JPH1097791A - Dramメモリ装置 - Google Patents

Dramメモリ装置

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JPH1097791A
JPH1097791A JP9159480A JP15948097A JPH1097791A JP H1097791 A JPH1097791 A JP H1097791A JP 9159480 A JP9159480 A JP 9159480A JP 15948097 A JP15948097 A JP 15948097A JP H1097791 A JPH1097791 A JP H1097791A
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bit line
capacitor
sense amplifier
signal
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JP9159480A
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John Y Chan
ジョン・ワイ・チャン
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NURAM TECHNOL Inc
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    • G11C11/56Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency
    • G11C11/565Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency using capacitive charge storage elements
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C2211/00Indexing scheme relating to digital stores characterized by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C2211/56Indexing scheme relating to G11C11/56 and sub-groups for features not covered by these groups
    • G11C2211/563Multilevel memory reading aspects
    • G11C2211/5634Reference cells
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/06Sense amplifiers; Associated circuits, e.g. timing or triggering circuits

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数レベルの電圧を記憶することのでき
る、高速かつ小型のメモリセルアレイを提供する。 【解決手段】 各々が4個のまでの異なる電圧の値を
記憶する複数のメモリセル(MAL、MAR)と、複数
のメモリセルに接続され、選択されたメモリセルに記憶
された信号のレベルが第1の基準電圧よりも大きいかも
しくは小さいかを検出する第1のセンス増幅器(S1)
と、複数のメモリセルに接続され、選択されたメモリセ
ルに記憶された信号のレベルが、第2の基準電圧より大
きいかもしくは小さいか、また第3の基準電圧よりも大
きいかもしくは小さいかを検出する第2のセンス増幅器
(S2)であって、第2の基準電圧が第1の基準電圧と
電源電圧との間の値を有し、第3の基準電圧が第1の基
準電圧とグランド電位との間の値を有する、第2のセン
ス増幅器(S2)とを有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、メモリ装置へのデ
ータの記憶に関し、より詳しくは、複数のレベルを有す
るダイナミック半導体メモリ装置への記憶のためのデー
タのエンコーディング、デコーディング、及びリストア
を行う装置及び方法に関する。
【0002】
【従来の技術】1つのトランジスタを用いてダイナミッ
クメモリセルが構成されているので、1つのトランジス
タ及び1つのキャパシタの1ビット(記憶された)に対
する基本的な規則は変わることがなかった。1つの単位
の半導体領域内でより多くのビットを記憶するために
は、これらのメモリ装置を製造するための、より洗練さ
れたリソグラフィ装置及び方法が絶えず開発されかつ用
いられてきた。より高い密度を達成するためのもう1つ
の方法は、1つのメモリセルあたりに複数のデータビッ
トを記憶するものである。この方法は一般に複数レベル
を有するセルメモリとして知られている。ダイナミック
半導体メモリ装置に複数レベルの記憶を行う従来の特許
には、米国特許第5,293,563号の(Ohtaに
よる)「MULTI-LEVEL MEMORY CELL WITH INCREASED REA
D-OUT MARGIN」がある。この米国特許では、2ビットの
デジタルデータを記憶するために、2個のトランジスタ
と1個のキャパシタとを有する1つのメモリセルを用い
た、ダイナミック半導体メモリ装置が開示されている。
この結果、1つのメモリ装置は、1ビットの記憶を行う
ために2個の素子ではなく1.5個の素子を用いること
になる。この米国特許では、1つのメモリセルに供給さ
れる相異なる極性を有する信号の記憶が達成されてい
る。このセルの1つの大きな欠点は、そのレイアウトの
複雑さである。これによって予想以上にセルの寸法が大
きなものとなる。
【0003】米国特許第5.283,761号(Dillin
ghamによる)「METHOD OF MULTI-LEVEL STORAGE IN DRA
M」には、4つの電圧レベルを記憶することのできるD
REMメモリセルが開示されている。このようにするた
めに、この米国特許の発明では、ビットラインを分割
し、(1信号サイクルの間に2度アクティブ状態とされ
るいくつかのプレチャージ及びアイソレーションクロッ
クを含む)クロックのタイミングの発生を複雑かつ困難
にするおよそ6個プレチャージ及び等化クロックと、1
つのダミーワードラインとを用いている。ビットライン
の区分もまた1つの信号サイクルの間に2回充電され、
等化にされかつ放電されなければならず、この結果、低
速のメモリ装置となり、高密度のDRAMでの高速のダ
イナミックな動作には適さないものとなる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、複数レベル
の電圧を記憶することのできる、高速かつ小型のメモリ
セルアレイを提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、メモリ
セルの各々に4個までの異なる信号の値を記憶させるD
RAMメモリ装置であって、各々が4個のまでの異なる
電圧の値を記憶する複数のメモリセルと、前記複数のメ
モリセルに接続され、選択された前記メモリセルに記憶
された前記の信号のレベルが第1の基準電圧よりも大き
いかもしくは小さいかを検出する第1のセンス増幅器
と、前記複数のメモリセルに接続され、前記選択された
メモリセルに記憶された前記信号レベルが、第2の基準
電圧より大きいかもしくは小さいか、また第3の基準電
圧よりも大きいかもしくは小さいかを検出する第2のセ
ンス増幅器であって、前記第2の基準電圧が前記第1の
基準電圧と電源電圧との間の値を有し、前記第3の基準
電圧が前記第1の基準電圧とグランド電位との間の値を
有する、前記第2のセンス増幅器とを有することを特徴
とするDRAMメモリ装置が提供される。
【0006】本発明に基づけば、各DRAMメモリセル
に2ビットのデータが記憶できる、書き込み、読み出
し、センス、及びリストア若しくはリフレッシュ動作を
行うことのできるDRAMメモリ構成が提供される。こ
の書き込み動作には、2ビットの入力データを取りだ
し、これらのビットをエンコードし、かつこれらのエン
コードされたビットを1つのメモリセル内に記憶する動
作が含まれている。読み出し、及びリストア若しくはリ
フレッシュ動作は、メモリセルに記憶された電圧を、外
部に出力されるべき2ビットのデータにデコーディング
し、次にこのメモリセルをもともと記憶されていた電圧
レベルにリストアする。これらの動作のDRAMメモリ
構成が提供される。この書き込み動作には、2ビットの
入力データを取りだし、これらのビットをエンコード
