JPH1098063A - ウエッジボンディング用金合金線 - Google Patents

ウエッジボンディング用金合金線

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JPH1098063A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 金合金線を用いてウエッジボンディングを可
能にする接合強度を得ること。 【解決手段】 高純度金にCaを1〜100重量ppm 添
加し、かつ金合金線の金純度を99.9重量%以上、引
張強さ33.0kg/mm2 以上、伸び率1〜3%のウエッ
ジボンディング用金合金線。さらに、Mg,Y,La,
Eu,Ge,Ag,Ptを1〜100重量ppm 、及び/
又はBeを1〜20重量ppm 添加すると、接合強度はさ
らに向上する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はウエッジボンディン
グ用金合金線に係り、高温接合強度に優れ、ICチップ
の高密度配線用として好適な金合金線に関する。
【0002】
【従来の技術】ICチップの電極と外部配線を接続する
場合、ワイヤーを介して配線するワイヤーボンディング
方法が知られている。この中でもICチップのAl電極
とワイヤーを接合する方式により、超音波併用熱圧着接
合及び超音波接合が主流を占めている。
【0003】ここで超音波併用熱圧着接合は通常ネール
ヘッドボンディング方法により行われている。ネールヘ
ッドボンディング方法による接合法を図1を用いて説明
する。図1(a)に示す様にワイヤー2をキャピラリー
1に挿通しその先端に電気トーチ3を対向させ、ワイヤ
ー2との間で放電させることにより、ワイヤー2の先端
を加熱、溶融してボール4を形成する。
【0004】次いで図1(b)に示すようにキャピラリ
ー1を下降させて該ボール4をICチップ6上のAl電
極5の上に押圧接合する。この時図示しないが超音波振
動がキャピラリー1を通して付加されると共に、ICチ
ップ6はヒーターブロックで加熱されるため上記ボール
4は熱圧着され圧着ボール4′となる。次いで図1
(c)に示すようにキャピラリー1は所定の軌跡を描い
て、外部配線8の上に移動し、下降する。この時図示し
ないが超音波振動がキャピラリー1を通して付加され、
外部配線8はヒーターブロックで加熱されるためワイヤ
ー2側面が熱圧着される。
【0005】次いで図1(d)に示すようにクランパー
7はワイヤー2をクランプしたまま上昇することによ
り、ワイヤー2が切断され配線が完了する。一方超音波
接合は通常振動を接合部へ伝えるのに最適なウエッジボ
ンディング方法により行われている。これはウエッジ状
ツールを用いる方法である。ウエッジボンディング方式
による接合法を図2を用いて説明する。
【0006】図2(a)に示す様にワイヤー12をウエ
ッジ11下端部に挿通し、この下方にICチップ16上
のAl電極15を移動する。次いで図2(b)に示すよ
うにウエッジ11を下降させて常温のまま超音波振動を
付加してワイヤー12をAl電極15に接合する。次い
で図2(c)に示すようにクランパー17が開放され、
ウエッジ11は所定の軌跡を描いて、外部配線18の上
に移動し、下降する。この時図示しないが常温のまま超
音波振動がウエッジ11を通して付加され、ワイヤー1
2を外部配線18に接合する。
【0007】次いで図2(d)に示すようにクランパー
17はワイヤー2をクランプしたままウエッジ11が上
昇することにより、ワイヤー12が切断され配線が完了
する。前記ネールヘッドボンディング方法は生産性に優
れている為好ましい方法であるが、熱を用いる為ワイヤ
ー材料として金合金線を用いて使用され、酸化し易いア
ルミ合金線には不適である。
【0008】また図3(a)に示す様に圧着ボール径L
1 がワイヤー外径Dの3〜4倍になることが微細な配線
を行う際のネックになるという限界を有している。次の
ウエッジボンディング方法は生産性は低下するものの室
温で処理出来る為ワイヤー材料としてアルミ合金線を用
いて使用されている。また図3(b)に示す様につぶれ
幅L2 がワイヤー外径Dの1.5〜2.5倍に抑制出来
るという特徴を有している。
【0009】ここで前述のワイヤー材料として金合金線
は他の材料と対比して耐蝕性に優れている為、半導体装
置の耐蝕性に対する信頼性を確保する面で配線材料とし
て最も好ましい材料である。一方最近の半導体装置に対
して高密度配線が要求されている。これの対応として金
合金線とICチップ電極との接合部の配線方向と直角方
