JPH1096859A - 光学構造 - Google Patents
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/14—Beam splitting or combining systems operating by reflection only
- G02B27/144—Beam splitting or combining systems operating by reflection only using partially transparent surfaces without spectral selectivity
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 初めの焦点から対物レンズの瞳点に至るまで
の各単ビームの長さを厳密に一定にすることができ且つ
単ビーム相互の幾何学的・空間的配置関係ができる限り
正確なままであるような、多数の単ビームを結像するた
めの光学構造を提供する。 【解決手段】 複数の個別の単ビームが第1のセグメン
トミラー領域の前方で共通の焦点を通過し、セグメント
ミラー領域のそれぞれ別個のミラーで反射された後、対
物レンズを経て1つ又は複数の工作物の上に結像され
る。本発明によれば、セグメントミラー領域と対物レン
ズとの間に別の第2のセグメントミラー領域を配置する
か、又は焦点の背後に、単ビームを少なくとも1つのセ
グメントミラー領域へ偏向させるビームスプリッタを配
置し、単ビームがこのセグメントミラー領域から少なく
ともほぼ同一の光路に沿って反射されて戻るようにし
た。
の各単ビームの長さを厳密に一定にすることができ且つ
単ビーム相互の幾何学的・空間的配置関係ができる限り
正確なままであるような、多数の単ビームを結像するた
めの光学構造を提供する。 【解決手段】 複数の個別の単ビームが第1のセグメン
トミラー領域の前方で共通の焦点を通過し、セグメント
ミラー領域のそれぞれ別個のミラーで反射された後、対
物レンズを経て1つ又は複数の工作物の上に結像され
る。本発明によれば、セグメントミラー領域と対物レン
ズとの間に別の第2のセグメントミラー領域を配置する
か、又は焦点の背後に、単ビームを少なくとも1つのセ
グメントミラー領域へ偏向させるビームスプリッタを配
置し、単ビームがこのセグメントミラー領域から少なく
ともほぼ同一の光路に沿って反射されて戻るようにし
た。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数の別個の単ビ
ームが第1のセグメントミラー領域の前方で共通の焦点
を通り、セグメントミラー領域のそれぞれ別個のミラー
で反射された後に、対物レンズを経て1つ又は複数の工
作物の上に結像されるような光学構造に関する。
ームが第1のセグメントミラー領域の前方で共通の焦点
を通り、セグメントミラー領域のそれぞれ別個のミラー
で反射された後に、対物レンズを経て1つ又は複数の工
作物の上に結像されるような光学構造に関する。
【0002】
【従来の技術】多数の単ビームを発生させた後に、それ
らの単ビームを工作物の上に結像させたい場合、単ビー
ムの間の空間角の差によって単ビームによって結像され
る像(単ビームの相互関係)にゆがみが発生するか、あ
るいは、単ビーム相互間で空間角間隔を強制的に一定に
しなければならないために、必然的に単ビームの光路の
長さが違ってしまい、対物レンズ又は像平面におけるビ
ーム直径の大きさに差が生じるという問題が起こる。オ
フナー光学系は1つの技術的解決策ではあるが、それに
かかるコストは非常に高い。
らの単ビームを工作物の上に結像させたい場合、単ビー
ムの間の空間角の差によって単ビームによって結像され
る像(単ビームの相互関係)にゆがみが発生するか、あ
るいは、単ビーム相互間で空間角間隔を強制的に一定に
しなければならないために、必然的に単ビームの光路の
長さが違ってしまい、対物レンズ又は像平面におけるビ
ーム直径の大きさに差が生じるという問題が起こる。オ
フナー光学系は1つの技術的解決策ではあるが、それに
かかるコストは非常に高い。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、初め
の焦点から対物レンズの瞳点に至るまでの各単ビームの
長さを厳密に一定にすることができ且つ単ビーム相互の
幾何学的・空間的配置関係ができる限り正確なままであ
るような、多数の単ビームを結像するための光学構造を
提供することである。
の焦点から対物レンズの瞳点に至るまでの各単ビームの
長さを厳密に一定にすることができ且つ単ビーム相互の
幾何学的・空間的配置関係ができる限り正確なままであ
るような、多数の単ビームを結像するための光学構造を
提供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】この課題は特許請求の範
囲第1項と第2項の特徴部分によって達成される。本発
明は、単ビームの光路の長さを互いに均衡させるための
方法を2つ提供する。
囲第1項と第2項の特徴部分によって達成される。本発
明は、単ビームの光路の長さを互いに均衡させるための
方法を2つ提供する。
【0005】本発明に従って発明の思想を実現した2つ
の構成においては、幾何学的に規定された配列の複数の
単ビームを含む集束マルチビームから発する光束は、た
とえば、正四角錐の形状に相応しており、各々のビーム
がセグメントミラー領域の1つのミラーに入射し、ミラ
ーが基本位置にあるとき、そのミラーから対物レンズの
瞳点へ反射されるようにセグメントミラー領域に入射
し、その際、 −初めの焦点から対物レンズの瞳点に至るまでの各単ビ
ームの長さはできる限り厳密に一定であり、且つ −単ビーム相互間の幾何学的・空間的配列関係も同様に
