JPH1097962A - 処理装置及び処理システム - Google Patents
処理装置及び処理システムInfo
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- JPH1097962A JPH1097962A JP26921396A JP26921396A JPH1097962A JP H1097962 A JPH1097962 A JP H1097962A JP 26921396 A JP26921396 A JP 26921396A JP 26921396 A JP26921396 A JP 26921396A JP H1097962 A JPH1097962 A JP H1097962A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 クリ−ン度の高い第１の部屋の有効利用を図
ること。また処理装置本体側の用力ラインと用力設備の
用力ラインとの接続を容易にすること。 【解決手段】 クリ−ン度の高い第１の部屋Ｓ１に装置
本体２を設け、当該部屋の下部に設けられた第２の部屋
Ｓ２に用力設備（ユ−ティリティボックス３及びポンプ
ボックス４）を設ける。第１の部屋Ｓ１と第２の部屋Ｓ
２とを区画する床部５に中継ユニット６を第２の部屋Ｓ
２の空気が第１の部屋Ｓ１に流れ込まないように設け、
第１の部屋Ｓ１側（装置本体２側）の用力ラインと第２
の部屋Ｓ２側（用力設備側）の用力ラインとを中継ユニ
ット６に対して着脱自在に接続する。
ること。また処理装置本体側の用力ラインと用力設備の
用力ラインとの接続を容易にすること。 【解決手段】 クリ−ン度の高い第１の部屋Ｓ１に装置
本体２を設け、当該部屋の下部に設けられた第２の部屋
Ｓ２に用力設備（ユ−ティリティボックス３及びポンプ
ボックス４）を設ける。第１の部屋Ｓ１と第２の部屋Ｓ
２とを区画する床部５に中継ユニット６を第２の部屋Ｓ
２の空気が第１の部屋Ｓ１に流れ込まないように設け、
第１の部屋Ｓ１側（装置本体２側）の用力ラインと第２
の部屋Ｓ２側（用力設備側）の用力ラインとを中継ユニ
ット６に対して着脱自在に接続する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は例えば半導体ウエハ
などの被処理体に対して、熱処理等の処理を行う処理装
置及び処理システムに関する。
などの被処理体に対して、熱処理等の処理を行う処理装
置及び処理システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウエハ（以下「ウエハ」という）
の製造プロセスの１つとして、酸化膜の形成やド−パン
トの拡散などを行うために高温下で熱処理を行うプロセ
スがある。このような熱処理を行なう熱処理装置は、例
えば図１０に示すように装置本体１とユ−ティリティボ
ックス１１とポンプボックス１２とから構成されてお
り、装置本体１は外部との間でウエハカセットＣを搬入
出する入出力ポ−ト１３、ウエハカセットＣとウエハボ
−ト１４との間でウエハの受け渡しを行なう図示しない
ウエハ移載機構、ウエハボ−ト１４が搬入されて熱処理
を行なう熱処理炉１５などを備えている。
の製造プロセスの１つとして、酸化膜の形成やド−パン
トの拡散などを行うために高温下で熱処理を行うプロセ
スがある。このような熱処理を行なう熱処理装置は、例
えば図１０に示すように装置本体１とユ−ティリティボ
ックス１１とポンプボックス１２とから構成されてお
り、装置本体１は外部との間でウエハカセットＣを搬入
出する入出力ポ−ト１３、ウエハカセットＣとウエハボ
−ト１４との間でウエハの受け渡しを行なう図示しない
ウエハ移載機構、ウエハボ−ト１４が搬入されて熱処理
を行なう熱処理炉１５などを備えている。
【０００３】またユ−ティリティボックス１１は電気系
統部品を収納した電気系ユニット１６、装置本体１に処
理ガスやパ−ジガス等を供給するためのガス供給ユニッ
ト１７などを備えており、ポンプボックス１２は熱処理
炉１４内を排気するための真空ポンプ等を備えている。
ポンプボックス１２は排気管１２ａ、前記電気系ユニッ
ト１６はケ−ブル１６ａ、ガス供給ユニット１７はガス
配管１７ａにより、装置本体１内部の各部と接続されて
いる。
統部品を収納した電気系ユニット１６、装置本体１に処
理ガスやパ−ジガス等を供給するためのガス供給ユニッ
ト１７などを備えており、ポンプボックス１２は熱処理
炉１４内を排気するための真空ポンプ等を備えている。
ポンプボックス１２は排気管１２ａ、前記電気系ユニッ
ト１６はケ−ブル１６ａ、ガス供給ユニット１７はガス
配管１７ａにより、装置本体１内部の各部と接続されて
いる。
【０００４】ここで半導体製造工場では、ウエハへのパ
ーティクルの付着を防止するためにフィルタなどの特別
な構造を備えたクリ−ン度の高い領域が設けられてい
る。そして上述の熱処理装置では、このクリ−ン度の高
い領域をクリ−ンル−ムＣＲと、クリ−ンル−ムＣＲよ
りはクリ−ン度が低いメンテナンスル−ムＭＲとに区画
し、クリ−ンル−ムＣＲにてウエハを管理する一方、メ
ンテナンスル−ムＭＲにて装置のメンテナンスを行なう
ようにしている。
ーティクルの付着を防止するためにフィルタなどの特別
な構造を備えたクリ−ン度の高い領域が設けられてい
る。そして上述の熱処理装置では、このクリ−ン度の高
