JPH1096897A - 液晶素子、その製造方法及び該液晶素子を備えた液晶表示装置 - Google Patents
液晶素子、その製造方法及び該液晶素子を備えた液晶表示装置Info
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- JPH1096897A JPH1096897A JP20610097A JP20610097A JPH1096897A JP H1096897 A JPH1096897 A JP H1096897A JP 20610097 A JP20610097 A JP 20610097A JP 20610097 A JP20610097 A JP 20610097A JP H1096897 A JPH1096897 A JP H1096897A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 液晶素子面内の温度分布に基づく表示ムラを
解消する。 【解決手段】 夫々電極12a、12bを備え、所定長
のギャップを隔てて対向した一対の基板11a、11
b、間にカイラルスメクティック相を呈する液晶15を
挟持し、少なくとも電極12a、12bに対し、液晶駆
動用の電圧を供給する駆動回路40が接続される部位を
有し、駆動回路40が接続される辺の少なくとも1辺か
らの距離が大きくなるに伴って、該ギャップが小さくな
ることを特徴とする液晶素子。
解消する。 【解決手段】 夫々電極12a、12bを備え、所定長
のギャップを隔てて対向した一対の基板11a、11
b、間にカイラルスメクティック相を呈する液晶15を
挟持し、少なくとも電極12a、12bに対し、液晶駆
動用の電圧を供給する駆動回路40が接続される部位を
有し、駆動回路40が接続される辺の少なくとも1辺か
らの距離が大きくなるに伴って、該ギャップが小さくな
ることを特徴とする液晶素子。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電極を有する基板
間に液晶を挟持した液晶素子に関するものであり、詳し
くは駆動による発熱による表示ムラを防止する液晶素子
構成に関するものである。
間に液晶を挟持した液晶素子に関するものであり、詳し
くは駆動による発熱による表示ムラを防止する液晶素子
構成に関するものである。
【0002】
【従来の技術】強誘電性液晶分子の屈折率異方性を利用
して偏光板との組み合わせにより透過光線を制御する型
の表示素子がクラーク(Clark)およびラガーウォ
ール(Lagerwall)により提案されている(特
開昭56−107216号公報)。この強誘電性液晶
は、一般に特定の温度域において、カイラルスメクチッ
ク相を有し、この状態において、加えられる電界に応答
して第1の光学的安定状態と第2の光学的安定状態のい
ずれかをとり、かつ電界無印加の時にはその状態を維持
する性質、すなわち双安定性を有し、また電界の変化に
対する応答も速やかであり、高速並びに記憶型の表示素
子として広い利用が期待されている。
して偏光板との組み合わせにより透過光線を制御する型
の表示素子がクラーク(Clark)およびラガーウォ
ール(Lagerwall)により提案されている(特
開昭56−107216号公報)。この強誘電性液晶
は、一般に特定の温度域において、カイラルスメクチッ
ク相を有し、この状態において、加えられる電界に応答
して第1の光学的安定状態と第2の光学的安定状態のい
ずれかをとり、かつ電界無印加の時にはその状態を維持
する性質、すなわち双安定性を有し、また電界の変化に
対する応答も速やかであり、高速並びに記憶型の表示素
子として広い利用が期待されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たカイラルスメクチック液晶が固有に存在する分子のら
せん配列を解除し、双安定性を有するためには、セルギ
ャップ(液晶セル構造における一対の基板間のギャップ
の長さ(実効的な距離))を小さくする必要がある。ま
た、液晶の複屈折率とセルギャップの関係から発生する
色づきをなくすためにもセルギャップを均一に薄くする
必要がある。セルギャップを小さくした場合に透明電極
間距離が小さくなるため、液晶素子としての容量が大き
くなる。そのためカイラルスメクチック液晶を一対の基
板(電極基板間)に挟持した構造の素子を駆動した時に
は素子の端辺に設けた駆動用ICの発熱が大きくなる。
この発熱により液晶素子面内の温度分布が生じ、これに
対応して、液晶分子の駆動特性(例えば閾値特性)が不
均一となって、表示ムラが起き、表示品位を低下させる
という問題があった。
たカイラルスメクチック液晶が固有に存在する分子のら
せん配列を解除し、双安定性を有するためには、セルギ
ャップ(液晶セル構造における一対の基板間のギャップ
の長さ(実効的な距離))を小さくする必要がある。ま
た、液晶の複屈折率とセルギャップの関係から発生する
色づきをなくすためにもセルギャップを均一に薄くする
必要がある。セルギャップを小さくした場合に透明電極
間距離が小さくなるため、液晶素子としての容量が大き
くなる。そのためカイラルスメクチック液晶を一対の基
板(電極基板間)に挟持した構造の素子を駆動した時に
は素子の端辺に設けた駆動用ICの発熱が大きくなる。
この発熱により液晶素子面内の温度分布が生じ、これに
対応して、液晶分子の駆動特性(例えば閾値特性)が不
均一となって、表示ムラが起き、表示品位を低下させる
という問題があった。
【0004】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたも
ので、その課題とするところは、液晶素子において、特
に駆動IC等が実装された部分近傍での発熱に起因した
液晶パネル面内の過度に不均一な温度分布を解消し、面
内での表示ムラ等を防止することである。特にカイラル
スメクチック液晶を用いた液晶素子のようなセルギャッ
プの小さい液晶素子において、上記問題点を解決する液
晶素子を提供することを課題とする。
ので、その課題とするところは、液晶素子において、特
に駆動IC等が実装された部分近傍での発熱に起因した
液晶パネル面内の過度に不均一な温度分布を解消し、面
内での表示ムラ等を防止することである。特にカイラル
スメクチック液晶を用いた液晶素子のようなセルギャッ
プの小さい液晶素子において、上記問題点を解決する液
晶素子を提供することを課題とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は、液
晶素子は、夫々電極を備え、所定のギャップを隔てて対
向した一対の基板間にカイラルスメクチック相を呈する
液晶を挟持し、少なくとも1辺に前記電極に対して液晶
駆動用の電圧を供給する駆動回路が接続される部位を有
する液晶素子であって、前記駆動回路が接続される辺の
少なくとも一辺からの距離が大きくなるに伴って、前記
ギャップの長さが小さくなることを特徴とする。
晶素子は、夫々電極を備え、所定のギャップを隔てて対
向した一対の基板間にカイラルスメクチック相を呈する
液晶を挟持し、少なくとも1辺に前記電極に対して液晶
駆動用の電圧を供給する駆動回路が接続される部位を有
する液晶素子であって、前記駆動回路が接続される辺の
少なくとも一辺からの距離が大きくなるに伴って、前記
ギャップの長さが小さくなることを特徴とする。
【0006】前述したように、一対の電極を備えた基板
間に液晶(特にカイラルスメクチック液晶)を挟持した
パネル構造をなす素子では、基板間のギャップが小さく
容量が大きくなることに起因して駆動IC(駆動回路)
の発熱により当該駆動ICが実装された辺の近傍におい
て液晶自体が加熱される。かかる加熱の程度は、当該駆
動ICが実装された辺からの距離に応じて変化し、この
距離によって駆動時の液晶の温度に分布が生じ、ひいて
はその駆動特性にも過度に不均一な分布が発現する。
間に液晶(特にカイラルスメクチック液晶)を挟持した
パネル構造をなす素子では、基板間のギャップが小さく
容量が大きくなることに起因して駆動IC(駆動回路)
の発熱により当該駆動ICが実装された辺の近傍におい
て液晶自体が加熱される。かかる加熱の程度は、当該駆
動ICが実装された辺からの距離に応じて変化し、この
距離によって駆動時の液晶の温度に分布が生じ、ひいて
はその駆動特性にも過度に不均一な分布が発現する。
【0007】本発明の素子では、駆動ICが実装された
辺からの距離が大きくなるに伴ってギャップの大きさ
(セルギャップ)が小さくなるように設定することによ
って、具体的には駆動時における液晶に印加される電界
の強度を最適に分布させ、上述したパネル面内での液晶
の駆動特性の分布を補償し、ひいては表示特性の均一化
が図られる。
辺からの距離が大きくなるに伴ってギャップの大きさ
(セルギャップ)が小さくなるように設定することによ
って、具体的には駆動時における液晶に印加される電界
の強度を最適に分布させ、上述したパネル面内での液晶
の駆動特性の分布を補償し、ひいては表示特性の均一化
が図られる。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、図面に沿って本発明の液晶
素子の実施の形態について説明する。
素子の実施の形態について説明する。
【0009】図1(a)は、本発明の液晶素子の一構造
例を模式的に示す斜視図、図1(b)は(a)のA−A
線に沿った断面図である。
例を模式的に示す斜視図、図1(b)は(a)のA−A
線に沿った断面図である。
【0010】当該液晶素子(液晶パネル)は、2枚のガ
ラス等の部材からなる基板11a,11bを備えてお
り、これらのガラス基板11a,11bの表面には所定
のパターン状(例えば厚さ400〜3000A)に透明
電極12a,12bがそれぞれ形成されマトリックス電
極構造を構成している。この透明電極12a,12b
は、In2O3、SnO2或いはITO(インジウム テ
ィン オキサイド:Indium−Tin Oxid
e)等の薄膜からなっている。
ラス等の部材からなる基板11a,11bを備えてお
り、これらのガラス基板11a,11bの表面には所定
のパターン状(例えば厚さ400〜3000A)に透明