できる限り厳密に一定のままであるか又は少なくとも互
いにできる限り厳密な比例関係を保つ。
の構成においては、幾何学的に規定された配列の複数の
単ビームを含む集束マルチビームから発する光束は、た
とえば、正四角錐の形状に相応しており、各々のビーム
がセグメントミラー領域の1つのミラーに入射し、ミラ
ーが基本位置にあるとき、そのミラーから対物レンズの
瞳点へ反射されるようにセグメントミラー領域に入射
し、その際、 −初めの焦点から対物レンズの瞳点に至るまでの各単ビ
ームの長さはできる限り厳密に一定であり、且つ −単ビーム相互間の幾何学的・空間的配列関係も同様に
できる限り厳密に一定のままであるか又は少なくとも互
いにできる限り厳密な比例関係を保つ。
【0006】本発明による光学構造は、焦点の背後に、
単ビームを少なくとも1つのセグメントミラー領域へ偏
向させるビームスプリッタが配置されており、単ビーム
はセグメントミラー領域から少なくともほぼ同じ光路を
たどって反射されて戻ることを特徴としている。すなわ
ち、本発明による第1の解決策では、単ビームはほぼ自
らに向かって反射される。上記の問題のこの解決法は最
も穏やかなものであるが、結果として、少なくとも約7
5%という大きなエネルギー損失が起こる。そこで、エ
ネルギー収量を最大限で50%まで増加させるために、
第2のセグメントミラーアレイが必要になるが、この第
2のアレイの個々のミラーの動きは第1のセグメントミ
ラーアレイの個々のビームの動きと厳密に連結していな
ければならない。
単ビームを少なくとも1つのセグメントミラー領域へ偏
向させるビームスプリッタが配置されており、単ビーム
はセグメントミラー領域から少なくともほぼ同じ光路を
たどって反射されて戻ることを特徴としている。すなわ
ち、本発明による第1の解決策では、単ビームはほぼ自
らに向かって反射される。上記の問題のこの解決法は最
も穏やかなものであるが、結果として、少なくとも約7
5%という大きなエネルギー損失が起こる。そこで、エ
ネルギー収量を最大限で50%まで増加させるために、
第2のセグメントミラーアレイが必要になるが、この第
2のアレイの個々のミラーの動きは第1のセグメントミ
ラーアレイの個々のビームの動きと厳密に連結していな
ければならない。
【0007】本発明による第2の光学構造は、セグメン
トミラー領域と対物レンズとの間に別の第2のセグメン
トミラー領域が配置されていることを特徴とする。2つ
のセグメントミラーアレイを有する構成の場合、入射し
て来る角錐形ビームは固定セグメントミラーアレイ(設
置時に製造許容差を補整するために調整可能であると有
利である)の方向へ偏向され、そのミラーアレイによ
り、全ての単ビームが好ましくは90°の角度で平行に
反射されて第2のセグメントミラーアレイ(複数のコン
ピュータ制御2軸傾斜ミラーから構成されていると有利
である)に至る。この第2のミラーアレイは単ビームを
対物レンズの瞳に向かって反射する。
トミラー領域と対物レンズとの間に別の第2のセグメン
トミラー領域が配置されていることを特徴とする。2つ
のセグメントミラーアレイを有する構成の場合、入射し
て来る角錐形ビームは固定セグメントミラーアレイ(設
置時に製造許容差を補整するために調整可能であると有
利である)の方向へ偏向され、そのミラーアレイによ
り、全ての単ビームが好ましくは90°の角度で平行に
反射されて第2のセグメントミラーアレイ(複数のコン
ピュータ制御2軸傾斜ミラーから構成されていると有利
である)に至る。この第2のミラーアレイは単ビームを
対物レンズの瞳に向かって反射する。
【0008】ビームを反射する個々のミラーの大きさに
従って、平行光束の「高さ」(第2のセグメントミラー
アレイにおける反射時の単ビームのZ軸高さ差)を「全
光束の直径」とみなすことができ、また、セグメントミ
ラーアレイの個々のミラーが互いに妨害されないよう
に、この「高さ」を自在に確定できる。第1のレンズの
後の焦点における光束の所定の開き角をΦとするとき、
光束の中心ビームが第2のセグメントミラーアレイへ垂
直に反射させ且つ2つのセグメントミラーアレイの間の
単ビームが互いに平行に進むのであれば、構造の寸法関
係は「基本高さh」(好ましくはセグメントミラーアレ
イの中心のミラーと、第1のレンズ(図2の11)の後
の焦点までの垂直距離)によってのみ決まる。
従って、平行光束の「高さ」(第2のセグメントミラー
アレイにおける反射時の単ビームのZ軸高さ差)を「全
光束の直径」とみなすことができ、また、セグメントミ
ラーアレイの個々のミラーが互いに妨害されないよう
に、この「高さ」を自在に確定できる。第1のレンズの
後の焦点における光束の所定の開き角をΦとするとき、
光束の中心ビームが第2のセグメントミラーアレイへ垂
直に反射させ且つ2つのセグメントミラーアレイの間の
単ビームが互いに平行に進むのであれば、構造の寸法関
係は「基本高さh」(好ましくはセグメントミラーアレ
イの中心のミラーと、第1のレンズ(図2の11)の後
の焦点までの垂直距離)によってのみ決まる。
【0009】第2のセグメントミラーアレイのミラーが
基本位置にあり且つ全ての単ビームが第2のセグメント
ミラーアレイで反射された後に共通の焦点を通るように
すれば、単ビームの全長を厳密に同じ長さにすることが
でき、単ビーム相互の空間的・幾何学的配列関係は妨
害,ひずみを生じない(同じままであるか又は比例関係
をもって増減させる(すなわち、開き角の大小)ことが
できる)。これにより、たとえば、適切な投影対物レン
ズにより、エネルギー損失を最小限に抑えて、単ビーム
のテレセントリック集束を幾何学的に最適の状態で(す
なわち、対物レンズにより集束される単ビームの光学的
ゆがみ及び収差が最小になり且つ像平面は同じであるよ