い領域をクリ−ンル−ムＣＲと、クリ−ンル−ムＣＲよ
りはクリ−ン度が低いメンテナンスル−ムＭＲとに区画
し、クリ−ンル−ムＣＲにてウエハを管理する一方、メ
ンテナンスル−ムＭＲにて装置のメンテナンスを行なう
ようにしている。
【０００５】具体的には熱処理装置はクリ−ンル−ムＣ
Ｒとメンテナンスル−ムＭＲとの間に設置され、クリ−
ンル−ムＣＲ側からウエハカセットＣを搬入出するよう
に装置本体１のクリ−ンル−ムＣＲ側の面に前記入出力
ポ−ト１３が設けられると共に、前記ユ−ティリティボ
ックス１１はメンテナンスル−ムＭＲに設置されてい
る。
Ｒとメンテナンスル−ムＭＲとの間に設置され、クリ−
ンル−ムＣＲ側からウエハカセットＣを搬入出するよう
に装置本体１のクリ−ンル−ムＣＲ側の面に前記入出力
ポ−ト１３が設けられると共に、前記ユ−ティリティボ
ックス１１はメンテナンスル−ムＭＲに設置されてい
る。
【０００６】
【発明が解決しようとしている課題】ところで上述のク
リ−ンル−ムＣＲは、室空間の塵埃を高性能フィルタに
より除去することにより清浄化し、同時に温度や湿度を
要求された値に保つために制御された室である。このた
め密閉性が必要であると共に、高性能フィルタやエア循
環手段、温度や湿度の制御手段などの特別の設備が高価
であるため、クリ−ンル−ムＣＲを設置するためのコス
トが高く、維持管理のためのランニングコストも高い。
リ−ンル−ムＣＲは、室空間の塵埃を高性能フィルタに
より除去することにより清浄化し、同時に温度や湿度を
要求された値に保つために制御された室である。このた
め密閉性が必要であると共に、高性能フィルタやエア循
環手段、温度や湿度の制御手段などの特別の設備が高価
であるため、クリ−ンル−ムＣＲを設置するためのコス
トが高く、維持管理のためのランニングコストも高い。
【０００７】またメンテナンスル−ムＭＲについても、
ウエハが置かれる雰囲気ほどの高いクリ−ン度は必要で
ないにしてもかなり高いクリ−ン度が要求されるので、
やはり設置するためのコストやランニングコストは高く
なる。これはメンテナンス時にボ−トエレベ−タやウエ
ハ移載ア−ムの調整などを行うためにメンテナンスル−
ムＭＲと装置本体１内の移載領域との間をオペレ−タが
出入りし、これによりメンテナンスル−ムＭＲからクリ
−ンル−ムＣＲにエアが入り込み、また装置本体１内の
クリ−ン度を高めるため、メンテナンスル−ムＭＲから
フィルタを介して装置本体１内にエアを取り込み、これ
を清浄エアとして装置本体１内に循環させているからで
ある。
ウエハが置かれる雰囲気ほどの高いクリ−ン度は必要で
ないにしてもかなり高いクリ−ン度が要求されるので、
やはり設置するためのコストやランニングコストは高く
なる。これはメンテナンス時にボ−トエレベ−タやウエ
ハ移載ア−ムの調整などを行うためにメンテナンスル−
ムＭＲと装置本体１内の移載領域との間をオペレ−タが
出入りし、これによりメンテナンスル−ムＭＲからクリ
−ンル−ムＣＲにエアが入り込み、また装置本体１内の
クリ−ン度を高めるため、メンテナンスル−ムＭＲから
フィルタを介して装置本体１内にエアを取り込み、これ
を清浄エアとして装置本体１内に循環させているからで
ある。
【０００８】このように半導体製造工場では、作業雰囲
気の確保のためのコストが本来高く、しかもウエハは大
口径化しつつあり、これに合わせて装置本体１やユ−テ
ィリティボックス１１、ポンプボックス１２も大型化
し、同一フロアでみれば装置の設置台数が減ってしまう
ので、処理単価が今まで以上に高くなってしまうという
問題がある。
気の確保のためのコストが本来高く、しかもウエハは大
口径化しつつあり、これに合わせて装置本体１やユ−テ
ィリティボックス１１、ポンプボックス１２も大型化
し、同一フロアでみれば装置の設置台数が減ってしまう
ので、処理単価が今まで以上に高くなってしまうという
問題がある。
【０００９】本発明はこのような事情のもとになされた
ものであり、その目的はユ−ティリティボックスやポン
プボックスをクリ−ンル−ムＣＲやメンテナンスル−ム
ＭＲと隔離して設置することにより、クリ−ン度の高い
部屋の有効利用を図り、処理コストを低減することがで
きる処理装置及び処理システムを提供することにある。
ものであり、その目的はユ−ティリティボックスやポン
プボックスをクリ−ンル−ムＣＲやメンテナンスル−ム
ＭＲと隔離して設置することにより、クリ−ン度の高い
部屋の有効利用を図り、処理コストを低減することがで
きる処理装置及び処理システムを提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】このため本発明は、被処
理体を処理するための処理部とこの処理部に対して被処
理体の移載が行われる移載領域とを含み、クリ−ン度の
高い部屋に設けられた処理装置本体と、この処理装置本
体に用力ラインを介して接続された用力設備と、を備え
た処理装置において、前記用力設備を、前記部屋から隔
離された部屋例えば前記部屋に対して上方側又は下方側
に区画された部屋に設けたことを特徴とする。
理体を処理するための処理部とこの処理部に対して被処
理体の移載が行われる移載領域とを含み、クリ−ン度の
高い部屋に設けられた処理装置本体と、この処理装置本
体に用力ラインを介して接続された用力設備と、を備え
た処理装置において、前記用力設備を、前記部屋から隔
離された部屋例えば前記部屋に対して上方側又は下方側