向での拡がりを小さくすることが必要である。
【0010】この為ワイヤー材料として金合金線を用い
てネールヘッドボンディングを行うに当たって、圧着ボ
ールの外径を小さくする事が試みられたがその大きさに
も限度がある。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】前述の従来事情に鑑み
従来からネールヘッドボンディング用として提案されて
いる金合金線を用いてICチップ電極にウエッジボンデ
ィングを行ってみたところ、接合部の配線方向と直角方
向での拡がりはネールヘッドボンディング方法と対比し
て小さくすることは出来るものの、ICチップの作動状
態を考えて高温状態に晒した後の接合部での接合強度
(以下高温接合強度という)が小さく半導体装置の信頼
性が低下するという問題が生じてきた。
【0012】この為本発明に於いては金合金線を用いて
ICチップ電極にウエッジボンディングを行うことによ
り、配線方向と直角方向での接合部の拡がりを小さくし
て高密度配線に対応するとともに高温接合強度を向上さ
せて半導体装置の信頼性を向上させることの出来る金合
金線を提供する事を目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明者等が鋭意研究を
重ねた結果、高純度金に所定量のCaを添加し、所定の
金純度を維持する組成を有し、通常のネールヘッドボン
ディング用金合金線より伸び率を小さくし且つ引張り強
さを大きくした金合金線とすることにより、前記組成と
材料特性の相乗効果によって前述の目的を達成し得るこ
とを知見し、本発明を完成するに至った。
【0014】具体的には、本発明によれば、高純度金に
カルシウム(Ca)を1〜100重量ppm 添加した金合
金線であって、該金合金線の金純度が99.9重量%以
上であり、引張強さが33.0kg/mm 2 以上、伸び率が
1〜3%であることを特徴とするウエッジボンディング
用金合金線が提供される。
【0015】好ましい態様において、Mg,Y,La,
Eu,Ge,Ag,Ptのうち少なくとも1種を1〜1
00重量部、及び/又はベリリウム(Be)を1〜20
重量ppm 添加する。
【0016】
【発明の実施の形態】本発明のウエッジボンディング用
金合金線は、高純度金に所定量のCaを添加し、更に好
ましい態様として所定量のMg,Y,La,Eu,G
e,Ag,Pt,Beのうち少なくとも1種を添加し、
所定の金純度を維持する組成を有し、且つ、伸び率を小
さくしかつ引張り強さを大きくすることを特徴とする。 (1)組成 原料高純度金としては少なくとも99.99重量%
以上、好ましくは99.995重量%以上、最も好まし
くは99.999重量%以上に精製した高純度金が用い
られる。
【0017】 〔Ca〕 (a)この様な高純度金に上記所定量のCaを添加して
所定量の金純度を有する組成にするとともに所定の伸び
率及び引張り強さとすることにより、その相乗効果によ
って高温接合強度を向上させる事ができる。 (b)Ca含有量が1重量ppm 未満になると1重量ppm
以上と対比して高温接合強度は小さくなる。Ca含有量
が100重量ppm を超えるとICチップに割れが生じる
為、これを避けるため不十分な接合しか出来なくなり高
温接合強度は小さくなる。
【0018】この為Ca含有量は所定の金純度、伸び率
及び引張り強さの条件のもとに1〜100重量ppm と定
めた。好ましくは1〜50重量ppm である。 (c)この効果は、上記所定量のCaに加えて他の元素
を添加しても99.9重量%以上の金純度を有する組成
であり、所定の伸び率及び引張り強さを有する金合金線
であればCaを添加した効果が維持される。所定量のC
aを高純度金に添加し、残り実質的に不可避的不純物の
みで構成してもよいことは勿論である。
【0019】 〔Mg,Y,La,Eu,Ge,A
g,Pt,Be〕 (a)前述の様に所定量のCaに加えて他の元素を添加
しても本発明の効果は一般に維持されるが特にMg,
Y,La,Eu,Ge,Ag,Ptのうち少なくとも1
種の成分を1〜100重量ppm 又はそれに加えてBeを
1〜20重量ppmの範囲内で添加すると高温接合強度は
更に向上する。
【0020】(b)この場合Mg,Y,La,Eu,G
e,Ag,Pt,Beのうち少なくとも1種を所定量添
加し、所定量のCaを添加しない場合、所定量の金純度
を有する組成にするとともに所定の伸び率及び引張り強
さを有しても高温接合強度は小さくなる。 金純度 (a)所定量のCaを添加した組成とし、所定の伸び率
及び引張り強さを有する金合金線としても1〜2重量%