電極12a,12bがそれぞれ形成されマトリックス電
極構造を構成している。この透明電極12a,12b
は、In2O3、SnO2或いはITO(インジウム テ
ィン オキサイド:Indium−Tin Oxid
e)等の薄膜からなっている。
【0011】例えば、かかるマトリックス電極構造をな
す透明電極12a,12bは夫々マルチプレックス駆動
が適用される場合の走査電極、情報電極に対応し、基板
11a,11bの少なくとも一方の端辺で駆動IC(駆
動回路)が実装される(図示せず)これら電極に走査信
号(電圧)、情報信号(電圧)を供給するこれら駆動I
Cは、電極の本数等に応じて基板の一辺のみにあるいは
電極毎に対向する二辺にふりわけられて実装されてもよ
い。
す透明電極12a,12bは夫々マルチプレックス駆動
が適用される場合の走査電極、情報電極に対応し、基板
11a,11bの少なくとも一方の端辺で駆動IC(駆
動回路)が実装される(図示せず)これら電極に走査信
号(電圧)、情報信号(電圧)を供給するこれら駆動I
Cは、電極の本数等に応じて基板の一辺のみにあるいは
電極毎に対向する二辺にふりわけられて実装されてもよ
い。
【0012】透明電極12a,12bは、必要に応じて
絶縁膜13a、13bを介して配向制御膜14a,14
bによって被覆されている。
絶縁膜13a、13bを介して配向制御膜14a,14
bによって被覆されている。
【0013】この絶縁膜13a、13bは、例えばシリ
コン窒化物、水素を含有するシリコン炭化物、シリコン
酸化物、ホウ素窒化物、水素を含有するホウ素窒化物、
セリウム酸化物、アルミニウム酸化物、ジルコニウム酸
化物、チタン酸化物やタンタル酸化物やフッ化マグネシ
ウムなどの無機物質或いは他の有機絶縁物質にて形成さ
れており、少なくとも一層、或いは必要に応じて多層構
造として、対向基板(電極)間のショート防止機能を有
する。また、上述したショート防止のための有機ないし
無機絶縁膜上には、Ti−Si等の塗布型絶縁膜を形成
してもよい。
コン窒化物、水素を含有するシリコン炭化物、シリコン
酸化物、ホウ素窒化物、水素を含有するホウ素窒化物、
セリウム酸化物、アルミニウム酸化物、ジルコニウム酸
化物、チタン酸化物やタンタル酸化物やフッ化マグネシ
ウムなどの無機物質或いは他の有機絶縁物質にて形成さ
れており、少なくとも一層、或いは必要に応じて多層構
造として、対向基板(電極)間のショート防止機能を有
する。また、上述したショート防止のための有機ないし
無機絶縁膜上には、Ti−Si等の塗布型絶縁膜を形成
してもよい。
【0014】配向制御膜14a,14bは、ポリビニル
アルコール、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエス
テルイミド、ポリパラキシレン、ポリエステル、ポリカ
ーボネード、ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、
ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリスチレン、セルロー
ス樹脂、メラミン樹脂、ユリヤ樹脂、アクリル樹脂やフ
ォトレジスト樹脂などの有機絶縁物質或いは他の無機絶
縁物質にて形成することができる。また、これらの絶縁
膜13a,13b及び配向制御膜14a,14bは必要
に応じて、上述のように2層以上に分けず、無機物質絶
縁性配向制御層或いは有機物質絶縁性配向制御層単層と
することもできる。
アルコール、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエス
テルイミド、ポリパラキシレン、ポリエステル、ポリカ
ーボネード、ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、
ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリスチレン、セルロー
ス樹脂、メラミン樹脂、ユリヤ樹脂、アクリル樹脂やフ
ォトレジスト樹脂などの有機絶縁物質或いは他の無機絶
縁物質にて形成することができる。また、これらの絶縁
膜13a,13b及び配向制御膜14a,14bは必要
に応じて、上述のように2層以上に分けず、無機物質絶
縁性配向制御層或いは有機物質絶縁性配向制御層単層と
することもできる。
【0015】これらの絶縁膜13a,13b及び配向制
御膜14a,14bは、無機系ならば蒸着法などで形成
でき、有機系ならば有機絶縁物質を溶解させた溶液、ま
たはその前駆体溶液(溶剤に0.1〜20重量%、好ま
しくは0.2〜10重量%)を用いて、スピンナー塗布
法、浸漬塗布法、スクリーン印刷法、スプレー塗布法、
ロール塗布法等で塗布し、所定の硬化条件下(例えば加
熱下)で硬化させ形成させることができる。
御膜14a,14bは、無機系ならば蒸着法などで形成
でき、有機系ならば有機絶縁物質を溶解させた溶液、ま
たはその前駆体溶液(溶剤に0.1〜20重量%、好ま
しくは0.2〜10重量%)を用いて、スピンナー塗布
法、浸漬塗布法、スクリーン印刷法、スプレー塗布法、
ロール塗布法等で塗布し、所定の硬化条件下(例えば加
熱下)で硬化させ形成させることができる。
【0016】尚、これら絶縁膜13a,13b及び配向
制御膜14a,14bの層厚は通常3〜1000nm、
好ましくは4〜300nm、さらに好ましくは4〜10
0nmが適している。
制御膜14a,14bの層厚は通常3〜1000nm、
好ましくは4〜300nm、さらに好ましくは4〜10
0nmが適している。
【0017】配向制御膜14a,14bの少なくとも一
方は、2層又は単層のいずれかに関わらず、ガーゼやア
セテート植毛布等によるラビング処理等の一軸配向処理
が施されている。
方は、2層又は単層のいずれかに関わらず、ガーゼやア
セテート植毛布等によるラビング処理等の一軸配向処理
が施されている。
【0018】図2(a)(b)は、ラビング処理を説明
する模式図で、ラビングローラ200は、円柱状のロー
ラ201にナイロン布等のラビング布202を貼りつけ
た構造を有している。このラビングローラ200を、C
の方向に回転させながら基板11a(11b)上の配向
制御膜14a、14bに所定圧で当接させ、そしてガラ
ス基板11a(11b)(又はラビングローラ)を矢印
B方向に移動させて配向制御膜14a、14bを摺接す
ることにより配向規制力が付与される。なお、この配向
規制力はラビングローラ200を基板11a(11b)
上の配向制御膜14a(14b)に当接させる際の当接
力により決定され、通常はラビングローラ200を上下
させ、ラビング布202の押し込み量を変えることによ
ってラビング布202と配向制御膜14a(14b)と
の接触量で制御される。
する模式図で、ラビングローラ200は、円柱状のロー
ラ201にナイロン布等のラビング布202を貼りつけ
た構造を有している。このラビングローラ200を、C
の方向に回転させながら基板11a(11b)上の配向
制御膜14a、14bに所定圧で当接させ、そしてガラ
ス基板11a(11b)(又はラビングローラ)を矢印
B方向に移動させて配向制御膜14a、14bを摺接す
ることにより配向規制力が付与される。なお、この配向
規制力はラビングローラ200を基板11a(11b)
上の配向制御膜14a(14b)に当接させる際の当接
力により決定され、通常はラビングローラ200を上下
させ、ラビング布202の押し込み量を変えることによ
ってラビング布202と配向制御膜14a(14b)と
の接触量で制御される。
【0019】かかる液晶素子が、カラー表示素子とし適
用される場合、基板11a,11bの少なくとも一方に
は、R,G,B,W等の種々の色部材からなるドット或
いはラインより構成されるカラーフィルターパターンが
設けられる(不図示)。このカラーフィルターパターン
は基板上に形成され、そのパターンを構成するラインや
ドット間の段差を低減すべく、必要に応じて無機材料或
いは有機材料からなる平坦化層によって被覆され得る。
また、カラーフィルターのドットやライン間には、好ま
しくは色間の混色を防止すべく、金属や樹脂材料からな
る黒色の遮光層が設けられる(不図示)。このようなカ
ラー表示素子では透明電極11a及び11bのパターン
は、カラーフィルターパターンの計上に応じて設定され
得る。
用される場合、基板11a,11bの少なくとも一方に
は、R,G,B,W等の種々の色部材からなるドット或
いはラインより構成されるカラーフィルターパターンが
設けられる(不図示)。このカラーフィルターパターン
は基板上に形成され、そのパターンを構成するラインや
ドット間の段差を低減すべく、必要に応じて無機材料或
いは有機材料からなる平坦化層によって被覆され得る。
また、カラーフィルターのドットやライン間には、好ま
しくは色間の混色を防止すべく、金属や樹脂材料からな
る黒色の遮光層が設けられる(不図示)。このようなカ
ラー表示素子では透明電極11a及び11bのパターン
は、カラーフィルターパターンの計上に応じて設定され
得る。
【0020】一方、上述した2枚の基板11a,11b
の間には、スペーサ16が散布されており、このスペー
サ16によってガラス基板11a,11bがパネル全面
では駆動ICが実装された辺からの距離に応じた分布で
の間隔(セルギャップ一般的には0.1〜20μm、好
ましくは0.5〜3μm)に保持されている。
の間には、スペーサ16が散布されており、このスペー
サ16によってガラス基板11a,11bがパネル全面
では駆動ICが実装された辺からの距離に応じた分布で
の間隔(セルギャップ一般的には0.1〜20μm、好
ましくは0.5〜3μm)に保持されている。
【0021】尚、かかるスペーサ16としては、シリカ
ビーズ、アルミナビーズ、高分子フィルム、ガラスファ
イバーが用いられる。更に、後述するシール剤と上述し
たスペーサーにより得られるセルギャップの保持機能を
助長し、素子の耐衝撃性を向上するべく粒状接着剤(不
図示)などが用いられ得る。
ビーズ、アルミナビーズ、高分子フィルム、ガラスファ
イバーが用いられる。更に、後述するシール剤と上述し