に区画された部屋に設けたことを特徴とする。
【００１１】ここで例えば用力設備は、ガス供給設備、
ガス排気設備及び電気系統設備を含み、この用力設備の
用力ラインは、処理装置本体が置かれる部屋と、用力設
備が置かれる部屋とを区画する壁部に設けられた中継部
に対して、処理装置本体側の用力ラインと用力設備側の
用力ラインとを着脱自在に接続することとにより接続さ
れる。
ガス排気設備及び電気系統設備を含み、この用力設備の
用力ラインは、処理装置本体が置かれる部屋と、用力設
備が置かれる部屋とを区画する壁部に設けられた中継部
に対して、処理装置本体側の用力ラインと用力設備側の
用力ラインとを着脱自在に接続することとにより接続さ
れる。
【００１２】また本発明は、クリ−ン度の高い第１の部
屋と、被処理体を処理するための処理部とこの処理部に
対して被処理体の移載が行われる移載領域とを含み、前
記第１の部屋に設けられた複数の処理装置本体と、前記
第１の部屋に対して上方側又は下方側に区画して設けら
れた第２の部屋と、この第２の部屋に設けられ、前記処
理装置本体に用力ラインを介して接続された用力設備
と、を備える処理システムとして構成してもよい。
屋と、被処理体を処理するための処理部とこの処理部に
対して被処理体の移載が行われる移載領域とを含み、前
記第１の部屋に設けられた複数の処理装置本体と、前記
第１の部屋に対して上方側又は下方側に区画して設けら
れた第２の部屋と、この第２の部屋に設けられ、前記処
理装置本体に用力ラインを介して接続された用力設備
と、を備える処理システムとして構成してもよい。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明を縦型熱処理装置に適用し
た実施の形態について説明するが、先ずこの実施の形態
の構想について述べておく。従来熱処理装置では、ウエ
ハはクリ−ンル−ム側から装置本体内に搬入され、熱処
理後はまたクリ−ンル−ムへ搬出されていく。このため
装置本体はクリ−ン度の高い領域に配置する必要はある
が、ユ−ティリティボックスやポンプボックスへはウエ
ハは搬入されないため、これら用力設備自体をクリ−ン
度の高い領域に配置する必要はなく、別の領域に設置す
れば、この設置領域分メンテナンスル−ムを小さくした
り、あるいは有効に使用することができる。本実施の形
態ではこの点に着目して装置を構成している。
た実施の形態について説明するが、先ずこの実施の形態
の構想について述べておく。従来熱処理装置では、ウエ
ハはクリ−ンル−ム側から装置本体内に搬入され、熱処
理後はまたクリ−ンル−ムへ搬出されていく。このため
装置本体はクリ−ン度の高い領域に配置する必要はある
が、ユ−ティリティボックスやポンプボックスへはウエ
ハは搬入されないため、これら用力設備自体をクリ−ン
度の高い領域に配置する必要はなく、別の領域に設置す
れば、この設置領域分メンテナンスル−ムを小さくした
り、あるいは有効に使用することができる。本実施の形
態ではこの点に着目して装置を構成している。
【００１４】この実施の形態に係る縦型熱処理装置は、
図１及び図２に示すように処理装置本体例えば装置本体
２と、ユ−ティリティボックス３と、ポンプボックス４
とを備えている。前記装置本体２は図示しない清浄設備
が付設されたクリ−ン度が高い部屋である第１の部屋Ｓ
１内に設けられている。
図１及び図２に示すように処理装置本体例えば装置本体
２と、ユ−ティリティボックス３と、ポンプボックス４
とを備えている。前記装置本体２は図示しない清浄設備
が付設されたクリ−ン度が高い部屋である第１の部屋Ｓ
１内に設けられている。
【００１５】前記第１の部屋Ｓ１はクリ−ンル−ムＣＲ
と、メンテナンスル−ムＭＲとに仕切り板５１により仕
切られており、装置本体２は第１クリ−ンル−ムＣＲと
メンテナンスル−ムＭＲとに亘って設置されていて、ウ
エハカセットＣの入出力ポ−トをなすカセットステ−ジ
２１が設けられた前面部がクリ−ンル−ムＣＲ内に位置
している。
と、メンテナンスル−ムＭＲとに仕切り板５１により仕
切られており、装置本体２は第１クリ−ンル−ムＣＲと
メンテナンスル−ムＭＲとに亘って設置されていて、ウ
エハカセットＣの入出力ポ−トをなすカセットステ−ジ
２１が設けられた前面部がクリ−ンル−ムＣＲ内に位置
している。
【００１６】この装置本体２内の各部について図３を参
照しながら簡単に説明すると、前記カセットステ−ジ２
１は回転軸２１ａにより奥側に９０度倒れるようにつま
りカセットＣ内の縦置きのウエハが水平になるように構
成される。カセットステ−ジ２１の後方にはカセット搬
送機構２２の搬送路を介して、上側にストッカ２３、下
側に中間ステ−ジ２４が配設されている。
照しながら簡単に説明すると、前記カセットステ−ジ２
１は回転軸２１ａにより奥側に９０度倒れるようにつま
りカセットＣ内の縦置きのウエハが水平になるように構
成される。カセットステ−ジ２１の後方にはカセット搬
送機構２２の搬送路を介して、上側にストッカ２３、下
側に中間ステ−ジ２４が配設されている。
【００１７】中間ステ−ジ２４の後方側には、ウエハ移
載手段２５を介して、ウエハ保持具であるウエハボ−ト
２６が設けられている。このウエハボ−ト２６は多数枚
のウエハを夫々水平に棚状に配列保持できるように構成
され、ボ−トエレベ−タ２７の上に保温筒２８を介して