し、かつこれらのエンコードされたビットを1つのメモ
リセル内に記憶する動作が含まれている。読み出し、及
びリストア若しくはリフレッシュ動作は、メモリセルに
記憶された電圧を、外部に出力されるべき2ビットのデ
ータにデコーディングし、次にこのメモリセルをもとも
と記憶されていた電圧レベルにリストアすることによっ
て、リストアする。これらの動作の全てが従来技術に比
べて最も少ない数のトランジスタを用いて行われ、かつ
2倍のビット密度を除き、通常のDRAMの速度と同様
の速度で行われる。
【0007】本発明のある実施例では従来のDRAMビ
ットラインとメモリセル構造が、以下の更に付加された
構成要素と共に用いられる。 (a)1ビットライン毎の特別なセンス増幅器、(b)
1ビットライン毎のフィードバック要素、(c)基準ビ
ットラインを2つの部分に分割するトランジスタスイッ
チ、及び(d)4つの起こり得る適切な電圧レベルのう
ちの正しい1つの電圧レベルが記憶セルに格納されるよ
うに基準ビットラインの一方の部分をそのビットライン
に選択的に接続するための、排他的論理ORゲートと関
連する回路(1ビットライン毎の)を有する。
【0008】本発明の主要な特徴は、1つのセルでの2
ビットの記憶が、現在のDRAM製造技術を用いて達成
される小型のレイアウトによって達成されるということ
である。
【0009】本発明は、添付の図面を参照しながら行わ
れる以下の詳しい説明から充分に理解される。
【0010】
【発明の実施の形態】1つのメモリセルに2ビットの記
憶を行うことは、そのメモリセルに記憶されるべき4つ
の異なる値を必要とする。以下の説明の便宜をはかるた
めに、これらの4つの値は以下の表によって定義される
ような値とする。
【0011】
【表1】
【0012】図2は、本発明の第1の実施例のDRAM
メモリ構造の一部を表している。ビットラインBLと基
準ビットライン/BL(本明細書では、記号「/」は、
信号または信号ライン表す文字の左に付されて用いら
れ、この記号の付された文字の表す信号の反転信号もし
くは反転信号の信号ラインを表すものとする)とからな
る折り曲げられたビットラインが例示されている。ビッ
トラインBLは、トランジスタスイッチN14の左側の
左ビットラインBLLと、トランジスタN14の右側の
右ビットラインBLRとを含む。電圧VCC+(ここで
VCC+は、VCCよりもわずかに高い電圧を表す)
が、入力VMT0を介してトランジスタN14のゲート
に供給されたとき、トランジスタN14が「オン」状態
となり、左ビットラインBLLが導通したトランジスタ
N14のチャネルによって右ビットラインBLRに接続
される。電圧GNDが入力VMT0を介してトランジス
タN14のゲートに供給されたとき、トランジスタN1
4は「オフ」状態となり、左ビットラインBLLは右ビ
ットラインBLRから電気的に切り離される。
【0013】同様に、基準ビットライン/BLは、トラ
ンジスタスイッチN14によって、電圧GNDが入力V
MT1を介してトランジスタN15のゲートに供給する
とき左基準ビットライン/BLLが右基準ビットライン
/BLRから電気的に切り離され、VCC+がトランジ
スタN15のゲートに供給されたときに左基準ビットラ
イン/BLLがトランジスタN15の導通したチャネル
によって右基準ビットライン/BLRに接続されるよう
に、トランジスタスイッチN15によって分割されてい
る。その他の折り曲げられたビットライン(図示されて
はいないが例示されたビットラインの上及び下に設けら
れている)は、VMT0及びVMT1によって制御され
たトランジスタN14とN15と同様のトランジスタス
イッチによって分割されている。
【0014】VMT0及びVMT1入力ラインの左側に
配置されたメモリセルのアレイは、左メモリアレイMA
Lと呼ばれる。同様に、VMT0及びVMT1入力ライ
ンの右側に配置されたメモリセルのアレイは、右メモリ
アレイMARと呼ばれる。左ビットラインBLLは、ア
クセストランジスタによって左メモリアレイMAL内の
メモリセルに接続され、このうちの2つのアクセストラ
ンジスタN10及びN11が図示されており、左基準ビ
ットライン/BLLは、アクセストランジスタによって
左メモリアレイMALのメモリセルに接続され、そのう
ちの2つのアクセストランジスタN12及びN13が図
示されている。同様に、右ビットラインBLRはアクセ
ストランジスタによって右メモリアレイMAR内のメモ
リセルに接続され、そのうちの2つのアクセストランジ
スタN16及びN17が図示されており、右基準ビット
ライン/BLRはアクセストランジスタによって右メモ
リアレイMAR内のメモリセルに接続され、そのうちの
2つのアクセストランジスタN16及びN19が図示さ
れている。
【0015】ワードラインWL1、WL2、WLi、及
びWLi+1(ここでiは整数)は、各々、左メモリア
レイMAL内のアクセストランジスタN10、N13、
N11、及びN12を制御する。図面を明瞭にするため
に、ワードラインWL2とWLiとの間の複数のワード
ラインと、対応するメモリセルとは、省略されている。
同様に、右メモリアレイMAR内のワードラインWLi
+3とWLnとの間の複数のワードラインと、対応する
メモリセルとは、省略されている。省略されたワードラ
インを含めた左メモリアレイ内のワードラインの個数は
i+1であり、省略されたワードラインを含めた右メモ
リアレイ内のワードラインの個数はn−1である。ワー
ドラインの個数i+1で表された左メモリアレイの幅
は、ある実施例では、ワードラインの個数n−iで表さ
れた右メモリアレイの幅とほぼ等しい。したがってこの
実施例では、左ビットラインBLLのキャパシタンスC
BLL、右ビットラインBLRのキャパシタンスCBL
R、左基準ビットライン/BLLのキャパシタンスC/
BLL、及び右基準ビットライン/BLRのキャパシタ
ンスC/BLRは、概ね等しくなっている。
【0016】2つのセンス増幅器、センス増幅器1とセ
ンス増幅器2とが、図2に例示されている。VCT1入
力ラインの電圧によって制御されたトランジスタN5及
びN6は、各々、ビットラインBLと基準ビットライン
/BLとを、バスS1とバスS2とに接続し、センス増
幅器1に接続する。同様に、トランジスタN26とN2
7は、入力ラインVCT2に供給された電圧によって制
御されており、各々、ビットラインBLとビットライン
/BLとを、バスS3とバスS4とに接続し、センス増
幅器2に接続する。
【0017】左メモリアレイMAL内の4個のメモリセ
ルが図2に例示されており、左上の部分の第1メモリセ
ルは、NチャネルアクセストランジスタN10と記憶キ
ャパシタCS1よりなり、以下時計方向に、第2のメモ
リセルはNチャネルアクセストランジスタN11とキャ
パシタCSとからなり、第3のメモリセルは、Nチャネ
ルアクセストランジスタN12とキャパシタCS3とか
らなり、第4のメモリセルが、Nアクセストランジスタ
N13とキャパシタCS4とからなる。
【0018】右メモリアレイMAR内の4個のメモリセ
ルも図2に例示されており、各々のメモリセルは、アク
セストランジスタと記憶キャパシタとから構成されてお
り、左上の部分の第1のメモリセルはNチャネルトラン
ジスタN16と記憶キャパシタCS5とからなり、右上
の部分の第2のメモリセルはNチャネルアクセストラン
ジスタN17と記憶キャパシタCS6とからなり、右下
の部分の第3のメモリセルはNチャネルアクセストラン
ジスタN18と記憶キャパシタCS7とからなり、左下
の部分の第4のメモリセルはNチャネルアクセストラン
ジスタN19と記憶キャパシタCS8とからなる。
【0019】図2には、8個のメモリセルと、ビットラ
インBLと基準ビットライン/BLとからなる1つの折
り曲げられたビットラインのみが例示されているが、本
発明に基づく実際の集積回路のDRAMメモリは、図2
に例示されたものと等しい複数のメモリセルと複数の折
り曲げられたビットラインとを有する。すなわち、図2
は本発明に基づく実際のDRAM集積回路メモリの回路
構成のごく一部を例示したものである。
【0020】本発明の動作を例示するために、4つの定
義された電圧V11、V10、V01またはV00(各
々、2進「11」、2進「10」、2進「01」、及び
2進「00」を表す)のうちの1つが、キャパシタCS
1に記憶されていると仮定する。キャパシタCS1に記
憶された電圧を読み出すために、すなわち、通常のリフ
レッシュ動作の間にこの電圧をリストアするために(D
RAMメモリは適切な状態にメモリを保持するために定
期的にリフレッシュされなければならない)、もしくは
キャパシタCS1に保持された情報を利用することがで
きるように外部の回路に対してCS1に記憶された信号
を供給するために、以下の動作が行われる。
【0021】第1番目に、図2及び図3に例示されてい