たスペーサーにより得られるセルギャップの保持機能を
助長し、素子の耐衝撃性を向上するべく粒状接着剤(不
図示)などが用いられ得る。
【0022】基板11a,11bの周囲は、エポキシ系
接着剤などの熱硬化性樹脂からなるシール剤にて接着さ
れており(不図示)、これらのガラス基板11a、11
b間には例えばカイラルスメクチック相を呈する液晶が
封入されている。
接着剤などの熱硬化性樹脂からなるシール剤にて接着さ
れており(不図示)、これらのガラス基板11a、11
b間には例えばカイラルスメクチック相を呈する液晶が
封入されている。
【0023】当該液晶素子では、上記カイラルスメクチ
ック相(好ましくはカイラルスメクチックC相)を呈す
る液晶を用いる場合、好ましくは上述しようにセルギャ
ップを十分に小さくすることで、同相で固有に生じる分
子らせん配列構造が解除され、該分子が少なくとも2つ
安定状態をとり得る状態となっている。
ック相(好ましくはカイラルスメクチックC相)を呈す
る液晶を用いる場合、好ましくは上述しようにセルギャ
ップを十分に小さくすることで、同相で固有に生じる分
子らせん配列構造が解除され、該分子が少なくとも2つ
安定状態をとり得る状態となっている。
【0024】かかる液晶の配向状態は、液晶材料の特
性、並びに配向制御膜(14a,14b)の材料、一軸
配向処理の条件等を適宜選択することで調整され得る。
例えば配向制御膜として、液晶分子に対し10〜30度
といった高いプレチルト角(液晶分子が配向制御膜に対
して傾斜する角度)を付与し得るフッ素含有のポリイミ
ドを用いて、特開平3−252624に開示されたよう
な、コントラスト等の特性に優れたC1ユニフォーム配
向状態を安定的に得ることができる。この場合、更に両
基板における配向制御膜(14a、14b)の夫々に対
して施す一軸配向処理、好ましくはラビング処理の方向
を、互いに20度以下の範囲で交差させることによっ
て、ユニフォーム配向状態をより安定的に得ることが可
能となる。
性、並びに配向制御膜(14a,14b)の材料、一軸
配向処理の条件等を適宜選択することで調整され得る。
例えば配向制御膜として、液晶分子に対し10〜30度
といった高いプレチルト角(液晶分子が配向制御膜に対
して傾斜する角度)を付与し得るフッ素含有のポリイミ
ドを用いて、特開平3−252624に開示されたよう
な、コントラスト等の特性に優れたC1ユニフォーム配
向状態を安定的に得ることができる。この場合、更に両
基板における配向制御膜(14a、14b)の夫々に対
して施す一軸配向処理、好ましくはラビング処理の方向
を、互いに20度以下の範囲で交差させることによっ
て、ユニフォーム配向状態をより安定的に得ることが可
能となる。
【0025】上記カイラルスメクチック相を呈する液晶
としては、種々の液晶性化合物を用いることができる
が、フェニルピリミジン骨格を有する液晶性化合物を複
数種並びに少なくとも1種の光学活性化合物を用いた液
晶組成物等を適用することができる。例えば、スメクチ
ック相の温度範囲より高温側でコレステリック相を呈す
る液晶(組成物)を用いることができる。
としては、種々の液晶性化合物を用いることができる
が、フェニルピリミジン骨格を有する液晶性化合物を複
数種並びに少なくとも1種の光学活性化合物を用いた液
晶組成物等を適用することができる。例えば、スメクチ
ック相の温度範囲より高温側でコレステリック相を呈す
る液晶(組成物)を用いることができる。
【0026】当該液晶素子では、シール剤にて囲まれた
液晶が封入された全領域、ないしはシール剤にて囲まれ
た領域に対して若干(約15mm以下)の枠形状の部分
を除いた領域が、実効的に液晶による光学変調に寄与し
得る有効光学変調領域、(例えば、表示素子では実際の
表示のための光学変調を行う領域)として機能する。
液晶が封入された全領域、ないしはシール剤にて囲まれ
た領域に対して若干(約15mm以下)の枠形状の部分
を除いた領域が、実効的に液晶による光学変調に寄与し
得る有効光学変調領域、(例えば、表示素子では実際の
表示のための光学変調を行う領域)として機能する。
【0027】尚、基板11a及び11bの外側には偏光
板17a,17bが貼り合わせてある。
板17a,17bが貼り合わせてある。
【0028】本発明の液晶素子(例えば図1に示す構
造)では、前述したように、基板(11a,11b)の
駆動回路(駆動IC)が接続される辺からの距離が大き
くなるに伴って、セルギャップが小さくなるように設定
されている。
造)では、前述したように、基板(11a,11b)の
駆動回路(駆動IC)が接続される辺からの距離が大き
くなるに伴って、セルギャップが小さくなるように設定
されている。
【0029】本発明では、好ましくは、パネル面内で、
上述したようなスペーサー16の分散密度に(ある一点
を中心とした単位面積(mm2)当たりのスペーサーの
個数)所定の分布を設定した上で好ましくは後述するよ
うなパネル形式プロセスで対向する2枚の基板を面内で
均一に加圧して貼り合わせることによって、上述したよ
うなセルギャップの分布を制御することが可能である。
例えば、駆動回路が接続され得る辺の少なくとも一辺の
近傍においてはスペーサーの分散密度を高め、その対辺
に駆動回路が接続されない場合は、該辺近傍のスペーサ
ーの分散密度をより低くし、また対辺にも駆動回路が接
続される場合は、両辺近傍ではスペーサーの分散密度を
高くし、両辺間の中央部分(有効光学変調領域の中央
部)ではスペーサーの分散密度を低く設定する。
上述したようなスペーサー16の分散密度に(ある一点
を中心とした単位面積(mm2)当たりのスペーサーの
個数)所定の分布を設定した上で好ましくは後述するよ
うなパネル形式プロセスで対向する2枚の基板を面内で
均一に加圧して貼り合わせることによって、上述したよ
うなセルギャップの分布を制御することが可能である。
例えば、駆動回路が接続され得る辺の少なくとも一辺の
近傍においてはスペーサーの分散密度を高め、その対辺
に駆動回路が接続されない場合は、該辺近傍のスペーサ
ーの分散密度をより低くし、また対辺にも駆動回路が接
続される場合は、両辺近傍ではスペーサーの分散密度を
高くし、両辺間の中央部分(有効光学変調領域の中央
部)ではスペーサーの分散密度を低く設定する。
【0030】尚、本発明の液晶素子では、スペーサーと
これを挟持する一対の基板の夫々に設けられた膜の硬度
の関係に応じて、例えば後述する様なプロセスで一対の
基板を対向せしめて加圧、加熱する際にスペーサーが基
板上の液晶に接する膜に若干めり込んだ上でセルギャッ
プが決定される。ここで、スペーサーの分散密度に応じ
て、上記の加圧により付与される圧力が異なり、スペー
サーの液晶に接するべき膜に対してめり込む程度が変動
する。こうして、スペーサーの分散密度に応じて、セル
ギャップの分布が設定され得る。
これを挟持する一対の基板の夫々に設けられた膜の硬度
の関係に応じて、例えば後述する様なプロセスで一対の
基板を対向せしめて加圧、加熱する際にスペーサーが基
板上の液晶に接する膜に若干めり込んだ上でセルギャッ
プが決定される。ここで、スペーサーの分散密度に応じ
て、上記の加圧により付与される圧力が異なり、スペー
サーの液晶に接するべき膜に対してめり込む程度が変動
する。こうして、スペーサーの分散密度に応じて、セル
ギャップの分布が設定され得る。
【0031】より具体的には、有効光学変調領域内で上
述したスペーサーの分散密度に分布を設定してセルギャ
ップの制御を行う。有効光学変調領域における駆動回路
が接続される一辺を基準として、当該辺と垂直方向(通
常は当該辺において接続される駆動回路によって信号電
圧が供給される電極の長手方向)における有効光学変調
領域の全長の10%以下の距離にある領域でのスペーサ
ーの分散密度を、少なくとも同30%以上の距離にある
領域でのスペーサーの分散密度より高くすることが好ま
しい。特に、互いに対向する2辺に駆動回路が接続され
る場合では、各辺を基準にして上記有効光学変調領域の
全長の10%以下の距離にある領域でのスペーサーの分
散密度を、少なくとも同30%以上70%以下の距離に
ある領域でのスペーサーの分散密度より高くすることが
好ましい。
述したスペーサーの分散密度に分布を設定してセルギャ
ップの制御を行う。有効光学変調領域における駆動回路
が接続される一辺を基準として、当該辺と垂直方向(通
常は当該辺において接続される駆動回路によって信号電
圧が供給される電極の長手方向)における有効光学変調
領域の全長の10%以下の距離にある領域でのスペーサ
ーの分散密度を、少なくとも同30%以上の距離にある
領域でのスペーサーの分散密度より高くすることが好ま
しい。特に、互いに対向する2辺に駆動回路が接続され
る場合では、各辺を基準にして上記有効光学変調領域の
全長の10%以下の距離にある領域でのスペーサーの分
散密度を、少なくとも同30%以上70%以下の距離に
ある領域でのスペーサーの分散密度より高くすることが
好ましい。
【0032】尚、スペーサーの散布は、例えば基板(1
1a,11b)上(実際には配向制御膜14,14b
上)に対向したノズルから、これを走査させながらスペ
ーサーを射出することによって行う。ここで、ノズルを
有効光学変調領域における駆動回路が接続される一辺と
垂直方向に走査させ、当該ノズルからのスペーサーの射
出量或いは走査速度を、走査方向に沿って調整すること
によって、上述したようなスペーサーの分散密度の分布
を設定することができる。
1a,11b)上(実際には配向制御膜14,14b
上)に対向したノズルから、これを走査させながらスペ
ーサーを射出することによって行う。ここで、ノズルを
有効光学変調領域における駆動回路が接続される一辺と
垂直方向に走査させ、当該ノズルからのスペーサーの射
出量或いは走査速度を、走査方向に沿って調整すること
によって、上述したようなスペーサーの分散密度の分布
を設定することができる。
【0033】前述したようなマトリックス電極構造を用
いた素子構造でマルチプレックス駆動を適用する際に
は、クロストークの低減といった観点で走査選択信号の
電圧が高くなるため、走査電極に電圧を供給する駆動回
路(駆動IC)からの発熱が極めて高い。従って、上述