載置されている。ウエハボ−ト２６の上方には処理部例
えば熱処理炉２９が配設されており、ボ−トエレベ−タ
２７が上昇してウエハボ−ト２６が熱処理炉２９内に搬
入されることとなる。
載手段２５を介して、ウエハ保持具であるウエハボ−ト
２６が設けられている。このウエハボ−ト２６は多数枚
のウエハを夫々水平に棚状に配列保持できるように構成
され、ボ−トエレベ−タ２７の上に保温筒２８を介して
載置されている。ウエハボ−ト２６の上方には処理部例
えば熱処理炉２９が配設されており、ボ−トエレベ−タ
２７が上昇してウエハボ−ト２６が熱処理炉２９内に搬
入されることとなる。
【００１８】前記メンテナンスル−ムＭＲはクリ−ンル
−ムＣＲよりはクリ−ン度が低く構成されており、装置
本体２内のウエハ移載領域との間に図示しないドア部が
設けられていて、熱処理装置のメンテナンス時例えばボ
−トエレベ−タやウエハ移載ア−ムの調整などを行うと
きに、オペレ−タがメンテナンスル−ムＭＲから装置本
体２内に出入りできるように構成されている。
−ムＣＲよりはクリ−ン度が低く構成されており、装置
本体２内のウエハ移載領域との間に図示しないドア部が
設けられていて、熱処理装置のメンテナンス時例えばボ
−トエレベ−タやウエハ移載ア−ムの調整などを行うと
きに、オペレ−タがメンテナンスル−ムＭＲから装置本
体２内に出入りできるように構成されている。
【００１９】前記ユ−ティリティボックス３とポンプボ
ックス４とは用力設備をなすものであり、これらは装置
本体２が設けられた第１の部屋Ｓ１とは隔離された第２
の部屋に設けられている。この第２の部屋Ｓ２は第１の
部屋Ｓ１の床部５の例えば下方側領域に形成されてお
り、清浄設備は付設されてなくクリ−ンル−ムとしては
構成されていない。
ックス４とは用力設備をなすものであり、これらは装置
本体２が設けられた第１の部屋Ｓ１とは隔離された第２
の部屋に設けられている。この第２の部屋Ｓ２は第１の
部屋Ｓ１の床部５の例えば下方側領域に形成されてお
り、清浄設備は付設されてなくクリ−ンル−ムとしては
構成されていない。
【００２０】前記ユ−ティリティボックス３は内部に、
熱処理炉２９内に処理ガスやパ−ジ用の非酸化ガスを供
給するためのバルブ、流量計などを備えたガス供給部を
なすガス供給ユニット３１と、装置全体の動力を供給す
る電力供給部及び搬送系やヒ−タの制御回路等の電気系
統部品を備えた電気系統設備をなす電気系ユニット３２
と、熱処理炉２９内を冷却するための冷却水ユニット３
３等を備えている。またポンプボックス４はガス排気設
備をなすものであり、熱処理炉２９内を真空排気するた
めの真空ポンプ等を備えている。
熱処理炉２９内に処理ガスやパ−ジ用の非酸化ガスを供
給するためのバルブ、流量計などを備えたガス供給部を
なすガス供給ユニット３１と、装置全体の動力を供給す
る電力供給部及び搬送系やヒ−タの制御回路等の電気系
統部品を備えた電気系統設備をなす電気系ユニット３２
と、熱処理炉２９内を冷却するための冷却水ユニット３
３等を備えている。またポンプボックス４はガス排気設
備をなすものであり、熱処理炉２９内を真空排気するた
めの真空ポンプ等を備えている。
【００２１】前記用力設備と装置本体２とは、排気管、
ガス供給管群、ケ−ブル群及び冷却水通水管等の用力ラ
インで接続されるが、この例では第１の部屋Ｓ１と第２
の部屋Ｓ２とを区画する区画壁である床部５（第２の部
屋Ｓ２からみると天井部）に用力ラインの中継部である
中継ユニット６を設け、第１の部屋Ｓ１側の用力ライン
即ち排気管４１ｂ、ガス供給管群３１ｂ，ケ−ブル群３
２ｂ、冷却水通水管３３ｂと第２の部屋Ｓ２側の用力ラ
イン（排気管４１ａ、ガス供給管群３１ａ，ケ−ブル群
３２ａ、冷却水通水管３３ａ）とを、中継ユニット６に
対して着脱自在に接続している。
ガス供給管群、ケ−ブル群及び冷却水通水管等の用力ラ
インで接続されるが、この例では第１の部屋Ｓ１と第２
の部屋Ｓ２とを区画する区画壁である床部５（第２の部
屋Ｓ２からみると天井部）に用力ラインの中継部である
中継ユニット６を設け、第１の部屋Ｓ１側の用力ライン
即ち排気管４１ｂ、ガス供給管群３１ｂ，ケ−ブル群３
２ｂ、冷却水通水管３３ｂと第２の部屋Ｓ２側の用力ラ
イン（排気管４１ａ、ガス供給管群３１ａ，ケ−ブル群
３２ａ、冷却水通水管３３ａ）とを、中継ユニット６に
対して着脱自在に接続している。
【００２２】前記中継ユニット６はユニット本体６０内
に中継用の用力ライン（排気管６１、ガス供給管群６
２、ケ−ブル群６３、冷却水通水管６４）を上下方向に
貫通させ、ユニット本体６０の上下両端部から前記用力
ラインの両端部が突出するように設けて構成されてい
る。前記ユニット本体６０は例えば左右両端にフランジ
部６５ａ，６５ｂを備え、床板５に形成された開口部５
２に着脱自在に挿入されて、第２の部屋Ｓ２の空気が第
１の部屋Ｓ１に流れ込まないように構成されている。
に中継用の用力ライン（排気管６１、ガス供給管群６
２、ケ−ブル群６３、冷却水通水管６４）を上下方向に
貫通させ、ユニット本体６０の上下両端部から前記用力
ラインの両端部が突出するように設けて構成されてい
る。前記ユニット本体６０は例えば左右両端にフランジ
部６５ａ，６５ｂを備え、床板５に形成された開口部５
２に着脱自在に挿入されて、第２の部屋Ｓ２の空気が第
１の部屋Ｓ１に流れ込まないように構成されている。
【００２３】そして上述の装置本体２を複数備えた処理