るように、ビットラインBL及び基準ビットライン/B
Lが、選択された電圧、例えば0.5VCCにプレチャ
ージされる。このプレチャージ期間の間に、電圧VCC
+が、リード線VCT1を通してトランジスタN5及び
N6に、リード線VMT0を通してトランジスタN14
に、リード線VMT1を通してトランジスタN15に、
及びリード線VCT2を通してトランジスタN26及び
N27に、各々供給され、これらのトランジスタの全て
が「オン」状態となる。電圧VCCが、リード線EQU
に供給され、等化トランジスタN8を「オン」状態と
し、さらにパストランジスタN7及びN9を「オン」状
態として、ビットラインBLと基準ビットライン/BL
とを、HVCC入力リード線に供給された電圧0.5V
CCと等しくする(HVCCはVCCの半分の値を意味
する)。プレチャージ期間の最後に、すなわち、時刻T
1で、EQUに供給された電圧は低状態すなわちGND
となり、これによって、等化トランジスタN8と、パス
トランジスタN7及びN9とが「オフ」状態となり、ビ
ットラインBLと基準ビットライン/BLと、バスS1
及びS2、S3、及びS4とが、0.5VCCに留ま
る。
【0022】次に読み出し期間のはじめで、すなわち時
刻T2で、ワードラインWL1の電圧がVCC+までに
上昇される。これにより、Nチャネルアクセストランジ
スタN10が「オン」状態となり、キャパシタCS1の
電荷が、ビットラインBL、バスS1、及びバスS3
(これらの全てが0.5VCCにプレチャージされてい
る)と、メモリキャパシタCS1との間で、再分配され
る。
【0023】図4は、例えば2進「11」を表すキャパ
シタCS1に記憶された電圧(ここで第1のビットが
「1」であり、第2のビットが「1」である)電圧V1
1、の読み出し及びリストアの間の入力電圧及び内部の
電圧を表すタイミング図である。図4は、時刻T2で
「ΔV11」だけ増加するビットラインBLの電圧を表
している。この電圧はまた、バスS3(図示されてい
る)とバスS1(図示されていない)にでも増加し、以
下の式によって表現される。 ΔV11=+[(V11−VPL)×CS/(CB+CS)] (式1) ここでVPLは、読み出しが行われているキャパシタ
(例えばCS1)の電極側の電位を表し、CSは、メモ
リキャパシタCS1の(適切な単位での)静電容量を表
しており、CBは、電荷の再分配に含まれているキャパ
シタンス、より詳しくはビットラインとセンス増幅器の
バスS1及びS3とに含まれているキャパシタンスを表
している。
【0024】例えば、V11を表に例示されかつ図4に
例示されたようにVCCと等しくし、VPLを0.5V
CCと等しくすると以下の式のようになる、 ΔV11=+[1/2VCC×CS/(CB+CS)] (式2) ΔV11の大きさは、例えば、CBがCSの10倍のと
き、1/22VCCである。例えば、ΔV11は150
mVである。
【0025】時刻T3において、リード線VCT2の電
圧はVCC+からGNDへ下がり、従って、パストラン
ジスタN26及びN27が「オフ」状態となり、センス
増幅器2をビットラインBLと基準ビットライン/BL
とから切り離し、従って、後に使用するために、バスS
3の電位を(1/2VCC+ΔV11)に保ち、バスS
4の電圧を1/2VCCに保つ。
【0026】時刻T4で、リード線VST1の電圧がV
CCとなりリード線/VSN1の電圧がグランドとなっ
たときに「オン」状態となるセンス増幅器1は、バスS
1とS2との間の電位差、即ちΔV11を検出する。ト
ランジスタT1とN4が、「オン」状態となり、トラン
ジスタB2とN3が「オフ」状態に留まり、バスS1の
電圧が、入力リード線VST1に接続されたトランジス
タP1を通してVCCに上昇し、一方バスS2の電圧
は、リード線/VSN1に接続されたトランジスタN4
を通してGNDに低下する。リード線VCD1の電圧が
依然としてVCC+の高い状態なので、トランジスタN
5とN6とは、「オン」状態であり、従ってビットライ
ンBLがVCCの高い状態であり、基準ビットライン/
BLがセンス増幅器1によってGNDの低い状態に駆動
されている。
【0027】パストランジスタN1とN2は、DSL1
の電圧が高い状態となったとき(図3には例示されてい
ない)「オン」状態となる。このとき、バスS2の高い
電圧と、バスS2の低い電圧が、各々、データラインD
0と/D0に伝達される。これらの2つのデータライン
は、システムからの4つのデータラインのうちの2つで
あり、キャパシタCS1に記憶された2つのビットのう
ちの1つのビット(この場合2進「1」)を外部の回路
に供給する。
【0028】キャパシタCS1に記憶された情報の2番
目のビットはセンス増幅器2によって供給される。時刻
T5で、センス増幅器2のS3とS4間の電位差が、Δ
V11から(ΔV11−ΔVFB)に変化する。ΔVF
Bは、入力リード線VFBとトランジスタN24を通っ
てキャパシタC9に供給された電圧VCCによって引き
起こされたバスS4の電圧の増加分である。これによっ
て、S4の電圧はΔVFBだけ増加する。電圧ΔVFB
の大きさは、キャパシタCSと直列に接続されたその他
のキャパシタンスに対するキャパシタCQの寸法を設定
することによって設計時点で決定される。ΔV11が1
50mVである(ΔV11は時刻T3の後の及びT5で
のバスS3の電圧である)例においては、ΔVFBは、
センス増幅器2のノードCとノードDとの間の信号(Δ
V11−ΔVFB)が+50mVとなるように、100
mVであってよい。即ち、リード線/VSN2の電圧が
GNDに低下し、リード線VSD2の電圧がVCCに増
加したとき、時刻T6でそのすぐ後にVFBの電圧が高
くなるので、センス増幅器2は、トランジスタP3とN
29の「オン」状態となりかつトランジスタP4とN2
8が「オフ」状態に留まることにより、センス増幅器2
が動作状態となる。即ち、バスS3の電圧は、リード線
VST2の電圧VCCまで増加し、バスS4の電圧が、
リード線/VSN2のGND電圧まで低下する。
【0029】パストランジスタN32とN33は、DS
L2が高い状態(図4には例示されていない)となった
ときに、「オン」状態となる。即ち、バスS3の高い電
圧(VCC)と、バスS4の低い電圧(GND)が、各
々、パストランジスタN32とパストランジスタN33
とを通って、データラインD1とデータライン/D1と
に供給される。即ち、データの2つのビットが、1つの
キャパシタからの電圧V11の形式で読み出され、デー
タラインD0の出力2進数「1」(第1のビット)と、
データラインD1の出力2進数「1」(第2のビット)
とを与える。
【0030】図3及び図4に例示されているように、リ
ストア期間は、リード線VCT1の電圧がGNDに低下
し、従って、パストランジスタN5とN6が「オフ」状
態となり、これによってセンス増幅器1が、電圧VCC
のビットラインBLと電圧GNDの基準ビットライン/
BLとから切り離された時刻T7から始まる。セルCS
1の電圧は時刻T4から電圧VCCとなっていることに
注意しなければならない。VMT0とVMT1の電圧
は、VCT1が低い状態となった直後まで高い状態にと
どまり、次にVMT1が低い状態となるので、左基準ビ
ットライン/BLlが右基準ビットライン/BLrから
切り離される。
【0031】図2のトランジスタN22とN23は、ノ
ードX4に、キャパシタCS1から直前に呼び出された
2つの二進数の値の排他的論理ORの結果を供給する。
これらの2つの二進の値は、両方とも「1」であり、従
って排他的論理ORの出力信号は二進「0」となる。こ
の場合では、ノードX4の排他的論理ORの出力信号は
二進「0」であり、バスS4の低い電圧が、そのゲート
の電圧VCCによって「オン」状態となったトランジス
タN22を通して、ノードX4に伝達される。ノードX
4の低い電圧によって、トランジスタN21が「オフ」
状態となり、時刻T9に於てリード線VRSTの電圧が
高くなったときに、このリード線VRSTの電圧は、ト
ランジスタN21によってブロック(block)され、ト
ランジスタN20は「オフ」状態にとどまり、ビットラ
インBLは電圧VCCにとどまる。即ち、キャパシタC
S1のアクセス側の電圧は時刻T11まで電圧VCCに
とどまり、この時刻T11は図4によって提示されてい
るようにリストア期間の終わりの時刻である。時刻T1
0に於てリード線Wl1の電圧が低くなり、アクセスト
ランジスタN10を「オフ」状態とし、キャパシタCS
1の電圧をV11に保つ。即ち、電圧V11はこの例で
は値「1」を表す第1のビットと値「1」の第のビット
とを表すVCCに等しい電圧V11が、キャパシタCS
1にリストアされる。
【0032】リード線VMT0の電圧は、メモリセルC
S4(またはその状態が/BLへ読み出される任意のメ