うに)行うことができる。
基本位置にあり且つ全ての単ビームが第2のセグメント
ミラーアレイで反射された後に共通の焦点を通るように
すれば、単ビームの全長を厳密に同じ長さにすることが
でき、単ビーム相互の空間的・幾何学的配列関係は妨
害,ひずみを生じない(同じままであるか又は比例関係
をもって増減させる(すなわち、開き角の大小)ことが
できる)。これにより、たとえば、適切な投影対物レン
ズにより、エネルギー損失を最小限に抑えて、単ビーム
のテレセントリック集束を幾何学的に最適の状態で(す
なわち、対物レンズにより集束される単ビームの光学的
ゆがみ及び収差が最小になり且つ像平面は同じであるよ
うに)行うことができる。
【0010】この解決方法の大きな利点は、空間角が同
じであるときには長さを同じにできることである。この
場合、セグメントミラーアレイの個々のミラーの間隔は
第2のセグメントミラーアレイの全ての傾斜ミラーが十
分に広いスペースを利用できるような、十分な広さであ
ることに注意すべきである。これは第2のセグメントミ
ラーアレイを使用することにより得られたものであり、
この場合、単ビームの周囲部分が平行に進んでいないと
きには、単ビームの直径は第1及び第2のセグメントミ
ラーアレイの各々のミラーで異なる大きさになることに
注意すべきである。セグメントミラーアレイの個々のミ
ラーの直径の大きさには、個々のミラーへの単ビームの
入射角も関連している。
じであるときには長さを同じにできることである。この
場合、セグメントミラーアレイの個々のミラーの間隔は
第2のセグメントミラーアレイの全ての傾斜ミラーが十
分に広いスペースを利用できるような、十分な広さであ
ることに注意すべきである。これは第2のセグメントミ
ラーアレイを使用することにより得られたものであり、
この場合、単ビームの周囲部分が平行に進んでいないと
きには、単ビームの直径は第1及び第2のセグメントミ
ラーアレイの各々のミラーで異なる大きさになることに
注意すべきである。セグメントミラーアレイの個々のミ
ラーの直径の大きさには、個々のミラーへの単ビームの
入射角も関連している。
【0011】本発明による第1の解決策では、焦点の後
に、単ビームを2つのセグメントミラー領域へ偏向させ
る直角ビームスプリッタが配置されており、このミラー
領域から単ビームは少なくともほぼ同じ光路をたどって
反射されて戻り、且つ2つのミラー領域が互いに直角を
成して配置されていると有利である。第1のミラー領域
が複数の可動単ミラーから構成されていれば、設置が容
易になるので有利である。この場合の単ミラーの移動は
入射単ビームの方向及び/又はそれに対し垂直な方向に
実行可能である。第2のミラー領域が複数の可動単ミラ
ーから構成されていると、1つ又は複数の工作物表面に
所定の1つの点を形成できるばかりでなく、規定された
ある1つの移動範囲でミラーを傾斜運動させることによ
り、ビームを別の場所に位置決めするか又は工作物表面
に対してほぼテレセントリックに限定された領域内で任
意の動きを行わせることも可能である。
に、単ビームを2つのセグメントミラー領域へ偏向させ
る直角ビームスプリッタが配置されており、このミラー
領域から単ビームは少なくともほぼ同じ光路をたどって
反射されて戻り、且つ2つのミラー領域が互いに直角を
成して配置されていると有利である。第1のミラー領域
が複数の可動単ミラーから構成されていれば、設置が容
易になるので有利である。この場合の単ミラーの移動は
入射単ビームの方向及び/又はそれに対し垂直な方向に
実行可能である。第2のミラー領域が複数の可動単ミラ
ーから構成されていると、1つ又は複数の工作物表面に
所定の1つの点を形成できるばかりでなく、規定された
ある1つの移動範囲でミラーを傾斜運動させることによ
り、ビームを別の場所に位置決めするか又は工作物表面
に対してほぼテレセントリックに限定された領域内で任
意の動きを行わせることも可能である。
【0012】2つのミラー領域の間で単ビームが平行に
進むのであれば、光学系全体の構造は単純になり、ま
た、単純な数学計算によって、セグメントミラーアレイ
における単ミラーの位置決めを行うことができる。第1
のミラー領域を固定セグメントミラーアレイとして構成
すれば、第1のセグメントミラーアレイをモノリシック
ブロックとして製造し、それにより、製造コストを大幅
に低減することができる。これとは逆に、第1のミラー
領域を調整自在のセグメントミラーアレイとして構成す
ると、光学系全体の設置は著しく容易になる。光学構造
の設計と用途に応じて、特に単ビームに求められる光学
的品質を考慮して、どちらの構成がより有利であるかを
決めることができる。
進むのであれば、光学系全体の構造は単純になり、ま
た、単純な数学計算によって、セグメントミラーアレイ
における単ミラーの位置決めを行うことができる。第1
のミラー領域を固定セグメントミラーアレイとして構成
すれば、第1のセグメントミラーアレイをモノリシック
ブロックとして製造し、それにより、製造コストを大幅
に低減することができる。これとは逆に、第1のミラー
領域を調整自在のセグメントミラーアレイとして構成す
ると、光学系全体の設置は著しく容易になる。光学構造
の設計と用途に応じて、特に単ビームに求められる光学
的品質を考慮して、どちらの構成がより有利であるかを
決めることができる。
【0013】いずれの場合にも、第2のミラー領域を複
数のコンピュータ制御2軸傾斜ミラーから構成すると有
利である。これにより、光学構造をその後の加工のため
に移動させなければならないと考えられる工作物の表面
にビームを点状に投影するために使用できるのみなら
ず、工作物上の多次元作業領域の様々な場所をビームに
より点照明することや、線状の照明を発生させることも
できる。