したようなスペーサーの分散密度の分布の設定によるセ
ルギャップの分布の制御は、パネル面内において、走査
電極に電圧を供給する駆動回路が接続される辺に垂直な
方向(通常は走査電極の長手方向)に適用することぎ極
めて有効である。
いた素子構造でマルチプレックス駆動を適用する際に
は、クロストークの低減といった観点で走査選択信号の
電圧が高くなるため、走査電極に電圧を供給する駆動回
路(駆動IC)からの発熱が極めて高い。従って、上述
したようなスペーサーの分散密度の分布の設定によるセ
ルギャップの分布の制御は、パネル面内において、走査
電極に電圧を供給する駆動回路が接続される辺に垂直な
方向(通常は走査電極の長手方向)に適用することぎ極
めて有効である。
【0034】本発明の液晶素子の具体的な製造プロセス
の例を図3を参照して説明する。
の例を図3を参照して説明する。
【0035】図3(a)に示すように、透明電極12
a,12b、絶縁膜13a,13b、及び配向制御膜1
4a,14bが形成された一対の基板11a,11bの
一方の周縁部に液晶注入口となる部分を除いてシール剤
18を印刷等により塗布形成する。続いて、いずれか一
方の基板の配向制御膜上(図3(a)では配向制御膜1
4b上)に、上述したような分散密度分布でスぺーサー
16を散布する。
a,12b、絶縁膜13a,13b、及び配向制御膜1
4a,14bが形成された一対の基板11a,11bの
一方の周縁部に液晶注入口となる部分を除いてシール剤
18を印刷等により塗布形成する。続いて、いずれか一
方の基板の配向制御膜上(図3(a)では配向制御膜1
4b上)に、上述したような分散密度分布でスぺーサー
16を散布する。
【0036】次いで、両基板を対向配置せしめ、図3
(b)に示すようにシール剤18を加熱及び加圧(P)
して硬化させることによって貼り合わせセル構造を形成
する。尚、図3(b)では、右側を液晶注入口が形成さ
れる側とする。また、かかるセル構造の平面構造の例を
図21に示す。同図において、20は液晶注入口となる
部分である。
(b)に示すようにシール剤18を加熱及び加圧(P)
して硬化させることによって貼り合わせセル構造を形成
する。尚、図3(b)では、右側を液晶注入口が形成さ
れる側とする。また、かかるセル構造の平面構造の例を
図21に示す。同図において、20は液晶注入口となる
部分である。
【0037】こうして得られたセル(空セル)に対し上
記シール剤が形成されていない液晶注入口から液晶を注
入する。その後、当該注入口はシール剤と同様の材料等
によって封止する。そして、セル内に封入された液晶に
必要に応じて熱処理等を施した後、セルの所定の辺にお
いて電極に対し駆動回路(駆動IC)を接続する(不図
示)。
記シール剤が形成されていない液晶注入口から液晶を注
入する。その後、当該注入口はシール剤と同様の材料等
によって封止する。そして、セル内に封入された液晶に
必要に応じて熱処理等を施した後、セルの所定の辺にお
いて電極に対し駆動回路(駆動IC)を接続する(不図
示)。
【0038】このようなプロセスにおいて、特に両基板
に対して加圧及び加熱を施す工程では、通常、対向した
基板(11a、11b)間に存在する加熱さされた空気
が、図3(b)の矢印19に示すように液晶注入口とな
る部分から順次排気され得る。ここで図4に示すよう
に、液晶注入口となる部分20、即ち、シール剤18が
塗布されていない部分が、セルギャップが小さく設定さ
れ得る辺側に設けられ、特に注入口の幅が該注入口を含
む辺の30%以下である場合、シール剤を加熱(及び加
圧)する工程で、その条件によっては対向した基板(1
1a、11b)間に存在する加熱された空気21が注入
口から速やかに排気され得ないことがある。かかる加熱
空気は、他辺におけるシール剤のラインに圧力を加えて
シール剤の破れなどの損傷を与えることがある。例えば
図21に示す構造では、図面上の左側の領域でセルギャ
ップが大きくなっている場合、シール剤18aや18b
の部分が、排気され得なかった加熱空気の過度の膨張に
より損傷を受けることがある。こうして、液晶素子の安
定的な製造が妨げられ、更に最終的に形成される素子の
性能(例えば液晶配向性)にも悪影響が及ぶ場合があ
る。
に対して加圧及び加熱を施す工程では、通常、対向した
基板(11a、11b)間に存在する加熱さされた空気
が、図3(b)の矢印19に示すように液晶注入口とな
る部分から順次排気され得る。ここで図4に示すよう
に、液晶注入口となる部分20、即ち、シール剤18が
塗布されていない部分が、セルギャップが小さく設定さ
れ得る辺側に設けられ、特に注入口の幅が該注入口を含
む辺の30%以下である場合、シール剤を加熱(及び加
圧)する工程で、その条件によっては対向した基板(1
1a、11b)間に存在する加熱された空気21が注入
口から速やかに排気され得ないことがある。かかる加熱
空気は、他辺におけるシール剤のラインに圧力を加えて
シール剤の破れなどの損傷を与えることがある。例えば
図21に示す構造では、図面上の左側の領域でセルギャ
ップが大きくなっている場合、シール剤18aや18b
の部分が、排気され得なかった加熱空気の過度の膨張に
より損傷を受けることがある。こうして、液晶素子の安
定的な製造が妨げられ、更に最終的に形成される素子の
性能(例えば液晶配向性)にも悪影響が及ぶ場合があ
る。
【0039】かかる事項を考慮して、本発明の液晶素子
ではシール剤を二重構造で基板周縁部に形成することが
好ましい。特に、セルギャップが小さくなっている領域
の周辺に形成されるシール剤を二重構造とすることは好
ましい。例えば図22に示すように、第一のシール剤1
8の内側の一部の辺に沿って、第二のシール剤22を形
成することが好ましい。これら二重構造の部分では、シ
ール剤が互いに接触していなくてもよい。特に、同図の
シール剤の構造は、図面上左側の領域でセルギャップが
大きくなっている場合に特に好適である。
ではシール剤を二重構造で基板周縁部に形成することが
好ましい。特に、セルギャップが小さくなっている領域
の周辺に形成されるシール剤を二重構造とすることは好
ましい。例えば図22に示すように、第一のシール剤1
8の内側の一部の辺に沿って、第二のシール剤22を形
成することが好ましい。これら二重構造の部分では、シ
ール剤が互いに接触していなくてもよい。特に、同図の
シール剤の構造は、図面上左側の領域でセルギャップが
大きくなっている場合に特に好適である。
【0040】本発明の液晶素子では、面巾でセルギャッ
プに分布を設けたことによって、特に平均的なセルギャ
ップが大きい場合、或いはセルギャップの最大値と最小
値の差が大きい場合、パネル面内での過度の色度分布が
生じ、通常の透過光を利用してあるいは素子の一方の面
側に均一な平面光を供給する光源を設け、この光源から
の光を利用して表示装置に適用する場合、セルギャップ
の相対的に大きな領域(特に駆動回路が接続された辺近
傍の領域)において黄色に色付くといった現象が生じ得
る。
プに分布を設けたことによって、特に平均的なセルギャ
ップが大きい場合、或いはセルギャップの最大値と最小
値の差が大きい場合、パネル面内での過度の色度分布が
生じ、通常の透過光を利用してあるいは素子の一方の面
側に均一な平面光を供給する光源を設け、この光源から
の光を利用して表示装置に適用する場合、セルギャップ
の相対的に大きな領域(特に駆動回路が接続された辺近
傍の領域)において黄色に色付くといった現象が生じ得
る。
【0041】そこで、本発明の液晶素子(液晶パネル)
を透過型液晶表示素子として、表示装置に適用する場
合、素子(表示パネル)の背面側に、上述したパネル面
内でのセルギャップの分布に起因した色度分布を補償す
べく、自身で色度分布を有する平面光を照射する照明手
段(バックライト)を配置することが好ましい。こうし
て、液晶素子において、面内での駆動特性を均一化して
表示品位を向上すると同時に、特に走査電極又は情報電
極用の駆動回路(駆動IC)が接続された辺近傍の領域
での色度のムラを低減することが可能となる。
を透過型液晶表示素子として、表示装置に適用する場
合、素子(表示パネル)の背面側に、上述したパネル面
内でのセルギャップの分布に起因した色度分布を補償す
べく、自身で色度分布を有する平面光を照射する照明手
段(バックライト)を配置することが好ましい。こうし
て、液晶素子において、面内での駆動特性を均一化して
表示品位を向上すると同時に、特に走査電極又は情報電
極用の駆動回路(駆動IC)が接続された辺近傍の領域
での色度のムラを低減することが可能となる。
【0042】
【実施例】以下、本発明を具体的な実施例に沿って更に
詳細に説明する。基本的には下記のようなプロセスに沿
って上述した図1に示すような構造の液晶素子を作成
し、夫々の評価を行った。
詳細に説明する。基本的には下記のようなプロセスに沿
って上述した図1に示すような構造の液晶素子を作成
し、夫々の評価を行った。
【0043】約270mm×320mmのガラス基板1
1a、11bの板厚を1.1mmとし、各基板上にIT
Oの透明電極12a、12bのパターンをスパッタ法及
びフォトリソグラフィにより形成した。この透明電極1
2a、12bの膜厚は1500Åとし、幅170μmの
ストライプ状のものを30μmの間隔を開けて多数設け
た。透明電極上にショート防止用の絶縁膜13a、13
bをTa2 O5 膜を用い、900Åの厚さとなるように
スパッタ法で形成した。さらに、表面状態改質のため塗
布型絶縁層(TiSi=1:1東京応化社製)を塗布し
300℃で焼成を行った。膜厚は1200Åとした。
1a、11bの板厚を1.1mmとし、各基板上にIT
Oの透明電極12a、12bのパターンをスパッタ法及
びフォトリソグラフィにより形成した。この透明電極1
2a、12bの膜厚は1500Åとし、幅170μmの
ストライプ状のものを30μmの間隔を開けて多数設け
た。透明電極上にショート防止用の絶縁膜13a、13
bをTa2 O5 膜を用い、900Åの厚さとなるように
スパッタ法で形成した。さらに、表面状態改質のため塗
布型絶縁層(TiSi=1:1東京応化社製)を塗布し
300℃で焼成を行った。膜厚は1200Åとした。
