JPH1097981A - Ｘ線光学装置 - Google Patents
Ｘ線光学装置Info
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- JPH1097981A JPH1097981A JP8267704A JP26770496A JPH1097981A JP H1097981 A JPH1097981 A JP H1097981A JP 8267704 A JP8267704 A JP 8267704A JP 26770496 A JP26770496 A JP 26770496A JP H1097981 A JPH1097981 A JP H1097981A
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 アライメント作業を簡単且つ迅速に行うこと
ができるＸ線光学装置を得る。 【解決手段】 Ｘ線発生装置等が収容された真空槽７
と、試料等が収容された真空槽８との間を連通する配管
９に、真空分離のためのバルブ３を設ける。バルブ３の
弁ケーシング１０内をＯリング１２を有する弁体１１が
上下してバルブ３が開閉する。弁体１１の中央に、可視
域の半導体レーザーをアライメント用光源１３として組
み込む。弁体１１を下降してバルブ３を閉じると、光源
１３はＸ線の光軸上に位置し、弁体１１を弁ケーシング
１０上方へと上昇させてバルブ３を開くと、光源１３は
Ｘ線の使用の邪魔にならないように退避する。アライメ
ント時には、光源１３を取り付けたバルブ３を閉じ、光
源１３からの可視光により光学系の光軸確認を行う。
ができるＸ線光学装置を得る。 【解決手段】 Ｘ線発生装置等が収容された真空槽７
と、試料等が収容された真空槽８との間を連通する配管
９に、真空分離のためのバルブ３を設ける。バルブ３の
弁ケーシング１０内をＯリング１２を有する弁体１１が
上下してバルブ３が開閉する。弁体１１の中央に、可視
域の半導体レーザーをアライメント用光源１３として組
み込む。弁体１１を下降してバルブ３を閉じると、光源
１３はＸ線の光軸上に位置し、弁体１１を弁ケーシング
１０上方へと上昇させてバルブ３を開くと、光源１３は
Ｘ線の使用の邪魔にならないように退避する。アライメ
ント時には、光源１３を取り付けたバルブ３を閉じ、光
源１３からの可視光により光学系の光軸確認を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Ｘ線縮小露光装
置、Ｘ線顕微鏡などＸ線を利用したＸ線光学装置に係
り、特にアライメント作業の簡易・迅速化が図れるＸ線
光学装置に関するものである。
置、Ｘ線顕微鏡などＸ線を利用したＸ線光学装置に係
り、特にアライメント作業の簡易・迅速化が図れるＸ線
光学装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】Ｘ線縮小露光装置やＸ線顕微鏡などの光
学系にあっては、光学系の光軸がずれると性能が著しく
低下するため、常に光軸が設計通りの正しい位置にある
かを確認するためのアライメント作業が必須である。ア
ライメント作業は、使用するＸ線発生装置からのＸ線を
用いて行うのが理想であるが、Ｘ線は目に見えないた
め、一般的には可視域の波長のレーザーなどをアライメ
ント用光源として用いて、目視によりアライメント作業
の効率化を図っている。
学系にあっては、光学系の光軸がずれると性能が著しく
低下するため、常に光軸が設計通りの正しい位置にある
かを確認するためのアライメント作業が必須である。ア
ライメント作業は、使用するＸ線発生装置からのＸ線を
用いて行うのが理想であるが、Ｘ線は目に見えないた
め、一般的には可視域の波長のレーザーなどをアライメ
ント用光源として用いて、目視によりアライメント作業
の効率化を図っている。
【０００３】Ｘ線は大気に吸収されやすいため、Ｘ線光
学装置を構成するＸ線発生装置、光学系、試料などは真
空槽に収納されている。従来は、この真空槽内の適当な
ところにアライメント用光源を設置するための空間を用
意しておき、必要なときにアライメント光源を設置して
アライメント作業を行っていた。すなわち、従来のアラ
イメント作業は、まず、真空槽内を大気に戻し、真空槽
の所定位置にアライメント光源を設置し、光学系の光軸
の調整をした後、Ｘ線使用時に邪魔にならないように、
アライメント光源を撤収し、再び真空槽の空気を排気し
て真空状態にするという手順で行われていた。
学装置を構成するＸ線発生装置、光学系、試料などは真
空槽に収納されている。従来は、この真空槽内の適当な
ところにアライメント用光源を設置するための空間を用