システムは例えば図６に示すように構成され、例えば複
数の装置本体２が同一フロアの第１の部屋Ｓ１内に横に
並べて配設されており、各装置本体２に対応するユ−テ
ィリティボックス３等が例えば地下室である第２の部屋
Ｓ２に並べて配設されている。
システムは例えば図６に示すように構成され、例えば複
数の装置本体２が同一フロアの第１の部屋Ｓ１内に横に
並べて配設されており、各装置本体２に対応するユ−テ
ィリティボックス３等が例えば地下室である第２の部屋
Ｓ２に並べて配設されている。
【００２４】次に上述の実施の形態の作用について説明
する。中継ユニット６では、図５に示すように、中継用
の用力ラインの上部側の接続端部に、第１の部屋Ｓ１に
おいて装置本体２側の用力ラインが接続され、同様に中
継用の用力ラインの下部側の接続端部に、第２の部屋Ｓ
２において用力設備側の用力ラインが接続される。こう
して第１の部屋Ｓ１に置かれた装置本体２の各機構と第
２の部屋Ｓ２に置かれた用力設備とが用力ラインにより
接続される。
する。中継ユニット６では、図５に示すように、中継用
の用力ラインの上部側の接続端部に、第１の部屋Ｓ１に
おいて装置本体２側の用力ラインが接続され、同様に中
継用の用力ラインの下部側の接続端部に、第２の部屋Ｓ
２において用力設備側の用力ラインが接続される。こう
して第１の部屋Ｓ１に置かれた装置本体２の各機構と第
２の部屋Ｓ２に置かれた用力設備とが用力ラインにより
接続される。
【００２５】そして装置本体２の各機構は電気系ユニッ
ト３２により電力が供給されて駆動され、また電気系ユ
ニット３２との間で信号の授受が行われる。そして所定
のプロセス条件に基づいて熱処理炉２９内がポンプボッ
クス４内の真空ポンプにより所定の圧力まで排気され、
熱処理炉２９内にガス供給ユニット３１により所定の処
理ガスやパ−ジガスが所定の流量で供給される。
ト３２により電力が供給されて駆動され、また電気系ユ
ニット３２との間で信号の授受が行われる。そして所定
のプロセス条件に基づいて熱処理炉２９内がポンプボッ
クス４内の真空ポンプにより所定の圧力まで排気され、
熱処理炉２９内にガス供給ユニット３１により所定の処
理ガスやパ−ジガスが所定の流量で供給される。
【００２６】熱処理装置の動作については先ずウエハＷ
が収納されたウエハカセットＣが外部からカセットステ
−ジ２１に搬入され、カセット搬送機構２２により中間
ステ−ジ２４に搬送される。その後ウエハ移載手段２５
によりウエハカセットＣ内からウエハＷがウエハボ−ト
２６に移載され、ウエハボ−ト２６に所定枚数例えば１
００枚搭載された後ボ−トエレベ−タ２７によりウエハ
ボ−ト２６が熱処理炉２９内に搬入される。熱処理炉２
９内ではプロセス条件に基づいて所定の熱処理が行われ
る。
が収納されたウエハカセットＣが外部からカセットステ
−ジ２１に搬入され、カセット搬送機構２２により中間
ステ−ジ２４に搬送される。その後ウエハ移載手段２５
によりウエハカセットＣ内からウエハＷがウエハボ−ト
２６に移載され、ウエハボ−ト２６に所定枚数例えば１
００枚搭載された後ボ−トエレベ−タ２７によりウエハ
ボ−ト２６が熱処理炉２９内に搬入される。熱処理炉２
９内ではプロセス条件に基づいて所定の熱処理が行われ
る。
【００２７】このような熱処理装置では、第１の部屋Ｓ
１をクリ−ン度が高い部屋とすると共に第２の部屋Ｓ２
を第１の部屋Ｓ１とは隔離して地下に設け、クリ−ン度
の高い部屋に置かれる必要のある装置本体２のみを第１
の部屋Ｓ１に設置し、クリ−ン度が高い部屋に置かれる
必要のないユ−ティリティボックス３やポンプボックス
４は地下室である第２の部屋Ｓ２に設置している。
１をクリ−ン度が高い部屋とすると共に第２の部屋Ｓ２
を第１の部屋Ｓ１とは隔離して地下に設け、クリ−ン度
の高い部屋に置かれる必要のある装置本体２のみを第１
の部屋Ｓ１に設置し、クリ−ン度が高い部屋に置かれる
必要のないユ−ティリティボックス３やポンプボックス
４は地下室である第２の部屋Ｓ２に設置している。
【００２８】このため用力設備（ユ−ティリティボック
ス３やポンプボックス４）も装置本体２と同一フロアの
クリ−ン度が高い部屋に設けられていた従来の熱処理装
置に比べて、用力設備の設置分、熱処理装置の設置に必
要なクリ−ン度の高い部屋を小さくすることができ、こ
れによりクリ−ン度の高い部屋の設置コストや維持管理
のためのランニングコストを低くすることができる。
ス３やポンプボックス４）も装置本体２と同一フロアの
クリ−ン度が高い部屋に設けられていた従来の熱処理装
置に比べて、用力設備の設置分、熱処理装置の設置に必
要なクリ−ン度の高い部屋を小さくすることができ、こ
れによりクリ−ン度の高い部屋の設置コストや維持管理
のためのランニングコストを低くすることができる。
【００２９】またクリ−ン度の高い部屋が予め区画され
ている場合には、この部屋に設置される装置台数を多く
することができるので、クリ−ン度の高い部屋を有効利
用することができ、これによりこの部屋のランニングコ
ストをも含めた熱処理装置１台当たりの運転コストを低
減することができる。このことは設置台数が同じであれ
ば、従来のシステムに比べてクリ−ンル−ムのスペ−ス
を狭くできることを意味する。
ている場合には、この部屋に設置される装置台数を多く
することができるので、クリ−ン度の高い部屋を有効利
用することができ、これによりこの部屋のランニングコ