【0044】一方、配向制御膜14a、14bの形成
は、ポリアミド酸(日立化成(株)製;LQ1802)
をNMP/nBC=1/1液で1.5Wt%に希釈した
溶液をスピナーで2000rmp、20secの塗布条
件で塗布し、その後270℃、1時間焼成して行った。
この膜厚は200Åとした。
は、ポリアミド酸(日立化成(株)製;LQ1802)
をNMP/nBC=1/1液で1.5Wt%に希釈した
溶液をスピナーで2000rmp、20secの塗布条
件で塗布し、その後270℃、1時間焼成して行った。
この膜厚は200Åとした。
【0045】次に、これら配向制御膜14a、14bに
前述した図2に示す装置を用いてラビング処理を行っ
た。
前述した図2に示す装置を用いてラビング処理を行っ
た。
【0046】押込み量εを0.35mmローラ回転数を
1000rmp、ローラ送り速度を30mm/secの
ラビング条件で2回行った。
1000rmp、ローラ送り速度を30mm/secの
ラビング条件で2回行った。
【0047】このようにして製作されたガラス基板11
a、11bを、一方のガラス基板11a(11b)に所
定の平均粒径を有するビーズスぺーサ16(シリカビー
ズ、アルミナビーズ等)を後述したような所定の分布で
散布し、他方のガラス基板11b(11a)の周縁部に
エポキシ樹脂の接着剤であるシール接着剤をディスペン
サによる描画で形成した両ガラス基板11a、11bを
貼り合わせて160℃、1kg/cm2、1時間の条件
でシール材の加熱、硬化を行いマトリックス電極構造の
セルを形成した。なお、貼り合わせたガラス基板11
a、11bに施したラビング処理のラビング方向が略平
行になるように行った。
a、11bを、一方のガラス基板11a(11b)に所
定の平均粒径を有するビーズスぺーサ16(シリカビー
ズ、アルミナビーズ等)を後述したような所定の分布で
散布し、他方のガラス基板11b(11a)の周縁部に
エポキシ樹脂の接着剤であるシール接着剤をディスペン
サによる描画で形成した両ガラス基板11a、11bを
貼り合わせて160℃、1kg/cm2、1時間の条件
でシール材の加熱、硬化を行いマトリックス電極構造の
セルを形成した。なお、貼り合わせたガラス基板11
a、11bに施したラビング処理のラビング方向が略平
行になるように行った。
【0048】ここで、シール剤は、図21に示すように
基板の周縁部に沿って注入口20の部分を除いてライン
状に形成した。シール材で囲まれた領域の寸法をシール
材塗布巾の中心点の測定で257mm×315mmとし
た。シール材の巾は0.27mmとした。注入口となる
不連続な部分の長さは、該注入口を含む辺の長さの1/
3とした。
基板の周縁部に沿って注入口20の部分を除いてライン
状に形成した。シール材で囲まれた領域の寸法をシール
材塗布巾の中心点の測定で257mm×315mmとし
た。シール材の巾は0.27mmとした。注入口となる
不連続な部分の長さは、該注入口を含む辺の長さの1/
3とした。
【0049】その後、下記の相転移温度、及び物性値を
示すフェニルピリミジン系強誘電性液晶を減圧下でIs
o相に昇温し毛管現象により注入して、その後徐冷して
液晶装置を製造した。この素子を駆動して配向状態を観
察したところ、いわゆるユニフォーム状態の配向である
ことが観察された。尚、有効光学変調領域を235mm
×294mmとした。
示すフェニルピリミジン系強誘電性液晶を減圧下でIs
o相に昇温し毛管現象により注入して、その後徐冷して
液晶装置を製造した。この素子を駆動して配向状態を観
察したところ、いわゆるユニフォーム状態の配向である
ことが観察された。尚、有効光学変調領域を235mm
×294mmとした。
【0050】 チルト角 θ=15.1°(at30℃) 自発分極Ps=5.5(nc/cm2 )(at30℃) Δn=0.2
【0051】続いて、マトリックス電極構造をなす透明
電極12a及び12bの夫々に対して、セルの少なくと
も一辺ないしは両辺の端部において、透明電極12a及
び12bの一方が走査電極、他方が情報電極として機能
するべく、これらに走査信号電圧ないし情報信号電圧を
供給する駆動ICを接続した。
電極12a及び12bの夫々に対して、セルの少なくと
も一辺ないしは両辺の端部において、透明電極12a及
び12bの一方が走査電極、他方が情報電極として機能
するべく、これらに走査信号電圧ないし情報信号電圧を
供給する駆動ICを接続した。
【0052】以下具体的な実験例について詳述する。
【0053】(実験例1)上述したプロセスに沿って、
図1に示す構造であって、模式的には図6(a)又は図
8(a)に示す構造(但しこれら図では、絶縁膜、配向
制御膜は省略されている)の液晶素子(液晶表示パネ
ル)のサンプル1(図6)、サンプル2(図8)を作製
した。これらサンプル1、2では走査電極駆動用のIC
(40)が、一方の基板(11a)の一辺において走査
電極(11a)に接続されている。また、平均粒径が
1.2μmのビーズスぺーサー(16)が使用され、駆
動IC(20)により電圧が供給される走査電極(11
a)方向でのスぺーサー散布密度(分散密度に相応)
が、夫々図6(b)、図8(b)で示されるような分布
を有し、且つ走査電極方向でのセルギャップの変化が、
夫々図6(c)、図8(c)で示されるような状態とな
っている。
図1に示す構造であって、模式的には図6(a)又は図
8(a)に示す構造(但しこれら図では、絶縁膜、配向
制御膜は省略されている)の液晶素子(液晶表示パネ
ル)のサンプル1(図6)、サンプル2(図8)を作製
した。これらサンプル1、2では走査電極駆動用のIC
(40)が、一方の基板(11a)の一辺において走査
電極(11a)に接続されている。また、平均粒径が
1.2μmのビーズスぺーサー(16)が使用され、駆
動IC(20)により電圧が供給される走査電極(11
a)方向でのスぺーサー散布密度(分散密度に相応)
が、夫々図6(b)、図8(b)で示されるような分布
を有し、且つ走査電極方向でのセルギャップの変化が、
夫々図6(c)、図8(c)で示されるような状態とな
っている。
【0054】図6(b)、(c)、図8(b)、(c)
における横軸は、素子の有効光学変調領域の走査電極方
向における全長を1とし、走査電極用駆動IC(40)
が形成された辺側における端辺を基準(0)とした距離
の相対比率を示している。このスぺーサー散布密度及び
セルギャップは、走査電極用駆動ICが形成された辺を
均等に区分した5点を通り、当該辺と直交する5本の線
上で測定された値(n=5)について走査電極用駆動I
Cからの等距離の点での値を平均した値である。即ち、
面内(有効光学変調領域内)を均一に配置した5×5の
25点で測定された値を基にしている。
における横軸は、素子の有効光学変調領域の走査電極方
向における全長を1とし、走査電極用駆動IC(40)
が形成された辺側における端辺を基準(0)とした距離
の相対比率を示している。このスぺーサー散布密度及び
セルギャップは、走査電極用駆動ICが形成された辺を
均等に区分した5点を通り、当該辺と直交する5本の線
上で測定された値(n=5)について走査電極用駆動I
Cからの等距離の点での値を平均した値である。即ち、
面内(有効光学変調領域内)を均一に配置した5×5の
25点で測定された値を基にしている。
【0055】尚、セルギャップについては上記の5×5
の25点の夫々においてリタデーションを測定し(オリ
ンパス光機 RA100使用)この値に基づいて求め
た。
の25点の夫々においてリタデーションを測定し(オリ
ンパス光機 RA100使用)この値に基づいて求め
た。
【0056】かかるサンプル1及び2の素子について、
夫々図5に示すような駆動波形(走査選択信号S、情報
信号I)を用いて白黒のマトリックス表示を行った。駆
動条件としては、環境温度20℃、Vcom =14.1
V、Vseg =5.9V、Vcom+Vseg =20Vとし
た。かかる駆動時において、各サンプルで生じる走査電
極方向での液晶の温度分布、液晶駆動の閾値変動、並び
に表示品位の変動について評価した(測定は上記スぺー
サー散布密度、セルギャップの測定地点で行った)。
尚、閾値変動は、上記駆動条件における駆動電圧のパル
ス巾を変化させて得られる閾値の値によりを測定し、素
子の一端の(距離1の部分)閾値を1として相対評価し
た。表示品位については、各測定ポイントでの10mm
×10mmで白ないし黒表示が均一になされているかで
評価した。
夫々図5に示すような駆動波形(走査選択信号S、情報
信号I)を用いて白黒のマトリックス表示を行った。駆
動条件としては、環境温度20℃、Vcom =14.1
V、Vseg =5.9V、Vcom+Vseg =20Vとし
た。かかる駆動時において、各サンプルで生じる走査電
極方向での液晶の温度分布、液晶駆動の閾値変動、並び
に表示品位の変動について評価した(測定は上記スぺー
サー散布密度、セルギャップの測定地点で行った)。
尚、閾値変動は、上記駆動条件における駆動電圧のパル
ス巾を変化させて得られる閾値の値によりを測定し、素
子の一端の(距離1の部分)閾値を1として相対評価し
た。表示品位については、各測定ポイントでの10mm
×10mmで白ないし黒表示が均一になされているかで
評価した。
【0057】同方向での温度分布が軽減され、閾値がほ
ぼ均一に保たれていた。サンプル1での最高及び最低温
度の差ΔT=3.9℃、サンプル2ではΔT=4.9℃
であった。更に、図6に示す設定の素子では、素子全面
で白黒の表示状態が均一であるのに比較して、図8の場
合では、走査電極用の駆動ICが実装された側の辺近傍
の光学変調領域で表示ムラが発生していた。このよう
に、マトリックス電極構造を有する液晶素子において、
図6に示すような設定とすることによって、特に、走査
電極用の駆動IC近傍に発生する表示ムラが著しく改善
され得ることが判った。
ぼ均一に保たれていた。サンプル1での最高及び最低温
度の差ΔT=3.9℃、サンプル2ではΔT=4.9℃
であった。更に、図6に示す設定の素子では、素子全面
で白黒の表示状態が均一であるのに比較して、図8の場
合では、走査電極用の駆動ICが実装された側の辺近傍