モリセル)がリストアされる場合、時刻T8に於て低い
状態となり、一方VMT1が、メモリセルCS1(また
はその値がBLへ読み出される任意のメモリセル)がリ
ストアされる場合、時刻T8で低い状態となることが注
目される。低い状態となったVMT0はパストランジス
タN14を「オフ」状態とし、一方低い状態となったV
MT1はパストランジスタN15を「オフ」状態とす
る。
【0033】図5は、値「1」を有する第1のビット
と、値「0」を有する第2のビットとを表す電圧V10
の読み出し及びリストアのための電圧入力と選択された
内部の電圧の変化を表すタイミング図である。記憶され
た電圧V10は以下の式によって表される。 V10=VCC×[(CBLL+CBLR)/(C/BLR+CBLL+CBL R)] (式3) この式の導かれる理由は、以下に説明されるようにV1
0がリストアされたときに明らかとなる。ビットライン
のキャパシタンスCBLL、CBLR、及びC/BLR
がおおむね等しい場合、V10は約2/3VCCであ
る。キャパシタCS1のアクセストランジスタ側の電圧
が2/3VCCであり、キャパシタCS1の反対側の電
極の電圧VOLが1/2VCCであるとき、キャパシタ
CS1の両端の電圧は、1/6VCCとなる。時刻T2
に於ける電荷を原因とするバスS1、ビットラインB
L、及びバスS3の電圧の増加は、以下の式によって与
えられる。 ΔV10=+[(V10−VPL)×CS/(CB+CS)] (式4) この例では、V10が2/3VCCであり、VPLが1
/2VCCであるので、以下の式となる。 ΔV10=+[1/6VCC×CS/(CB+CS)] (式5) 即ち、この例では、ΔV10はΔV11の1/3であ
る。ΔV10の通常の値は50mVである。時刻T3
で、センス増幅器1のバスS1とバスS2との間に、セ
ンス増幅器2のバスS3とバスS4との間に、電圧差Δ
V10が存在する。即ち、センス増幅器1が、各々、高
い状態及び低い状態となったリード線Vst1及びリー
ド線/Vsn1の電圧によって、時刻T4にで動作状態
とされたとき、ビットラインBLはVCCへの高い状態
となり、ビットライン/BLはGNDへの低い状態とな
る。リード線DSL1が高い状態となったとき(図4に
は例示されていない)、V10を表す第1の記憶された
ビットが、2進「1」としてデータラインD0に現れ、
記憶された第1のビットの反転された値が基準データラ
イン/D0に2進「0」として現れる。
【0034】時刻T5で、バスS3とバスS4との間の
電位差が、ネガティブフィードバックを用いることによ
って、ΔV10から(ΔV10−ΔVFB)へ変化す
る。この例では、ΔV10は50mVであり、ΔVFB
は100mVなので、(ΔV10−ΔVFB)は−50
mVとなる。即ち、センス増幅器2が時刻T6で高い状
態(VCC)と低い状態(GND)とに各々がなるリー
ド線VSP2とリード線/VSN2の電圧によって動作
状態とされるとき、バスS3がGNDとなり(トランジ
スタN28が「オン」状態となる)、バスS4がVCC
の高い状態となる(トランジスタP4「オフ」状態とな
る)。DSL2が高い状態(図5には例示されていな
い)となったとき、S3でのGND電位が、データライ
ンD1に伝達される。即ち、第2の記憶されたビットの
値が、データラインD1へ読み出され、この値は2進
「0」である。第1のビット及び第2のビットの値は1
つのキャパシタから読み出され、それらの値は、各々
「1」と「0」であり、第1のビトの値「1」はデータ
ラインD0へ出力され、第2のビットの値「0」はデー
タラインD1へ出力される。
【0035】図5には、VCT1の電圧が低くなり、ビ
ットラインBLと基準ビットライン/BLがセンス増幅
器1から切り離されたときの時刻T7から始まる、リス
トア期間が表されている。時刻T8で、VMT1は低い
状態となり、トランジスタN15は「オフ」と状態とな
り、左基準ビットライン/BLlを右基準ビットライン
/BLRから切り離す。排他的論理ORゲートはトラン
ジスタN22とN23とから構成されており、ノードX
4でのその出力電圧は、第1のビットと第2のビットの
排他的論理ORの値を表す電圧となっている。第1のビ
ットの値が「1」であり、第2のビットの値が「0」で
あるこの場合では、ノードX4での出力信号は2進
「1」、即ち高い電圧である。このノードX4での高い
電圧がトランジスタN21を「オン」状態とし、時刻T
9でリード線VRSTの電圧が高い状態となったとき、
ノードX1の電圧は高い状態となり(図5)、トランジ
スタN20を「オン」状態となる。即ち、電圧VCCで
ある左ビットラインBLLと電圧VCCである右ビット
ラインBLRが、トランジスタN20を通して、電圧G
NDである右基準ビットライン/BLRに電気的に接続
される。その結果電圧は以下の式で表される値となる。 V10=VCC×[(CBLL+CBLR)/(C/BLR+CBLL+CBL R)] (式6) ワードラインW1が高い状態なので、この電圧V10は
CS1のアクセス側に現れる。上述されたように、この
電圧V10は通常約2/3VCC(キャパシタンスCB
LL、CBLR及びC/BLRが全てほぼ等しいとき)
である。時刻T10で、ワードラインW1は低い状態と
なり、トランジスタN10を「オフ」状態とし、キャパ
シタS1にリストアされる約2/3VCCの値に等しい
電圧V10を有するキャパシタS1を切り離す。
【0036】図6は、値「0」の第1のビットと、値
「1」の第2のビットとを表す電圧V01(弱い
「0」)を読み出す及びリストアする間の第2の回路構
成に対する特定のリード線の電圧と選択された内部の電
圧の変化を表すタイミング図である。例えばキャパシタ
CS1に記憶された電圧V01は以下の式で表される。 V01=VCC×[(C/BLR)/(C/BLR+CBLL+CBLR)] (式7) ビットラインのキャパシタンスCBLL、CBLR、C
/BLRがおおむね等しい場合、V01は約1/3VC
Cとなる。時刻T2で電荷が分配された後に、即ち、リ
ード線Vl1へ高い電圧が印加されてアクセストランジ
スタN10が「オン」となった後に、バスS1、ビット
ラインBL、及びバスS3の電圧の変化は以下の式によ
って与えられる。 ΔV01=+[(V01−VPL)×CS/(CB+CS)] (式8) この例では、B01は1/2VCCであり、VPLは1
/2VCCなので以下の式となる。 ΔV01=−[1/6VCC×CS/(CB+CS)] (式9) この例では、ΔV01は−50mVである。即ち、時刻
T3で、バスS1の電圧は、バスS2の電圧よりも50
mVだけ低く、バスS3の電圧は、バスS4の電圧より
も50mVだけ低い。即ち、時刻T4でセンス増幅器1
が、高い状態(VCC)と低い状態(GND)とに各々
なるリード線VSP1とリード線/VSN1との電圧に
よって、動作状態にされ、 トランジスタN3によって
リード線/VSN1に接続されているビットラインVL
の電圧がVNDで低下し、トランジスタPNによってリ
ード線VSP1に接続されているビットラインBLの電
圧がVCCへ増加する。図2のリード線BSL1の電圧
が高い状態となったとき、(図6には表されていない)
トランジスタN1とN2は、「オン」状態となり、キャ
パシタCS1に記憶された第1のビットの値は、2進
「0」としてデータラインD0に現れ、第1の記憶され
たビットの値の反転された値が、2進「1」としてデー
タライン/D0に現れる。時刻T5で、バスS3とバス
S4との電圧の差のネガティブフィードバックを用い
て、ΔV0(負の値)から(ΔV01+ΔVSB)へ変
化する。
【0037】時刻T5で、リード線VSDの信号が高い
状態となる。バス/DLの信号が高い状態(VCC)な
ので、N型トランジスタN25が「オン」状態となる。
VSDの高い電圧が、トランジスタN25を通してC1
0へ伝達され、バスS3がセンス増幅器2のノードCに
接続される。バスS3の電圧の変化はΔVFBである。
この例では、ΔVFBは、(ΔV01+ΔVSD)が正
の50mVとなるように100mVにされている。即
ち、センス増幅器が、時刻T6で、各々高い状態(VC
C)と低い状態(GND)とになるバスVSP2とバス
/VSN2の電圧によって動作状態とされたとき、バス
S3の電圧(バスS3はトランジスタP3によってバス
VPS2に接続されている)がVCCへ増加し、トラン
ジスタN29によってバス/VSN2に接続されたバス
S4の電圧がGNDへ減少する。DSL2が高い状態と
なったとき、トランジスタN32及びN33は、「オ
ン」状態となり、CS1に記憶された第2のビットはデ
ータラインD1上で2進「1」として現れる。キャパシ
タCS1に記憶された第2のビットの反転された値が、
データライン/D1に2進「0」として現れる。即ち、