ストをも含めた熱処理装置１台当たりの運転コストを低
減することができる。このことは設置台数が同じであれ
ば、従来のシステムに比べてクリ−ンル−ムのスペ−ス
を狭くできることを意味する。
【００３０】さらに中継ユニット６０を介して各部屋Ｓ
１、Ｓ２の用力ラインが互いに着脱自在に接続されてい
るので、装置本体２及び用力設備各々のメンテナンスを
容易に行なうことができる。
１、Ｓ２の用力ラインが互いに着脱自在に接続されてい
るので、装置本体２及び用力設備各々のメンテナンスを
容易に行なうことができる。
【００３１】続いて本発明の第２の実施の形態について
説明する。本実施の形態の形態が上述の第１の実施の形
態と異なる点は、ウエハカセットを図７に示すようなク
ロ−ズ型カセット７（以下カセット７という）としたこ
とにある。このカセット７について簡単に説明すると、
このカセット７は例えば１３枚のウエハＷ１を棚状に保
持するようにウエハ保持部７０が多段に形成されたカセ
ット本体７１と、このカセット本体７１のウエハ取り出
し口である開口部７２を気密に塞ぐための蓋体７３とを
備えている。
説明する。本実施の形態の形態が上述の第１の実施の形
態と異なる点は、ウエハカセットを図７に示すようなク
ロ−ズ型カセット７（以下カセット７という）としたこ
とにある。このカセット７について簡単に説明すると、
このカセット７は例えば１３枚のウエハＷ１を棚状に保
持するようにウエハ保持部７０が多段に形成されたカセ
ット本体７１と、このカセット本体７１のウエハ取り出
し口である開口部７２を気密に塞ぐための蓋体７３とを
備えている。
【００３２】前記蓋体７３はカセット本体７１の開口部
７２の内側に入り込むように設けられており、また蓋体
７３には例えば２か所に鍵穴７４が設けられていて、こ
の鍵穴７４にキ−７５を挿入して回すことにより、蓋体
７３の上端と下端とから例えば４本のロックピン７６が
突出してカセット本体７１に蓋体７３が固定されるよう
に構成されている。
７２の内側に入り込むように設けられており、また蓋体
７３には例えば２か所に鍵穴７４が設けられていて、こ
の鍵穴７４にキ−７５を挿入して回すことにより、蓋体
７３の上端と下端とから例えば４本のロックピン７６が
突出してカセット本体７１に蓋体７３が固定されるよう
に構成されている。
【００３３】このようなカセット７を用いる場合には、
装置本体８は例えば図８及び図９に示すように構成され
る。この装置本体８はクリ−ン度の高い部屋である第１
の部屋Ｓ１に設けられるが、第１の部屋Ｓ１はクリ−ン
ル−ムＣＲとメンテナンスル−ムＭＲとに区画されおら
ず、従来のオ−プン型カセットを用いていた場合のクリ
−ン度よりは低い、いわば中程度のクリ−ン度に維持さ
れている。
装置本体８は例えば図８及び図９に示すように構成され
る。この装置本体８はクリ−ン度の高い部屋である第１
の部屋Ｓ１に設けられるが、第１の部屋Ｓ１はクリ−ン
ル−ムＣＲとメンテナンスル−ムＭＲとに区画されおら
ず、従来のオ−プン型カセットを用いていた場合のクリ
−ン度よりは低い、いわば中程度のクリ−ン度に維持さ
れている。
【００３４】このような構成の熱処理装置では、装置本
体８の常時は蓋体で閉じられている受け渡し口８１ａに
外部からカセット７が装着され、カセット７の蓋体７３
と受け渡し口８１ａの蓋体とを図示しない開閉機構によ
り開き、この後カセット７内のウエハがウエハ移載手段
８５によりウエハボ−ト８３、８４に移載され、このウ
エハボ−ト８３、８４がボ−トエレベ−タ８３ａ，８４
ａにより熱処理炉８２内に交互に搬入されて所定の熱処
理が行われる。
体８の常時は蓋体で閉じられている受け渡し口８１ａに
外部からカセット７が装着され、カセット７の蓋体７３
と受け渡し口８１ａの蓋体とを図示しない開閉機構によ
り開き、この後カセット７内のウエハがウエハ移載手段
８５によりウエハボ−ト８３、８４に移載され、このウ
エハボ−ト８３、８４がボ−トエレベ−タ８３ａ，８４
ａにより熱処理炉８２内に交互に搬入されて所定の熱処
理が行われる。
【００３５】本実施の形態においては、装置本体８内の
移載領域（ウエハ移載手段８５の移載領域及びウエハボ
−ト８３、８４の移動領域）を外部から区画すると共
に、カセット７自体を蓋体を設けたクロ−ズ型とし、装
置本体８内やカセット７内にパーティクルが入り込まな
いようにしているため、装置本体８内はクリ−ン度が高
くなければならないが、第１の部屋Ｓ１自体は上述のよ
うに中程度のクリ−ン度でよい。従って高度のクリ−ン
度が必要である場合に比べて、第１の部屋Ｓ１の設置コ
ストやランニングコストが低いため、ユ−ティリティボ
ックス３やポンプボックス４を第２の部屋Ｓ２に設ける
ことにより第１の部屋Ｓ１を小さくすることができれ
ば、第１の部屋Ｓ１の設置コストやランニングコストを
より低減することができる。
移載領域（ウエハ移載手段８５の移載領域及びウエハボ
−ト８３、８４の移動領域）を外部から区画すると共
に、カセット７自体を蓋体を設けたクロ−ズ型とし、装
置本体８内やカセット７内にパーティクルが入り込まな
いようにしているため、装置本体８内はクリ−ン度が高
くなければならないが、第１の部屋Ｓ１自体は上述のよ
うに中程度のクリ−ン度でよい。従って高度のクリ−ン
度が必要である場合に比べて、第１の部屋Ｓ１の設置コ
ストやランニングコストが低いため、ユ−ティリティボ