数のコンピュータ制御2軸傾斜ミラーから構成すると有
利である。これにより、光学構造をその後の加工のため
に移動させなければならないと考えられる工作物の表面
にビームを点状に投影するために使用できるのみなら
ず、工作物上の多次元作業領域の様々な場所をビームに
より点照明することや、線状の照明を発生させることも
できる。
【0014】照明自体は工作物に溝を形成したり、工作
物の所定の場所を放射にさらす(加熱する、感光層を露
光するなど)ために利用できる。本発明は、特に、ドイ
ツ特許第4423040号,ドイツ特許第444011
7号又はドイツ特許第19614050号に記載されて
いる光学構造に適用可能である。これらの特許で提示さ
れている内容を本発明による光学構造と共に適用するた
めに応用することができる。使用される単ビームの波長
と特性は、光学構造の用途の条件(たとえば、感光層の
露光,材料の削り取りなど)に応じて選択されるべきで
ある。以下、図面を参照して例を挙げながら本発明を説
明する。説明の中で、本発明のその他の特徴並びに本発
明をさらに良く理解するのに役立つ説明及び発明の思想
の実現可能性を記載する。
物の所定の場所を放射にさらす(加熱する、感光層を露
光するなど)ために利用できる。本発明は、特に、ドイ
ツ特許第4423040号,ドイツ特許第444011
7号又はドイツ特許第19614050号に記載されて
いる光学構造に適用可能である。これらの特許で提示さ
れている内容を本発明による光学構造と共に適用するた
めに応用することができる。使用される単ビームの波長
と特性は、光学構造の用途の条件(たとえば、感光層の
露光,材料の削り取りなど)に応じて選択されるべきで
ある。以下、図面を参照して例を挙げながら本発明を説
明する。説明の中で、本発明のその他の特徴並びに本発
明をさらに良く理解するのに役立つ説明及び発明の思想
の実現可能性を記載する。
【0015】
【発明の実施の形態】本発明による第1の解決策を図1
に示す。この構成では、従来の技術に従って発生された
単ビーム(1a,1b,1c)はレンズ2を経て共通の
焦点3に集束した後、ビームスプリッタ4に入射する。
ビームスプリッタ4は入射した光束(1a,1b,1
c)をビーム分割層4aで2つの全く同一の光束(1
a′,1b′,1c′;1a″,1b″,1c″)に分
割する。
に示す。この構成では、従来の技術に従って発生された
単ビーム(1a,1b,1c)はレンズ2を経て共通の
焦点3に集束した後、ビームスプリッタ4に入射する。
ビームスプリッタ4は入射した光束(1a,1b,1
c)をビーム分割層4aで2つの全く同一の光束(1
a′,1b′,1c′;1a″,1b″,1c″)に分
割する。
【0016】単ビーム(1a′,1b′,1c′;1
a″,1b″,1c″)は、ビームスプリッタ4から射
出した後、多数の個別に調整可能である単ミラーを有す
る少なくとも1つのセグメントミラーアレイ(5a,5
b,5c)へと偏向される。このビームスプリッタは単
ビーム(1a′,1b′,1c′)を小さなビーム角度
ずつ偏向させることができる。この場合、単ビーム(1
a′,1b′,1c′)は少なくともほぼ完全に自身の
光路に沿って反射されて戻るので、単ビーム(1a′,
1b′,1c′)の光路はビームスプリッタ4の背後の
第2の「疑似焦点」6(ミラーアレイの基本位置におけ
る単ビームの交点)に至るまでは同一である。セグメン
トミラーアレイ(5a,5b,5c)の基本位置におい
ては、単ビーム(1a′,1b′,1c′)はこの第2
の焦点6を通過する。
a″,1b″,1c″)は、ビームスプリッタ4から射
出した後、多数の個別に調整可能である単ミラーを有す
る少なくとも1つのセグメントミラーアレイ(5a,5
b,5c)へと偏向される。このビームスプリッタは単
ビーム(1a′,1b′,1c′)を小さなビーム角度
ずつ偏向させることができる。この場合、単ビーム(1
a′,1b′,1c′)は少なくともほぼ完全に自身の
光路に沿って反射されて戻るので、単ビーム(1a′,
1b′,1c′)の光路はビームスプリッタ4の背後の
第2の「疑似焦点」6(ミラーアレイの基本位置におけ
る単ビームの交点)に至るまでは同一である。セグメン
トミラーアレイ(5a,5b,5c)の基本位置におい
ては、単ビーム(1a′,1b′,1c′)はこの第2
の焦点6を通過する。
【0017】ここでは、問題となる角度はほぼ90度で
あり、光路で長さの差はほとんど生じないので、ディス
トーションの問題は起こらない。一般に、エネルギーの
損失は非常に大きい。単ビーム(1a,1b,1c)の
入射エネルギー100%のうち、ビームスプリッタ4か
ら第2の焦点6の方向へ射出するのは最大でもわずか2
5%である。単ビーム(1a″,1b″,1c″)の第
2の光路に第2のセグメントミラーアレイ(7a,7
b,7c)を配置すると、エネルギー損失を少なくとも
約50%に制限することができる。
あり、光路で長さの差はほとんど生じないので、ディス
トーションの問題は起こらない。一般に、エネルギーの
損失は非常に大きい。単ビーム(1a,1b,1c)の
入射エネルギー100%のうち、ビームスプリッタ4か
ら第2の焦点6の方向へ射出するのは最大でもわずか2
5%である。単ビーム(1a″,1b″,1c″)の第
2の光路に第2のセグメントミラーアレイ(7a,7
b,7c)を配置すると、エネルギー損失を少なくとも
約50%に制限することができる。
【0018】単ビームをレンズ8の背後の1つ又は複数
の工作物表面の上で移動させるときには、双方のセグメ
ントミラーアレイ(5a,5b,5c,7a,7b,7
c)の結合関係を一定にし、それらのアレイに同じ軸に
対して同一の可動度(同じ傾斜角)をもたせることが必
要である。
の工作物表面の上で移動させるときには、双方のセグメ
