn-90%, Bi-7.5%, Ag-
(2%, Cu-0.5%) showed a change in the adhesive strength due to the thermal shock cycle when bonded to the printed circuit board (thermal shock: -55 ° C. →→ 150 ° C., 30 minutes each). The reason why the Sn-Bi solder (80-20% by weight) was used in the flow method was that the working temperature (230 ° C.
(240 ° C.).

【0035】[0035]

【表1】 [Table 1]

【0036】表1からわかるように、従来例では300
回の熱衝撃サイクルによって不良が発生したが、本実施
例では、同回数の熱衝撃サイクルを繰り返しても、不良
品は全く発生しなかった。したがって、本発明によって
得られる電子部品の信頼性は高いことが明らかである。
As can be seen from Table 1, in the conventional example, 300
Although a defect occurred by one thermal shock cycle, in this example, no defective product was generated even when the thermal shock cycle was repeated the same number of times. Therefore, it is clear that the reliability of the electronic component obtained by the present invention is high.

【0037】[0037]

【発明の効果】請求項1記載の電子部品によれば、低い
温度で電子部品をプリント基板や回路基板に半田付けに
よって容易に取り付けることができるとともに、金属層
に十分な機械的強度をもたせることができ、熱疲労に対
しても劣化が少なく、半田接合部分の信頼性を高くする
ことができる。
According to the electronic component according to the first aspect, the electronic component can be easily attached to a printed board or a circuit board at a low temperature by soldering, and the metal layer has sufficient mechanical strength. Therefore, there is little deterioration with respect to thermal fatigue, and the reliability of the solder joint can be increased.

【0038】請求項2記載の電子部品によれば、いっそ
う低い温度で電子部品をプリント基板や回路基板に半田
付けによって容易に取り付けることができるとともに、
金属層にいっそう十分な機械的強度をもたせることがで
き、熱疲労に対しても劣化が少なく、半田接合部分の信
頼性を高くすることができる。請求項3記載の電子部品
によれば、さらにいっそう低い温度で電子部品をプリン
ト基板や回路基板に半田付けによって容易に取り付ける
ことができるとともに、金属層にさらにいっそう十分な
機械的強度をもたせることができ、熱疲労に対しても劣
化が少なく、半田接合部分の信頼性を高くすることがで
きる。
According to the electronic component of the second aspect, the electronic component can be easily attached to a printed board or a circuit board at a lower temperature by soldering.
The metal layer can be provided with more sufficient mechanical strength, less deteriorated against thermal fatigue, and the reliability of the solder joint can be increased. According to the electronic component according to the third aspect, the electronic component can be easily attached to a printed board or a circuit board at a still lower temperature by soldering, and the metal layer can have more sufficient mechanical strength. Thus, there is little deterioration with respect to thermal fatigue, and the reliability of the solder joint can be increased.

【0039】請求項4記載の電子部品によれば、低い温
度で電子部品をプリント基板や回路基板に半田付けによ
ってさらに容易に取り付けることができるとともに、金
属層に十分な機械的強度をもたせることができ、熱疲労
に対しても劣化が少なく、半田接合部分の信頼性を高く
することができる。請求項5記載の電子部品によれば、
いっそう低い温度で電子部品をプリント基板や回路基板
に半田付けによってさらに容易に取り付けることができ
るとともに、金属層にいっそう十分な機械的強度をもた
せることができ、熱疲労に対しても劣化が少なく、半田
接合部分の信頼性を高くすることができる。
According to the electronic component of the fourth aspect, the electronic component can be more easily attached to a printed board or a circuit board by soldering at a low temperature, and the metal layer can have sufficient mechanical strength. Thus, there is little deterioration with respect to thermal fatigue, and the reliability of the solder joint can be increased. According to the electronic component of the fifth aspect,
At lower temperatures, electronic components can be more easily attached to printed circuit boards and circuit boards by soldering, and the metal layer can have more sufficient mechanical strength, with less deterioration against thermal fatigue. The reliability of the solder joint can be increased.