の光学変調領域で表示ムラが発生していた。このよう
に、マトリックス電極構造を有する液晶素子において、
図6に示すような設定とすることによって、特に、走査
電極用の駆動IC近傍に発生する表示ムラが著しく改善
され得ることが判った。
【0058】かかる結果は、図6に示す設定の液晶素子
において、特に走査電極用駆動ICが接続された辺近傍
の領域でのセルギャップを大きくしたことによって、同
領域での液晶素子としての容量が小さくなり流れる電流
が低減されて発熱量を抑制され、当該駆動ICの発熱に
よる影響が補償されたことに起因して得られたものであ
ると認められる。
において、特に走査電極用駆動ICが接続された辺近傍
の領域でのセルギャップを大きくしたことによって、同
領域での液晶素子としての容量が小さくなり流れる電流
が低減されて発熱量を抑制され、当該駆動ICの発熱に
よる影響が補償されたことに起因して得られたものであ
ると認められる。
【0059】(実験例2)上述したプロセスに沿って、
図1に示す構造であって模式的には図10(a)に示す
構造(但しこれら図では配向制御膜及び絶縁膜は省略さ
れている)の液晶素子(液晶表示パネル)のサンプル3
を作製した。また、このサンプル3では走査電極駆動用
のIC(40)が、一方の基板(11a)の両辺におい
て走査電極(11a)に接続されている(走査電極によ
っていずれかの辺側で駆動ICに接続する)。また、平
均粒径が1.2μmのビーズスぺーサー(16)が使用
され、駆動IC(40)により電圧が供給される走査電
極(11a)方向でのスぺーサー散布密度(分散密度に
相応)が、図10(b)で示されるような分布を有し、
且つ走査電極方向でのセルギャップの変化が、図10
(C)で示されるような状態となっている。
図1に示す構造であって模式的には図10(a)に示す
構造(但しこれら図では配向制御膜及び絶縁膜は省略さ
れている)の液晶素子(液晶表示パネル)のサンプル3
を作製した。また、このサンプル3では走査電極駆動用
のIC(40)が、一方の基板(11a)の両辺におい
て走査電極(11a)に接続されている(走査電極によ
っていずれかの辺側で駆動ICに接続する)。また、平
均粒径が1.2μmのビーズスぺーサー(16)が使用
され、駆動IC(40)により電圧が供給される走査電
極(11a)方向でのスぺーサー散布密度(分散密度に
相応)が、図10(b)で示されるような分布を有し、
且つ走査電極方向でのセルギャップの変化が、図10
(C)で示されるような状態となっている。
【0060】尚、図10での表示は、図6及び図8と同
義である。
義である。
【0061】これに対し、サンプル2と同様のスぺーサ
ー散布密度の及びセルギャップの分布を有し、且つ、走
査電極駆動用のICが一方の基板の両辺において走査電
極(11a)に接続された走査電極によっていずれかの
辺側で駆動ICに接続する)へ接続した構造のサンプル
4を作製した。
ー散布密度の及びセルギャップの分布を有し、且つ、走
査電極駆動用のICが一方の基板の両辺において走査電
極(11a)に接続された走査電極によっていずれかの
辺側で駆動ICに接続する)へ接続した構造のサンプル
4を作製した。
【0062】かかるサンプル3及び4について、実験1
と同様の条件で駆動を行い、同様に走査電極方向での液
晶の温度分布、液晶駆動の閾値変動、並びにパネル面内
での表示品位の変動について評価した。結果を夫々図1
1(a)及び(b)(サンプル3)、図12(a)及び
(b)(サンプル4)に示す。
と同様の条件で駆動を行い、同様に走査電極方向での液
晶の温度分布、液晶駆動の閾値変動、並びにパネル面内
での表示品位の変動について評価した。結果を夫々図1
1(a)及び(b)(サンプル3)、図12(a)及び
(b)(サンプル4)に示す。
【0063】図11に示す結果を図12の結果と比較す
ることにより、図10に示すような走査電極よう駆動I
Cを対向する二辺に備えた素子では、同図に示す走査電
極方向でのスぺーサーの分散密度、及びセルギャップの
分布を設定することで、同方向での温度分布が軽減さ
れ、閾値がほぼ均一に保たれていた。また、パネル面内
での表示ムラは見られなかった。
ることにより、図10に示すような走査電極よう駆動I
Cを対向する二辺に備えた素子では、同図に示す走査電
極方向でのスぺーサーの分散密度、及びセルギャップの
分布を設定することで、同方向での温度分布が軽減さ
れ、閾値がほぼ均一に保たれていた。また、パネル面内
での表示ムラは見られなかった。
【0064】尚、実験例1及び2の素子において、情報
電極用の駆動ICが接続された辺においてもセルギャッ
プを大きくし、かかる辺に垂直な方向(即ち情報電極の
方向)に沿ってセルギャップを変化させる(当該辺から
の極が大きくなるに伴ってセルギャップを小さくする)
ことによって、パネル全面での表示品位の更なる安定化
が実現される。
電極用の駆動ICが接続された辺においてもセルギャッ
プを大きくし、かかる辺に垂直な方向(即ち情報電極の
方向)に沿ってセルギャップを変化させる(当該辺から
の極が大きくなるに伴ってセルギャップを小さくする)
ことによって、パネル全面での表示品位の更なる安定化
が実現される。
【0065】(実験例3)走査電極方向でのスぺーサー
の分散密度の分布、及びこれによるセルギャップの分布
を変化させたことを除いて、実験1のサンプル1と同様
の構成になる素子(表示パネル)のサンプル5〜10を
作製した。尚、これらサンプルでは、スぺーサー分散密
度の分布及びセルギャップの分布の傾向はサンプル1の
場合(図6(b)及び(c))と同様とし、下記式
(t)に示す最小セルギャップdminと最大セルギャ
ップdmaxの関係を種々に設定した。
の分散密度の分布、及びこれによるセルギャップの分布
を変化させたことを除いて、実験1のサンプル1と同様
の構成になる素子(表示パネル)のサンプル5〜10を
作製した。尚、これらサンプルでは、スぺーサー分散密
度の分布及びセルギャップの分布の傾向はサンプル1の
場合(図6(b)及び(c))と同様とし、下記式
(t)に示す最小セルギャップdminと最大セルギャ
ップdmaxの関係を種々に設定した。
【0066】
【外3】 上記式(I)で規定されるパラメーターは、分布を持つ
セルギャップの概略平均値が(dmax+dmin)/
2に対するギャップの変動値(dmax−dmin)の
割合を示し、ギャップ変動の程度を示すものである。こ
れらサンプル5〜10及びサンプル2について、実験1
と同様の条件で駆動を行い、パネル面内での表示ムラ及
び色付きを評価した。結果を下記表に示す。
セルギャップの概略平均値が(dmax+dmin)/
2に対するギャップの変動値(dmax−dmin)の
割合を示し、ギャップ変動の程度を示すものである。こ
れらサンプル5〜10及びサンプル2について、実験1
と同様の条件で駆動を行い、パネル面内での表示ムラ及
び色付きを評価した。結果を下記表に示す。
【0067】
【表1】
【0068】この結果から、前記パネルの最大セルギャ
ップdmaxと最小セルギャップ厚dminが
ップdmaxと最小セルギャップ厚dminが
【0069】
【外4】 で色ムラも良く効果的に表示ムラが改善できる。
【0070】さらに、
【0071】
【外5】 では色ムラも良好であることがわかる。
【0072】尚、本発明者らの実験によれば、対角15
インチのパネルにおいて、
インチのパネルにおいて、
【0073】
【外6】 とするためには、スペーサ散布密度の走査電極の取出し
部側での値Smaxとパネルの表示エリアの最小セルギ
ャップ部での値Sminかを、
部側での値Smaxとパネルの表示エリアの最小セルギ
ャップ部での値Sminかを、
【0074】
【外7】 と設定することが好ましいことが見出された。
【0075】(実験例4)本例では、セルギャップの分
布の設定によって生じ得る面内での色付き現象の抑制手
段について検討した。
布の設定によって生じ得る面内での色付き現象の抑制手
段について検討した。
【0076】実験例1で作製したサンプル1及び実施例
3で作製したサンプル3について走査電極方向での色度
分布(CIE−xy色度)を測定した。具体的には、パ
ネル全面を白表示状態とし、測定器としてBM−7(ト
プコン社製)を用い、室温でパネル面の中心輝度を10
0cd/cm2 (均一平面光)として測定した。結果を
サンプル1について図13(a)(色度x)及び(b)
(色度y)、サンプル3について図14(a)(色度
x)及び(b)(色度y)に示す。これら線図の横軸
は、図6(b)等の横軸と同義である。即ち走査電極用
駆動ICとが形成された辺を均等に区分した5点を通
り、当該辺と直交する5本の線上での点で測定を行い、
走査電極駆動ICから等距離にある点での値の平均値を
算出したものである。尚、測定点での測定エリアの大き
さを5mmφとした。
3で作製したサンプル3について走査電極方向での色度
分布(CIE−xy色度)を測定した。具体的には、パ
ネル全面を白表示状態とし、測定器としてBM−7(ト
プコン社製)を用い、室温でパネル面の中心輝度を10
0cd/cm2 (均一平面光)として測定した。結果を
サンプル1について図13(a)(色度x)及び(b)
(色度y)、サンプル3について図14(a)(色度
x)及び(b)(色度y)に示す。これら線図の横軸
は、図6(b)等の横軸と同義である。即ち走査電極用
駆動ICとが形成された辺を均等に区分した5点を通
り、当該辺と直交する5本の線上での点で測定を行い、
走査電極駆動ICから等距離にある点での値の平均値を
算出したものである。尚、測定点での測定エリアの大き
さを5mmφとした。
【0077】同図に示す結果より、両サンプル共、走査
電極方向でセルギャップの分布(図6(c)、10
(c))に対応する色度分布が認められる。
電極方向でセルギャップの分布(図6(c)、10
(c))に対応する色度分布が認められる。
【0078】これらサンプルの素子の背面に図15に示
すような構造のバックライト30を配置した。かかるバ
ックライト30は、ランプケース31内に、サンプル1
の素子の走査電極用駆動ICが設けられる辺の方向を長
手方向とした複数のランプ32…が配列され、その上方