Cuが添加されると高温接合強度は小さくなる。そこで
接合強度を上げようとするとICチップに割れが生じ
る。
【0021】この為金合金線の金純度は99.9重量%
以上と定めた。好ましくは99.97重量%以上、より
好ましくは99.979重量%以上である。高純度金に
高純度添加金属を合金化して得ることができる。 (2)伸び率 高純度金に上記所定量のCaを添加して所定量の金
純度を有する組成にするとともに所定の伸び率及び引張
り強さとすることにより、その相乗効果によって高温接
合強度を向上させる事ができる。なお、本発明に於いて
伸び率は、室温で、金合金線を標点距離を100mmとし
て引張速度10mm/分で引張試験機で引っ張り、破断し
た時の伸び量を測定して次式の値を伸び率とする。
【数1】 ここで破断した時の伸び量はチャート紙の図形から測定
することが好ましい。
【0022】 伸び率が3%を超えると、所定量のC
aを添加して所定量の金純度を有する組成であって所定
の引張り強さを有しても、高温接合強度は小さくなる。
この為伸び率は1〜3%と定めた。好ましくは2〜3%
である。 (3)引張り強さ 高純度金に上記所定量のCaを添加して所定量の金
純度を有する組成にするとともに所定の伸び率及び引張
り強さとすることにより、その相乗効果によって高温接
合強度を向上させる事ができる。
【0023】 引張り強さが33.0kg/mm2 未満に
なると33.0kg/mm2 以上と対比して、高温接合強度
は小さくなる。この為引張り強さは33.0kg/mm2 以
上と定めた。好ましくは33.0〜70.0kg/mm2 で
あり、さらに好ましくは33.0〜63.0kg/mm2 で
ある。最も好ましくは39.1〜63.0kg/mm2 であ
る。 (4)金合金線の製造方法 本発明になる金合金線の好ましい製造方法を説明する。
高純度金に所定量の元素を添加し真空溶解炉で溶解した
後インゴットに鋳造する。該当インゴットに溝ロール、
伸線機を用いた冷間加工と中間アニールを施し、最終冷
間加工により直径10〜100μmの細線とした後最終
アニールを施すものである。
【0024】ここで本発明になる合金組成の場合、最終
アニールの温度が上昇するにつれて伸び率は1〜3%を
維持したまま、引張り強さが徐々に低下する温度領域が
ある。また同一組成であっても最終冷間加工率の大きさ
によって引張り強さは変わってくる。この為最終冷間加
工率と最終アニール温度を制御して伸び率と引張り強さ
を調整する。このようにして伸び率は1〜3%を維持
し、引張り強さが33.0kg/mm2 以上、好ましくは3
3.0〜70.0kg/mm2 となる温度領域でアニールす
る事が必要である。更にアニール温度が上昇すると伸び
率が4%以上となり引張り強さは更に低下してくる。従
来から使用されているネールヘッドボンディング用の金
合金線は伸び率が4%以上のものが使用されているが本
発明になる金合金線では所定の引張り強さと1〜3%伸
び率を与えるために、合金組成に対応した最終冷間加工
率を調整し更に低い温度領域でアニールする。 (5)用途 本発明になるウエッジボンディング用金合金線はICチ
ップをリードに接続する方法及びICチップを直接基板
に接続するリードレスで接続する方法の何れに用いても
好適である。なお、ここでいうウエッジボンディングと
は、ICチップの電極、特にAl電極と外部リードや他
の電極をワイヤーで配線する際、ワイヤーと電極部の接
合がファーストボンド、セカンドボンド共に、ボールを
形成することなく、ウエッジ状ツールを用いてワイヤー
側面を圧着して接合するボンディングであり、必要に応
じてウエッジ状ツールを介して超音波を印加したり電極
部を加熱する。
【0025】
【作用】本発明になる金合金線がウエッジボンディング
を行った後高温接合強度に優れている理由は明らかでは
ないが、有効元素としてのCaが添加されていること、
有害元素がその含有量を規制されていること又伸び率が
小さく、引張り強さが大きいことがウエッジボンディン
グによる超音波接合を行う際、材料の不必要な変形を阻
止することと相まって生成されるAu−Al金属間化合
物が熱的に安定なものが得られているためではないかと
考えられる。
【0026】
【実施例】表1〜4に示す実施例及び比較例について説
明する。 (実施例1)純度99.999重量%の高純度金に所定
量のCaを添加し真空溶解炉で溶解した後鋳造して表1
に示す組成の金合金、即ち1重量ppm Ca、金純度9
9.9988重量%以上の組成の金インゴットを得、こ
れに溝ロール、伸線機を用いた冷間加工と中間アニール
を施し、最終線径25μmとし、最終アニールにより引