電圧V01に対応する弱い「0」、メモリから読み出さ
れる。
【0038】リストア期間の間、VCT1の電圧は時刻
T7で低い状態となりビットラインBLと基準ビットラ
イン/BLとをセンス増幅器1から切り離し、VMT1
の電圧が時刻T8で低い状態となり、ビットライン/B
Lを分割して/BLRを切り離す。弱い「0」の場合、
トランジスタN22とN23とから構成された排他的論
理ORは、 基準バス/BLの高い電圧によって「オ
ン」とされたトランジスタN23を通してバスS3の高
い電圧をノードX4へ伝達する。ノードX4の高い電圧
が、トランジスタN21を「オン」とし、時刻T9でリ
ード線VRSTの電圧が高い状態となったとき、ノード
X1の電圧が高い状態となり(図6)、トランジスタN
20を「オン」状態とする。即ち、その電位がGNDで
ある左ビットラインBLLと、その電位がGNDである
右ビットラインBLRとが、その電位がVCCである右
基準ビットライン/BLRに電気的に接続される。その
結果、これらのビットラインの3つの全ての電圧は以下
の式で表されるようになる。 V01=VCC×[(C/BLR)/(C/BLR+CBLL+CBLR)] (式10) ワードラインWL1の電圧が高い状態なので、この電圧
の値はキャパシタCS1のアクセス側に現れる。時刻T
10で、ワードラインWL1は低い状態となり、トラン
ジスタN10を「オン」状態とし、電圧V01を記憶し
ているキャパシタCS1を切り離す。即ち、元々の電圧
V01がキャパシタCS1に記憶されている。上述され
たように、電圧V01は通常約1/3VCCであり、こ
れはキャパシタンスCBLL、CBLR、C/BLRが
おおむね等しい値の時である。
【0039】図7は、値「0」を有する第1のビット
と、値「0」を有する第2のビットとを表す電圧V0
0、即ち強い「0」の読み出し及びリストアの間の第2
図の回路構成に対する特定のリード線の電圧と選択され
た内部の電圧の変化を表すタイミング図である。この例
では、電圧V00は、0VまたはGNDに設定されてい
る。リード線WL1の高い電圧を原因とする時刻T2に
於ける電荷の分配の後に、ΔV00(バスS1の電圧の
変化を表す)と、ビットラインBLとバスS3の電圧は
以下の式によって表される。 ΔV00=+[(V00−VPL)×CS/(CB+CS)] (式11) この例では、V00は0Vに設定され、VPLは1/2
VCCに設定されているので、以下のようになる。 ΔV00=−[1/2VCC×CS/(CB+CS)] (式12) 通常ΔV00は−150mVとなっている。即ち、リー
ド線VCT2の電圧が低い値となり、バスS3とS4と
がビットラインBLと/BLとから切り離される時刻T
3で、バスS1の電圧は、バスS2の電圧よりも150
mVだけ低い値となり、バスS3の電圧は、バスS4の
電圧よりも150mVだけ低い値となる。即ち、センス
増幅器1が時刻T4で各々高い状態(VCC)と低い状
態(GND)になるリード線VSP1とリード線/VS
N1との電圧によって動作状態とされたとき、ビットラ
インBLの電圧はGNDへ減少し、ビットライン/BL
の電圧はVCCへ増加する。図2のリード線VSN1の
電圧が高い状態となったとき(図7には例示されていな
い)、トランジスタN1とN2は「オン」状態となり、
キャパシタCS1に記憶された第1のビットの値はデー
タラインD0に2進数「0」として現れ、第1のビット
の値の反転された値はデータライン/D0に2進数
「1」として現れる。
【0040】時刻T5で、センス増幅器バスS3とバス
S4との間の電位差が、センス増幅器1の出力バスS2
からのネガティブフィードバックによってΔV00から
(ΔV00+ΔVFB)へ変化する。この例では、ΔV
FBは、(ΔV00+ΔVFB)=−50mVとなるよ
うに、100mVとされている。バスS3の電圧は、バ
スS4の電圧よりも50mVだけ低い値となり、センス
増幅器2が各々高い状態と低い状態になるリード線VS
P2とリード線/VSN2の電圧とによって動作状態と
されたとき、バスS3の電圧は、GNDとなり、バスS
4の電圧はVCCとなる。リード線DSL2の電圧が高
い状態となったとき、トランジスタN32とN33が、
「オン」状態となり、キャパシタCS1からの第2のビ
ットの値がデータラインD1に2進数「0」として現れ
る。第2のデータビットの値の反転された値が、データ
ライン/D1に2進数「1」として現れる。時刻T7か
ら始まるリストア期間の間、リード線VCT1の電圧が
低い値となったとき、トランジスタN22とN23とか
ら構成された排他的論理ORのノードX4の出力電圧
は、低い状態にとどまり、BLRが/BLRとは短絡状
態とならず、BLの電圧は、従ってCS1の電圧は、G
ND若しくは0にとどまり、元々の電圧及びデータがキ
ャパシタCS1にリストアされる。
【0041】図2では、パストランジスタN1及びN2
と、N5及びN6と、N14及びN15と、N26及び
N27と、N32及びN33とは、Nチャネルのパスト
ランジスタとして例示されているが、所望に応じてこれ
らのパストランジスタは、並列に接続されたNチャネル
トランジスタとPチャネルトランジスタからなるパスゲ
ートに置き換えられても良い。同様に、パストランジス
タN20及びN23は、そのようなパスゲートに置き換
えられても良い。しかしながら、Nチャネルパストラン
ジスタを置き換えることによって、回路内のトランジス
タの個数がわずかに増加し、これにより回路の面積が増
加する。パスゲートを用いることの利点は電圧VCC+
(図3を参照のこと)を必要としないことであり、従っ
てこの回路で用いられる様々な電源と基準電圧を提供す
るための回路を簡単化できるということである。
【0042】他の実施例が図8に例示されている。図8
では、メモリアレイMAL及びMARは、図2に例示さ
れたものと等しく、センス増幅器も図2に例示されたも
のと等しい。しかしながら、図8に例示されたネガティ
ブフィードバック要素は図2に例示されたネガティブフ
ィードバックと異なり、リード線VCC2の電圧が低い
状態となった後にセンス増幅器2のノードEとノードF
とをチャージポンプ(charge pump)するためにキャパ
シタC9及びC10を用いるものである。
【0043】低い状態となるリード線VCC2の電圧に
よって、センス増幅器2のバスS3及びS4が切り離さ
れる。次に、リード線VSP1とリード線/VSN1の
信号が各々高い状態と低い状態となった後に、センス増
幅器1が出力リード線D0へ2進「1」を出力するように
ビットラインBLと基準ビットライン/BLとの電圧
が、各々、高い状態と低い状態とになる。一方、センス
増幅器1が出力データラインD0に低いレベルの信号を
出力しかつ出力データライン/D0に高いレベルの信号
を出力したとき、BLと/BLの電圧は、各々、低い状
態と高い状態となる。例えば、右ビットラインBLRを
高い状態とするにことより、 BL1が高い状態となっ
た後(電荷が、CS1等のキャパシタから流れだし、ビ
ットラインBLL及びBLRとに、更にセンス増幅器の
バスS1とS3とに流れ込むとき)に、ビットラインB
LRの電圧の変化量だけキャパシタC9がノードEの電
圧を変化させる。
【0044】ビットラインBLRの電圧が、センス増幅
器1が、高い状態となるVst1と、低い状態となる/
Vsn1とによって、「オン」状態となったとき、より
高い電圧レベルVccまで上昇する。即ち、ノードE1
の電圧は、この電圧の上昇によってより高いレベルに持
ち上げられる。代わりにノードEは、ビットラインBl
rの電圧の変化が反対になる場合には、より低いレベル
とされる。いずれにせよ図8の実施例の構造は、図2の
実施例に例示されたものと同様に作用する。図2の回路
構成に含まれるメモリセル内へ情報を書き込むために、
メモリ内へ書き込まれるべき信号が、データラインD
0、/D0、及びD1、/D1に供給される。
【0045】これらの信号は、リードVCC2の信号が
低いレベルとなりこれによってセンス増幅器2が図2の
回路構成の残りの部分から切り離される時刻T3(図
3)の後に、センス増幅器1及びセンス増幅器2に書き
込まれる。時刻T3の後に、リード線DSL1の電圧及
びリード線DSL2の電圧は、高いレベルに上昇し、こ
れによってパストランジスタN1とN2が「オン」状態
となりパストランジスタN32とN33もまた「オン」
状態となる。従ってデータラインD0と、/D0の信号
は、センス増幅器1へ供給され、データラインD1と、
/D1の信号はセンス増幅器2へ供給される。
【0046】次に、この回路は、上述されたようにリス
トアを行うために動作し、メモリセルのアレイのセルへ
センス増幅器1とセンス増幅器2に記憶された情報を格
納する。
【0047】図2に関して上述されたように、図8の回
路に用いられてるN型のパストランジスタは、追加のト