意しておき、必要なときにアライメント光源を設置して
アライメント作業を行っていた。すなわち、従来のアラ
イメント作業は、まず、真空槽内を大気に戻し、真空槽
の所定位置にアライメント光源を設置し、光学系の光軸
の調整をした後、Ｘ線使用時に邪魔にならないように、
アライメント光源を撤収し、再び真空槽の空気を排気し
て真空状態にするという手順で行われていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】光学系は、その光軸が
ずれると性能が著しく低下するため、できる限り頻繁に
アライメント作業を行うことが望ましいが、一方で、ア
ライメント作業に掛ける時間はできる限り短時間に抑え
たい。しかしながら、上記の従来方法では、アライメン
ト作業毎に、アライメント用光源の設置・撤収及び真空
槽の排気が必要であり、作業時間がかかるだけでなく、
アライメント光源の設置用の空間を真空槽内に確保して
おかなければならなかった。
ずれると性能が著しく低下するため、できる限り頻繁に
アライメント作業を行うことが望ましいが、一方で、ア
ライメント作業に掛ける時間はできる限り短時間に抑え
たい。しかしながら、上記の従来方法では、アライメン
ト作業毎に、アライメント用光源の設置・撤収及び真空
槽の排気が必要であり、作業時間がかかるだけでなく、
アライメント光源の設置用の空間を真空槽内に確保して
おかなければならなかった。
【０００５】本発明の目的は、アライメント作業を簡単
且つ迅速に行うことができるＸ線光学装置を提供するこ
とにある。
且つ迅速に行うことができるＸ線光学装置を提供するこ
とにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のＸ線光学装置は、Ｘ線発生装置を収容する
真空槽と前記Ｘ線発生装置からのＸ線が照射されるＸ線
被照射物を収容する真空槽との間に設けられた真空分離
のためのバルブに、アライメント用の光源を設けたもの
である。
に、本発明のＸ線光学装置は、Ｘ線発生装置を収容する
真空槽と前記Ｘ線発生装置からのＸ線が照射されるＸ線
被照射物を収容する真空槽との間に設けられた真空分離
のためのバルブに、アライメント用の光源を設けたもの
である。
【０００７】Ｘ線光学装置には、Ｘ線を利用したＸ線露
光装置、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線分析装置などが挙げられる。
Ｘ線被照射物としては、例えば、Ｘ線露光装置ではマス
クが、Ｘ線顕微鏡では試料が該当する。アライメントに
は、例えば、Ｘ線縮小露光装置にあっては、マスク、ウ
ェハと縮小光学系との光軸確認・調整、Ｘ線顕微鏡にあ
っては、試料、検出器と拡大光学系との光軸確認・調整
などがある。アライメント用の光源は、バルブの閉動作
で所定位置に設置され、バルブの開動作で退避されるよ
うにするのが作業効率上、好ましい。
光装置、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線分析装置などが挙げられる。
Ｘ線被照射物としては、例えば、Ｘ線露光装置ではマス
クが、Ｘ線顕微鏡では試料が該当する。アライメントに
は、例えば、Ｘ線縮小露光装置にあっては、マスク、ウ
ェハと縮小光学系との光軸確認・調整、Ｘ線顕微鏡にあ
っては、試料、検出器と拡大光学系との光軸確認・調整
などがある。アライメント用の光源は、バルブの閉動作
で所定位置に設置され、バルブの開動作で退避されるよ
うにするのが作業効率上、好ましい。
【０００８】Ｘ線露光装置やＸ線顕微鏡などで用いられ
るＸ線は大気に吸収されやすいため、Ｘ線発生装置、光
学系、検出器などは真空槽内に設置される。例えば、Ｘ
線顕微鏡にあっては、検出器の取り替えや観察試料の設
置など真空槽を大気圧に戻さなければならない場合は、
システム全体を大気に戻すようなことはせず、Ｘ線発生
装置等を納めた真空槽と観察試料等を納めた真空槽など
に分割して収納し、これら真空槽の間に真空バルブを設
置して、必要な箇所の真空槽のみ大気圧に戻すようにし
ている。大気圧に戻す空間の体積をできる限り小さくし
て、排気にかかる時間を短縮するためである。本発明で
は、このバルブにアライメント用の光源を設けること
で、アライメントの作業時間の短縮化を図っている。
るＸ線は大気に吸収されやすいため、Ｘ線発生装置、光
学系、検出器などは真空槽内に設置される。例えば、Ｘ
線顕微鏡にあっては、検出器の取り替えや観察試料の設
置など真空槽を大気圧に戻さなければならない場合は、
システム全体を大気に戻すようなことはせず、Ｘ線発生