ントミラーアレイ(5a,5b,5c,7a,7b,7
c)の結合関係を一定にし、それらのアレイに同じ軸に
対して同一の可動度(同じ傾斜角)をもたせることが必
要である。
【0019】図2は、本発明による第2の解決策を示
す。この場合にも、あらかじめ従来の技術に従って発生
されて、互いに平行に進み、空間的には互いに離間する
単ビーム(10a,10b,10c)は、まず、第1の
レンズ11を経て焦点に集束する。単ビーム(10a,
10b,10c)の共通の焦点12の後には第1のセグ
メントミラーアレイ(13a,13b,13c)が配置
されており、このミラーアレイは単ビーム(10a,1
0b,10c)をそれぞれ第2のセグメントミラーアレ
イ(14a,14b,14c)の方向へ(好ましくは9
0°に近い角度)偏向させる。
す。この場合にも、あらかじめ従来の技術に従って発生
されて、互いに平行に進み、空間的には互いに離間する
単ビーム(10a,10b,10c)は、まず、第1の
レンズ11を経て焦点に集束する。単ビーム(10a,
10b,10c)の共通の焦点12の後には第1のセグ
メントミラーアレイ(13a,13b,13c)が配置
されており、このミラーアレイは単ビーム(10a,1
0b,10c)をそれぞれ第2のセグメントミラーアレ
イ(14a,14b,14c)の方向へ(好ましくは9
0°に近い角度)偏向させる。
【0020】第1のセグメントミラーアレイ(13a,
13b,13c)は調整後は改めて調節の必要がなく、
そこで固定しておくことができるが、第2のセグメント
ミラーアレイ(14a,14b,14c)は、少なくと
も1本の軸に対して、より好ましくは2本の互いに垂直
に位置する軸に対して傾斜自在である傾斜ミラーから構
成されている。
13b,13c)は調整後は改めて調節の必要がなく、
そこで固定しておくことができるが、第2のセグメント
ミラーアレイ(14a,14b,14c)は、少なくと
も1本の軸に対して、より好ましくは2本の互いに垂直
に位置する軸に対して傾斜自在である傾斜ミラーから構
成されている。
【0021】単ビーム(10a,10b,10c)に対
してそれぞれ使用されるミラー(13a,14a;13
b,14b;13c,14c)を互いに正しく位置決め
すれば(装置設置時に既に慎重に行われているべきであ
ろう)、単ビーム(10a,10b,10c)の光路を
互いに適合させると共に、単ビーム(10a,10b,
10c)の光路に常に同じ長さをもたせることができ
る。
してそれぞれ使用されるミラー(13a,14a;13
b,14b;13c,14c)を互いに正しく位置決め
すれば(装置設置時に既に慎重に行われているべきであ
ろう)、単ビーム(10a,10b,10c)の光路を
互いに適合させると共に、単ビーム(10a,10b,
10c)の光路に常に同じ長さをもたせることができ
る。
【0022】第1のセグメントミラーアレイ(13a,
13b,13c)をモノリシックブロックから構成する
こともできるであろうが、第1のセグメントミラーアレ
イ(13a,13b,13c)を位置決めするために、
特にZ軸調整を少なくとも1本の軸に対する傾斜軸調整
を行うと有意義である。また、第1のセグメントミラー
アレイ(13a,13b,13c)の個々のミラーを第
2のセグメントミラーアレイ(14a,14b,14
c)の個々のミラーと同一の構造とし、単軸又は多軸傾
斜ミラーから構成することも可能である。
13b,13c)をモノリシックブロックから構成する
こともできるであろうが、第1のセグメントミラーアレ
イ(13a,13b,13c)を位置決めするために、
特にZ軸調整を少なくとも1本の軸に対する傾斜軸調整
を行うと有意義である。また、第1のセグメントミラー
アレイ(13a,13b,13c)の個々のミラーを第
2のセグメントミラーアレイ(14a,14b,14
c)の個々のミラーと同一の構造とし、単軸又は多軸傾
斜ミラーから構成することも可能である。
【0023】第1のセグメントミラーアレイ(13a,
13b,13c)を第2のセグメントミラーアレイの配
列(14a,14b,14c)に対応して構成すると、
第1のセグメントミラーアレイ(13a,13b,13
c)の個々のミラーの位置決めを全く行わず、ミラーア
レイを互いに一定の位置関係にある固定ミラーで構成す
ることもできる。場合によっては、単一のモノリシック
ブロックから成り、ブロックの必要な場所に個々のミラ
ー領域を加工形成した構造により、第1のセグメントミ
ラーアレイ(13a,13b,13c)を構成すること
ができる。
13b,13c)を第2のセグメントミラーアレイの配
列(14a,14b,14c)に対応して構成すると、
第1のセグメントミラーアレイ(13a,13b,13
c)の個々のミラーの位置決めを全く行わず、ミラーア
レイを互いに一定の位置関係にある固定ミラーで構成す
ることもできる。場合によっては、単一のモノリシック
ブロックから成り、ブロックの必要な場所に個々のミラ
ー領域を加工形成した構造により、第1のセグメントミ
ラーアレイ(13a,13b,13c)を構成すること
ができる。
【0024】第2のセグメントミラーアレイ(14a,
14b,14c)の背後には、ビームを少なくとも1つ
の工作物16の表面に結像する別のレンズ15(好まし
くはfθ対物レンズ又はテレセントリック投影レンズ)
が配置されている。レンズ構造群の1つの象徴として考
えても良いレンズ15の前方で、第2のセグメントミラ
ーアレイの傾斜ミラーの基本位置では、ビーム(10
a,10b,10c)は別の共通焦点17(対物レンズ
15の瞳)を通る。この場合、工作物表面16(単ビー
ムの作業領域)における単ビーム(10a,10b,1
0c)の結像品質に重要であるのは、第1の焦点12と
第2の焦点17との間の単ビーム(10a,10b,1