ランジスタを用いることによるコストの上昇を伴うもの
であるが、それによって電圧VCC+を発生させる必要
性を除去できる、パスゲートによって置き換えられても
よい。
【0048】本発明の他の実施例が、これまでの説明か
ら容易に理解される。これまでの説明は例示を意図する
ものであって限定を意図するものではない。
【0049】本発明は、主にNチャネルトランジスタを
用いることによって実施されるものとして説明されてき
たが、トランジスタの導電形は主にPチャネルトランジ
スタを用いてこの発明が実施されるように反転されても
良い。このような状況の下で、制御信号も、これまでの
説明されたものと反転されたものであって良い。
【0050】
【発明の効果】本発明によって、複数のレベルの電圧を
記憶することのできる、小型のメモリセルアレイが提供
される。
【図面の簡単な説明】
【図1】一般的に用いられている通常のダイナミック半
導体メモリ装置の構造を表す回路図。
【図2】本発明のダイナミック半導体メモリの第1の実
施例を表す回路図。
【図3】読み出し及びリストア動作の間の図2のDRA
Mに供給される入力電圧の変化を表すタイミング図。
【図4】強い「1」(2進「11」)の読み出し及びリ
ストア動作の間の図2のDRAMに供給される入力電圧
と選択された内部の電圧の変化を表すタイミング図。
【図5】弱い「1」(2進「10」)の読み出し及びリ
ストア動作の間の図2のDRAMに供給される入力電圧
と選択された内部の電圧の変化を表すタイミング図。
【図6】弱い「0」(二進「01」)の読み出し及びリ
ストア動作の間の図2のDRAMに供給される入力電圧
と選択された内部の電圧の変化を表すタイミング図。
【図7】強い「0」(二進「00」)の読み出し及びリ
ストア動作の間の図2のDRAMに供給される入力電圧
と選択された内部の電圧の変化を表すタイミング図。
【図8】図2の回路の他の実施例を表す回路。
【符号の説明】
MAL 左メモリアレイ MAR 右メモリアレイ S1 第1のセンス増幅器 S2 第2のセンス増幅器

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 メモリセルの各々に4個までの異なる
    信号の値を記憶させるDRAMメモリ装置であって、 各々が4個のまでの異なる電圧の値を記憶する複数のメ
    モリセルと、 前記複数のメモリセルに接続され、選択された前記メモ
    リセルに記憶された前記信号のレベルが第1の基準電圧
    よりも大きいかもしくは小さいかを検出する第1のセン
    ス増幅器と、 前記複数のメモリセルに接続され、前記選択されたメモ
    リセルに記憶された前記信号のレベルが、第2の基準電
    圧より大きいかもしくは小さいか、また第3の基準電圧
    よりも大きいかもしくは小さいかを検出する第2のセン
    ス増幅器であって、前記第2の基準電圧が前記第1の基
    準電圧と電源電圧との間の値を有し、前記第3の基準電
    圧が前記第1の基準電圧とグランド電位との間の値を有
    する、前記第2のセンス増幅器とを有することを特徴と
    するDRAMメモリ装置。
  2. 【請求項2】 前記第1の基準電圧が、電源電圧VC
    Cの約1/2であることを特徴とする請求項1に記載の
    装置。
  3. 【請求項3】 前記第2の基準電圧が、前記電源電圧
    VCCの5/6であることを特徴とする請求項2に記載
    の装置。
  4. 【請求項4】 前記第3の基準電圧が、前記電源電圧
    VCCの1/6であることを特徴とする請求項2に記載
    の装置。
  5. 【請求項5】 前記メモリセルの各々が、パストラン
    ジスタによってビットラインに接続された記憶キャパシ
    タを有することを特徴とする請求項1に記載の装置。
  6. 【請求項6】 前記記憶キャパシタを前記ビットライ
    ンに接続する前記パストランジスタの各々が、ワードラ
    インによって制御されていることを特徴とする請求項5
    に記載の装置。
  7. 【請求項7】 左ビットラインと右ビットラインとに
    分割されたビットラインと、 左基準ビットラインと右基準ビットラインとに分割され
    た基準ビットラインとを含むことを特徴とする請求項6
    に記載の装置。
  8. 【請求項8】 前記左ビットラインと前記左基準ビッ
    トラインとが、各々、第1のパストランジスタと第2の
    パストランジスタとによって、前記第1のセンス増幅器
    の第1のノードと第2のノードとに接続され、 前記右ビットラインと前記右基準ビットラインとが、各
    々、第3のパストランジスタと第4のパストランジスタ
    とによって、前記第2のセンス増幅器の第1のノードと
    第2のノードとに接続されていることを特徴とする請求
    項7に記載の装置。
  9. 【請求項9】 前記第1のセンス増幅器の状態を、前
    記第2のセンス増幅器の状態と比較し、その前記比較結
    果を、前記メモリセル内の前記記憶キャパシタにリスト
    アされる電圧を決定するために用いる手段を有すること
    を特徴とする請求項8に記載の装置。
  10. 【請求項10】 前記第1のセンス増幅器の前記状態
    を前記第2のセンス増幅器の前記状態と比較し、リスト
    アされる前記電圧を決定する前記手段が、 前記第1のセンス増幅器の前記状態を表す信号を第1の
    入力信号として受け取り、前記第2のセンス増幅器の前
    記状態を表す信号を第2の信号として受け取る排他的論
    理ORゲートを有することを特徴とする請求項9に記載
    の装置。
  11. 【請求項11】 前記排他的論理ORゲートが、前記
    第1に入力信号と前記第2の入力信号とが異なるとき、
    2進「1」を表す高い出力信号を出力することを特徴と
    する請求項10に記載の装置。
  12. 【請求項12】 前記ビットラインの前記電圧に応じ
    て、前記排他的ORゲートの前記出力信号が2進「1」
    のとき、弱い「1」若しくは弱い「0」を前記キャパシ
    タへ記憶するべく、前記基準ビットラインの半分を前記
    ビットラインに接続する回路を有することを特徴とする
    請求項11に記載の装置。
  13. 【請求項13】 前記弱い「1」が、前記ビットライ
    ンの前記電圧がVCCのとき前記キャパシタに記憶さ
    れ、 前記弱い「0」が、前記ビットラインの前記電圧がGN
    Dのとき、前記キャパシタに記憶されることを特徴とす
    る請求項13に記載の装置。
  14. 【請求項14】 前記排他的論理ORゲートが、 前記第1のゲートと、第1のソースと、第1のドレイン
    とを含む第1のトランジスタと、 前記第2のゲートと、第2のソースと、第2のドレイン
    とを含む第2のトランジスタとを有し、 前記第1のゲートが、前記第1のセンス増幅器の前記状
    態を表す第1の信号を受け取るべく前記ビットラインに
    接続されており、 前記第2ゲートが、前記第1の信号の補数信号を表す第
    2の信号を表す前記基準ビットラインに接続されてお
    り、 前記第1のドレインが、前記第2の増幅器の前記状態を
    表す信号の補数信号を受け取るべく前記第2の増幅器が
    前記第1のノードに接続されており、 前記第2のドレインが、前記第2の増幅器の前記状態を
    表す信号を受け取るべく、前記第2の増幅器の第2のノ
    ードに接続されており、 前記第1のソースが、前記排他的論理ORゲートからの
    前記出力信号を供給するべく、前記第2のソースに接続
    されていることを特徴とする請求項11に記載の装置。
  15. 【請求項15】 DRAMであって、 各々が、2進「11」を表す第1の電圧と、2進「1
    0」を表す第2の電圧と、 2進「01」を表す第3の電圧と、2進「00」を表す
    第4の電圧とからなる4つの異なる電圧の任意の電圧を
    記憶するためのキャパシタを有する、複数のメモリセル
    と、 前記キャパシタの内の選択されたキャパシタから記憶さ
    れた電圧を読み出し、前記選択されたキャパシタに記憶
    された前記電圧が前記第1の電圧若しくは前記第2の電
    圧のとき、「1」であり、前記選択されたキャパシタに
    記憶された前記電圧が前記第3の電圧若しくは前記4の
    電圧のとき、「0」である、第1の2進数の値を表す信
    号を出力する第1センス増幅器と、 前記選択されたキャパシタからの前記記憶された電圧を
    読み出し、前記選択されたキャパシタに記憶された前記
    電圧が前記第1の電圧若しくは前記第3の電圧のとき、
    「1」であり、前記選択されたキャパシタに記憶された