装置等を納めた真空槽と観察試料等を納めた真空槽など
に分割して収納し、これら真空槽の間に真空バルブを設
置して、必要な箇所の真空槽のみ大気圧に戻すようにし
ている。大気圧に戻す空間の体積をできる限り小さくし
て、排気にかかる時間を短縮するためである。本発明で
は、このバルブにアライメント用の光源を設けること
で、アライメントの作業時間の短縮化を図っている。
【０００９】すなわち、Ｘ線被照射物の交換などで、一
方の真空槽を大気に戻したり排気している間は、真空槽
間のバルブは閉じられているので、Ｘ線を使用すること
はできないが、バルブに設けられたアライメント用の光
源によりアライメント作業が可能になる。これにより、
今まではロスタイムであった排気時間をアライメント作
業に当てることができ、時間の効率が良くなる。また、
両方の真空槽が真空状態にある場合でも、バルブを閉じ
る動作などによってアライメント用光源を設置するだけ
で、アライメント作業に移ることができ、作業効率が向
上する。
方の真空槽を大気に戻したり排気している間は、真空槽
間のバルブは閉じられているので、Ｘ線を使用すること
はできないが、バルブに設けられたアライメント用の光
源によりアライメント作業が可能になる。これにより、
今まではロスタイムであった排気時間をアライメント作
業に当てることができ、時間の効率が良くなる。また、
両方の真空槽が真空状態にある場合でも、バルブを閉じ
る動作などによってアライメント用光源を設置するだけ
で、アライメント作業に移ることができ、作業効率が向
上する。
【００１０】
【発明の実施の形態】図２には、本発明のＸ線光学装置
の一実施形態を示す。このＸ線光学装置は、Ｘ線発生装
置１と、Ｘ線発生装置１からのＸ線を反射して試料４に
照射する多層膜ミラーなどからなる照明光学系２と、試
料４からのＸ線像を検出器６に結像する拡大光学系５と
を備えている。Ｘ線発生装置１及び照明光学系２は真空
槽７内に収容され、試料４、拡大光学系５及び検出器６
は真空槽８内に収容されている。Ｘ線発生装置１とし
て、例えばシンクロトロン放射光光源、レーザープラズ
マＸ線源が挙げられる。Ｘ線発生装置１側の真空槽７
と、試料４側の真空槽８との間は配管９により連通接続
されており、この配管９には真空分離のためのバルブ３
が設けられている。Ｘ線使用時には、どちらの真空槽
７、８も真空ポンプにより１０-3torrの真空状態に保た
れる。
の一実施形態を示す。このＸ線光学装置は、Ｘ線発生装
置１と、Ｘ線発生装置１からのＸ線を反射して試料４に
照射する多層膜ミラーなどからなる照明光学系２と、試
料４からのＸ線像を検出器６に結像する拡大光学系５と
を備えている。Ｘ線発生装置１及び照明光学系２は真空
槽７内に収容され、試料４、拡大光学系５及び検出器６
は真空槽８内に収容されている。Ｘ線発生装置１とし
て、例えばシンクロトロン放射光光源、レーザープラズ
マＸ線源が挙げられる。Ｘ線発生装置１側の真空槽７
と、試料４側の真空槽８との間は配管９により連通接続
されており、この配管９には真空分離のためのバルブ３
が設けられている。Ｘ線使用時には、どちらの真空槽
７、８も真空ポンプにより１０-3torrの真空状態に保た
れる。
【００１１】図１は、図２のバルブ３が設けられた配管
９部分を拡大して示すものである。バルブ３の弁ケーシ
ング１０内を弁体１１が上下することにより、バルブ３
の開閉が行われる。弁体１１にはゴムでできたＯリング
１２が設けられており、Ｏリング１２を弁ケーシング１
０に押圧することにより、配管９は気密に密封され、片
側の真空槽７（又は８）が大気圧になっても反対側の真
空槽８（又は７）は真空に保たれる。弁体１１の真空槽
８側の中央には、可視域の半導体レーザーがアライメン
ト用光源１３として組み込まれている。弁体１１を下降
してバルブ３を閉じた図示の状態では、光源１３はＸ線
の光軸上に位置して設置され、また、弁体１１を弁ケー
シング１０上方へと上昇させてバルブ３を開いた状態で
は、光源１３はＸ線の使用の邪魔にならないように退避
される。
９部分を拡大して示すものである。バルブ３の弁ケーシ
ング１０内を弁体１１が上下することにより、バルブ３
の開閉が行われる。弁体１１にはゴムでできたＯリング
１２が設けられており、Ｏリング１２を弁ケーシング１
０に押圧することにより、配管９は気密に密封され、片
側の真空槽７（又は８）が大気圧になっても反対側の真
空槽８（又は７）は真空に保たれる。弁体１１の真空槽
８側の中央には、可視域の半導体レーザーがアライメン
ト用光源１３として組み込まれている。弁体１１を下降
してバルブ３を閉じた図示の状態では、光源１３はＸ線