にライティングカーテン33及び拡散板34を備えてお
り、液晶素子に対し背面から光照射を行う。そして、複
数のランプ32として、パネルの走査電極の方向のセル
ギャップ分布に応じて、照射光の色度が異なるものを配
置した。
すような構造のバックライト30を配置した。かかるバ
ックライト30は、ランプケース31内に、サンプル1
の素子の走査電極用駆動ICが設けられる辺の方向を長
手方向とした複数のランプ32…が配列され、その上方
にライティングカーテン33及び拡散板34を備えてお
り、液晶素子に対し背面から光照射を行う。そして、複
数のランプ32として、パネルの走査電極の方向のセル
ギャップ分布に応じて、照射光の色度が異なるものを配
置した。
【0079】バックライト全体として平面光としての、
パネルにおける走査電極方向での色度分布を、図16
(a)及び(b)(サンプル1に対して使用したバック
ライト)、図18(a)及び(b)(サンプル3に対し
て使用したバックライト)に、バックライトを使用した
状態での表示面の色度分布を夫々、図17(a)及び
(b)、図19(a)及び(b)に示す。
パネルにおける走査電極方向での色度分布を、図16
(a)及び(b)(サンプル1に対して使用したバック
ライト)、図18(a)及び(b)(サンプル3に対し
て使用したバックライト)に、バックライトを使用した
状態での表示面の色度分布を夫々、図17(a)及び
(b)、図19(a)及び(b)に示す。
【0080】また、参考として、サンプル2のセルギャ
ップが均一な素子に対して、全面ほぼ均一な色度を有す
る平面光を照射するバックライトを適用して、同様に表
示面の走査電極方向における色度分布を測定した。結果
を図20(a)、(b)に示す。
ップが均一な素子に対して、全面ほぼ均一な色度を有す
る平面光を照射するバックライトを適用して、同様に表
示面の走査電極方向における色度分布を測定した。結果
を図20(a)、(b)に示す。
【0081】これら結果によれば、セルギャップに分布
が設けられた液晶素子に対してこのセルギャップ分布に
対応した色度分布を有するバックライトを用いることに
よって、表示面の過度の色度分布を、色度分布の小さい
バックライトを用いる場合に比較して低減し、セルギャ
ップが均一である液晶素子と同等のレベルにすることが
可能であることが明らかである。
が設けられた液晶素子に対してこのセルギャップ分布に
対応した色度分布を有するバックライトを用いることに
よって、表示面の過度の色度分布を、色度分布の小さい
バックライトを用いる場合に比較して低減し、セルギャ
ップが均一である液晶素子と同等のレベルにすることが
可能であることが明らかである。
【0082】(実験例5)本例では、セルギャップの分
布の設定によって素子の製造時に生じ得る周縁部におけ
るシール剤の損傷の抑制について検討した。
布の設定によって素子の製造時に生じ得る周縁部におけ
るシール剤の損傷の抑制について検討した。
【0083】図21に示す平面構造のようにシール剤を
基板の全周縁部に亘って単層構造で形成し、注入口20
の幅を当該注入口が設けられる辺のシール剤の長さの1
/4としシール剤の硬化の条件を160℃、2kgf/
cm2、1時間とすることを除いて他は、実験例1のサ
ンプル1と同様に液晶素子を作成した。
基板の全周縁部に亘って単層構造で形成し、注入口20
の幅を当該注入口が設けられる辺のシール剤の長さの1
/4としシール剤の硬化の条件を160℃、2kgf/
cm2、1時間とすることを除いて他は、実験例1のサ
ンプル1と同様に液晶素子を作成した。
【0084】この場合、素子10個の製造で、8個まで
が図21の17a及び17bの領域付近でシール剤と交
差する電極の方向に沿ってかかるシール剤の剥離が発生
した。
が図21の17a及び17bの領域付近でシール剤と交
差する電極の方向に沿ってかかるシール剤の剥離が発生
した。
【0085】これに対し、シール剤のパターンを図22
のように二重構造とし、注入口20の幅を当該注入口が
設けられるシール剤の長さの1/4としまたシール剤の
加熱硬化の条件を上記のようにすることを除いて、サン
プル1と同様の設計及び条件で液晶素子で作製した。こ
こでシール剤22の部分の幅を0.15mmとし、シー
ル剤18の部分との間隔を4.6mmとした。この場
合、素子10個の製造で、シール剤の剥離を生じたもの
はなかった。
のように二重構造とし、注入口20の幅を当該注入口が
設けられるシール剤の長さの1/4としまたシール剤の
加熱硬化の条件を上記のようにすることを除いて、サン
プル1と同様の設計及び条件で液晶素子で作製した。こ
こでシール剤22の部分の幅を0.15mmとし、シー
ル剤18の部分との間隔を4.6mmとした。この場
合、素子10個の製造で、シール剤の剥離を生じたもの
はなかった。
【0086】この結果、セルギャップに分布が設けら
れ、特にセルギャップが小さく設定された側に液晶注入
口が形成される場合、液晶素子に対してシール剤を二重
構造で形成することによって、シール剤の加熱硬化の条
件が厳しくても当該液晶素子をより安定的に得ることが
でき、また得られた素子についても実験例1等で立証さ
れたような優れた表示品位が長期的且つ安定して確保さ
れることが明らかである。
れ、特にセルギャップが小さく設定された側に液晶注入
口が形成される場合、液晶素子に対してシール剤を二重
構造で形成することによって、シール剤の加熱硬化の条
件が厳しくても当該液晶素子をより安定的に得ることが
でき、また得られた素子についても実験例1等で立証さ
れたような優れた表示品位が長期的且つ安定して確保さ
れることが明らかである。
【0087】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
液晶素子及びこれを用いた液晶表示装置において、特に
駆動IC等が実装された部分近傍での発熱に起因した液
晶パネル面内での過度に不均一な温度分布を解消し、面
内での表示ムラが改善される。
液晶素子及びこれを用いた液晶表示装置において、特に
駆動IC等が実装された部分近傍での発熱に起因した液
晶パネル面内での過度に不均一な温度分布を解消し、面
内での表示ムラが改善される。
【図1】(a)本発明の液晶素子の構造の一例を示す斜
視図。 (b)図1(a)のA−A線に沿った断面図。
視図。 (b)図1(a)のA−A線に沿った断面図。
【図2】(a)本発明の液晶素子の製造において適用す
るラビング処理を説明する斜視図。 (b)本発明の液晶素子の製造において適用するラビン
グ処理を説明する断面図。
るラビング処理を説明する斜視図。 (b)本発明の液晶素子の製造において適用するラビン
グ処理を説明する断面図。
【図3】(a)(b)本発明の液晶素子の製造プロセス
を示す断面図。
を示す断面図。
【図4】本発明の液晶素子における、基板間からの排気
の状態を模式的に示す斜視図。
の状態を模式的に示す斜視図。
【図5】本発明の実施例で用いる駆動波形を示す図。
【図6】(a)本発明の実施例のサンプル1の素子の構
造を模式的に示す図。 (b)サンプル1におけるスペーサー散布密度の分布を
示す図。 (c)サンプル1におけるセルギャップの分布を示す
図。
造を模式的に示す図。 (b)サンプル1におけるスペーサー散布密度の分布を
示す図。 (c)サンプル1におけるセルギャップの分布を示す
図。
【図7】(a)サンプル1の素子における温度分布を示
す図。 (b)サンプル1の素子における閾値分布を示す図。
す図。 (b)サンプル1の素子における閾値分布を示す図。
【図8】(a)本発明の実施例のサンプル1の構造を模
式的に示す図。 (b)サンプル2におけるスペーサー散布密度の分布を
示す図。 (c)サンプル2におけるセルギャップの分布を示す
図。
式的に示す図。 (b)サンプル2におけるスペーサー散布密度の分布を
示す図。 (c)サンプル2におけるセルギャップの分布を示す
図。
【図9】(a)サンプル2の素子における温度分布を示
す図。 (b)サンプル2の素子における閾値分布を示す図。
す図。 (b)サンプル2の素子における閾値分布を示す図。
【図10】(a)本発明の実施例のサンプル3の構造を
模式的に示す図。 (b)サンプル3におけるスペーサー散布密度の分布を
示す図。 (c)サンプル3におけるセルギャップの分布を示す
図。
模式的に示す図。 (b)サンプル3におけるスペーサー散布密度の分布を
示す図。 (c)サンプル3におけるセルギャップの分布を示す
図。
【図11】(a)サンプル3の素子における温度分布を
示す図。 (b)サンプル3の素子における閾値分布を示す図。
示す図。 (b)サンプル3の素子における閾値分布を示す図。
【図12】(a)サンプル4の素子における温度分布を
示す図。 (b)サンプル4の素子における閾値分布を示す図。
示す図。 (b)サンプル4の素子における閾値分布を示す図。
【図13】(a)(b)サンプル1の素子に対して均一
平面光のバックライトを適用した際のパネル面における
色度分布を示す図。
平面光のバックライトを適用した際のパネル面における
色度分布を示す図。
【図14】(a)(b)サンプル3の素子に対して均一
平面光のバックライトを適用した際のパネル面における
色度分布を示す図。
平面光のバックライトを適用した際のパネル面における
色度分布を示す図。
【図15】本発明の実施例で液晶素子に対して使用する
バックライトの構造を模式的に示す断面図。
バックライトの構造を模式的に示す断面図。
【図16】(a)(b)本発明の実施例でサンプル1の
素子に対して使用するバックライトのみの色度分布を示
す図。
素子に対して使用するバックライトのみの色度分布を示
す図。
【図17】(a)(b)図16に示す色度分布のバック
ライトをサンプル1の素子に対して適用した場合の色度
分布を示す図。
ライトをサンプル1の素子に対して適用した場合の色度
分布を示す図。
【図18】(a)(b)本発明の実施例でサンプル3の
素子に対して使用するバックライトのみの色度分布を示
す図。
素子に対して使用するバックライトのみの色度分布を示
す図。
【図19】(a)(b)図18に示す色度分布のバック
ライトをサンプル1の素子に対して適用した場合の色度
分布を示す図。