0c)の長さができる限り厳密に同じになることであ
る。このような構成であれば、単ビーム(10a,10
b,10c)を誤りなく制御でき、第2のセグメントミ
ラーアレイの傾斜ミラー(14a,14b,14c)に
より単ビーム(10a,10b,10c)がわずかに偏
向されても、単ビーム(10a,10b,10c)の位
置及び焦点が許容しえないほどずれてしまうことはな
い。
14b,14c)の背後には、ビームを少なくとも1つ
の工作物16の表面に結像する別のレンズ15(好まし
くはfθ対物レンズ又はテレセントリック投影レンズ)
が配置されている。レンズ構造群の1つの象徴として考
えても良いレンズ15の前方で、第2のセグメントミラ
ーアレイの傾斜ミラーの基本位置では、ビーム(10
a,10b,10c)は別の共通焦点17(対物レンズ
15の瞳)を通る。この場合、工作物表面16(単ビー
ムの作業領域)における単ビーム(10a,10b,1
0c)の結像品質に重要であるのは、第1の焦点12と
第2の焦点17との間の単ビーム(10a,10b,1
0c)の長さができる限り厳密に同じになることであ
る。このような構成であれば、単ビーム(10a,10
b,10c)を誤りなく制御でき、第2のセグメントミ
ラーアレイの傾斜ミラー(14a,14b,14c)に
より単ビーム(10a,10b,10c)がわずかに偏
向されても、単ビーム(10a,10b,10c)の位
置及び焦点が許容しえないほどずれてしまうことはな
い。
【0025】本発明を別の外観をもつ光学構造において
実現することも可能である。特に、2つの焦点(12,
17)の間の反射の回数をより多くしても良く、また、
レンズ(11,15)を任意の数のレンズを含むレンズ
構造群から実現することもできる。
実現することも可能である。特に、2つの焦点(12,
17)の間の反射の回数をより多くしても良く、また、
レンズ(11,15)を任意の数のレンズを含むレンズ
構造群から実現することもできる。
【図1】 本発明による発明の思想の第1の実現形態を
示す図。
示す図。
【図2】 本発明による発明の思想の第2の実現形態を
示す図。
示す図。
1a,1b,1c,1a′,1b′,1c′,1a″,
1b″,1c″…単ビーム、2,8…レンズ、3…第1
の焦点、4…ビームスプリッタ、5a,5b,5c…第
1のセグメントミラーアレイ、6…第2の焦点、7a,
7b,7c…第2のセグメントミラーアレイ、10a,
10b,10c…単ビーム、11,15…レンズ、12
…第1の焦点、13a,13b,13c…第1のセグメ
ントミラーアレイ、14a,14b,14c…第2のセ
グメントミラーアレイ、16…工作物表面、17…第2
の焦点。
1b″,1c″…単ビーム、2,8…レンズ、3…第1
の焦点、4…ビームスプリッタ、5a,5b,5c…第
1のセグメントミラーアレイ、6…第2の焦点、7a,
7b,7c…第2のセグメントミラーアレイ、10a,
10b,10c…単ビーム、11,15…レンズ、12
…第1の焦点、13a,13b,13c…第1のセグメ
ントミラーアレイ、14a,14b,14c…第2のセ
グメントミラーアレイ、16…工作物表面、17…第2
の焦点。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アルブレヒト・ガイスト ドイツ連邦共和国・ディ−73432・アーレ ン・ヴァルトホイザー シュトラーセ・38 /2 (72)発明者 ブルノ・シュヴァイツァー ドイツ連邦共和国・ディ−73447・オーベ ルコーヒエン・エルンスト−アベ−シュト ラーセ・19/1
Claims (9)
- 【請求項1】 複数の別個の単ビーム(10a,10
b,10c)が第1のセグメントミラー領域(13a,
13b,13c)の前方で共通の焦点(12)を通過
し、第1のセグメントミラー領域(13a,13b,1
3c)のそれぞれ別個のミラーで反射された後に、対物
レンズ(15)を経て1つ又は複数の工作物(16)の
上に結像される光学構造において、第1のセグメントミ
ラー領域(13a,13b,13c)と対物レンズ(1
5)との間に別の第2のセグメントミラー領域(14
a,14b,14c)が配置されていることを特徴とす
る光学構造。 - 【請求項2】 複数の別個の単ビーム(1a,1b,1
c)が第1のセグメントミラー領域(5a,5b,5
c)の前方で共通の焦点(3)を通過し、セグメントミ
ラー領域(5a,5b,5c)のそれぞれ別個のミラー
で単ビーム(1a′,1b′,1c′)が反射された
後、対物レンズ(8)を経て1つ又は複数の工作物の上
に結像される光学構造において、焦点(3)の背後に少
なくとも1つのビームスプリッタ(4)が配置され、単
ビーム(1a′,1b′,1c′)はビームスプリッタ
(4)から少なくとも1つのセグメントミラー領域(5
a,5b,5c)に入射し、そこから、単ビーム(1
a′,1b′,1c′)は少なくともほぼ同じ光路をた
どって反射されて戻り、ビームスプリッタ(4)を経て
対物レンズ(8)に至ることと、ミラー領域(5a,5
b,5c)は複数の可動単ミラーから構成されているこ
とを特徴とする光学構造。 - 【請求項3】 焦点(3)の背後に、単ビーム(1a,
1b,1c)を2つのセグメントミラー領域(5a,5
b,5c,7a,7b,7c)の方向へ偏向する直角ビ
ームスプリッタ(4)が配置されており、それらのセグ
メントミラー領域から単ビームは少なくともほぼ同じ光
路をたどって反射されて戻り、それぞれのミラー領域
(5a,5b,5c,7a,7b,7c)は互いに直角
を成して配置されていることを特徴とする請求項2記載
の光学構造。 - 【請求項4】 第1のミラー領域(5a,5b,5c,
13a,13b,13c)は複数の可動単ミラーから構