の光軸上に位置して設置され、また、弁体１１を弁ケー
シング１０上方へと上昇させてバルブ３を開いた状態で
は、光源１３はＸ線の使用の邪魔にならないように退避
される。
【００１２】拡大光学系５の光軸が設計通りになってい
るかを確かめるために、アライメント用光源１３を取り
付けたバルブ３を閉じた状態にし、アライメント用光源
１３からの可視光を用いて光軸確認をおこなった。光軸
確認後、バルブ３を開けて、Ｘ線を用いてテスト試料４
の撮像をおこなったところ、設計通りの解像力が得られ
た。アライメント用光源１３の設置・退避作業、すなわ
ちバルブ３の開閉動作の時間は数秒であった。なお、Ｘ
線を用いる場合は、バルブ３を開けなければならない
が、Ｘ線使用時にはアライメント用光源１３は必要ない
ので、問題は生じない。
るかを確かめるために、アライメント用光源１３を取り
付けたバルブ３を閉じた状態にし、アライメント用光源
１３からの可視光を用いて光軸確認をおこなった。光軸
確認後、バルブ３を開けて、Ｘ線を用いてテスト試料４
の撮像をおこなったところ、設計通りの解像力が得られ
た。アライメント用光源１３の設置・退避作業、すなわ
ちバルブ３の開閉動作の時間は数秒であった。なお、Ｘ
線を用いる場合は、バルブ３を開けなければならない
が、Ｘ線使用時にはアライメント用光源１３は必要ない
ので、問題は生じない。
【００１３】次に、比較のために、別のアライメント用
光源で同じ作業をおこなった。アライメント用光源をＸ
線発生装置１と照明光学系２との間に設置するために、
Ｘ線発生装置１が設置してある真空槽７を大気圧に戻し
た。大気圧に戻るまでの時間は４分である。アライメン
ト用光源を設置するのに必要な時間は１０分であった。
設置した光源を用いて拡大光学系５の光軸を調整した
後、アライメント用光源を取り外した。取り外しに要し
た時間は３分である。その後、真空槽７を真空状態にす
るために排気を開始した。真空度が１０-3torrに到達す
るまでにかかった時間は４０分であった。結局、アライ
メント用光源の設置・取り外しに伴う作業だけで５７分
必要であった。もちろん、光軸調整をするアライメント
自体は上記実施形態でも比較例でも手順は同じなので、
かかる時間も同じであった。排気終了後、Ｘ線を用いて
試料４の撮像をおこなったところ、設計通りの解像力が
得られた。
光源で同じ作業をおこなった。アライメント用光源をＸ
線発生装置１と照明光学系２との間に設置するために、
Ｘ線発生装置１が設置してある真空槽７を大気圧に戻し
た。大気圧に戻るまでの時間は４分である。アライメン
ト用光源を設置するのに必要な時間は１０分であった。
設置した光源を用いて拡大光学系５の光軸を調整した
後、アライメント用光源を取り外した。取り外しに要し
た時間は３分である。その後、真空槽７を真空状態にす
るために排気を開始した。真空度が１０-3torrに到達す
るまでにかかった時間は４０分であった。結局、アライ
メント用光源の設置・取り外しに伴う作業だけで５７分
必要であった。もちろん、光軸調整をするアライメント
自体は上記実施形態でも比較例でも手順は同じなので、
かかる時間も同じであった。排気終了後、Ｘ線を用いて
試料４の撮像をおこなったところ、設計通りの解像力が
得られた。
【００１４】以上により、本発明を利用することで、ア
ライメントに必要な時間を大幅に短縮できることが明ら
かになった。また、アライメント作業の精度にはなんら
変化はないことも確認できた。
ライメントに必要な時間を大幅に短縮できることが明ら
かになった。また、アライメント作業の精度にはなんら
変化はないことも確認できた。
【００１５】なお、上記実施形態においては、バルブ３
に一つのアライメント用光源１３を設けたが、２種類の
光源が必要な場合、例えば、検出器６の作動などをチェ
ックしたい場合には、アライメント用光源１３の周囲の
弁体１１に、アライメント用光源１３とは波長を異にす
る光源を設けるようにする。あるいは、配管９にバルブ
を２個設け、各バルブに光源をそれぞれ設けるようにし
てもよい。もちろん、３種類以上の光源を設ける場合も
同様である。アライメント作業は光学系の光軸確認だけ
に限らず、検出器の位置の確認などにも使われるので、
本発明により、真空槽中の各装置の位置確認なども簡便
に行えるようになる。
に一つのアライメント用光源１３を設けたが、２種類の
光源が必要な場合、例えば、検出器６の作動などをチェ
ックしたい場合には、アライメント用光源１３の周囲の
弁体１１に、アライメント用光源１３とは波長を異にす
る光源を設けるようにする。あるいは、配管９にバルブ
を２個設け、各バルブに光源をそれぞれ設けるようにし