ライトをサンプル1の素子に対して適用した場合の色度
分布を示す図。
【図20】(a)(b)サンプル2の素子のみにおける
色度分布を示す図。
色度分布を示す図。
【図21】本発明の液晶素子におけるシール剤の配置の
一例を示す平面図。
一例を示す平面図。
【図22】本発明の液晶素子におけるシール剤の配置の
他の例を示す平面図。
他の例を示す平面図。
11a、11b 基板 12a、12b 電極 13a、13b 絶縁膜 14a、14b 配向制御膜 15 液晶 16 スペーサー 17a、17b 偏光板 18 シール剤 20 液晶注入口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 齊藤 哲郎 東京都大田区下丸子3丁目30番2号キヤノ ン株式会社内 (72)発明者 小村 明彦 東京都大田区下丸子3丁目30番2号キヤノ ン株式会社内
Claims (19)
- 【請求項1】 夫々電極を備え、所定長のギャップを隔
てて対向した一対の基板間にカイラルスメクチック相を
呈する液晶を挟持し、少なくとも1辺に前記電極に対し
て液晶駆動用の電圧を供給する駆動回路が接続される部
位を有する液晶素子であって、 前記駆動回路が接続される辺の少なくとも一辺からの距
離が大きくなるに伴って、前記ギャップが小さくなるこ
とを特徴とする液晶素子。 - 【請求項2】 前記一方の基板に形成された電極が走査
電極であり、他方の基板に形成された電極が情報電極で
あり、これらの電極がマトリクス電極構造をなし、該走
査電極に電圧を供給する駆動回路が形成された辺からの
距離が大きくなるに伴って、前記ギャップが小さくなる
ことを特徴とする請求項1記載の液晶素子。 - 【請求項3】 前記一対の基板間のギャップが、前記カ
イラルスメクチック相を呈する液晶に固有に存在する液
晶分子のらせん配列構造が解除されるのに十分な大きさ
である、請求項1又は2記載の液晶素子。 - 【請求項4】 前記一対の基板が複数のスペーサーを介
して対向しており、前記駆動回路が接続される辺の少な
くとも一辺からの距離に応じて、該スペーサーの分散密
度を変化させた請求項1記載の液晶素子。 - 【請求項5】 前記駆動回路が接続される辺の少なくと
も一辺からの距離が大きくなるに伴って、スペーサーの
分散密度を小さくした請求項1記載の液晶素子。 - 【請求項6】 前記一対の基板が複数のスペーサーを介
して対向しており、前記走査電極に電圧を供給する駆動
回路が接続される辺からの距離に応じて、該スペーサー
の分散密度を変化させた請求項2記載の液晶素子。 - 【請求項7】 前記走査電極に電圧を供給する駆動回路
が接続される辺からの距離が大きくなるに伴って、スペ
ーサーの分散密度を小さくした請求項6記載の液晶素
子。 - 【請求項8】 前記走査電極に電圧を供給する駆動回路
が、一辺のみに形成される請求項2記載の液晶素子。 - 【請求項9】 前記走査電極に電圧を供給する駆動回路
が、互いに対向する二辺に形成される請求項2記載の液
晶素子。 - 【請求項10】 前記一対の基板が、その周縁部に形成
されたシール剤により貼り合わせられており、該シール
剤が少なくとも一部において二重構造をとる請求項1又
は2記載の液晶素子。 - 【請求項11】 最大セルギャップdmax、最小セル
ギャップdminとしたとき、これが 【外1】 の関係を有する請求項1記載の液晶素子。 - 【請求項12】 最大セルギャップdmax、最小セル
ギャップdminの関係が、 【外2】 となる、請求項11記載の液晶素子。 - 【請求項13】 夫々電極を備え、スペーサーを介して
所定長のギャップを隔て対向した一対の基板間に液晶を
挟持し、少なくとも1辺に前記電極に対して液晶駆動用
の電圧を供給する駆動回路が接続される部位を有する液
晶素子であって、 前記駆動回路が接続される辺の少なくとも一辺からの距
離に応じて、前記スペーサーの分散密度を変化させたこ
とを特徴とする液晶素子。 - 【請求項14】 前記駆動回路が接続される辺の少なく
とも一辺からの距離が大きくなるに伴って、スペーサー
の分散密度を小さくした請求項13記載の液晶素子。 - 【請求項15】 前記一方の基板に形成された電極が走
査電極であり、他方の基板に形成された電極が情報電極
であり、これら電極がマトリクス電極構造をなし、該走
査電極に電圧を供給する駆動回路が形成された辺からの
距離に応じて、前記スペーサーの分散密度を変化させた
ことを特徴とする請求項13記載の液晶素子。 - 【請求項16】 前記走査電極に電圧を供給する駆動回
路が接続される辺からの距離が大きくなるに伴って、ス
ペーサーの分散密度を小さくした請求項13記載の液晶
素子。 - 【請求項17】 夫々電極を備え、スペーサーを介して
所定長のギャップを隔てて対向した一対の基板間に液晶
を挟持し、少なくとも1辺に前記電極に対して液晶駆動
用の電圧を供給する駆動回路が接続される部位を有する
液晶素子の製造方法であって、 一方の基板の周縁部に前記液晶を基板間に注入するため
の部分を除いて、少なくとも一部を二重構造としたシー
ル剤パターンを形成する工程と、 前記一対の基板のいずれか一方に、前記駆動回路が接続
される辺の少なくとも一辺からの距離に応じて分布をも
った分散密度でスペーサーを散布する工程と、 前記シール剤パターンが形成され、スペーサーが散布さ
れた一対の基板を対向させ、加熱及び加圧を施してシー
ル剤を硬化させ、該一対の基板を貼り合わせる工程と、
を具備してなる液晶素子の製造方法。 - 【請求項18】 夫々電極を備え、スペーサーを介して
所定長のギャップを隔て対向した一対の基板間に液晶を
挟持し、少なくとも1辺に前記電極に対して液晶駆動用
の電圧を供給する駆動回路が接続される部位を有する液
晶素子であって、前記駆動回路が接続される辺の少なく
とも一辺からの距離に応じて、前記基板間のギャップを
変化させた液晶素子と、 前記液晶素子の背面側に配置され、該液晶素子に対し、
前記基板間ギャップの変化に応じた色度分布を有する平
面光を照射する照明手段と、を具備してなる液晶表示装
置。 - 【請求項19】 夫々電極を備え、スペーサーを介して
所定長のギャップを隔て対向した一対の基板間に液晶を
挟持し、少なくとも1辺に前記電極に対して液晶駆動用
の電圧を供給する駆動回路が接続される部位を有する液
晶素子であって、前記駆動回路が接続される辺の少なく
とも一辺からの距離に応じて、前記スペーサーの分散密
度を変化させた液晶素子と、 前記液晶素子の背面側に配置され、該液晶素子に対し、
前記スペーサーの分散密度を変化に応じた色度分布を有
する平面光を照射する照明手段と、を具備してなる液晶
表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20610097A JPH1096897A (ja) | 1996-07-31 | 1997-07-31 | 液晶素子、その製造方法及び該液晶素子を備えた液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20205496 | 1996-07-31 | ||
| JP8-202054 | 1996-07-31 | ||
| JP20610097A JPH1096897A (ja) | 1996-07-31 | 1997-07-31 | 液晶素子、その製造方法及び該液晶素子を備えた液晶表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1096897A true JPH1096897A (ja) | 1998-04-14 |
Family
ID=26513158
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20610097A Withdrawn JPH1096897A (ja) | 1996-07-31 | 1997-07-31 | 液晶素子、その製造方法及び該液晶素子を備えた液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1096897A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1139155A3 (en) * | 2000-03-30 | 2002-08-07 | Sony Corporation | Liquid crystal display apparatus and method for manufaturing the same |
| JP2003177682A (ja) * | 2001-09-05 | 2003-06-27 | Konica Corp | ディスプレイパネルおよびその製造方法 |
| US6806940B1 (en) | 1999-01-29 | 2004-10-19 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device with particular cell gap |
-
1997
- 1997-07-31 JP JP20610097A patent/JPH1096897A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6806940B1 (en) | 1999-01-29 | 2004-10-19 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device with particular cell gap |
| EP1139155A3 (en) * | 2000-03-30 | 2002-08-07 | Sony Corporation | Liquid crystal display apparatus and method for manufaturing the same |
| JP2003177682A (ja) * | 2001-09-05 | 2003-06-27 | Konica Corp | ディスプレイパネルおよびその製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20041005 |