成されていることを特徴とする請求項1から3のいずれ
か1項に記載の光学構造。 - 【請求項5】 第2のミラー領域(14a,14b,1
4c)は複数の可動単ミラーから構成されていることを
特徴とする請求項1記載の光学構造。 - 【請求項6】 単ビーム(10a,10b,10c)は
2つのミラー領域(13a,13b,13c,14a,
14b,14c)の間で平行に走っていることを特徴と
する請求項1記載の光学構造。 - 【請求項7】 第1のミラー領域(13a,13b,1
3c)は固定セグメントミラーアレイであることを特徴
とする請求項1記載の光学構造。 - 【請求項8】 第1のミラー領域(13a,13b,1
3c)は調整自在のセグメントミラーアレイであること
を特徴とする請求項1記載の光学構造。 - 【請求項9】 第2のミラー領域(14a,14b,1
4c)は複数のコンピュータ制御2軸傾斜ミラーから構
成されていることを特徴とする請求項1記載の光学構
造。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19635800 | 1996-09-04 | ||
| DE19635800.0 | 1996-09-04 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1096859A true JPH1096859A (ja) | 1998-04-14 |
Family
ID=7804549
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9239376A Pending JPH1096859A (ja) | 1996-09-04 | 1997-09-04 | 光学構造 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6011654A (ja) |
| JP (1) | JPH1096859A (ja) |
| DE (1) | DE19734983A1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| KR100990300B1 (ko) * | 2001-06-13 | 2010-10-26 | 오르보테크 엘티디. | 에너지 전달 시스템 |
| SG125895A1 (en) * | 2002-04-04 | 2006-10-30 | Xrgomics Pte Ltd | Reduced keyboard system that emulates qwerty-type mapping and typing |
| US7009712B2 (en) * | 2003-01-27 | 2006-03-07 | Zetetic Institute | Leaky guided wave modes used in interferometric confocal microscopy to measure properties of trenches |
| EP1595107A4 (en) * | 2003-02-19 | 2007-01-24 | Zetetic Inst | METHOD AND DEVICE FOR INTERFEROMETRIC CONFOKAL DARKEL FIELD MICROSCOPY |
| WO2005008334A2 (en) | 2003-07-07 | 2005-01-27 | Zetetic Institute | Apparatus and method for high speed scan for detection and measurement of properties of sub-wavelength defects and artifacts in semiconductor and mask metrology |
| WO2005008214A2 (en) * | 2003-07-07 | 2005-01-27 | Zetetic Institute | Apparatus and method for ellipsometric measurements with high spatial resolution |
| US7355722B2 (en) * | 2003-09-10 | 2008-04-08 | Zetetic Institute | Catoptric and catadioptric imaging systems with adaptive catoptric surfaces |
| US7521651B2 (en) * | 2003-09-12 | 2009-04-21 | Orbotech Ltd | Multiple beam micro-machining system and method |
| WO2005031397A2 (en) * | 2003-09-26 | 2005-04-07 | Zetetic Institute | Catoptric and catadioptric imaging systems with pellicle and aperture-array beam-splitters and non-adaptive and adaptive catoptric surfaces |
| WO2005033747A2 (en) * | 2003-10-01 | 2005-04-14 | Zetetic Institute | Method and apparatus for enhanced resolution of high spatial frequency components of images using standing wave beams in non-interferometric and interferometric microscopy |