【0040】請求項6記載の電子部品によれば、さらに
いっそう低い温度で電子部品をプリント基板や回路基板
に半田付けによってさらに容易に取り付けることができ
るとともに、金属層にさらにいっそう十分な機械的強度
をもたせることができ、熱疲労に対しても劣化が少な
く、半田接合部分の信頼性を高くすることができる。請
求項7記載の電子部品によれば、低い温度で電子部品を
プリント基板や回路基板に半田付けによってさらに容易
に取り付けることができるとともに、金属層に十分な機
械的強度をもたせることができ、熱疲労に対しても劣化
が少なく、半田接合部分の信頼性を高くすることができ
る。
According to the electronic component according to the sixth aspect, the electronic component can be more easily attached to the printed board or the circuit board by soldering at a still lower temperature, and the mechanical strength is further enhanced to the metal layer. , And less deterioration with respect to thermal fatigue, so that the reliability of the solder joint can be increased. According to the electronic component according to the seventh aspect, the electronic component can be more easily attached to a printed board or a circuit board by soldering at a low temperature, and the metal layer can have sufficient mechanical strength. There is little deterioration with respect to fatigue, and the reliability of the solder joint can be increased.

【0041】請求項8記載の電子部品によれば、いっそ
う低い温度で電子部品をプリント基板や回路基板に半田
付けによってさらに容易に取り付けることができるとと
もに、金属層にいっそう十分な機械的強度をもたせるこ
とができ、熱疲労に対しても劣化が少なく、半田接合部
分の信頼性を高くすることができる。請求項9記載の電
子部品によれば、さらにいっそう低い温度で電子部品を
プリント基板や回路基板に半田付けによってさらに容易
に取り付けることができるとともに、金属層にさらにい
っそう十分な機械的強度をもたせることができ、熱疲労
に対しても劣化が少なく、半田接合部分の信頼性を高く
することができる。
According to the electronic component of the eighth aspect, the electronic component can be more easily attached to a printed board or a circuit board by soldering at a lower temperature, and the metal layer has more sufficient mechanical strength. Therefore, there is little deterioration with respect to thermal fatigue, and the reliability of the solder joint can be increased. According to the electronic component according to the ninth aspect, the electronic component can be more easily attached to a printed circuit board or a circuit board at a lower temperature by soldering, and the metal layer has more sufficient mechanical strength. Therefore, there is little deterioration with respect to thermal fatigue, and the reliability of the solder joint can be increased.

【0042】請求項10記載の電子部品によれば、経時
変化の少ない接合を得ることが可能となる。請求項11
記載の電子部品の製造方法によれば、外部接続用電極リ
ード線に付着する粒径を小さくでき、外部接続用電極リ
ード線の回路基板やプリント基板への半田付けによる取
り付けを容易に行うことができる。
According to the electronic component of the tenth aspect, it is possible to obtain a junction with little change with time. Claim 11
According to the method for manufacturing an electronic component described above, the particle diameter attached to the external connection electrode lead can be reduced, and the external connection electrode lead can be easily attached to a circuit board or a printed board by soldering. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態における半導体装置の外部
接続用電極リード線の断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of an external connection electrode lead wire of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図2】Sn−Bi合金中のBi含有量と接合強度およ
び融点の関係を示す特性図である。
FIG. 2 is a characteristic diagram showing a relationship between a Bi content in a Sn—Bi alloy, a bonding strength, and a melting point.

【図3】半田付け性(メニスコグラフ試験でのゼロクロ
ス時間)とメッキ時の電流密度の関係を示す特性図であ
る。
FIG. 3 is a characteristic diagram showing a relationship between solderability (zero crossing time in a meniscograph test) and current density during plating.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体層素子 2 金属ワイヤ 3 ダイボンド材 4 成形封止用樹脂 5 外部接続用電極リード線 6 金属層 Reference Signs List 1 semiconductor layer element 2 metal wire 3 die bonding material 4 resin for molding and sealing 5 electrode lead wire for external connection 6 metal layer

フロントページの続き (72)発明者 澤田 良治 大阪府高槻市幸町1番1号 松下電子工業 株式会社内Continuation of front page (72) Inventor Ryoji Sawada 1-1, Sachimachi, Takatsuki-shi, Osaka Matsushita Electronics Corporation