    前記電圧が前記第2の電圧若しくは前記第4の電圧のと
    き、「0」である、第2の2進数の値を表す信号を出力
    する第2のセンス増幅器とを有することを特徴とするD
    RAM。
  16. 【請求項16】 2ビットのデータが1つのメモリの
    キャパシタ毎に記憶されるDRAM装置であって、 各々が、第1のビット及び第2のビットからなる2つの
    ビットからなる4つの2進数の値の任意の値を記憶する
    ための、複数のメモリキャパシタであって、前記4つの
    2進数の値が、前記キャパシタに記憶される4つの定義
    された記憶された電圧値からなる、前記複数のメモリキ
    ャパシタと、 ビットライン及び基準ビットラインと、 選択されたメモリキャパシタにアクセスし、前記選択さ
    れたキャパシタを前記ビットラインに接続する手段と、 前記ビットラインと前記基準ビットラインとに接続さ
    れ、前記基準ビットラインに対する前記ビットラインの
    電圧の変化を検出することによって前記アクセスされた
    キャパシタの前記定義された電圧の値を読み出し、前記
    第1のビットの前記値を表す第1の信号を出力する、第
    1のセンス増幅器であって、前記定義された電圧の前記
    値が、前記第1の定義された電圧と、前記第2の定義さ
    れた電圧とに対して、「1」であり、前記定義された電
    圧の前記値が、前記第3の定義された電圧と、前記第4
    の定義された電圧とに対して、「0」である、前記第1
    のセンス増幅器と、 前記ビットラインと前記基準ビットラインとに接続さ
    れ、前記基準ビットラインに対する前記ビットラインの
    電圧の変化を検出することによって、前記アクセスされ
    たキャパシタの前記定義された電圧の値を読み出し、前
    記第1のセンス増幅器の前記状態を表すフィードバック
    信号を受け取った後に、前記第2のビットの値を表す第
    2の信号を出力する、第2のセンス増幅器であって、、
    前記第2のビットの前記値が、前記第1の定義された電
    圧と、前記第3の定義された電圧とに対して「1」であ
    り、、前記第2のビットの前記値が、前記第2の定義さ
    れた電圧と前記第4の定義された電圧とに対して「0」
    である、前記第2のセンス増幅とを有することを特徴と
    するDRAM装置。
  17. 【請求項17】 前記第1の定義された電圧と、前記
    第2の定義された電圧と、前記第3の定義された電圧
    と、前記第4の定義された電圧とが、各々、最も高い電
    圧、2番目に高い電圧、3番目に高い電圧、及び最も低
    い電圧であることを特徴とする請求項16に記載の装
    置。
  18. 【請求項18】 入力リード線VFBと、第1のキャ
    パシタと、トランジスタとを有し、 前記トランジスタが、ゲートと、ソースと、ドレインと
    を有し、 前記ゲートが前記ビットラインに接続され、 前記ドレインが、前記入力リード線Vsdに接続され、 前記ソースが、前記キャパシタの第1の端子に接続され
    ており、 前記キャパシタが、前記第2のセンス増幅器に接続され
    た第2の端子を有し、 前記ビットラインが高い状態のとき、前記トランジスタ
    が「オン」状態となり、前記入力リード線VFDに供給
    された高い電圧が、前記キャパシタに供給され、前記供
    給された電圧の一部が、前記フィードバック電圧とし
    て、前記第2のセンス増幅器に供給され、 前記第2のセンス増幅器が、前記最も高い定義された電
    圧に対して「1」を出力し、前記第2の高い電圧に対し
    て「0」を出力することを特徴とする請求項17に記載
    のDRAM装置。
  19. 【請求項19】 入力リード線VFDと、キャパシタ
    と、トランジスタとを有し、 前記トランジスタがゲートと、ソースと、ドレインとを
    有し、 前記ゲートが、前記基準ビットラインに接続されてお
    り、 前記ドレインが、前記入力リード線Vsdに接続されて
    おり、 前記ソースが、前記キャパシタの第1の端子に接続され
    ており、 前記キャパシタが、前記第2のセンス増幅器に接続され
    た第2の端子を有し、 前記基準ビットラインが高い状態のとき、前記トランジ
    スタが「オン」となり、前記入力リード線VFDに供給
    された高い電圧が、前記キャパシタに供給され、前記供
    給された電圧の一部がフィードバック電圧として前記第
    2のセンス増幅器に供給され、前記第2のセンス増幅器
    が、前記二番目に高い電圧と前記最も低い電圧とに対し
    て「0」を出力することを特徴とする請求項17に記載
    の装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9660024B2 (en) 2014-12-18 2017-05-23 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor device with two transistors and a capacitor

Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09265778A (ja) * 1996-03-29 1997-10-07 Oki Micro Design Miyazaki:Kk シンクロナスdram
DE19621769C1 (de) * 1996-05-30 1997-06-19 Siemens Ag Leseverstärker für Halbleiterspeicherzellen mit einer Einrichtung zur Kompensation von Schwellenspannungsunterschieden bei den Leseverstärkertransistoren
US5684736A (en) * 1996-06-17 1997-11-04 Nuram Technology, Inc. Multilevel memory cell sense amplifier system
US6857099B1 (en) * 1996-09-18 2005-02-15 Nippon Steel Corporation Multilevel semiconductor memory, write/read method thereto/therefrom and storage medium storing write/read program
US6260172B1 (en) * 1997-09-05 2001-07-10 Nippon Steel Corporation Semiconductor device with logic rewriting and security protection function
EP0920029A3 (en) * 1997-12-01 1999-07-14 Texas Instruments Incorporated Multi-state random acess memory
JPH11232868A (ja) * 1998-02-10 1999-08-27 Nippon Foundry Inc 半導体記憶集積回路
JP3494346B2 (ja) * 1998-03-03 2004-02-09 シャープ株式会社 半導体記憶装置およびその制御方法
US5978293A (en) * 1998-03-19 1999-11-02 Cirrus Logic, Inc. Circuitry and methods for dynamically sensing of data in a static random access memory cell
KR100505598B1 (ko) * 1998-03-25 2005-10-19 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치
KR100268947B1 (ko) * 1998-04-03 2000-10-16 김영환 비휘발성 강유전체 메모리 및 그의 제어회로
US6137739A (en) * 1998-06-29 2000-10-24 Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. Multilevel sensing circuit and method thereof
CA2273122A1 (en) * 1999-05-26 2000-11-26 Gershom Birk Multilevel dram with local reference generation