てもよい。もちろん、３種類以上の光源を設ける場合も
同様である。アライメント作業は光学系の光軸確認だけ
に限らず、検出器の位置の確認などにも使われるので、
本発明により、真空槽中の各装置の位置確認なども簡便
に行えるようになる。
【００１６】
【発明の効果】以上要するに、本発明によれば、Ｘ線光
学装置のＸ線発生装置やＸ線被照射物などをそれぞれ分
離して収納した真空槽間を開閉するバルブに、アライメ
ント用の光源を設けたため、簡便にアライメント用光源
を用意でき、真空槽を開放してアライメント用光源の設
置・撤収を行う従来のアライメント作業に比べて、アラ
イメント作業にかかる時間を大幅に短縮することが可能
になり、作業効率を向上させることができる。
学装置のＸ線発生装置やＸ線被照射物などをそれぞれ分
離して収納した真空槽間を開閉するバルブに、アライメ
ント用の光源を設けたため、簡便にアライメント用光源
を用意でき、真空槽を開放してアライメント用光源の設
置・撤収を行う従来のアライメント作業に比べて、アラ
イメント作業にかかる時間を大幅に短縮することが可能
になり、作業効率を向上させることができる。
【００１７】また、真空槽の間を真空分離するバルブに
アライメント用の光源を設けたので、真空槽内にアライ
メント用光源を設置するためのスペースを確保する必要
がなく、Ｘ線光学装置のコンパクト化が図れる。
アライメント用の光源を設けたので、真空槽内にアライ
メント用光源を設置するためのスペースを確保する必要
がなく、Ｘ線光学装置のコンパクト化が図れる。
【図１】本発明のＸ線光学装置の一実施形態を示す概略
構成図である。
構成図である。
【図２】図１のバルブを設けた配管部を一部破断して示
す拡大正面図である。
す拡大正面図である。
１ Ｘ線発生装置 ２ 照明光学系 ３ バルブ ４ 試料 ５ 拡大光学系 ６ 検出器 ７ 真空槽 ８ 真空槽 ９ 配管 １０ 弁ケーシング １１ 弁体 １２ Ｏリング １３ アライメント用光源
Claims (2)
- 【請求項１】 Ｘ線発生装置を収容する真空槽と前記Ｘ
線発生装置からのＸ線が照射されるＸ線被照射物を収容
する真空槽との間に設けられた真空分離のためのバルブ
に、アライメント用の光源を設けたことを特徴とするＸ
線光学装置。 - 【請求項２】 前記バルブを閉じる動作により前記アラ
イメント用の光源が所定位置に設置され、バルブを開く
動作により光源が退避されるように構成されていること
を特徴とする請求項１記載のＸ線光学装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8267704A JPH1097981A (ja) | 1996-09-19 | 1996-09-19 | Ｘ線光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8267704A JPH1097981A (ja) | 1996-09-19 | 1996-09-19 | Ｘ線光学装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1097981A true JPH1097981A (ja) | 1998-04-14 |
Family
ID=17448394
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8267704A Pending JPH1097981A (ja) | 1996-09-19 | 1996-09-19 | Ｘ線光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1097981A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10360581A1 (de) * | 2003-12-19 | 2005-07-14 | Carl Zeiss Smt Ag | Vorjustage eines Projektionssystems |
-
1996
- 1996-09-19 JP JP8267704A patent/JPH1097981A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10360581A1 (de) * | 2003-12-19 | 2005-07-14 | Carl Zeiss Smt Ag | Vorjustage eines Projektionssystems |
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