張り強さが40.8kg/mm2 、伸び率2〜3%になるよ
うに仕上げた。
【0027】この金合金線をウエッジボンディング装置
(新川株式会社製 SWB−FA−US30)を用いて
前述の図2に示す方法でICチップのAl電極上及び外
部配線上に超音波ボンディングを行った。この時ICチ
ップ側のボンディングはボンディング荷重を45g、ボ
ンディング時間を30ms、ボンディングパワーを0.6
4wの条件で行った。
【0028】次に試料10個を200℃に設定した高温
炉で100時間保持した。次いで試料を炉から取り出
し、外部配線側でワイヤーを切断し次の方法でICチッ
プ側の高温接合強度を測定した。即ちICチップ側を治
具で固定し、ワイヤーを上方に引っ張り破断荷重を測定
した。10個の平均値を測定値とし、測定結果を表1に
示す。 (実施例2〜71、比較例1〜11)金及び金合金の組
成、伸び率及び引張り強さを表1に示すようにしたこと
以外は実施例1と同様にして細線に仕上げ、超音波ボン
ディングを行った後高温接合強度を測定した。
【0029】測定結果を表1〜4に示す。 (試験結果) (1)高純度金に1〜100重量ppm のCaのみを添加
して、金純度が99.9重量%以上、伸び率2〜3%、
引張強さ39.3〜41.4kg/mm2 である実施例1〜
4は高温接合強度が3.0〜3.3gと優れた効果を示
した。
【0030】この中でもCa添加量が1〜50重量ppm
のとき高温接合強度が3.2〜3.3gである為好まし
く用いられる。 (2)高純度金に所定量のCaに加えてMg,Y,L
a,Eu,Ge,Ag,Pt,Beのうち少なくとも1
種を所定量添加して、金純度が99.9重量%以上、伸
び率1〜3%、引張強さ39.0〜41.6kg/mm2 で
ある実施例5〜55は高温接合強度が4.2〜5.1g
であり、Caのみを添加した組成よりさらに優れた効果
を示した。
【0031】(3)実施例2,11,22,26,3
6,42,43,45に示す組成及び伸び率を有し、引
張強さが33.0〜60.3kg/mm2 である実施例56
〜71は高温接合強度が3.2〜5.1gであり優れた
効果を示した。 (4)実施例の中でCaに加えてMg,Y,La,E
u,Ge,Ag,Pt,Beのうち少なくとも1種を含
有し、1〜3%伸び率を有し、引張強さが39.1〜6
3.0kg/mm2 のものが高温接合強度が4.2〜5.1
gと最も優れた効果を示した。
【0032】(5)本発明に係わるCa及びMg,Y,
La,Eu,Ge,Ag,Pt,Beのいずれも含有し
ない比較例1は高温接合強度が0.6gと悪い事が判
る。 (6)本発明の必須成分であるCaを含有せず、Mg又
はYを50重量ppm 含有する比較例2〜3は高温接合強
度が2.5〜2.7gと悪い事が判る。 (7)10重量ppm のCaを含有し、所定の伸び率及び
引張強さを有するものの、2.0重量%Cuを含有する
事により金純度が99.9重量%未満である比較例4は
高温接合強度が0.5gと悪い事が判る。
【0033】(8)200重量ppm のCaを含有する比
較例5は高温接合強度が1.2gと悪い事が判る。 (9)所定量のCaまたはそれに加えて所定量のMg,
Ge,Agを含有し、所定の金純度及び伸び率を有する
ものの引張強さが33.4kg/mm2 未満である比較例6
〜8は高温接合強度が2.5〜2.8と悪い事が判る。
【0034】(10)所定量のCaまたはそれに加えて
所定量のMg,Ge,Agを含有し、所定の金純度を有
するものの伸び率が3%を超える比較例9〜11は高温
接合強度が2.2〜2.4gと悪い事が判る。
【0035】
【表1】
【0036】
【表2】
【0037】
【表3】
【0038】
【表4】
【0039】
【発明の効果】本発明により所定量のCaを含有し、所
定量の金純度を有し且つ所定の伸び率と引張強さを有す
るウエッジボンディング用金合金線によれば高温接合強
度を向上させることが出来半導体装置の信頼性向上に効
果的である。所定量のCaに加えてさらに所定量のM
g,Y,La,Eu,Ge,Ag,Pt,Beのうち少
なくとも1種を含むことにより、更に高温接合強度を向
上させることが出来半導体装置の信頼性向上に更に効果
的である。
【図面の簡単な説明】
【図1】ネールボンディング方法による接合法の説明。
【図2】ウエッジボンディング方法による接合法の説
明。
【図3】ネールボンディング方法とウエッジボンディン
グ方法による接合部の形状、寸法を示す。
【符号の説明】
11…ウエッジ 12…ワイヤー 12′…ボンディングワイヤー 14′…ワイヤー接合部 15…Al配線 16…ICチップ 17…クランパー 18…外部配線 D…ワイヤ径 L1 …圧着ボール径 L2 …つぶれ幅