US6191988B1 (en) 1999-07-22 2001-02-20 International Business Machines Corporation Floating bitline timer allowing a shared equalizer DRAM sense amplifier
KR100335275B1 (ko) * 1999-12-28 2002-05-03 박종섭 센스앰프 구동 제어장치
US6643200B2 (en) * 2000-04-05 2003-11-04 Intel Corporation Sense amplifier having integrated y multiplexor and method therefor
FR2810782B1 (fr) * 2000-06-26 2002-10-04 St Microelectronics Sa Procede de commande d'un acces en lesture d'une memoire vive dynamique et memoire correspondante
US6747892B2 (en) 2000-11-21 2004-06-08 Sandisk Corporation Sense amplifier for multilevel non-volatile integrated memory devices
US6618307B2 (en) * 2001-09-05 2003-09-09 Sun Microsystems, Inc. Dynamic DRAM sense amplifier
US6903982B2 (en) * 2002-10-10 2005-06-07 Infineon Technologies Ag Bit line segmenting in random access memories
DE102004010191B4 (de) * 2004-03-02 2010-09-23 Qimonda Ag Integrierter Halbleiterspeicher mit Leseverstärker
US6933869B1 (en) * 2004-03-17 2005-08-23 Altera Corporation Integrated circuits with temperature-change and threshold-voltage drift compensation
US7133311B2 (en) * 2004-08-16 2006-11-07 Bo Liu Low power, high speed read method for a multi-level cell DRAM
JP4478982B2 (ja) * 2005-03-16 2010-06-09 エルピーダメモリ株式会社 半導体記憶装置
JP4400497B2 (ja) 2005-03-31 2010-01-20 エルピーダメモリ株式会社 半導体記憶装置
KR100729355B1 (ko) * 2005-07-04 2007-06-15 삼성전자주식회사 멀티 레벨 셀을 갖는 노어 플래시 메모리 장치 및 그것의읽기 방법
KR100699875B1 (ko) * 2005-11-08 2007-03-28 삼성전자주식회사 센스앰프 구조를 개선한 반도체 메모리 장치
US7376027B1 (en) * 2006-11-07 2008-05-20 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. DRAM concurrent writing and sensing scheme
KR20170143125A (ko) 2016-06-20 2017-12-29 삼성전자주식회사 기준전압을 생성하기 위한 메모리 셀을 포함하는 메모리 장치
KR20190073102A (ko) 2017-12-18 2019-06-26 삼성전자주식회사 비트 라인 감지 증폭기, 반도체 메모리 장치, 그리고 그것의 멀티 비트 데이터의 센싱 방법
US10706911B1 (en) 2018-10-10 2020-07-07 Samsung Electronics Co., Ltd. Sense amplifier for sensing multi-level cell and memory device including the sense amplifier
US10930337B2 (en) * 2018-12-26 2021-02-23 Micron Technology, Inc. Write techniques for a memory device with a charge transfer device
CA3030723C (en) * 2019-01-21 2024-06-04 Mitchell B. Miller A system and method for bidirectionally based electrical information storage, processing and communication
KR102851370B1 (ko) 2020-02-05 2025-08-26 삼성전자주식회사 휘발성 메모리 장치 및 휘발성 메모리 장치의 데이터 센싱 방법
US11024365B1 (en) 2020-02-05 2021-06-01 Samsung Electronics Co., Ltd. Time interleaved sampling of sense amplifier circuits, memory devices and methods of operating memory devices

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4771404A (en) * 1984-09-05 1988-09-13 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Memory device employing multilevel storage circuits
US5293563A (en) * 1988-12-29 1994-03-08 Sharp Kabushiki Kaisha Multi-level memory cell with increased read-out margin
US5283761A (en) * 1992-07-22 1994-02-01 Mosaid Technologies Incorporated Method of multi-level storage in DRAM
US5532955A (en) * 1994-12-30 1996-07-02 Mosaid Technologies Incorporated Method of multilevel dram sense and restore
US5684736A (en) * 1996-06-17 1997-11-04 Nuram Technology, Inc. Multilevel memory cell sense amplifier system
US5771187A (en) * 1996-12-23 1998-06-23 Lsi Logic Corporation Multiple level storage DRAM cell
US5841695A (en) * 1997-05-29 1998-11-24 Lsi Logic Corporation Memory system using multiple storage mechanisms to enable storage and retrieval of more than two states in a memory cell

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9660024B2 (en) 2014-12-18 2017-05-23 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor device with two transistors and a capacitor

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US6034885A (en) 2000-03-07
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US5859794A (en) 1999-01-12

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