| US20060257929A1 (en) * | 2003-11-12 | 2006-11-16 | Microbiosystems, Limited Partnership | Method for the rapid taxonomic identification of pathogenic microorganisms and their toxic proteins |
| TW200538703A (en) * | 2004-05-06 | 2005-12-01 | Zetetic Inst | Apparatus and methods for measurement of critical dimensions of features and detection of defects in UV, VUV, and EUV lithography masks |
| US7298496B2 (en) * | 2004-05-21 | 2007-11-20 | Zetetic Institute | Apparatus and methods for overlay, alignment mark, and critical dimension metrologies based on optical interferometry |
| TW200607991A (en) * | 2004-08-16 | 2006-03-01 | Zetetic Inst | Apparatus and method for joint and time delayed measurements of components of conjugated quadratures of fields of reflected/scattered and transmitted/scattered beams by an object in interferometry |
| WO2006023612A2 (en) * | 2004-08-19 | 2006-03-02 | Zetetic Institute | Sub-nanometer overlay, critical dimension, and lithography tool projection optic metrology systems based on measurement of exposure induced changes in photoresist on wafers |
| US7145663B2 (en) * | 2004-09-20 | 2006-12-05 | Zetetic Institute | Catoptric imaging systems comprising pellicle and/or aperture-array beam-splitters and non-adaptive and/or adaptive catoptric surfaces |
| KR102490081B1 (ko) * | 2016-03-23 | 2023-01-18 | 삼성디스플레이 주식회사 | 레이저 결정화 장치 및 방법 |
| WO2021151925A1 (de) * | 2020-01-29 | 2021-08-05 | Pulsar Photonics Gmbh | Laserbearbeitungsvorrichtung und verfahren zur laserbearbeitung eines werkstücks |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5345340A (en) * | 1993-05-20 | 1994-09-06 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Plural pass vision system |
| DE19513354A1 (de) * | 1994-04-14 | 1995-12-14 | Zeiss Carl | Materialbearbeitungseinrichtung |
| US5674414A (en) * | 1994-11-11 | 1997-10-07 | Carl-Zeiss Stiftung | Method and apparatus of irradiating a surface of a workpiece with a plurality of beams |
| EP0740178B1 (en) * | 1995-04-26 | 2001-08-01 | Texas Instruments Incorporated | Anamorphic illumination system for light modulator |
-
1997
- 1997-08-13 DE DE19734983A patent/DE19734983A1/de not_active Withdrawn
- 1997-09-02 US US08/921,970 patent/US6011654A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-09-04 JP JP9239376A patent/JPH1096859A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE19734983A1 (de) | 1998-03-05 |
| US6011654A (en) | 2000-01-04 |
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