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 高純度金にカルシウム(Ca)を1〜1
    00重量ppm 添加した金合金線であって、 該金合金線の金純度が99.9重量%以上であり、引張
    強さが33.0kg/mm 2 以上、伸び率が1〜3%である
    ことを特徴とするウエッジボンディング用金合金線。
  2. 【請求項2】 さらにMg,Y,La,Eu,Ge,A
    g,Ptのうち少なくとも1種を1〜100重量ppm 添
    加したことを特徴とする請求項1記載のウエッジボンデ
    ィング用金合金線。
  3. 【請求項3】 さらにベリリウム(Be)を1〜20重
    量ppm 添加したことを特徴とする請求項1または請求項
    2記載のウエッジボンディング用金合金線。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010073501A (ko) * 2000-01-17 2001-08-01 강도원 인성을 향상시킨 반도체 패키지용 본딩 와이어 합금
EP1168439A3 (en) * 2000-06-19 2002-04-10 Tanaka Denshi Kogyo Kabushiki Kaisha Gold bond wire for a semiconductor device
JP2006203164A (ja) * 2004-12-21 2006-08-03 Mitsubishi Materials Corp 接合性、直進性および耐樹脂流れ性に優れたボンディングワイヤ用金合金線
WO2008132919A1 (ja) * 2007-04-17 2008-11-06 Tanaka Denshi Kogyo K.K. 高信頼性金合金ボンディングワイヤ及び半導体装置
WO2009060698A1 (ja) * 2007-11-06 2009-05-14 Tanaka Denshi Kogyo K. K. ボールボンディング用金合金線
KR101047827B1 (ko) 2007-10-24 2011-07-08 타나카 덴시 코오교오 카부시키가이샤 볼 본딩용 금합금선

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4150752B1 (ja) 2007-11-06 2008-09-17 田中電子工業株式会社 ボンディングワイヤ

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010073501A (ko) * 2000-01-17 2001-08-01 강도원 인성을 향상시킨 반도체 패키지용 본딩 와이어 합금
EP1168439A3 (en) * 2000-06-19 2002-04-10 Tanaka Denshi Kogyo Kabushiki Kaisha Gold bond wire for a semiconductor device
JP2006203164A (ja) * 2004-12-21 2006-08-03 Mitsubishi Materials Corp 接合性、直進性および耐樹脂流れ性に優れたボンディングワイヤ用金合金線
TWI391503B (zh) * 2004-12-21 2013-04-01 田中電子工業股份有限公司 Wire with gold alloy wire
WO2008132919A1 (ja) * 2007-04-17 2008-11-06 Tanaka Denshi Kogyo K.K. 高信頼性金合金ボンディングワイヤ及び半導体装置
KR101047827B1 (ko) 2007-10-24 2011-07-08 타나카 덴시 코오교오 카부시키가이샤 볼 본딩용 금합금선
WO2009060698A1 (ja) * 2007-11-06 2009-05-14 Tanaka Denshi Kogyo K. K. ボールボンディング用金合金線
KR101158547B1 (ko) * 2007-11-06 2012-06-20 타나카 덴시 코오교오 카부시키가이샤 볼 본딩용 금합금선
EP2209136A4 (en) * 2007-11-06 2013-08-07 Tanaka Electronics Ind GOLD ALLOY WIRE FOR BALL BONDS

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