ックス３やポンプボックス４を第２の部屋Ｓ２に設ける
ことにより第１の部屋Ｓ１を小さくすることができれ
ば、第１の部屋Ｓ１の設置コストやランニングコストを
より低減することができる。
【００３６】以上において本発明では、クリ−ン度の高
い第１の部屋の上部に前記部屋とは区画された第２の部
屋を設け、第１の部屋に処理装置本体を設置し、第２の
部屋に用力設備を設置するようにしてもよいし、第２の
部屋は第１の部屋と同一フロアに設けられていてもよ
い。また第１の部屋に複数の処理装置本体を設置する場
合に、２体あるいは３体の処理装置本体に共通の用力設
備を第２の部屋に設置するようにしてもよい。
い第１の部屋の上部に前記部屋とは区画された第２の部
屋を設け、第１の部屋に処理装置本体を設置し、第２の
部屋に用力設備を設置するようにしてもよいし、第２の
部屋は第１の部屋と同一フロアに設けられていてもよ
い。また第１の部屋に複数の処理装置本体を設置する場
合に、２体あるいは３体の処理装置本体に共通の用力設
備を第２の部屋に設置するようにしてもよい。
【００３７】
【発明の効果】本発明によれば、クリ−ン度の高い部屋
の有効利用を図ることができる。また中継部を設けるこ
とにより処理装置本体側の用力ラインと用力設備側の用
力ラインとを容易に接続することができる。
の有効利用を図ることができる。また中継部を設けるこ
とにより処理装置本体側の用力ラインと用力設備側の用
力ラインとを容易に接続することができる。
【図１】本発明を熱処理装置に適用した場合の実施の形
態に係る熱処理装置を示す斜視図である。
態に係る熱処理装置を示す斜視図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る熱処理装置を示す側
面図である。
面図である。
【図３】本発明の実施の形態に係る熱処理装置の装置本
体を示す側面図である。
体を示す側面図である。
【図４】中継ユニットを示す斜視図である。
【図５】中継ユニットを示す断面図である。
【図６】本発明の熱処理システムを示す斜視図である。
【図７】クロ−ズ型カセットを示す斜視図である。
【図８】本発明の第２の実施の形態に係る熱処理装置を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図９】本発明の第２の実施の形態に係る熱処理装置を
示す平面図である。
示す平面図である。
【図１０】従来の熱処理装置を示す斜視図である。
２、８ 装置本体 ２９ 熱処理炉 ３ ユ−ティリティボックス ３１ ガス供給ユニット ３２ 電気系ユニット ３３ 冷却水ユニット ４ ポンプボックス ５ 床部 ６ 中継ユニット ７ クロ−ズ型カセット Ｓ１ 第１の部屋 Ｓ２ 第２の部屋
Claims (5)
- 【請求項１】 被処理体を処理するための処理部とこの
処理部に対して被処理体の移載が行われる移載領域とを
含み、クリ−ン度の高い部屋に設けられた処理装置本体
と、この処理装置本体に用力ラインを介して接続された
用力設備と、を備えた処理装置において、 前記用力設備を、前記部屋から隔離された部屋に設けた
ことを特徴とする処理装置。 - 【請求項２】 被処理体を処理するための処理部とこの
処理部に対して被処理体の移載が行われる移載領域とを
含み、クリ−ン度の高い部屋に設けられた処理装置本体
と、この処理装置本体に用力ラインを介して接続された
用力設備と、を備えた処理装置において、 前記用力設備を、前記部屋に対して上方側又は下方側に
区画された部屋に設けたことを特徴とする処理装置。 - 【請求項３】 用力設備は、ガス供給設備、ガス排気設
備及び電気系統設備を含むことを特徴とする請求項１又
は２記載の処理装置。 - 【請求項４】 処理装置本体が置かれる部屋と、用力設
備が置かれる部屋とを区画する壁部に用力ラインの中継
部を設け、処理装置本体側の用力ラインと用力設備側の
用力ラインとを前記中継部に対して着脱自在に接続した
ことを特徴とする請求項１又は２記載の処理装置。 - 【請求項５】 クリ−ン度の高い第１の部屋と、 被処理体を処理するための処理部とこの処理部に対して
被処理体の移載が行われる移載領域とを含み、前記第１
の部屋に設けられた複数の処理装置本体と、 前記第１の部屋に対して上方側又は下方側に区画された
第２の部屋と、 この第２の部屋に設けられ、前記処理装置本体に用力ラ
インを介して接続された用力設備と、を備えたことを特
徴とする処理システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26921396A JPH1097962A (ja) | 1996-09-19 | 1996-09-19 | 処理装置及び処理システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26921396A JPH1097962A (ja) | 1996-09-19 | 1996-09-19 | 処理装置及び処理システム |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006306571A Division JP4000174B2 (ja) | 2006-11-13 | 2006-11-13 | 処理システム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1097962A true JPH1097962A (ja) | 1998-04-14 |