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 外部接続用電極リード線に、最外層金属
としてSnにBiを4〜15重量%含有した金属層を付
着形成したことを特徴とする電子部品。
1. An electronic component, wherein a metal layer containing 4 to 15% by weight of Bi in Sn as an outermost layer metal is formed on an electrode lead wire for external connection.
【請求項2】 外部接続用電極リード線に、最外層金属
としてSnにBiを5〜12重量%含有した金属層を付
着形成したことを特徴とする電子部品。
2. An electronic component, wherein a metal layer containing 5 to 12% by weight of Bi in Sn as an outermost layer metal is formed on an electrode lead wire for external connection.
【請求項3】 外部接続用電極リード線に、最外層金属
としてSnにBiを6〜10重量%含有した金属層を付
着形成したことを特徴とする電子部品。
3. An electronic component, wherein a metal layer containing 6 to 10% by weight of Bi in Sn as an outermost layer metal is attached to an electrode lead wire for external connection.
【請求項4】 外部接続用電極リード線に、最外層金属
としてSnにBiを4〜15重量%、AgとCuとを合
計で1〜5重量%含有した金属層を付着形成したことを
特徴とする電子部品。
4. A metal layer containing 4 to 15% by weight of Bi and a total of 1 to 5% by weight of Ag and Cu in Sn as an outermost layer metal on an electrode lead wire for external connection. And electronic components.
【請求項5】 外部接続用電極リード線に、最外層金属
としてSnにBiを5〜12重量%、AgとCuとを合
計で2〜5重量%含有した金属層を付着形成したことを
特徴とする電子部品。
5. An electrode lead wire for external connection, wherein a metal layer containing 5 to 12% by weight of Bi in Sn and 2 to 5% by weight of Ag and Cu in total as an outermost layer metal is adhered and formed. And electronic components.
【請求項6】 外部接続用電極リード線に、最外層金属
としてSnにBiを5〜10重量%、AgとCuとを合
計で2〜4.5重量%含有した金属層を付着形成したこ
とを特徴とする電子部品。
6. A metal layer containing Sn as an outermost layer metal containing 5 to 10% by weight of Bi and a total of 2 to 4.5% by weight of Ag and Cu as an outermost layer metal. Electronic components characterized by the following.
【請求項7】 外部接続用電極リード線に、Sn,B
i,Ag,Cuの単体もしくは合金の多層構造からなる
金属層を付着形成してなり、前記金属層の全体組成でB
iが4〜15重量%、AgとCuの合計が1〜5重量%
で、残りがSnであることを特徴とする電子部品。
7. An electrode lead wire for external connection, wherein Sn, B
A metal layer having a multilayer structure of a simple substance or an alloy of i, Ag, and Cu is adhered and formed.
i is 4 to 15% by weight, and the total of Ag and Cu is 1 to 5% by weight
Wherein the balance is Sn.
【請求項8】 外部接続用電極リード線に、Sn,B
i,Ag,Cuの単体もしくは合金の多層構造からなる
金属層を付着形成してなり、前記金属層の全体組成でB
iが5〜12重量%、AgとCuの合計が2〜5重量%
で、残りがSnであることを特徴とする電子部品。
8. An electrode lead wire for external connection, wherein Sn, B
A metal layer having a multilayer structure of a simple substance or an alloy of i, Ag, and Cu is adhered and formed.
i is 5 to 12% by weight, and the total of Ag and Cu is 2 to 5% by weight
Wherein the balance is Sn.
【請求項9】 外部接続用電極リード線に、Sn,B
i,Ag,Cuの単体もしくは合金の多層構造からなる
金属層を付着形成してなり、前記金属層の全体組成でB
iが6〜10重量%、AgとCuの合計が2〜4.5重
量%で、残りがSnであることを特徴とする電子部品。
9. An external connection electrode lead wire comprising Sn, B
A metal layer having a multilayer structure of a simple substance or an alloy of i, Ag, and Cu is adhered and formed.
An electronic component, wherein i is 6 to 10% by weight, the total of Ag and Cu is 2 to 4.5% by weight, and the balance is Sn.
【請求項10】 外部接続用電極リード線に付着形成し
た金属層がCuもしくはNiからなる下地金属層上に形
成されていることを特徴とする請求項1,2,3,4,
5,6,7,8または9記載の電子部品。
10. The method according to claim 1, wherein the metal layer attached to the external connection electrode lead wire is formed on a base metal layer made of Cu or Ni.
The electronic component according to 5, 6, 7, 8 or 9.
【請求項11】 請求項1,2,3,4,5,6,7,
8または9記載の電子部品を製造する電子部品の製造方
法であって、電流密度が1.5A/dm2 以下の条件の
電気メッキ法によって、金属層を付着形成することを特
徴とする電子部品の製造方法。
11. The method of claim 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7,
10. A method for manufacturing an electronic component according to 8 or 9, wherein the metal layer is formed by an electroplating method at a current density of 1.5 A / dm 2 or less. Manufacturing method.
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