Family
ID=17469255
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26921396A Withdrawn JPH1097962A (ja) | 1996-09-19 | 1996-09-19 | 処理装置及び処理システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1097962A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001244160A (ja) * | 1999-12-16 | 2001-09-07 | Boc Group Inc:The | 機器スキッド |
| JP2004503110A (ja) * | 2000-07-10 | 2004-01-29 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 半導体基板プロセシングツールおよび生産設備統合プレート |
| JP2005243858A (ja) * | 2004-02-26 | 2005-09-08 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
| KR20200087075A (ko) | 2019-01-10 | 2020-07-20 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 처리 장치 |
| CN113280473A (zh) * | 2021-05-31 | 2021-08-20 | 广东美的制冷设备有限公司 | 多联式空调器的自清洁控制方法、系统、设备及存储介质 |
| JP2024154387A (ja) * | 2023-04-18 | 2024-10-30 | ミラエボ カンパニー リミテッド | 連結配管内の反応副産物の生成を防止し、交換が容易な構造を持つ狭小空間用反応副産物捕集システム |
-
1996
- 1996-09-19 JP JP26921396A patent/JPH1097962A/ja not_active Withdrawn
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001244160A (ja) * | 1999-12-16 | 2001-09-07 | Boc Group Inc:The | 機器スキッド |
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| WO2005083753A1 (ja) * | 2004-02-26 | 2005-09-09 | Tokyo Electron Limited | 半導体処理装置 |
| KR20200087075A (ko) | 2019-01-10 | 2020-07-20 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 처리 장치 |
| JP2020113629A (ja) * | 2019-01-10 | 2020-07-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置 |
| US11581198B2 (en) | 2019-01-10 | 2023-02-14 | Tokyo Electron Limited | Processing apparatus |
| CN113280473A (zh) * | 2021-05-31 | 2021-08-20 | 广东美的制冷设备有限公司 | 多联式空调器的自清洁控制方法、系统、设备及存储介质 |
| JP2024154387A (ja) * | 2023-04-18 | 2024-10-30 | ミラエボ カンパニー リミテッド | 連結配管内の反応副産物の生成を防止し、交換が容易な構造を持つ狭小空間用反応副産物捕集システム |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20050906 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051107 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060912 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061113 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20070202 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20070215 |
|
| A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20070330 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Effective date: 20090512 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 |